JPS6284097A - Production of protected oligonucleotide - Google Patents

Production of protected oligonucleotide

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JPS6284097A
JPS6284097A JP60223139A JP22313985A JPS6284097A JP S6284097 A JPS6284097 A JP S6284097A JP 60223139 A JP60223139 A JP 60223139A JP 22313985 A JP22313985 A JP 22313985A JP S6284097 A JPS6284097 A JP S6284097A
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JP
Japan
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group
residue
protected
nucleoside base
amino group
Prior art date
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Pending
Application number
JP60223139A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Hayakawa
芳宏 早川
Yasuyoshi Chino
千野 恭義
Shinichiro Tawara
伸一郎 田原
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Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6284097A publication Critical patent/JPS6284097A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain the titled compound rapidly deprotective under mild conditions in high yield, by condensing a raw material for synthesizing an oligonucleotide with a phosphoramidite ragent and oxidizing the formed phosphite part into phosphate. CONSTITUTION:A raw material for synthesizing an oligonucleotide expressed by formula I is condensed with a phosphoramidite reagent expressed by formula II (R1 is protecting group or residue of carrier linked through covalent bond; R2 is H or OH having protecting group; R3 is protecting group; A is protecting group eliminating by beta-cleavage; BAOC is residue of nucleoside base having no amino group or nucleoside base having amino group or imino group protected by allyloxycarbonyl type residue; NAOC is residue of nucleoside base having amino group or imino group protected by allyloxycarbonyl type residue; n is 0 or a positive integer) and the formed phosphite part is then oxidized into phosphate to afford the aimed compound expressed by formula III.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は保護されたオリゴヌクレオチドの製造法に関し
、さらに詳しくは、リン酸部分の水酸基及びヌクレオシ
ド塩基部分のアミノ基をそれぞれβ−開裂によって脱離
する保護基及びアリルオキシカル?ニル型残基で保護し
たホスホルアミダイド試薬をモノマー成分として使用す
る保護されたオリゴヌクレオチドの製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a method for producing protected oligonucleotides, and more specifically, the present invention relates to a method for producing protected oligonucleotides, and more particularly, the hydroxyl group of the phosphate moiety and the amino group of the nucleoside base moiety are removed by β-cleavage. Protecting group and allyloxycar to be removed? The present invention relates to a method for producing protected oligonucleotides using a phosphoramidide reagent protected with a nyl-type residue as a monomer component.

(従来の技術) 最近の遺伝子工学の発展に伴い、その重要な素材である
DNA (デオキシリが核酸)やRNA (リゾ核酸)
などのポリヌクレオチドを化学的に合成する方法の研究
が盛んに行われており、その具体例としてリン酸ジエス
テル法、リン酸トリエステル法、ホスファイト法などの
手法が知られている。
(Conventional technology) With the recent development of genetic engineering, its important materials such as DNA (deoxynucleotide is a nucleic acid) and RNA (lysonucleic acid)
Research is being actively conducted on methods for chemically synthesizing polynucleotides, such as the phosphodiester method, phosphotriester method, and phosphite method.

なかでもモノマー成分としてホスホルアミダイト試薬を
用いるホスファイト法は、他の方法に比較して反応性に
優れており、最近、とくに注目を集めている〇 而して、かかるホスファイト法の場合、一般に縮合反応
における副反応を避けるためにリン酸部分の水酸基及び
ヌクレオシド塩基部分のアミノ基t−保護したホスホル
アミダイト試薬がモノマー成分として用いられているが
、最近、水酸基の保護基に関して、従来から賞月されて
きたメチル基に代えてβ−シアンエチル基、β−八へダ
ノエチル基、β−ニトロエチル基などのどときβ−開裂
によって脱離する保護基を用いる方法が開発されている
(例えばWO85100816、テトラヘドロン・レタ
ース第24巻、第52号、第5843〜5846頁など
)。
Among these, the phosphite method, which uses a phosphoramidite reagent as a monomer component, has superior reactivity compared to other methods and has recently attracted particular attention. Generally, in order to avoid side reactions in the condensation reaction, t-protected phosphoramidite reagents are used as monomer components that protect the hydroxyl group of the phosphoric acid moiety and the amino group of the nucleoside base moiety. A method has been developed in which a protecting group that is removed by β-cleavage, such as a β-cyanethyl group, a β-octahedanoethyl group, or a β-nitroethyl group, is used in place of the methyl group, which has been widely praised (e.g., WO85100816). , Tetrahedron Letters Vol. 24, No. 52, pp. 5843-5846, etc.).

この方法によれば、メチル基に比較して脱保護が容易な
ため従来法の難点であったチオフェノール処理を回避す
ることができ、また固相合成法に適用する場合には、担
体をアンモニア処理によって除去する際に同時に水酸基
の脱保護を実施しうるという利点を有する。
According to this method, thiophenol treatment, which was a drawback of the conventional method, can be avoided because deprotection is easier compared to methyl groups, and when applied to solid phase synthesis, the support can be treated with ammonia. It has the advantage that hydroxyl groups can be deprotected at the same time when they are removed by treatment.

