JPS6278748A - デジタル情報記録システム - Google Patents

デジタル情報記録システム

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JPS6278748A
JPS6278748A JP61028721A JP2872186A JPS6278748A JP S6278748 A JPS6278748 A JP S6278748A JP 61028721 A JP61028721 A JP 61028721A JP 2872186 A JP2872186 A JP 2872186A JP S6278748 A JPS6278748 A JP S6278748A
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micromirror
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アーサー・エム・ガーバー
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    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • GPHYSICS
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    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/08Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
    • G11B7/09Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
    • G11B7/0901Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following for track following only
    • G11B7/0904Dithered tracking systems

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明はデジタル情報記録システムに関する。
さらに詳しくは光学的記録及び読出し用の高性簡の記録
システムに関する。
(従来の技術) デジタル情報は多種多様の方法によって多くの種類の材
料に記録されている。広く用いられているシステムの一
つとして磁性材料でできたディスクの特定部分を磁化さ
せて記録する情報を表わすようにしている。また、主と
して記録密度が大きい場合には、レーザー光線で選択的
に処理づることによって変化させうる材料でコーティン
グした基板を使用する方法がある。−例をあげると、こ
の種の基板は、レーザー光線を集光させることによって
熱せられた箇所には低い反射率を持たせるように形成さ
れた反射面を持っている。また、逆に非反射性の吸光面
が、1984年発行「オプチカル−メモ1,1−− ニ
ーL−ズJ  (Optical Hcn+ory N
ews )の9月/10月号、14頁に記載されている
ように、レーザー光線を当てることによって反射性を帯
びる形式にしたものもある。反射面の反射率は反射面を
溶解するか変形させることにより、あるいは反射面から
材料を実際に蒸発させることによって変えることができ
る。大抵の場合、媒体はディスク形態で、情報はスパイ
ラル・トラックによって記録される。
カサイ(Kasai )に付与された米国特許第4,2
70、916号、ディル(Oil )に付与された米国
特許第4,270,916号、フィツバトリック(Fi
tzpatrick)外に付与された米国特許第4,3
79,299号、レイリー(Reilly)に付与され
た米国特許第4,314.262g−及びコムラサキ(
にomurasaki)外に付与された米国特許第4,
334,299号には、上記した種類の媒体が開示され
ている。
ディルの特許には、溝をつけたスパイラルを有するディ
スクに記録する点について記載があり、タイミングマー
クは多溝の傾斜壁面に記録されている。
カサイの特許には、デジタル情報を硫黄、セレニウム、
テルルもしくはこれらのカルコゲン化合物からなる層を
変形もしくは蒸発させるレーデ−光線に選択的に露出す
ることによって記録させる点が開示されている。配録の
速度は媒体の熱伝導性によって限定される。
フィツパトリックの特許には、デジタル書込み方法につ
いて開示されており、メチルメタクリレート・ポリカー
ボネイト等のプラスチックの基板にコートされたテルル
化カドミウム等の半々体素材の被膜が、プラスチック基
板を加熱することによってコートされた半導体を破壊し
反射面に情報の1ビットを表わす孔を生じさせる加圧ガ
ス気泡を形成する記録レーザー光線に露出される方式で
ある。情報の書込み速度は爆発を生じさせるに必要な熱
量及び記録媒体の熱伝導性によって限定される。
レイリーの特許には連続する薄い金属層によって形成さ
れた記録媒体が記載されており、データの各ピットがレ
ーザー光線のスポットを集光させて変質させることによ
って記録されている。金属層の吸光性を増すために透明
の絶縁性コーティングが施されている。
コムラサキの特許には、情報の1ビットを記録するため
に光線を集中させることによって選択的に溶解もしくは
蒸発するビスマス、金、クロミウム等の連続した金属フ
ィルムから成る記録媒体に使用するための実時間監視装
置が開示されている。
トーマス(Thomas )外に付与された米国特許第
4、380.769号には、プラスチック基板にコート
された非結晶質の連続した薄いフィルム材を熱変形させ
て情報を記録する点について記載されている。
鋭く形成されたうねによって囲まれた個々のへこみが非
結晶質フィルムに設けられている。
ムラカミ(Hurakam i )に付与された米国特
許第4、334.233号には記録媒体にほこりが付着
して発生する情報のゆがみを少なくするために基板に設
けられた防塵シールドについて記載されている。
ハーゼル(Hazel )に付与された米国特許第4、
428.075号には、同期マークがデータ記録区域と
は離れた区域に記録されるプレフォーマットされたディ
スクが記録されている。これらトラッキング及びタイミ
ングマークはデータの各ビットを表わす変質箇所から別
個のものとなっており、デジタルメモリ用に使えるスペ
ースまでも占有しており、ディスクの性能を減少させて
いる。
I4i微の浮彫り模様を有する配列を形成することは写
真分野では周知であり、イメージW!度の変化を少なく
するために用いられている。ランド(Land)に付与
された米国特許第4.366、299号及びコーワン(
Covan )外に付与された第4.402.571号
には、2つのレーザー光線の干渉パターンに二回露出さ
れるフォトレジストを使用する離間された別個の孔につ
いて記載されており、この場合−回の露出はフォトレジ
ストを形成するために基準以下である。また、ランドの
特許は写真用にシルバー・ハライドコーディングを形成
する際のワンステップとしてシルバーでコートされたピ
ーク(peak)を形成することが記載されている。こ
のランド特許によって提案された構造はデジタル情報の
記録に向けられたものではない。
ロジャース(Rogers)に付与された米III特訂
第3.019.124号には、サポートに均一の厚みで
第1の感光層をコートし、次にこのコート層を浮彫りし
てへこみ部分を介在させた組織的にかつ離間して配列さ
れた浮彫り模様を形成し、然かる侵、別のスペクトル感
度を有づる第2の光感層をコートして表面に残るへこみ
部分を隆起部分に達するまで充填することによって、写
真素子を製造する方法が開示されている。
ウィツトモア (Whitmorc)に付与された米国
特許第4,362,806号には、各種の写真素材で充
填されたマイクロベゼル(m1crovcssel )
の配列から成る写真基板が記載されている。不連続の記
録塁板を設けることによってイメージが横に広がるのを
少なくするのが目的ぐある。各マイクロベゼルは分離さ
れているどはいってもわずかな間隔しか設けてないので
情報を取り戻71橢能はない。各マイクロベゼルを隔て
ろ壁部に多少の厚みがあるとウィツトモア特許で開示さ
れた目的である連続イメージを減する。記録は広い範囲
にわたって行なわれ、マイクロベゼルの壁部は写真イメ
ージが横に広がるのを防止するために使用されている。
ウィン]〜[アt、太デジタルフォーマツ1−に情報を
読み取るため写真素子を電子的に走査することを提案し
ている。また、ウィツトモアはレーザー光線ぐ走査する
ことによってマイクロベぜルを変化させ、選択されたマ
イクロベぜルの特性を溶解、昇華もしくは粘度変更覆る
ことによって変化させる点について述べている。ウィツ
トモアのマイクロベゼルは光学的に読取り可能な情報を
得るために原板処理を必要とする。
(発明の概要) デジタル記録装置は、この発明の一実施例では、変化し
ない状態で[マイクロミラーJと称する権微のミラー而
である、離間状に配設され、個々に変化を起すことが可
能な記憶素子が、支持基板の基準面から離間した面に規
則的に配列されている。
各マイクロミラーは基板から突出した突起に支持されて
いるので各マイクロミラーは各突起間の谷部ずなわち凹
陥部によって分離されている。各マイクロミラーは個々
に光学的に変化して1ビット以上の情報を記憶すること
ができる。基板は相当量の厚みを有しほこりの粒子の作
用を最小限にする透明層によって汚染から保護されてい
る。マイクロミラー列は記録装置によって走査され、し
かる侵さらに処理することなく、読取り装置によって走
査される。
情報は選択されたマイクロミラーの反射率に変化を生じ
させることによって記録され、これは例えば、選択され
た各マイク[1ミラーの表面にミラーの反射率を署しく
減少させる強さの赤外光線をあてることによって?jな
われる。各マイクロミラーには2つ以上のレベルの反射
率が与えられているので1つ以上のデジタル情報のメモ
リ一部となる。
各マイクロミラー列は規則的に離間させであるので、記
録・読出し前及び記録・読出し中にトラッキング及びタ
イミングの両方のマーカーとしての役割を果たすことが
できる。実質的に、媒体自体が走査装置の光学エンコー
ダーの作用をしている。こうした構成により、走査速度
に変化を与えることが可能であり、往復走査方式が採用
されているとぎは特に有利である。マイクロミラー1.
