JPS6269152A - Inspecting device for foreign matter - Google Patents

Inspecting device for foreign matter

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Publication number
JPS6269152A
JPS6269152A JP21053085A JP21053085A JPS6269152A JP S6269152 A JPS6269152 A JP S6269152A JP 21053085 A JP21053085 A JP 21053085A JP 21053085 A JP21053085 A JP 21053085A JP S6269152 A JPS6269152 A JP S6269152A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aperture
photoelectric element
apertures
wafer
inspection
Prior art date
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Pending
Application number
JP21053085A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiaki Taniuchi
谷内 俊明
Yuzo Tanaka
田中 雄三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority to JP21053085A priority Critical patent/JPS6269152A/en
Publication of JPS6269152A publication Critical patent/JPS6269152A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94Investigating contamination, e.g. dust

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To shorten an inspection time even in case the aperture of a slit is made small enough, by reflecting passing rays of light of plural apertures toward the corresponding photoelectric element by the corresponding specular surface of a polygon mirror. CONSTITUTION:An inspecting device makes reflected light from a part in a visual field of an aperture 74 of a slit on the surface to be inspected, to which an optical beam is irradiated, made incident on a photoelectric element 90 through the aperture 74, moves the visual field of the apertures in the scanning direction on the inspection surface, and decides whether a foreign matter exists on the surface to be inspected or not, etc., based on the output signal of the photoelectric element 90. In this regard, plural pieces of apertures 74 are provided, and in accordance with the respective apertures 74, the photoelectric element 90 is provided. The reflected light which has passed through the aperture 74 is reflected toward the corresponding photoelectric element 90 which is placed in the periphery of a polygon mirror 88, by the corresponding specular surface of the pyramid-shaped polygon mirror 88. In such away, even if each aperture 74 is made small, the inspection time can be shortened by enlarging a scanning pitch, and also even in case of a large-sized photoelectric element 90, a small mounting space will suffice.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業−1−の利用分野] この発明は、LSI用のウェハの表面など、被検査面上
の人物の何j1!(などの検査を自動的に行う異物検査
装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Application in Industry-1-] This invention is a method for measuring the number of people on a surface to be inspected, such as the surface of a wafer for LSI. (Related to a foreign substance inspection device that automatically performs inspections such as

[従来の技術] LSIのウェハを対象とした安物検査装置として、光ビ
ームを照射された被検査面上の、スリットのアパーチャ
の視野内の部分からの反射光を、アパーチャを介して光
電素子に入射させ、アパーチャの視野を被検査面上にお
いて走査方向に移動させ、光電素−rの出力信号に基づ
き被検査面における異物の存否などを判定する型式の装
置がある。
[Prior Art] As a cheap inspection device for LSI wafers, reflected light from a portion within the field of view of a slit aperture on a surface to be inspected irradiated with a light beam is transmitted to a photoelectric element through the aperture. There is a type of device in which the field of view of an aperture is moved in the scanning direction on the surface to be inspected, and the presence or absence of foreign matter on the surface to be inspected is determined based on the output signal of the photoelectric element-r.

このような従来の異物検査装置においては、反射光を通
過させるためにスリットに設けられるアパーチャは、1
個だけであった。
In such a conventional foreign matter inspection device, the number of apertures provided in the slit for passing reflected light is 1.
There was only one.

[解決しようとする問題点コ 光電素子の出力信号には、異物に関係した(+、”J’
酸成分外に、被検査面の状聾によって決まるバックグラ
ウンドノイズも含まれている。その信号のS/Nを1−
げ、微小な異物の検出を可能とするためには、スリット
のアパーチャを小さくする7殼がある。
[Problem to be solved] The output signal of the photoelectric device has problems related to foreign matter (+, “J”).
In addition to the acid component, it also contains background noise determined by the hearing condition of the surface to be inspected. The S/N of that signal is 1-
In order to make it possible to detect minute foreign objects, there are seven ways to reduce the aperture of the slit.

しかし、従来はスリットのアパーチャが1個だけである
ため、アパーチャを1−分小さくしようとすると、被検
前面をもれなく@杏するには、走査線(アパーチャの視
!lIFの移動軌跡)のピンチが小さくなり、検査時間
が著しく増加するという問題があった。
However, conventionally, the slit has only one aperture, so if you try to reduce the aperture by 1 minute, it is necessary to pinch the scanning line (view of the aperture! movement trajectory of the IF) in order to completely cover the front surface of the subject. There was a problem that the inspection time was significantly increased.

また、アパーチャを小さくすると、光電素子の出力信ジ
ノ・のレベルが低ドし、その伝シj・に関連した電r回
路が複雑高価になるという問題もあった。
Another problem is that when the aperture is made smaller, the level of the output signal from the photoelectric element is lowered, and the electric circuit associated with the transmission becomes complex and expensive.

[発明の目的] この発明は、そのような従来技術の問題に鑑みなされた
ものであり、その主たる1−1的は、スリットのアパー
チャを1・分小さくした場合においても、検査時間を短
縮可能な異物検査装置を提供することにある。
[Purpose of the Invention] This invention was made in view of such problems in the prior art, and its main object 1-1 is to shorten the inspection time even when the slit aperture is reduced by 1 minute. The object of the present invention is to provide a foreign matter inspection device.

[問題点を解決するためのL段] そのような目的を達成するために、この発明においては
、スリットに複数のアパーチャを設けるとともに、各ア
パーチャに対応させて光電素子を設け、各アパーチャを
通過した被検晶面からの反射光を光分1lIIr′一段
により分離して対応する光電素子に入射させる。
[L stage for solving the problem] In order to achieve such an objective, in this invention, a plurality of apertures are provided in the slit, and a photoelectric element is provided corresponding to each aperture, and a photoelectric element is provided in correspondence with each aperture. The reflected light from the crystal surface to be tested is separated into light components 1lIIr' by one stage and made incident on the corresponding photoelectric elements.

光電素子としては、感度などの関係からホトマルチプラ
イヤが用いられる場合が多いが、それは相当に大型であ
るから、その実装スペースの削減のための1人がill
である。そこで、この発明においては、+1記光分離r
段として角錐状の多而鏡を用い、各光電素−rを多面鏡
の周囲に配置し、各アパーチャの通過光を多而鏡の対応
する鏡面により対応した光電素子へ向けて反射せしめる
ことにより、光電素子の実装スペースを減らしている。
A photomultiplier is often used as a photoelectric element due to sensitivity and other factors, but since it is quite large, one person needs to use an illuminating device to reduce the mounting space.
It is. Therefore, in this invention, +1 optical separation r
By using a pyramid-shaped polygon mirror as a stage, arranging each photoelectric element -r around the polygon mirror, and reflecting the light passing through each aperture toward the corresponding photoelectric element by the corresponding mirror surface of the polygon mirror. , reducing the mounting space for photoelectric elements.

[作用] 各アパーチャの被検前面1−の視腎が走査方向、および
、それに直交する方向に分散配置され、全アパーチャの
総合した視升が走査方向と1■直な方向に拡がるように
各アパーチャを配置できるため、個々のアパーチャを小
さくしても、走査線ピンチを大きくして検査時間を短縮
することができる。
[Operation] The optic kidneys of the front surface 1- of each aperture to be examined are distributed in the scanning direction and the direction orthogonal thereto, and each Since the apertures can be arranged, even if the individual apertures are made smaller, the scan line pinch can be increased and the inspection time can be shortened.

光電素子は多而鏡の周囲に配置されるため、大型のホト
マルチプライヤを光電素子として採用し7た場合でも、
その実装スペースかノ1常に少なくてすむ。
Since the photoelectric element is placed around the polygon mirror, even if a large photomultiplier is used as the photoelectric element,
The mounting space always requires less space.

[実施例] 以ド、図面を参照し、この発明の一パ太施例について詳
細に説明する。
[Embodiment] Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は、この発明によるウェハ用異物検査装置の光学
系部分などの構成を簡略化して示すaS図である。第2
図は、同装置の信号系および処理制御系の概要図である
FIG. 1 is an aS diagram showing a simplified configuration of the optical system and other parts of the wafer foreign matter inspection apparatus according to the present invention. Second
The figure is a schematic diagram of the signal system and processing control system of the device.

まず第1図において、10はX方向に摺動117能にベ
ース12に支持されたXステージである。このXステー
ジ10には、ステッピングモータ14の回転軸に直結さ
れたスクリュー16が螺合しており、ステッピングそ一
夕14を作動さぜることにより、XステージlOをX方
向に進退させることができる。18はXステージ10の
X方向位置Xに対応したコード信シ」・を発生するリニ
アエンコーダである。
First, in FIG. 1, reference numeral 10 is an X stage supported by a base 12 so as to be able to slide 117 in the X direction. A screw 16 directly connected to the rotating shaft of a stepping motor 14 is screwed into this X stage 10, and by operating the stepping motor 14, the X stage 10 can be moved forward and backward in the X direction. can. 18 is a linear encoder that generates a code signal corresponding to the position X of the X stage 10 in the X direction.

