JPS6267072A - 2,2,6,6-tetramethylpiperidylamide of substituted carboxylic acid and photostable polymer composition stabilized therewith - Google Patents

2,2,6,6-tetramethylpiperidylamide of substituted carboxylic acid and photostable polymer composition stabilized therewith

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JPS6267072A
JPS6267072A JP20321585A JP20321585A JPS6267072A JP S6267072 A JPS6267072 A JP S6267072A JP 20321585 A JP20321585 A JP 20321585A JP 20321585 A JP20321585 A JP 20321585A JP S6267072 A JPS6267072 A JP S6267072A
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compound
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chemical
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JP20321585A
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Japanese (ja)
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ウラジミル、イワノウイツチ、パラモノフ
ジナイダ、グリゴリエフナ、ポポワ
ライサ、ドミトリエフナ、フイリナ
タチアナ、アナトリエフナ、パンコワ
ガリナ、ワシリエフナ、クテイモワ
アナトリー、アレクサンドロウイツチ、エフイモフ
エルフイナ、イワノブナ、キリロワ
ボリス、ニコラエウイツチ、ゴルブノフ
ウラジミル、ピヨートロウイツチ、コロムイツイン
マルガリタ、ニエラエフナ、ボルコトルブ
レオニド、コンスタンテイノウイツチ、ポポフ
アルベルト、イワノヴイツチ、メドベデフ
タマラ、シドロフナ、ロマンチエンコ
リムマ、セルゲーエフナ、ウシヤコワ
アンゲリナ、フイヨードロフナ、テユーテレワ
アントニナ、テイモフエーエフナ、エメリアノワ
ガリナ、ピヨートロフナ、マラホワ
スベトラーナ、ワシリエフナ、クズネツオワ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ARUBERUTO IWANOUITSUCHI MEDOBE
ARUBERUTO IWANOUITSUCHI MEDOBEDEFU
MARUGARITA NIKORAEFUNA BORUKOT
MARUGARITA NIKORAEFUNA BORUKOTORUBU
Original Assignee
ARUBERUTO IWANOUITSUCHI MEDOBE
ARUBERUTO IWANOUITSUCHI MEDOBEDEFU
MARUGARITA NIKORAEFUNA BORUKOT
MARUGARITA NIKORAEFUNA BORUKOTORUBU
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08K5/00Use of organic ingredients
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    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D211/00Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
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    • C07D211/06Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D211/36Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、2,2,6.6−チトラメチルピペリジンの
誘導体に関し、更に詳細には新規化合物、即ち置換カル
ボン酸の2.2.6.6−チトラメチルピペリジルアミ
ドおよびそれによって安定化された光安定性重合体組成
物に関る、。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to derivatives of 2,2,6,6-titramethylpiperidine, and more particularly to novel compounds, namely 2,2,6-thitramethylpiperidine derivatives of substituted carboxylic acids. .6-titramethylpiperidylamide and photostable polymer compositions stabilized thereby.

これらの化合物は、例えば温室用重合体フィルム、化学
#錯、射出成形物品(各移のコンポーネント、ユニット
管)の製造において使用される高分子材料の製造用に使
用される高分子化合物用の安定剤として使用され得る。
These compounds are stabilizers for polymeric compounds used for example in the production of polymeric films for greenhouses, chemical complexes, polymeric materials used in the production of injection molded articles (transfer components, unit tubes). It can be used as an agent.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

大部分の部分子材料は、紫外−の効果に対して低い安定
性を有る、。その結果、それらは、迅速に劣化し、この
ようにしてそれらの利用性能ケ失う。
Most part-molecular materials have low stability to ultraviolet effects. As a result, they deteriorate quickly and thus lose their usefulness.

高分子材料をベースとる、光安定性組成物を与えろため
に、特殊な冷加剤、即ち光安定剤が、組成物に導入され
ろ。これらの添加斉:1は、高い光安定化効率を有して
いるべきである。
In order to provide a photostable composition based on polymeric materials, special cooling agents, or photostabilizers, are introduced into the composition. These additions should have high photostabilization efficiency.

現在、o−ヒドロキシベンゾフェノン(米[’F1!c
?許第3,641.213号明細書参照)および0−ヒ
ドロキシベンゾ) IJアゾール誘導体(米国特許第3
,824.192号明細書;  FRG%許第2.45
5 、155号明細書参照)は、高分子材料用光安定剤
として使用されている。しかしながら、これらの光安定
剤は、低い光安定化効率を有る、。
Currently, o-hydroxybenzophenone (US ['F1!c
? U.S. Pat. No. 3,641.213) and 0-hydroxybenzo) IJ azole derivatives (U.S. Pat.
, 824.192; FRG% Permit No. 2.45
5, 155) is used as a light stabilizer for polymeric materials. However, these photostabilizers have low photostabilization efficiency.

近年、立体障害アミン誘導体、特に2.2.6゜6−チ
トラメチルピペリジンの誘導体、例えば2゜2.6.6
−テトラメチル−4−ヒドロキシ−ピペリジンとカルボ
ン酸とのエステル(FRG%許第1.929.928号
明細書、第2.258.752号明細書参照〕は、高分
子材料(ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン
、ポリ塩化ビニル、ポリアミドなど)用の光安定剤とし
て広く使用されている。
In recent years, sterically hindered amine derivatives, in particular derivatives of 2.2.6°6-titramethylpiperidine, such as 2°2.6.6
Esters of -tetramethyl-4-hydroxy-piperidine and carboxylic acids (see FRG Percentage No. 1.929.928 and No. 2.258.752) can be made from polymeric materials (polyethylene, polypropylene, It is widely used as a light stabilizer for polystyrene, polyvinyl chloride, polyamide, etc.).

それらのうち実用的応用は、商品名[チヌピン(Tin
uvin) 770 J  で既知のビス−(2* 2
 * 6*6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバ
ケートによって晃出される( Modern Plas
tics 、 1975 。
Among them, the practical application is the product name [Tinupin (Tinupin)].
uvin) 770 J known as bis-(2*2
*Produced by 6*6-tetramethyl-4-piperidinyl) sebacate (Modern Plas
tics, 1975.

NO,5,32)。これらの化合物の光安定化効率は、
0−ヒドロキシベンゾフェノンおよび0−とドロキシベ
ンゾトリアゾール誘導体の光安定化効率よりもかなり高
い。しかしながら、これらの化合物も、強烈な日射の条
件下における高分子材料の十分に長い有効寿命を保証し
ない。
No. 5, 32). The photostabilization efficiency of these compounds is
It is significantly higher than the photostabilization efficiency of 0-hydroxybenzophenone and 0- and droxybenzotriazole derivatives. However, these compounds also do not guarantee a sufficiently long service life of polymeric materials under conditions of intense solar radiation.

〔発明が解決しようとる、問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

本発明は、追い光安定化効率を有る、であろう高分子材
料用の新規の光安定剤の提供に関る、。
The present invention relates to the provision of new light stabilizers for polymeric materials that may have follow-up light stabilization efficiency.

本発明に係る化合物は、新規であり、そして文献におい
て従来未知である。
The compounds according to the invention are new and hitherto unknown in the literature.

〔問題点をか決る、ための手段〕[Means for deciding the problem]

本発明に係る新規化合物、即ち置換カルボン酸の2.2
.6.6−チトラメチルビペリジルアミドは、以下の一
般式 (式中、nは1または2であり、nが1である場であり
、nが2で多)る場合には、AはOH1 であり、mは1または2で、f−)る)を有る、。
2.2 of novel compounds according to the present invention, namely substituted carboxylic acids
.. 6.6-Titramethylbiperidylamide has the following general formula (where n is 1 or 2, n is 1, and n is 2), then A is OH1, m is 1 or 2, and f-).

本発明に係る化合物ノは、融点82〜230’C乞有し
、脂肪族アルコールおよび塩素化炭化水非に浴ける白色
結晶付物質である。
The compound according to the invention is a white crystalline material with a melting point of 82-230'C and is resistant to aliphatic alcohols and chlorinated hydrocarbons.

それらの構造は、IR分光分析、元素分析および分子U
分析データによって確証された。
Their structures were determined by IR spectroscopy, elemental analysis and molecular U
Confirmed by analytical data.

重合体および光安定剤を含むπ:安定性重合体組成物は
、安定剤として前記式の置換カルボン酸の2.2,6.
6−チトラメチルピペリジルアミドを以下の成分割合(
重電幅) 重合体            99.0〜99.95
で含有る、。
A π:stable polymeric composition comprising a polymer and a light stabilizer comprises a substituted carboxylic acid of the formula 2.2,6.
6-titramethylpiperidylamide in the following component proportions (
Heavy voltage width) Polymer 99.0-99.95
Contains in.

周知の1合体、例えばポリオレフィン(高および低密度
ポリエチレン、ポリプロピレンおよびそれらの共重合体
)、ポリスチレンおよびその共重合体、ポリ塩化ビニル
、ポリアミド、ポリウレタンなどは、重合体として使用
され得る。
Known polymers such as polyolefins (high and low density polyethylene, polypropylene and copolymers thereof), polystyrene and copolymers thereof, polyvinyl chloride, polyamides, polyurethanes, etc. can be used as polymers.

本発明に係る光安定性重合体組成物の熱安定性を改善る
、ために、重合体の0.05〜0.3重4Fr係の爺の
熱安定剤もそれに配合る、ことが望ましい。
In order to improve the thermal stability of the light-stable polymer composition according to the present invention, it is desirable to also include a thermal stabilizer of 0.05 to 0.3 4 Fr in the polymer.

