JPS629419B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS629419B2
JPS629419B2 JP54132452A JP13245279A JPS629419B2 JP S629419 B2 JPS629419 B2 JP S629419B2 JP 54132452 A JP54132452 A JP 54132452A JP 13245279 A JP13245279 A JP 13245279A JP S629419 B2 JPS629419 B2 JP S629419B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
film layer
layer
gold
transparent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP54132452A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5656855A (en
Inventor
Toshiaki Yatabe
Masato Sugyama
Masao Suzuki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP13245279A priority Critical patent/JPS5656855A/en
Publication of JPS5656855A publication Critical patent/JPS5656855A/en
Publication of JPS629419B2 publication Critical patent/JPS629419B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、片面或いは両面を透明薄膜層によつ
ておおわれた金を主成分とする単一あるいは積層
された金属薄膜層を有する積層体に関する。更に
詳しくは、透明導電性及び/又は選択光透過性を
有する上記積層体に関する。 透明導電性被膜は、その導電性を利用した用
途、例えば液晶デイスプレー用電極、電場発光体
用電極、光導電性感光体用電極、帯電防止層、発
熱体等のエレクトロニクス、電気の分野の用途に
広く利用されている。 選択光透過性被膜は、可視光域の光に対して透
明であるが、赤外光(近赤外光を含む)に対して
は反射能を有しているので透明断熱膜としても有
用である。従つて太陽エネルギー集熱器(温水
器)、太陽熱発電、グリーンハウス、建築物の窓
部等に使用され得る。特に近代建築物において、
壁面の大きな割合を占める窓からの太陽エネルギ
ー利用及びエネルギー放散を防げる透明断熱窓と
しての機能は今後益々重要性を増す。又、例えば
野さい、かんきつ類等の農業、果実等の栽培に必
要なグリーンハウス用フイルムとしてその重要性
は大きい。 この様に、透明導電性被膜および選択光透過膜
はエレクトロニクス、太陽エネルギー利用の観点
から重要であり、均質で高性能な膜が工業的に安
価に且つ大量に供給されることが当該業界から望
まれていた。 透明導電性被膜として、従来から知られている
もので、 金、銅、銀、パラジウム等の金属薄膜、 酸化インジウム、酸化スズ、ヨウ化銅等の化
合物半導体膜、および 金、銅、銀、パラジウム等の導電性金属膜を
ある波長領域にわたり選択的に透明にしたもの が知られている。赤外光反射能の高い選択透過膜
として、数千オングストロームの膜厚の酸化イン
ジウム膜又は酸化錫膜、および金属膜と透明導電
体膜の積層膜等が知られている。しかしながら、
すぐれた性能の透明導電性膜又は選択光透過膜が
工業的に安価に製造されるに至つていないのが現
状である。 即ち、上記の金属薄膜は、金属が広い波長領
域にわたり反射能又は吸収能が高いため、可視光
透過率の高いものが得られ難い。可視光透過率を
高めると、導電性又は赤外光反射能が著しく低下
する。導電性又は赤外光反射能を高めるために、
金属薄膜の膜厚を高めると、可視光透過率が著し
く低下するので、両者の性質がすぐれた透明導電
性被膜又は選択光透過膜が得られない。 上記の化合物半導体薄膜は、例えば真空蒸着
法、スパツタリング法等の真空中における薄膜形
成法で形成されるが、真空中における化合物の蒸
発による方法では、蒸発化合物の分解にともなう
問題、被膜特性を均一に制御するために膜形成速
度が実際上遅いこと、蒸発源の大きさが制限され
るため大面積基板への適用が制約される問題等、
工業生産性に欠け、安価な製品となり得ない。酸
化インジウム等の半導体で、すぐれた透明導電性
又は選択透過性膜を得るために、数千オングスト
ローム程度の膜厚の酸化インジウム等の半導体被
膜が提案されているが、膜の生産速度が著しく遅
くなるばかりでなく、貴重なインジウム等の資源
を多く消費することになり、その結果、膜の製造
コストが著しく高くなる。更にこの膜では赤外光
反射能又は導電性の充分に高いものが得られてい
ない。 上記の透明導電性膜又は選択光透過性膜の代
表的な構成は、金属薄膜を透明高屈折率薄膜では
さんだ積層体であり、例えば真空蒸着、反応性蒸
着又はスパツタリングで形成させたBi2O3/Au/
Bi2O3、ZnS/Ag/ZnS又はTiO2/Ag/TiO2等の
サンドイツチ状構造の積層体が提案されている。
金属層として銀あるいは金を用いたものは、銀あ
るいは金自体がもつ光学的特性により、可視光領
域における透明性及び赤外光に対する反射特性が
特に優れていること、また導電性においても好ま
しい特性を有していること等の点から材料として
特に優れている。 しかしながら、透明高屈折率薄膜層によりおお
われた銀薄膜層からなる積層体は、熱、光、ガス
及びその他の汚染物質により特性の劣化がおこ
り、環境安定性において著しい問題がある。この
劣化の原因の多くは環境因子による銀の表面拡散
あるいは腐蝕によるものである。 一方、透明高屈折率薄膜層によりおおわれた金
薄膜層からなる積層体は熱、光、ガス及びその他
の汚染物質に対する安定性は上記銀薄膜層からな
る積層体よりすぐれているものの、金薄膜層の有
する黄金色から淡橙色の色調は一般建物用窓等に
適用した場合好まれるものではなかつた。 環境工学的にあるいは人間工学的に色調の問題
をとらえた場合金薄膜層の有する暖色系の黄金色
から淡橙色の色調は不安定な心理を与え逆に銀薄
膜層の有する寒色系の淡青色は安定な心理作用を
有すると言われている。 現在建物における窓面積は拡大する傾向にある
住環境あるいは作業環境等の床、天井、あるいは
壁等の安定な心理作用をおよぼす配色が充分に検
討され、実際に応用されている状況にあつては、
窓の有する色調等の心理効果も重要視されなけれ
ばならない。 本発明者は従来から、透明導電性及び/又は選
択光透過性を有する積層体に関し検討を続け金薄
膜層を有する積層体の化学的な、あるいは環境的
な安定性を損うことなく金薄膜層の有する積層体
の色調を好ましいものとする様鋭意研究した結
果、金を主成分とする金属層を用いれば金の特性
を損うことなく色調を改善する事が可能であり、
更に特定量の銀及び銅含有率の場合特に効果が大
きく好ましい事を知り本発明に到達したものであ
る。 すなわち本発明は、成型物基体と、片面あるい
は両面を透明薄膜層(B)によつておおわれた金属薄
膜層(A)とからなる積層体において、該金属薄膜層
(A)が金を主成分とし銀及び銅を含む単一あるいは
積層された金属薄膜層であり、且つ、銀と銅との
重量の和が金、銀及び銅の総重量に対して36重量
%乃至69重量%であることを特徴とする積層体で
ある。 本発明を説明する。 本発明で用いられる成型物基体とは有機系、無
機系成型物基体およびそれらの複合成型物基体の
いずれでもよいが有機系成型物基体が好ましい。
有機系成型物基体の素材としては、例えばポリエ
チレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタ
レート樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹
脂、BBS樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアセター
ル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹
脂、ポリアミド樹脂、フツ素樹脂等の熱可塑性樹
脂、更には例えばエポキシ樹脂、ジアリルフタレ
ート樹脂、ケイ素樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、フエノール系樹脂、尿素樹脂などの熱硬化性
樹脂、更にはポリビニルアルコール、ポリアクリ
ルニトリル、ポリウレタン、芳香族ポリアミド、
ポリイミド樹脂等の溶剤可溶型樹脂等があげられ
る。これらは単独重合物又は共重合物として単独
又は2種以上の混合物として用いられる。これら
の成型物は板状、シート状、フイルム状、棒状、
糸状、ブロツク状又はパイプ状等の任意の型に成
型されており、必ずしも平面的な板状物に限定さ
れない。また、その目的に応じ着色、無着色、透
明、不透明のものが選ばれる。 就中、可撓性の透明フイルム又はシートが好ま
しい。 かかるフイルムの中でも、可視光透過率80%以
上、厚さ10〜250μmのフイルムが好ましく、ポ
リエチレンテレフタレートの上記特性を有するフ
イルムが特に好ましい。 本発明の積層体は前記成型物基体上に、前記の
如く片面或いは両面を透明薄膜層(B)によつておお
われた金属薄膜層(A)が設けられているのである
が、かかる金属薄膜層(A)は金を主成分とする単一
あるいは積層された金属薄膜である。単一層の場
合、金原子、銀原子および銅原子が共存している
状態の金属薄膜層を意味し、それは完全に均一な
場合もあり、又ある程度不均一である場合もある
が少くとも単一層として存在するのである。 又、積層された金属薄膜の場合、金、銀及び銅
の3種類の金属を積層する組合せは6種類ありそ
のいずれも本発明で期待される効果を発揮しう
る。積層された金属層においては、積層された金
属同志、金属層界面において多少の不均一な混合
層を形成していても何ら差しつかえなく、本発明
に使用される3種の金属が互いに異種金属に接触
して層を形成して存在しているのである。 また、金属薄膜層を積層する場合、金、銀及び
銅の3種類の金属から任意の2種類の金属の共存
する単一層の金属薄膜を形成し、更に、他の1種
の金属と積層させて用いても何ら本発明の効果を
損うものではない。例えば金と銀からなる単一層
に銅層を積層させたり、また金層に銀と銅からな
る単一層を積層させる等が挙げられる。 かかる組合せとしては、以下(イ)〜(オ) (イ) 金層/銀層/銅層 (ロ) 金層/銅層/銀層 (ハ) 銅層/金層/銅層 (ニ) 銀層/銅層/金層 (ホ) 銅層/金層/銀層 (ヘ) 銅層/銀層/金層 (ト) 銀銅層/金層 (チ) 金層/銀銅層 (リ) 銀層/金銅層 (ヌ) 金銅層/銀層 (ル) 銅層/金銀層 (オ) 金銀層/銅層 が挙げられ、これらの中でも、(イ)、(ロ)、(ニ)、(ヘ)

(ト)、(チ)、(ル)、(オ)が好ましく、特に(イ)、(ロ)
、(ニ)、
(ヘ)、(ト)、(チ)が好ましい。 更に本発明の目的とする効果を損なわない程度
(例えば白金族では1重量%以下)の他の成分、
例えばアルミニウム、ニツケル、イリジウム、ロ
ジウム、パラジウム、白金、インジウム、スズ、
カドミウム、ゲルマニウム、亜鉛等が共存してい
ても何らさしつかえない。 本発明の目的とする積層体における、金、銀お
よび銅からなる単一あるいは積層された金属薄膜
層は種々の方法で造りうる。 例えば、金、銀及び銅の合金を用いて真空蒸着
やスパツタリングを行なえば、金、銀及び銅の共
存する単一な金属薄膜層を得る事ができる。 或いは金、銀及び銅を別々に真空蒸着やスパツ
タリングする多元蒸着法又は多元スパツタリング
法によれば、金、銀及び銅の共存する単一な金属
薄膜層又は金、銀及び銅を目的とする順位で積層
された金属薄膜層を得る事が可能である。 いずれの方法により作成された金属薄膜層も、
金、銀及び銅が共存する事によつて本発明の目的
を達成し得る。 かかる金、銀及び銅の共在により、金のみある
いは金と銀だけあるいは金と銅だけが共存する金
属薄膜層を形成せしめた際の欠点を改善すること
ができる。即ち金薄膜層の有する化学的なあるい
は環境的な安定性を損うことなしに、金薄膜層の
色調を好ましいものに変化させる事が可能とな
る。一般的に言えば、金に吸収域の異なる金属を
添加すれば金の有する色調を変化させる事は可能
である。例えば金に白金属系の金属であるパラジ
ウム、イリジウム、白金、ロジウム等を添加すれ
ば色調は灰白色から灰黒色に変化する。また、卑
な金属であるスズ、ニツケル、クロム、チタン、
アルミニウム等を添加すれば可視部に大きな吸収
を有する色調となりやはり黒色に近くなる。本発
明の目的とする淡青色の色調は特定量の銀および
銅を添加する事のみによつて得られる。 しかるに金より卑な金属である銀および銅の添
加は金の有する化学的なあるいは環境的な安定性
を損う事が予想された。 合金に関するTamman則(例えばAnnalen Der
Physik、V Folge、Band1、1929 page 309−
317)によれば、貴な金属にそれより卑である金
属を50atomic%以上添加して得られた合金(例
えば金に対して32wt%以上の銅を添加した合
金)は化学的な安定性が卑である金属とほぼ同等
になると言われている。Tamman則は経験的な法
則であるが現在でも金属学の広い範囲にわたつて
認められている。Tamman則によると例えば金に
対し50atomic%以上の銀又は銅を含む合金(す
なわち65又は68wt%以上)は、銀又は銅とほぼ
同等の化学的安定性を示す訳である。 更に、このTamman則は充分に焼なましたバル
ク合金に関しての法則であるが、本発明で使用さ
れる様な薄膜の金属層の場合には表面積の非常な
拡大、蒸着やスパツタリングによる表面の不均一
性、結晶学的欠陥の増加、蒸着やスパツタリング
により形成された新生表面の活性度の増加等の影
響により、Tamman則で述べられたバルクの耐蝕
性合金の場合よりもさらに少量の卑な金属の存在
で貴な金属の特性が失なわれると考えられる。つ
まり金を主成分とする金属薄膜層の化学的安定性
を、金より卑な金属が混入しても維持しうる為に
は、例えば金を50atomic%よりかなり多量に含
有しなければならない事が予想される。更に金を
主成分とする金属薄膜層が銅の様なかなり卑な金
属を含む場合には更に金の存在量を増加させる必
要のある事が予想される。 しかしながらこの様な予想に反して本発明の積
層体においては、金属薄膜層の構成成分である
金、銀及び銅の総重量に対して銀と銅の総和の重
量%が36重量%から69重量%を含む金、銀及び銅
からなる単一あるいは積層された金属薄膜層とす
る事によつて、つまりTamman則によれば十分に
金の特性が消失する範囲で、光や熱に対して金の
有する耐久性、耐薬品性及び耐腐蝕性の諸特性を
十分維持し、しかも、金属薄膜層の有する色調を
金単独の場合に比べて非常に好ましいものに改善
できるという予想外かつ驚くべき結果が達成され
たのである。 耐蝕性における予想外の改善の効果を挙げるな
らば、本発明における金、銀及び銅からなる金属
薄膜層を有する積層体は、金だけからなる金属薄
膜層を有する積層体とほぼ同等、銀だけからなる
金属薄膜層を有する積層体の約5倍以上、銀及び
銅からなる金属薄膜層からなる積層体の約7倍以
上、銀及び金からなる金属薄膜層を有する積層体
の約4倍以上の耐腐蝕性を有しているのである。 金に共存させる銀及び銅の量によつて積層体の
色調が変化するので加えるべき銀及び銅の量は用
途に適合する色調によつて選択できる。即ち銀の
含有量が多くなる程透過色は黄金系から青味系に
変化し、同一膜厚で比較した場合、可視光透過率
は銀の含有量が増加するに従つて向上する。また
銅の含有量が多くなる程透過色は黄金系から赤味
系に変化し、同一薄膜で比較した場合、可視光透
過率は銅の含有量が増加するに従つて低下する。 また環境安定性は銀の含有量が増加するに従つ
て低下する傾向にあり、銅の含有量が増加するに
従つて更に低下する傾向にある。このため、銀と
銅の含有量が69重量%を超えると光学特性の向上
