JPS629678B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS629678B2
JPS629678B2 JP867980A JP867980A JPS629678B2 JP S629678 B2 JPS629678 B2 JP S629678B2 JP 867980 A JP867980 A JP 867980A JP 867980 A JP867980 A JP 867980A JP S629678 B2 JPS629678 B2 JP S629678B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
porous
porous body
plating
coating
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP867980A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS56105495A (en
Inventor
Aasaa Matsukintaiyaa Jeemusu
Furoido Fuiritsupusu Robaato
Donarudo Refueburii Josefu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dow Chemical Co
Original Assignee
Dow Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dow Chemical Co filed Critical Dow Chemical Co
Priority to JP867980A priority Critical patent/JPS56105495A/en
Publication of JPS56105495A publication Critical patent/JPS56105495A/en
Publication of JPS629678B2 publication Critical patent/JPS629678B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 多孔質物体は内部に電気メツキすることは困難
であることが知られている。その問題は、そのメ
ツキ析出物がその多孔質物体の囲まれた壁表面に
付着する場合急激に多孔質物体の空隙が減少する
ということである。内部にメツキされるべき物体
は電気化学的用途のため使用される多孔質電極で
あり、そして多数の細かく、10ミクロン以下から
0.1ミクロン程度の小さい内部孔を含む場合は、
この空隙の減少が顕徴である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Porous objects are known to be difficult to internally electroplat. The problem is that when the plating deposits adhere to the enclosed wall surfaces of the porous body, the voids of the porous body are rapidly reduced. The object to be internally plated is a porous electrode used for electrochemical applications, and a large number of fine particles, from less than 10 microns
If it contains internal holes as small as 0.1 micron,
This reduction in voids is noticeable.

しばしば、特に電極の場合、重いメツキ析出物
はそのメツキされるべき多孔質物体の露出した外
表面上には必要はなく、そして(除去可能であつ
ても)望ましくなくそしてそれがため高価なメツ
キ物質を浪費させる。又標準の電気メツキ技術
は、その多孔質物体の外表面、特にその孔の出口
のまわりにメツキ析出物の積層を生じさせる。こ
れはしばしば電極の周囲の働かない条件となる重
大な欠点を生じさせる外表面上の孔の詰りを生じ
させる程である。さらに、多孔質物体の内部にメ
ツキするために使用される通常の手段は、メツキ
されるべき孔の内表面上に保存力のあり、薄く、
しかし十分な析出物を残すのに常に効果があるわ
けではない。これは、メツキが銀のような高価な
被覆物質が行なわれる時、経済的に望ましくな
い。銀又は他の比較的高価な貴金属又は非貴金属
はしばしば、このような多孔質電極の安価なベー
ス金属体上にそれらの触媒効果を高めるために使
用される。
Often, especially in the case of electrodes, heavy plating deposits are not needed on the exposed external surfaces of the porous object to be plated, and (even if they can be removed) are undesirable and therefore expensive plating deposits. waste material. Standard electroplating techniques also produce a build-up of plating deposits on the outer surface of the porous body, particularly around the pore exits. This is often enough to cause clogging of the pores on the outer surface, resulting in a non-working condition around the electrode, a serious drawback. Furthermore, the usual means used to plate the interior of porous objects are to deposit a preservative, thin, and
However, it is not always effective in leaving sufficient precipitate. This is economically undesirable when plating is done with expensive coating materials such as silver. Silver or other relatively expensive noble or non-precious metals are often used on the cheap base metal bodies of such porous electrodes to enhance their catalytic effectiveness.

これらの困難性に打勝つための企ては、成功せ
ずそしてしばしば上記に示した問題を避け又は軽
減するために複雑なそして高価な工程を必要とし
た。例えば、その多孔質物体の内部被覆を適用を
改良するため多孔質物体を通してメツキ浴をポン
プで送ることが提案された。しかしながらこのよ
うな手順は困難であり、そして所望の結果を実現
させるために全く信頼されていない。このような
従来の努力はUSP3359469及び3787244およびカナ
ダ特許921111において知られている。
Attempts to overcome these difficulties have been unsuccessful and often require complex and expensive processes to avoid or alleviate the problems identified above. For example, it has been proposed to pump plating baths through porous bodies to improve the application of internal coatings to the bodies. However, such procedures are difficult and completely unreliable for achieving the desired results. Such prior efforts are known in USP 3359469 and 3787244 and Canadian Patent 921111.

