JPS62888B2 - - Google Patents
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- JPS62888B2 JPS62888B2 JP53029887A JP2988778A JPS62888B2 JP S62888 B2 JPS62888 B2 JP S62888B2 JP 53029887 A JP53029887 A JP 53029887A JP 2988778 A JP2988778 A JP 2988778A JP S62888 B2 JPS62888 B2 JP S62888B2
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は炭素数6ないし10の芳香族炭化水素の
転化方法に関する。 炭素数6ないし10の芳香族炭化水素は石炭乾留
および石油留分から分留によつて得られており、
それぞれ単一成分または混合成分として合成樹
脂,合成繊維または各種可塑剤等の原料として広
い分野で利用されている。以下、炭素数6ないし
10の芳香族炭化水素を炭化水素と略称することが
ある。 かかる炭化水素は、改質反応、特にアルキル化
反応,脱アルキル化反応,異性化反応またはトラ
ンスアルキル化反応等によつてそれぞれの用途に
応じて改質される。特に最近ではかかる改質反応
をゼオライト系触媒に接触させて行なうことが
種々提案されている。例えばアルキル化反応で
は、特開昭49―20124号公報および特開昭51―
143625号公報に、不均化反応およびトランスアル
キル反応では特公昭47―20610号公報,特開昭48
―14632号公報,特開昭50―96532号公報および特
開昭51―26824号公報に、異性化反応では特公昭
49―36698号公報および特開昭49―124034号公報
等に提案されている。 一般にゼオライト系触媒は、触媒能が長期間に
わたつて持続するため、改質反応を連続して行な
うには好ましい触媒である。しかしながら、ゼオ
ライト系触媒を用いて改質反応を連続して行なつ
た場合、触媒の活性持続能が屡々予想に反して変
動したり短縮したりすることがあり、この触媒の
能力を安定した状態で充分に活用することは極め
て困難であつた。 本発明者等は、ゼオライト系触媒の持続能の変
動の原因を究明し、この触媒を充分に活用し長期
間安定した改質反応を連続させるため種々研究し
た結果、改質反応に供する原料炭化水素の成分の
変動に着目した。 しかしながら、この原料炭化水素は、通常活性
白土または活性アルミナ等の処理によつて不純分
は除去され、且つその貯蔵については保管タンク
を不活性ガスでシールする等の方策が行なわれ、
その成分の変動は比較的少ない。 本発明者等は、更に鋭意研究を重ねた結果、原
料炭化水素中に含まれる微量のアルデヒド,ケト
ン,フエノール,ハイドロパーオキシドおよびカ
ルボン酸等の含酸素化合物が著しい触媒毒として
働くことを見出した。これ等含酸素化合物の存在
量は、原料炭化水素の製造法,精製法,輪送法,
保管法等によつて異なるが、通常数ppmから
高々数拾ppmという微量(稀には数百ppmの場
合もあるが)であり、かかる微量の不純物が著し
く触媒毒として働くことは思いがけないことであ
つた。 本発明はかかる知見に基ずいて更に研究を進め
た結果、完成したものである。即ち、本発明は炭
化水素をゼオライト系触媒と接触させて該炭化水
素を改良するに際し、改質反応に供する炭化水素
中の含酸素化合物を予め除去することを特徴とす
る炭化水素の改質方法である。 本発明の方法で対象とする改質反応とは、炭化
水素をゼオライト系触媒に接触させて行なう改質
反応であり、炭素数6ないし10のアルキル置換芳
香族炭化水素の異性化反応または不均化反応から
選ばれる少くとも一種の転化反応である。 改質反応に供する炭化水素(以下原料炭化水素
という)中には、前述の通り微量のアルデヒド,
ケトン,フエノール,ハイドロパ―オキサイド・
カルボン酸等の含酸素化合物が含まれている。 これらの含酸素化合物は輪送中や保管中におい
ても微量の酸素の存在によつて生成し、例えば保
管タンクを不活性ガスでシールしても、完全に酸
素の混入を防ぐことは困難であり、また炭化水素
を船舶による輪送の際には通常不活性ガスシール
を行わず炭化水素と空気中の酸素が直接的に接触
するので微量の含酸素化合物の生成を完全に防止