に与える効果よりも環境安定性への悪影響が大と
なり好ましくない。また銅の含有量は30重量%を
超えると環境安定性が著しく低下し、また、光学
的特性も低下し好ましくない。これらの点から金
属薄膜層に含まれる銀は35.5重量%を下らず、且
つ69.0重量%に達しない量であり、銅は0.5重量
%を下らず、且つ30重量%を超えない量であり、
かつ銀と銅の総和が36重量%から、70重量%に達
しない量である事が好ましい。また得られる積層
体の目的とする光学特性と環境安定性の調和から
銀と銅の総和は45重量%から69重量%が特に好ま
しい。特に、得られた積層体の耐薬品性及び耐腐
蝕性を重視する場合には、銅は1重量%から15重
量%程度にする事が好ましく、更には1重量%か
ら8重量%が好ましい。 金属薄膜の膜厚は透明導電性膜又は選択光透過
膜としての要求特性をもてば別に限定されるもの
ではないが、赤外光反射能又は導電性をもつため
には、少くともある程度の領域で連続性をもつこ
とが必要である。島状構造より連続構造にうつる
膜厚として約50Å以上、又太陽エネルギーに対す
る透明性の点より500Å以下が好ましい。金属薄
膜層の膜厚は、より薄い程光透過領域が広がるの
で、透明性を増すためには250Å以下の膜厚がよ
く、充分な導電性又は赤外光反射能をもたせるた
めには70Å以上の膜厚が好ましい。 金属層(A)が積層された金属層である場合におい
ても積層された金属層の総膜厚が上記範囲内にあ
る事が好ましく、各金属層の膜厚を制御する事に
よつて、各金属の含有率を変化させることができ
る。 本発明においては、前記した如く合金という状
態をとらなくても、前記した如き成分金属の効果
が発揮されるのであり、通常金属学で考えられて
いる異種金属添加効果からは予測しがたい作用が
発現されているものと推察される。 金属薄膜層(A)を形成する方法は、前記した如く
例えば真空蒸着法、カソードスパツタリング法、
化学メツキ法、電気メツキ法及びこれらの組合せ
方法のいずれでも可能であるが、成型物基板を用
いた場合の積層体において、基板であるシート、
フイルム等の表面が平滑な場合、形成薄膜の均一
性、製造の容易性及び膜形成速度の点から、特に
真空蒸着法が適している。 又、被膜中の金、銀及び銅の組成を被膜形成中
できるだけ均一に保つ為には、合金又は多元のス
パツタリング法が適しており、また真空蒸着法に
おいても多元蒸着法又は合金試料と電子ビーム加
熱法、高周波誘導加熱法、抵抗加熱法、フラツシ
ユ蒸着法等の組合せが好ましい。 以上詳説した金属薄膜層(A)は、その片面或いは
両面を透明薄膜層(B)でおおわれているのである
が、以下その透明薄膜層(B)につき詳説する。本発
明における透明薄膜層は透明高屈折率薄膜(B−
1)及び/又は透明保護膜(B−5)を包含す
る。 透明薄膜層を構成する透明高屈折率薄膜(B−
1)としては金属層における反射を防止する効果
を有するものならば特に限定されるものではない
が、可視光に対して1.6以上、好ましくは1.7以上
の屈折率を有し、可視光透過率80%以上、好まし
くは90%以上であるのが効果的である。又その膜
厚は、50〜1000Å、好ましくは100〜500Åであ
る。これらの条件を満たすものとして例えば二酸
化チタン、酸化チタン、酸化ジルコン、酸化ビス
マス、硫化亜鉛、酸化錫および酸化インジウム等
の薄膜層等があげられる。これらの薄膜層は、ス
パツタリング、イオンプレーテイング、真空蒸
着、湿式塗工等の方法によつて設けることができ
る。 本発明の目的にかなう透明高屈折率薄膜(B−
1)としては酸化チタン(B−2)、酸化ビスマ
ス(B−3)又は硫化亜鉛(B−4)のいずれか
より形成された透明高屈折率薄膜層が好ましい。 更に、透明高屈折率薄膜層としては、可視光屈
折率、透明性等の光学的特性の優秀さより酸化チ
タン薄膜層(B−2)が特に好ましく、酸化チタ
ン薄膜層(B−2)は有機チタネート化合物より
形成される酸化チタン薄膜層(B−21)あるいは
真空蒸着及びスパツタリング等で形成される酸化
チタン薄膜層(B−22)のいずれであつても良
い。 真空蒸着あるいはスパツタリングで形成される
酸化チタン薄膜層(B−22)は公知の方法で形成
が可能である。スパツタリングの場合、低温マグ
ネトロンスパツタリング法により、酸化チタンの
アルゴンガススパツタリングあるいは金属チタン
に酸素を導入した反応性スパツタリングで形成す
る事ができる。また真空蒸着法によれば電子ビー
ム等を利用して酸化チタン薄膜層(B−22)を形
成する事が可能である。またこの様に形成された
酸化チタン薄膜層(B−22)が特性に影響のない
程度の窒化チタンを含有していても本発明の目的
には何らさしつかえがない。 有機チタネート化合物より形成された有機物質
を含む酸化チタン薄膜層(B−22)は、例えばア
ルキルチタネートを主成分とする溶質の有機溶剤
溶液を用いることにより設けることができる。該
アルキルチタネートは、一般式TilOnRo(但し、
Rはアルキル基、l、m、nは正の整数)で表わ
される。 上記の一般式で表わされるアルキルチタネート
のうち、とりわけm=4+(l−1)×3、n=4
+(l−1)×2、l=1〜30のものが膜形成(例
えば塗工)の容易さや得られた誘電体層の特性の
点から好ましく用いられる。lの値は、単一でな
く分布をもつていてもよいが、特にlの値の分布
が15以下に最大値を有するアルキルチタネートは
塗工溶液粘度および加水分解性において好まし
い。上記の一般において、アルキル置換基Rは炭
素数1〜20のものが好ましく用いられる。特に炭
素数が2〜11のアルキル置換基のものは被膜形成
操作、例えば塗工の容易さ、更には加水分解速
度、得られた膜の機械的特性および透明性の点で
好ましく用いられる。なお、上記アルキルチタネ
ートの二種以上の混合物を用いてもよい。該アル
キルチタネートは有機溶剤に溶解せしめて溶液と
なし、成型物表面に塗付されると加水分解され、
それに続く縮合反応により脱アルキルハイドロオ
キサイド化し、網目構造を形成する。塗工の条件
を選ぶことにより、アルキルチタネートは酸化チ
タンに近づく。 本発明の積層体に用いられるアルキルチタネー
トとしては、例えばテトラブチルチタネート、テ
トラエチルチタネート、テトラプロピルチタネー
ト、テトラステアリルチタネート、テトラ−2−
エチルヘキシルチタネート、ジイソプロポキシチ
タニウムビスアセチルアセトネート等があげら
れ、とりわけテトラブチルチタネート、テトラプ
ロピルチタネートが好ましく用いられる。これら
のアルキルチタネートはそのまま用いてもよく、
また2量体、4量体、10量体などの予備縮合をし
たものも好ましく使用できる。 更に又これらアルキルチタネートをアセチルア
セトンの様なキレート化合物で安定化させて使用
してもよい。 アルキルチタネートによる被膜形成において一
般的に用いられる有機溶剤としては、アルキルチ
タネートを充分に溶解し、且つ成型物基板が用い
られるなら、その成型物表面に親和性を有し、塗
布し易くしかも塗布後乾燥し易い溶剤が好まし
い。この様な有機溶剤としては、例えばヘキサ
ン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、メチ
ルシクロヘキサン、トルエン、ベンゼン、キシレ
ン、オクテン、ノネン、ソルベントナフサ、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノ
ール、ペンタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルシクロヘキサノール、フエノール、クレゾー
ル、エチルエーテル、プロピルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、メチルアセテート、エチルアセテー
ト、プロピルアセテート、ブチルアセテート、エ
チルプロピオネート、メチルベンゾエート、氷酢
酸、クロロホルム、四塩化炭素、トリクレン、ト
リクロルエタン、クロルベンゼン、ジブロモエタ
ン、メチルセロソルブ、セロソルブ、セロソルブ
アセテート等の炭化水素系、アルコール系、エー
テル系、エステル系、カルボン酸系およびハロゲ
ン置換炭化水素系等の有機溶剤があげられる。と
りわけ、イソプロパノール、ブタノール、ノルマ
ル−ヘキサン、トルエン等が好ましく用いられ
る。これらの有機溶剤は、単独で又は必要に応じ
て2種以上を混合して使用することができる。更
に場合によつては、含水溶剤を用いても良い。 薄膜層(B−21)の形成をアルキルチタネート
の溶液を用いて行なう場合、有機溶剤にアルキル
チタネートを溶解せしめ、塗布液を得る。この
際、必要に応じて本発明の目的とする効果を損な
わない範囲で溶解のために加熱をしてもよいし、
塗膜の接着性、屈折率、色調、硬度等の性質を改
良するために、他の若干量の有機溶剤に可溶な成
分を加えてもよい。この様な成分としては例え
ば、ケイ素系樹脂、アクリル酸系樹脂、エポキシ
樹脂、ポリウレタン樹脂等の溶剤可溶型樹脂が挙
げられる。アルキルチタネートの前記有機溶剤溶
液(塗布液)の濃度は任意であるが、特に数百オ
ングストローム程度の膜厚の薄膜層を均一に設け
るには0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜10重量
%、特に好ましくは1〜7.5重量%に濃度を調整
するのがよい。この溶液を成型物の表面に塗布す
る場合、例えば浸漬法、墳霧法、スピナー法をは
じめ一般のコーテイングマシンを利用する方法、
即ちグラビアコーター、マイヤーバーコーター、
リバースロールコーター等を使用する方法があ
る。例えばフイルム、シート等の平滑な成型物基
板に塗布する場合には膜厚の制御と均一性の観点
から、グラビアコーターやマイヤーバーコーター
の使用が好ましく、平滑でない成型物基板に塗布
する場合には墳霧法が好ましく用いられる。溶液
を塗布すると同時又は後に、溶剤を室温以上の温
度で乾燥し、必要に応じ熱処理することにより塗
工が完了する。この乾燥又は熱処理条件は、50〜
200℃の温度で、10秒間〜10時間程度である。 この様に塗工することにより、アルキルチタネ
ートは加水分解し、有機物質を含有する酸化チタ
ン薄膜層(B−21)を形成する。該薄膜層(B−
21)の膜形成条件を調節することにより、該薄膜
層(B−21)中にアルキル基を残存させることが
でき、その量を0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜
10重量%に調整することにより、該薄膜層(B−
21)と金属薄膜層(A)又は成型物、特に有機高分子
成型物基板の表面との接着性を向上し、巾広い波
長域にわたつて透明性および表面導電性のすぐれ
た透明導電性被膜又は選択光透過膜を得ることが
できる。 アルキルチタネート化合物より形成された酸化
チタン薄膜層(B−21)は、アルキルエステル基
が特定量残存するので、その屈折率はスパツタリ
ング又は真空蒸着法で得られる酸化チタンの屈折
率に比べ低く、可視光領域で1.6〜2.4程度であ
る。そのためアルキルチタネート化合物から形成
された酸化チタン薄膜層(B−21)を有する積層
体は(イ)大面積にわたり光透過率が均一である。(ロ)
成型物との接着性がすぐれている。(ハ)可視光域の
広い波長領域にわたり光透過率が高い、等の利点
を有している。 アルキルチタネート化合物から形成された酸化
チタン薄膜層(B−21)の有機物質の含有量は
0.1〜30重量%であり、好ましくは0.5〜10重量%
である。この量が0.1重量%未満であること接着
性が著しく損なわれ、30重量%をこえると透明性
が著しく損なわれる。 なお、本発明で言う有機物質は、主として酸化
チタン薄膜層(B−21)をアルキルチタネート溶
液から形成する際のアルキルチタネート溶液に由
来するアルキル基(アルキルチタネートそのもの
から、あるいは有機溶媒と該アルキルチタネート
との反応によつて形成されたものでもよい)を意
味するが、酸化チタン薄膜膜(B−21)を形成さ
せる他の方法の際にかかる有機物質が層中に含有
されたものでもよい。この有機物質は、酸化チタ
ン薄膜層(B−21)でチタンとアルキルエステル
基との結合で存在するものと考えられるが、本発
明ではアルキル基の量をもつてその含有量を規定
する。 また、酸化チタン層に含まれるアルキル基に由
来する有機物質の含有量は、アルキルチタネート
化合物を塗工乾燥後、適当な湿水分を含む雰囲
気、好ましくは高温度で高湿度の雰囲気又は熱水
中(例えば相対温度80%、温度80℃等あるいは80
℃の湯等)に適当に接触させる事により制御した
低減化を計る事ができる。 この様な手段を用いる事によつて酸化チタン層
の屈折率、あるいは酸化チタン層と成型基体との
接着性等を自由に制御可能な事も有機チタネート
化合物から酸化チタンを形成する場合の大きな特
徴である。 以上述べた透明高屈折率薄膜層(B−1)の中
でも、酸化チタン薄膜層(B−2)、アルキルチ
タネート化合物から形成された酸化チタン薄膜層
(B−21)、酸化ビスマス薄膜層(B−3)、硫化
亜鉛薄膜層(B−4)が好ましい。 本発明の透明薄膜層(B)の構成要素でありうるも
う一つの要素、即ち透明保護膜(B−5)は、主
として表面硬度、耐候性、耐腐蝕性、耐汚染性等
の性質を改良する目的で表面に設けられる他、接
着性改善の為に基体上に直接設けられてもよい。 この様な層に用いる材料としては、例えばポリ
メタアクリル酸メチル等のアクリル酸エステル系
樹脂、ポリアクリロニトリルあるいはポリメタア
クリロニトリル等のアクリル系樹脂、ポリエチレ
ンあるいはポリプロピレン等のポリオレフイン系
樹脂、エチレンシリケートより得られる重合体等
の硅素樹脂、ポリエステル系樹脂、メラミン樹
脂、フツ素樹脂などの有機物質の他に酸化硅素、
フツ化マグネシウムアルミナ等の無機物質等も適
用できる。また上記化合物の中から目的に応じて
数種の樹脂あるいは物質を積層させて使用しても
何ら本発明の目的にはさしつかえがない。 かかる保護層の中でも、赤外光域における低吸
収性を重視する場合にはポリメタアクリロニトリ
ルあるいはポリアクリロニトリル等のアクリル系
の樹脂あるいはポリオレフイン系樹脂であるポリ
エチレンあるいはポリプロピレン等が好ましい。 これらのアクリル系樹脂保護層は光学的干渉効
果による悪影響をさけるために0.5μ以下あらる
いは1.6μ以上の厚さに塗工される事が好まし
く、ポリオレフイン系樹脂保護層は例えば2軸延
伸された厚さ12μ以下のポリオレフインフイルム
が適当である。またこれらの保護層の表面硬度を
向上させるために、UV硬度型の表面硬化樹脂で
あるトリメチロールプロパントリアクリレートあ
るいはテトラメチロールプロパンテトラアクリレ
ート(新中村化学(株)製)等を表面に積層して固化
させることができる。また無機系の保護層は光学
吸収が少く、表面硬度も高いため、酸化硅素、フ
ツ化マグネシウム、酸化アルミニウム等は好まし
く用いられる。 本発明の積層体の有する更に驚くべき特長は、
かかる保護層を設けることによる耐久性の改善で
ある。通常保護層を設けた場合、いかなる場合で
も耐久性が向上すると考えがちであるが、本発明
の対象物である特殊機能を有する薄膜積層体にお
いては必ずしもそうではない。 例えば金属層とし銀(Ag)薄膜層を用い、そ
の両側を酸化チタン(TiO2)薄膜層でおおつた積
層物をポリエステルフイルム上に設けた積層体、
及び、上記金属層を銀銅(Ag−Cu)属、金銀
(An−Ag)層或いは金銀銅(Au−Ag−Cu)層
とした4種の積層体について各々、保護層を設け
ないものと設けたものとの耐久性を検討すると、
実施例26第6表の如くなる。 この様に、本発明における、両側を透明薄膜層
でおおわれた金、銀及び銅からなる金属薄膜層を
有する積層体は、耐光性、耐腐蝕性だけにとどま
らず耐熱性等すべての要求される環境安定性の点
において、従来技術からではまつたく予想だにで
きない複合効果によつて、従来では考えられなか
つた安定性を達成する事ができるのであり、かつ
光学的特性も好ましい淡青色の範囲にとどめてお
く事が可能なものである。 本発明における構成を具体的に例示するなら
ば、成型物基体上に(A)金属薄膜層、(B−1)透
明高屈折率薄膜層、透明保護薄膜層(B−5)が
以下の様に順次積層されている積層体が好ましく
