JPS627703A - Photopolymerization initiator composition - Google Patents

Photopolymerization initiator composition

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JPS627703A
JPS627703A JP14482485A JP14482485A JPS627703A JP S627703 A JPS627703 A JP S627703A JP 14482485 A JP14482485 A JP 14482485A JP 14482485 A JP14482485 A JP 14482485A JP S627703 A JPS627703 A JP S627703A
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peroxide
photopolymerization
benzalacetophenone
photopolymerization initiator
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後藤 義隆
Kenichi Fujii
健一 藤井
Toshiya Yazawa
矢澤 俊也
Eiichi Yamada
栄一 山田
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    • GPHYSICS
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Abstract

PURPOSE:To provide the titled composition consisting of a combination of a benzalacetophenone compound having a specific structure and an organic peroxide, having extremely high photopolymerization-initiation property, capable of increasing the initial rate of polymerization in the photopolymerization of an unsaturated compound and giving a photosensitive resin having high sensitivity. CONSTITUTION:The objective composition can be produced by compounding (A) the benzalacetophenone compound of formula (R1 and R2 are H, 1-4C alkyl, 1-4C alkoxy, phenyl, phenoxy, nitro, amino or halogen) (e.g. benzalacetophenone, nitrobenzalacetophenone, etc.) and (B) an organic peroxide [e.g. methyl ethyl ketone peroxide, 1,1-bis(t-butylperoxy)-3,3,5- trimethylcyclohexane, etc.] preferably at a weight ratio of (3-95):(97-5).

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、不飽和化合物重合用の光重合開始剤組成物に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a photopolymerization initiator composition for polymerizing unsaturated compounds.

不飽和結合を分子中に含むモノマー、オリゴマー、及び
ポリマーは光重合開始剤の存在下で光重合することは曳
く知られている。またこの現象は、印刷版やプリント基
板、■C等を作製する時に用いられるフォトポリマーや
フォトレジストとして広く利用されている。
It is well known that monomers, oligomers, and polymers containing unsaturated bonds in their molecules are photopolymerized in the presence of a photoinitiator. Furthermore, this phenomenon is widely used in photopolymers and photoresists used in the production of printing plates, printed circuit boards, C, etc.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

これらに使用する光重合開始剤としては、従来から種々
の物質が報告され、実際に使用されている。例えば、ベ
ンゾイン系化合物としてペンゾイン、ヘンジインメチル
エーテル等、カルボニル化合物としてベンジル、ぺ/シ
フエノン、アセトフェノン、ミヘラーズケトン等、アゾ
化合物としてアゾビスイソブチロニトリル、アゾジベン
ゾイル等、また硫黄化合物としてジベンゾチアゾリルス
ルフィド、テシルフェニルスルフイド、テトラエチルナ
ララムジスルフィド等、ハロゲン化合物とL テ四〇 
化炭2 、トリブロムフェニルスルホン等、その他に1
,2−ベンズアントラキノンなどがある。
Various substances have been reported and actually used as photopolymerization initiators for these. For example, benzoin compounds such as penzoin and hendiine methyl ether; carbonyl compounds such as benzyl, pe/siphenone, acetophenone, and Michael's ketone; azo compounds such as azobisisobutyronitrile and azodibenzoyl; and sulfur compounds such as dibenzothiazole. Halogen compounds such as rusulfide, tecylphenyl sulfide, tetraethylnararum disulfide, etc.
Carbonized carbon 2, tribromphenyl sulfone, etc., and 1
, 2-benzanthraquinone, etc.

しかしながら、これらの光重合開始剤は未だ充分満足で
;生るものではなく、種々の不飽和化合物との光重合組
成物はフォトポリマーとして必ずしも良好な感度を有し
ているとはいえず、さらに高感度でしかも貯蔵安定性の
良好々光重合開始剤が強く要望されている。
However, these photopolymerization initiators are still not fully satisfactory; photopolymerization compositions with various unsaturated compounds do not necessarily have good sensitivity as photopolymers; There is a strong demand for photopolymerization initiators with high sensitivity and good storage stability.