しかし、この方法の場合にはアミノ基の保護基としてベ
ンゾイル基、インブチリル基などが用いられておシ、そ
れらの保護基を除去するためには熱アンモニア水で長時
間にわたって処理しなければならないという問題があっ
た。
However, in this method, benzoyl group, imbutyryl group, etc. are used as protecting groups for amino groups, and in order to remove these protecting groups, treatment with hot ammonia water is required for a long time. There was a problem.

(発明が解決しようとする問題点) そこで本発明者らはかかる従来技術の欠点を解決すべく
鋭意検討の結果、水酸基及びアミノ基の保護基としてそ
れぞれβ−開裂によって脱離する保護基及びアリルオキ
シカル♂ニル型残基を有するホスホルアミダイト試薬を
モノマー成分として使用すると、緩和な条件で速やかに
脱保護可能な、保護されたオリゴヌクレオチドが収率よ
く得られることを見い出し、本発明を完成するに到った
(Problems to be Solved by the Invention) Therefore, as a result of intensive studies to solve the drawbacks of the prior art, the present inventors found that a protective group that is eliminated by β-cleavage and an allyl group as a protective group for a hydroxyl group and an amino group, respectively, The present invention was completed based on the discovery that when a phosphoramidite reagent having an oxycarnyl-type residue is used as a monomer component, a protected oligonucleotide that can be rapidly deprotected under mild conditions can be obtained in good yield. I came to the conclusion.

(問題点を解決するための手段) かくして本発明によれば、下記一般式〔I〕で表わされ
るオリゴヌクレオチド合成用原料と下記一般式(II)
で表わされるホスホルアミダイド試薬を縮合させ、次い
で形成されたホスファイト部分をホスフェートに酸化す
ることを特徴とする下記一般式CI[I)で表わされる
保護されたオリゴヌクレオチドの製造法が提供される。
(Means for Solving the Problems) Thus, according to the present invention, a raw material for oligonucleotide synthesis represented by the following general formula [I] and the following general formula (II)
Provided is a method for producing a protected oligonucleotide represented by the following general formula CI[I], which comprises condensing a phosphoramidide reagent represented by the formula, and then oxidizing the formed phosphite moiety to a phosphate. Ru.

0−A     R4 X−P−0−A ・・・〔III〕 (式中、R4は保護基または共有結合を介して結合した
担体の残基を表わし、R2は水素原子または保護基を有
する水酸基を表わし、R3は保護基を表わし、Aはβ−
開裂によって脱離する保護基を表わし、B AOCはア
ミノ基を有さないヌクレオシド塩基またはアミノ基もし
くはイミノ基がアリルオキシカルビニル型残基で保護さ
れたヌクレオシド塩基の残基を表わし、NAOCはアミ
ノ基もしくはイミノ基がアリルオキシカルビニル型残基
で保護されたヌクレオシド塩基の残基を表わし、nは0
または正の整数を表わす。) 本発明においては、まず前記一般式(1)で示されるオ
リゴヌクレオチド合成用原料と前記一般式CIDで示さ
れるホスホルアミダイト試薬による縮合反応が行われる
0-A R4 , R3 represents a protecting group, and A is β-
B AOC represents a nucleoside base that does not have an amino group or a nucleoside base whose amino group or imino group is protected with an allyloxycarbinyl type residue, and NAOC represents a protecting group that is removed by cleavage. group or imino group represents a nucleoside base residue protected with an allyloxycarvinyl type residue, n is 0
or represents a positive integer. ) In the present invention, first, a condensation reaction is performed using a raw material for oligonucleotide synthesis represented by the general formula (1) and a phosphoramidite reagent represented by the general formula CID.

前記式中のR1はヌクレオシド化学において一般に用い
られている保護基または担体の残基であればいずれでも
よく、保護基の具体例として、例えばトリチル基、モノ
メトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメチ
ルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル
基、L−ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラニ
ル基、4−メトキシテトラヒドロビラニル基、ベンゾイ
ル基、ベンジル基、テトラヒドロフラニル基、メトキシ
メチル基、メトキシエトキシメチル基、フェノキシメチ
ル基、メチルチオメチル基、フェニルチオメチル基など
が例示される。
R1 in the above formula may be any protecting group or carrier residue commonly used in nucleoside chemistry, and specific examples of protecting groups include trityl group, monomethoxytrityl group, dimethoxytrityl group, trimethylsilyl group. , triethylsilyl group, triphenylsilyl group, L-butyldimethylsilyl group, tetrahydropyranyl group, 4-methoxytetrahydrobilanyl group, benzoyl group, benzyl group, tetrahydrofuranyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxymethyl group, phenoxy Examples include methyl group, methylthiomethyl group, and phenylthiomethyl group.