用いられる。 (1) 成型物基体/(A)/(B−1) (2) 成型物基体/(A)/(B−5) (3) 成型物基体/(A)/(B−1)/(B−5) (4) 成型物基体/(B−1)/(A)/(B−1) (5) 成型物基体/(B−1)/(A)/(B−5) (6) 成型物基体/(B−1)/(A)/(B−1)/
(B−5) (7) 成型物基体/(B−5)/(A)/(B−5) (8) 成型物基体/(B−5)/(B−1)/(A)/
(B−5) (9) 成型物基体/(B−5)/(B−1)/(A)/
(B−1)/(B−5) 更に可視光透過率の良好な積層体を目的とする
場合(1)、(3)、(4)、(6)、(9)が好ましく用いられる。 かくして透明成型物基体の表面に前記(A)、(B)の
層を設けた積層体は、電気的エネルギーを与え、
光エネルギーを与えるか、もしくは光エネルギー
を与え、電気エネルギーを与える透明電極に又帯
電防止層として用いられる。又、特に選択光透過
性のすぐれた前記(A)、(B)の層を設けた積層体は、
太陽光を有効に利用するための選択透過性材料及
び/又はその断熱性を利用し省エネルギー材料と
して好ましく用いられる。又、着色成型物を用
い、前記(A)、(B)層を表面に設けた積層体は、成型
物の色を損なわずに導電性を付与する事ができ、
例えば成型物の静電気の帯電防止に役立つ。着色
成型物の表面に、赤外光反射能のすぐれた前記
(A)、(B)の層を設けた積層体は、成型物の色又は柄
を損なわずに赤外光反射能を付与できる。特に黒
色等の太陽光をよく吸収する色に着色された成型
物の表面に選択光透過率のすぐれた前記(A)、(B)の
層を設けた積層体は、太陽光をよく吸収し、熱輻
射の少ない選択吸収性の材料として有効に用いら
れる。 特に太陽光を利用して温水を得る太陽熱温水器
の吸収体として、この様な選択吸収性材料を用い
ると、太陽熱の利用効率が著しく高められる。 例えば、パイプの様な水を通す成型物の表面を
太陽光をよく吸収する様に着色し、且つこの面に
本発明の選択光透過性のすぐれた積層体を形成せ
しめたものは、この様な選択吸収の効果をもつて
太陽熱コレクターとして有効に用いられる。 連続的に本発明の積層体を形成できるという利
点では、高分子シート又はフイルムが本発明の積
層体における成型物基体として好ましく用いられ
る。特に、透明な高分子シート又はフイルムを基
板とする本発明の積層体は、軽量で、可撓性に富
み、破れ難く、しかも加工し易いという利点を有
する。例えば、電場発光体用の透明電極、光導電
性感光体用の透明電極、建物の窓ガラス、又は窓
の付近に設け窓からの熱損失を防ぐための断熱フ
イルムとして好ましく用いられる。又成型物基体
がシート又はフイルムであることによつて連続生
産が容易にでき、生産速度を大巾に上げることが
でき、大量に安価にすぐれた材料を供給できる。 本発明の積層体は、それを構成する金属薄膜層
(A)の膜厚および透明薄膜層(B)の膜厚およびこれら
の積層法を調整することにより、可視光透過率、
表面抵抗および赤外光反射率を任意に変えること
ができ、次の様な代表的な用途がある。 (a) 静電気防止又は光導電性感光体導電層に用い
る透明導電性積層体 (b) 液晶電場発光体など固体デイスプレイ、面照
明体の透明電極 (c) 乗物の窓のデイフローストヒーター等の発熱
体として用いる透明面ヒーター (d) 建物窓、グリーンハウス、冷凍・冷蔵シヨー
ケースのガラス部分に適用する透明断熱積層品 本発明の特長を要約すると以下の通りである。 本発明の積層体は従来得られなかつた特性を有
している。即ち (1) 従来金属層として用いられていた、金属膜の
かわりに、銀、金及び銅からなる単一あるいは
積層された金属薄膜を用いる事により、耐熱
性、耐光性等の耐久性等の他、耐腐蝕性、耐汚
染性等の環境安定性を損う事なくその色調が大
巾に改善される。 (2) 本発明の積層体は広い波長領域にわたつて透
明性がすぐれており太陽エネルギー透過率、可
視光透過率及び近赤外光透過率等がすぐれてい
る。 以下、本発明のより具体的な説明を実施例で示
す。なお、例中で光透過率は特に断わらない限り
波長500nmにおける値である。赤外線反射率
は、日立製作所EPI−型赤外分光器に反射率測
定装置を取付け、スライドガラスに銀を充分に厚
く(約3000Å)真空蒸着したものの反射率を100
%として測定した。 酸化チタン薄膜層(B−21)に含まれる有機物
質の量は、透明導電性又は選択光透過性を有する
本発明の積層体を形成した成型物を約2mmの大き
さの小片状にし、これを水1000重量部、エチルア
ルコール20重量部および塩酸1重量部を混合して
なる溶液に、室温で24時間浸漬して有機成分を抽
出し、これをガスクロマトグラフ質量分析器(島
津製作所LKB−9000)を用い、直径3mm、長さ
3mのガラスカラムに、Chromosorb W(60〜
30メツシユ)にPEG−20を30重量部付着させた
ものを充填し、マスフラグメントグラフイー法で
イオンを定量し求めた。 金属薄膜層中の元素組成は、ケイ光X線分析法
(理学電機ケイ光X線分析装置使用)及び原子吸
光分析法により定量し求めた。 実施例 1 光透過率86%、厚さ75μmの二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフイルムに、第一層として厚
さ300Åの酸化チタン薄膜層、第二層として厚さ
140Åの金、銀及び銅よりなる薄膜層(金50重量
%、銅5重量%、銀45重量%)および第三層とし
て厚さ300Åの酸化チタン薄膜層を順次積層し、
透明導電性及び選択光透過性を有する積層体をフ
イルム上に形成させた。 酸化チタン薄膜層はいずれもテトラブチルチタ
ネートの4重量体3部、イソプロピルアルコール
65部及びノルマルヘキサン32部からなる溶液をバ
ーコーターで塗布し、100℃に5分間加熱して設
けた。 金、銀及び銅が共存する単一薄膜層は金−銀−
銅系合金(金50%、銅5%、銀45%)を用い低温
マグネトロンスパツタリング法で設けた。 第一層および第三層の酸化チタン薄膜層に含ま
れるブチル基の含有量は、5.5%であつた。(マス
No.56のものをマスフラグメントグラフイー法で定
量) 得られたフイルムの光透過率は73%、表面抵抗
は15Ω/平方、赤外光反射率は93%であつた。ま
た得られたフイルムの色調はかなり青味がかつた
透過光を有していた。 得られたフイルムをカーボンアーク耐光性試験
機(島津製作所CW−DV3)にて3000時間光照射
後、赤外光反射率を測定した。カーボンアーク光
をコーテイング面側より照射した場合、基板ポリ
エチレンテレフタレートフイルム面側より照射し
た場合のいずれの場合においても赤外光反射率は
80%以上を保持した。 また得られたフイルムを90℃に設定したギヤオ
ーブン試験器に入れ3000時間後の赤外光反射率を
測定したが赤外光反射率は80%以上を保持した。 比較例 1 第二層の金属薄膜層を金のみ(膜厚100Å)で
形成させる以外は実施例1と同様にして積層フイ
ルムを作成した。 得られたフイルムは金特有の黄金色の透過光を
有していた。 実施例1と同様な方法でカーボンアーク光照
射、熱劣化促進テストを行つた結果、3000時間経
過後も反射率80%以上を保持した。 実施例 2〜7 金属薄膜層の組成及び膜厚を第1表に示した組
成及び膜厚に変えた以外は実施例1と同様の方法
で透明導電性でかつ選択光透過性の積層されたフ
イルムを得た。 各々の得られたフイルムの可視光透過率は70%
以上であり赤外光反射率は90%以上であつた。ま
たその色調はいずれのサンプルも青系統の透過光
の色を有しており好ましいものであつた。
The present invention relates to a laminate having a single or stacked metal thin film layer based on gold covered on one or both sides by a transparent thin film layer. More specifically, the present invention relates to the above laminate having transparent conductivity and/or selective light transmittance. Transparent conductive coatings are used for applications that utilize their conductivity, such as electrodes for liquid crystal displays, electrodes for electroluminescent materials, electrodes for photoconductive photoreceptors, antistatic layers, heating elements, and other applications in the electronics and electrical fields. It is widely used in The selective light transmitting film is transparent to light in the visible light range, but has the ability to reflect infrared light (including near-infrared light), so it is also useful as a transparent heat insulating film. be. Therefore, it can be used for solar energy collectors (water heaters), solar thermal power generation, greenhouses, windows of buildings, etc. Especially in modern buildings,
Windows occupy a large proportion of the wall surface, and their function as transparent heat-insulating windows that can prevent the use of solar energy and energy dissipation will become increasingly important in the future. Furthermore, it is of great importance as a film for greenhouses, which is necessary for the cultivation of wild vegetables, citrus fruits, etc., and the cultivation of fruits, etc. In this way, transparent conductive films and selective light transmission films are important from the viewpoint of electronics and solar energy utilization, and it is desired by the industry that homogeneous and high-performance films can be supplied industrially at low cost and in large quantities. It was rare. Conventionally known transparent conductive films include metal thin films such as gold, copper, silver, and palladium, compound semiconductor films such as indium oxide, tin oxide, and copper iodide, and gold, copper, silver, and palladium. It is known that a conductive metal film such as the above is made selectively transparent over a certain wavelength range. As a selective transmission film with high infrared light reflecting ability, an indium oxide film or a tin oxide film with a thickness of several thousand angstroms, and a laminated film of a metal film and a transparent conductor film are known. however,
At present, transparent conductive films or selective light transmitting films with excellent performance have not yet been produced industrially at low cost. That is, it is difficult to obtain the above-mentioned metal thin film with high visible light transmittance because metal has high reflective ability or absorbing ability over a wide wavelength range. When visible light transmittance is increased, conductivity or infrared light reflection ability is significantly reduced. To increase conductivity or infrared light reflection ability,
When the thickness of the metal thin film is increased, the visible light transmittance is significantly reduced, and therefore a transparent conductive film or a selective light transmitting film having excellent both properties cannot be obtained. The above compound semiconductor thin film is formed by a thin film forming method in vacuum such as vacuum evaporation method or sputtering method. There are problems such as the fact that the film formation rate is actually slow due to the control, and the size of the evaporation source is limited, which limits its application to large-area substrates.