1、最大反射方向に沿って光線を集光させることによっ
て、記録及び読出しの両用に走査経路を制御2Ilする
のに用いることかできる。
規則的に離間して配列された反射性マイクロミラーを使
用することにより、記録を開始づ゛る前に記録媒体に欠
陥がないか検査し品質を劃することが可能となる。この
ため、実際に使用するときは、所望の反射率を右する突
起に記録しそこなう可能性が少なくなり、記録ブ[1セ
スをt−ニタリ−る必要はなくなる。
露出されたマイクロミラーの反射率の減少は、ミラーの
コーティング自体を変化させるかもしくはミラーを支持
する熱可遡性突起を変形させるに充分なエネルギーが吸
収されることによって生ずる。記録されたマイクロミラ
ーの反射率は好ましくは零まで減少させず、記録された
マイクロミラーであることを容易に区別できる程度にと
どめ、この場合、記録されたマイクロミラーの反射率は
マイクロミラーを分離する谷部の反射率よりも大きけれ
ばよい。
本発明の別実施例では、マイクロミラーは透明な基板の
第1面に離間状に設けられた凹陥部の底面上に形成され
ている。基板の第2面から見た場合、凹陥部がマイクロ
ミラーを支持する突起の役割をする。記録及び読取り光
線は基板の第2面を介してマイクロミラーに集光される
また、本発明の好適な実施例では、記録された媒体はマ
イクロミラーの列全体に沿って直線状に移動され、その
間、横方向に小さく揺動する読取り光線が記録された媒
体の横方向の位置を確認して、読取り光線が概して走査
されるマイクロミラー列の(まぼ中心を探知するように
している。マイクロミラー列の端から端に至る各直線状
の走査の終端において、記録された媒体は横方向に一列
分だけ移動され、ついで反対方向に直線状に移動される
。このようにマイクロミラーを配列したことにより、あ
る特定の読取り手順の選択において選択幅を広く取るこ
とが可能となる。
(実施例) 次にこの発明の一実施例を添附の図面を参照して説明す
る。
なお、図面は一定の縮尺で描かれておらず、説明のため
、様々な部材が誇張して示しである。また、これらの図
において同様な部材は同一番号で示し、あるいは同一番
号に識別用の添字を何して示しである。
第1図〜第3図に示すように、本例では2で示した記録
媒体は、約2インチX約3.5インチの長方形のプラス
チック製カードの形態を成しており、8000メガビッ
ト以上のデジタル情報を記録可能となっている。この記
録媒体2は基板すなわちベース部材4を有しており、基
板4はその一面から突出する微小の突起すなわちメーサ
8により各々支持されて等間隔に配置された列状のマイ
クロミラー6を有している。突起すなわちメーサ8は例
えば熱可塑性プラスチックにより形成された基板4の一
部に一体で形成されており、10で示した谷部により互
いに隔てられている。
マイクロミラー6を支持する突起すなわちメーサ8は隣
合うマイクロミラー間の断熱性の提供と、マイクロミラ
ー間における谷部10の形態の光吸込域の提供との二つ
の機能を提供する。基板4上方の突起8の高さは厳密な
ものではないが、一般に0.5〜2.5マイクロメート
ルである。本例の突起8は列状に配置されて、各マイク
ロミラー列沿いに各々2マイクロメートル毎で一つの記
憶素子を提供している。
基板4の厚さは厳密なものではないが、突起8の高さの
100倍もしくはそれ以上のオーダーである。マイクロ
ミラー6は平面状をなしており、レーザー光線を反射可
能な材料から形成されている。各マイクロミラー6は記
録媒体からのデータの読み出しに利用される周波数の光
について鏡として有効に機能できる十分な大きさと平面
度を備えている。これらのマイクロミラーは各突起8の
上部にコーティングにより形成された、充分なエネルギ
ーを吸収可能な反射材料層で、低エネルギーのレーザー
光線により約1ミリセカンド以下の照射でマイクロミラ
ーの反射率を大幅に減することが出来るものである。好
ましい鏡コーティング材料としては金と二酸化珪素の複
合体がある。マイクロミラー6は可能な限りフラットな
ものでなきである。この目的のため、読取りに利用され
る入射光の20〜25%あるいはそれ以上を反射可能な
鏡を゛フラットミラー′°と定義する。各マイクロミラ
ーは、例えばレーザー光線のような集中エネルギー源に
対する照射による変動を部外に検出可能であり、これは
変動が照射とほぼ同時に生じ、写真その他の間接法にお
いて必要な以降の処埋無く検出される事を意味している
マイクロミラー6は第1図に示したような規則的な列を
形成するのが好ましい。この規則的な列とは記4a素子
が平行列状で等間隔に配置されており、その平行列が列
中の隣合う記憶素子間の距離と等しい距離で隔てられて
いるものをいう。このような構成によって、記録媒体は
それへの記録に先立ち、表面を非反射率減少性のレーザ
ー光線で走査して各マイクロミラーからの反射率を測定
でることにより、欠陥テストを行なうことがて・きる。
マイクロミラーの反射および吸収能は突起8のコーティ
ング材料の位の関数であるので、各マイクロミラーの反
射率に問題がなければ記録媒体が正確な記録を行える信
用度の^い記録を行ないうろことが証明される。このよ
うな前テストにおいては反Ql率と同様、物理的な状態
が各マイクロミラーについて確認される。この確認は例
えば光線の走査速度に関するカウント装置によるマイク
ロミラー間の距離の確認のような所望の走査方法で行な
うことかできる。
マイクロミラー6はイれぞれ1ビットの情報に対応して
いる。情報の各ビットのサイズは記録に先αも測定され
、情報の各ビットの位置やサイズを決定4−るのは記録
装置て゛はない。このような構成により、マイクロミラ
ー6は前テス1へ、記録、及び読み出し用の追跡ガイド
をそれ自身で提供している。記録時のレーザースポット
のサイズの変化には許容度が不要であるので、データを
最大の密度で収容することができる。従って、マイクロ
ミラーの而でのレーザー光線の焦点域に訂される許容度
は、記録された各ビットの位置やサイズがレーザー光線
の作用によって決定される構成に比べて大きくなる。各
マイクロミラーの面の最大寸法は1〜2.5マイクロメ
ートルであるのが好ましく、最小寸法は読取りに利用さ
れるレーザー光線の波長以下に設定すべきである。特殊
な用途において、マイクロミラーのサイズは1マイクロ
メートル以下あるいは2.5マイクロメートル以上にな
ることもある。記録密度が重要どなる多くの用途におい
て、マイクロミラーの面積は0.7〜約5平方マイクロ
メートルであるのが好ましい。
また突起8間の距離はマイクロミラーの面の寸法よりも
過小にならないようにするのが好ましい。
マイクロミラー6の反射面は円形、正方形、長方形その
他所望の形状とすることができる。しかしながら、以下
の例から結論されるように、平行列で等間隔に配置され