Xステージ“11Oには、Zステージ20がZ方向に移
動i+J能に取り付けられている。その移動り段は図中
省略されている。Zステージ20には、被検査物として
のウェハ30が載置される回転ステージ22が回転iI
能に支持されている。この回転ステージ22は、直流モ
ータ24が連結されており、これを作動させることによ
り回転されるようになっている。この直流モータ24に
は、その回転角度位置0に対応したコードイに1号を出
力するロータリエンコーダが内蔵されている。
A Z stage 20 is attached to the X stage "11O" so as to be able to move i+J in the Z direction.The moving stage is omitted in the figure.A wafer 30 as an object to be inspected is mounted on the Z stage 20. The rotation stage 22 placed on it rotates iI
It is supported by Noh. This rotation stage 22 is connected to a DC motor 24, and is rotated by operating the DC motor 24. This DC motor 24 has a built-in rotary encoder that outputs No. 1 to the code corresponding to the rotation angle position 0.

なお、ウェハ30は、回転ステージ22に負II吸着に
より位置決め1.’!1定されるが、そのための1段は
図中省かねている。
Note that the wafer 30 is positioned on the rotation stage 22 by negative II suction. '! However, the first stage for this purpose cannot be omitted in the figure.

この異物検査装置は、偏光レーザ光を利用してウェハ3
01−の異物を自動的にMi”Nするものであり、ウェ
ハ30の1−而(被検^而)に、S偏光レーザ光が照射
される。そのために、S偏光レーザ発振Z38.38が
設けられている。各S偏光レーザ発振Z438.38は
、ある波長のS偏光レーザ光を発生するもので、例えば
波長が8300オングストロームの゛1/−導体レーザ
発振器である。
This foreign matter inspection device uses polarized laser light to
01- is automatically subjected to Mi"N, and the S-polarized laser beam is irradiated onto the wafer 30 (tested). Therefore, the S-polarized laser oscillation Z38.38 Each S-polarized laser oscillator Z438.38 generates S-polarized laser light of a certain wavelength, and is, for example, a 1/- conductor laser oscillator with a wavelength of 8300 angstroms.

そのS偏光レーザ光は、X方向よりウェハ30の]而に
例えば2″のIj(1射角で度1射される。このように
照射角が小さいため、円形断面のS偏光レーザ光のビー
ムを照射した場合、ウェハ而におけるスポットがX内向
に延びてしまい、1分な照射密度を得られない。そこで
、本実施例においては、S偏光レーザ発振器36,38
の前)」にンリンドリカルレンズ44.46を配置し、
S偏光レーザ光をZノ」向につぶれた扁甲な断面形状の
ビームにしてウェハ而に照射させ、スポット形状を円形
に近づけて照射密度を高めている。
The S-polarized laser beam is emitted from the X direction toward the wafer 30, for example, at an angle of 2" Ij (one angle of incidence. Since the irradiation angle is small in this way, the beam of S-polarized laser light with a circular cross section In this case, the spot on the wafer extends inward in the
Place the lindrical lens 44.46 in front of the
The wafer is irradiated with an S-polarized laser beam that has a flattened cross-section in the Z direction, and the spot shape is made close to a circle to increase the irradiation density.

ウェハ而に照射されたS偏光レーザ光の反射レーザ光は
、!I((射面が微視的に・]l滑ならば、はとんどS
偏光成分たけである。例えば、パターンが存lIシてい
る場合、それは微視的には十滑自と考えられるから、反
射レーザ光はS偏光成分だけとみなし得る。
The reflected laser light of the S-polarized laser light irradiated onto the wafer is! I((If the projection surface is microscopically smooth, then S
There are only polarized components. For example, if a pattern exists, it is microscopically considered to be ten-dimensional, so that the reflected laser light can be considered to have only an S-polarized component.

他ツバ!j(1射而に異物がイr71シていると、異物
のの表面には一般に微小な凹凸があるため、j!(1射
されたS偏光レーザ光は散乱して偏光〕J向が変化する
。その結末、反射レーザ光には、S偏光成分の外に、P
偏光成分をかなり含まれることになる。
Other spit! j (When a foreign object is irradiated with one shot, the surface of the foreign object generally has minute irregularities, so j! (Single shot S-polarized laser light is scattered and polarized) J direction changes. As a result, in addition to the S-polarized component, the reflected laser light also contains the P-polarized component.
It will contain a considerable amount of polarized light components.

このような現象に青11シ、ウェハ而からの反射レーザ
光に含まれるP偏光成分のレベルに基づき、異物の(1
−jjijと異物のサイズを検出する。これが、このW
物検^装置の検出原理である。
This phenomenon is based on the level of the P-polarized component contained in the reflected laser light from the wafer.
-jjiij and the size of the foreign object are detected. This is this W
Physical inspection^ This is the detection principle of the device.

円び第1図を参照する。ウェハ而からの1メ射レーザ光
は、1liI記原理に従い異物を検出する検出系50と
、ウェハの11視観察のための顕@鏡52とに共通の光
学系に入射する。すなわち、反射レーザ光は、対物レン
ズ54、ハーフミラ−56、プリズム58を経111シ
て45度プリズl、60に辻する。
Refer to Figure 1. One laser beam emitted from the wafer enters an optical system common to a detection system 50 for detecting foreign matter according to the principle described in 1liI and a microscope 52 for 11-view observation of the wafer. That is, the reflected laser beam passes through the objective lens 54, the half mirror 56, and the prism 58 through 111 and reaches the 45-degree prism 1 and 60.

また、11視観察のためにランプ70が設けられている
。このランプ70から出た可視光により、ハーフミラ−
56および対物レンズ54を介してウェハ而が11(1
明される。また、45度プリズム60と60度プリズム
62は光路途中に入れprAられる構造になっており、
検査時には45度ブリてムロ0が、11視時には60度
ブリズノ、62か、それぞれ光路途中に入れられる。
Further, a lamp 70 is provided for 11-view observation. The visible light emitted from this lamp 70 causes the half mirror to
56 and the objective lens 54, the wafer 11 (1
It will be revealed. In addition, the 45 degree prism 60 and the 60 degree prism 62 are structured to be put in the middle of the optical path.
At the time of inspection, 45 degree blur 0 is placed in the middle of the optical path, and at 11 viewing, 60 degree blur and 62 are placed in the middle of the optical path.

ブリズt、60を経111シて顕微鏡2側に入射したI
llll対反射光60度プリズム62、フィールドレン
ズ64、リレーレンズ66を順に通過して接眼レンズ6
8に入射する。したかって、接眼レンズ68より、ウェ
ハ30を1分大きな倍率で11視観察することができる
。この場合の視コ■fの中心に、ウェハのS偏光レーザ
光!1(1射領域が位置する。
Blizz T, I entered the microscope 2 side after passing 60 and 111
The reflected light passes through a 60-degree prism 62, a field lens 64, and a relay lens 66 in order and enters the eyepiece 6.
8. Therefore, the wafer 30 can be observed 11 times through the eyepiece lens 68 at a magnification that is one minute larger. In this case, the wafer's S-polarized laser beam is at the center of the field of view f! 1 (the first shot area is located.

また、プリズム58を通してウェハ30を低倍率で観察
することもできる。
The wafer 30 can also be observed at low magnification through the prism 58.

プリズム60を経由して検出系側に入射した反射レーザ
光は、スリット72に設けられた4つのアバ−チャ74
を通過し、S偏光カットフィルタ(偏光板)86を通過
し、そのP偏光成分だけが抽出される。抽出されたP偏
光レーザ光は分離ミラー88に入射する。
The reflected laser light that has entered the detection system side via the prism 60 passes through four apertures 74 provided in the slit 72.
The light passes through the S-polarized light cut filter (polarizing plate) 86, and only the P-polarized light component is extracted. The extracted P-polarized laser beam enters the separation mirror 88.

スリシト72の4つのアパーチャア 44;i T鳥4
Kに配置されており、分ml ミラー88は四角X1状
の四面鏡である。分4tミラー88の入射面1.におけ
るhアパーチャア4の視野74Aは、第3図に小すよう
に、分ml ミラー88の特定の鏡面88Alに入るよ
うな(1胃+i’関係におかれている。したが。
Four apertures of Surishito 72 44; i T bird 4
The mirror 88 is a four-sided mirror in the shape of a square X1. The incident surface of the 4t mirror 88 1. As shown in FIG. 3, the field of view 74A of the h aperture 4 in FIG.