It lacks industrial productivity and cannot be a cheap product. In order to obtain an excellent transparent conductive or permselective film using a semiconductor such as indium oxide, a film of a semiconductor such as indium oxide with a film thickness of several thousand angstroms has been proposed, but the production rate of the film is extremely slow. Not only this, but also a large amount of valuable resources such as indium are consumed, and as a result, the manufacturing cost of the membrane increases significantly. Furthermore, this film does not have sufficiently high infrared reflectance or conductivity. A typical structure of the above-mentioned transparent conductive film or selective light transmitting film is a laminate in which a metal thin film is sandwiched between transparent high refractive index thin films, such as Bi 2 O formed by vacuum evaporation, reactive evaporation, or sputtering. 3 /Au/
Sandwich-like structured laminates of Bi 2 O 3 , ZnS/Ag/ZnS or TiO 2 /Ag/TiO 2 have been proposed.
Those using silver or gold as the metal layer have particularly excellent transparency in the visible light region and reflection properties against infrared light due to the optical properties of silver or gold themselves, and also have favorable properties in terms of conductivity. It is particularly excellent as a material because it has . However, a laminate consisting of a silver thin film layer covered by a transparent high refractive index thin film layer has significant environmental stability problems, as its properties deteriorate due to heat, light, gas, and other contaminants. This deterioration is mostly due to silver surface diffusion or corrosion caused by environmental factors. On the other hand, a laminate consisting of a gold thin film layer covered with a transparent high refractive index thin film layer has better stability against heat, light, gas, and other contaminants than the above-mentioned laminate consisting of a silver thin film layer. The golden yellow to light orange color tone of this product was not desirable when applied to windows for general buildings. When looking at the problem of color tone from an environmental engineering or ergonomics perspective, the warm golden to light orange tones of the gold thin film layer give an unstable psychology, and conversely the cool pale blue of the silver thin film layer. is said to have stable psychological effects. Currently, the window area in buildings tends to increase.Color schemes that have a stable psychological effect on floors, ceilings, walls, etc. in living or working environments have been thoroughly studied and are actually being applied. ,
The psychological effects of windows, such as color tones, must also be considered important. The present inventor has been conducting research on laminates having transparent conductivity and/or selective light transmission, and has developed a thin gold film without impairing the chemical or environmental stability of the laminate having a thin gold film layer. As a result of intensive research to improve the color tone of the laminate layer, we found that by using a metal layer whose main component is gold, it is possible to improve the color tone without impairing the properties of gold.
Furthermore, the present invention was achieved based on the knowledge that the effect is particularly large and preferable when the content of silver and copper is in a specific amount. That is, the present invention provides a laminate consisting of a molded substrate and a metal thin film layer (A) covered on one or both sides with a transparent thin film layer (B).
(A) is a single or laminated metal thin film layer containing gold as a main component and silver and copper, and the sum of the weights of silver and copper is 36% by weight relative to the total weight of gold, silver and copper. % to 69% by weight. The present invention will be explained. The molded substrate used in the present invention may be an organic molded substrate, an inorganic molded substrate, or a composite molded substrate thereof, but an organic molded substrate is preferred.
Examples of materials for the base of organic molded products include polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polycarbonate resin, acrylic resin, BBS resin, polystyrene resin, polyacetal resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyamide resin, fluorine resin, etc. Plastic resins, thermosetting resins such as epoxy resins, diallyl phthalate resins, silicone resins, unsaturated polyester resins, phenolic resins, urea resins, polyvinyl alcohols, polyacrylonitrile, polyurethanes, aromatic polyamides,
Examples include solvent-soluble resins such as polyimide resins. These may be used alone as homopolymers or copolymers or as a mixture of two or more. These molded products are plate-shaped, sheet-shaped, film-shaped, rod-shaped,
It can be formed into any shape such as thread, block, or pipe, and is not necessarily limited to a flat plate. Depending on the purpose, colored, uncolored, transparent, or opaque materials are selected. Among these, flexible transparent films or sheets are preferred. Among such films, a film having a visible light transmittance of 80% or more and a thickness of 10 to 250 μm is preferred, and a film having the above characteristics of polyethylene terephthalate is particularly preferred. In the laminate of the present invention, the metal thin film layer (A) covered with the transparent thin film layer (B) on one or both sides as described above is provided on the molded substrate. (A) is a single or layered metal thin film whose main component is gold. A single layer refers to a thin metal layer in which gold, silver, and copper atoms coexist; it may be completely uniform, or it may be non-uniform to some extent, but at least a single layer It exists as. Further, in the case of a laminated metal thin film, there are six types of combinations in which three types of metals, gold, silver, and copper are laminated, and any of them can exhibit the expected effects of the present invention. In the stacked metal layers, there is no problem even if the stacked metals form a somewhat uneven mixed layer at the interface between the stacked metals, and the three types of metals used in the present invention are different metals. They exist in contact with each other to form a layer. In addition, when laminating metal thin film layers, a single layer metal thin film is formed in which any two metals coexist among the three metals gold, silver, and copper, and then laminated with one other metal. Even if it is used, the effects of the present invention will not be impaired in any way. For example, a copper layer may be laminated on a single layer of gold and silver, or a single layer of silver and copper may be laminated on a gold layer. Such combinations include the following (a) to (e) (i) Gold layer/silver layer/copper layer (b) Gold layer/copper layer/silver layer (c) Copper layer/gold layer/copper layer (d) Silver Layer/Copper layer/Gold layer (E) Copper layer/Gold layer/Silver layer (F) Copper layer/Silver layer/Gold layer (G) Silver/Copper layer/Gold layer (C) Gold layer/Silver/Copper layer (R) Silver layer/Gold copper layer (N) Gold/Copper layer/Silver layer (R) Copper layer/Gold/Silver layer (E) Gold/Silver layer/Copper layer, among these, (A), (B), (D), ( f)
,
(g), (ch), (l), and (e) are preferred, especially (a) and (b).