°また、過酸化結合を分子中に有する有機過酸化物はヒ
ドロペルオキシド類、ジアルキルペルオキシド類、ジア
シルペルオキシド類、ペルオキシケタール類、ペルオキ
シエステル類、ペルオキシカーボネート類、等々多くの
種類、化合物があり、これらは熱によシ分解して活性な
ラジカル種を生成することは周知である。このことより
有機過酸化物は不飽和化合物の熱重合開始剤、熱重合触
媒、熱重合硬化剤、熱重合架橋剤などとして広く用いら
れている0さらに有機過酸化物は光エネルギーによって
も分解し同様に活性なラジカル81を生成することが報
告されCいる。ところがこれらは不飽和化合物の光重合
開始剤として用いるには光重合開始能が低く到底実用に
適するものではない。
°Also, there are many types and compounds of organic peroxides that have peroxide bonds in their molecules, such as hydroperoxides, dialkyl peroxides, diacyl peroxides, peroxyketals, peroxyesters, and peroxycarbonates. is known to thermally decompose to produce active radical species. For this reason, organic peroxides are widely used as thermal polymerization initiators, thermal polymerization catalysts, thermal polymerization curing agents, thermal polymerization crosslinking agents, etc. for unsaturated compounds. Furthermore, organic peroxides are also decomposed by light energy. Similarly, it has been reported that active radicals 81 are generated. However, these have low photopolymerization initiating ability for use as photopolymerization initiators for unsaturated compounds, and are therefore not suitable for practical use.

したがって重合型のフォトポリマーの光重合開始剤とし
て有機過酸化物を使用した例に従来からほとんどみられ
ない。
Therefore, organic peroxides have rarely been used as photopolymerization initiators for polymerizable photopolymers.

〔問題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

このような背景から本発明者らは鋭意研究した結果、特
定構造を有するベンザルアセトフェノン類と有機過酸化
物とを組合せたものが、極めて良好な光重合開始能を有
してお)、不飽和化合物の光重合において初期重合速度
を増大させ、これを汐゛ 用いることによ)高感度な感光性樹脂l得られることを
見出して本発明に到達した。
Against this background, the present inventors conducted extensive research and found that a combination of benzalacetophenones with a specific structure and an organic peroxide has extremely good photopolymerization initiating ability), The present invention has been achieved by discovering that a highly sensitive photosensitive resin can be obtained by increasing the initial polymerization rate in photopolymerization of a saturated compound and then using the same.

すなわち本発明は一般式(夏) で表わされるベンザルアセトフェノン類と有機過酸化物
とを組み合わせてなる光重合開始剤組成物を提供するも
のである。
That is, the present invention provides a photopolymerization initiator composition comprising a combination of benzalacetophenones represented by the general formula (Natsu) and an organic peroxide.

本発明に用いる一般式(1)でとわされるぺ/ザルアセ
トフェノ7類の例としては、ベンザルアセトフェノン、
ベンザルメチルアセトフェノ/、メチルベンザルメチル
アセトフェノン、メチルベンザルエチルアセトフェノ/
、メチルベンザルメトキシアセトフェノ/、エチルベン
ザルブトキシアセトフェノン、メトキシベンザルメトキ
シアセトフェノン、メトキシベンザルエチルアセトフェ
ノ/、エチルベンザルフェノキンアセトフェノ/、メチ
ルペンザルメトキシアセトフエノン、ベンザルジメチル
アミノアセトフェノン、ジメチルアミノベンザルジメチ
ルアミノアセトフェノン、メトキシベンザルジメチルア
ミノアセトフェノン、アミンベンザルアミノアセトフェ
ノン、ジメチルアミノベンザルメトキシアセトフェノン
、ベンザルジエチルアミノアセトフェノン、ジメチルア
ミノベンザルアセトフェノ:/、ブトキシベンザルジメ
チルアミノアセトフェノン、クロルベンザルメチルアセ
トフェノン、メチルベンザルニトロアセトフェノン、ベ
ンザルニトロアセトフェノン、ニトロベンザルアセトフ
ェノン等があり、これらを1種または2種以上混合して
使用できる。
Examples of the 7 types of pe/zalacetophenones used in the present invention with general formula (1) include benzalacetophenone,
Benzalmethylacetophenone/, Methylbenzalmethylacetophenone, Methylbenzalethylacetophenone/
, methylbenzalmethoxyacetophenone/, ethylbenzalbutoxyacetophenone, methoxybenzalmethoxyacetophenone, methoxybenzalethyl acetophenone/, ethylbenzalphenoquine acetopheno/, methylpenzalmethoxyacetophenone, benzaldimethylamino Acetophenone, dimethylaminobenzaldimethylaminoacetophenone, methoxybenzaldimethylaminoacetophenone, aminebenzalaminoacetophenone, dimethylaminobenzalmethoxyacetophenone, benzaldiethylaminoacetophenone, dimethylaminobenzalacetopheno:/, butoxybenzaldimethylaminoacetophenone , chlorobenzalmethylacetophenone, methylbenzalnitroacetophenone, benzalnitroacetophenone, nitrobenzalacetophenone, etc., and these can be used alone or in combination of two or more.