たほぼ円形の反射面を規則正しい列状に設けるのが都合
がよい。各マイクロミラーは使用される特定のレーザー
光線の少なくとも20%を反射する反(ト)率を本来有
するのが好ましい。レーザー光線をあてて反tJj能を
減じた侵の反射率は20%よりも大幅に小さくなり、も
しくは少なくとも元の鏡面の反射率よりもの大幅に小さ
くなるのが好ましい。
多くの一般的な用途向けの一システムにおいては、1マ
イクロメ−1ヘル径の円形マイクロミラーが1マイクロ
メートル間隔で配置され、記録レーザー光線はマイクロ
ミラーを毎秒約2メートルの速度で走査して1メガビッ
ト/秒でデータを記録できるように構成される。速いデ
ータ記録速度が望まれる場合にはより速い走査速度が利
用される。
マイクロミラーは最大の記録能を得るため列中に出来る
だけ密に間隔を置いて配置されるのが好ましいが、各マ
イクロミラーの寸法は利用される光の波長において鏡と
して機能するに充分な大きさでなくてはならず、また各
マイクロミラーは記録もしくは読み出しレーザー光線が
二つのマイクロミラーをまたぐことのないように充分な
距離で隔てられていなければならない。
具体例 以下の説明は本発明を具体化した記録媒体の準備段階の
一例に関するものであり、テーバ状突出部を備えた中心
間隔約2マイクロメートルの正方形平底列(第4図、第
5図および第6図参照)を有するフォトレジストによる
浮彫りパターンが次のようにして準備された。まずポジ
ティブフオトレジス1へ(マサチューセッツ(Mass
achusetts) 。
ニュートン(Newton)のシラブリー・カンパニー
・インコーホレーテッド社(Shipley Comp
any、 Inc。
)製の5hipley AZ−1450J)がガラス板
ニWtマー(クロメ−ドルの厚さまでスピンコーティン
グされた。
次いでガラス板にガラスプリズムを利用して光線を分割
し、半割部分を再び組合せるアルゴンレーザー干渉パタ
ーンを照射し、フォトレジストターゲットに間隔を置い
た一連の平行干渉ラインを形成する。このような照射は
ガラス板を通じて行なわれるので最下層のフォトレジス
トが最も照射を受ける。
三分間の照射後、ガラス板は90°回転されて1976
年8月刊のオプティックス・コミュニケーションズ誌(
Optics Com5unications)第18
巻ナンバー3第295頁に記載されたような二次時間(
Second tile)で照射が行なわれた。ガラス
板は次いでSh t p l ey現像液中で20秒間
現像された。
第4図は約45°の斜方から見たフォトレジストパター
ンの10,0OOXの倍率の走査電子顕微鏡写真の模写
である。この電子顕微鏡写真には隣合う突起間において
部分的に食刻された鞍状点が現れており、照射がフォト
レジストの現像の初端を越えて行なわれたことが示され
ている。写真にはまたラインの交差部においてフォトレ
ジストの食刻がガラス板の表面までに至っていることが
を示されている。このように形成された平面は光学記録
媒体の反射マイクロミラーの平面基礎を提供するもので
あるため重要である。
上記のようにして準備されたフォトレジスト板からニッ
ケルの型が形成された。このプロセスは1984年3月
刊のナショナル・ジオグラフィック誌(Nationa
l Geographic)第373頁に説明されてい
る。元のニッケル母型から二番目のニッケル製電鋳型が
形成された。この二番目のニッケル型はフォトレジスト
板に相当する形状を有しており、プラスチック板をエン
ボスすることによりパターンを複製するためのスタンパ
として機能する。
以上のようにして作られたニッケル製スタンパによって
塩化ビニル樹脂シートをライスコンシン(WiSCOn
Sin) 、メノモニー・フォールス(Henomo−
nea Falls)の7レツド・シー・カーバー・イ
ンコーホレーテッド(Frcd C,Carver、 
Inc、)W造のカーバー・ラボラトリ−・プレス(C
arver Laborat−ory press)、
 −EデルC(ModeI C)によりエンホス加工す
ることで上部が平面状のプラスチック突起の列が形成さ
れた。ニッケルスタンパは付形面を上にしてプレス下段
の鉛シート上に載置された。
カリフォルニア(California)、サン・ディ
エゴ(San DiegO)のライドアウト・プラスチ
ックス社(Ridout Plastics) ’fJ
の10ミル厚の光沢を有する黒色塩化ビニル樹脂がニッ
ケルスタンパ上に載せられた。圧力は20.0OOpo
undsまで上げられ、下側の加熱ユニットは250″
Fまで昇温された。
上側プラテン内のヒーターによる加熱は行なわなかった
が、下側ユニッ1−からの熱が鉛、ニッケル及び樹脂に
通された。上部プラテンの温度計の読みが200°Fに
なったとき下側のヒータが切られ、20.000pou
ndsの圧力が保たれた状態で冷却が行なわれた。上部
ユニットの温度が150°Fまで降下したとき圧力が解
除されて、塩化ビニル樹脂がニッケルスタンパから剥が
された。エンボス加工された塩化ビニル樹脂には明瞭な
回折パターンが見られた。第5図は約45°の斜方から
見たエンボス加工後の塩化ビニル樹脂の10.0OOX
の倍率の走査電子顕微鏡写真の模写である。
次いで工・ンボス加工された塩化ビニル樹脂の表面に反
射性材料がコーティングされた。この材料は光学読取り
装置によりマイクロミラーとして識別可能な十分な反射
能を備え、かつデータ記録時におけるレーザーのエネル
ギーを十分に吸収してプラスチック基体の溶融あるいは
歪曲を可能とする材料から選ばれた。好ましい材料とし
て【よ金と二酸化珪素とからなる金属とセラミックの複
合体がある。サーメットとして知られるこのような材料
は薄膜抵抗及びソーラーコレクターのような光吸収用途
に利用されているものである。1983年刊のマグロウ
−ヒル社(Hcgra訃旧11)によるハンドブック・
オブ・シン・フィルム・テクノロジー (tlandb
ook of Th1n Film Technolo
gy)第18章第21頁にはAu−3in2システムが
説明されている。
光沢のある透明ポリエステルにコーティングされたサー
メツト層は、830 nmにおいて、同様な基体に形成
された純金層の約4倍の吸収率を有している。サーメッ
トはまたレーザー光線による反射率の変化に対し、極め
て大きな感度を有している。純金層は約5ミリワツトの
パワーレベルにおいて数マイクロセカンドのパルスに対
し何の応答も示さなかった。サーメットコーティングは
同様な条件で1マイクロヒカンド以下のパルスにより大
きな反射率変化を示した。
最後に、先に説明したエンボス加工された塩化ビニル樹
脂にサーメッ1−がスパッタリングによりコーティング
された。こうしてできた記録媒体は同様な5ミリワツト