従つて本発明は本質的に多孔質物体を電気メツ
キする方法に関する。より詳しくは本発明は電気
−化学的方法において使用のため、特に塩素−ア
ルカリ電池において使用のため多孔質電極を電気
メツキするための方法に関する。電気メツキは、
多孔質物体の外表面上に孔の実質的そして過剰の
封鎖を生ずるように多孔質物体の外表面上に被覆
の析出を除去又は最小にするような方法で行なわ
れる。本発明の方法は、多孔質物体の内表面上に
十分なおよび効果量の均一に薄いメツキ層の析出
をもたらす。
The invention therefore relates essentially to a method of electroplating porous objects. More particularly, the present invention relates to a method for electroplating porous electrodes for use in electro-chemical processes, in particular for use in chlor-alkali batteries. Electric plating is
It is carried out in such a manner as to eliminate or minimize deposition of coating on the outer surface of the porous body so as to result in substantial and excessive sealing of the pores on the outer surface of the porous body. The method of the invention results in the deposition of a sufficient and effective amount of a uniformly thin plating layer on the inner surface of a porous body.

本発明は多数のからの空間を有する多孔質電導
性物体の少なくとも1部分の内壁表面に被覆を施
す方法において、 その多孔質物体のからの空間に、電気析出可能
な物質が分散しているメツキ溶液を少なくとも実
質的に充たす工程、その電気析出可能な物質は、
その多孔質物体に電流を流した時、前記被覆を形
成するものであり、 その多孔質物体を電導性非メツキ液体媒体中に
浸漬する工程、そして 前記多孔質物体に直流電位を適用し、前記電導
性液体媒体及び多孔質物体を通して電流を流し、
前記多孔質の内壁表面に前記被覆を施すことを特
徴とする方法に関する。
The present invention provides a method for coating the inner wall surface of at least a portion of a porous electrically conductive object having a large number of voids, which includes a coating in which a substance capable of electrodeposition is dispersed in the voids of the porous material. filling the solution at least substantially, the electrodepositable substance comprising:
forming the coating when an electrical current is passed through the porous body; immersing the porous body in a conductive non-plating liquid medium; and applying a direct current potential to the porous body, passing an electric current through the conductive liquid medium and the porous object;
The present invention relates to a method characterized in that the coating is applied to the surface of the porous inner wall.

本発明に従えば、多孔質物体は、メツキ浴の実
質的な全量を提供し、電気メツキ流が流れている
時間その浴からその被覆は、その多孔質物体の全
部又は少なくとも過半量内で析出され、それによ
つて多孔質物体内の内部空所の壁表面上に望まし
いメツキ析出物を生じさせることによつて内部に
電気メツキされる。本発明に従えば、電気メツキ
の効率的、効果的そして予備の適用は、そのメツ
キが良好な均一性及び品質を示すようにその多孔
質物体内で所望の壁表面のみになされる。同時に
外表面メツキは、前の電気メツキ方法と普通関連
している孔封鎖を実質上減少させるために最小に
される。その後者の問題は、多孔質物体にとつて
重大な損害であり特に電気化学的な適用において
このような多孔質物体が電極として使用される場
合に重大な損害である。
In accordance with the present invention, the porous body provides substantially the entire volume of the plating bath, from which the coating is deposited within all or at least a majority of the body during the time that the electroplating stream is flowing. and internally electroplated by forming the desired plating deposit on the wall surfaces of the internal cavities within the porous body. According to the invention, efficient, effective and preliminary application of electroplating is made within the porous body only to the desired wall surfaces so that the plating exhibits good uniformity and quality. At the same time, external surface plating is minimized to substantially reduce pore blockage commonly associated with previous electroplating methods. The latter problem is a serious detriment to porous bodies, especially when such porous bodies are used as electrodes in electrochemical applications.

普通の電気メツキにおいて、メツキされるべき
製品はメツキされるべき金属のイオ量を含む溶液
中に置かれる。しばしば、そのアノードは、銀ア
ノード上に銀メツキのような電気メツキによつて
多孔質物体上に被覆物として析出されるべき金属
と同じ金属から作られる。これは実質的にカソー
ド上に金属イオンメツキとしてアノード溶解を通
して溶液中に金属イオンの一定の濃度を保持する
のを助ける。多孔質物体のすき間への金属イオン
の移動は、比較的遅く、そしてより小さい大きさ
の孔によつて遅らされ、その物体空間内の金属イ
オンの濃度は、そのメツキ浴の金属イオンの濃度
に比較してそのメツキ中に経時的に減少する。や
むをえず、そのメツキ速度は、その浴内において
金属イオン自体は、内部空間に比較して外部表面
上に多くの重い析出物を生じさせるために比例し
て大きくなる場合、外部物体表面上では早くな
る。
In conventional electroplating, the product to be plated is placed in a solution containing the iodine content of the metal to be plated. Often, the anode is made from the same metal that is to be deposited as a coating on the porous body by electroplating, such as silver plating on a silver anode. This helps maintain a constant concentration of metal ions in solution throughout the anodic dissolution, substantially as metal ions plate on the cathode. The migration of metal ions into the interstices of a porous body is relatively slow and retarded by the smaller sized pores, so that the concentration of metal ions within the body space is equal to the concentration of metal ions in the plating bath. decreases over time during its plating compared to . Unavoidably, the plating rate will be faster on the external object surface if in the bath the metal ions themselves will be proportionately larger to give rise to more heavy precipitates on the external surface compared to the internal space. Become.