また本発明で使用される有機過酸化物は特にその構造に
限定はしないが、例えばメチルエチルケトンペルオキシ
ド、シクロヘキサノンペルオキシド% 3.3.5− 
トリメチル7クロヘキサノンペルオキシド、メチルフク
ロヘキサノンペルオキシド。
Further, the organic peroxide used in the present invention is not particularly limited in its structure, but for example, methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide% 3.3.5-
Trimethyl 7-chlorohexanone peroxide, methyl 7-chlorohexanone peroxide.

アセチルアセトンペルオキシド、1,1−ビス(を−プ
チルペルオキク)−3,3,5−)リメチルシクロへキ
サン、1.I−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘ
キサン、  n−7’チル−4,4−ビス(t−ブチル
ペルオキシ)ノくレラート、2.2−ビス(4−ブチル
ペルオキシ)ブタン、t−プチルノーイドロペルオキシ
ド、クメンハイドロペルオキシド、ジインプロピルベン
ゼンハイドロベルオキシド、パラーメンタンハイドロベ
ルオキシド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハ
イドロベルオキシド。
Acetylacetone peroxide, 1,1-bis(-butylperoxy)-3,3,5-)limethylcyclohexane, 1. I-bis(t-butylperoxy)cyclohexane, n-7'thyl-4,4-bis(t-butylperoxy)nochlorlate, 2,2-bis(4-butylperoxy)butane, t-butylneudro peroxide, cumene hydroperoxide, diimpropylbenzene hydroperoxide, paramenthane hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide.