熱安定剤として、一般に既知の種類の鯖安定斉:I、例
えば立体障害フェノール誘導体(例えば、3゜5− シ
ー tert −フチルー4−ヒドロキシフエニルプロ
ピオン酸とペンタエリトリトールとのテトラエステル〔
イルガノックス(Irganox) 1010 ] ;
3.5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシフェニ
ルプロピオン酸やオクタデシルエステル(イルガノック
ス1076 ) ; 2 、2’−メチレン−ビス−(
4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)(AO
−2246) :ホスファイト(例えは、トリー(p−
ノニルフェニル)−ホスファイト〔ポリガード(Pol
ygard) ] )などから選択される化合物が、使
用され得ろ。
As thermostabilizers, generally known types of stabilizers are used, such as sterically hindered phenol derivatives (for example, the tetraester of 3°5-tert-4-hydroxyphenylpropionic acid and pentaerythritol [
Irganox 1010];
3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenylpropionic acid or octadecyl ester (Irganox 1076); 2,2'-methylene-bis-(
4-Methyl-6-tert-butylphenol) (AO
-2246): Phosphite (for example, tree (p-
nonylphenyl)-phosphite [Polyguard (Pol
Compounds selected from the following may be used:

光安定化効果を高めろために、紫外線吸収剤も光安定性
重合体組成物に沖合体の0.1〜0.3重量係の蛍で導
入る、ことが望ましい。紫外線吸収剤として、0−ヒド
ロキシベンゾフェノン誘導体〔例えば、2−ヒドロキシ
−4−オクチルオキシベンゾフェノン:シアソーブ(O
yasorb) OV 531 ]および]0−ヒドロ
ギシペンゾトリアゾール銹体計2−(3’、5’−ジー
tert−ブチル−7、’−ヒドロキシフェニル)−5
−クロロペンゾトリアゾール:チヌピン(Tinuvi
n) 327 〕、2− (2’−ヒドロキシ−5′−
メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール(テヌピンP)
が、使用され得ろ。
In order to enhance the photostabilizing effect, it is preferred that a UV absorber is also incorporated into the photostable polymer composition at a weight of 0.1 to 0.3. As ultraviolet absorbers, 0-hydroxybenzophenone derivatives [for example, 2-hydroxy-4-octyloxybenzophenone: cyasorb (O
yasorb) OV 531 ] and ]0-hydroxypenzotriazole 2-(3',5'-di-tert-butyl-7,'-hydroxyphenyl)-5
-Chloropenzotriazole: Tinupin (Tinuvi)
n) 327 ], 2- (2'-hydroxy-5'-
Methylphenyl)-benzotriazole (tenupin P)
But it can be used.

光安定剤、即ちrji換カルボン酸の2.2.6 。2.2.6 of light stabilizers, i.e. rji-substituted carboxylic acids.

6−テトラメチルビペリジルアミド、甚びに熱安定剤お
よび紫外線吸収剤の針は、一方で最大安定化効果の達成
により、そして他方で組成物の経済的効率により限定さ
れる。
The needles of 6-tetramethylbiperidylamide, as well as heat stabilizers and UV absorbers, are limited, on the one hand, by the achievement of a maximum stabilizing effect and, on the other hand, by the economic efficiency of the composition.

本発明に係る化合物によって安定化された高分子材料は
、はとんど各種の物品、例えばフィルム、#&維、板棒
として使用され得ろ。
The polymeric materials stabilized by the compounds according to the invention can be used in almost all kinds of articles, such as films, fibers, bars, etc.

〔作用〕[Effect]

本発明に係ろ置換カルボン酸の2.2.6.6−チトラ
メチルピペリジルアミドによって安定化された光安定性
重合体組成物は、それらの光安定性が0−ヒドロキシベ
ンゾフェノンおよび0−ヒドロキシベンゾトリアゾール
誘導体によって安定化された光安定性重合体組成物より
も1.5〜4倍優れており、そして2.2.6.6−テ
トラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとカルボン哨と
のエステルをベースとる、組成物よりも】0〜15%優
れている。更に、本発明に係る置換カルボン酸の2.2
,6.6−テトラメチルビペリジルアミドは、ポリスチ
レンプラスチックス内で熱安定化効果を有る、。
Photostable polymer compositions stabilized by 2.2.6.6-titramethylpiperidylamide of substituted carboxylic acids according to the present invention are characterized in that their photostability differs from that of 0-hydroxybenzophenone and 0-hydroxybenzophenone. 1.5 to 4 times better than photostable polymer compositions stabilized by triazole derivatives and based on the ester of 2.2.6.6-tetramethyl-4-hydroxypiperidine and carvone 0 to 15% better than the composition. Furthermore, 2.2 of the substituted carboxylic acids according to the present invention
, 6.6-Tetramethylbiperidylamide has a thermal stabilizing effect in polystyrene plastics.

置換カルボン酸の2.2,6.6−チトラメチルピペリ
ジルアミドの製法、並びにそれによって安定化された光
安定性重合体組成物の製造法は、単純であり、標準装置
を使用し、そして以下の方法で実Iへされ得る。
The method for preparing substituted carboxylic acid 2,2,6,6-titramethylpiperidylamide, as well as the photostable polymer compositions stabilized thereby, is simple, uses standard equipment, and follows the steps below. can be converted to real I in the following manner.

本発明に係る化合物の製法は、同時に発生低級アルコー
ルまたは水を留去しながら170〜210℃の虻囲内の
温度において役またはそれらの低級エステルを2.2,
6.6−テトラメチル−4−アミノピペリジン(トリア
セトンジアミン)によってアミド化る、既知の反応に基
づく(ペイガンドーヒルゲターグ「有機化学におけろ実
鹸法」、「キミャ」バプリッシャーズ、モスクワ、19
68年、第445頁、第454頁参照)。目的生成物は
、有機溶媒からの再結晶によって岸離される。
The method for producing compounds according to the present invention involves converting compounds or their lower esters to 2.2 to 2.2% at an ambient temperature of 170 to 210°C while simultaneously distilling off the generated lower alcohol or water.
6. Based on the known reaction of amidation with 6-tetramethyl-4-aminopiperidine (triacetone diamine) (Pagan Dohilgetag, "The Practical Method in Organic Chemistry", "Kimya", Baplishers, Moscow, 19
68, pp. 445, 454). The desired product is removed by recrystallization from an organic solvent.

光安定性重合体組成物は、欅準工業的方法によって調製
される。光安定剤は、)°合体生成段階または物品への
加工段階のいずれかにおいて重合体に導入される。本性
は、如何なる標章装置(押出機、ミル、射出成形機)を
使用しても行われる。
The photostable polymer composition is prepared by semi-industrial methods. The light stabilizer is introduced into the polymer at either the )° coalescence production stage or the processing stage into an article. This is done using any marking equipment (extruder, mill, injection molding machine).

光安定剤は、個々にまたは対応の溶媒または分散剤中の
溶成または懸濁液の形態のいずれかによって1に合体に
;、il、入され得る。
The light stabilizers can be incorporated either individually or in the form of a solution or suspension in the corresponding solvent or dispersant.

pA安定剤もiよひ紫外線吸収剤は、重合体生成段階お
よびその加工段階の両方において導入され得ろ。
UV absorbers as well as pA stabilizers may be introduced both at the polymer production stage and at its processing stage.

〔実施例〕〔Example〕

本発明の理解を深めろ1こめに、若子の特定の例を例示
として以下に示す。
For a better understanding of the invention, a specific example of Wakako is provided below by way of illustration.

例1 撹拌機、温度計、下降冷却熱を有る、ウルツバッキング
および受容器を備えた100m1の三つロフラスコに、
)リア七トンジアミン15.62 gおよびN−シクロ
ヘキシルアミノ酢酸のエチルエステル18.39 gを
仕込み、そしてエタノールの発生が停止されるまで18
0〜210℃の範囲内の温度で加熱る、。反応物の冷却
後、生成物乞トルエンから再結晶して83℃で溶融る、
目的生成物、即ちN−シクロヘキシルアミノ酢酸の2.
2,6.6−テトラメチルビペリジルアミド(I) (
CttHss)iso) 25.1g()リアセトンジ
アミン九対して計算したときの理kja値の85係)を
与える。
Example 1 In a 100 ml three-necked flask equipped with a stirrer, thermometer, descending heat of cooling, Wurtz backing and receiver,
) 15.62 g of N-cyclohexylaminoacetic acid ethyl ester and 18.39 g of ethyl ester of N-cyclohexylaminoacetic acid were charged and the
Heating at a temperature within the range of 0-210°C. After cooling the reactants, the product is recrystallized from toluene and melts at 83°C.
2. of the desired product, namely N-cyclohexylaminoacetic acid.
2,6,6-tetramethylbiperidylamide (I) (
CttHss) iso) gives 25.1 g (85th coefficient of the theoretical kja value when calculated for 9 lyacetone diamine).

元素組成: 01.H33N、O分子量計算値壬: 0
69.11、Hlス、26、N 14.23 295.
47実典1値% : C68,98、)111.56、
N 14.08 290.7IR分光分析データ: VC,Q(アミドI)am1665cm−’;  δk
lH(アミドII)w1510cm−’;’NH”” 
3360 cm  0 例2 本例の化合物、即ちN−モルホリノ酢酸の2゜2.6.
6−チトラメチルピペリジルアミド(「)を前記例IK
記載の方法に従ってトリアセトンジアミン15.62 
gおよびN−モルホリノ酢酸エチレ−) 17.28 
gから得る。目的生成物の収量は26.24 E (ト
リアセトンジアミンに対して計算したときの理論値の9
2.6チ)で矛・す、融点は103℃である(トルエン
)。
Elemental composition: 01. H33N,O molecular weight calculation value: 0
69.11, Hls, 26, N 14.23 295.
47 Actual 1 value%: C68,98,) 111.56,
N 14.08 290.7 IR spectroscopy data: VC, Q (amide I) am 1665 cm-'; δk
lH (amide II)w1510cm-';'NH""
3360 cm 0 Example 2 2°2.6.
6-titramethylpiperidylamide (') in Example IK above.
Triacetone diamine 15.62 according to the method described
g and N-morpholinoacetic acid ethyl) 17.28
Obtained from g. The yield of the desired product was 26.24 E (9% of the theoretical value calculated for triacetone diamine).
It has a melting point of 103°C (toluene).