することはできない。 本発明にあつては、かかる原料炭化水素中の含
酸素化合物を予め除去してから改質反応に供す
る。 この含酸素化合物の除去後の残量は、少なけれ
ば少ないほど好ましいが、通常1.0ppm以下、特
に好ましくは0.1ppm以下にすればよい。この含
酸素化合物を除去するには、孔径が6オングスト
ローム以上の細孔を有するゼオライトを使用し、
これに原料炭化水素を液相で接触させれば炭化水
素中の含酸素化合物を容易に吸着除去することが
できる。このゼオライトとの接触には液相であれ
ばよく、任意の方法が採用される。例えば固定
床,移動床,流動床等が使用されるが、固定床が
有利である。 また、この際の接触温度,夜空間速度,圧力等
の条件は原料炭化水素の組成,原料炭化水素中の
不純物の種類,濃度および装置等によつて適宜決
定される。殊に液空間速度をあまり速くすると含
酸素化合物は吸着除去され難くなり、吸着槽を長
大にする必要が生じるので、液空間速度を10〜
100cm/minの範囲にするのが好ましい。ここで
使用するゼオライトとしては、その細孔の孔径が
6オングストローム以上のゼオライトであればよ
く、通常フオージヤサイト型ゼオライト,モルデ
ナイト型ゼオライト,L型ゼオライトまたはこれ
等の混合物が使用される。これらは、一般には珪
酸ソーダ,シリカゲル,シリカゲル等のシリカ源
にアルミン酸ソーダ等のアルミナ,苛性ソーダお
よび水を作用させて水熱反応で合成される。また
一部をアルカリ土類金属または他の金属でイオン
交換して得られる。具体的には例えばフオージヤ
サイト型ゼオライトは特公昭38―3659号公報,特
公昭40―20171号公報に、モルデナイト型ゼオラ
イトは特公昭41―17854号公報に、L型ゼオライ
トは特公昭36―3678号公報に、その製造法が開示
されている。 本発明の方法に供したゼオライト、即ち原料炭
化水素中の含酸素化合物を吸着したゼオライトは
再生処理して繰返し使用することができる。 この再生処理には任意の方法、例えば昇温法,
減圧法,適当な脱着剤を用いる方法,燃焼法等が
採用されるが、特に使用済みのゼオライトに100
℃以上のスチーミング処理を施して吸着物を脱着
し、しかる後100〜200℃で乾燥し、次いで200℃
以上望ましくは250〜500℃で焼成する方法が吸着
特性を損なうことなく充分に再生し得、繰返し使
用することができるので最も推奨される。 本発明の方法の好ましい実施態様の1例を説明
すると、まず原料炭化水素をゼオライトを充填し
た吸着系に導入し、ここで含酸素化合物を吸着除
去する。この吸着系には二系列を並列に設け、一
方の使用中に他方の使用済みのゼオライトを再生
するのが好ましい。 含酸素化合物を除去された原料炭化水素は、通
常改質反応系―副生物の分離系―精製系よりなる
密閉循環系により改質反応を受け順次製品として
取出される。このようにすることによつて、循環
系内には含酸素化合物は混入蓄積することがな
く、含酸素化合物による改質反応に用いるゼオラ
イト系触媒の劣化を防止でき改質反応は所定期間
安定した状態で行なうことができる。 以下に実施例をあげて本発明を詳述する。 参考例 1 フエノール100ppmを含む混合キシレン(C8芳
香族炭化水素)200mlに吸着剤として表1に示す
各種合成ゼオライト,活性炭,シリカアルミナ,
シリカゲルおよび活性白土を、それぞれ5gずつ
加えフエノールの飽和吸着量を測定した。 混合キシレン中のフエノール濃度を経時的に測
定した結果を第1図に示す。ここでC0はフエノ
ールの初濃度,Cは経時的な濃度変化を表わす。
吸着剤の種類と吸着容量は下記表1の通りであ
る。なお、混合キシレン中のフエノールは
UOP262―59に基づいて測定した。表1から明ら
かな如く孔径が6オングストローム以上の細孔を
有するゼオライトは他のゼオライトおよび活性
炭,シリカアルミナ,シリカゲル,活性白土等に
比し吸着量が著しく大きく、更に原料炭化水素中
の水分濃度の影響が比較的少ないのも特徴的であ
る。
転化方法に関する。 炭素数6ないし10の芳香族炭化水素は石炭乾留
および石油留分から分留によつて得られており、
それぞれ単一成分または混合成分として合成樹
脂,合成繊維または各種可塑剤等の原料として広
い分野で利用されている。以下、炭素数6ないし
10の芳香族炭化水素を炭化水素と略称することが