第1図に参照にして、本発明の方法を実施する
一つの方法が示される。
Referring to FIG. 1, one method of carrying out the method of the present invention is shown.

電極のような電気メツキ可能な多孔質物体5
は、もし必要なら、適当に予備処理されそのメツ
キ操作のための準備をする。これは、例えば、脱
脂、洗浄、および清浄化又は乾燥のような化学的
処理を包含する。物体5は多数の内部空間6を含
みそれを幾分スポンジ状構造にする。本発明に従
えば、多孔質物体の外表面上に開放孔をふさぐこ
となしに多孔質物体内で空間の壁表面をメツキす
ることが企てられた。この端部では、その電極は
容器8内でメツキ浴溶液7内で充填部分4で浸漬
される。
Electroplatable porous object such as an electrode 5
is suitably pretreated to prepare it for the plating operation, if necessary. This includes, for example, chemical treatments such as degreasing, washing, and cleaning or drying. The object 5 includes a number of interior spaces 6 giving it a somewhat spongy structure. According to the invention, it was envisaged to plate the wall surfaces of spaces within a porous body without blocking the open pores on the outer surface of the porous body. At this end, the electrode is immersed with a filling part 4 in a plating bath solution 7 in a container 8 .

その物体5は、その多孔質物体内の空間がその
メツキ溶液で飽和されるまで、その浴内で保持さ
れることが好ましい。従つて、その溶液によつて
その孔の十分な浸透及び充填を計容するためにそ
の溶液において多孔質物体は十分な時間浸漬され
るべきである。その物体は、垂直な位置に示さ
れ、その溶液の孔への浸透は、その多孔質物体中
の空気閉じ込みを最小にし又は避けるために垂直
以外の位置で傾けさせることによつて容易にされ
る。その物体の物理的位置及び/又はそのメツキ
溶液の激しい循環は、その多孔質物体中へのその
溶液の効果的および早い浸透を達成するのを助け
る。その物体の孔へのその溶液の不完全な浸透及
び飽和は、その物体内へのその孔表面の全体のメ
ツキ以外で生ずる。
Preferably, the object 5 is held in the bath until the spaces within the porous object are saturated with the plating solution. Therefore, the porous object should be soaked in the solution for a sufficient period of time to allow for sufficient penetration and filling of the pores by the solution. The object is shown in a vertical position and penetration of the solution into the pores is facilitated by tilting it in a position other than vertical to minimize or avoid air entrapment in the porous object. Ru. The physical location of the body and/or vigorous circulation of the plating solution helps achieve effective and fast penetration of the solution into the porous body. Incomplete penetration and saturation of the solution into the pores of the object occurs without the entire plating of the pore surface into the object.

その孔へのそのメツキ溶液の満足すべき飽和を
得るための他の方法は、スプレー又は強制充填操
作によつて行なわれる。
Other methods for obtaining satisfactory saturation of the plating solution into the pores are by spraying or force filling operations.

その図面において示されていないが、多孔質物
体の内部の孔の部分のみをメツキするために本発
明の方法を使用することができる。例えば、その
多孔質物体の外部分は、その物体の孔内へのメツ
キ溶液の完全な飽和を得ることなしに予定された
限定された時間その溶液内へその物体を浸漬する
ことによつてそのメツキ溶液で飽和できる。別法
として、本発明方法による電気メツキを行なう前
にその多孔質物体の1部分のみ、例えばその物体
の1面又は低面のみがそのメツキ溶液中に浸漬さ
れその多孔質物体のその部分のみを飽和する。
Although not shown in the drawing, the method of the invention can be used to plate only the internal pore portions of porous bodies. For example, the outer portion of the porous object may be prepared by immersing the object in the plating solution for a predetermined limited time without obtaining complete saturation of the plating solution within the pores of the object. Can be saturated with Metzki solution. Alternatively, only one part of the porous object, e.g. only one side or bottom side of the object, is immersed in the plating solution before electroplating according to the method of the invention. saturate.