,(d),
(F), (G), and (H) are preferred. Furthermore, other components to the extent that they do not impair the desired effects of the present invention (for example, 1% by weight or less for platinum group metals),
For example, aluminum, nickel, iridium, rhodium, palladium, platinum, indium, tin,
There is no problem even if cadmium, germanium, zinc, etc. coexist. The single or stacked metal thin film layers of gold, silver and copper in the object stack of the present invention can be produced in various ways. For example, by performing vacuum deposition or sputtering using an alloy of gold, silver, and copper, it is possible to obtain a single metal thin film layer in which gold, silver, and copper coexist. Alternatively, according to a multi-component evaporation method or a multi-component sputtering method in which gold, silver and copper are vacuum-deposited or sputtered separately, a single metal thin film layer in which gold, silver and copper coexist or a desired order of gold, silver and copper can be formed. It is possible to obtain laminated metal thin film layers. The metal thin film layer created by either method is
The object of the present invention can be achieved by the coexistence of gold, silver and copper. Such coexistence of gold, silver, and copper can improve the drawbacks of forming a metal thin film layer in which only gold, only gold and silver, or only gold and copper coexist. That is, it is possible to change the color tone of the gold thin film layer to a preferable one without impairing the chemical or environmental stability of the gold thin film layer. Generally speaking, it is possible to change the color tone of gold by adding metals with different absorption ranges to gold. For example, if platinum metals such as palladium, iridium, platinum, and rhodium are added to gold, the color tone changes from gray-white to gray-black. In addition, the base metals tin, nickel, chromium, titanium,
If aluminum or the like is added, the color tone will have a large absorption in the visible region and become close to black. The pale blue color tone aimed at by the present invention can be obtained only by adding specific amounts of silver and copper. However, the addition of silver and copper, which are metals less noble than gold, was expected to impair the chemical or environmental stability of gold. Tamman's law for alloys (e.g. Annalen Der
Physik, V Folge, Band1, 1929 page 309−
317), alloys obtained by adding 50 atomic percent or more of a more base metal to a noble metal (for example, an alloy with 32 wt. percent or more of copper added to gold) have poor chemical stability. It is said to be almost equivalent to base metals. Although Tamman's law is an empirical law, it is still widely accepted in metallurgy. According to Tamman's rule, for example, an alloy containing 50 atomic % or more of silver or copper relative to gold (ie, 65 or 68 wt % or more) exhibits chemical stability almost equivalent to that of silver or copper. Furthermore, while Tamman's law applies to fully annealed bulk alloys, thin metal layers such as those used in the present invention require a large increase in surface area and surface defects due to evaporation or sputtering. Due to effects such as uniformity, increased crystallographic defects, and increased activity of new surfaces formed by evaporation or sputtering, even lower amounts of base metals than in the bulk corrosion-resistant alloy described by Tamman's rule are present. It is thought that the presence of metals causes the properties of noble metals to be lost. In other words, in order to maintain the chemical stability of a metal thin film layer containing gold as its main component even when metals less base than gold are mixed in, it is necessary to contain gold in an amount considerably greater than, for example, 50 atomic percent. is expected. Furthermore, if the metal thin film layer containing gold as a main component contains a fairly base metal such as copper, it is expected that the amount of gold present will need to be further increased. However, contrary to such expectations, in the laminate of the present invention, the total weight percentage of silver and copper is 36% to 69% by weight based on the total weight of gold, silver, and copper, which are the constituent components of the metal thin film layer. By forming a single or laminated metal thin film layer consisting of gold, silver, and copper that contains 100% of gold, silver, and copper containing The unexpected and surprising result is that the properties of durability, chemical resistance, and corrosion resistance of gold can be sufficiently maintained, and the color tone of the metal thin film layer can be improved to a much more favorable color than that of gold alone. was achieved. To point out the effect of unexpected improvement in corrosion resistance, the laminate of the present invention having a metal thin film layer consisting of gold, silver and copper is almost equivalent to the laminate having a metal thin film layer consisting of only gold, Approximately 5 times or more of a laminate having a metal thin film layer consisting of silver and copper, approximately 7 times or more of a laminate having a metal thin film layer of silver and copper, and approximately 4 times or more of a laminate having a metal thin film layer of silver and gold. It has corrosion resistance. Since the color tone of the laminate changes depending on the amount of silver and copper coexisting with gold, the amounts of silver and copper to be added can be selected depending on the color tone suitable for the application. That is, as the silver content increases, the transmitted color changes from golden to bluish, and when compared at the same film thickness, the visible light transmittance improves as the silver content increases. Furthermore, as the copper content increases, the transmitted color changes from golden to reddish, and when comparing the same thin films, the visible light transmittance decreases as the copper content increases. Furthermore, the environmental stability tends to decrease as the silver content increases, and further decreases as the copper content increases. Therefore, if the content of silver and copper exceeds 69% by weight, the negative effect on environmental stability will be greater than the effect on improving optical properties, which is not preferable. Moreover, if the copper content exceeds 30% by weight, the environmental stability will be significantly lowered and the optical properties will also be lowered, which is not preferable. From these points, the amount of silver contained in the metal thin film layer should not be less than 35.5% by weight and not reach 69.0% by weight, and the amount of copper contained in the metal thin film layer should not be less than 0.5% by weight and not more than 30% by weight. can be,
Moreover, it is preferable that the total amount of silver and copper is from 36% by weight to less than 70% by weight. Furthermore, in order to balance the desired optical properties and environmental stability of the resulting laminate, the total amount of silver and copper is particularly preferably from 45% by weight to 69% by weight. In particular, when emphasis is placed on the chemical resistance and corrosion resistance of the obtained laminate, the content of copper is preferably about 1% to 15% by weight, more preferably 1% to 8% by weight. The thickness of the metal thin film is not particularly limited as long as it has the required characteristics as a transparent conductive film or selective light transmission film, but in order to have infrared light reflective ability or conductivity, it must have at least a certain degree of thickness. It is necessary to have continuity in the area. The film thickness is preferably about 50 Å or more, which gives a continuous structure rather than an island structure, and 500 Å or less from the viewpoint of transparency to solar energy. The thinner the metal thin film layer is, the wider the light transmission area becomes, so to increase transparency it is best to have a film thickness of 250 Å or less, and to have sufficient conductivity or infrared light reflection ability, it should be 70 Å or more. A film thickness of . Even when the metal layer (A) is a laminated metal layer, it is preferable that the total thickness of the laminated metal layers is within the above range, and by controlling the thickness of each metal layer, it is possible to The metal content can be varied. In the present invention, the effects of the component metals as described above are exhibited even without forming an alloy as described above, and effects that are difficult to predict from the effects of adding different metals, which are normally considered in metallurgy. It is assumed that this is expressed. As mentioned above, the method for forming the metal thin film layer (A) includes, for example, vacuum evaporation method, cathode sputtering method,
Chemical plating, electroplating, and a combination of these methods are all possible, but in a laminate using a molded substrate, the sheet as the substrate,
When the surface of the film or the like is smooth, vacuum evaporation is particularly suitable from the viewpoints of uniformity of the formed thin film, ease of production, and film formation speed. In order to keep the composition of gold, silver, and copper in the film as uniform as possible during film formation, alloy or multi-component sputtering methods are suitable, and multi-component sputtering methods or alloy sample and electron beam sputtering methods are also suitable for vacuum evaporation methods. Combinations of heating methods, high-frequency induction heating methods, resistance heating methods, flash vapor deposition methods, etc. are preferred. The metal thin film layer (A) detailed above is covered on one or both sides with a transparent thin film layer (B), and the transparent thin film layer (B) will be explained in detail below. The transparent thin film layer in the present invention is a transparent high refractive index thin film (B-
1) and/or a transparent protective film (B-5). Transparent high refractive index thin film (B-
1) is not particularly limited as long as it has the effect of preventing reflection in the metal layer, but it has a refractive index of 1.6 or more, preferably 1.7 or more for visible light, and a visible light transmittance of 80. % or more, preferably 90% or more. The film thickness is 50 to 1000 Å, preferably 100 to 500 Å. Examples of materials that meet these conditions include thin film layers of titanium dioxide, titanium oxide, zirconium oxide, bismuth oxide, zinc sulfide, tin oxide, and indium oxide. These thin film layers can be provided by methods such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, and wet coating. A transparent high refractive index thin film (B-
1) is preferably a transparent high refractive index thin film layer made of titanium oxide (B-2), bismuth oxide (B-3) or zinc sulfide (B-4). Further, as the transparent high refractive index thin film layer, a titanium oxide thin film layer (B-2) is particularly preferable because of its excellent optical properties such as visible light refractive index and transparency. It may be either a titanium oxide thin film layer (B-21) formed from a titanate compound or a titanium oxide thin film layer (B-22) formed by vacuum evaporation, sputtering, or the like. The titanium oxide thin film layer (B-22) formed by vacuum deposition or sputtering can be formed by a known method. In the case of sputtering, it can be formed by low-temperature magnetron sputtering, argon gas sputtering of titanium oxide, or reactive sputtering in which oxygen is introduced into metallic titanium. Further, according to the vacuum evaporation method, it is possible to form the titanium oxide thin film layer (B-22) using an electron beam or the like. Further, even if the titanium oxide thin film layer (B-22) formed in this manner contains titanium nitride to the extent that it does not affect the characteristics, there is no problem in achieving the purpose of the present invention. The titanium oxide thin film layer (B-22) containing an organic substance formed from an organic titanate compound can be provided, for example, by using an organic solvent solution of a solute containing an alkyl titanate as a main component. The alkyl titanate has the general formula Ti l O n R o (however,
R is an alkyl group, l, m, and n are positive integers). Among the alkyl titanates represented by the above general formula, especially m=4+(l-1)×3, n=4
+(l-1)×2, where l=1 to 30, is preferably used from the viewpoint of ease of film formation (for example, coating) and properties of the obtained dielectric layer. The value of 1 may not be uniform but may have a distribution, but alkyl titanates in which the distribution of 1 values has a maximum value of 15 or less are particularly preferable in terms of coating solution viscosity and hydrolyzability. In general, an alkyl substituent R having 1 to 20 carbon atoms is preferably used. In particular, those having an alkyl substituent having 2 to 11 carbon atoms are preferably used from the viewpoints of ease of film-forming operations, such as coating, as well as hydrolysis rate, mechanical properties and transparency of the resulting film. Note that a mixture of two or more of the above alkyl titanates may be used. The alkyl titanate is dissolved in an organic solvent to form a solution, and when applied to the surface of the molded product, it is hydrolyzed,
The subsequent condensation reaction results in dealkyl hydroxide formation, forming a network structure. Depending on the coating conditions, alkyl titanates can approach titanium oxide. Examples of the alkyl titanate used in the laminate of the present invention include tetrabutyl titanate, tetraethyl titanate, tetrapropyl titanate, tetrastearyl titanate, and tetra-2-
Examples include ethylhexyl titanate, diisopropoxy titanium bisacetylacetonate, and particularly tetrabutyl titanate and tetrapropyl titanate are preferably used. These alkyl titanates may be used as is,
Further, precondensed products such as dimers, tetramers, and decamers can also be preferably used. Furthermore, these alkyl titanates may be used after being stabilized with a chelate compound such as acetylacetone. Organic solvents commonly used in the formation of films with alkyl titanates are those that sufficiently dissolve the alkyl titanate and, if a molded substrate is used, have an affinity for the surface of the molded product, making it easy to apply and post-coating. A solvent that dries easily is preferred. Examples of such organic solvents include hexane, cyclohexane, heptane, octane, methylcyclohexane, toluene, benzene, xylene, octene, nonene, solvent naphtha, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, pentanol, cyclohexanol, and methylcyclohexanol. , phenol, cresol, ethyl ether, propyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, acetone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethyl propionate, methyl benzoate, glacial acetic acid, chloroform, Organic solvents such as hydrocarbons such as carbon tetrachloride, trichrene, trichloroethane, chlorobenzene, dibromoethane, methyl cellosolve, cellosolve, and cellosolve acetate, alcohols, ethers, esters, carboxylic acids, and halogen-substituted hydrocarbons can be given. In particular, isopropanol, butanol, n-hexane, toluene, etc. are preferably used. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more, if necessary. Furthermore, depending on the case, a water-containing solvent may be used. When forming the thin film layer (B-21) using an alkyl titanate solution, the alkyl titanate is dissolved in an organic solvent to obtain a coating solution. At this time, if necessary, heating may be applied for dissolution within a range that does not impair the intended effects of the present invention.
In order to improve properties such as adhesion, refractive index, color tone, and hardness of the coating film, a small amount of other components soluble in the organic solvent may be added. Examples of such components include solvent-soluble resins such as silicon resins, acrylic acid resins, epoxy resins, and polyurethane resins. The concentration of the organic solvent solution (coating solution) of alkyl titanate is arbitrary, but in particular, in order to uniformly form a thin film layer with a thickness of about several hundred angstroms, it is 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight. Particularly preferably, the concentration is adjusted to 1 to 7.5% by weight. When applying this solution to the surface of the molded product, for example, methods using a general coating machine such as dipping method, atomization method, spinner method, etc.
i.e. gravure coater, Meyer bar coater,
There is a method of using a reverse roll coater or the like. For example, when coating on a smooth molded substrate such as a film or sheet, it is preferable to use a gravure coater or Mayer bar coater from the viewpoint of control and uniformity of film thickness, and when coating on a non-smooth molded substrate, The muri method is preferably used. At the same time or after applying the solution, the solvent is dried at a temperature higher than room temperature, and if necessary, heat treatment is performed to complete the application. This drying or heat treatment condition is 50~
At a temperature of 200°C, for about 10 seconds to 10 hours. By coating in this manner, the alkyl titanate is hydrolyzed to form a titanium oxide thin film layer (B-21) containing an organic substance. The thin film layer (B-
By adjusting the film forming conditions of 21), the alkyl group can be left in the thin film layer (B-21), and the amount thereof can be 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 30% by weight.