ある。 かかる炭化水素は、改質反応、特にアルキル化
反応,脱アルキル化反応,異性化反応またはトラ
ンスアルキル化反応等によつてそれぞれの用途に
応じて改質される。特に最近ではかかる改質反応
をゼオライト系触媒に接触させて行なうことが
種々提案されている。例えばアルキル化反応で
は、特開昭49―20124号公報および特開昭51―
143625号公報に、不均化反応およびトランスアル
キル反応では特公昭47―20610号公報,特開昭48
―14632号公報,特開昭50―96532号公報および特
開昭51―26824号公報に、異性化反応では特公昭
49―36698号公報および特開昭49―124034号公報
等に提案されている。 一般にゼオライト系触媒は、触媒能が長期間に
わたつて持続するため、改質反応を連続して行な
うには好ましい触媒である。しかしながら、ゼオ
ライト系触媒を用いて改質反応を連続して行なつ
た場合、触媒の活性持続能が屡々予想に反して変
動したり短縮したりすることがあり、この触媒の
能力を安定した状態で充分に活用することは極め
て困難であつた。 本発明者等は、ゼオライト系触媒の持続能の変
動の原因を究明し、この触媒を充分に活用し長期
間安定した改質反応を連続させるため種々研究し
た結果、改質反応に供する原料炭化水素の成分の
変動に着目した。 しかしながら、この原料炭化水素は、通常活性
白土または活性アルミナ等の処理によつて不純分
は除去され、且つその貯蔵については保管タンク
を不活性ガスでシールする等の方策が行なわれ、
その成分の変動は比較的少ない。 本発明者等は、更に鋭意研究を重ねた結果、原
料炭化水素中に含まれる微量のアルデヒド,ケト
ン,フエノール,ハイドロパーオキシドおよびカ
ルボン酸等の含酸素化合物が著しい触媒毒として
働くことを見出した。これ等含酸素化合物の存在
量は、原料炭化水素の製造法,精製法,輪送法,
保管法等によつて異なるが、通常数ppmから
高々数拾ppmという微量(稀には数百ppmの場
合もあるが)であり、かかる微量の不純物が著し
く触媒毒として働くことは思いがけないことであ
つた。 本発明はかかる知見に基ずいて更に研究を進め
た結果、完成したものである。即ち、本発明は炭
化水素をゼオライト系触媒と接触させて該炭化水
素を改良するに際し、改質反応に供する炭化水素
中の含酸素化合物を予め除去することを特徴とす
る炭化水素の改質方法である。 本発明の方法で対象とする改質反応とは、炭化
水素をゼオライト系触媒に接触させて行なう改質
反応であり、炭素数6ないし10のアルキル置換芳
香族炭化水素の異性化反応または不均化反応から
選ばれる少くとも一種の転化反応である。 改質反応に供する炭化水素(以下原料炭化水素
という)中には、前述の通り微量のアルデヒド,
ケトン,フエノール,ハイドロパ―オキサイド・
カルボン酸等の含酸素化合物が含まれている。 これらの含酸素化合物は輪送中や保管中におい
ても微量の酸素の存在によつて生成し、例えば保
管タンクを不活性ガスでシールしても、完全に酸
素の混入を防ぐことは困難であり、また炭化水素
を船舶による輪送の際には通常不活性ガスシール
を行わず炭化水素と空気中の酸素が直接的に接触
するので微量の含酸素化合物の生成を完全に防止
することはできない。 本発明にあつては、かかる原料炭化水素中の含
酸素化合物を予め除去してから改質反応に供す
る。 この含酸素化合物の除去後の残量は、少なけれ
ば少ないほど好ましいが、通常1.0ppm以下、特
に好ましくは0.1ppm以下にすればよい。この含
酸素化合物を除去するには、孔径が6オングスト
ローム以上の細孔を有するゼオライトを使用し、
これに原料炭化水素を液相で接触させれば炭化水
素中の含酸素化合物を容易に吸着除去することが
できる。このゼオライトとの接触には液相であれ
ばよく、任意の方法が採用される。例えば固定
床,移動床,流動床等が使用されるが、固定床が
有利である。 また、この際の接触温度,夜空間速度,圧力等
の条件は原料炭化水素の組成,原料炭化水素中の
不純物の種類,濃度および装置等によつて適宜決
定される。殊に液空間速度をあまり速くすると含
酸素化合物は吸着除去され難くなり、吸着槽を長
大にする必要が生じるので、液空間速度を10〜
100cm/minの範囲にするのが好ましい。ここで
使用するゼオライトとしては、その細孔の孔径が
6オングストローム以上のゼオライトであればよ