のパワーレベルに33いて0゜3マイクロセカンド以下
のパルス間隔で顕著な反射率変化を示した。
第6図はエンボス加工された塩化ビニル樹脂にAu−3
+Ozでできた個々に変化可能なマイクロミラーの列を
設けた記録媒体のサンプルの写真の複製示す。この写真
はスクリーン上に約1750Xの倍率で写すことのでき
る光学装置に取付けたテレビモニターからとったもので
ある。底部近傍の列中のマイクロミラーの幾つかには8
30nmのダイオードレーザ−から約5ミリワツトのパ
ワーレベルにJ5いて0.5マイクロセカンドのパルス
が照射された。黒いスポットがレーザーパルスに対しr
、極めて低い反射を示した部分として明瞭に1」視され
る。
本テストに43いて、記録用レーデ−光線への応答はマ
イクロミラーの列間て゛はなく列に沿ってのみvノられ
た。レーザー光線をマイクロミラーの一部にのみ照射し
た場合でも、幾分緩慢にではあるが全体のマイクロミラ
ーが溶融し、あるいは歪曲する。記録されたスポットの
サイズや位置はレーザースポットのサイズや配列の変化
にさほど敏感ではないので、このような特性番よ光学的
なデータ記録において極めて有利なものである。
記録媒体に記録されたデータの読み出しにあたり、照射
を三つのレベル間に分けることが出来るようにするのが
望ましい。これらのレベルの一つは元の反射率を保つ未
処理のマイクロミラーに代表されるレベルであり、もう
一つはレーザー光線により処理されてその反射率を滅じ
たマイクロミラーに代表されるレベルであり、また一つ
は突起8間の谷部10により代表される反射率である。
突起間の領域にはマイクロミラー6の面内における反射
面を有しないので、反射光は光線の焦点以外の位置にお
ける分散により減少する。突起間の記録媒体2の未処理
の部分は、その谷部にスパッタリングにより形成された
鏡コーティング材料が幾分デポジットされているとして
もマイクロミラー6部分よりも低い反射率をもともと有
している。
従って、一般にマイクロミラー6の反射率を完全に除去
することは望ましくないが、未処理のマイクロミラーと
即座に区別するに十分なだ【プ減することが望ましい。
これにより記録済みのマイクロミラーが追跡及びタイミ
ングマーカーとして引き続き機能することができる。本
例において、未変化のマイクロミラーは830nmで2
0%以上の反射率を有し、1平方マイクロメートル当た
り約3.2ナノジユールのレーザーパワーにより所望の
吊のコーディングを行なった鎖の反射率を十分に減する
ことができる。より高い記録エネルギーが必要な場合に
はだの他の種類あるいは渋の鏡コーティングを利用でき
るが、このようなマイクロミラーは1平方マイクロメー
トル当たり200ナノジユールを越えない集中エネルギ
ーの照射により反射率減少するものであることが望まし
い。
また、鏡の面を他からの影響で酸化、変色、曇りを生じ
ないようにすることが重要である。また、鏡の面へのが
その他の汚染物による影響が最小限となるようにづ゛る
ことが重要である。これらの理由により、第7図中12
で示した透明材F1層が突起8を覆っている。この透明
材料層12はポリ1ステル、ポリカーボネートその他の
透明プラスチックで形成されC突起8に接して35す、
かなりの厚さく突起8の高さの100倍もしくはそれ以
上)を有しているのて゛、記録時あるいは読み出し時に
突起8にレーザー光線が集光する際、収束づるレーザー
光線は透明材料層12に入った所の広い範囲を覆うこと
から、透明材料層12の表面の便粒子の影響が少なくな
る。
オイルのような液体の充填剤14が谷部10に充填され
ており、マイクロミラーの面と透明材料層12との間に
入り込む空気を排除している。この充填剤14は透明材
料層12を形成するプラスチックの屈折率に近似した屈
折率を打するものを選んで、レーザー光線の望ましくな
い反射を排除するのが好ましい。充填剤14は液体状態
をN侍しあるいは触媒を伴う液状プラスチックから形成
されて充填の後に固化されるものでもよい。またこれら
に代えて、充填剤は紫外線硬化ポリマーであってもよい
。充填剤の組成がどのようなものであれ、充填剤には赤
外線吸収顔料を加えて谷部10からの反射を一層減する
ことが好ましい。このような顔料は従来周知である。
一般に、所定のマイクロミラーの反射率を変えることに
よるデータの記録により、各マイクロミラーは二つの状
態、ずなわら、マイクロミラーが鏡として入射光を反射
する状態と、成るあらかじめ定められたレベル以下の反
射率を有して鏡とは見なすことのできない状態のいずれ
かしかとりえない。例えば、各オリジナルのマイクロミ
ラー6はMみ出しに利用されるレーザー光線の周波数に
おいて40〜45%の反射率を有して構成できる。
レーザー記録光線の強度の第ルベルは一つのマイクロミ
ラーの記録時間中に反射率が25%と35%の間に減す
るよう調節される。他の状態を記録するため、記録レー
ザー光線の強度はその照射時間中に反射率が10%と2
0%の間に減少するよう増加される。個々のマイクロミ
ラーはこのようにして三つの情報のしるし、すなわち、
(1)鏡が45%と55%の間の完全な反射率を保つ、
(2)反射率が25%と35%の間である、(3)反射
率が10%と20%の間である、のいずれか一つの記録
に利用される。谷部10の反射率はほぼ10%以下の値
を取るようにして、最小の反射率を備えたマイクロミラ
ーでもタイミング及び追跡ガイドとして利用できるよう
にする必要がある。
変型例において、記録媒体とこれを覆うプラスチック製
の保護シートとは一体構造に形成される。
第8図に示したように、記録媒体2aの形成に利用され
るスタンバは第1図〜第3図に示した記録媒体の形成に
利用されるスタン−バと逆になる。この例において、突
起8aは透明熱可塑性プラスチックで形成された基板4
aの第1面16に凹陥部として形成される。マイクロミ
ラー6aは凹陥部を有する面に鏡コーティングのスパッ
タリングを行なうことで形成される。従ってマイクロミ
ラー6aは凹陥部の底部の平面上に形成されることとな
る。しかしながら、矢印18で示した反対側から見た場
合、凹陥部は平坦な上部にコーティングされた鏡を備え
た突起として現れる。マイクロミラー6aは矢印18方
向からプラスチック製の基板4aを通って入射される記
録及び読み出しレーザー光線を受ける。このような構成
では、マイクロミラー6aが基板材料に密接して反)j
而を汚染から防止する優れた保護部が提供される。この
ような構成のらう一つの利点は製造プロセスにおいて谷
部10aの底部を形成する基板4aの露出面16にたま
たまスパッタリングされた反射材料を摩剥によって完全
に除去できることである。凹陥部間基板4aの底面に光
吸収材料層を設けてマイクロミラー間の谷部10aを実
質的に非反射状態としてもよい。プラスチック材料の基