元素組成: 01s’z嘗N、02   分子量1;1
算値%: c 63.57、H10,31、N 14.
82 283.42夾tllllj値%: C63,7
4、H10,28、N 14.48 317.8IR分
光分析データニ ジ0=CI(アミド1)−1685cm−’HδNH(
7ミドII ) ms 15150m−” ;1/NH
−33850n  。
Elemental composition: 01s'z嘗N, 02 Molecular weight 1; 1
Calculated value %: c 63.57, H10,31, N 14.
82 283.42 tllllj value%: C63,7
4, H10,28, N 14.48 317.8 IR spectroscopic analysis data 0=CI(amide 1)-1685cm-'HδNH(
7mid II) ms 15150m-”;1/NH
-33850n.

例3 本例の化合物、即ちN−ピペリジノ酢酸の2゜2.6.
6−チトラメチルピペリジルアミド(tri)を前記例
1に記載の方法と同様の方法でトリアセトンジアミン6
2.5 g およびN−ピペリジノ酢酸エチレー) 6
8.34 gから生成る、。目的生成物の収量は90.
74 g()リア七トンジアミンに対して計算したとき
の理論値の80.6%)であり、融点は77℃である(
トルエン)。
Example 3 The compound of this example, namely N-piperidinoacetic acid, had a 2°2.6.
6-titramethylpiperidylamide (tri) was treated with triacetone diamine 6 in a manner similar to that described in Example 1 above.
2.5 g and ethyl N-piperidinoacetate) 6
Produced from 8.34 g. The yield of the desired product was 90.
74 g (80.6% of the theoretical value when calculated on 74g), and the melting point is 77°C (
toluene).

元素組成: C111H31’30    分子量計獅
値係: 068.28.1111.10. N 14.
93 281.45実測値係: c 68.61、H1
0,91、N 14.83 280.4IR分光分析デ
ータ: νc、、o(アミドI )−1680am−1
;δHa(アミドII)−1510Cm−’ ;  v
HHwm3375 Cm−”。
Elemental composition: C111H31'30 Molecular weight meter value: 068.28.1111.10. N 14.
93 281.45 Actual measurement value: c 68.61, H1
0,91,N 14.83 280.4IR spectroscopy data: νc,,o(amide I)-1680am-1
; δHa (amide II)-1510Cm-'; v
HHwm3375 Cm-”.

例゛4 本例の化合物、即ちアニリン酢酸の2.2,6゜6−チ
トラメチルピペリジルアミド(rV)Y例1に記載の方
法に従ってトリアセトンジアミン23.44gおよびア
ニリノ酢酸エチレート26.8 gから生成る、。
Example 4 The compound of this example, namely 2,2,6°6-titramethylpiperidylamide (rV) of anilineacetic acid, was prepared from 23.44 g of triacetone diamine and 26.8 g of anilinoacetic acid ethylate according to the method described in Example 1. generate,.

目的生成物の収量は35.7 g () !Jアセトン
ジアミンに対して計算したときの理論値の82.2%)
であり、融点は175℃である(イソプロパツール)。
The yield of the desired product was 35.7 g ()! 82.2% of the theoretical value when calculated for J acetone diamine)
and the melting point is 175°C (isopropanol).

元素組成:C17H2?N30    分子量計算値%
: (! 70.55、H9,401IN 14.52
 289.4実測値優:070.34、H9,96、N
 14.68 282.5IR分光分析テータ ニジc
−o(アミドI )−1655cm−’ ;δNH(ア
ミドI’! )81500 Ca1l−1;  l/H
H”3390,3440 (4m  0例5 本例の化合物、即ちピペラジンのN 、 N’−ビス(
2,2,6,6−チトラメチルピペリジル)アセトアミ
ド(V)を前記例1に記載の方法に従ってトリアセトン
ジアミン31.25 gおよびN 、 Nl−ピペラジ
ノジ酢酸ジエチレート25.75 gから生成る、。
Elemental composition: C17H2? N30 Calculated molecular weight%
: (! 70.55, H9,401IN 14.52
289.4 actual value excellent: 070.34, H9,96, N
14.68 282.5 IR spectroscopic analysis data Niji c
-o(amide I)-1655cm-'; δNH(amide I'!)81500 Ca1l-1; l/H
H”3390,3440 (4m 0 Example 5 The compound of this example, namely piperazine N,N'-bis(
2,2,6,6-titramethylpiperidyl)acetamide (V) is prepared from 31.25 g of triacetone diamine and 25.75 g of N,Nl-piperazinodiacetic acid diethylate according to the method described in Example 1 above.

目的生成物の収量は37g(トリアセトンジアミンに対
して計゛1tシたときの理論値の77.3%)であり、
融点は230℃である(トルエン)。
The yield of the target product was 37 g (77.3% of the theoretical value when totaling 1 t based on triacetone diamine),
The melting point is 230°C (toluene).

元¥組成 : C’26H5ON11°2   分子搦
計111〔イm % :  C65,23、H10,5
3、N  17.55   478.7実測値憾: O
65,30、H10,60、N 17.78 472.
5工R分光分析データ” C,O(アミドI )−16
50c+n−’ ;δNu(アミドII )−1530
an−1,1500am−’;  v、−53350c
m−5゜例6 本例の化合物、部ちN−シクロヘキシルアミノプロピオ
ン酸の2.2,6.6−チトラメチルピペリジルアミド
(Vl)を例1に記載の方法と同様の方法でトリアセト
ンジアミン31.25 gおよびN−シクロヘキシルア
ミノプロピオン酸メチレート37.05 gから生成る
、。目的生成物の収量は53.4g()リア七トンジア
ミンに対して計算したときの理論値の86.4%)であ
り、融点は122℃である。
Yuan composition: C'26H5ON11°2 Molecular weight meter 111 [im%]: C65.23, H10.5
3, N 17.55 478.7 Actual value: O
65,30, H10,60, N 17.78 472.
5 Engineering R spectroscopic analysis data “C,O (amide I)-16
50c+n-'; δNu (amide II)-1530
an-1,1500am-'; v, -53350c
m-5゜Example 6 The compound of this example, 2,2,6,6-titramethylpiperidylamide (Vl) of N-cyclohexylaminopropionic acid, was treated with triacetone diamine in a manner similar to that described in Example 1. 31.25 g and 37.05 g of N-cyclohexylaminopropionic acid methylate. The yield of the desired product is 53.4 g (86.4% of theory, calculated on lyatone diamine) and the melting point is 122°C.

元素組成: CraH3sNsO分子)計算細幅: C
69,85、H11,40,N 13.58 309.
5実測値%: G 69.55、H11,32、N 1
3.43 308.21R分光分析データ :’(40
(アミドI )−1670cm−” ;δNH(アミド
u )=1560 em−’ i  WHH−3240
,33200m−’ 。
Elemental composition: CraH3sNsO molecule) Calculated width: C
69,85, H11,40, N 13.58 309.
5 Actual value%: G 69.55, H 11,32, N 1
3.43 308.21R spectroscopic analysis data:'(40
(Amide I)-1670 cm-''; δNH (amide u)=1560 em-' i WHH-3240
,33200m-'.

例7 本例の化合物、即ちピペラジンのN 、 Nl−ビス−
(2,2,6,6−テトラメチルビペリジル)−プロピ
オアミド(■1)を例1に記載の方法と同様の方法でト
リアセトンジアミン31.25 gおよびN。
Example 7 The compound of this example, i.e. piperazine, N,Nl-bis-
(2,2,6,6-Tetramethylbiperidyl)-propioamide (1) was prepared in a manner analogous to that described in Example 1 with 31.25 g of triacetone diamine and N.

N1−ピペラジノジプロピオン酸ジメテレート25・8
gから生成る、。目的生成物の収量は34.4 g()
リア七トンジアミンに対して計算したときの理論値の6
8%)であり、融点は161℃である(トルエン)。
N1-Piperazino dipropionic acid dimetate 25.8
Generated from g. The yield of the desired product was 34.4 g ()
The theoretical value of 6 when calculated for ria-7tondiamine
8%) and has a melting point of 161°C (toluene).

元非組成: O,H54N、02   分子量計A値%
: C66,36、H10,74、N 16.58 5
06.78実測値% : C66,64、H10,71
、l’l 16.01 502.3IR分光分析データ
 :レイ。(アミドI )ml、650an−’Hδ冊
(アミド■)謬1530ビ1; し皿−3330,34
00口f1゜例8 本例の化合物、ljDちべ/ジルアミノプロピオン酸の
2.2,6.6−テトラメチルビペリジルアミド(■)
を前記例1に記載の方法に従ってトリアセトンジアミン
46.9 g およびベンジルアミノプロピオン酸メチ
レート58gから生成る、。目的生成物の収量は73.
14 g (トリアセトンジアミンに対して計算したと
きの理論値の76.8%)に等しく、融点は132℃で
ある(トルエン)。
Original non-composition: O, H54N, 02 Molecular weight meter A value%
: C66,36, H10,74, N 16.58 5
06.78 Actual value%: C66,64, H10,71
, l'l 16.01 502.3 IR spectroscopy data: Ray. (amide I) ml, 650an-'Hδ volume (amide ■) 1530 bi1; plate-3330,34
00 mouth f1゜Example 8 Compound of this example, 2,2,6,6-tetramethylbiperidylamide (■) of ljD chibe/dylaminopropionic acid
is prepared from 46.9 g of triacetone diamine and 58 g of benzylaminopropionic acid methylate according to the method described in Example 1 above. The yield of the desired product was 73.
14 g (76.8% of theory calculated on triacetone diamine), with a melting point of 132° C. (toluene).