また担体はエステル結合に代表される共有結合によって
3′−水酸基に結合するものであり、その具体例として
変性シリカダル、ポリエステル、ポリアミド、ポリビニ
ルアルコール、ポリシロリサン、ポリスチレン、ガラス
などが例示される。
Further, the carrier is bonded to the 3'-hydroxyl group through a covalent bond represented by an ester bond, and specific examples thereof include modified silica dal, polyester, polyamide, polyvinyl alcohol, polysilolisane, polystyrene, and glass.

前記式中の82は水素原子または保護基を有する水酸基
であシ、保護基の具体例としてはR4と同様のものが例
示される。
82 in the above formula is a hydrogen atom or a hydroxyl group having a protecting group, and specific examples of the protecting group include those similar to R4.

またBAOCはアミノ基を有さないヌクレオシド塩基ま
たはアミノ基もしくはイミノ基がアリルオキシカルビニ
ル型残基で保護されたヌクレオシド塩基の残基である。
BAOC is a nucleoside base having no amino group or a nucleoside base residue in which the amino group or imino group is protected with an allyloxycarvinyl type residue.

ヌクレオシド塩基を有するヌクレオシドの具体例として
は、例えばデオキシアデノシン、デオキシグアノシン、
デオキシシチジン、チミジン、アデノシン、グアノシン
、シチジン、ウリジン、イノシンなどが例示され、これ
らのうちチミジン、ウリノン、イノシンはアミノ基を有
さないものに属する。
Specific examples of nucleosides having nucleoside bases include deoxyadenosine, deoxyguanosine,
Examples include deoxycytidine, thymidine, adenosine, guanosine, cytidine, uridine, and inosine, among which thymidine, urinone, and inosine belong to those having no amino group.

塩基部分のアミン基の保護基として用いられるアリルオ
キシカルビニル型残基は脱保護反応を本質的に損わない
ものであればいずれでもよく、その具体例として、アリ
ルオキシカルブニル基、メタリルオキシカル?ニル基、
クロチルオキシカル?ニル基、フレニルオキシカルブニ
ルM、、I’5二ルオキシカルデニル基、シンナミルオ
キシカルブニル基、クロロアリルオキシカル?ニル基、
p−クロロシンナミルオキシカルゲニル基などが例示さ
れる。
The allyloxycarbinyl type residue used as a protecting group for the amine group in the base moiety may be any residue that does not essentially impair the deprotection reaction. Oxycal? Nyl group,
Crotyloxycal? nyl group, frenyloxycarbunyl M,, I'5nyloxycardenyl group, cinnamyloxycarbunyl group, chloroallyloxycar? Nyl group,
Examples include p-chlorocinnamyloxycargenyl group.

アリルオキシカルビニル型残基の炭素数は反応後に生ず
る副生物の分離や原料入手の容易性などを考慮して適宜
選択すればよいが、通常は炭素数12以下のものが用い
られる。
The number of carbon atoms in the allyloxycarvinyl type residue may be appropriately selected in consideration of separation of by-products generated after the reaction, ease of obtaining raw materials, etc., but those having 12 or less carbon atoms are usually used.

またAはβ−開裂によりて脱離する保護基、すなわち下
記一般式〔■〕で示される保護基を表わす。
Further, A represents a protecting group that is eliminated by β-cleavage, that is, a protecting group represented by the following general formula [■].

Y 式中、Yは水素原子のほかメチル基、エチル基などの低
級アルキル基を表わし、また2は電子吸引性残基を表わ
し、その具体例としてシアノ基、ニトロ基、チオシアノ
基、弗素、塩基、臭素などのへロrン厘子、フェニルス
ルホニル基、メチルスルホニル基、フェニル基などが例
示される。この際、フェニル基部分のオルト−位及び/
又はバラ−位にはハロダン、シアン基、ニトロ基などの
置換基を有していてもよい。
Y In the formula, Y represents a hydrogen atom or a lower alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, and 2 represents an electron-withdrawing residue, specific examples of which include a cyano group, a nitro group, a thiocyano group, fluorine, and a base. Examples include heron groups such as , bromine, phenylsulfonyl group, methylsulfonyl group, and phenyl group. At this time, the ortho-position of the phenyl group moiety and/or
Alternatively, it may have a substituent such as a halodane group, a cyan group, or a nitro group at the bara position.

これらの保護基のなかでも2がシアン基のものが好まし
く、とくにβ−シアノエチル基が賞月される。
Among these protecting groups, those in which 2 is a cyan group are preferred, and β-cyanoethyl group is particularly preferred.

さらにnの値はOまたは正の整数であれば格別制限され
るものではなく、100もしくはそれ以上の値であって
もよい。
Further, the value of n is not particularly limited as long as it is O or a positive integer, and may be 100 or more.