その多孔質物体の1部分のみにおいて内部孔を
充たすために使用できる数種の技術が存在する。
例えばその多孔質物体の他の面にそのメツキ溶液
を適用しながらその多孔質物体の1方の面にガス
又は非メツキ溶液を適用することができる。各々
の圧力を変えることによつて、そのメツキ溶液で
飽和される空間の割合を選択的に抑制することが
可能である。
There are several techniques that can be used to fill the internal pores in only one portion of the porous body.
For example, a gas or non-plating solution can be applied to one side of the porous body while the plating solution is applied to the other side of the porous body. By varying the respective pressures, it is possible to selectively suppress the proportion of the space that is saturated with the plating solution.

その多孔質物体は、その物体が供される特定な
用途に実質上依存する所望の電気メツキ可能な物
質から形成できる。電極として使用のための多孔
質物体は、しばしば鉄、鋼合金(特に腐食抵抗性
すなわち所謂ステンレス鋼タイプ)、銅、チタニ
ウム又はこれらの金属の合金からしばしば構成さ
れるが、しかし電極又はメツキされるべき他の多
孔質物体用に使用される金属については限定され
ない。同様にメツキされるべき多孔質物体の基質
に依存して適当なそして相溶性のメツキ溶液が使
用できる。
The porous body can be formed from any desired electroplatable material depending in substance on the particular application for which the body is served. Porous objects for use as electrodes are often composed of iron, steel alloys (particularly corrosion-resistant or so-called stainless steel types), copper, titanium or alloys of these metals, but the electrodes or plated There are no limitations on the metals used for other porous objects. Similarly, suitable and compatible plating solutions can be used depending on the substrate of the porous body to be plated.

その多孔質物体が予定時間そのメツキ溶液内に
浸漬された後、それは充填部分4からメツキ部分
9に移される。その物体6の孔からその溶液の漏
れ又はこぼれを防ぎ又は最小にするための注意が
なされるべきである。これは、そのメツキ溶液か
らその物体を取出す時、このような損失を最小に
するための位置にその物体を保持することによつ
て行なわれる。別法として、被覆部材がその物体
の孔からそのメツキ溶液の漏れを防ぎ又は最小に
するためにその物体の露出された表面上への孔開
放部に対し密着して保持される。極端に小さい孔
を持つ電極のような物体はめんどうすぎることは
なく、そしてそれらがそのメツキ浴の外部にある
時、そのメツキ溶液の漏れ又はこぼれなしに扱う
ことができる。
After the porous body has been immersed in the plating solution for a predetermined time, it is transferred from the filling section 4 to the plating section 9. Care should be taken to prevent or minimize leakage or spillage of the solution from the holes in the object 6. This is done by holding the object in a position to minimize such losses when removing it from the plating solution. Alternatively, the covering member is held tightly against the hole opening onto the exposed surface of the object to prevent or minimize leakage of the plating solution from the hole in the object. Objects such as electrodes with extremely small holes are not too cumbersome and can be handled without leaking or spilling the plating solution when they are outside the plating bath.

メツキ部分9では、非メツキ電導性液体10
は、容器11中に提供される。一般に電流媒体液
体が、適当に組成された塩水溶液、すなわちメツ
キ溶液と反応せず、そしてメツキ用に必要な電流
を十分に流しそして導くために適する相溶性イオ
ン化可能な塩を含む溶液であることが満足すべき
である。換言すれば、その塩溶液は、多少メツキ
されるべき多孔質物体用の流体電気ブラシとして
作用するために使用され、そしてそれは所望の内
部メツキ操作を妨害する傾向にある還元可能なイ
オンを全く含んでいるべきでない。
In the plating part 9, the non-plating conductive liquid 10
is provided in container 11. In general, the current carrying liquid is a suitably composed aqueous salt solution, i.e., a solution containing compatible ionizable salts that do not react with the plating solution and are suitable for carrying and directing the current required for plating. should be satisfied. In other words, the salt solution is used to act as a fluid electric brush for the porous object to be somewhat plated, and it contains no reducible ions that would tend to interfere with the desired internal plating operation. It shouldn't be.