元素組成” 019H31N30    分子量計算値
幅: c n、88、!19.84、N 13.24 
 317.5実測値%: 071.92、)19.68
、N 13.71  318.5正分光分析データ :
’co(アミドI ) # 1660 am−1。
Elemental composition 019H31N30 Calculated molecular weight range: c n, 88, !19.84, N 13.24
317.5 Actual value %: 071.92, ) 19.68
, N 13.71 318.5 Spectroscopic analysis data:
'co(amide I) #1660 am-1.

’IJH(アミド[)i565cm  、  シNH−
3330(4m  。
'IJH(amide[)i565cm, siNH-
3330 (4m.

例9 本例の化合物、即ちN−モルホリノグロピオン酸の2.
2,6.6−テトラメテルピペリジルアミド(IX)を
前記例1に記載’10)方法に従ってトリアセトンジア
ミン15.62 gおよびN−モルホリノプロピオン酸
メチレート17.32 gから生D’i″fろ。目的生
成物の収すは27g()リア七トンジアミンに対して1
春したとぎの理論値の90.8幅)であり、融点は82
℃である(イソプロパツール)。
Example 9 The compound of this example, namely 2.
2,6,6-Tetramethelpiperidylamide (IX) was filtered from 15.62 g of triacetone diamine and 17.32 g of N-morpholinopropionic acid methylate according to the method described in Example 1 above. The yield of the desired product is 1 for 27 g ()
90.8 range of the theoretical value of spring), and the melting point is 82
°C (isopropanol).

元素組成 : 016”31N302    分子量計
算餉チ: C64,61、H10,51、N 14.1
3 297.4央6川イ■ % :  c  64.4
5、 H10,26、N  14.22    29L
5IR分光分析データ ニジ。。(アミド1 )−16
30(至)−1;’Nu (アミド旧−1510Cm−
’ ;  VHH−3450,3270cm−’。
Elemental composition: 016"31N302 Molecular weight calculation: C64,61, H10,51, N 14.1
3 297.4 central 6 river i ■ %: c 64.4
5, H10,26, N 14.22 29L
5IR spectroscopy data Niji. . (amide 1)-16
30(to)-1;'Nu (amide old-1510Cm-
'; VHH-3450, 3270cm-'.

例10 本例の化合物、即ちN−ピペリジノプロピオン酸の2.
2,6.6−テトラメチルビペリジルアミド(X)を例
1に記載の方法と181様の方法でトリアセトンジアミ
ン31.25 gおよびN−ピペリジノプロピオン酸メ
チレート34.20 g、から生成る、。
Example 10 The compound of this example, namely 2.
2,6,6-Tetramethylbiperidylamide (X) was prepared by the method described in Example 1 and similar to 181 from 31.25 g of triacetone diamine and 34.20 g of N-piperidinopropionic acid methylate. generate,.

目的生成物の収11は29.3 g (トリアセトンジ
アミンに対して計ヤしたときの理論値の49.6%)に
等しく、融点は133℃である(ヘキサン)。
The yield 11 of the desired product is equal to 29.3 g (49.6% of theory, calculated on triacetone diamine) and the melting point is 133° C. (hexane).

元素組成 : C17Hss Ns O分子量*+4r
J イ16  % :  C69,111H11,26
、N  14.22   295.47)良!6111
 イp % :  C69,47、1d11.84 、
 l’+  14.63   298.3IR分光分析
データ ニジ(j)(アミドI )−1630cm−1
;’NH(7<ドIf )−1520am−1;  シ
NH−3400. 3250 am−”。
Elemental composition: C17Hss Ns O molecular weight *+4r
J I16%: C69,111H11,26
, N 14.22 295.47) Good! 6111
Ip%: C69.47, 1d11.84,
l'+ 14.63 298.3 IR spectroscopic analysis data Niji (j) (amide I) - 1630 cm-1
;'NH(7<If)-1520am-1; NH-3400. 3250 am-”.

例11 不法の化合物、R[Iち2’、 2’、 6’、 6’
−7) 7.)’ナルピペリジルアミノプロピオン酸の
2.2,6゜6−テトラメチルビベリジルアミド(xl
)を例1に記載の方法と同様の方法でトリアセトンジア
ミン31.25 gおよびアクリル酸メチル8.6gか
ら生成る、。目的生成物の収量は、29.33 g(ア
クリル酸メチルに対して計11シ1こときり理論値の8
0係)であり、融点は139℃である(酢酸エチル)。
Example 11 Illegal compound, R[Ichi2', 2', 6', 6'
-7) 7. )'2,2,6°6-tetramethylbiveridylamide (xl) of nalpiperidylaminopropionic acid
) is prepared in a manner analogous to that described in Example 1 from 31.25 g of triacetone diamine and 8.6 g of methyl acrylate. The yield of the desired product was 29.33 g (total of 11 sheets per methyl acrylate, the theoretical value of 8
0) and has a melting point of 139°C (ethyl acetate).

元素組成 : C21H42N4”     分子量計
り値%: C68,80、H11,55、N 15.2
8 366.6実測値%: C68,75、Hll、6
2、N 15.47 365.8IR分光分析データ 
: ’c、o(アミドI )−1660cm−’ ;J
NH(アミドII ) #m1510 cm−1;  
シ14H−3260、3435 CDD−’ 。
Elemental composition: C21H42N4” Molecular weight %: C68.80, H11.55, N 15.2
8 366.6 Actual value%: C68,75, Hll, 6
2, N 15.47 365.8 IR spectroscopic analysis data
: 'c,o(amide I)-1660cm-';J
NH (amide II) #m1510 cm-1;
14H-3260, 3435 CDD-'.

例12 本例の化合物、即ちフェノキシ酢唯の2.2゜6.6−
チトラメチルピペリジルアミド(Xfl)Y例1に記載
の方法に従ってフェノキシ酸へ呪15.21 gおよび
トリアセトンジアミン15.62 gから生成る、。目
的生成物の収量は24.5 g()リアセトンジアミン
に対して計7したときの理6萌仙の84.3 % )で
あり、融点は85℃である(トルエン)。
Example 12 The compound of this example, i.e. 2.2°6.6-
Citramethylpiperidylamide (Xfl) Y produced from 15.21 g of phenoxy acid and 15.62 g of triacetone diamine according to the method described in Example 1. The yield of the desired product was 24.5 g (84.3% of the total weight of 7% based on lyacetone diamine), and the melting point was 85° C. (toluene).

元素組成 : (+tHzaNzOz    分子量計
算値%: 070.31、H9,02、N 9.65 
 290.41実aill値%: 069.91、H8
,9m、N 9.48  307.01R分光分析デー
タ” ’080(アミドI )W1670 am−1;
’N)i(7ミドII ) m 1500 Cm−’ 
; V NHm 3290 Cm″″1゜汐1113 不例の化合物J1即ちフェニルチオ酢酸の2,2゜6.
6−チトラメチルピペリジルアミド□GJI)をf/l
I 1に記載の方法と同様の方法でトリアセトンジアミ
ン15.62 gおよびフェニルチオrn酸エチレート
20.6 gから生成る、。 目的生a物の収電は23
.25g(lリアセトンンアミンに対して計算したとき
の理論値の75.9%)であり、融点は94℃である(
ヘキサン) 元素組成 : C’+7”211射280    分子
蓋i’it JNlm % : e 66.62、)1
8.55、N 9.14、 306.47810.46 夾1ull +#  % :  0 66.35 、 
)1 8.61 、 N9.08 、   303.4
810.23 IR分光分析データ: l’c、o(7ミドI)−16
80cm  。
Elemental composition: (+tHzaNzOz calculated molecular weight %: 070.31, H9.02, N 9.65
290.41 Actual aill value%: 069.91, H8
, 9m, N 9.48 307.01R spectroscopic analysis data "'080 (amide I) W1670 am-1;
'N)i (7mid II) m 1500 Cm-'
; V NHm 3290 Cm″″1° 1113 Unexamined compound J1, 2,2°6 of phenylthioacetic acid.
6-titramethylpiperidylamide□GJI) f/l
I 1 from 15.62 g of triacetone diamine and 20.6 g of phenylthiornic acid ethylate. The charge of the target organism a is 23
.. 25 g (75.9% of theory calculated on 1 chloride amine) and has a melting point of 94°C (
Hexane) Elemental composition: C'+7"211 rays 280 Molecular lid i'it JNlm %: e 66.62,)1
8.55, N 9.14, 306.47810.46 1ull +#%: 0 66.35,
)1 8.61, N9.08, 303.4
810.23 IR spectroscopy data: l'c,o(7mido I)-16
80cm.

JNH(アミドII ) −1505cm−’ r  
’N11m3420.3220 cm−’。
JNH (amide II) -1505cm-'r
'N11m3420.3220 cm-'.