By adjusting the amount to 10% by weight, the thin film layer (B-
21) A transparent conductive coating that improves the adhesion between the metal thin film layer (A) or the surface of a molded product, especially an organic polymer molded substrate, and has excellent transparency and surface conductivity over a wide wavelength range. Alternatively, a selective light transmitting film can be obtained. The titanium oxide thin film layer (B-21) formed from an alkyl titanate compound has a specific amount of alkyl ester groups remaining, so its refractive index is lower than that of titanium oxide obtained by sputtering or vacuum evaporation, and is visible. It is about 1.6 to 2.4 in the optical range. Therefore, the laminate having the titanium oxide thin film layer (B-21) formed from an alkyl titanate compound has (a) uniform light transmittance over a large area; (B)
Excellent adhesion to molded products. (c) It has advantages such as high light transmittance over a wide wavelength range of visible light. The content of organic substances in the titanium oxide thin film layer (B-21) formed from an alkyl titanate compound is
0.1-30% by weight, preferably 0.5-10% by weight
It is. If this amount is less than 0.1% by weight, adhesiveness will be significantly impaired, and if this amount exceeds 30% by weight, transparency will be significantly impaired. The organic substance referred to in the present invention is mainly an alkyl group derived from an alkyl titanate solution when forming the titanium oxide thin film layer (B-21) from an alkyl titanate solution (from the alkyl titanate itself, or from an organic solvent and the alkyl titanate). It may be formed by a reaction with a titanium oxide thin film (B-21), but it may also be a layer in which such an organic substance is contained in another method for forming the titanium oxide thin film (B-21). This organic substance is thought to exist in the titanium oxide thin film layer (B-21) as a bond between titanium and an alkyl ester group, but in the present invention, its content is defined by the amount of alkyl groups. In addition, the content of organic substances derived from alkyl groups contained in the titanium oxide layer can be determined by applying the alkyl titanate compound and drying it in an atmosphere containing appropriate moisture and moisture, preferably in a high temperature and high humidity atmosphere, or in hot water. (For example, relative temperature 80%, temperature 80℃, etc. or 80%
Controlled reduction can be achieved by appropriately contacting it with hot water, etc. By using such a method, it is possible to freely control the refractive index of the titanium oxide layer or the adhesion between the titanium oxide layer and the molded substrate, which is a major feature of forming titanium oxide from an organic titanate compound. It is. Among the transparent high refractive index thin film layers (B-1) described above, the titanium oxide thin film layer (B-2), the titanium oxide thin film layer (B-21) formed from an alkyl titanate compound, and the bismuth oxide thin film layer (B-2) -3) and zinc sulfide thin film layer (B-4) are preferred. Another element that can be a component of the transparent thin film layer (B) of the present invention, that is, the transparent protective film (B-5), mainly improves properties such as surface hardness, weather resistance, corrosion resistance, and stain resistance. In addition to being provided on the surface for the purpose of bonding, it may also be provided directly on the substrate to improve adhesion. Materials used for such a layer include, for example, acrylic ester resins such as polymethyl methacrylate, acrylic resins such as polyacrylonitrile or polymethacrylonitrile, polyolefin resins such as polyethylene or polypropylene, and ethylene silicate. In addition to organic substances such as silicon resins such as polymers, polyester resins, melamine resins, and fluororesins, silicon oxide,
Inorganic substances such as magnesium alumina fluoride can also be applied. Furthermore, the purpose of the present invention may be achieved even if several types of resins or substances from among the above-mentioned compounds are used in a layered manner depending on the purpose. Among such protective layers, when emphasis is placed on low absorption in the infrared region, acrylic resins such as polymethacrylonitrile or polyacrylonitrile, or polyolefin resins such as polyethylene or polypropylene are preferred. These acrylic resin protective layers are preferably coated to a thickness of 0.5μ or less or 1.6μ or more in order to avoid adverse effects due to optical interference effects, and polyolefin resin protective layers are, for example, biaxially stretched. A polyolefin film with a thickness of 12μ or less is suitable. In addition, in order to improve the surface hardness of these protective layers, a UV hardening type surface curing resin such as trimethylolpropane triacrylate or tetramethylolpropane tetraacrylate (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) is laminated on the surface. It can be solidified. Furthermore, since an inorganic protective layer has low optical absorption and high surface hardness, silicon oxide, magnesium fluoride, aluminum oxide, etc. are preferably used. More surprising features of the laminate of the present invention are:
The durability is improved by providing such a protective layer. Normally, when a protective layer is provided, it is often thought that durability will be improved in any case, but this is not necessarily the case in the case of a thin film laminate having a special function, which is the object of the present invention. For example, a laminate that uses a silver (Ag) thin film layer as a metal layer and covers both sides with a titanium oxide (TiO 2 ) thin film layer is provided on a polyester film,
And, for each of the four types of laminates in which the metal layer is a silver-copper (Ag-Cu) metal layer, a gold-silver (An-Ag) layer, or a gold-silver-copper (Au-Ag-Cu) layer, no protective layer is provided. Considering the durability of the installed one,
Example 26 Table 6 shows the results. As described above, the laminate of the present invention having metal thin film layers made of gold, silver and copper covered with transparent thin film layers on both sides has all the required properties such as not only light resistance and corrosion resistance but also heat resistance. In terms of environmental stability, it is possible to achieve previously unimaginable stability due to a combination of effects that cannot be predicted from conventional technology, and it also has favorable optical properties in the pale blue range. It is possible to keep it at . To specifically illustrate the structure of the present invention, (A) a metal thin film layer, (B-1) a transparent high refractive index thin film layer, and a transparent protective thin film layer (B-5) are formed on a molded product substrate as follows. A laminate in which the laminates are sequentially laminated is preferably used. (1) Molded product base/(A)/(B-1) (2) Molded product base/(A)/(B-5) (3) Molded product base/(A)/(B-1)/( B-5) (4) Molded product base/(B-1)/(A)/(B-1) (5) Molded product base/(B-1)/(A)/(B-5) (6 ) Molded product base/(B-1)/(A)/(B-1)/
(B-5) (7) Molded product base/(B-5)/(A)/(B-5) (8) Molded product base/(B-5)/(B-1)/(A)/
(B-5) (9) Molded product base/(B-5)/(B-1)/(A)/
(B-1)/(B-5) Furthermore, when the objective is to obtain a laminate with good visible light transmittance, (1), (3), (4), (6), and (9) are preferably used. In this way, the laminate in which the layers (A) and (B) are provided on the surface of the transparent molded substrate provides electrical energy,
It is also used as an antistatic layer in transparent electrodes that provide optical energy or that provide optical energy and electrical energy. In addition, a laminate provided with the layers (A) and (B), which have particularly excellent selective light transmittance,
It is preferably used as a selectively permeable material for effectively utilizing sunlight and/or as an energy-saving material by utilizing its heat insulating properties. In addition, a laminate using a colored molded product and having the above-mentioned (A) and (B) layers on the surface can impart conductivity without impairing the color of the molded product,
For example, it helps prevent static electricity from forming on molded objects. The above-mentioned coating with excellent infrared light reflectivity is applied to the surface of the colored molding
The laminate provided with the layers (A) and (B) can impart infrared light reflecting ability without impairing the color or pattern of the molded product. In particular, a laminate in which layers (A) and (B) with excellent selective light transmittance are provided on the surface of a molded product colored in a color that absorbs sunlight well, such as black, absorbs sunlight well. , it is effectively used as a selectively absorptive material with little heat radiation. In particular, when such a selectively absorbing material is used as an absorber in a solar water heater that uses sunlight to obtain hot water, the efficiency of utilizing solar heat can be significantly increased. For example, the surface of a molded product that allows water to pass through, such as a pipe, is colored to absorb sunlight well, and the laminate of the present invention having excellent selective light transmittance is formed on this surface. It has a selective absorption effect and is effectively used as a solar heat collector. Because of the advantage that the laminate of the present invention can be formed continuously, a polymer sheet or film is preferably used as the molded product substrate in the laminate of the present invention. In particular, the laminate of the present invention using a transparent polymer sheet or film as a substrate has the advantage of being lightweight, highly flexible, hard to tear, and easy to process. For example, it is preferably used as a transparent electrode for an electroluminescent body, a transparent electrode for a photoconductive photoreceptor, a windowpane of a building, or a heat insulating film installed near a window to prevent heat loss from the window. Furthermore, since the base of the molded product is a sheet or film, continuous production can be easily carried out, the production speed can be greatly increased, and a high quality material can be supplied in large quantities at low cost. The laminate of the present invention has metal thin film layers constituting it.
Visible light transmittance,
The surface resistance and infrared reflectance can be changed arbitrarily, and the following typical uses are available. (a) Transparent conductive laminates used for antistatic or photoconductive photoreceptor conductive layers (b) Transparent electrodes for solid displays such as liquid crystal electroluminescent bodies and surface illumination bodies (c) Day frost heaters for vehicle windows, etc. Transparent surface heater used as a heating element (d) Transparent heat insulating laminate product applicable to glass parts of building windows, greenhouses, and freezing/refrigerating cases The features of the present invention are summarized as follows. The laminate of the present invention has properties not previously available. That is, (1) instead of the metal film conventionally used as a metal layer, by using a single or laminated metal thin film made of silver, gold, and copper, durability such as heat resistance and light resistance can be improved. In addition, the color tone is greatly improved without impairing environmental stability such as corrosion resistance and stain resistance. (2) The laminate of the present invention has excellent transparency over a wide wavelength range, and has excellent solar energy transmittance, visible light transmittance, near-infrared light transmittance, etc. Hereinafter, a more specific explanation of the present invention will be shown in Examples. In addition, the light transmittance in the examples is a value at a wavelength of 500 nm unless otherwise specified. The infrared reflectance was measured by attaching a reflectance measurement device to a Hitachi EPI-type infrared spectrometer and measuring the reflectance of a slide glass with a sufficiently thick layer of vacuum-deposited silver (approximately 3000 Å) to 100 Å.
Measured as %. The amount of the organic substance contained in the titanium oxide thin film layer (B-21) is determined by forming a molded product of the laminate of the present invention having transparent conductivity or selective light transmission into a piece of about 2 mm in size, and This was immersed in a solution consisting of 1000 parts by weight of water, 20 parts by weight of ethyl alcohol, and 1 part by weight of hydrochloric acid at room temperature for 24 hours to extract the organic components. 9000) and Chromosorb W (60~
30 parts by weight of PEG-20 was filled into a mesh (30 meshes), and the ions were determined by mass fragment graphics method. The elemental composition in the metal thin film layer was determined by quantitative determination using fluorescent X-ray analysis (using a Rigaku fluorescent X-ray analyzer) and atomic absorption spectrometry. Example 1 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a light transmittance of 86% and a thickness of 75 μm was coated with a titanium oxide thin film layer with a thickness of 300 Å as the first layer, and a titanium oxide thin film layer with a thickness of 300 Å as the second layer.
A thin film layer of 140 Å of gold, silver, and copper (50% by weight of gold, 5% of copper, 45% by weight of silver) and a 300 Å thick titanium oxide thin film layer as the third layer were sequentially laminated,
A laminate having transparent conductivity and selective light transmission was formed on a film. The titanium oxide thin film layer is made of 3 parts of tetrabutyl titanate and isopropyl alcohol.
A solution consisting of 65 parts of normal hexane and 32 parts of normal hexane was applied using a bar coater and heated to 100° C. for 5 minutes. A single thin film layer in which gold, silver and copper coexist is gold-silver-
It was formed using a copper alloy (50% gold, 5% copper, 45% silver) using a low-temperature magnetron sputtering method. The content of butyl groups contained in the first and third titanium oxide thin film layers was 5.5%. (trout
(No. 56 was quantified by mass fragment graphics method) The obtained film had a light transmittance of 73%, a surface resistance of 15Ω/square, and an infrared reflectance of 93%. Further, the color tone of the obtained film had transmitted light with a considerably bluish tinge. The obtained film was irradiated with light for 3000 hours using a carbon arc light resistance tester (Shimadzu CW-DV3), and then its infrared light reflectance was measured. In both cases, when carbon arc light is irradiated from the coating side and when it is irradiated from the substrate polyethylene terephthalate film side, the infrared light reflectance
Retained over 80%. Furthermore, the obtained film was placed in a gear oven tester set at 90°C and the infrared light reflectance was measured after 3000 hours, and the infrared light reflectance remained at 80% or more. Comparative Example 1 A laminated film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the second metal thin film layer was formed only of gold (thickness: 100 Å). The obtained film had a golden transmitted light characteristic of gold. Carbon arc light irradiation and thermal deterioration acceleration tests were performed in the same manner as in Example 1, and as a result, the reflectance was maintained at 80% or more even after 3000 hours. Examples 2 to 7 A transparent conductive and selectively transparent layer was prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition and thickness of the metal thin film layer were changed to those shown in Table 1. I got the film. The visible light transmittance of each obtained film is 70%
The infrared light reflectance was 90% or more. In addition, all the samples had a preferable color tone as they had a blue-based transmitted light color.