アノード12はそのメツキ溶液で飽和された多
孔質物体を受入れそして取付けるための手段(図
示せず)と一諸に容器11の内側に位置する。電
流はそのアノードとその多孔質物体間で流れ、そ
の多孔質物体は適当な直流電源13に接続してい
る電線14を通してカソードとして作用し、その
電源はアノード12に電線15によつて接続して
いる。そのメツキ方法用の塩水溶液内にその飽和
物体を完全に浸漬することが好ましいが、しかし
その多孔質物体がそれの表面の1部分にわたつて
そのメツキ溶液で飽和されている間、部分的な浸
漬のは満足すべきである時の事情が存在する。
Anode 12 is located inside vessel 11 together with means (not shown) for receiving and attaching a porous body saturated with the plating solution. Electric current flows between the anode and the porous body, which acts as a cathode through a wire 14 connected to a suitable DC power source 13, which power source is connected to the anode 12 by a wire 15. There is. It is preferred to completely immerse the saturated object in the aqueous salt solution for the plating process, but only partially while the porous object is saturated with the plating solution over a portion of its surface. There are circumstances when dipping should be satisfied.

メツキされるべき多孔質物体に対する電極(主
としてアノードであり、それは必ずしもアノード
でなくても良い)は不活性であることが必要であ
る。換言すれば、その反対の電極は、その溶液中
にメツキ可能なイオンを生ずるような塩水溶液中
に溶解してはいけない。事実、その反対電極物質
はその電解方法において、ガスの発生又は幾分か
の他の非妨害起因反応を許容することのできるよ
うに選択されるべきである。
It is necessary that the electrode (mainly, but not necessarily an anode) for the porous body to be plated be inert. In other words, the opposite electrode must not be dissolved in the saline solution that would result in plateable ions in the solution. In fact, the counter electrode material should be selected in such a way that it can allow gas evolution or some other non-disturbing reaction in the electrolysis process.

メツキ電流は、その孔の内壁上にその飽和され
た多孔質物体の空間又は孔6内のメツキ溶液から
の金属イオンの析出を生じさせるためにその多孔
質物体に適用される。その電流は、メツキを達成
するのに十分な時間、そして普通電気メツキにお
いて使用された電流と比較して比較的低い電流水
準でその塩水溶液を通して適用される。同じ金属
基質及びメツキ物質を利用する標準のメツキ方法
において普通に利用された電気メツキ電流の5〜
40%減、好ましくは10%減の電流速度が使用され
る。しかしながら、その電流密度は、メツキ操作
中7のメツキ溶液を塩水溶液中に又はその逆への
拡散を最小にし又は避けるために十分な早さでそ
のメツキを完成させるために十分であるべきであ
る。
A plating current is applied to the porous body to cause precipitation of metal ions from the plating solution within the saturated porous body spaces or pores 6 on the inner walls of the pores. The current is applied through the brine solution for a sufficient time to achieve plating and at a relatively low current level compared to the current normally used in electroplating. 5 to 5 of the electroplating current commonly utilized in standard plating methods utilizing the same metal substrate and plating material.
A current rate of 40% reduction, preferably 10% reduction is used. However, the current density should be sufficient to complete the plating quickly enough to minimize or avoid diffusion of the plating solution into the brine solution or vice versa during the plating operation. .

使用した最適の電流密度は、系によつて変化
し、そして又例えばメツキされるべき多孔質物体
の大きさ及び材質および特に所望なメツキ析出物
の水準に依存するけれども、少なくとも約0.05ア
ンペア1平方インチ(0.008アンペア/平方セン
チメートルの電流密度を適用することが一般に望
ましい。0.05アンペア/平方インチ以下の電流密
度は、有害メツキ溶液/塩水溶液の拡散及び混合
のために多くの時間を必要とする。受入れられる
べき電流密度の上限は過度の水素の形成及び発生
が起る点までである。大部分の目的のため、約
0.1アンペア/平方インチ(0.015アンペア/平方
センチメートルの電流密度が満足すべきであるこ
とがわかつた。しかしながら、与えられた状態用
に使用された正確な電流水準は当業者にとつて容
易に決定できることが理解される。
The optimum current density used will vary from system to system and will also depend, for example, on the size and material of the porous body to be plated and on the particular level of plating deposits desired, but at least about 0.05 amperes per sq. It is generally desirable to apply a current density of 0.008 amps per square inch (0.008 amps per square inch). Current densities below 0.05 amps per square inch require more time for diffusion and mixing of the hazardous plating solution/salt solution. Acceptance The upper limit of current density that should be applied is up to the point where excessive hydrogen formation and evolution occurs.For most purposes, approximately
A current density of 0.1 amps per square inch (0.015 amps per square centimeter) has been found to be satisfactory; however, the exact current level to be used for a given condition can be easily determined by one of ordinary skill in the art. be understood.

メツキ操作が完了した後、そのメツキした多孔
質は、塩水溶液10から除去され、そして洗浄、
乾燥又は他のメツキ後の処理が行なわれ最終の目
的とした用途のためその多孔質物体の仕上げを行
なう。
After the plating operation is completed, the plated porosity is removed from the brine solution 10 and washed.
Drying or other post-plating treatments are performed to finish the porous body for its final intended use.