例14 本例の化合物、即ちn −tert−ブチルフェノキシ
酢酸の2.2,6.6−テトラメテルビベリジルアミド
(xIv)馨前記例1に記載の方法と同トにの方法でト
リアセトンジアミン15.62 Fおよびn−tert
 −7’チルフエノキシ酢酸エチレー) 23.7 g
から生成る、。目的生成物の収−1+、は19.9 g
(トリアセトンジアミンに対して計算したときの理K 
m(1)57.4%)であり、融点は88°Cである(
ヘキサン)。
Example 14 The compound of this example, namely 2,2,6,6-tetrametherbiveridylamide (xIv) of n-tert-butylphenoxyacetic acid, was prepared using triacetone in the same manner as described in Example 1 above. Diamine 15.62 F and n-tert
23.7 g
Generate from. Yield of target product -1+, is 19.9 g
(The theory K when calculated for triacetone diamine
m(1) 57.4%), and the melting point is 88°C (
hexane).

元素組成: C21H42202分子量計nm % :
 072.79、H9,89、N 8.08  346
.52実側値%: 072.70、H9,94、N 8
.08  349.10IR分光分析データニジcxo
 (アミド1)−1685CIIl−’;δNH(アば
ドII )−1530am″″’ ;  v、(H−3
430cm−’ 。
Elemental composition: C21H42202 molecular weight meter nm %:
072.79, H9,89, N 8.08 346
.. 52 Actual value%: 072.70, H9,94, N 8
.. 08 349.10IR spectroscopic analysis data Niji CXO
(amide 1)-1685CIIl-'; δNH (Avado II)-1530am''''; v, (H-3
430cm-'.

例15 本例の化合物、即ちビス−(2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジルアセトアミド)−2’、2’−フェノキ
シプロパン(XV)を前記例1に記載の方法に従ってト
リアセトンジアミン15.52 gおよび4,4′−フ
ェニルオキシフ゛ロピオン′酸ジエテレ−ト18.42
 gから生成る、。目的生成物の収量は27.6 g(
)リアセトンジアミンに対して計算したときの仰詮値の
89チ)であり、融点は79℃である(ガソリン/トル
エン)。
Example 15 The compound of this example, bis-(2,2,6,6-tetramethylpiperidylacetamide)-2',2'-phenoxypropane (XV), was prepared using triacetone diamine 15. 52 g and 18.42 g of 4,4'-phenyloxypropionic acid dieterate
Generated from g. The yield of the desired product was 27.6 g (
) and a melting point of 79°C (gasoline/toluene).

元素組成 :C3フH56N404     分子を計
算値%: C71,58、H9,09、N 9.02 
 620.88実泪j)偵%: C7]、44、H9,
13、N 8.86  627.00IR分光分析デー
タニジ。−8(アミドI ) m 1670 cm−’
 ;δ  (アミドII )# 1520 Cm−’ 
;  しN、=−3430,3270am−’。
Elemental composition: C3F H56N404 Calculated value % of molecules: C71.58, H9.09, N 9.02
620.88 Reality %: C7], 44, H9,
13, N 8.86 627.00 IR spectroscopy data Niji. -8 (amide I) m 1670 cm-'
; δ (amide II) # 1520 Cm-'
; ShiN, =-3430,3270am-'.

hi 例16 本例の化合物、即ちβ−(21、zl 、 sl 、 
sl −テトラメチルピペリジルアミノ)−クロトン酸
の2.2,6.6−テトラメチルビベリジルアミド(X
VI)i例1に記載の方法と同様の方法でア七ト酢mエ
ーテル65.07 g ′に:よびトリアセトンジアミ
7156.26 gから生成る、。 目的生成物の収量
は115.3 g()リアセトンジアミンに対して計算
したときの理論値の61.01 )であり、融点は20
2℃す である(インプロパツール)。
hi Example 16 The compound of this example, namely β-(21, zl, sl,
2,2,6,6-tetramethylbiveridylamide (X
VI) i Produced in a manner analogous to that described in Example 1 from 65.07 g of acetate mether and 7156.26 g of triacetone diamide. The yield of the desired product was 115.3 g (61.01 g of theory calculated on lyacetone diamine), and the melting point was 20
It's 2 degrees Celsius (Inpropa Tools).

元素組成: O,H421440分子お計算値%: c
 69.79、H11,18、N 14.80 378
.61夾測値チ: 069.94、H11,20,N 
14.70 388.OIR分光分析デー” ’0.0
(7ミドI )−1680cm−’ ;δNH(アミド
n ) −a 1520 cm−’ ;  y   m
 3400 cm−’、イ、−H 1640cm  0 例17 アセトンに俗解した21 、21 、61 、61−テ
トラメチルピペリジルアミノプロピオン酸の2.2゜6
.6−テトラメチルピベリジルアミド(化合物XI )
 0.3重量部馨粉宋状ポリプロピレン99.71M債
部に導入る、。得られた混合物を、アセトンを蒸発しな
がら挑拝し、次いで実験室ミキサーに導入し、そしてそ
の中で30分間処理る、。その結果、均−物ヲ裏遺し、
それから)8Iさ120μmのフィルムを210±2°
Cの温度において圧縮成形る、。次いで、フィルムを耐
候キャビネットキセノテスト(Xθnotest) 1
200における光酸化老化に付す。フィルムの破壊度を
IR分光計において0.3に等しいカルボニル指数に達
る、時間によう【評価る、。
Elemental composition: O, H421440 molecule Calculated value %: c
69.79, H11,18, N 14.80 378
.. 61 measured value: 069.94, H11,20,N
14.70 388. OIR spectroscopy data” '0.0
(7mid I)-1680 cm-'; δNH (amide n)-a 1520 cm-'; y m
3400 cm-', -H 1640 cm 0 Example 17 2.2゜6 of 21, 21, 61, 61-tetramethylpiperidylaminopropionic acid, commonly understood as acetone
.. 6-Tetramethylpiveridylamide (Compound XI)
Introduce 0.3 parts by weight of powdered polypropylene into the 99.71M unit. The resulting mixture is stirred while the acetone is evaporated, then introduced into a laboratory mixer and treated therein for 30 minutes. As a result, uniformity was left behind,
Then) 8I 120μm film at 210±2°
Compression molding at a temperature of C. The film was then placed in a weatherproof cabinet and subjected to Xθnotetest 1.
Subjected to photooxidative aging at 200°C. The degree of destruction of the film is evaluated in an IR spectrometer as the time it reaches a carbonyl index equal to 0.3.

前記方法に従って、本発明に係る他の光安定剤(化合物
X■、専、XV )を使用して光安定性重合体フィルム
を得ろ。
According to the method described above, a light-stable polymer film was obtained using other light stabilizers according to the invention (compounds

本発明に係る光安宇剤の光安定化動車な評価る、1こめ
に、通常の安定剤、即ちチヌビン327、チヌビン77
0およびシアソープυv−s31によって安定化された
光安定せフィルムを同様の方法で製造る、。
The photostabilizing agent of the present invention was evaluated firstly by the conventional stabilizers, namely Tinuvin 327 and Tinuvin 77.
0 and shear soap υv-s31 are prepared in a similar manner.

対応の試験の結果7以下の表IK示す。The results of the corresponding tests 7 below are shown in Table IK.

表1 (11fit部)  (hr) 1 チヌビン327    0.3      130
2  シアソープυV−5310,32103チヌピ:
y 770    0.05     2404 チヌ
ビン770    0.1      3805 チヌ
ビ:y770    0.3      5006 チ
ヌピン770    1.0      6507 化
合物XI    O,052758化合物XI    
O,1420 9化合物XI    O,3530 10化合物XT    1.0    72011  
化合物X■   0.1    46012  化合*
 Xll    O,362513化合物X!1   
1.0    75014  化合物XI)    0
.1    42015  化合物XIV    O,
354516化合=xrv    1.0    76
017  化合物XV    O,0531018化合
物XV    O,3540 19化合物XV    1.0    780前記表1
に与えられたデータは、化合物M、 XI、重およびx
vで安定化されたポリプロピレンフィルムの光安定性が
シアソープUV−531で安定化されたフィルムの光安
定性よりも約2.5倍だけ優れており、そし【チヌビン
7フ0で安定化されたフィルムの光安定性よりも約ls
%だけ高いことを実証している。
Table 1 (11fit part) (hr) 1 Tinuvin 327 0.3 130
2 Sea Soap υV-5310, 32103 Chinupi:
y 770 0.05 2404 Tinuvin 770 0.1 3805 Tinuvin: y770 0.3 5006 Tinupin 770 1.0 6507 Compound XI O, 052758 Compound XI
O,1420 9 Compound XI O,3530 10 Compound XT 1.0 72011
Compound X ■ 0.1 46012 Compound *
Xll O,362513 Compound X! 1
1.0 75014 Compound XI) 0
.. 1 42015 Compound XIV O,
354516 compounds = xrv 1.0 76
017 Compound XV O, 0531018 Compound XV O, 3540 19 Compound XV 1.0 780 Table 1 above
The data given for compounds M, XI, heavy and x
The photostability of the polypropylene film stabilized with UV-531 was about 2.5 times better than that of the film stabilized with [Tinuvin 7F0], and The photostability of the film is about ls
It has been proven that the percentage is higher.

例18 エタノールに溶解されたフェノキシ酢酸の2゜2.6.
6−テトラメチルビペリジルアミド(化合物XI)0.
1重量部を粉末状高密度ポリエチレン99.9重食部に
導入る、。得られた混合物から、エタノールを真空キャ
ビネット中で除去る、。その結果、均質物を得、それか
ら厚さ100 tmのフィルムを160℃の温度におい
て150 kg / Cm”の圧力下で圧縮成形る、。
Example 18 2°2.6. of phenoxyacetic acid dissolved in ethanol.
6-tetramethylbiperidylamide (compound XI) 0.
1 part by weight is introduced into 99.9 parts of powdered high density polyethylene. From the resulting mixture, ethanol is removed in a vacuum cabinet. As a result, a homogeneous material is obtained, from which a film with a thickness of 100 tm is compression molded under a pressure of 150 kg/Cm'' at a temperature of 160 °C.