1、1.3.3−テトラメチルブチルハイドロペルオキ
シド、ジt−ブチルペルオキシド、L−ブチルクミルペ
ルオキシド、ジクミルペルオキシド、α、α′−ヒス(
t−7’チルベルオキシイソグロビル)ぺクメン、2.
5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘ
キサン、2.5−ジメチル−2,5−シ(t−7”チル
ペルオキシ)ヘキシン−3、アセチルペルオキシド、イ
ソブチリルペルオキ’=dド、オクタノイルペルオキシ
ド、デカメイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド
、3,5.5−トリメチルヘキサノイルベルオ午7ド、
過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2.4−ジクロロ
ベンゾイルペルオキシド、メタートルオイルペルオキシ
ドジインプロビルペルオキシジカーボネート、ジー2−
エチルへキシルペルオキシジカーボネート、ジノルマル
プロビルベルオキシジカーボネート、ジー2−エトキシ
エチルペルオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロ
ビルベルオ中ジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メ
トキシプナル)ペルオキシジカーボネート、t−ブチル
ペルオキシアセテート、t−ブチルペルオキシインブチ
レート、を−プテルペルオキシビノ8レー)、t−;y
”チルペルオキシネオデカノエート、t−ブチルペルオ
キシオクタノエート、t−ブチルペルオキシ3.5.5
−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシラ
ウレート、t−プテルベルオ中ジペンゾエート、ジt−
ジペルオキシイソフタレート、2.5−ジメチル−2,
5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)へ中サン、t−ブチル
過酸化マレイン酸、t−ブチルペルオキシイソプロビル
カーボネート、3.3?4゜4′−テトラ−(1−ブチ
ルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3; 
4.4’−テトラ−(t−アミルペルオキシカルボニル
)ぺ/シフエノン、3.3:4り4−テトラ(t−へキ
シルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3?
 4.4’−テトラ(t−オクチルペルオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、a、 3? 4.4′−テトラ(
クミルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3
? 4.4′−テトラ(p−イソプロピルクミルベルオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン等があり、これらを1
種または2種以上混合して使用できる。
1, 1.3.3-tetramethylbutyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, L-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, α, α'-his(
t-7'tilberoxyisoglobil) pecumene, 2.
5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-7"tylperoxy)hexyne-3, acetylperoxide, isobutyrylperoxy'= d, octanoyl peroxide, decamyl peroxide, lauroyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl 7,
Succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, mettatoluoyl peroxide diimprovil peroxydicarbonate, di-2-
Ethylhexyl peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, dimethoxyisopropyl peroxydicarbonate, di(3-methyl-3-methoxypnal) peroxydicarbonate, t-butyl peroxyacetate, t-butylperoxyin butyrate, t-;y
"Tylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyoctanoate, t-butylperoxy 3.5.5
-trimethylhexanoate, t-butyl peroxylaurate, t-ptervero-dipenzoate, di-t-
Diperoxyisophthalate, 2,5-dimethyl-2,
5-di(benzoylperoxy)benzene, t-butyl peroxide maleic acid, t-butylperoxyisopropyl carbonate, 3.3?4°4'-tetra-(1-butylberoxycarbonyl)benzophenone, 3. 3;
4.4'-tetra-(t-amylperoxycarbonyl)pe/siphenone, 3.3:4-tetra(t-hexylberoxycarbonyl)benzophenone, 3.3?
4.4'-tetra(t-octylperoxycarbonyl)benzophenone, a, 3? 4.4'-tetra (
cumylberoxycarbonyl)benzophenone, 3.3
? 4.4'-tetra(p-isopropylcumylberoxycarbonyl)benzophenone, etc.
It can be used as a species or as a mixture of two or more species.

本発明の光重合開始剤組成物は、前記の(イ)特定構造
のベンザルアセトフェノンと上記(B)有機過酸化物と
を有効成分として含有するものであり1両者の配合割合
は重量比で(4)=(B)が1〜99:99〜1であシ
、さらに好ましくは3〜95:97〜5である。この範
囲外の組成では優れた光重合開始性能が得られない。
The photopolymerization initiator composition of the present invention contains the above-mentioned (A) benzalacetophenone with a specific structure and the above-mentioned (B) organic peroxide as active ingredients. (4)=(B) is 1-99:99-1, more preferably 3-95:97-5. If the composition is outside this range, excellent photopolymerization initiation performance cannot be obtained.

本発明の光重合開始剤組成物はほとんどすべての不飽和
化合物を光重合することができる。すな−であり、例え
ばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸
及びその無水物、フタル酸及びその無水物、フマル酸等
の不飽和酸や(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アク
リル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)ア
クリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエ
チル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル。
The photopolymerization initiator composition of the present invention can photopolymerize almost all unsaturated compounds. For example, unsaturated acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid and its anhydride, phthalic acid and its anhydride, fumaric acid, methyl (meth)acrylate, and (meth)acrylic acid. Ethyl, butyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, dimethyl maleate, diethyl maleate.

フマル酸ジメチル、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等の
不飽和酸エステル化合物、及びスチレン、アクリルアミ
ド、アクリロニトリル、N−ビニルビはリドン、酢酸ビ
ニル等の単量体、さらに不飽和ポリエステル、不飽和ポ
リエーテル、不飽和ポリウレタンやエボキン(メタ)ア
クリ レート1ヒ金物等がある。
Dimethyl fumarate, pentaerythritol tri(meth)
Unsaturated acid ester compounds such as acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, styrene, acrylamide, acrylonitrile, N-vinylvinylate, lydone, vinyl acetate, etc. In addition, there are unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyurethanes, and Evoquin (meth)acrylate monomers.