板4aは先の例において別体のものであった透明材料層
12に置き換えられている。プラスチック材料の基板4
aはレーザー光線が入射する露出面から面16側の谷部
10aの底部に至り連続しており、屈折率変化による乱
反射を生じない。
記録媒体2もしくは2aの記録もしくは読み出しを行な
うための一つの走査方法が第9図に示しである。例えば
ダイオードレーザ−のような可干渉光の光源22から発
生した光線24は」リメーティングレンズ及びアナモル
フィックプリズム(図中両者を総じてコリメーティング
レンズ16として示した)によりまず均一にされ、次に
対物レンズ32を通ってマイクロミラー6に集光される
。図中破線28で示した鏡面内の光線の最大寸法は個々
のマイクロミラーの横所面積を越えず、ともかくも成る
マイクロミラーを隣合う他のマイクロミラーから区別す
るに十分な小ささを備えているのが好ましい、同fiな
光学システムを記録と読み出しの双方に利用できる。マ
イクロミラーから反射したレー(r−光線はビームスプ
リッタ20により36で示したオプティカルディテクタ
に向けられる。
記録媒体2を走査する一つの方法としてはレーザー光線
を一つのマイクロミラー+IIIを横切って記録媒体2
の一端から他端へと移動させる方法がある。レーザー光
線は各列の端部においてマイクロミラーの次の列に移動
してその列を反対方向で走 □査する。第1図に示した
ように、マイクロミラーの第1列は記録媒体2の一端か
ら他端に向けてラインaに沿って走査される。走査光線
は次に横に動いて次の列に移り、ラインbに沿って反対
方向に走査する。走査光線はさらに再び横に紡いてマイ
クロミラーがラインCに沿って走査される。しかしなが
ら、好ましい方法としては第10図に示したように斜方
に走査して′!l続するマイクロイミラー間の距離を増
すことによりSN比を改善する方法がある。規則正しい
列を形成するマイクロミラーの等間隔配置列は破線d及
びCで示しである。
一方、レーザー光線24の走査]・ラックtまラインf
、(J及びt)に沿って連続しており、これらのライン
はラインd及びeのような規則正しい列を形成するマイ
クロミラーの平行列に対し斜めになっている。ラインf
の列の端部において走査が停止され、ここから走査位置
であるラインg位茸まひ矢印jの方向に横に初かされる
。各列に関4る++r端コードがあらかじめ記録されで
おり、これが記録及び読み出しシスj゛ムにより読み出
されて、適当な位置で次の列のマイクロミラーへの走査
移動を引起こす。
上記の列に沿う走査動はレーザー全体及び光学装置を妨
かすことでも記録媒体2を紡がすことでも行なうことが
できる。本例において記録媒体2の質Mはレーザー及び
光学装置の質最に比して僅かなものであるため、記録媒
体2を動か4−はうが有利である。走査速度に変化を与
えるような往復走査動はマイクロミラーの規則的な配列
により実現可能であり、記録及び読み出し双方の間のタ
イミンクをコントロールするのに利用される。レーザー
光線の成るマイクロミラー列から次の列への横方向の移
動は各マイクロミラー列の走査端においてレーザー22
及びそれに関連する光学装置を側方に動かすことにより
行なうことが好ましい。
このような横方向への動きは記録媒体を動かしたり、レ
ーザー光線を偏向させたり、あるいはこれらを組合せる
ことでも可能であり、例えばレーザー光線を従来周知の
方法で偏向させて所定数の列の走査に適合させ、次いで
光線の偏向を元に戻して記録媒体を同様な数の列の分だ
け側方に初かずことで行なうことができる。
レーザー光線もしくは記録媒体2あるいはこれらの双方
の走査中の位置はマイクロミラーを追跡ガイドとして利
用することで制御される。各マイクロミラー列の走査の
間、光線14は検流計作動式の鏡もしくはその他の周知
機構により、データレートよりもかなり低い振動数で、
集光点における一つのマイクロミラーを横切る距離より
も幾分小さな距離だけ横方向に振動する。このような走
査動の横芳香の釦用が第11図中に破線38及び42で
中央線kに沿う走査進行に関し示しである。
横方向の走査の大きさはマイクロミラーのサイズ、走査
スポットのtナイス、及び隣合うマイク1コミラ一間の
距離に依存する。反射光の強度はオプティカルディテク
タ36の一部を構成する1−ラッキングコントロール機
構により、振動方向の変化前に多数のマイクロミラーに
関して平均化され、トラッキング精度が改善される。こ
のよ・)な1−ラッキングコントロール機構によって光
IQ24は走査中のマイクロミラー列の中心位置に保た
れる。偏向例えば図中44で示した右方への9−向が行
なわれた反射光の強度が逆方向へ等距tB偏向された時
の平均強度よりも小さい場合、光線24は左方側に調整
されてマイク【コミラーの中央線により近付けられる。
所宇により、集光面内の光線24の面積は、それが同時
に二つのマイクロミラーの一部にさえら及ばない限り、
一つのマイクロミラーの反射面積よりも僅かに大きくす
ることができ、それによって、走査されるマイクロミラ
ー列の中央線に対し読み出し光線が多少ずれていても各
マイクロミラーの反射率を検出できる。
記録に先立ち、記録媒体2は低い強度のレーザー光線2
4で走査されて、すべてもしくはほとんどすべてのマイ
クロミラーが所要の反射率を有しているかどうかが測定
される。記録媒体2に欠陥すなわち以下で説明する「フ
ェンスオフ」される欠陥がないことが証明された後、レ
ーザー光線24による永久記録が行なわれ、このレーザ
ー光線24はオプティカルディテクタによって突起8の
面の反射マイクロミラー6の存在を測定可能とするに十
分な強度の第ルベルと、光線が照射されたマイクロミラ
ーがその反射率を減するに十分な強度の第2レベルとを
有している。このようなレーザー光1a24の強度は記
録されるべき情報に従ってマイクロミラーの反射率が減
することで記録が行なわれるに伴って調整される。
レーザー光[124はオプティカルディテクタ36によ
り光線がマイクロミラーに集光していることが示される
限り低い強度すなわち読み出し強度で作用する。記録さ
れるべきデジタル情報により特定のマイクロミラーを反
射率減少する指示が与えられるとレーザー光線は1マイ
クロセカンドもしくはそれよりも短くマイクロミラーを
反射率減少するに十分な時間光せられる。このような特
定のマイクロミラーが反射率減少されるべきでない場合
、レーザー光線は低い非反射率減少強度に切替わってマ
イクロミラーの反、対重を元どおりに保つ。
ここで、反射率の減少とは反射率が記録用強度でレーザ
ー光線24を照射されたマイクロミラーと元の反射率を
保つマイクロミラーとの差異がオプティカルディテクタ
36により測定可能なほど十分に降下することを意味す
る。
記録に先立つ検査において欠点が僅かでも示された場合