て、各アパーチャア4を通過した反射レーザ光のP偏光
成分は、対応する鏡面88Aに入射し、Ijいにほぼ直
交する)J向に分離されて反射される。
The P-polarized light component of the reflected laser light that has passed through each aperture 4 is incident on the corresponding mirror surface 88A, and is separated and reflected in the J direction (which is substantially orthogonal to Ij).

分Mミラー88の!−ト左右には、各アパーチャア4と
対応したホトマルチプライヤ90(を電JJ’)が設け
られている。各鏡面88Aによりj×射されたP偏光レ
ーザ光は、対応したホトマルチプライヤ90にそれぞれ
入射し、光11i変換される。
Minute M mirror 88! - Photomultipliers 90 (electronic JJ') corresponding to each aperture 4 are provided on the left and right sides. The P-polarized laser light emitted by each mirror surface 88A is incident on the corresponding photomultiplier 90, and is converted into light 11i.

このように、アバー千ヤ74を丁・島状に配置したため
、筒中な分離ミラー88(九分離丁段)により、4つの
アパーチャア4の通過レーザ光を・度に分離して対応し
たホトマルチプライヤ90に入射させることができる。
In this way, since the apertures 74 are arranged in an island shape, the laser beams passing through the four apertures 4 are separated by the separation mirror 88 (nine separation steps) in the cylinder into a corresponding photomultiplier. It can be made to enter the pliers 90.

ここで、例えば、4つのアパーチャア4を第9図に示す
ように直線的に配置した場合、ミラーまたはプリズムな
どにより、 度に分離するこ吉は困難である。何故なら
ば、アパーチャア4とミラーまたはプリズムとの相対位
置の1具差を署しく小さく抑えないと、不適当な位置で
分離されてしまうし、また、その1汎2条e1を満足で
きると仮定しても、後述するように、各アパーチャア4
を図示のようにある方向(走査方向に対し直交する方向
)に部分的に・fねる7波があるため、分離境界か直線
的でなく、’)6形のミラーまたはプリズムが必ザとな
るからである。
Here, for example, if the four apertures 4 are arranged linearly as shown in FIG. 9, it is difficult to separate them at once using a mirror or prism. This is because unless the difference in the relative position between the aperture 4 and the mirror or prism is kept small, they will be separated at an inappropriate position. Even if we assume that each aperture 4
As shown in the figure, there are 7 waves that bend partially in a certain direction (perpendicular to the scanning direction), so the separation boundary is not linear, and a 6-shaped mirror or prism is required. It is from.

そこで、このような直線的配列の場合には、第9図にお
ける■の(、′I置を境にして1回11の光分離を行い
、さらに■の位置を境にして21111I+の光分離を
11う必°枢かある。これでは、ミラーまたはプリズム
が3側辺1−必要になるとともに、2回の反射または屈
折によるボケが牛じやすい。また、各回の分離に関して
、 ・度に分離する場合と同様に位置1コ【差による影
響を受けやすいため、分離が不完全になりやすい。
Therefore, in the case of such a linear arrangement, 11 beams are separated once with the (, 'I position) in Figure 9 as a boundary, and 21111I+ beams are further separated with the boundary in the ■ position. 11. This requires three mirrors or prisms on one side, and blurring due to two reflections or refractions is likely to occur.In addition, regarding the separation of each time: As in the case of position 1, the separation is likely to be incomplete because it is easily affected by the difference.

これに対して、T鳥配列の場合、第3図から明らかなよ
うに、隣接した各アパーチャの間隔が直交する各)j向
とも1・公人きくなるため、前記のような1111甲な
分離ミラー88により光分離を−・度に行うことができ
る。また、アパーチャア4と分離ミラー88きの相対イ
1°I置、l!1差をそれほど厳密に制限しなくても、
完全な分離かII)能である。
On the other hand, in the case of the T-bird arrangement, as is clear from Fig. 3, the spacing between adjacent apertures is 1/Kinin in each orthogonal direction, so the above-mentioned separation of 1111 The mirror 88 allows light separation to be performed at -.degree. Also, the relative position of the aperture 4 and the separation mirror 88 is 1°I, l! Even if you don't restrict the 1 difference so strictly,
Complete separation is possible.

また、ホトマルチプライヤ90はかなり大型であるが、
分11i11ミラー88の1・、ド左右に配置されるた
め、最少のスペースですむ。
Also, although the photomultiplier 90 is quite large,
Since they are arranged on the left and right sides of the mirror 88, the minimum space is required.

さて、各ホトマルチプライヤ90から、それぞれの入射
光H,(に比例した値の検出イ。i、 S;、が出力さ
れる。後述のように、各ホトマルチプライヤ90の出力
(+’jSJ−は加すされ、その加算された(11号の
レベルに基づき、ウェハ而(厳密には、各アパーチャア
4の視野内の部分)における異物の6無が判定され、ま
た異物が存イ1する場合は、その信ジノのレベルから異
物の粒径が判定される。
Now, each photomultiplier 90 outputs a detected value i, S;, which is proportional to the respective incident light H,(.As will be described later, the output (+'jSJ - is added, and based on the added level (No. 11), it is determined whether or not there is a foreign object on the wafer (strictly speaking, the part within the field of view of each aperture 4), and whether there is a foreign object or not. If so, the particle size of the foreign object is determined from the level of the particle size.

ここで %j物検杏は、前述のようにウェハを同転させ
つつX方向(”M’Y方向)に送りながら行われる。そ
のようなウェハ30の移動に従い、第4図に示すように
、S偏光レーザ光の照射領域30Aはウェハ30の1−
而を外側より中心へ向かって螺旋状に移動する。検出系
50と顕微鏡52は静+Iしており、アパーチャア4の
視野は照射領域307〜内に含まれ、またjj(4射領
域30Aの全体または中心部分は顕@、鏡52の視野内
に入る。すなわち、ウェハ而は螺旋走査される。
Here, the physical inspection is performed while simultaneously rotating the wafer and feeding it in the X direction ("M'Y direction") as described above.Following such movement of the wafer 30, as shown in FIG. , the irradiation area 30A of the S-polarized laser beam is 1- of the wafer 30.
move in a spiral from the outside towards the center. The detection system 50 and the microscope 52 are in a static state, and the field of view of the aperture 4 is included in the irradiation area 307~, and That is, the wafer is helically scanned.

スリy+−72の各アパーチャア4のウエノ\面におけ
る視野74Bは、第5図に小すごとく丁鳥配置となる。
The field of view 74B of each aperture 4 of the pick-up y+-72 on the Ueno\ plane is arranged in a very small arrangement as shown in FIG.

同車のように、隣合うアパーチャの視野74Bは、走査
方向(θ方向)に対して+TE直なツノ向、すなわちX
方向にαたけ市なっている。そして、βはウエノ・のX
方向(゛1′径方向)への送りピンチより人きい。した
がって、ウニ/%而は−・都市?V t、て走査される
ことになる。
Like the same car, the field of view 74B of the adjacent aperture is in the horn direction perpendicular to +TE with respect to the scanning direction (θ direction), that is,
The direction is αtakeichi. And β is Ueno's X
It is easier to feed in the direction (radial direction ゛1') than the pinch. Therefore, is it a city? It will be scanned at V t.

さて、前記ホトマルチプライヤから出力される(+j−
Jには、異物に関係した4+、”’J酸成分外に、被検
前面の状態によって決まるバックグラウンドノイズも含
まれている。その信−」のS/Nを1・、げ、微小なy
Is物の検出をiげ能とするためには、スリットのアパ
ーチャを小さくする7安がある。しかし、アパーチャが
1つの場合、前述のように、アパーチャが小さいと、被
検6而全体を走査するための時間が増加する。
Now, the photomultiplier outputs (+j−
In addition to the 4+ and J acid components related to foreign objects, J also contains background noise determined by the state of the front surface of the test object. y
In order to improve the detection of Is objects, there is a method of reducing the aperture of the slit. However, in the case of a single aperture, as mentioned above, a smaller aperture increases the time to scan the entire subject.

そこで、本実施例では、アパーチャを4一つ(・般的に
は3側辺1・、)設け、全アパーチャの総合視野の走査
方向と屯直な方向の幅βを拡げることにより、アパーチ
ャを小さくした場合における走6ビ、チを増加させ、以
て検出能の向1、と走査時間の短縮を達成している。
Therefore, in this embodiment, four apertures are provided (generally, three sides are one), and the width β of the overall field of view of all the apertures in the scanning direction and the vertical direction is expanded. In the case of a small size, the number of scans is increased by 6 bits, thereby achieving an improvement in detectability and a reduction in scanning time.