前記一般式(II)中のR2及びAは前記と同様であシ
、R3はヌクレオシド化学において一般的に用いられて
いる保護基であって、その具体例としてはR1の場合と
同様のものが例示される。またNAocはアミン基を有
さないヌクレオシド塩基を含まないこと以外はBAoc
と同義である。
R2 and A in the general formula (II) are the same as above, and R3 is a protecting group commonly used in nucleoside chemistry, and specific examples thereof include the same as in the case of R1. Illustrated. Also, NAoc is BAoc except that it does not contain nucleoside bases that do not have amine groups.
is synonymous with

さらにXは2級アミノ基を表わし、その具体例としては
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピル
アミン基、ジ−t−ブチルアミノ基、メチルグロピルア
ミノ基、メチルへキシルアミノ基、メチルシクロヘキシ
ルアミノ基、エチルベンジルアミノ基、モルホリノ基、
チオモルホリノ基、ピロリジノ基、ピペリジ7基、2.
6−シメチルピベリジノ基、ピペラジノ基、イミダ/ジ
ノ基、ピロリノ基などが例示され、炭素数10以下のも
のが賞月される。
Further, X represents a secondary amino group, and specific examples thereof include dimethylamino group, diethylamino group, diisopropylamine group, di-t-butylamino group, methylglopylamino group, methylhexylamino group, methylcyclohexylamino group, Ethylbenzylamino group, morpholino group,
Thiomorpholino group, pyrrolidino group, piperidino group, 2.
Examples include a 6-dimethylpiveridino group, a piperazino group, an imida/dino group, a pyrolino group, and those having 10 or less carbon atoms are given the prize.

オリゴヌクレオチド合成用1料とホスホルアミダイド試
薬の縮合反応は、通常、縮合剤を用いて溶剤の存在下に
行われる。
The condensation reaction between the first material for oligonucleotide synthesis and the phosphoramidide reagent is usually carried out using a condensing agent in the presence of a solvent.

用いられる縮合剤の具体例としては、例えば1−H−テ
トラゾール、5−ニトロ−1−Hテトラゾール、トリア
ゾールなどが例示される。
Specific examples of the condensing agent used include 1-H-tetrazole, 5-nitro-1-H tetrazole, and triazole.

また溶剤の具体例としては、ピリジン、ピコリン、ルチ
ジンなどのピリジン類、キノリン、イソキノリン、オキ
サゾール、テトラヒドロ7ラン、ジメチルホルムアミド
、ジクロロメタンなどが挙げられる。
Further, specific examples of the solvent include pyridines such as pyridine, picoline, and lutidine, quinoline, isoquinoline, oxazole, tetrahydro7rane, dimethylformamide, and dichloromethane.

オリコ0ヌクレオチド合成原料とホスホルアミダイド試
薬の使用比率は適宜選択されるが、通常は前者1当量当
シ後者2〜10当量の割合であシ、また縮合剤は前記合
成原料1モル当り2〜5モルの割合で用いられる。
The ratio of the Orico 0 nucleotide synthesis raw material and the phosphoramidide reagent to be used is selected as appropriate, but usually the ratio is 1 equivalent of the former to 2 to 10 equivalents of the latter, and the condensing agent is 2 to 10 equivalents per mole of the synthetic raw material. It is used in a proportion of ~5 mol.

かかる縮合反応は、通常、10〜50℃で0.2分〜2
時間にわたって行われる。
Such a condensation reaction is usually carried out at 10 to 50°C for 0.2 to 2 minutes.
takes place over time.

縮合反応終了後、生成物中に形成されるホスファイト部
分をホスフェートに酸化するため酸化反応が行われる。
After the condensation reaction is complete, an oxidation reaction is carried out to oxidize the phosphite moiety formed in the product to phosphate.

この酸化反応は常法に従って行えばよく、その具体例と
して沃素と水で酸化する方法、t−ブチルパーオキシド
、ベンゾイル14−オキシドなどのごとき過酸化物で酸
化する方法、二酸化窒素で酸化する方法などが例示され
る。
This oxidation reaction may be carried out according to conventional methods, and specific examples include oxidation with iodine and water, oxidation with peroxides such as t-butyl peroxide and benzoyl 14-oxide, and oxidation with nitrogen dioxide. Examples include.

この酸化反応によって、目的とする一般式〔III〕で
表わされる保護されたオリゴ9ヌクレオチドが合成され
る。かかる縮合反応及び酸化反応の一連の反応は液相で
実施してもよく、また固相で実施してもよい。もちろん
、市販されている手動型または自動型の合成機を用いて
反応を行うこともできる。
Through this oxidation reaction, the desired protected oligo9 nucleotide represented by the general formula [III] is synthesized. A series of such condensation reactions and oxidation reactions may be carried out in a liquid phase or in a solid phase. Of course, the reaction can also be carried out using a commercially available manual or automatic synthesizer.

また酸化反応後、縮合反応の際に未反応のまま残存した
5′−水酸基を無水酢酸のごとき永久保護基で不活性化
したのち、生成物の5′−水酸基の保d基(R3)を常
法に従ってプロトン酸やルイス酸などを用いて除去し、
次の縮合反応の原料に供することができる。
After the oxidation reaction, the 5'-hydroxyl group remaining unreacted during the condensation reaction is inactivated with a permanent protecting group such as acetic anhydride, and then the d-group (R3) of the 5'-hydroxyl group of the product is inactivated. Remove using protonic acid or Lewis acid according to conventional methods,
It can be used as a raw material for the next condensation reaction.