ある場合には、その多孔質物体に適用された被
覆の量は、一回のメツキ操作で十分でないかも知
れない。このような状態において、そのメツキ析
出物の所望の厚さはその所望の結果を達成するた
めに多数回メツキ操作の繰返しによつて容易に達
成できる。
In some cases, the amount of coating applied to the porous object may not be sufficient in one plating operation. In such conditions, the desired thickness of the plating deposit can be easily achieved by repeating the plating operation multiple times to achieve the desired result.

本発明の方法によつて多数の多孔質物体は同時
にメツキできることが明らかである。
It is clear that a large number of porous objects can be plated simultaneously by the method of the invention.

本発明の実施例において、21/2インチ(6.35
cm)の直径を持つ平らな、円盤状多孔質ニツケル
がアセトンで完全に洗浄され、そして約110℃で
風乾される。市販の圧縮されそして焼結された粉
末ニツケル電極から作られた多孔質物体は、70ミ
ル(0.178cm)の厚さそして10ミクロンの平均直
径の孔大きさを有していた。80容量%の多孔度を
有していた。
In an embodiment of the invention, 2 1/2 inches (6.35
A flat, disc-shaped porous nickel with a diameter of 1 cm) is thoroughly cleaned with acetone and air-dried at approximately 110 °C. The porous body made from commercially available compressed and sintered powdered nickel electrodes had a thickness of 70 mils (0.178 cm) and a pore size of 10 microns average diameter. It had a porosity of 80% by volume.

その多孔質物体はAgCN(シアン化銀)50g/
及びKCN(シアン化カリウム)100g/を含
む水性メツキ溶液で飽和された。その溶液で飽和
された多孔質物体は、電流導電媒体として過塩素
酸ナトリウム(NaClO4)の1/10モル水溶液を含む
電解槽中でカソードとして電気的に接続される。
プラチナ(Pt)電極は、そのアノードとして作用
するためにその槽の中に加えられる。0.1アンペ
ア/平方インチの電流は、その多孔質物体中の孔
の内壁上の銀被覆を析出させるためにその槽を通
して30分間通される。
The porous object is AgCN (silver cyanide) 50g/
and an aqueous plating solution containing 100 g/KCN (potassium cyanide). The porous body saturated with the solution is electrically connected as a cathode in an electrolytic cell containing a 1/10 molar aqueous solution of sodium perchlorate (NaClO 4 ) as the current conducting medium.
A platinum (Pt) electrode is added into the bath to act as the anode. A current of 0.1 ampere per square inch is passed through the bath for 30 minutes to deposit a silver coating on the inner walls of the pores in the porous body.

得られたメツキの効力を証明するために、その
メツキしたそして触媒化した電極は同じ多孔質ニ
ツケルから作られた非メツキ電極を持つた実験槽
でテストされた。
To demonstrate the efficacy of the resulting plating, the plated and catalyzed electrode was tested in an experimental chamber with an unplated electrode made from the same porous nickel.

各々の電極は、酸化チタニウムおよび酸化ルテ
ニウムの被覆を有する長く伸びたチタニウムメツ
シユアノードを有する標準電気テスト槽中で減極
されたカソードとして評価のために取付けられ
た。アノード対カソードの空間は、その槽におい
て「ナフイオン」分離イオン交換膜を中間に持つ
た9/32インチ(0.714cm)であつた。その陽極液
はNaCl300g/であり、そして陰極液は
NaOH100g/であり、その電解槽は約60℃の
温度でそしてそのカソードの後側で2〜21/2
psigに保持されたガス圧で操作された。その適用
された電流密度は0.5アンペア/平方インチであ
つた。
Each electrode was mounted for evaluation as a depolarized cathode in a standard electrical test chamber with an elongated titanium mesh anode with titanium oxide and ruthenium oxide coatings. The anode-to-cathode spacing was 9/32 inch (0.714 cm) with a "nafion" separating ion exchange membrane in the middle in the bath. The anolyte is NaCl300g/, and the catholyte is
NaOH 100g/, the electrolyzer is at a temperature of about 60°C and behind the cathode 2~21/2
Operated with gas pressure held at psig. The applied current density was 0.5 amps/in².

そのテストは増加した時間にわたつて電極の性
能を決定するために実施し、そしてその電圧の節
約はその電極に適用された窒素および酸素ガスで
の槽操作と比較して実現された。
The tests were conducted to determine the performance of the electrode over an increased period of time and the voltage savings realized compared to bath operation with nitrogen and oxygen gases applied to the electrode.