なお、異物の/d方性による検出、=を差をなくすため
、後述のように、異なるノ」向から■1射した散乱光を
検出している各ホトマルチプライヤの出力4.i号・を
加算される。
In addition, in order to eliminate the difference in the detection of foreign objects by /d direction, as described later, the output of each photomultiplier that detects the scattered light emitted from different directions is 4. i number is added.

次に、この〃1物検査装置の4:(”J系および処理制
御系について、第2図をt !t(I して説明する。
Next, the J system and processing control system of this single object inspection apparatus will be explained by referring to FIG. 2.

まず、(+jSJ系について説明する。前記各ホトマル
チプライヤ90の出゛力信シシ−は加算増幅器100に
より加p増幅され、レベル比較回路102に入力される
First, the +jSJ system will be explained. The output signals of the photomultipliers 90 are amplified by the summing amplifier 100 and input to the level comparison circuit 102.

ここで、ウェハ1′、の異物の粒径と、ホトマルチプラ
イヤ90の出力4+C’iレベルとの間には、第6図に
小すような関係かある。この図において、L7 、L2
 、LJはレベル比較回路102.106の閾値である
Here, there is a relationship as shown in FIG. 6 between the particle size of the foreign matter on the wafer 1' and the output 4+C'i level of the photomultiplier 90. In this figure, L7, L2
, LJ are threshold values of the level comparison circuits 102 and 106.

レベル比較回路102は、それぞれの人力4+’;”J
’のレベルを各閾値と比較し、その比較結果に応じた論
理レベルの閾値χ・1応の出カイ1、弓を送出する。
The level comparison circuit 102 is operated by each human power 4+';"J
The level of ' is compared with each threshold value, and an output of 1 and a bow corresponding to the logical level threshold χ·1 is sent out according to the comparison result.

すなわち、閥l1fh、Lz 、 L2 、  L、?
に対応する出力4W”tOi + 02.03の論理レ
ベルは、その闇値以1・、のレベルの4+jSJ’が入
力した場合に°“1”となり、入力L’;”Jレベルが
閾値末ff4のときに0”となる。したがって、例えば
、入力仏−」レベルが閾値L/未満ならば、出力信号は
すべて“0”となり、入力信号レベルが閾値L2以1〕
で閾値り、J未満ならば、出力信シシはOlと02が“
l”、03が“0”となる。
That is, the lines l1fh, Lz, L2, L,?
The logic level of the output 4W"tOi + 02.03 corresponding to 4W"tOi + 02.03 becomes "1" when 4+jSJ' with a level of 1., below the dark value is input, and the input L';"J level reaches the end of the threshold ff4 Therefore, for example, if the input level is less than the threshold L/, all output signals will be 0, and the input signal level will be 0 when the input signal level is less than the threshold L2.
If the threshold value is less than J, the output signal is O1 and 02 are “
l”, 03 becomes “0”.

このように、出力信’yO1+ 02 + 03は、入
カイ1、−Jのレベル比較結束を小才2進コードである
In this way, the output signal 'yO1+02+03 is a small binary code that represents the level comparison unity of the input signals 1 and -J.

レベル比較回路102の出力LニーJ”は、コードL(
0/をlIλド位ビットとした2進コード)として、処
理制御系とイ、1−ノ系とのインターフェイスを司るイ
ンターフェイス回路108に人力される。
The output L knee J” of the level comparison circuit 102 is the code L (
The data is manually input to the interface circuit 108, which controls the interface between the processing control system and the A, 1-NO systems, as a binary code with 0/ as the lIλ digit bit.

このインターフェイス回路108には、前記ロータリエ
ンコーダおよびリニアエンコーダから、各時点における
回転角度位置0およびX力量(゛l′径方向)位置Xの
情報を小す信号じ(2進コード)が、バッフj・回路1
10.112を介し人力される。これらの入力コードは
、 ・定の周期でインターフェイス回路10g内部のあ
るレジスタに取り込まれ、そこに・時的に保持される。
This interface circuit 108 receives a signal (binary code) from the rotary encoder and the linear encoder that reduces the information of the rotational angle position 0 and the X force (radial direction) position X at each point in time.・Circuit 1
10. Manually powered via 112. These input codes are: - taken into a certain register inside the interface circuit 10g at regular intervals, and temporarily held there.

また、インターフェイス回路108の内部には、処理制
御系よりモータ14.24の制御情報がセ、トされるレ
ジスタもある。このレジスタにセントされた;1.す御
情報に従い、モータコントローラ116によりモータ1
4.24の駆動制御が行われる。
Also, inside the interface circuit 108, there is a register in which control information for the motor 14.24 is set by the processing control system. Cents were placed in this register; 1. According to the control information, the motor controller 116 controls the motor 1.
4.24 drive control is performed.

つぎに、処理制御系について説明する。この処理制御系
はマイクロプロセッサ120.ROMI22、RAM 
124、フロッピーディスク装置12B、X−Yプロッ
タ127、CRTディスプレイ装置128、t−ボード
130などからなる。
Next, the processing control system will be explained. This processing control system is a microprocessor 120. ROMI22, RAM
124, a floppy disk device 12B, an X-Y plotter 127, a CRT display device 128, a T-board 130, etc.

t32は/ステムバスであり、マイクロブロセ!す12
0、ROM 122、RAM 124、前記インターフ
ェイス回路108か11°口と的に接続されている。
t32 is a / stem bath and microbrosé! Su12
0, ROM 122, RAM 124, and the interface circuit 108 are connected to the 11° port.

キーボード130は、オペレータが各種指令やデータを
人力するためのもので、インターフェイス回路134を
介して7ステムバス132に接続されている。フロlピ
ーディスク装置126は、オペレーティング7ステムや
各種処理プログラム、検査結末データなどを格納するも
のであり、フロッピーディスクコントローラ13Bを介
しシステムバス132に接続されている。
The keyboard 130 is used by the operator to input various commands and data, and is connected to the 7-stem bus 132 via an interface circuit 134. The floppy disk device 126 stores the operating system, various processing programs, test result data, etc., and is connected to the system bus 132 via the floppy disk controller 13B.

このW物49A装置が起動されると、オペレーティング
7ステムがフロンピーディスク装置126からRAM 
124のシステム領域124Aヘロードされる。その後
、フロッピーディスク装置126に格納されている各種
処理プログラムのうち、必要な1つ以1・、の処理プロ
ゲラ11がRAM l 24のプログラム領域124B
ヘロードされ、マイクロプロセッサ120により実1」
される。処理途中のデータなどはRAM l 24のf
’+業領域に・時的に記憶される。処理結束データは、
最終的にフロッピーディスク装置126へ転送され格納
される。
When this W product 49A device is started, the operating 7 stem is transferred from the floppy disk device 126 to the RAM.
124 system area 124A. Thereafter, one or more necessary processing programs 1 from among the various processing programs stored in the floppy disk device 126 are transferred to the program area 124B of the RAM l 24.
is loaded and processed by microprocessor 120.
be done. Data that is being processed is stored in RAM l24f.
' + Temporarily stored in the business area. The processed binding data is
Finally, it is transferred to and stored in the floppy disk device 126.

ROM122には、文字、数字、記シシ′なとのドツト
パターンが格納されている。
The ROM 122 stores dot patterns of letters, numbers, and symbols.

CRTディスプレイ装置128は、オペレータとの対話
のための各種メツセージの大小、ソ4物マツプやその他
のデータの大小などに利用されるものであり、その大小
データはビデオRAM 138にビ、トマップ展開され
る。140はビデオコントローラであり、ビデオRAM
138の+’F込み、読出しなどの制御の外に、ドツト
パターンに応じたビデオ信号の発生、カーソルパターン
の発生などを行う。このビデオコントローラ140はイ
ンターフェイス回路142を介してシステムバス132
に接続されている。カーソルのアドレスを制御するため
のカーソルアドレスポインタ140Aがビデオコントロ
ーラ140に設けられているが、このポインタはキーボ
ード130からのカーソル制御信号に従いインクリメン
トまたはデクリメントされ、またマイクロプロセッサ1
20によりアクセスIIJ能である。
The CRT display device 128 is used to display the size of various messages for dialogue with the operator, as well as the size of physical maps and other data. Ru. 140 is a video controller, and a video RAM
In addition to controlling +'F loading and reading of 138, it also generates video signals according to dot patterns, generates cursor patterns, etc. This video controller 140 connects to the system bus 130 via an interface circuit 142.
It is connected to the. A cursor address pointer 140A for controlling the address of the cursor is provided in the video controller 140, and this pointer is incremented or decremented according to a cursor control signal from the keyboard 130.
20 allows access IIJ functionality.