、欠点を有するマイクロミラーの列が「フェンスオフ」
される。すなわち、欠点を有する特定の列が特殊なコー
ドでマークされ、これによって記録および読み出しの双
方に利用される走査機構がすぐさま次の列にジャンプし
て記録媒体の欠陥域の走査をオミットする。欠陥の数が
限られたものであれば記録容恐のロスはたいしたものに
はならない。また、様々な領域でデータを過剰に記録す
るデータ訂正コードを利用することによって記録媒体の
欠陥を克服することができる。
上記に詳細に説明した実施例において、記録媒体は10
〜15ミルを越えない厚さの小さな長方形状に形成され
ており、往復走査方式に良く適合するものとなっている
。しかしながら、記録列はドラム、ディスクあるいはテ
ープの形態としても良く、走査方式は往復式でも連続式
でも良い。記録媒体はフラットに形成して回転ドラムに
固定し、もしくは他の形状にして記録および読み出しを
行なわせるようにしても良い。記録媒体の較正面すなわ
ち露出面の一方は、すべての位置において二つの面が同
様な距離隔たっているかぎり、両面が湾曲していようと
いまいとマイクロミラーの面と平行になっていると見な
すことができる。
【図面の簡単な説明】
図はこの発明の一実施例を示すもので、第1図は記録媒
体の小区画部分を示した概略拡大平面図・第2図は第1
図の2−2線に沿う断面図、第3図は第1図および第2
図に示した記録媒体の部分斜視図、第4図は第1図〜第
3図に示した記録媒体を10,000倍に拡大した走査
電子顕微鏡写真の模写、第5図は記録媒体を製作する際
に使用される塩化ビニル樹脂製の型押し層の走査電子顕
微鏡写真の模写、第6図はビデオスクリーンから 1,
750倍にしてとった記録媒体のビデオイメージの写真
の模写、第7図は透明の防護シールドを有し各ミラー間
の谷部に充填剤が込められた状態を示す第1図〜第3図
に示された媒体の断面図、第8図は防護シールドと基板
がプラスチックの一枚の板から一体状に形成された状態
の別の実施例の記録媒体の部分断面図、第9図は媒体に
対して古き込み読取りを行なうためのレーザー光源と関
連光学装置および検出装置を示iJ概略図、第10図は
古き込みおよび読取りの両方に好適な走査順序を示す概
略説明図、第11図は古き込みJ″3よび読み出し時の
トラッキングを行なう際のマイクロミラーの使用状況を
示す説明図である。 2,2a・・・記録媒体 4.4a・・・基板 6.6a・・・マイクロミラー 8.8a・・・突起 10.108・・・谷部 22・・・光源 24・・・光線 36・・・オプティカルディテクタ 出願人 アーサー・エム・ガーバー 代理人 弁理士 岡 1)英 彦(外2名)FT″:霞
1iq 4       I−−−−q’i#、 DI
F””;lig、 6 F;iケア F=琴it7.8゜ F=マic) 10゜ F=へすii。 手続補正書(方刻 昭和61年4月30日 寺許庁長官 宇 賀 道 部 殿 2、発明の名称 デジタル情報記録システム 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 アメリカ合衆国 92122  カリフォルニア
。 サン・ディエゴ、ブランニック・プレース 2864氏
名 アーリー・エム・ガーバー 4、代理人 5、補正命令の日付  昭和61年4月22日(発送日
)6、補正の対象 (1)代理権を1する裏面 (2)図面 7、補正の内容 別紙のとおり 8、添附よ類の目録 (1)委任状とその訳文             各
1通(2)浄よした図面(内容に変更なし)     
  1通手続ネfl)上書(6式) 昭和61年特許願第028721号 2、発明の名称 デジタル情報記録システム 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 アメリカ合?i  92122  カリフォルニ
ア。 サン・デイエゴ。ブランニック・プレース 2864氏
名 アーリー・エム・ガーバー 4、代理人 住所 名古屋市中区栄二丁目10番19号(発送日 昭
″gI61年6月24日)明細書の図面の簡単な説明の
欄において、第50頁第4行〜第10行の「第4図1よ
・・・ビデオイメージの写真の模写」の記載を以下のと
おり補正しまず。 [第4図は本発明に従って製作された実際の記録媒体を
10,000倍に拡大してそのマイクロミラー粒子の構
造を示した走査電子顕微鏡写真、第5図は記録媒体を製
作する際に使用される塩化ビニル樹脂製の型押し層の組
織構造を示した走査電子顕微鏡写真、第6図は本発明に
従って製作された実際の記録媒体をビデオスクリーンか
ら t、75o(8にしてとってマイクロミラー粒子の
構造を示したビデオイメージの写真」

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)基板及び記憶素子を有する記録媒体と、前記記憶
    素子に対して直ちに変化を与えうる強度のレーザー光線
    を発生させるレーザー光源と、前記レーザー光線を前記
    各記憶素子上に集光させうるように配置された走査装置
    と、記録されるデジタル信号に応じて、前記レーザー光
    線を調整しうるように配置された調整装置とから成り、
    前記記憶素子が離間状に規則的に配列されるとともに直
    ちに検出可能な変化を起すことが可能であり、かつ前記
    各記憶素子は少なくとも1ビットのデジタル情報を記録
    可能であることを特徴とするデジタル情報記録システム
    。 (2)前記走査装置が、前記レーザー光線を個々の記憶
    素子上に連続的に集光させうるように配置され、前記調
    整装置が、前記レーザー光線の強度を、記録される情報
    に応じた2つの強度レベル間で変化させうるように配置
    され、かつ前記一方のレベルは、前記走査装置による走
    査の結果として、前記一方の記憶素子に対して検出可能
    な変化を直ちに発生させうる強度を有し、前記他方のレ
    ベルは前記走査装置による走査の結果として、前記他方
    の記憶素子内に著しい変化を発生させない程度の強度を
    有することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のデ
    ジタル情報記録システム。 (3)前記レーザー光源がダイオードレーザーであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のデジタル情
    報記録システム。 (4)前記各記憶素子が平坦なマイクロミラーであるこ
    とをを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のデジタル
    情報記録システム。 (5)前記基板が透明な熱可塑性のシートであり、この