与えられた測定点での窒素ガス(すなわち不活
性ガス)操作から得られた電圧値と同じ測定点で
の酸素(すなわち活性ガス)操作で得られた電圧
値の差は得られた電圧節約の信頼すべき指示点お
よびカソードとして電極を使用した時対応する減
極効果を示した。
The difference between the voltage value obtained from nitrogen gas (i.e., inert gas) operation at a given measurement point and the voltage value obtained from oxygen (i.e., active gas) operation at the same measurement point is the resulting voltage savings. A corresponding depolarization effect was shown when using the electrode as a reliable pointing point and cathode.

得られた結果は第2図及び第3図においてグラ
フで示した。第2図は、特に減極したカソードと
して非触媒化(非被覆)多孔質ニツケルの性能を
示し、一方第3図は本発明の実施に従つて被覆さ
れた多孔性ニツケル体の性能を示す。
The results obtained are shown graphically in FIGS. 2 and 3. FIG. 2 specifically illustrates the performance of uncatalyzed (uncoated) porous nickel as a depolarized cathode, while FIG. 3 illustrates the performance of a coated porous nickel body in accordance with the practice of the present invention.

良好な結果は、他の電気化学的そして異つた目
的のために使用した時、本発明の方法に従つてメ
ツキした他の多孔質物体で得られた。
Good results have been obtained with other porous bodies plated according to the method of the invention when used for other electrochemical and different purposes.

本発明のメツキ方法は本明細書で示された金属
以外の物質にも適用できる。さらに本明細書で示
された溶液以外のそして有機であつてもよいが、
しかしこのような溶液及び懸濁液から電気析出可
能な被覆溶液は、本発明のメツキ方法、特に電気
メツキ方法において使用できる。
The plating method of the present invention can also be applied to materials other than the metals shown herein. Furthermore, solutions other than those shown herein and which may be organic,
However, coating solutions which can be electrodeposited from such solutions and suspensions can be used in the plating process of the invention, especially in the electroplating process.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の1つの方法を示す概略図、第
2図及び第3図は本発明をプロツトしたグラフを
示す。 5……多孔質物体、10……塩水溶液、6……
内部の空隙、11……容器、7……メツキ浴溶
液、12……アノード、8……容器、13……電
源、9……メツキ槽、14……電線、15……電
線。
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating one method of the invention, and FIGS. 2 and 3 are graphs plotting the invention. 5... Porous object, 10... Salt aqueous solution, 6...
Internal void, 11... Container, 7... Plating bath solution, 12... Anode, 8... Container, 13... Power source, 9... Plating tank, 14... Electric wire, 15... Electric wire.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 多数のからの空間を有する多孔質電導性物体
に少なくとも1部分の内壁表面に被覆を施す方法
において、 その多孔質物体のからの空間に、電気析出可能
な物質を含むメツキ溶液を少なくとも実質的に充
たす工程、その電気析出可能な物質は、その多孔
質物体に電流を流した時、前記被覆を形成するも
のであり、 その多孔質物体を電導性非メツキ液体媒体中に
浸漬する工程、そして 前記多孔質物体に直流電位を適用し、前記電導
性液体媒体及び多孔質物体を通して電流を流し、
前記多孔質物質の内壁表面に前記被覆を施すこと
を特徴とする方法。 2 前記多孔質物体が、10ミクロン以下の平均直
径の内部の、物体を横切る孔を有する特許請求の
範囲第1項記載の方法。 3 その多孔質物体が、ニツケル、鉄、腐食抵抗
性鋼、銅、チタニウムおよびそれの合金から選ば
れた金属からなる特許請求の範囲第1又は2項記
載の方法。 4 その多孔質物体を電気メツキ銀溶液で少なく
とも部分的に充たす工程を含む特許請求の範囲第
1、2又は3項記載の方法。 5 前記メツキ溶液がシアン化銀およびシアン化
カリウムの水溶液状の状態であり、そして前記電
導性液体媒体が過塩素酸カリウムの水溶液である
特許請求の範囲第1、2又は3項記載の方法。 6 0.05アンペア/平方インチからメツキされる
べき多孔質物体から水素を形成及び発生させるま
での密度で前記電導性液体媒体を通して前記電流
を施する工程を含む特許請求の範囲第1〜5項い
ずれか記載の方法。 7 前記電流密度は0.1アンペア/平方インチで
ある特許請求の範囲第6項記載の方法。 8 多数のからの空間を有する多孔質電導性物体
に少なくとも1部分の内壁表面に被覆を施す方法
において、 (a) その多孔質物体のからの空間に、電気析出可
能な物質を含むメツキ溶液を少なくとも実質的
に充たす工程、その電気析出可能な物質は、そ
の多孔質物体に電流を流した時、前記被覆を形
成するものであり、 (b) その多孔質物体を電導性非メツキ液体媒体中
に浸漬する工程、 (c) 前記多孔質物体に直流電位を適用し、前記電
導性液体媒体及び多孔質物体を通して電流を流
し、前記多孔質物質の内壁表面に前記被覆を施
す工程、そして (d) 前記工程(a)〜(c)を繰返すことからなることを
特徴とする方法。
[Scope of Claims] 1. A method of coating at least one inner wall surface of a porous conductive object having a plurality of spaces, wherein the spaces of the porous object contain a substance that can be electrodeposited. filling the porous object at least substantially with a plating solution, the electrodepositable material forming the coating when an electrical current is applied to the porous object, in a conductive non-plating liquid medium; applying a direct current potential to the porous body and passing an electric current through the conductive liquid medium and the porous body;
A method characterized in that the coating is applied to an inner wall surface of the porous material. 2. The method of claim 1, wherein the porous body has pores internally and across the body with an average diameter of less than or equal to 10 microns. 3. A method according to claim 1 or 2, wherein the porous body is of a metal selected from nickel, iron, corrosion-resistant steel, copper, titanium and alloys thereof. 4. A method according to claim 1, 2 or 3, comprising the step of at least partially filling the porous body with an electroplating silver solution. 5. The method according to claim 1, 2 or 3, wherein the plating solution is in the form of an aqueous solution of silver cyanide and potassium cyanide, and the conductive liquid medium is an aqueous solution of potassium perchlorate. 6. Applying the electrical current through the conductive liquid medium at a density ranging from 0.05 amperes per square inch to forming and generating hydrogen from the porous object to be plated. Method described. 7. The method of claim 6, wherein said current density is 0.1 amps per square inch. 8 A method for coating at least one inner wall surface of a porous conductive object having a large number of voids, including: (a) applying a plating solution containing an electrodepositable substance to the voids of the porous object; at least substantially filling the porous body with the electrodepositable material that forms said coating when an electric current is applied to the porous body; (b) filling the porous body in an electrically conductive non-plating liquid medium; (c) applying a direct current potential to the porous body and passing an electric current through the conductive liquid medium and the porous body to apply the coating to the inner wall surface of the porous body; and (d) ) A method characterized in that it consists of repeating the steps (a) to (c).
JP867980A 1980-01-28 1980-01-28 Electroplating of porous material Granted JPS56105495A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP867980A JPS56105495A (en) 1980-01-28 1980-01-28 Electroplating of porous material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP867980A JPS56105495A (en) 1980-01-28 1980-01-28 Electroplating of porous material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS56105495A JPS56105495A (en) 1981-08-21
JPS629678B2 true JPS629678B2 (en) 1987-03-02