反応液中からの生成物の単離・精製は、必要に応じて保
護基を除去したのち、通常の有機合成反応の手段である
吸着クロマトグラフィー、イオン交換クロマトグラフィ
ー、電気泳動、有機溶媒による分配や結晶化など公知の
手段を適宜に選択し、あるいは組み合わせて実施するこ
とが可能である。
Isolation and purification of the product from the reaction solution is carried out by removing protective groups as necessary, and then using adsorption chromatography, ion exchange chromatography, electrophoresis, and distribution using organic solvents, which are the means of ordinary organic synthesis reactions. It is possible to appropriately select or combine known means such as crystallization and crystallization.

また固相反応の場合には、必要に応じて保護基を除去し
たのち、常法に従って担体を除去し、上記と同様の手法
によって単離、精製することができる。
In the case of a solid-phase reaction, after removing the protective group if necessary, the carrier can be removed according to a conventional method, and the product can be isolated and purified by the same method as described above.

(発明の効果) かくして得られる本発明の保護されたオリゴヌクレオチ
ドは、リン酸部分の水酸基とヌクレオシド塩基のアミノ
基の双方の保護基を緩和な条件下で速やかに除去するこ
とができる。例えば、必要に応じて2′−水酸基、3′
−水酸基及び/又は5′−水酸基の保護基または担体を
除去したのち、0価のパラジウム化合物とアミンや蟻酸
塩に代表される求核試剤を用いて中性条件下に処理する
と、室温で短時間のうちにヌクレオシド塩基部分の保護
基を除去することができる。
(Effects of the Invention) In the thus obtained protected oligonucleotide of the present invention, the protecting groups of both the hydroxyl group of the phosphoric acid moiety and the amino group of the nucleoside base can be rapidly removed under mild conditions. For example, 2'-hydroxyl group, 3'-hydroxyl group,
- After removing the protective group or carrier for the hydroxyl group and/or 5'-hydroxyl group, treatment under neutral conditions with a zero-valent palladium compound and a nucleophilic reagent such as an amine or formate can be used for a short period of time at room temperature. The protecting group on the nucleoside base moiety can be removed in time.

また水酸基部分の脱保護はアンモニア水を用いて室温で
0.1〜5時間処理することによシ、容易に除去するこ
とができる。担体を使用する固相合成法の場合には、こ
の処理の間に担体からの切断を同時に行うことができる
Furthermore, the hydroxyl group moiety can be easily deprotected by treatment with aqueous ammonia at room temperature for 0.1 to 5 hours. In the case of solid phase synthesis using a carrier, cleavage from the carrier can be carried out simultaneously during this treatment.

またβ−開裂によって脱離する保護基及びアリルオキシ
カルゲニル型残基は糖部水酸基の脱保護反応で用いられ
る一般的な条件(例えばトリクロロ酢酸による5′−水
酸基の脱保護やテトラ−n−ブチルアンモニウムクロリ
ドによる3′−水酸基の脱保護など)下できわめて安定
に存在する。
In addition, protecting groups and allyloxycargenyl-type residues that are removed by β-cleavage can be used under general conditions used in deprotection reactions of sugar hydroxyl groups (e.g., deprotection of 5'-hydroxyl groups with trichloroacetic acid, tetra-n - deprotection of the 3'-hydroxyl group with butylammonium chloride, etc.).

(実施例) 以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
(Example) The present invention will be described in more detail with reference to Examples below.

実施例1 β−シアノエトキシジクロロホスフィンにジイソプロピ
ルアミンを反応させて得たβ−シアノエトキシモノクロ
ロ(N、N−ジイソプロピルアミノ)ホスフィン(化合
物2)3.12ミリモルをアセトニトリル4ミリリツト
ルに溶解したのち、テトラヒドロフラン:アセトニトリ
ル−1=2の混合溶剤15ミリリツトルに溶解した5’
−o−ジメトキシトリチル−N−アリルオキシカル−ニ
ルデオキシシチジン(化合物1)3ミリそル及び1−H
−テトラゾール3.6ミリモルを20℃で20分間にわ
た)滴下し、1時間攪拌してホスホルアミダイド(化合
物3)を得た。
Example 1 3.12 mmol of β-cyanoethoxymonochloro(N,N-diisopropylamino)phosphine (compound 2) obtained by reacting β-cyanoethoxydichlorophosphine with diisopropylamine was dissolved in 4 ml of acetonitrile, and then dissolved in tetrahydrofuran. : 5' dissolved in 15 ml of mixed solvent of acetonitrile-1=2
-o-dimethoxytrityl-N-allyloxycar-nyldeoxycytidine (compound 1) 3 mSol and 1-H
3.6 mmol of -tetrazole was added dropwise at 20° C. over 20 minutes and stirred for 1 hour to obtain phosphoramidide (compound 3).