【表】 * 残りはすべて金である
得られたフイルムにアクリレート樹脂(三菱レ
ーヨン(株)ダイヤナールLR574)をバーコーターで
塗工し120℃に設定された熱風乾燥器で3分間乾
燥させ膜厚2μのアクリル保護層を形成せしめ
た。 得られたフイルムの可視光透過率は63%以上で
あり、赤外光反射率は83%以上であつた。保護層
を積層した事による色調の変化はほとんどみられ
なかつた。 これらのフイルムを実施例1で述べたと同様の
方法で、カーボンアーク光照射、熱劣化促進テス
トを行つたが、それぞれ3000時間経過後も赤外光
反射率は80%以上保持し外観等の変化は見られな
かつた。 またこれらのフイルムに1日2回100ppmの次
亜塩素酸ソーダ水溶液を墳霧し、金属薄膜の耐蝕
性テストを行い、50日後の腐蝕状態を第1表にま
とめた。 実施例 8〜10 実施例1と同様の方法で得た透明導電性でかつ
選択光透過性のフイルムを得た。これらフイルム
の上にそれぞれアクリレート系樹脂あるいはアク
リル樹脂を塗工又はポリプロピレンフイルムをラ
ミネートして、保護層を有する積層体を得た。 得られた積層体の赤外光反射率は83%以上、可
視光透過率は60%以上であつた。得られたフイル
ムの色調は淡青色の透過光を有していた。 アクリレート系樹脂は実施例2と同様の方法で
設けた。アクリル樹脂はポリメタアクリロニトリ
ルのメチルエチルケトン・シクロヘキサノン混合
溶媒溶液をバーコーターで塗工し130℃に設定し
た熱風乾燥器で2分間乾燥し、2μの厚さに設け
た。 ポリプロピレンフイルムラミネートは、ポリプ
ロピレンフイルム(厚さ12μ)に粘着剤東亜合成
(株)S−1601をバーコーターで塗工し、積層体上に
貼り合せて得た。 これらの得られたフイルムを1N塩酸水養液に
3時間浸漬したが何ら変化は生じなかつた。 比較例 2〜6 金属薄膜層の組成及び膜厚を第2表に示した組
成及び膜厚に変えた以外は実施例1と同様の方法
で透明導電性でかつ選択光透過性の積層されたフ
イルムを得た。 得られたフイルムの色調は比較例3、4が淡青
色、比較例5、6がやや黄色味を帯びた淡青色の
色調であつた。 得られたフイルムに実施例2と同様の方法でア
クリル樹脂の保護層を積層したのち、耐蝕性のテ
ストを行つた。耐蝕性のテストは、1N塩酸水溶
液に3時間浸漬する方法と実施例2で述べた次亜
塩素酸ソーダ水溶液を墳霧し60日後の様子を観察
する方法で行つた。 結果を第2表に記した。
[Table] *The rest is all gold. Coat the obtained film with acrylate resin (Dyanal LR574, Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) using a bar coater and dry it for 3 minutes in a hot air dryer set at 120°C to determine the film thickness. A 2μ thick acrylic protective layer was formed. The visible light transmittance of the obtained film was 63% or more, and the infrared light reflectance was 83% or more. Almost no change in color tone was observed due to the lamination of the protective layer. These films were subjected to carbon arc light irradiation and thermal deterioration acceleration tests in the same manner as described in Example 1, but even after 3000 hours, the infrared light reflectance remained at 80% or more, and no changes in appearance, etc. were observed. was not seen. In addition, a 100 ppm sodium hypochlorite aqueous solution was sprayed onto these films twice a day to test the corrosion resistance of the metal thin film, and the corrosion state after 50 days is summarized in Table 1. Examples 8 to 10 Transparent conductive and selectively transparent films were obtained in the same manner as in Example 1. An acrylate resin or an acrylic resin was coated on each of these films, or a polypropylene film was laminated thereon to obtain a laminate having a protective layer. The resulting laminate had an infrared reflectance of 83% or more and a visible light transmittance of 60% or more. The color tone of the obtained film was pale blue with transmitted light. The acrylate resin was provided in the same manner as in Example 2. The acrylic resin was coated with a solution of polymethacrylonitrile in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and cyclohexanone using a bar coater, dried for 2 minutes in a hot air dryer set at 130°C, and provided to a thickness of 2 μm. Polypropylene film laminate is a polypropylene film (thickness 12μ) with adhesive Toagosei.
Co., Ltd. S-1601 was coated with a bar coater and bonded onto the laminate. These obtained films were immersed in a 1N hydrochloric acid solution for 3 hours, but no change occurred. Comparative Examples 2 to 6 Transparent conductive and selectively transparent laminates were prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition and thickness of the metal thin film layer were changed to those shown in Table 2. I got the film. The color tone of the obtained films was pale blue in Comparative Examples 3 and 4, and pale blue with a slight yellow tinge in Comparative Examples 5 and 6. A protective layer of acrylic resin was laminated on the obtained film in the same manner as in Example 2, and then a corrosion resistance test was conducted. Corrosion resistance tests were carried out by immersing in a 1N hydrochloric acid aqueous solution for 3 hours, and by spraying the sodium hypochlorite aqueous solution described in Example 2 and observing the condition 60 days later. The results are shown in Table 2.

【表】 * 残りはすべて金である
また比較例5、比較例6と同一構成の透明導電
性でかつ選択光透過性の積層体を実施例1と同様
のカーボンアーク光照射テストを行つた結果
1000Hr経過した時点で赤外光反射率は80%以上
を保持したが、部分的に紫色状に変色した。変色
した部分をESCA(日本電子JESCA−4)で深
さ方向の分布を測定した結果、金、銀、及び酸化
チタンの相互拡散が確認された。 実施例 11 実施例1で用いたポリエチレンテレフタレート
フイルム上にスパツタリング法で酸化チタン層を
形成する以外は実施例1と同様の方法で透明導電
性及び選択光透過性を有する積層体をフイルム上
に形成させた。 酸化チタン薄膜層は、低温マグネトロンスパツ
タリング装置を用いて、ターゲツトに酸化チタン
粉末焼結体を使用して作成した。スパツタリング
条件はアルゴンガス圧5×10-3Torr、高周波投
入電力2W/cm2に設定し膜厚300Åの酸化チタン薄
膜層を得た。 得られた積層体の赤外光反射率は90%であり、
可視光透過率は75%であつた。また色調も実施例
1とほとんど変化がなかつた。 実施例1と同様の方法でカーボンアーク光照
射、熱劣化促進テストを行つたがそれぞれ3000時
間経過後も赤外光反射率は80%以上を保持し外観
等の変化は何ら見うけられなかつた。 実施例 12〜14 金属薄膜層を第3表に記した金、銀、銅の順次
に積層された金属薄膜層で構成する以外は実施例
1と同様の方法で、透明導電性及び選択光透過性
を有する積層体をフイルム上に形成させた。 金、銀、銅を順次積層する方法としては、多元
の真空蒸発法により、それぞれの金属を順次真空
蒸発せしめて作成した。例えば所定量の金を蒸着
した後銀を続けて蒸着し更に銅を続けて蒸着する
事によつて互いに分離して層を形成する金属薄膜
層を得た。積層体の色調は実施例1とほとんど見
分けがつかなかつた。 得られた積層体を製造後、ESCA(日本電子(株)
JESCA−4)によつて金属層の相互拡散を観察
したが各金属層は相互に分離しており相互拡散の
程度は予想より少なかつた。得られた積層体に実
施例2と同様の方法でアクリレート樹脂の保護層
を2μ積層せしめた後、実施例1と同様の方法で
カーボンアーク光照射、熱劣化促進テストを行つ
たがそれぞれ2000時間経過後も赤外光反射率は80
%以上を保持した。
[Table] * The rest is all gold. Also, the results of conducting the same carbon arc light irradiation test as in Example 1 on transparent conductive and selectively transparent laminates with the same configuration as Comparative Examples 5 and 6.
After 1000 hours, the infrared reflectance remained at 80% or higher, but the color partially changed to purple. As a result of measuring the distribution in the depth direction of the discolored portion using ESCA (JEOL JESCA-4), interdiffusion of gold, silver, and titanium oxide was confirmed. Example 11 A laminate having transparent conductivity and selective light transmittance was formed on the polyethylene terephthalate film used in Example 1 in the same manner as in Example 1, except that a titanium oxide layer was formed by sputtering on the film. I let it happen. The titanium oxide thin film layer was created using a low temperature magnetron sputtering device using a titanium oxide powder sintered body as a target. The sputtering conditions were set to an argon gas pressure of 5×10 -3 Torr and a high-frequency input power of 2 W/cm 2 to obtain a titanium oxide thin film layer with a thickness of 300 Å. The infrared light reflectance of the obtained laminate was 90%,
The visible light transmittance was 75%. Further, the color tone was almost unchanged from Example 1. Carbon arc light irradiation and thermal deterioration acceleration tests were conducted in the same manner as in Example 1, but the infrared light reflectance remained at 80% or more even after 3000 hours in each case, and no change in appearance was observed. . Examples 12 to 14 Transparent conductivity and selective light transmission were obtained in the same manner as in Example 1, except that the metal thin film layer was composed of metal thin film layers laminated in the order of gold, silver, and copper as shown in Table 3. A laminate with properties was formed on the film. As a method for sequentially laminating gold, silver, and copper, each metal was sequentially evaporated using a multi-source vacuum evaporation method. For example, after a predetermined amount of gold is deposited, silver is successively deposited and then copper is deposited successively to obtain metal thin film layers that are separated from each other to form layers. The color tone of the laminate was almost indistinguishable from that of Example 1. After manufacturing the obtained laminate, ESCA (JEOL Ltd.)
Interdiffusion of the metal layers was observed using JESCA-4), but the metal layers were separated from each other and the degree of interdiffusion was smaller than expected. A protective layer of 2μ of acrylate resin was laminated on the obtained laminate in the same manner as in Example 2, and then carbon arc light irradiation and thermal deterioration acceleration tests were conducted in the same manner as in Example 1, but each time was 2000 hours. Infrared light reflectance remains 80 even after elapsed time
% or more was retained.

【表】 * 残りはすべて金である
実施例 15〜17 金属薄膜層を、銀及び銅からなる金属薄膜層の
上に金薄膜を積層してなる金属薄膜層で構成する
以外は実施例1と同様の方法で透明導電性及び選
択光透過性を有する積層体をフイルム上に形成さ
せた。 銀及び銅からなる金属薄膜層は、銀92重量%、
銅8重量%からなるターゲツトを使用しマグネト
ロンスパツタリング法で形成せしめ、更に金を真
空蒸着することによつて積層された金属薄膜層を
得た。 得られた積層体の光学特性は赤外光反射率90%
以上であり、可視光透過率は70%であつた。得ら
れた積層体の色調は金の含有量が増加するにつれ
て黄色味を帯びた淡青色となつた。 得られた積層体に2μのポリメタアクリロニト
リル層を保護層として積層し、1N塩酸溶液に3
時間浸漬した結果を第4表に記した。
[Table] * Examples 15 to 17 in which the rest are all gold The same as Example 1 except that the metal thin film layer is composed of a metal thin film layer formed by laminating a gold thin film on a metal thin film layer consisting of silver and copper. A laminate having transparent conductivity and selective light transmission was formed on a film in a similar manner. The metal thin film layer consisting of silver and copper contains 92% by weight of silver,
A laminated metal thin film layer was obtained by forming the target by magnetron sputtering using a target consisting of 8% by weight of copper, and then vacuum evaporating gold. The optical properties of the resulting laminate are an infrared reflectance of 90%.
The visible light transmittance was 70%. The color tone of the obtained laminate became pale blue with a yellowish tinge as the gold content increased. A 2μ thick polymethacrylonitrile layer was laminated on the obtained laminate as a protective layer, and the layer was soaked in 1N hydrochloric acid solution for 30 minutes.
The results of the soaking time are shown in Table 4.

【表】 * 残りは金である
実施例 18 厚さ2mmの並板硝子上に第1層として厚さ250
Åの酸化チタン薄膜層、第2層として厚さ150Å
の銀、金及び銅からなる薄膜層(金50重量%、銅
5重量%、銀45重量%)および第3層として厚さ
300Åの酸化チタン薄膜層を順次積層し、透明導
電性及び選択光透過性を有する積層体を硝子板上
に形成させた。 酸化チタン薄膜層はいずれもテトラ2エチルヘ
キシルチタネートの4量体5部、ノルマルヘキサ
ン40部、トルエン25部、ブタノール30部からなる
溶液を、スプレーを用いて圧縮チツ素で吹きつけ
塗布し、110℃に3分間加熱して設けた。 金、銀及び銅の共存する単一薄膜層は実施例1
と同様の方法で形成した。 得られた積層体の透過率は70%、表面抵抗は15
Ω/平方、赤外光反射率は85%であつた。また色
調は青味を帯びた透過光を有する好ましいもので
あつた。 実施例 19〜25 金属薄膜層の組成を変化させる以外は実施例1
と同様の方法で、透明導電性及び選択光透過性を
有する積層体をフイルム上に形成させた。 積層体の色調は金に比較して青味がかつた好ま
しいものであつた。得られた積層体の赤外光反射
率は88%以上、可視光透過率は70%以上であつ
た。 これらの積層体上に実施例9と同様の方法で厚
さ2μのポリメタアクリロニトリルからなる導電
保護被膜を形成せしめた。 得られた積層体を実施例1と同様の方法でカー
ボンアーク光照射テスト、熱劣化促進テストを行
つたがそれぞれ3000Hr以上経過しても赤外光反
射率は80%以上を保持し外観等に何ら変化はなか
つた。 またこれらの積層体を1N塩酸に3時間浸漬し
た結果を第5表に記した。
[Table] *Example 18 where the rest is gold 250mm thick as the first layer on 2mm thick plain glass
Å thick titanium oxide thin film layer, 150 Å thick as second layer
a thin film layer of silver, gold and copper (50% by weight gold, 5% by weight copper, 45% by weight silver) and a thickness as a third layer.