フィルムを耐候装置キセノテスト150中で光酸化老化
に付す。フィルムの破壊度を0.3のカルボニル指数に
達る、時間およびそれらの破壊の経過時間によってIR
分光計で評価る、。
The film is subjected to photooxidative aging in a weathering device Xenotest 150. IR by time and elapsed time of their destruction to reach a carbonyl index of 0.3.
Evaluate with a spectrometer.

この方法に従って、本発明に係る他の光安定剤(化合物
■、■、■、K、 XI、罰)を使用し、そしてそれら
の光安定化効率の比較評価のためチヌビン770および
シアソープlff−531を使用して光安定性重合体フ
ィルムも製造る、。
According to this method, other light stabilizers according to the invention (compounds ■, ■, ■, K, Also used to produce photostable polymer films.

対応の試験の結果を表2に示す。The results of the corresponding tests are shown in Table 2.

表2 1   シアソープUV−5310,19751,To
Table 2 1 Shear soap UV-5310, 19751, To
.

2  シアソープUV−!31   0,3    1
.250   2,5003 チヌビン770   0
,05  1.Zoo   1.9004 チヌビン7
70   0,15  1,550  2.8955 
チヌビン770   0.3  1.850  3.3
506 チヌビン770   1.0  2.100 
 3.9007 化合物 罰   0.15  1,7
50  3.2508 化合物 XV    O,32
,0503,7009化合物 店   0,3  1.
795  3.3601O化合物 M    1.0 
 2,420  4.50011  化合物 n   
  O,051,2302,10012化合物 I  
   O,31,9953,68513化合物 1  
 0,5  2.070  3,88514  化合物
 III     0605  1,250  2.1
5515  化合物 厘    0.1  1,695
  2.47516  化合物 1   1,0  2
.360  4,29517  化合物 題   0,
1  1,710  3.20018  化合物 ■ 
   0,3  2,100  3.68519  化
合物 K    O,11,7203,34020化合
物 K    O,52,0003,58021化合物
 XI    O,31,9203,380前記表2に
与えられたデータは、化合物1、I、■、 K、 Q 
xvで安定化された低密度ポリエチレンのフィルムの光
安定性がシアソープUV−531で安定化されたフィル
ムの光安定性よりも約1.5倍だけ優れており、そして
チヌビン770で安定化されたフィルムの光安定性より
も約lo%だけ優れていることを実証している。
2 Shea Soap UV-! 31 0, 3 1
.. 250 2,5003 Tinuvin 770 0
,05 1. Zoo 1.9004 Tinuvin 7
70 0,15 1,550 2.8955
Tinuvin 770 0.3 1.850 3.3
506 Tinuvin 770 1.0 2.100
3.9007 Compound Punishment 0.15 1,7
50 3.2508 Compound XV O,32
,0503,7009 Compound Store 0,3 1.
795 3.3601O compound M 1.0
2,420 4.50011 Compound n
O,051,2302,10012 Compound I
O,31,9953,68513 compound 1
0,5 2.070 3,88514 Compound III 0605 1,250 2.1
5515 Compound 0.1 1,695
2.47516 Compound 1 1,0 2
.. 360 4,29517 Compound Title 0,
1 1,710 3.20018 Compound ■
0,3 2,100 3.68519 Compound K O,11,7203,34020 Compound K O,52,0003,58021 Compound XI O,31,9203,380 The data given in Table 2 above indicates that Compound 1, I , ■, K, Q
The photostability of a film of low density polyethylene stabilized with It has been demonstrated that the photostability of the film is about lo% better than that of the film.

例19 アセトンに溶解したN−シクロヘキシルアミノプロピオ
ン酸の2.2,6.6−チトラメチルピペリジルアミド
(化合物W ) 0.05重量部をフェノール熱安定剤
イルガノックス1010 (0,2重1部)と−緒に粉
末状ポリプロピレン99,75重量部に導入る、。得ら
れた混合物を混合してアセトンを蒸発させ、次いで実験
室ミキサーに仕込み、そしてそこで30分間処理る、。
Example 19 0.05 parts by weight of 2,2,6,6-titramethylpiperidylamide of N-cyclohexylaminopropionic acid (compound W) dissolved in acetone was added to the phenol heat stabilizer Irganox 1010 (1 part by weight of 0.2). and 99.75 parts by weight of powdered polypropylene. The resulting mixture is mixed to evaporate the acetone, then loaded into a laboratory mixer and treated there for 30 minutes.

その結果、均質物を得、210〜220℃の温度(ゾー
ンにより)において実験室押出機に通過させ、そして造
粒る、。粒状物を実験室繊維形成装置の溶融セクタ17
に仕込む。
As a result, a homogeneous product is obtained, passed through a laboratory extruder at a temperature of 210-220° C. (depending on the zone) and granulated. The granules are melted in sector 17 of the laboratory fiber forming apparatus.
Prepare it.

ダイかう押し出された単フィラメントを18〜20℃の
温度の水浴中で冷却し、次いで130℃の温度において
4倍延伸に付す。得られた8 texの線状密度の単フ
ィラメントを耐候キャビネットキセノテス) 1200
中で光酸化破壊に付す。単フィラメントの破壊度を40
0時間照射後にそれらの強力(tenacity )を
保持る、値(%)によって評価る、。
The die-extruded single filament is cooled in a water bath at a temperature of 18-20°C and then subjected to a 4-fold drawing at a temperature of 130°C. The obtained monofilament with a linear density of 8 tex (xenotes) 1200
Subjected to photo-oxidative destruction in a medium. Increased the degree of breakage of single filament to 40
They retain their tenacity after 0 hours of irradiation, evaluated by the value (%).

前記方法に従って、本発明に係る他の光安定剤(化合物
工、■、v、M、X、■、XV )を使用し、そして別
の熱安定剤イルガノックス1076  を使用して単フ
ィラメントを製造る、。
According to the method described above, monofilaments were produced using other light stabilizers according to the invention (Compound Technology, ■, v, M, X, ■, XV) and using another heat stabilizer Irganox 1076. Ru,.

光安定化効率を評価る、ために、チヌビン327および
チヌビン7フOとともにイルガノックス1010によっ
て安定化された繊維を同様の方法で製造る、。
To evaluate the photostabilization efficiency, fibers stabilized by Irganox 1010 along with Tinuvin 327 and Tinuvin 7 FuO are produced in a similar manner.

試験結果を以下の表3に示す。The test results are shown in Table 3 below.

表 3 1 チヌビン327    0.3    20.0イ
ルガノツクス1010    0.21ル刀/ツク+A
1υlリ     IJ+U、l)前記衣3に示された
データは、本発明に係る化合物1.TV、V、%I、X
、XVによって安定化された繊維の光安定性がチヌビン
327によって安定化された繊維の光安定性よりも3〜
4倍だけ優れており、そしてチヌビン770によりて安
定化された繊維よりも約15チだけ優れていることを実
証している。
Table 3 1 Tinuvin 327 0.3 20.0 Irganox 1010 0.21 L sword/Tsuku+A
1υlli IJ+U, l) The data shown in the above Cloth 3 are based on the compound 1. TV, V, %I, X
, the photostability of the fibers stabilized by
4 times better, and about 15 times better than fibers stabilized with Tinuvin 770.

例20 n −tart−ブチルフェノキシ酢酸の2.2,6.
6−テトラメチルピベリジルアミド(化合物XIV)0
.2重量部を混線3分後のロールミル内の高密度ポリエ
チL/ン99.95重量部にシアシーブUV−531(
0,2重量部)およびAO2246(0,05重量部)
と−緒に導入る、。ウェブを10分間連続的に切断しな
がら重合体組成物を160℃のロール温度で調製る、。
Example 20 2.2,6. of n-tart-butylphenoxyacetic acid.
6-tetramethylpiveridylamide (compound XIV) 0
.. 2 parts by weight of shear sieve UV-531 (
0.2 parts by weight) and AO2246 (0.05 parts by weight)
Introduced together with. The polymer composition is prepared at a roll temperature of 160° C. while the web is continuously cut for 10 minutes.

重合体の混線ウェブから、2mmの板を160±2℃の
温度において圧縮成形し、そして2面試料をそれらから
切断る、。試料を耐候キャビネットキセノテス) 12
00中で光酸化老化K 20000間付す。
From the mixed web of polymer, 2 mm plates are compression molded at a temperature of 160±2° C. and two-sided samples are cut from them. Place the sample in a weatherproof cabinet (xenotes) 12
Photo-oxidative aging K 20,000 was applied in 00.

試料の破壊度を20oO時間老化後の破断時に保持され
る相対伸び率によって評価る、。
The degree of failure of the sample is evaluated by the relative elongation retained at breakage after aging for 20oO hours.

り発明に係る他の光安定剤および既知の添加虱即ちチヌ
ビン327、シアシーブtJV−531およびチヌピン
770を使用して光安定性組成物を同様の方法で調製る
、。試験結果を以下の表4に示す。
Photostable compositions are prepared in a similar manner using other photostabilizers according to the invention and known additives, namely Tinuvin 327, Ciasibu tJV-531 and Tinupin 770. The test results are shown in Table 4 below.