次いで、この反応液に3’−o−t−ブチルジメチルシ
リルチミジン(化合物4)2.86ミリモルと1−H−
テトラゾール3.42ミリモルを加え、20℃で2時間
攪拌した。
Next, 2.86 mmol of 3'-o-t-butyldimethylsilylthymidine (compound 4) and 1-H-
3.42 mmol of tetrazole was added and stirred at 20°C for 2 hours.

次いで一78℃に冷却し、二酸化窒素4.86ミリモル
のジクロロメタン溶液を加え、30分間酸化したのち、
0.5モル亜硫酸ナトリウム水溶液30ミリリ、トルを
加えた。室温に戻したのち、クロロホルムと飽和食塩水
を加え、分離した水層をクロロホルムで抽出した。乾燥
後、クロマトグラフィー(シリカダル120?、メタノ
ール:クロロホルム−1:30−1 :20)によシ分
離し、β−シアエチル−5′−〇−ジメトキシトリチル
ーN−アリルオキシカルがエルデオキシシチジリルー(
3′→5’)−3’−o−t−ブチルジメチルシリルチ
ミジン(化合物5)を79elbの収率で得た。
Then, it was cooled to -78°C, a dichloromethane solution containing 4.86 mmol of nitrogen dioxide was added, and after oxidation for 30 minutes,
Thirty milliliters of a 0.5 molar aqueous sodium sulfite solution was added. After returning to room temperature, chloroform and saturated brine were added, and the separated aqueous layer was extracted with chloroform. After drying, it was separated by chromatography (Silica Dal 120?, methanol:chloroform-1:30-1:20), and β-cyaethyl-5'-〇-dimethoxytrityl-N-allyloxycar was separated from erdeoxycytidylyl. Roux(
3'→5')-3'-ot-butyldimethylsilylthymidine (compound 5) was obtained in a yield of 79 elb.

この物質の物性値は以下のとうシである。The physical properties of this substance are as follows.

0元素分析(C53H650,5N6SiP)Calc
d、  C58,67H6,00N 7.75Foun
d、   C58,57H6,06N 7.98H 化合物3            。2化合物5 実施例2 実施例1で用いた化合物30代わりに後記のホスホルア
ミダイド(化合物6)を用いること以外は実施例1に準
じて実験を行い、β−シアノエチル−5′−〇−ジメト
キシトリチルーN−アリルオキシカル?ニルデオキシア
デノシリル−(3′→5′)−3’−o−t−ブチルジ
メチルシリルチミジン(化合物7)を88%の収率で得
た。
0 elemental analysis (C53H650,5N6SiP) Calc
d, C58,67H6,00N 7.75 Foun
d, C58,57H6,06N 7.98H Compound 3. 2 Compound 5 Example 2 An experiment was carried out according to Example 1 except that phosphoramidide (compound 6) described below was used instead of compound 30 used in Example 1, and β-cyanoethyl-5'-〇- Dimethoxytrityl-N-allyloxycal? Nyldeoxyadenosilyl-(3'→5')-3'-ot-butyldimethylsilylthymidine (Compound 7) was obtained with a yield of 88%.

この物質の物性値は以下のとおシである。The physical properties of this substance are as follows.

・元素分析値(C54H6,014N8PSi)Cal
cd、  C58,48H5,87N 10.11Fo
und、  05B、29   H5,80N 10.
09NCCH2Cl2−0−P−N(CH(CH,)2
) 2(化合物6) (化合物7) (AOC=アリルオキシカルボニル基)参考例1 実施例1で得た化合物50.3 ミI)モル及びトリフ
ェニルホスフィy0.95ミリモルを50ミリリ、トル
のコルベンにとシ、アルゴン雰囲気としたのち、テトラ
ヒドロフラン3ミリリツトルに溶解し、次いでn−ブチ
ルアミン0.6ミリモル、蟻酸0.6ミリモルを順次滴
下したのち、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム(0)0.015ミリモルをテトラヒドロフラ
ン2ミリリ、トルに溶解して加え、室温で10分間攪拌
した。
・Elemental analysis value (C54H6,014N8PSi) Cal
cd, C58,48H5,87N 10.11Fo
und, 05B, 29 H5, 80N 10.
09NCCH2Cl2-0-P-N(CH(CH,)2
) 2 (Compound 6) (Compound 7) (AOC=allyloxycarbonyl group) Reference Example 1 50.3 mmol of the compound obtained in Example 1 and 0.95 mmol of triphenylphosphine were added to 50 milliliters of torr. After placing in a Kolben and creating an argon atmosphere, it was dissolved in 3 ml of tetrahydrofuran, and then 0.6 mmol of n-butylamine and 0.6 mmol of formic acid were sequentially added dropwise. 015 mmol dissolved in 2 ml of tetrahydrofuran and toluene was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes.