    シートの第1面には凹陥部が離間状に規則的に形成され
    、前記各記憶素子が前記各凹陥部の底面上に形成されて
    いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のデジ
    タル情報記録システム。 (6)前記各記憶素子が熱可塑性基材によつて保持され
    たマイクロミラーであり、前記変化が前記熱可塑性基材
    の熱変形によって発生されることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載のデジタル情報記録システム。 (7)前記熱可塑性基材の一方の面に複数の突起が離間
    状に形成され、前記各マイクロミラーが前記各突起によ
    って保持されていることを特徴とする特許請求の範囲第
    6項記載のデジタル情報記録システム。 (8)前記各マイクロミラーの最大面寸法が約1マイク
    ロメータないし約2.5マイクロメータであることを特
    徴とする特許請求の範囲第6項記載のデジタル情報記録
    システム。(9)前記各マイクロミラーの変化前の状態
    における反射率が少なくとも20%であることを特徴と
    する特許請求の範囲第6項記載のデジタル情報記録シス
    テム。 (10)前記各マイクロミラーが金属含有フィルムであ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第6項記載のデジタ
    ル情報記録システム。 (11)前記記録装置がプラスチックシートであり、こ
    のプラスチックシートには突起が一体状に形成され、前
    記突起は離間状に規則的に配列されるとともに各突起に
    は前記各マイクロミラーが保持され、前記各マイクロミ
    ラーは1平方マイクロメータ当り200ナノジュール未
    満の単一パルス指向性エネルギーによつて破壊され、1
    ビットのデジタル情報を記録することを特徴とする特許
    請求の範囲第6項記載のデジタル情報記録システム。 (12)前記各マイクロミラーが、その変化前の状態に
    おいては、20%ないし55%の反射率を有し、変化後
    の状態においては、変化前の状態よりも若干低い反射率
    を有し、低い反射率を有する前記マイクロミラーの数及
    び位置は記録装置に記録されるデジタル情報の関数であ
    ること特徴とする特許請求の範囲第6項記載のデジタル
    情報記録システム。 (13)前記マイクロミラーが平行な列状に規則的に配
    列され、前記走査装置が前記列を交互に対向方向に連続
    的に走査できるように配置されることを特徴とする特許
    請求の範囲第6項記載のデジタル情報記録システム。 (14)前記走査装置が前記列に対して斜めに交差する
    平行なうインに沿つて走査できるように配置されること
    を特徴とする特許請求の範囲第13項記載のデジタル情
    報記録システム。 (15)前記各マイクロミラーが金属含有フィルムであ
    り、その反射率が少なくとも20%であり、かつその最
    大面寸法が約1マイクロメータないし約2.5マイクロ
    メータであることを特徴とする特許請求の範囲第13項
    記載のデジタル情報記録システム。 (16)前記基板が基準面を有し、この基準面上に離間
    状に規則的に配列された突起が形成され、かつ前記各突
    起によつて前記各マイクロミラーが保持されることを特
    徴とする特許請求の範囲第15項記載のデジタル情報記
    録システム。 (17)前記記録媒体が前記マイクロミラーに密着させ
    て取付けられた透明層を有することを特徴とする特許請
    求の範囲第16項記載のデジタル情報記録システム。 (18)離間状に配列された記憶素子を有する基板より
    成るデジタル情報記録装置であって、前記各記憶素子は
    、1平方マイクロメータ当り200ナノジュール未満の
    単一パルス指向性エネルギーによつて、直ちに検出可能
    な変化を起すことが可能であり、これによつて1ビット
    のデジタル情報を記録し、かつ前記指向性エネルギーに
    よつて変化を起す各記憶素子の特定部位は、エネルギ付
    与前に予め限定されることを特徴とするデジタル情報記
    録媒体。 (19)前記基板が透明な物質で形成され、その一方の
    面には離間状に規則的に配列された均一な深さの凹陥部
    が形成され、前記各記憶素子は前記各凹陥部の底面上に
    形成されていることを特徴とする特許請求の範囲第18
    項記載のデジタル情報記録媒体。 (20)前記各記憶素子がマイクロミラーであり、かつ
    これらのマイクロミラーは規則正しく配列されているこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第18項記載のデジタル
    情報記録媒体。 (21)前記各マイクロミラーの最小間隔がこれらのマ
    イクロミラーの最大面寸法に比べて小さく、かつその差
    が顕著でないことを特徴とする特許請求の範囲第20項
    記載のデジタル情報記録媒体。 (22)前記各マイクロミラーの表面積が約0.7平方
    マイクロメータないし約4平方マイクロメータであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第20項記載のデジタル
    情報記録媒体。 (23)前記ほぼ全部のマイクロミラーの反射率が、そ
    の変化前の状態において、830ナノメータの光に対し
    て少なくとも20%であることを特徴とする特許請求の
    範囲第20項記載のデジタル情報記録媒体。 (24)前記基板が可撓性の熱可塑性物質で形成され、
    かつこの基板には複数の突起が一体状に形成され、これ
    らの突起によって前記マイクロミラーが保持され、さら
    に前記突起の間には複数の谷部が形成されることを特徴
    とする特許請求の範囲第20項記載のデジタル情報記録
    媒体。 (19)前記各マイクロミラーが金属含有フィルムであ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第20項記載のデジ
    タル情報記録媒体。 (26)前記フィルムが金属と珪酸塩の複合体であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第25項記載のデジタル
    情報記録媒体。 (27)前記フィルムが金と二酸化珪素の複合体である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第26項記載のデジタ