X−Yプロッタ127はンシ物マ、ブなどの印刷出力に
使用されるものであり、プロッタコントローラ137を
介してンステl、バス132に接続すれCいる。
The X-Y plotter 127 is used for printing out images, etc., and is connected to the computer and bus 132 via a plotter controller 137.

次に、W物検査処理について、第8図のフローチャート
を参照しながら説明する。ここでは、異物の自動@杏、
11視観察、印刷なとのジョブをオペレータか指定する
1111式としているが、これは飽くまで・例である。
Next, the W object inspection process will be explained with reference to the flowchart shown in FIG. Here, foreign body automatic @An,
Although the 1111 type is used to specify jobs such as 11 visual observation and printing by the operator, this is just an example.

回転ステージ22の所定位置にウェハ30をセットした
状態で、オペレータがキーボード130より検査開始を
指令するさ、検査処理プログラムがフロッピーディスク
装置126からRAM 124のプロゲラlb art
域124Bヘロードされ、走り始める。
With the wafer 30 set at a predetermined position on the rotation stage 22, when the operator issues a command to start the inspection from the keyboard 130, the inspection processing program is transferred from the floppy disk device 126 to the PROGERA LB art in the RAM 124.
Loaded into area 124B and started running.

まず、マイクロプロセッサ120は、初期化処理行う。First, the microprocessor 120 performs initialization processing.

31体的には、Xステージloおよび回転ステージ22
を初期位置に位置決めさせるためのモータ制御情報がイ
ンターフェイス回路108の内11つレジスタにセット
される。このモータ制御情報に従い、モータコントロー
ラ11Bがモータ14.24を制御し、各ステージを初
期位置に移動させる。また、マイクロプロセッサ120
は、後述のテーブル、カウンタ、検査データのバッファ
なとのための記憶領域(第2図参jj(()をRAMI
201−に確保する(それらの記憶領域はクリアされる
)。
31 Physically, the X stage lo and the rotation stage 22
Motor control information for positioning the motor to the initial position is set in eleven registers of the interface circuit 108. According to this motor control information, the motor controller 11B controls the motors 14 and 24 to move each stage to its initial position. In addition, the microprocessor 120
is a storage area for tables, counters, test data buffers, etc. (see Figure 2).
201- (those storage areas will be cleared).

It記テーブル(テーブル領域1241)に作成される
)の概念図を第7図に小す。このテーブル150の各エ
ントリは、異物の洛弓(検出された順番)、異物の位置
(検出された走査位置X、0)、その種類ないし性質(
11視観察に、よって調べられる)、および粒径から構
成されている。
A conceptual diagram of the It table (created in the table area 1241) is shown in FIG. Each entry in this table 150 includes the location of the foreign object (in the order in which it was detected), the position of the foreign object (detected scanning position X, 0), and its type or nature (
(as determined by 11-view observation), and particle size.

前記初期化の後に、ジョブメニューがCRTディスプレ
イ装置128に表示され、オペレータからのジョブ指定
を待つ状態になる。
After the initialization, a job menu is displayed on the CRT display device 128, and the system waits for job designation from the operator.

「自動検査」のジョブが指定された場合の処理の流れを
、第8図(A)のフローチャートをt !!(lして説
明する。
The flowchart in FIG. 8(A) shows the flow of processing when an "automatic inspection" job is specified. ! (I will explain later.

自動検査のコードがキーボード130を通じてマイクロ
プロセッサ120に人力されると、マイクロプロセッサ
120は、自動接合処理を開始する。よす、マイクロプ
ロセッサ120は、インターフェイス回路108を通じ
、モータコントローラ116に対し正合開始を指事する
(ステップ210)。この指事を受けたモータコントロ
ーラ116は、前述のような螺旋走査を−・定速度で′
4I゛わせるように、モー914,24を駆動する。
Once the autotest code is entered into the microprocessor 120 through the keyboard 130, the microprocessor 120 begins the auto-bonding process. OK, the microprocessor 120 instructs the motor controller 116 to start alignment through the interface circuit 108 (step 210). Upon receiving this instruction, the motor controller 116 performs the above-mentioned spiral scan at a constant speed.
The motors 914 and 24 are driven so as to cause 4I.

マイクロプロセ、す120は、インターフェイス回路1
08の特定の内部レジスタの内容、すなわち、ウェハ3
0の走査位置X、0のコードと、レベル比較回路102
によるレベル比較結果であるコードLとからなる入力デ
ータを取り込み、RAM124+−の人カバソファ12
4CにjFき込む(ステップ215)。
The microprocessor 120 is the interface circuit 1
08 specific internal register contents, i.e. wafer 3
0 scanning position X, 0 code, and level comparison circuit 102
The input data consisting of the code L, which is the level comparison result by
Input jF into 4C (step 215).

マイクロプロセッサ120は、取り込んだ走査4r’を
量情報を走査路r 4−’を置の旬間情報と比較するこ
とにより、走査の終r判定を11う(ステップ220)
The microprocessor 120 determines the end of the scan by comparing the quantity information of the captured scan 4r' with the period information of the position of the scan path r4-' (step 220).
.

この判定の結果がNo(上前途中)ならば、マイクロプ
ロセッサ120は、取り込んだコードLのゼロ判定を杓
う(ステップ225)。L二000ならば、その走査1
1買6には異物か存在しない。
If the result of this determination is No (in the middle of the upper half), the microprocessor 120 makes a zero determination of the loaded code L (step 225). If L2000, its scan 1
There are no foreign objects in 1-6.

L≠000ならば、異物がイ?71する。If L≠000, is there a foreign object? 71.

ステップ225の判定結果がYESならばステップ21
5にlにる。ステップ225の判定結果がNoならば、
マイクロプロセンサ120は、取り込んだ位置情報(x
、/7)と、テーブル150に記憶されている既検出の
他の異物の位置情+1J(x。
If the determination result in step 225 is YES, step 21
I'll be at 5. If the determination result in step 225 is No,
The micropro sensor 120 receives the captured position information (x
, /7) and the positional information of other detected foreign objects stored in the table 150 +1J(x.

θ)とを比較する(ステップ230)。θ) (step 230).

位置情報の・致がとれた場合、現71の異物は他のyd
物と同一さみなせるので、ステップ215に戻る。
If the location information is confirmed, the foreign object in the current 71 is located in another yd.
The process returns to step 215 because it is made to look the same as a physical object.

位置情報の比較が不・致の場合、新しい異物が検出され
たとみなせる。そこで、マイクロプロセッサ120は、
RAM124+−に確保された領域124Eであるカウ
ンタNをまたけインクリメントする(ステップ235)
。そして、テーブル150の8番11のエントリに、当
該異物の位置情報(x、  0)およびコードL(宇−
ン径情報として)を−1き込む゛(ステップ240)。
If the comparison of location information is negative or negative, it can be assumed that a new foreign object has been detected. Therefore, the microprocessor 120
The counter N, which is the area 124E secured in the RAM 124+-, is incremented (step 235).
. Then, in the entry 8 and 11 of the table 150, the position information (x, 0) of the foreign object and the code L (U-
-1 is input (as the diameter information) (step 240).

ウェハ30の走査が終rするまで、同様の処理が繰り返
し実j1される。
Similar processing is repeated until the scanning of the wafer 30 is completed.

ステップ220で走査路rと’I’l+定されると、マ
スク120は、インターフェイス回路108を通じて、
モータコントローラtteに対し走査停止1・指事を送
る(ステップ250)。この指事に応答して、モータコ
ントローラ11Bはモータ14゜24の駆動を停止1・
する。
Once the scan paths r and 'I'l+ have been determined in step 220, the mask 120 is
A scan stop 1 command is sent to the motor controller tte (step 250). In response to this instruction, the motor controller 11B stops driving the motor 14.
do.

次にマイクロブロセ、す120は、テーブル150を参
!!(i t、、フードLが12の異物の合、;1数T
L/Nコー11Lが32の異物の合、11数T L 2
 NコードLが72のηS物の合計数TL3を、l S
’l: L、その異物合計数データを、RAM1241
tの特定領域124F、124G、124Hに、1Fき
込む(ステップ251)。そして、テーブル150の記
憶内容および異物合計データを、ウェハ化−ノ・を付加
してフロッピーディスク装置126へ転送し、格納させ
る(ステップ252)。
Next, see table 150 for microbrosée 120! ! (i t,, if hood L is 12 foreign objects; 1 number T
If L/N code 11L is 32 foreign objects, 11 number T L 2
The total number TL3 of ηS objects with N code L of 72 is defined as l S
'l: L, the total number of foreign objects data is stored in RAM1241.
1F is written into the specific areas 124F, 124G, and 124H of t (step 251). Then, the stored contents of the table 150 and the foreign matter total data are transferred to the floppy disk device 126 with a waferization mark added thereto and stored therein (step 252).