表4 4 テヌビン327    0.3   1200時間
)、0−2246     0.05    後破壊A
O−2246u、ua l4  チヌビン770    0.2チヌビン327
    0.2    71.5AO−22460,0
5 15テヌビン770    0.1 シアンープU’l/−5310,158,IAO−22
460,05 16チヌピン770    0.2 シアソープVU−5310,278,0AO−2246
0,05 17テヌビン770    0.3 シアソープUV−5310,388,0AO−2246
0,05 18チヌビン770    0.3 シアソープUV−5310,177,0人0−2246
          0.0519  チヌビン770
    0.1シアンーブUV−5310,367,5
AO−22460,05 20チヌビン770    0.1 チヌビ/327    0,3    62.0AO−
22460,05 21化合物 XI     O,1 シアンープUV−5310,167,9AO−2246
0,05 22化合物 XI     O,2 シアソープtJV−5310,288,2AO−224
60,05 23化合物 XI     O,2 チヌビン327    0.2    82.0AO−
22460,05 24化合物 XI     O,3 シアンープtJV−5310,390,t)AO−22
460,05 25化合物 XI     O,3 シアンープUV−5310,171,9AO−2246
0,05 26化合物 XI     0.1 シアソーブUV−5310,372,5AO−2246
0,05 27化合物 XrV     O01 チヌビン327    0,1     56.5AO
−22460,05 28化合物 XIV     O,1 シアンープW−5:31    0.1       
60,0AO−22460・05 29  化合物 XIV     O,2シアシープt
lV−5310,280,5AO−22460,05 前記表4に与えられたデータは、本発明て係る化合物X
I%定で安定化さnた低密度ポリエチンンからの板の光
安定性がシアソープW−531またはチヌビン327で
安定化された板の光安定性よりも約3倍優れており、そ
して安定剤としてチヌビン770を使用したときに得ら
れた光安定性と比較して約10%だけ高いことを実証し
ている。
Table 4 4 Tenuvin 327 0.3 1200 hours), 0-2246 0.05 Post-destruction A
O-2246u, ua l4 Tinuvin 770 0.2 Tinuvin 327
0.2 71.5AO-22460,0
5 15 Tenubin 770 0.1 Cyanoop U'l/-5310,158,IAO-22
460,05 16 Tinupin 770 0.2 Seasoap VU-5310,278,0AO-2246
0.05 17 Tenuvin 770 0.3 Shear Soap UV-5310,388,0AO-2246
0,05 18 Tinuvin 770 0.3 Seasoap UV-5310,177,0 people 0-2246
0.0519 Tinuvin 770
0.1 Cyanuv UV-5310,367,5
AO-22460,05 20 Tinuvin 770 0.1 Tinuvin/327 0,3 62.0AO-
22460,05 21 Compound XI O,1 Cyanoop UV-5310,167,9AO-2246
0,05 22 Compounds XI O,2 Seasoap tJV-5310,288,2AO-224
60,05 23 Compound XI O,2 Tinuvin 327 0.2 82.0AO-
22460,05 24 Compound XI O,3 CyanooptJV-5310,390,t)AO-22
460,05 25 Compound XI O,3 Cyanoop UV-5310,171,9AO-2246
0,05 26 Compounds XI 0.1 Seasorb UV-5310,372,5AO-2246
0,05 27 compounds XrV O01 Tinuvin 327 0,1 56.5AO
-22460,05 28 Compound XIV O,1 Cyanoop W-5:31 0.1
60,0AO-22460・05 29 Compound XIV O,2 Shea Sheept
lV-5310,280,5AO-22460,05 The data given in Table 4 above is based on the data for Compound X according to the present invention.
The photostability of plates from low-density polyethylene stabilized with I% is about 3 times better than that of plates stabilized with Sheathorp W-531 or Tinuvin 327, and as a stabilizer It has been demonstrated that the photostability is approximately 10% higher compared to that obtained when using Tinuvin 770.

例21 β−(21、21、sl 、 sl−テトラメチルピペ
リジルアミン)−クロトン酸の2.2,6.6−テト声 ラメチルピペリジルアミド(化合物欅り1.01貴部、
チヌビン327 (0,1重量部)およびイルガノック
ス1010 (0,05重量部)を粉末状ポリプロピレ
ン98.85重量部に導入る、。前記例19に記載の方
法に従って、得られた混合物を攪拌し、造粒し、モして
10 texの単フィラメントに成形る、う単フィラメ
ントを耐候キャビネットキセノテスト1200中で光酸
化老化に500時間付す。
Example 21 2,2,6,6-tetromethylpiperidylamide of β-(21,21,sl,sl-tetramethylpiperidylamine)-crotonic acid (compound size: 1.01 parts,
Tinuvin 327 (0.1 parts by weight) and Irganox 1010 (0.05 parts by weight) are introduced into 98.85 parts by weight of powdered polypropylene. The resulting mixture was stirred, granulated and molded into 10 tex monofilaments according to the method described in Example 19 above, and the monofilaments were subjected to photo-oxidative aging for 500 hours in a weatherproof cabinet Xenotest 1200. attach

添加剤の光安定化効率をそれらの破断時の単フィラメン
トの保持強力のチによって評価る、。
The photostabilization efficiency of the additives is evaluated by the strength of their retention of single filaments at break.

前記方法に従って、本発明の他の光安定剤および既知の
添加剤、即ちチヌビン327、シアソープUV−531
およびチヌビン770を使用して光安定性組成物を鯛製
し、そして試験る、。
According to said method, other light stabilizers of the invention and known additives, namely Tinuvin 327, Sheasorp UV-531
and Tinuvin 770 to prepare and test photostable compositions.

試験結果を以下の表5に示す。The test results are shown in Table 5 below.

表5 イ、ルガノックス 1010     0.05イルガ
ノツクス 1010     0.05イルガノツクス
 1010     0.3イルガノツクス1010 
    0.05イルガノツクス1010     0
.3イルガノツクス1010    0.05前記光5
に示されたデータは、本発明に係る化合物叱、■、N、
XV、罰によって安定化された単フィラメントがチヌビ
ン327またはシアソープUV−531によって安定化
されたフィラメントよりも2〜4倍だけ光安定性であり
、そしてチヌビン770で安定化された糸よりも約15
%だけ光安定性であることを実証している。
Table 5 I. Luganox 1010 0.05 Irganox 1010 0.05 Irganox 1010 0.3 Irganox 1010
0.05 Irganox 1010 0
.. 3 Irganox 1010 0.05 said light 5
The data shown in the compound according to the present invention, ■, N,
XV, monofilaments stabilized by Punishment are 2-4 times more photostable than filaments stabilized by Tinuvin 327 or Sheathorp UV-531, and about 15 times more photostable than yarns stabilized by Tinuvin 770.
% has been demonstrated to be photostable.

例22 N 、 N’−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル
ピベリジル)アセトアミドピペラジン(化合物V)0.
1重量部を粒状耐衝撃性ポリメチ2フ99.9重量部に
導入る、。得られた混合物から、5%ベンゼン溶液を調
製る、。耐衝撃性ポリスチレンおよび安定化添加剤の完
全溶解後、厚さ70μmを有る、フィルムを溶液の流し
込みによって製造る、。
Example 22 N,N'-bis-(2,2,6,6-tetramethylpiveridyl)acetamidopiperazine (Compound V) 0.
1 part by weight is introduced into 99.9 parts by weight of granular impact-resistant polymethic acid. From the resulting mixture, prepare a 5% benzene solution. After complete dissolution of the high-impact polystyrene and stabilizing additives, a film having a thickness of 70 μm is produced by pouring the solution.

溶媒の蒸発後(約2日)、得られたフィルムを非−過紫
外線下で光酸化老化に付す。フィルムの破壊度を100
時間老化後に1720 cm−’におけるカルボニル基
の蓄1’jl(相対単位)により、そして900 cm
−’  における二重結合(c−c結合)の保持(初期
値の%)により11分光計で評価る、。
After evaporation of the solvent (approximately 2 days), the resulting film is subjected to photooxidative aging under non-extreme ultraviolet light. Increase the degree of destruction of the film to 100
By accumulation of carbonyl groups 1'jl (relative units) at 1720 cm-' after time aging and at 900 cm-'
11 spectrometer by the retention of the double bond (cc bond) in -' (% of initial value).

前記方法を使用し、本発明に係る他の光安定剤を使用し
、そして比較の目的で既知の安定剤、即ちチヌビ/Pを
使用して光安定性組成物をvI4製る、。
Using the method described above, using other photostabilizers according to the invention and, for comparison purposes, using a known stabilizer, namely Tinubi/P, a photostable composition vI4 is prepared.

試験結果を以下の表6に示す。The test results are shown in Table 6 below.

表6 1  チヌビ:yP    0005   8,8  
 152  チヌビyP    O,107,4203
チヌビ:yP    O,306,2304チヌビyP
    1.00   7.0   325 化合物X
I   O,054,1456化合物XI   003
0  3.Ofi97 化合物M   0010  3
.7   598 化合物IV’0,30  3.1 
  659 化合物V   O,302,8801O化
合物7111  0.10  3.4   6211 
 化合物Vll   O,054,84212化合物X
   1.00  1.7   9213  化合物X
   O,302,782表6に示されたデータは、本
発明に係る化合物■、■、V、V■、XおよびXがチヌ
ビ7Pを使用して得られた光安定性よりも約2〜3倍だ
け高い光安定性を耐衝撃性ポリスチレンに付与る、こと
を実証している。
Table 6 1 Tinubi:yP 0005 8,8
152 TinubiyP O,107,4203
Tinubi:yP O,306,2304 TinubiyP
1.00 7.0 325 Compound X
I O,054,1456 Compound XI 003
0 3. Ofi97 Compound M 0010 3
.. 7 598 Compound IV'0,30 3.1
659 Compound V O,302,8801O Compound 7111 0.10 3.4 6211
Compound Vll O,054,84212 Compound X
1.00 1.7 9213 Compound X
O, 302, 782 The data presented in Table 6 show that the compounds of the present invention ■, ■, V, V■, X and It has been demonstrated that it imparts twice as much photostability to high-impact polystyrene.