反応後、溶剤を留去したのち、アンモニア水中室温で2
0分間処理し、アンモニア水を留去し、残渣を酢酸エチ
ルに溶かして水及び飽和食塩水で洗浄し、乾燥したのち
、クロマトグラフィーで分離し、アリルオキシカルブニ
ル基とβ−シアンエチル基が除去された5′−o−ジメ
トキシトリチルシチジリル−(3′→5’)−3’−o
−t−ブチルジメチルチミジンを得た。収率は91モル
チであった。
After the reaction, the solvent was distilled off, and then diluted with ammonia solution at room temperature for 2
The aqueous ammonia was distilled off, the residue was dissolved in ethyl acetate, washed with water and saturated brine, dried, and separated by chromatography, and the allyloxycarbyl group and β-cyanethyl group were separated. removed 5'-o-dimethoxytritylcytidylyl-(3'→5')-3'-o
-t-Butyldimethylthymidine was obtained. The yield was 91 mol.

参考例2 化合物5の代わ9に化合物7をO,t 5 ミ+)モル
使用すること以外は参考例1と同様にして反応を行った
。その結果、化合物7のアリル基及びアリルオキシカル
ブニル基が除去された5′−〇−ジメトキシトリチルデ
オキシアデノシリル−(3′→5′)−3’−o−t−
ブチルジメチルシリルチミジンが収率90優で得られた
Reference Example 2 A reaction was carried out in the same manner as in Reference Example 1 except that O,t 5 m+) moles of Compound 7 was used in place of Compound 5 and 9. As a result, 5'-〇-dimethoxytrityldeoxyadenosilyl-(3'→5')-3'-ot-
Butyldimethylsilylthymidine was obtained in a yield of over 90%.

実施例3 CPG (Controlled Pare Gras
s )レジンにエステル結合を介して結合した5′−〇
−ジメトキシトリチルチミジン(化合物8)30ミリグ
ラムをガラス展反応器に入れ、これにトリクロロ酢酸の
ジクロロメタン溶液を加えて5′−水酸基を脱保護した
のち、アセトニトリルで洗浄した。次いでシチジン塩基
のアミノ基がアリルオキシカルブニル基で保護されたホ
スホルアミダイド(化合物3)0、03ミリモル及び1
−H−テトラゾール0.04ミリモルをアセトニトリル
−テトラヒドロフラン混合溶剤に溶解して加え、室温で
2分間反応させ九。
Example 3 CPG (Controlled Pare Gras)
s) 30 milligrams of 5'-〇-dimethoxytritylthymidine (compound 8) bound to the resin via an ester bond is placed in a glass exhibition reactor, and a dichloromethane solution of trichloroacetic acid is added to deprotect the 5'-hydroxyl group. After that, it was washed with acetonitrile. Next, 0.03 mmol and 1 phosphoramidite (compound 3) in which the amino group of the cytidine base was protected with an allyloxycarbunyl group were added.
9. 0.04 mmol of -H-tetrazole was dissolved in an acetonitrile-tetrahydrofuran mixed solvent and reacted for 2 minutes at room temperature.

次いで、アセトニトリルで洗浄したのち、沃素溶液1.
2ミリリツトル(沃素11.6グラム、水1 8  ミ
  リ  リ  、  ト ル 、  ル チ ジ ン
 1 8 0  ミ  リ  リ  ッ  ト ル 、
テトラヒドロフラン720ミリリツトル)を加え25秒
間反応させて、担体に担持したC−T二量体(化合物9
)を得た。収率は80チであった(後述の5′−ジメト
キシトリチル基の脱離に伴う発色で測定)。
Next, after washing with acetonitrile, iodine solution 1.
2 milliliters (11.6 grams of iodine, 18 milliliters of water, 180 milliliters of luthidine,
The C-T dimer (compound 9
) was obtained. The yield was 80% (measured by color development due to elimination of the 5'-dimethoxytrityl group, which will be described later).

この化合物の確認は以下の手順に従って行った。Confirmation of this compound was performed according to the following procedure.

まず前記化合物9を含む担体をアセトニトリルで〜 洗浄したのち、無水酢酸を加えて未反応の57−水酸基
をキャッピングし、アセトニトリルを加えて洗浄シた。
First, the carrier containing Compound 9 was washed with acetonitrile, acetic anhydride was added to cap the unreacted 57-hydroxyl group, and acetonitrile was added to wash the carrier.

次いでトリフェニルホスフィン0.095ミリモル、n
−ブチルアミン0.6ミリモル、蟻酸0.6ミリモル及
びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(
0) 0.015ミリモルをテトラヒドロフランに溶解
して加え、室温で10分間反応して塩基部分のアリルオ
キシカルブニル基を脱保護した。
Then triphenylphosphine 0.095 mmol, n
-butylamine 0.6 mmol, formic acid 0.6 mmol and tetrakis(triphenylphosphine)palladium (
0) 0.015 mmol dissolved in tetrahydrofuran was added and reacted at room temperature for 10 minutes to deprotect the allyloxycarbunyl group in the base moiety.