これで、自動検査のジョブか終1′し、CRTディスプ
レイ装置128の画面にノ、ブメニューが大小される。
This completes the automatic inspection job, and a menu is displayed on the screen of the CRT display device 128.

つぎに「11視観察」の処理の流れを、第8図(B)な
いし第8図(E)のフロー手ヤードにより説明する。I
I視検合としては、順次モード、悉−3指定モード、お
よびカーソル指定モードかあり、キーボード130より
指定できる。
Next, the process flow of "11 visual observation" will be explained using the flowcharts shown in FIGS. 8(B) to 8(E). I
I visual inspection includes sequential mode, all-3 designation mode, and cursor designation mode, which can be designated from the keyboard 130.

II視観察のジョブおよびモードが指定されると、マイ
クロブロセlす120は、ウェハの輪郭両像のドブドパ
ター7データをフロ、ビーディスク装置126よりビデ
オRAM13gへD M A転送させる(ステップ28
5)。この傘!S送の起動;1.II 8はマイクロプ
ロセッサ120により?1:われるが、その後の転送制
御はビデオコントa−ラ140およびフロッピーディス
クコントローラ1.36によって行われる。ビデオRA
M138のトンドパターンデータは、ビデオコントロー
ラ140により順次読み出されビデオ信シシに変換され
てCRTディスプレイ装置12gに送られ、大小される
When the job and mode of II visual observation are designated, the micro processor 120 causes the DMA transfer of the Dobdoputter 7 data of both contour images of the wafer from the floppy disc device 126 to the video RAM 13g (step 28
5). This umbrella! Starting S-transmission; 1. II 8 by microprocessor 120? 1: However, subsequent transfer control is performed by the video controller 140 and the floppy disk controller 1.36. Video RA
The pattern data of M138 is sequentially read out by the video controller 140, converted into a video signal, and sent to the CRT display device 12g, where it is increased or decreased in size.

つぎにマイクロプロセ、す120は、観察対′ρのウェ
ハの杢−じ(ジョブ選択11.5にキーボード130よ
り入力される)が付加されてフロッピーディスク装置!
28に格納されているテーブル150の記憶内容とソ4
物合計数データを読み込み、RAM124の対応する領
域に3IFき込む(ステップ290)。
Next, the microprocessor 120 has a floppy disk device to which the observation pair 'ρ wafer pattern (input from the keyboard 130 in job selection 11.5) is added.
The memory contents of table 150 stored in 28 and SO4
The total number of objects data is read and 3IF written into the corresponding area of the RAM 124 (step 290).

マイクロプロセッサ120は、RAM124ftのテー
ブル150から、各異物の位置情報とサイズ情報(Lコ
ード)を順次読み出し、Lコードに対応したドツトパタ
ーンデータをROM 122から読み出し、位置情報に
対応したビデオRAM 138のアドレス情報とともに
ビデオコントローラ140へ転送し、ビデオRAM 1
38に;l)き込ませる(ステップ295)。この処理
により、テーブル150に記憶されている異物のマツプ
がCRTディスプレイ装置128の画面に表小される。
The microprocessor 120 sequentially reads the position information and size information (L code) of each foreign object from the table 150 in the 124 ft RAM, reads the dot pattern data corresponding to the L code from the ROM 122, and stores the data in the video RAM 138 corresponding to the position information. It is transferred to the video controller 140 along with the address information and stored in the video RAM 1.
38 ;l) is written (step 295). Through this process, the map of the foreign matter stored in the table 150 is displayed on the screen of the CRT display device 128.

つぎにマイクロプロセッサ120は、インターフェイス
回路108を介して、モータコントローラ116に走査
位置の初期位置への位置決めを指事する(ステップ30
0)。以ド、指定モードにより処理が異なる。
Next, the microprocessor 120 instructs the motor controller 116 to position the scanning position to the initial position via the interface circuit 108 (step 30
0). The processing differs depending on the specified mode.

順次モードが指定された場合、マイクロプロセッサ12
0は、カウンタM(RAM124の領域124J)に1
をセットしくステップ320)、テーブル150のM番
1−1のエントリに格納されている異物(M番11に検
出された異物)のデータを読み出す(ステ、プ325)
。そして、その位置情報(x、/7)に対応した位置に
走査位置を移動させるための制御情報を、インターフェ
イス回路108を介してモータコントローラ116へ′
jえる(ステップ330)。モータコントローラ116
によりモータ14,24が制御され、正合位置の位置決
めがなされれば、当然、その光学顕微鏡52の視野の中
心に、1lHIしているM許[1の’/l!物が位置す
る。
If sequential mode is specified, the microprocessor 12
0 is 1 in counter M (area 124J of RAM 124)
(step 320), and reads the data of the foreign object (the foreign object detected at M number 11) stored in the entry of number M 1-1 in the table 150 (step 325).
. Then, control information for moving the scanning position to the position corresponding to the position information (x, /7) is sent to the motor controller 116 via the interface circuit 108.
(step 330). Motor controller 116
When the motors 14 and 24 are controlled by , and the proper position is determined, naturally, the center of the field of view of the optical microscope 52 will be the M axis [1'/l! Things are located.

マイクロプロセッサ120は、Mδ[1のlのLコード
に対応するII、j物パターンと、1番11(PはRA
M124の領域124にカウンタPの値)の異物のしコ
ードに対応する異物パターンをROM122から1読み
出し、1番11の異物のパターンはそのまま、MMll
の一°11物のパターンは1ズ転1−で、アドレス情報
とともにビー/オコントローラ140へ順次転送し、(
れらのパターンをビデイーRA Mの該当アドレスに、
1:き込・表せる(スミノブ335)。これで、CRT
 ティスフレ4装:;’; 128 b’) 画+fi
+に人生されている異物7ノプト、のM番)1の+1′
、4物f二けは、反転パターン、!:1.で人事される
こ吉になり、池の埴巳物と視覚的に1×別される。
The microprocessor 120 generates the II, J pattern corresponding to the L code of Mδ[1, and the 1st 11th (P is RA
One foreign object pattern corresponding to the foreign object code (counter P value) is read out from the ROM 122 in the area 124 of M124, and the foreign object pattern of No. 1 and 11 is left as is.
The pattern of 1° 11 objects is 1° inverted 1-, and is sequentially transferred to the B/O controller 140 along with address information, (
Insert these patterns into the corresponding address of Biddy RAM,
1: Capture and express (Suminobu 335). Now the CRT
Tisfret 4 volumes: ;'; 128 b') Picture + fi
Foreign body 7 nopt, M number) 1 +1' that is living in +
, 4 objects f 2 are inverted patterns,! :1. It becomes Kokichi, who is appointed, and is visually separated by 1x from the Hanami thing in the pond.

マイクロブロセ、す120は、インク−フェイス回路1
08を介しても″I置端報を順次取り込み、N1各II
のソ11物のイ1“I量情報と比較し1、イ\“メ置決
めの完1′を判定4−る(ステップ340)。位置決め
か完1’tルト、マイクロプロセッサ120は、観察+
1J能の旨のメノセーンをビデイRAM138に転送し
、CRTディスプレイ装置128の画面に人事させる(
 X ? ノブ345)。そして、キー人力を侍−)(
ステップ350)。
Microblossom 120 is ink-face circuit 1
Even through 08, the ``I position information is sequentially taken in, and N1 each II
It is compared with the quantity information of ``I'' of ``1'' of ``1'' to determine whether the placement of ``1'' is complete (step 340). Once the positioning is complete, the microprocessor 120 performs observation +
1J Noh message is transferred to the bidy RAM 138 and displayed on the screen of the CRT display device 128 (
X? knob 345). And the key human power is samurai-)(
step 350).

オペレークは、I/、i物の11視IIM察を11い、
・εの1へi物の↑ノ1質ないし種類を識別し、ぞの性
質ない1一種類のコードをキーボード130よ↓〕人0
す、:、Q゛夫゛際的には、11視観祭ン、(ブを指定
するこことにより、CRTディスプレイ装置128の画
面に、5′+1物の性質ない11、byt類1と化ジノ
の表が人事されており、その表の該当する番ぢを入力す
る。
Operate is I/, i object 11 view IIM view 11,
・Identify the quality or kind of i thing ↑ to 1 of ε, and write the 11 types of codes that do not have that quality on the keyboard 130 ↓] Person 0
:,Q゛゛Actually, by specifying the 11 viewing function, the screen of the CRT display device 128 is changed to 11, byte class 1, which does not have the property of 5'+1 object. Gino's table is filled with personnel information, so enter the appropriate number in that table.