く、通常フオージヤサイト型ゼオライト,モルデ
ナイト型ゼオライト,L型ゼオライトまたはこれ
等の混合物が使用される。これらは、一般には珪
酸ソーダ,シリカゲル,シリカゲル等のシリカ源
にアルミン酸ソーダ等のアルミナ,苛性ソーダお
よび水を作用させて水熱反応で合成される。また
一部をアルカリ土類金属または他の金属でイオン
交換して得られる。具体的には例えばフオージヤ
サイト型ゼオライトは特公昭38―3659号公報,特
公昭40―20171号公報に、モルデナイト型ゼオラ
イトは特公昭41―17854号公報に、L型ゼオライ
トは特公昭36―3678号公報に、その製造法が開示
されている。 本発明の方法に供したゼオライト、即ち原料炭
化水素中の含酸素化合物を吸着したゼオライトは
再生処理して繰返し使用することができる。 この再生処理には任意の方法、例えば昇温法,
減圧法,適当な脱着剤を用いる方法,燃焼法等が
採用されるが、特に使用済みのゼオライトに100
℃以上のスチーミング処理を施して吸着物を脱着
し、しかる後100〜200℃で乾燥し、次いで200℃
以上望ましくは250〜500℃で焼成する方法が吸着
特性を損なうことなく充分に再生し得、繰返し使
用することができるので最も推奨される。 本発明の方法の好ましい実施態様の1例を説明
すると、まず原料炭化水素をゼオライトを充填し
た吸着系に導入し、ここで含酸素化合物を吸着除
去する。この吸着系には二系列を並列に設け、一
方の使用中に他方の使用済みのゼオライトを再生
するのが好ましい。 含酸素化合物を除去された原料炭化水素は、通
常改質反応系―副生物の分離系―精製系よりなる
密閉循環系により改質反応を受け順次製品として
取出される。このようにすることによつて、循環
系内には含酸素化合物は混入蓄積することがな
く、含酸素化合物による改質反応に用いるゼオラ
イト系触媒の劣化を防止でき改質反応は所定期間
安定した状態で行なうことができる。 以下に実施例をあげて本発明を詳述する。 参考例 1 フエノール100ppmを含む混合キシレン(C8芳
香族炭化水素)200mlに吸着剤として表1に示す
各種合成ゼオライト,活性炭,シリカアルミナ,
シリカゲルおよび活性白土を、それぞれ5gずつ
加えフエノールの飽和吸着量を測定した。 混合キシレン中のフエノール濃度を経時的に測
定した結果を第1図に示す。ここでC0はフエノ
ールの初濃度,Cは経時的な濃度変化を表わす。
吸着剤の種類と吸着容量は下記表1の通りであ
る。なお、混合キシレン中のフエノールは
UOP262―59に基づいて測定した。表1から明ら
かな如く孔径が6オングストローム以上の細孔を
有するゼオライトは他のゼオライトおよび活性
炭,シリカアルミナ,シリカゲル,活性白土等に
比し吸着量が著しく大きく、更に原料炭化水素中
の水分濃度の影響が比較的少ないのも特徴的であ
る。
【表】
参考例 2
フオージヤサイトNa―X型ゼオライト(有効
細孔径10オングストローム)の3gを6mmφのガ
ラス管に充填し、フエノールを430ppm含む混合
キシレンを3ml/mm(約9cm/mm)の速度で通し
ながら流出液中のフエノール濃度を測定した。な
お、フエノールの測定はUOP262―59の吸光分析
法に依つた。 フエノールの吸着破過曲線を第2図に示す。第
2図においてC0は原料中のフエノール濃度、ま
たCは流出液中のフエノール濃度を表わす。 吸着破過した時の吸着容量は約4.2重量パーセ
ントであつた。吸着破過したゼオライトは混合キ
シレンを除いた後、約100℃の飽和水蒸気を2時
間通し、更に約110℃で2時間予備乾燥してしか
る後に450℃で約5時間焼成し再生した。 以上の再生処理と吸着破過テストを5回繰返し
実験した結果を第2図に〇印で示した。第2図の
結果からスチーミング処理および焼成による再生
処理によりゼオライト吸着剤の吸着特性がなんら
損なわれることなく繰返し使用できることが判
る。 実施例 1 市販のモルデナイト型ゼオライト(米国ノート
ン社製ゼオロンH―900,シリカ・アルミナ比
10)を用い常圧反応でキシレン(C8芳香族炭化
水素)の異性化反応を行なつた。原料のキシレン
中にフエノール約500ppm含むものをそのまま反
応した場合と、反応に先立つて有孔径10オングス
トロームのフオージヤサイト型ゼオライト
(UCC社製,商品名MS―13X)と液相で接触した
フエノールを約1ppm以下としたものを用いて反