例23 耐衝撃性ポリスチレンのフィルムの試料を例22に記載
の方法に従って調製る、っ 本発明に係る安定剤を使用し、そして安定化活性の比較
のため既知の安定剤、即ちポリガードを使用して耐熱性
組成物を調製る、。
Example 23 Samples of high-impact polystyrene films are prepared according to the method described in Example 22, using the stabilizer according to the invention and for comparison of stabilizing activity using a known stabilizer, namely Polyguard. to prepare a heat-resistant composition.

フィルムを空気サーモスタット中で120℃の温度にお
いて熱老化に付す。フィルムの破壊度をSOO時間熱老
化後に例22に記載のように測定る、。
The film is subjected to heat aging in an air thermostat at a temperature of 120°C. The degree of failure of the film is determined as described in Example 22 after heat aging for SOO hours.

試験結果を以下の表7に示すっ 表7 <X置部)  C〜C 1ポリガード  0.05  破壊 破壊2     
 N        0.10   5,0    2
93    #     0.30  5,2  31
4     1       0.50   3.4 
   375      N        1,00
   2,9    416 化合物XI    O,
053,2497化合物V    O,102,553
8化合物XI’/   0.30  1.9   67
9 化合物XV   O,501,77710化合物I
X   1,00  1.3   81前記表7に示さ
れたデータは、化合物V、■、M、KNおよびXVがそ
れらの熱安定化効率に関してポリガードよりも1.5〜
2倍有効であることを実証している。
The test results are shown in Table 7 below.
N 0.10 5,0 2
93 # 0.30 5,2 31
4 1 0.50 3.4
375 N 1,00
2,9 416 Compound XI O,
053,2497 Compound V O,102,553
8 Compound XI'/ 0.30 1.9 67
9 Compound XV O,501,77710 Compound I
X 1,00 1.3 81 The data presented in Table 7 above show that compounds V, ■, M, KN and
It has been proven to be twice as effective.

例24 フェノキシ酢酸の2.2,6.6−テトラメチルビベリ
ジルアミド(化合物xi)0.s重量部を三元共重合体
[組成(重量部):スチレン54、アクリル酸ニトリル
28、ポリブタジェン1B ] 999.5重量部導入
る、。組成物をボールミル中でブレンドし、その後19
0℃〜210℃の温度においてミキサー中で均質化る、
。このようにして、91m1!された混合物から、標準
棒を射出成形る、(50X6X4M)ウ 棒を炭素アー
ク灯下で元老化に200時間付す。老化後、振子型ハン
マーを使用して棒をそれらの弾性低下[kgf ;/ 
cm” (初期値の%)〕について試験に付す。
Example 24 2,2,6,6-tetramethylbiveridylamide of phenoxyacetic acid (compound xi) 0. 999.5 parts by weight of a terpolymer [composition (parts by weight): styrene 54, acrylic acid nitrile 28, polybutadiene 1B] were introduced. The composition was blended in a ball mill and then 19
homogenizing in a mixer at a temperature of 0°C to 210°C;
. In this way, 91m1! From the prepared mixture, standard bars are injection molded (50X6X4M) and the bars are subjected to ex-aging under a carbon arc lamp for 200 hours. After aging, the bars are reduced in their elasticity using a pendulum hammer [kgf;/
cm” (% of initial value)].

同一方法を使用し、本発明に係る他の光安定剤および既
知の光安定剤チヌビンPを使用して光安定性組成物を調
製し、そして試験る、うこれらの試験の結果を表8に示
す。
Using the same method, photostable compositions were prepared and tested using other photostabilizers according to the invention and the known photostabilizer Tinuvin P. The results of these tests are shown in Table 8. show.

表8 1  テヌビンP     O,05292チヌビンP
     O,1034 3チヌビンP     0050    474  チ
ヌビンP     1.00    505 化合物 
XI    O,05416化合物 1   0.10
    687 化合物 Xll    O,5088
前記表8に示されたデータは、本発明に係る化合物11
■、Xおよび■が光安定化効率においてチヌビンPより
も約2倍だけ優れていることを実証している。
Table 8 1 Tenuvin P O,05292 Tinuvin P
O,1034 3 Tinuvin P 0050 474 Tinuvin P 1.00 505 Compound
XI O,05416 compound 1 0.10
687 Compound Xll O,5088
The data shown in Table 8 above corresponds to Compound 11 according to the present invention.
It has been demonstrated that ■,

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは1又は2であり、nが1である場合にはA
は▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式
、表等があります▼ ;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式
、表等があります▼;▲数式、化学式、表等があります
▼ ;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式
、表等があります▼ ;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式
、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼;であり、nが2で
ある場合に は、Aは ▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、
表等があります▼ であり、mは1または2である) の置換カルボン酸の2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジルアミド。 2、重合体および光安定剤を含む光安定性重合体組成物
であって、光安定剤として一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは1または2であり、nが1である場合には
、Aは▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化
学式、表等があります▼ ;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式
、表等があります▼; ▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、
表等があります▼; ▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、
表等があります▼; ▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、
表等があります▼;であり、n が2である場合には、Aは▲数式、化学式、表等があり
ます▼ ;▲数式、化学式、表等があります▼であり、 mは1または2である) の置換カルボン酸の2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジルアミドを以下の成分割合(重量%) 重合体             99.0〜99.9
5置換カルボン酸の2,2,6,6  1.0〜0.0
5−テトラメチルピペリジルアミド で含有することを特徴とする光安定性重合体組成物。 3、追加的に重合体の0.05〜0.3重量%の量の熱
安定剤を配合する、特許請求の範囲第2項に記載の光安
定性重合体組成物。 4、追加的に重合体の0.1、0.3重量%の量の紫外
線吸収剤を含有する、特許請求の範囲第2項または第3
項に記載の光安定性重合体組成物。
[Claims] 1. General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, n is 1 or 2, and if n is 1, A
▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼;▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼;▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼;▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼;▲Mathematical formulas, chemical formulas, There are tables, etc. ▼ ;▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼; There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼;, and if n is 2, then A is ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼;▲mathematical formulas, chemical formulas,
2,2,6,6-tetramethylpiperidylamide of substituted carboxylic acid (where m is 1 or 2). 2. A photostable polymer composition containing a polymer and a light stabilizer, which has a general formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (where n is 1 or 2, and n If is 1, then A ▲ has mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼; ▲ has mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ ; ▲ has mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼; ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. There are▼; ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼;▲Mathematical formulas, chemical formulas,
There are tables, etc.▼; ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼;▲Mathematical formulas, chemical formulas,
There are tables, etc.▼; ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼;▲Mathematical formulas, chemical formulas,
If n is 2, then A is ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼; ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, and m is 1 or 2. 2,2,6,6-tetramethylpiperidylamide of the substituted carboxylic acid of
2,2,6,6 1.0-0.0 of 5-substituted carboxylic acid
A photostable polymer composition comprising 5-tetramethylpiperidylamide. 3. A light-stable polymer composition according to claim 2, additionally incorporating a heat stabilizer in an amount of 0.05 to 0.3% by weight of the polymer. 4. additionally containing a UV absorber in an amount of 0.1, 0.3% by weight of the polymer, claim 2 or 3;
The photostable polymer composition described in Section 1.
JP20321585A 1985-08-27 1985-09-13 2,2,6,6-tetramethylpiperidylamide of substituted carboxylic acid and photostable polymer composition stabilized therewith Pending JPS6267072A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1215462B (en) * 1987-05-07 1990-02-14 Ciba Geigy Spa PIPERIDIN COMPOUNDS USABLE AS LIGHT, HEAT AND OXIDATION STABILIZERS FOR SYNTHETIC POLYMERS.
IT1270975B (en) * 1993-06-03 1997-05-26 Ciba Geigy Spa PIPERIDIN-TRIAZIN COMPOUNDS SUITABLE FOR USE AS STABILIZERS FOR ALUME, HEAT AND OXIDATION FOR ORGANIC MATERIALS
IT1291599B1 (en) * 1997-04-18 1999-01-11 Great Lakes Chemical Italia COMPOUNDS BELONGING TO THE ENAMINE CLASS AND THEIR USE AS ANTIOXIDANTS FOR ORGANIC POLYMERS
IT1302988B1 (en) * 1997-05-08 2000-10-18 Great Lakes Chemical Italia ORGANIC POLYMERS STABILIZED IN THE LIGHT
IT1293317B1 (en) * 1997-07-10 1999-02-16 Great Lakes Chemical Italia SYNERGIC LIGHT STABILIZING MIXTURES FOR ORGANIC POLYMERS

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3684765A (en) * 1970-01-08 1972-08-15 Sankyo Co Stabilization of synthetic polymers
DE2849444A1 (en) * 1978-11-15 1980-05-29 Hoechst Ag Piperidyl ester(s) of beta-amino crotonic acid - for stabilisation of polymers against light, heat and oxygen
IT7928324A0 (en) * 1979-12-21 1979-12-21 Chimosa Chimica Organica Spa PIPERIDINE DERIVATIVES, STABILIZERS FOR SYNTHETIC POLYMERS.
EP0062322A1 (en) * 1981-04-03 1982-10-13 The B.F. GOODRICH Company Improved process for synthesis of hindered amine stabilizers for polymeric materials

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