マイノア0ブ[Jセッサ120は、人カフードカ異物の
性質ないし+p類の:1−ドならば(ステップ352)
、そのコードをテーブル150のM散[1の1ントりに
+”Fき込む(ステップ355)。たたし、人力コード
がタブなとの他のコードの場合は、スーj−,プ355
はスキップされる。
If the minor 0b [J seta 120 is the property of a foreign substance or +p class: 1-do (step 352)
, enter that code into the 1st integer of M scatter [1 +”F in table 150 (step 355). However, if the manual code is another code with a tab, enter
is skipped.

つぎに、マイクロプロセッサ120は、カウンタM、 
 Pを1だけインクリメントしくステップ360)、カ
ウンタMとカウンタN(この値は検出された異物の総合
1,1数になっている)との比較判定をhう(ステップ
365)。そして、M<Nならばステ、ブ325へ戻る
Next, the microprocessor 120 generates a counter M,
P is incremented by 1 (step 360), and a comparison is made between counter M and counter N (this value is the total number of detected foreign objects of 1.1) (step 365). If M<N, the process returns to Step 325.

また、M≧Nfよらば、RAM1381・のテーブル・
150の記憶内容と異物合、ij′F!データを、つ工
・\晶)ノとともに70Iビーデイスク’A置12 B
へ転送しくステーブ370)、ジョブメニュー両面伏σ
ざに1にる1、 ツバ番弓・指定モードか指定された1号合、マイクロプ
ロセッサ120はオペレークからの14物辱−ノの入力
を持つ(ステップ41Q)。キー人力かなされると、そ
の人力フードかlAi物番シJであるか′rり定する(
ステップ415)。l/、j物市−;でなければ、キー
人力を待つ。
Also, if M≧Nf, the table of RAM1381.
150 memory contents and foreign matter, ij'F! 70I B disk 'A, 12 B
Transfer to Stave 370), job menu double-sided σ
The 1st to the 1st, the cameras bow, the specified mode, the specified No. 1, the microscessor 120 has 14 insult -no input from the operake (step 41Q). When the key is manually operated, it is determined whether the human-powered hood or lAi product number is the same (
step 415). If not, wait for key personnel.

γ11物辱−ノがキー人力されると、マイクロプロセI
す120は、その異物?fr′I3をカウンタMにセ、
ノ;・シ(ステップ420)、ステップ325へ進む。
When γ11 insult-no is keyed, microprocessor I
Is Su120 that foreign object? Set fr'I3 to counter M,
(step 420), proceed to step 325.

その後、ステップ357でカウンタMの値がカウンタP
にセットされ、次のステップ400において、現71の
モードが6号指定モードかカーソル指定モードであるか
の判定が行われる。ここでは、番−じ指定モードである
から、ステップ410へ1)コる。
Thereafter, in step 357, the value of the counter M is changed to the value of the counter P.
In the next step 400, it is determined whether the current mode 71 is the No. 6 designation mode or the cursor designation mode. Since this is the number designation mode, the process goes to step 410 (1).

以ド同様にして I、¥物辱−3をキー人力することに
より、指定したソ4物かWl微鏡52の視野のほぼ中心
に自動的に位置決めされ、11視観察かなされ、11視
観察の結束がテーブル1.50の該当のエントリにノ1
き込1れる。
In the same way, by manually pressing the keys I and ¥3, the specified object is automatically positioned at the approximate center of the field of view of the Wl microscope 52, and the 11th observation is made. The unity of No. 1 in the corresponding entry in Table 1.50
I can get 1 in.

なお、70−チャートには、j(1されていないが、任
こ(の時点でキーボード130の終rキーを入力すれば
、市シシ指定モードが終rし、ステップ370の処理の
後、ジョブメニュー11i1biの状態に1<る。
In addition, in the 70-chart, if j (not 1) is entered, but if the end r key of the keyboard 130 is input at this point, the city specification mode will end, and after the processing in step 370, the job will be Go to the menu 11i1bi state.

カーソル指定モードについて説明する。カーソル指定モ
ードにおいては、オペレータは、キーボード130に設
けられているカーソル操作キーを操作することにより、
カーソル制御信号を通じてカーソルアドレスポインタ1
4OAを史新し、CRTディスプレイ装置128の1+
lII而に人事されているカーソルを、同しく画面に人
事されている目的の異物の位置に移動させ、キーボード
130のカーソル読込みキーを押ドすることにより、観
察すべき異物を指定する。
The cursor specification mode will be explained. In the cursor specification mode, the operator operates the cursor operation keys provided on the keyboard 130 to
Cursor address pointer 1 through cursor control signal
1+ of 4OA and 128 CRT display devices
The foreign object to be observed is designated by moving the cursor displayed on the screen to the position of the target foreign object, which is also displayed on the screen, and pressing the cursor read key on the keyboard 130.

このモードになると、マイクロプロセッサ120はキー
人力を待ち(ステップ430)、キー人力がなされると
、カーソル読込みキーのコードであるか判定する(ステ
ップ435)。判定結果がNOならば、キー人力待ちに
なる。
In this mode, the microprocessor 120 waits for a key input (step 430), and when a key input occurs, it determines whether it is the code for a cursor read key (step 435). If the determination result is NO, the process will wait for key personnel.

判定結束かYESであると、マイクロブロセ。If the decision is unity or YES, it will be microbrosé.

す120は、カーソルアドレスポインタ140Aノ内容
(カーソルアドレス)を読み取る(ステップ440)。
Step 120 reads the contents (cursor address) of cursor address pointer 140A (step 440).

そして、そのカーソルアドレスを対応する正合旬間、つ
まりン11物イ1冒1vシに変換する(ステップ445
)。
Then, the cursor address is converted to the corresponding correct combination, that is, 11 things, 1, 1, and 1 v (step 445).
).

次に、テーブル150をサーチし、求めたW物イλ°装
置とテーブル150に格納されている各異物のも°l置
と比較を11い、最も近い)+、i物を検索しくステ、
ブ450) 、その異物の6−;゛をカラン′りMにセ
ットする(ステップ455)。そして、ステップ325
へ進む。
Next, search the table 150, and compare the obtained W object and the λ° device with each foreign object stored in the table 150, and search for the closest)+, i object.
Step 450), and set the foreign object 6-;' on the trigger M (step 455). And step 325
Proceed to.

このようにして、カーソルで指定された〃1物が自動的
に顕微鏡の視1官fに旬間決めされ、その観察結束がテ
ーブル150の1亥当するエントリにI’Fき込まれる
In this way, the object specified by the cursor is automatically determined to be the object f of the microscope, and its observation result is entered into the corresponding entry in the table 150.

なお、国手されていないが、キーボード130の終rキ
ーを押ドすれば、ステップ370に分岐し、その終r後
にノ、rブ選択++In +f+iの状態になる。
Although the national hand has not been played, if the end r key on the keyboard 130 is pressed, the process branches to step 370, and after the end r, the state is set to ``R'' selection ++In +f+i.

1lif記11視観察によって、]1視観察の結束と自
動検合の結束、とか統合されたテーブルが得られる、。
By performing the 11th observation in 1life, you can obtain a table that integrates the 1st observation and the automatic verification.

なお、11視観察において、観察中の異物がCRTディ
スプレイ装置128に画面人生されている異物マツプ1
′に、反転パターンとして大小されるため、オペレータ
(観察者)は、観察中の異物を異物マツブト、で容易に
確認てきる。
In the 11-view observation, the foreign object being observed is displayed on the CRT display device 128 on the foreign object map 1.
Since the size is displayed as an inverted pattern, the operator (observer) can easily check the foreign object being observed using a foreign object detector.

ジョブ選択画面の状態において、「印刷」を指定すれば
、+′j!杏結果全結果Yプロ、り127より印刷出力
させることができる。
If you specify "Print" on the job selection screen, +'j! You can print out all the results from YPro 127.

印刷か指定されるど、第8図(F)に小されるように、
マイクロプロセツサ120は、・ウェハ輪郭画像データ
をフロ、ビーディスク装置126より読み出し、それを
プロッタコン]・ローラへ転送する(ステップ465)
When printing is specified, as shown in Figure 8 (F),
The microprocessor 120 reads out the wafer contour image data from the flow disk device 126 and transfers it to the plotter controller (step 465).
.

つぎにマイクロプロセ、す120は、印刷&=i 象の
ウェハの番シ3(ジョブ選択時にキーボード130より
人力される)がイ・1加され′Cフロ、ビーディスク装
置12Bに格納されているテーブル150の記憶内容と
5′H3物合1.i故データを順次読み出し、プロッタ
コントローラ137へ転送する(ステ。
Next, the microprocessor 120 prints the wafer number 3 (manually entered from the keyboard 130 when selecting a job) and stores it in the disk unit 12B. Memory contents of table 150 and 5'H3 combination 1. The data are sequentially read out and transferred to the plotter controller 137 (step.