応した。 反応条件はゼオロンH―900,5gを用い温度
315℃で液空間速度2.2(HR-1)で6時間反応し
た。 反応開始後1〜3時間と4〜6時間の生成物に
ついてガスクロマトグラフを用いて組成分析し
た。フエノールはUOP262―59法で測定した。反
応原料の組成は次の通り。 非芳香族炭化水素 0.5 重量パーセント トルエン 0.6 〃 エチルベンゼン 19.0 重量パーセント p―キシレン 8.4 〃 m― 〃 51.5 〃 o― 〃 20.0 〃 表2に実験結果を示す。
細孔径10オングストローム)の3gを6mmφのガ
ラス管に充填し、フエノールを430ppm含む混合
キシレンを3ml/mm(約9cm/mm)の速度で通し
ながら流出液中のフエノール濃度を測定した。な
お、フエノールの測定はUOP262―59の吸光分析
法に依つた。 フエノールの吸着破過曲線を第2図に示す。第
2図においてC0は原料中のフエノール濃度、ま
たCは流出液中のフエノール濃度を表わす。 吸着破過した時の吸着容量は約4.2重量パーセ
ントであつた。吸着破過したゼオライトは混合キ
シレンを除いた後、約100℃の飽和水蒸気を2時
間通し、更に約110℃で2時間予備乾燥してしか
る後に450℃で約5時間焼成し再生した。 以上の再生処理と吸着破過テストを5回繰返し
実験した結果を第2図に〇印で示した。第2図の
結果からスチーミング処理および焼成による再生
処理によりゼオライト吸着剤の吸着特性がなんら
損なわれることなく繰返し使用できることが判
る。 実施例 1 市販のモルデナイト型ゼオライト(米国ノート
ン社製ゼオロンH―900,シリカ・アルミナ比
10)を用い常圧反応でキシレン(C8芳香族炭化
水素)の異性化反応を行なつた。原料のキシレン
中にフエノール約500ppm含むものをそのまま反
応した場合と、反応に先立つて有孔径10オングス
トロームのフオージヤサイト型ゼオライト
(UCC社製,商品名MS―13X)と液相で接触した
フエノールを約1ppm以下としたものを用いて反
応した。 反応条件はゼオロンH―900,5gを用い温度
315℃で液空間速度2.2(HR-1)で6時間反応し
た。 反応開始後1〜3時間と4〜6時間の生成物に
ついてガスクロマトグラフを用いて組成分析し
た。フエノールはUOP262―59法で測定した。反
応原料の組成は次の通り。 非芳香族炭化水素 0.5 重量パーセント トルエン 0.6 〃 エチルベンゼン 19.0 重量パーセント p―キシレン 8.4 〃 m― 〃 51.5 〃 o― 〃 20.0 〃 表2に実験結果を示す。
【表】
【表】
表2から明らかな如く反応に先立つて原料キシ
レンをゼオライトと液相接触させフエノールを吸
着除去した効果は顕著に認められる。 実施例 2 フエノール50ppmとハイドロパーオキサイド
(過酸化物酸素として)10ppmを含む混合キシレ
ンを有効径9オングストロームのモルデナイト型
ゼオライト(米国ノートン社製ゼオリン)を吸着
剤として液相接触し、フエノールおよびハイドロ
パーオキサイドを、それぞれ1ppm以下にした場
合と、吸着剤を通さなかつた場合について、それ
ぞれゼオライト触媒を用いてキシレンの異性化反
応を行なつた。 ゼオライト触媒は特公昭49―10064号公報に開
始されている方法で得たもので、バインダーとし
てアルミナを用いて成型したものを用いた。 反応条件 反応装置 固定床常圧反応装置 16mmφ硬質ガラス 触 媒 合成ゼオライト(ZSM―5H)5
g 温 度 300℃ 液空間速度 6HR-1 p―キシレン平衡到達率の経時変化を第3図に
示す。 原料炭化水素中のフエノールおよびハイドロパ
ーオキサイドを除去せずに反応した場合、反応率
の経時的減少が著しく大きいことが判る。 また、反応生成物中にはフエノールおよびハイ
ドロパーオキサイドは検出されない。なお、p―
キシレン平衡到達率は実施例1の計算式で表わし
たものである。 実施例 3 ゼオライト系触媒を用いてトルエンを不均化反
応し、商業的に有用なベンゼンとキシレンとに転
化する反応に於て、原料のトルエン中に含酸素化
合物としてフエノールおよびハイドロパーオキサ
イドを500ppm含有するものを用いた。 不均化反応に先立つて、原料炭化水素を市販の
合成ゼオライトMS―13X(有効径10オングスト
ローム)に液相で接触さて実質的に含酸素化合物
を1ppm以下にしたものと合成ゼオライトと接触