Titanium oxide thin film layers of 300 Å thick were sequentially laminated to form a laminate having transparent conductivity and selective light transmittance on a glass plate. Each titanium oxide thin film layer was coated by spraying a solution consisting of 5 parts of tetramer of tetra-2-ethylhexyl titanate, 40 parts of n-hexane, 25 parts of toluene, and 30 parts of butanol with compressed nitrogen, and heated at 110°C. was heated for 3 minutes. A single thin film layer in which gold, silver and copper coexist is Example 1.
was formed in the same manner as. The resulting laminate has a transmittance of 70% and a surface resistance of 15
Ω/square, and the infrared light reflectance was 85%. Moreover, the color tone was preferable, with transmitted light having a bluish tinge. Examples 19-25 Example 1 except for changing the composition of the metal thin film layer
A laminate having transparent conductivity and selective light transmittance was formed on the film in the same manner as described above. The color tone of the laminate was preferable, with a bluish tinge compared to gold. The resulting laminate had an infrared reflectance of 88% or more and a visible light transmittance of 70% or more. A conductive protective film made of polymethacrylonitrile and having a thickness of 2 μm was formed on these laminates in the same manner as in Example 9. The obtained laminate was subjected to a carbon arc light irradiation test and a thermal deterioration acceleration test in the same manner as in Example 1, but the infrared light reflectance remained 80% or more even after 3000 hours or more in each case, and the appearance etc. There was no change. Table 5 shows the results of immersing these laminates in 1N hydrochloric acid for 3 hours.

【表】 実施例26及び比較例7〜10 金属薄膜の組成と膜厚を変化させる以外は実施
例1と同様の方法で、透明導電性及び/又は選択
光透過性を有する積層体をフイルム上に形成させ
た。 また得られた各々の積層体上に実施例9と同様
の方法で、ポリメタアクリロニトリルからなる厚
さ2μの透明保護膜を塗工した積層体を形成し
た。これらの方法により同一の透明高屈折率薄膜
層、及び金属薄膜層組成を有し、透明保護層の塗
工されてない積層体と塗工された積層体を構成し
た。これら積層体を実施例1と同様の方法で、カ
ーボンアーク光照射光劣化促進テストを1000時間
行つた結果を、また各積層体を1N塩酸に1時間
浸漬した結果を、金属薄膜層組成とともに第6表
に記した。
[Table] Example 26 and Comparative Examples 7 to 10 A laminate having transparent conductivity and/or selective light transmission was placed on a film in the same manner as in Example 1 except that the composition and thickness of the metal thin film were changed. was formed. In addition, a 2 μm thick transparent protective film made of polymethacrylonitrile was coated on each of the obtained laminates in the same manner as in Example 9 to form a laminate. By these methods, laminates having the same transparent high refractive index thin film layer and metal thin film layer composition, uncoated laminates and laminates coated with a transparent protective layer were constructed. These laminates were subjected to a 1,000-hour photodegradation acceleration test by irradiation with carbon arc light in the same manner as in Example 1, and the results of immersing each laminate in 1N hydrochloric acid for 1 hour were reported as well as the composition of the metal thin film layer. It is listed in the table.

【表】【table】

【表】 実施例 27 実施例1で用いたポリエチレンテレフタレート
フイルム上に直接マグネトロンスパツタリング
で、厚さ150Åの金50重量%、銀45重量%及び銅
5重量%からなる金属薄膜層を形成した。更に得
られた金属薄膜層上に実施例1と同様の方法で厚
さ350Åの酸化チタン層を形成した。 得られた積層体の可視光透過率は70%、赤外光
反射率は90%であつた。また色調は実施例1とほ
とんど差がなかつた。 実施例 28 実施例18で用いた並板硝子上に実施例31と同様
の金属薄膜層及び酸化チタン層を形成した。 得られた積層体の可視光透過率は65%、表面抵
抗は15Ω/平方、赤外光反射率は90%であり、色
調は実施例31と同様であつた。 実施例 29 実施例1で用いたポリエチレンテレフタレート
フイルム上に直接マグネトロンスパツタリングで
厚さ150Åの金50重量%、銀45重量%及び銅5重
量%からなる金属薄膜層を形成した。更に得られ
た金属薄膜層上に実施例2で用いたアクリレート
樹脂を実施例2と同様の方法で厚さ2μのアクリ
ル保護層を形成し積層体を得た。 得られた積層体の可視光透過率は45%、赤外光
反射率は85%であつた。また色調は好ましいもの
であつた。 実施例 30 実施例1で用いたポリエチレンテレフタレート
フイルム上に実施例11で同様の方法で厚さ300Å
の酸化チタン層を形成した。得られた酸化チタン
薄膜層上に実施例27と同様の方法で厚さ150Åの
金50重量%、銀45重量%、銅5重量%からなる金
属薄膜層を形成し更に金属薄膜層上に実施例1と
同様の方法でアルキルチタネート化合物から形成
された厚さ270Åの酸化チタン層を形成せしめ、
透明導電性及び/又は選択光透過性積層体を得
た。 得られた積層体の可視光透過率は73%であり、
赤外光反射率は90%であつた。
[Table] Example 27 A metal thin film layer having a thickness of 150 Å and consisting of 50% by weight of gold, 45% by weight of silver, and 5% by weight of copper was formed by direct magnetron sputtering on the polyethylene terephthalate film used in Example 1. . Furthermore, a titanium oxide layer with a thickness of 350 Å was formed on the obtained metal thin film layer in the same manner as in Example 1. The resulting laminate had a visible light transmittance of 70% and an infrared light reflectance of 90%. Moreover, there was almost no difference in color tone from Example 1. Example 28 On the plain glass used in Example 18, a metal thin film layer and a titanium oxide layer similar to those in Example 31 were formed. The resulting laminate had a visible light transmittance of 65%, a surface resistance of 15 Ω/square, an infrared reflectance of 90%, and a color tone similar to that of Example 31. Example 29 A metal thin film layer having a thickness of 150 Å and consisting of 50% by weight of gold, 45% by weight of silver, and 5% by weight of copper was formed on the polyethylene terephthalate film used in Example 1 by direct magnetron sputtering. Further, on the obtained metal thin film layer, an acrylic protective layer having a thickness of 2 μm was formed using the acrylate resin used in Example 2 in the same manner as in Example 2 to obtain a laminate. The resulting laminate had a visible light transmittance of 45% and an infrared light reflectance of 85%. Moreover, the color tone was favorable. Example 30 A film with a thickness of 300 Å was deposited on the polyethylene terephthalate film used in Example 1 in the same manner as in Example 11.
A titanium oxide layer was formed. On the obtained titanium oxide thin film layer, a metal thin film layer having a thickness of 150 Å consisting of 50% by weight of gold, 45% by weight of silver, and 5% by weight of copper was formed by the same method as in Example 27, and then a metal thin film layer was formed on the obtained titanium oxide thin film layer. A titanium oxide layer with a thickness of 270 Å was formed from an alkyl titanate compound in the same manner as in Example 1,
A transparent conductive and/or selectively transparent laminate was obtained. The visible light transmittance of the obtained laminate was 73%,
The infrared light reflectance was 90%.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 成型物基体と、片面あるいは両面を透明薄膜
層(B)によつておおわれた金属薄膜層(A)とからなる
積層体において、該金属薄膜層(A)が金を主成分と
し銀及び銅を含む単一あるいは積層された金属薄
膜層であり、且つ、銀と銅との重量の和が金、銀
及び銅の総重量に対して36重量%乃至69重量%で
あることを特徴とする積層体。 2 当該透明薄膜層(B)の少くとも一方が透明高屈
折率薄膜層(B−1)を含む特許請求の範囲第1
項記載の積層体。 3 当該透明薄膜層(B)の少くとも一方が酸化チタ
ン薄膜層(B−2)、酸化ビスマス薄膜層(B−
3)又は硫化亜鉛薄膜層(B−4)のいずれかよ
り選ばれた透明高屈折率薄膜層からなる特許請求
の範囲第1項又は第2項記載のいずれかの積層
体。 4 当該透明薄膜層(B)の少くとも一方が有機チタ
ネート化合物から形成された酸化チタン薄膜層
(B−21)からなる特許請求の範囲第1項〜第3
項記載のいずれかの積層体。 5 金属薄膜層(A)に積層された透明薄膜層(B)が透
明高屈折率薄膜層(B−1)及び透明保護薄膜
(B−5)からなる特許請求の範囲第1項〜第4
項記載のいずれかの積層体。 6 成型物基体上に透明高屈折率薄膜層(B−
1)、金属薄膜層(A)、透明高屈折率薄膜層(B−
1)及び透明保護薄膜(B−5)が上記の順序で
積層されてなる特許請求の範囲第1項〜第5項記
載のいずれかの積層体。
[Claims] 1. A laminate consisting of a molded product substrate and a metal thin film layer (A) covered on one or both sides with a transparent thin film layer (B), wherein the metal thin film layer (A) is coated with gold. A single or laminated metal thin film layer containing silver and copper as main components, and the sum of the weights of silver and copper is 36% to 69% by weight relative to the total weight of gold, silver, and copper. A laminate characterized by: 2 Claim 1 in which at least one of the transparent thin film layers (B) includes a transparent high refractive index thin film layer (B-1)
Laminated body as described in section. 3 At least one of the transparent thin film layers (B) is a titanium oxide thin film layer (B-2) and a bismuth oxide thin film layer (B-
3) or a zinc sulfide thin film layer (B-4). 4 Claims 1 to 3 in which at least one of the transparent thin film layers (B) comprises a titanium oxide thin film layer (B-21) formed from an organic titanate compound.
Any of the laminates listed in section. 5 Claims 1 to 4 in which the transparent thin film layer (B) laminated on the metal thin film layer (A) consists of a transparent high refractive index thin film layer (B-1) and a transparent protective thin film (B-5)
Any of the laminates listed in section. 6 Transparent high refractive index thin film layer (B-
1), metal thin film layer (A), transparent high refractive index thin film layer (B-
1) and the transparent protective thin film (B-5) are laminated in the above order.
JP13245279A 1979-10-16 1979-10-16 Laminate Granted JPS5656855A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13245279A JPS5656855A (en) 1979-10-16 1979-10-16 Laminate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13245279A JPS5656855A (en) 1979-10-16 1979-10-16 Laminate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5656855A JPS5656855A (en) 1981-05-19
JPS629419B2 true JPS629419B2 (en) 1987-02-28

Family

ID=15081677

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13245279A Granted JPS5656855A (en) 1979-10-16 1979-10-16 Laminate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5656855A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0388510U (en) * 1989-12-22 1991-09-10

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3698946A (en) * 1969-11-21 1972-10-17 Hughes Aircraft Co Transparent conductive coating and process therefor

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3698946A (en) * 1969-11-21 1972-10-17 Hughes Aircraft Co Transparent conductive coating and process therefor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0388510U (en) * 1989-12-22 1991-09-10

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5656855A (en) 1981-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4320169A (en) Heat wave-reflective or electrically conductive laminated structure
EP0007224B1 (en) Heat wave-reflective or electrically conductive laminated structure
EP0049083B1 (en) Laminated film
US4565719A (en) Energy control window film systems and methods for manufacturing the same
US4166876A (en) Transparent, electrically conductive laminated structure and process for production thereof
US4413877A (en) Selectively light-transmitting laminated structure
JPS6026021B2 (en) laminated sheet
CN1019319B (en) Durable splashing film of metal alloy oxide
KR20020045484A (en) Heat-resistant reflecting layer, laminate formed of the reflecting layer, and liquid crystal display device having the reflecting layer or the laminate
JP2001226765A (en) High heat resistant reflective coating, and laminated body using the reflective coating
JPS6226308B2 (en)
JPH0339281B2 (en)
JPS61167546A (en) Laminated film
JP2002129259A (en) Highly heat-resistant reflection film and laminated body, reflection plate for liquid crystal display element and glass as building material using the film
JPS6151762B2 (en)
JP2882725B2 (en) UV absorbing thermal insulation glass
JPS629419B2 (en)
JPS642510B2 (en)
JPS6210183B2 (en)
JPS6226310B2 (en)
JPH0257498B2 (en)
JPS629418B2 (en)
JPS5810228B2 (en) laminate
JPS6059147B2 (en) laminate
JPS6159903B2 (en)