Family

ID=11699608

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP867980A Granted JPS56105495A (en) 1980-01-28 1980-01-28 Electroplating of porous material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS56105495A (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS56105495A (en) 1981-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4204918A (en) Electroplating procedure
US3864163A (en) Method of making an electrode having a coating containing a platinum metal oxide thereon
US4326930A (en) Method for electrolytic deposition of metals
KR101818085B1 (en) Highly corrosion-resistant porous metal body and method for producing the same
EP3684966B1 (en) Method of producing an electrocatalyst
JP2003503598A5 (en)
EP0108188B1 (en) Method of producing electrode for liquid fuel cell
US4935110A (en) Electrode structure and process for fabricating the same
US4337124A (en) Non-pulsed electrochemical impregnation of flexible metallic battery plaques
Vázquez-Gómez et al. Activation of porous Ni cathodes towards hydrogen evolution by electrodeposition of Ir nuclei
EP0032960B1 (en) Method of electroplating a porous body
JPS629678B2 (en)
CA1132479A (en) Method of electroplating a porous body
KR840002272B1 (en) Method of electroplation a porous body
JPH0673393B2 (en) Copper plating method for printed circuit boards
JPH11269688A (en) Electrolytic electrode
Karabanov et al. Electrodeposition of Ni-Mo Defect-Free Alloy from Ammonium-Citrate Electrolyte in Pulse Current Mode
JP2001262388A (en) Electrode for electrolysis
JPS58133387A (en) Cathode having low hydrogen overvoltage and preparation thereof
JPH01208489A (en) Catalytic electrode and production thereof
JPS6152388A (en) Plating device
JPS5925987A (en) Cathode with low overvoltage and its manufacture
JPH06173068A (en) Electrolytic cell
KR19980014773U (en) Semi Osmosis Ion Dialysis Device
JPH025832B2 (en)