これらの不飽和化合物の単独かもしくは二植以上の混合
物に本発明の光重合開始剤組成物を添加し必要に応じて
適当な希釈溶媒を加えて光重合組放物とする。
The photopolymerization initiator composition of the present invention is added to one or a mixture of two or more of these unsaturated compounds, and if necessary, a suitable diluting solvent is added to form a photopolymerization compound.

光重合開始剤組成物の添加址は不飽和化合物100重量
部に対して01〜30重量部、好ましくは0.5〜20
重値部である。
The amount of photopolymerization initiator composition added is 01 to 30 parts by weight, preferably 0.5 to 20 parts by weight, per 100 parts by weight of the unsaturated compound.
This is the important part.

また適当な希釈溶媒とは本発明の光重合開始剤組成物及
び不飽和化合物を溶解するものならすべて使用できる゛
。例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール
、ブタノール、アセトン、メチルエテルケトン、メチル
イソブチルケト/、トルエン、キシレン、酢酸エチル、
mmプ+ル、セロソルブ、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ト
リクロルエチレン、ジメチルホルムアミド、ツメチルス
ルホキシド、等である。
Further, any suitable diluting solvent can be used as long as it dissolves the photopolymerization initiator composition and unsaturated compound of the present invention. For example, water, methanol, ethanol, propanol, butanol, acetone, methyl ether ketone, methyl isobutyl keto/, toluene, xylene, ethyl acetate,
These include mmpur, cellosolve, tetrahydrofuran, dioxane, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, trichlorethylene, dimethylformamide, trimethylsulfoxide, and the like.

このようにして得られた光重合組成物は紫外線または可
視光線のごとき活性光&!を照射することラング、カー
ボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、螢
光灯、タングステン灯、太陽光為ヒ各種レーザーランプ
等が使用できる。
The photopolymerized composition obtained in this way is exposed to active light such as ultraviolet rays or visible light &! For irradiation, various types of laser lamps such as carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, and solar lamps can be used.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の光重合開始剤組成物は、ベンザルアセトフェノ
ン、類と有機過酸化物とを組み合わせて用いている丸め
、従来の光重合開始剤よりも著しく高感度であり、弱い
光源でも十分に感光するため作業性や経済性の点でも優
れている。
The photoinitiator composition of the present invention has significantly higher sensitivity than conventional photoinitiators using a combination of benzalacetophenone and organic peroxide, and is sufficiently sensitive to light even with a weak light source. Therefore, it is excellent in terms of workability and economy.

本発明の光重合開始剤組成物社通常の光重合反応に使用
できる他、光硬化壓の塗料、印刷インキ、接着剤や、印
刷版作製、さらにフォトレジスト等多方面に適用するこ
とが可能で6D、またその効果も非常に良好で、最高感
度のものを得ることができる。
The photopolymerization initiator composition of the present invention can be used not only for ordinary photopolymerization reactions, but also for a variety of applications such as photocurable paints, printing inks, adhesives, printing plate preparation, and photoresists. 6D is also very effective and can provide the highest sensitivity.

〔実施例〕 以下実施例および比較例により本発明をさらに詳しく説
明する。なお例中の部はit部である。
[Examples] The present invention will be explained in more detail below using Examples and Comparative Examples. Note that the part in the example is the "IT" part.

実施例1〜1/ メタクリル酸メチルとメタクリル酸の共重合体(分子量
70000、駿1ifli120)100部、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート(新中村化学@製、A−
TMM−3L)120部に表−IK示す本発明の光重合
開始剤組成物を表−1に示す割合で添加し、さらにこれ
らを1000部のメチルセロソルブに均一にfrIyl
Iシて感光液とした。。
Examples 1-1/ 100 parts of copolymer of methyl methacrylate and methacrylic acid (molecular weight 70000, Shun 1ifli120), pentaerythritol triacrylate (manufactured by Shin Nakamura Chemical @, A-
The photopolymerization initiator composition of the present invention shown in Table IK was added to 120 parts of TMM-3L) in the proportions shown in Table 1, and these were added uniformly to 1000 parts of methyl cellosolve.
This was used as a photosensitive solution. .