テトラヒドロフランとジクロロメタンで洗浄後、トリク
ロロ酢酸によシ5′−水酸基のジメトキシトリチル基を
脱離し、化合物10を得た。次いで/λJ 30%アンモニア水溶液を加え室温で30分放置してリ
ン酸部分のβ−シアノエチル基と担体を除去し、C−T
のダイマー(化合物11)を得た。
After washing with tetrahydrofuran and dichloromethane, the dimethoxytrityl group of the 5'-hydroxyl group was removed with trichloroacetic acid to obtain Compound 10. Then /λJ 30% ammonia aqueous solution was added and allowed to stand at room temperature for 30 minutes to remove the β-cyanoethyl group of the phosphoric acid moiety and the carrier, resulting in C-T
A dimer (compound 11) was obtained.

アンモニアを留去後、200マイクロリツトルの水に溶
解し、このうち5マイクロリツトルの水溶液を採取し、
これに〔γ−32P ) ATP (PB−170。
After distilling off the ammonia, dissolve it in 200 microliters of water, collect 5 microliters of the aqueous solution,
This was followed by [γ-32P)ATP (PB-170.

アマジャム)1マイクロリツトルを加えて乾固した。こ
れにカイネーションパ、ファー(X 2.5 )を2μ
t 、 T4ヌクレオチドキナーゼ(全酒蔵。
1 microliter of flax jam) was added and dried. Add 2μ of caination powder and fur (X 2.5) to this.
t, T4 nucleotide kinase (Zenshuzo.

2.5u/μt)1μt、水2μtを加えて37℃でカ
イネーシq7を行った。TLC(Polygram 、
 CELL300 DEAE/HR−2/ 15 、 
Maakerey−Nags1社製)上、RNAホモミ
ックスチェアにて展開し、−次元のオートラジオグラフ
を得、1スポツトであることを確認した。TLCから、
1スポツトの位置を抽出シ、ペノムホスホジエステラー
ゼと、ヌクレアーゼP1で消化させ、消化物をそれぞれ
DEAR−セルロースイーパーを用いる電気泳動で展開
し、これをTLCに転写して、ホモミックスチェアにて
二次元に展開した。二次元の展開後、TLCのオート°
 ラジオグラフをと夛、スポットの位置から保護基が脱
保護されたCTダイマーが生成していることを確認した
2.5 u/μt) and 2 μt of water were added, and Kainesi q7 was performed at 37°C. TLC (Polygram,
CELL300 DEAE/HR-2/15,
(Maakerey-Nags 1) and developed in an RNA homomix chair to obtain a -dimensional autoradiograph and confirm that it was a single spot. From TLC,
One spot was extracted, digested with penomphosphodiesterase and nuclease P1, and the digested products were developed by electrophoresis using DEAR-Cellulose Eper, transferred to TLC, and two-dimensionally analyzed using a homomix chair. It was expanded to After 2D expansion, TLC auto°
By taking radiographs, it was confirmed that a CT dimer from which the protecting group had been deprotected was generated from the spot position.

(AOc 化合物8 0−CH2C)12CN 化合物9(AOc Compound 8 0-CH2C)12CN Compound 9

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、下記一般式〔 I 〕で表わされるオリゴヌクレオチ
ド合成用原料と下記一般式〔II〕で表わされるホスホル
アミダイト試薬を縮合させ、次いで形成されたホスファ
イト部分をホスフェートに酸化することを特徴とする下
記一般式〔III〕で表わされる保護されたオリゴヌクレ
オチドの製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔III〕 (式中、R_1は保護基または共有結合を介して結合し
た担体の残基を表わし、R_2は水素原子または保護基
を有する水酸基を表わし、R_3は保護基を表わし、A
はβ−開裂によって脱離する保護基を表わし、B^A^
O^Cはアミノ基を有さないヌクレオシド塩基またはア
ミノ基もしくはイミノ基がアリルオキシカルボニル型残
基で保護されたヌクレオシド塩基の残基を表わし、N^
A^O^Cはアミノ基もしくはイミノ基がアリルオキシ
カルボニル型残基で保護されたヌクレオシド塩基の残基
を表わし、nは0または正の整数を表わす。)
[Claims] 1. A raw material for oligonucleotide synthesis represented by the following general formula [I] is condensed with a phosphoramidite reagent represented by the following general formula [II], and then the formed phosphite moiety is converted into a phosphate. A method for producing a protected oligonucleotide represented by the following general formula [III], which is characterized by being oxidized. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...[I] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...[II] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...[III] (Formula where R_1 represents a protective group or a residue of a carrier bonded via a covalent bond, R_2 represents a hydrogen atom or a hydroxyl group having a protective group, R_3 represents a protective group, and A
represents a protecting group that is eliminated by β-cleavage, and B^A^
O^C represents a nucleoside base that does not have an amino group or a nucleoside base residue whose amino group or imino group is protected with an allyloxycarbonyl type residue, and N^
A^O^C represents a nucleoside base residue whose amino group or imino group is protected with an allyloxycarbonyl type residue, and n represents 0 or a positive integer. )
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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