せず含酸素化合物を約500ppm含むものを用いて
反応した。不均化反応の触媒は別の合成ゼオライ
ト(合成法は特開昭52―43800号公報記載,シリ
カアルミナ比60,H型)を用い、バインダーとし
てアルミナ50重量パーセント含むものを用いた。 反応は常圧反応装置を用い触媒5.4g,反応温
度556℃,夜空間速度6.2HR-1で5時間反応し
た。 反応開始後1〜2時間および4〜5時間の反応
生成物をガスクロマトグラフで分析した。 組成分析結果およびトルエン転化率を表3に示
す。
レンをゼオライトと液相接触させフエノールを吸
着除去した効果は顕著に認められる。 実施例 2 フエノール50ppmとハイドロパーオキサイド
(過酸化物酸素として)10ppmを含む混合キシレ
ンを有効径9オングストロームのモルデナイト型
ゼオライト(米国ノートン社製ゼオリン)を吸着
剤として液相接触し、フエノールおよびハイドロ
パーオキサイドを、それぞれ1ppm以下にした場
合と、吸着剤を通さなかつた場合について、それ
ぞれゼオライト触媒を用いてキシレンの異性化反
応を行なつた。 ゼオライト触媒は特公昭49―10064号公報に開
始されている方法で得たもので、バインダーとし
てアルミナを用いて成型したものを用いた。 反応条件 反応装置 固定床常圧反応装置 16mmφ硬質ガラス 触 媒 合成ゼオライト(ZSM―5H)5
g 温 度 300℃ 液空間速度 6HR-1 p―キシレン平衡到達率の経時変化を第3図に
示す。 原料炭化水素中のフエノールおよびハイドロパ
ーオキサイドを除去せずに反応した場合、反応率
の経時的減少が著しく大きいことが判る。 また、反応生成物中にはフエノールおよびハイ
ドロパーオキサイドは検出されない。なお、p―
キシレン平衡到達率は実施例1の計算式で表わし
たものである。 実施例 3 ゼオライト系触媒を用いてトルエンを不均化反
応し、商業的に有用なベンゼンとキシレンとに転
化する反応に於て、原料のトルエン中に含酸素化
合物としてフエノールおよびハイドロパーオキサ
イドを500ppm含有するものを用いた。 不均化反応に先立つて、原料炭化水素を市販の
合成ゼオライトMS―13X(有効径10オングスト
ローム)に液相で接触さて実質的に含酸素化合物
を1ppm以下にしたものと合成ゼオライトと接触
せず含酸素化合物を約500ppm含むものを用いて
反応した。不均化反応の触媒は別の合成ゼオライ
ト(合成法は特開昭52―43800号公報記載,シリ
カアルミナ比60,H型)を用い、バインダーとし
てアルミナ50重量パーセント含むものを用いた。 反応は常圧反応装置を用い触媒5.4g,反応温
度556℃,夜空間速度6.2HR-1で5時間反応し
た。 反応開始後1〜2時間および4〜5時間の反応
生成物をガスクロマトグラフで分析した。 組成分析結果およびトルエン転化率を表3に示
す。
【表】
【表】
表3の結果から明らかな如く、不均化反応に先
立つて合成ゼオライト(MS―13X)と液相接触
させ含酸素化合物を吸着除去する効果は顕著であ
る。
立つて合成ゼオライト(MS―13X)と液相接触
させ含酸素化合物を吸着除去する効果は顕著であ
る。
第1図は、フエノール含有混合キシレンを各種
吸着剤と接触させた場合のフエノール濃度の経時
的変化を示したものであり、第2図はフエノール
含有混合キシレンをゼオライトに接触させた場合
のフエノールの吸着破過曲線を示したものであ
り、第3図は、p―キシレン平衡到達率の経時変
化を示したものである。
吸着剤と接触させた場合のフエノール濃度の経時
的変化を示したものであり、第2図はフエノール
含有混合キシレンをゼオライトに接触させた場合
のフエノールの吸着破過曲線を示したものであ
り、第3図は、p―キシレン平衡到達率の経時変
化を示したものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 炭素数6ないし10のアルキル置換芳香族炭化
水素をゼオライト系触媒と接触させて異性化反応
または不均化反応から選ばれる少くとも一種の改
質反応するに際し、該炭化水素中の含酸素化合物
を、予め、液相で孔径が6オングストローム以上
の細孔を有するゼオライトに接触させることによ
つて除去することを特徴とする該炭化水素の改質
方法。 2 改質反応に供する該炭化水素中の含酸素化合
物を1.0ppm以下になるまで除去する特許請求の