ブ470)。470).

かくして、異物マツプ、テーブルの内容(表)、異物合
計数データ、ウェハ1l19 IIがX−Yブロンタ1
27に、より印刷される。
Thus, the foreign matter map, table contents (table), total number of foreign matter data, wafer 1l19 II is X-Y Bronta 1
Printed on 27th.

印刷が終rすると、ン2Iブ選択111r+iの状態に
Jにる。
When printing is finished, the state returns to 2I print selection 111r+i.

以1゛1、この発明の−・実施例について説明したが、
この発明はそれたけに限定されるものではなく、適宜変
形して実施し得るものである。
The embodiments of this invention have been described in 1.1 below.
This invention is not limited to this, but can be implemented with appropriate modifications.

例えば、検査系50の正合位置が常に顕微鏡52に入る
ようになっている必°災は必ずしもな(、走?iA)’
を置と視’i’fとが 定の位置関係を維持てきればよ
い。但し、前記実施例のようにすれば、11視観察中の
異物の識別などの処理が容易である。
For example, it is not always necessary for the correct position of the inspection system 50 to always enter the microscope 52.
It is sufficient if the positional relationship between the position and the visual field 'i'f is maintained. However, if the above embodiment is adopted, processing such as identification of foreign objects during 11-view observation is easy.

前記ホトマルチプライヤの代わりに、他の適当な光電素
子を用い得る。
Instead of the photomultiplier, other suitable photoelectric elements can be used.

走査は螺旋正合に限らす、例えば直線走査としてもよい
。但し、曲線上前は走査端で停止1するため、走査時間
が増加する傾向があり、また、ウェハのような円形など
の被検前面を走査する場合、走査端の(:1置制御かN
21Fになる傾向かある。しt−がって、ウェハなとの
5゛4物検杏の場合、螺旋正合が一般に自利である。
Scanning is limited to spiral alignment; for example, linear scanning may be used. However, since the front of the curve stops at the scanning end, the scanning time tends to increase.Also, when scanning the front surface of a circular object such as a wafer, the scanning end (: 1 position control or N
There seems to be a tendency for it to be on the 21st floor. Therefore, in the case of wafer inspection, spiral alignment is generally advantageous.

また、この発明は、ウェハ以外の7m +Q A而の異
物検査装置にも同様に適用し得ることは勿論である。ま
た、偏光レーザ光以外の光ビームを利用する同様な異物
検合装置にも、この発明は適用III能である。
Moreover, it goes without saying that the present invention can be similarly applied to a foreign matter inspection apparatus of 7 m + QA other than wafers. Further, the present invention can also be applied to similar foreign matter detection devices that utilize light beams other than polarized laser light.

[発明の効果コ 以1−説明したように、この発明によれば、スリ、トに
複数のアパーチャが設けられ、各アバー千ヤに対応させ
て光電素子を説けられ、8アパーチヤを通過した被検前
面からの反射光が角鉗状の(面鏡により分離されて対応
した光電素子に入射ぜしめられ、各光電素子は多重筒の
周囲に配置されるため、個々のアパーチャを小さくしC
も、上前線ピッチを大きくして検合時間を1υ縮するこ
占かできるとともに、人J(1のホ]・マルチブライV
を光電素子として採用した場合でも、その実装スペース
がノ1常に少なくてすむ、なとの効果を達成て八4、図
面のiTi ’l’な説明 第1図はこの発明に上る5IIi物検11装置のうし゛
)り′系なとの概’J2図、第2図は同一″ニ物検合装
置のイ3.弓系および処理制御系を小すw1略ブロック
図、第3図はスリ、トのアパーチャの配置と分離ミラー
の鏡面との対応関係の説明図、第4図は被検晶面正合の
説明図、第5図はスリ、トのアバー千ヤの被検合面1に
おける視!I!Fに関する説明図、第6図はl、llj
物のti’? i)Fとホトマルチプライヤの出カイ、
5号との関係、およびレベル比較の閾値との関係を小ナ
グラフ、第7図は検査処理に関連するテーブルの概念図
、第8図(A)ないしくF)は検査処理に関する処理の
フローチャート、第9図はスリットのアパーチャを曲線
的に配列した場合の光分離に関する説明図である。
[Effects of the Invention (Part 1) As explained above, according to the present invention, a plurality of apertures are provided in the slot and gate, and a photoelectric element is arranged in correspondence with each aperture. The reflected light from the detection surface is separated by a square mirror and incident on the corresponding photoelectric element, and since each photoelectric element is arranged around the multiple tube, the individual apertures can be made small and C
In addition, it is possible to reduce the inspection time by 1υ by increasing the upper front pitch, and it is also possible to reduce the inspection time by 1υ.
Even if it is adopted as a photoelectric element, the mounting space can always be reduced. Figure 2 is a schematic block diagram of the same two-piece inspection device. Figure 3 is a schematic block diagram of the bow system and processing control system. Fig. 4 is an explanatory diagram of the correspondence between the aperture arrangement and the mirror surface of the separating mirror; Fig. 4 is an explanatory diagram of alignment of the test crystal plane; Fig. 5 is an illustration of the alignment of the test crystal surface in Explanatory diagram regarding vision!I!F, Figure 6 is l, llj
Thing ti'? i) F and the output of the photomultiplier,
The relationship with No. 5 and the relationship with the level comparison threshold are shown in a small graph, FIG. 7 is a conceptual diagram of a table related to inspection processing, and FIG. 8 (A) to F) is a flowchart of processing related to inspection processing. FIG. 9 is an explanatory diagram regarding light separation when the apertures of the slits are arranged in a curved manner.

10・・・Xステージ、14.24・・・モータ、22
・・・回転ステージ、30・・・ウェハ、36.38・
・・S偏光レーザ光振Z4.44.46・・・ノリンド
リカルレンズ、50・・・検出系、52・・・顕微鏡、
12・・・スリット、74・・・アパーチャ、86・・
・S偏光カットフィルタ、88・・・分離ミラー、90
・・・ホトマルチプライヤ、100・・・加p増幅Z4
,102・・・レベル比較回路、108・・・インター
フェイス回路、116・・・モードコントローラ、!2
0・・・マイクロプロセッサ122・・・ROM、12
4・・・RAM、12B・・・フロッピーディスク装置
、127・・・X−Yプロッタ、128・・・CRTデ
ィスプレイ装置、130・・・キーボード、138・・
・ビデオRAM、150・・・テーブル。
10...X stage, 14.24...Motor, 22
... Rotating stage, 30... Wafer, 36.38.
... S-polarized laser light vibration Z4.44.46 ... Norindrical lens, 50 ... detection system, 52 ... microscope,
12...Slit, 74...Aperture, 86...
・S polarization cut filter, 88... Separation mirror, 90
...Photomultiplier, 100...Additional p amplification Z4
, 102...Level comparison circuit, 108...Interface circuit, 116...Mode controller,! 2
0...Microprocessor 122...ROM, 12
4...RAM, 12B...floppy disk device, 127...X-Y plotter, 128...CRT display device, 130...keyboard, 138...
-Video RAM, 150...table.

持1,1出顆人 11〜r電rエンジニアリング株式会祠代理人 弁理1
− 梶 山 信 足 あ3閉 第52 %B 第4−Q
Mochi 1, 1 Outgoing Person 11 ~ R Electric Engineering Co., Ltd. Agent Patent Attorney 1
- Nobu Kajiyama Foot A3 Closed 52nd %B 4th-Q

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)光ビームを照射された被検査面上の、スリットの
アパーチャの視野内の部分からの反射光を該アパーチャ
を介して光電素子に入射させ、前記アパーチャの視野を
前記被検査面上において走査方向に移動させ、前記光電
素子の出力信号に基づき前記被検査面における異物の存
否などを判定する異物検査装置において、前記アパーチ
ャは複数設けられ、それぞれのアパーチャに対応して前
記光電素子が設けられ、前記各アパーチャを通過した反
射光は角錐状の多面鏡の対応した鏡面により該多面鏡の
周囲に配置された対応した前記光電素子に向けて反射せ
しめられることを特徴とする異物検査装置。
(1) Reflected light from a portion of the surface to be inspected that is irradiated with a light beam within the field of view of the aperture of the slit is incident on the photoelectric element through the aperture, and the field of view of the aperture is set on the surface to be inspected. In the foreign matter inspection apparatus that moves in a scanning direction and determines the presence or absence of foreign matter on the surface to be inspected based on the output signal of the photoelectric element, a plurality of apertures are provided, and the photoelectric element is provided corresponding to each aperture. and the reflected light passing through each of the apertures is reflected by a corresponding mirror surface of a pyramidal polygonal mirror toward the corresponding photoelectric element arranged around the polygonal mirror.
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