これらの感光液を陽極酸化処理したアルミ板上に乾燥塗
膜厚が1μmとなるようにスピンナーを用いて塗布し、
さらにポリビニルアルコール(@クラレ製、PVA−5
os )ノt oil+t%水浴液感光性試験は21;
*の超扁圧水銀灯を用い、グレイスケール(コダックス
テップダプレソトA2)を密着して650の距離から1
秒間4尤した後、20M址%のインプロパノールを含む
3チのメタケイ酸す) IJクム水溶液で現像して残存
している硬化膜のステップ段数をLJ’f、みとること
で感度を副室した。結果を表−1に示−ro なおステ
ップ段数は、2段差があると感度が2倍になることを示
し、数値が大きいほど高感度である。
These photosensitive solutions were applied onto an anodized aluminum plate using a spinner so that the dry film thickness was 1 μm.
Furthermore, polyvinyl alcohol (@Kuraray, PVA-5)
os) Not oil + t% water bath liquid photosensitivity test is 21;
*Using an ultra-high-pressure mercury lamp, a gray scale (Kodak Stepda Presoto A2) was closely attached to the camera from a distance of 650 mm.
After 4 seconds, the sensitivity was determined by measuring the step number of the remaining cured film after developing it with an IJcum aqueous solution (LJ'f). . The results are shown in Table 1.The number of steps indicates that a two-step difference doubles the sensitivity, and the larger the number, the higher the sensitivity.

比較例1〜8 市販の光重合開始剤、及びベンザルアセトフェノン、有
機過酸化物の各々単独の場合など表−2に示す光重合開
始剤を用いて実施例と同様な方法i−1および表−2の
結果から明らかなようK、本発明のものはいずれも比較
例のものよりステップ段数に大きな差があり、著しく高
感度であることが認められる。
Comparative Examples 1 to 8 The same method as in Example i-1 and Table 2 were carried out using the photopolymerization initiators shown in Table 2, including the case of a commercially available photoinitiator, benzalacetophenone, and organic peroxide. As is clear from the results of -2, both the samples of the present invention have a large difference in the number of steps compared to the samples of the comparative example, and it is recognized that they have significantly higher sensitivity.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼……( I ) 〔式中R_1およびR_2は各々独立に、水素原子、炭
素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基
、フェニル基、フェノキシ基ニトロ基、アミノ基または
ハロゲン原子を表わす。〕 で表わされるベンザルアセトフェノン類と有機過酸化物
とを組み合わせてなる光重合開始剤組成物。
(1) General formula (I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼... (I) [In the formula, R_1 and R_2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a carbon number 1 to 4 represents an alkoxy group, phenyl group, phenoxy group, nitro group, amino group or halogen atom. ] A photopolymerization initiator composition comprising a combination of benzalacetophenones represented by the following and an organic peroxide.
(2)ベンザルアセトフェノン類が、ベンザルアセトフ
ェノン、ジメチルアミノベンザルジメチルアセトフェノ
ン、メトキシベンザルジメチルアミノアセトフェノン、
ベンザルジメチルアミノアセトフェノン、ジメチルアミ
ノベンザルアセトフェノン、ブトキシベンザルメチルア
セトフェノン、クロルベンザルアセトフェノンおよびベ
ンザルニトロアセトフェノンから選ばれる1種以上のも
のである特許請求の範囲第1項記載の光重合開始剤組成
物。
(2) The benzalacetophenones are benzalacetophenone, dimethylaminobenzaldimethylacetophenone, methoxybenzaldimethylaminoacetophenone,
The photopolymerization initiator according to claim 1, which is one or more selected from benzaldimethylaminoacetophenone, dimethylaminobenzalacetophenone, butoxybenzalmethylacetophenone, chlorbenzalacetophenone, and benzalnitroacetophenone. Composition.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS63206741A (en) * 1987-02-24 1988-08-26 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Photosensitive polymer composition
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