    ル情報記録媒体。 (28)前記基板の基準面には離間状に複数の突起が形
    成され、これらの各突起によつて前記各マイクロミラー
    が保持され、かつ前記マイクロミラーは金属含有フィル
    ムであることを特徴とする特許請求の範囲第20項記載
    のデジタル情報記録媒体。 (29)前記各マイクロミラーの最大寸法が約1マイク
    ロメータを越えない寸法であることを特徴とする特許請
    求の範囲第20項記載のデジタル情報記録媒体。 (30)前記マイクロミラーの変化後及び変化前の状態
    における反射率が前記谷部の反射率よりも大きいことを
    特徴とする特許請求の範囲第24項記載のデジタル情報
    記録媒体。(31)前記各マイクロミラーの面が約5平
    方マイクロメータ以下であることを特徴とする特許請求
    の範囲第29項記載のデジタル情報記録媒体。 (32)基板を準備する段階と、指向性エネルギを付与
    されることによって、直ちに検出可能な変化を起しうる
    記憶素子を前記基板上に離間状に配列する段階と、記録
    されるデジタル情報に応じて、所定の記憶素子に十分な
    強度の指向性エネルギを付与し、前記所定の記憶素子に
    直ちに検出可能な変化を起させる段階とから成り、かつ
    前記各記憶素子のうち変化を起させる部位は、指向性エ
    ネルギ付与前に限定されていることを特徴とするデジタ
    ル情報記録方法。 (33)前記各記憶素子がマイクロミラーであり、前記
    記憶素子を配列する段階が前記マイクロミラーを複数の
    離間した平行な列に配列することより成ることを特徴と
    する特許請求の範囲第32項記載のデジタル情報記録方
    法。 (34)前記マイクロミラーには、前記各列に沿つて連
    続的に前記指向性エネルギが付与され、かつ前記エネル
    ギ付与の順序は隣接する列において逆であることを特徴
    とする特許請求の範囲第32項記載のデジタル情報記録
    方法。 (35)前記マイクロミラーがほぼ規則的に配列される
    ことを特徴とする特許請求の範囲第33項記載のデジタ
    ル情報記録方法。 (36)前記指向性エネルギの付与が前記列に対して斜
    めに交差する平行なラインに沿つて連続的に行なわれる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第33項記載のデジタ
    ル情報記録方法。 (37)前記記憶素子を配列する段階が、前記基板の基
    準面に規則的に形成された突起の上に前記各マイクロミ
    ラーを支持することより成り、前記各突起はそれらの間
    に形成された谷部によって離間されることを特徴とする
    特許請求の範囲第36項記載のデジタル情報記録方法。 (38)前記基板及びマイクロミラーより成る記録媒体
    が主に熱可塑性物質で形成されていることを特徴とする
    特許請求の範囲第37項記載のデジタル情報記録方法。 (39)前記指向性エネルギがレーザー光線であり、前
    記エネルギを付与する段階が、前記レーザー光線を前記
    所定のマイクロミラー上に集光させて、このマイクロミ
    ラーを破壊し、それによつて1ビットのデジタル情報を
    記録することより成ることを特徴とする特許請求の範囲
    第38項記載のデジタル情報記録方法。 (40)規則的かつ離間状に配列された情報記録域を有
    する熱可塑性の基板を形成する段階と、前記各情報記録
    域に反射性のコーティングを施し、規則的に配列された
    光学的可変マイクロミラーを形成する段階と、前記マイ
    クロミラーの反射率を著しく減少させることのない強度
    のレーザー光線によつて、前記各マイクロミラーを連続
    的に走査する段階と、前記各マイクロミラーによつて反
    射された光を測定し、その反射率を所定レベルの反射率
    と比較することによって、前記マイクロミラーの反射率
    異常を検出する段階とから成ることを特徴とするデジタ
    ル記録媒体の製造及び予備テスト方法。 (41)熱可塑性の基板を準備する段階と、前記基板上
    に複数の光学的可変マイクロミラーを離間状かつ平行な
    列状にコーティングする段階と、調整したレーザー光線
    によつて、前記マイクロミラーの列を、これと斜めに交
    差するラインに沿つて走査する段階とから成り、前記走
    査は、記録されるデジタル情報に応じて、2つの強度レ
    ベル間で行なわれ、高い方の強度レベルは、走査におい
    て前記マイクロミラーの反射率を破壊するのに十分な強
    度であることを特徴とするデジタル情報記録方法。 (42)対向する第1面及び第2面を有する透明な熱可
    塑性の基板を準備する段階と、前記基板の第1面にほぼ
    規則的に離間された凹陥部を形成する段階と、前記第1
    面上及びこの面に形成された各凹陥部の底面上に反射性
    のコーティングを施す段階と、前記凹陥部の底面上のコ
    ーティングのみを残して、前記第1面上のコーティング
    を除去する段階とから成ることを特徴とするデジタルデ
    ータ記録媒体の製造方法。 (43)前記第1面上に施されたコーティングが研削に
    よつて除去されることを特徴とする特許請求の範囲第4
    2項記載のデジタルデータ記録媒体の製造方法。 (44)前記第1面の前記凹陥部以外の部分に非反射性
    のコーティングを施す段階を有することを特徴とする特
    許請求の範囲第42項記載のデジタルデータ記録媒体の
    製造方法。(45)対向する第1面及び第2面を有する
    透明な熱可塑性基板と、複数の光学的可変マイクロミラ
    ーとから成るデジタル記録媒体であつて、前記第1面に
    は離間状にほぼ規則的に配列された凹陥部が形成され、
    前記マイクロミラーは前記各凹陥部の底面上に形成され
    、前記各マイクロミラーは、前記第2面を通してこのマ
    イクロミラー上に集光されるレーザー光に対して、少な
    くとも20%の反射率を有することを特徴とするデジタ
    ル記録媒体。 (46)前記各マイクロミラーは200ナノジュール未
    満のエネルギーレベルのレーザー光によって破壊可能で
    あることを特徴とする特許請求の範囲第45項記載のデ
    ジタル記録媒体。
JP61028721A 1985-02-11 1986-02-12 デジタル情報記録システム Pending JPS6278748A (ja)

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