範囲第1項記載の該炭化水素の改質方法。 3 該ゼオライトが含酸素化合物の吸着除去に用
いた後100℃以上でスチーミング処理し、100〜
200℃で乾燥し、次いで200〜500℃で焼成するこ
とによつて再生されたゼオライトである特許請求
の範囲第1項記載の該炭化水素の改質方法。 4 改質反応に供する該炭化水素から除去すべき
含酸素化合物がアルデヒド,ケトン,フエノー
ル,ハイドロパ―オキサイドおよびカルボン酸か
らなる群から選ばれた少くとも1種である特許請
求の範囲第1項〜第3項のいずれか1項記載の該
炭化水素の改質方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2988778A JPS54125619A (en) | 1978-03-17 | 1978-03-17 | Method of reforming hydrocarbons |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2988778A JPS54125619A (en) | 1978-03-17 | 1978-03-17 | Method of reforming hydrocarbons |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS54125619A JPS54125619A (en) | 1979-09-29 |
JPS62888B2 true JPS62888B2 (ja) | 1987-01-10 |
Family
ID=12288473
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2988778A Granted JPS54125619A (en) | 1978-03-17 | 1978-03-17 | Method of reforming hydrocarbons |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS54125619A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104395272A (zh) * | 2012-05-31 | 2015-03-04 | 埃克森美孚化学专利公司 | 在对二甲苯回收工艺中除去苯酚 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3636180A (en) * | 1969-12-30 | 1972-01-18 | Universal Oil Prod Co | Combination isomfrization and aromatic separation process |
JPS5041823A (ja) * | 1973-08-10 | 1975-04-16 | ||
JPS5231038A (en) * | 1975-09-01 | 1977-03-09 | Toray Ind Inc | Separation process of p-xylene by adsorption |
-
1978
- 1978-03-17 JP JP2988778A patent/JPS54125619A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3636180A (en) * | 1969-12-30 | 1972-01-18 | Universal Oil Prod Co | Combination isomfrization and aromatic separation process |
JPS5041823A (ja) * | 1973-08-10 | 1975-04-16 | ||
JPS5231038A (en) * | 1975-09-01 | 1977-03-09 | Toray Ind Inc | Separation process of p-xylene by adsorption |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS54125619A (en) | 1979-09-29 |
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