JPS6267062A - Purification of crude liquid organosulfonyl chloride - Google Patents

Purification of crude liquid organosulfonyl chloride

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JPS6267062A
JPS6267062A JP20547885A JP20547885A JPS6267062A JP S6267062 A JPS6267062 A JP S6267062A JP 20547885 A JP20547885 A JP 20547885A JP 20547885 A JP20547885 A JP 20547885A JP S6267062 A JPS6267062 A JP S6267062A
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chloride
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organosulfonyl
solution
hydrochloric acid
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ポール・ジヨゼフ・マツケリゴツト・ジユニア
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は粗製の液体オルガノスルホニルクロリドから不
純物を2工程操作で、好ましくは連続に、除去する方法
に関する。初めに粗製液体生成物に清浄な塩酸水溶液に
よるスクラビング操作を行ってオルガノスルホン酸を除
き、次いで清浄した( acrubb@d ) 生成物
に真空ストリッピングを行って、例えばメルカプタン、
塩素、硫化物及び水を含む揮発分を気化させるに、その
間揮発分を不活性ガスで吹き流して(Ilw・ep )
ス) IJッピング操作の間に生成した蒸気を迅速に除
く。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a process for removing impurities from crude liquid organosulfonyl chloride in a two-step operation, preferably continuously. The crude liquid product is first subjected to a scrubbing operation with clean aqueous hydrochloric acid to remove organosulfonic acids, and then the cleaned (acrubb@d) product is subjected to vacuum stripping to remove e.g. mercaptans,
Volatile components including chlorine, sulfide, and water are vaporized by blowing away the volatile components with an inert gas (Ilw・ep).
) Immediately remove the vapors generated during the IJ lapping operation.

オルガノスルホニルクロリド生成物の用途は不純物を許
容しない場合が多いことから、高純度のオルガノスルホ
ニルクロリドが必要とされる。オルガノスルホニルクロ
リドは、例えば、綿繊維、ステロイド等の医薬物質、一
般の有m薬品の製造において用いられる。オルガノスル
ホニルクロリドは、また、酸副生物に感応性のいくつか
の大規模生成物の製造、例えば、除草剤の製造に用いら
れる。
High purity organosulfonyl chloride is required because applications of organosulfonyl chloride products often do not tolerate impurities. Organosulfonyl chlorides are used, for example, in the production of cotton fibers, pharmaceutical substances such as steroids, and general pharmaceuticals. Organosulfonyl chlorides are also used in the production of some large-scale products that are sensitive to acid by-products, such as the production of herbicides.

従来のオルガノスルホニルクロリドの製造法(本明細書
中以降でメチルスルホニルクロリド或はMSCで表わす
)では、副生物たるオルガノスルホン酸(本明arm中
以降でメタンスルホン酸或はMSAで表わす)が百万当
シ1000部(1oo。
In the conventional method for producing organosulfonyl chloride (hereinafter referred to as methylsulfonyl chloride or MSC), the by-product organosulfonic acid (hereinafter referred to as methanesulfonic acid or MSA) is 1000 copies (1oo.

ppm )よシも多いレベルで存在し、かつ通常の精製
工程では完全には除かれない。
ppm) and are present at very high levels and cannot be completely removed by normal purification processes.

米国特許1626,004号は、メチルメルカプタンと
塩素とを36%塩酸水中で直接反応させて調製すること
を開示している。HCIは不純物の定常状態濃度を増大
させるので、清浄なHCI水による不純物の抽出が行わ
れない故に反応から取シ出されるMSCの汚染は依然高
い。同特許に教示されるように、水含有生成物を高い温
度(75℃)でトッピングすることはM2Oの加水分解
を助成して生成物の不純物レベルを^く保つ原因となる
US Pat. No. 1,626,004 discloses the preparation of methyl mercaptan and chlorine by direct reaction in 36% aqueous hydrochloric acid. Since HCI increases the steady-state concentration of impurities, the contamination of the MSCs removed from the reaction is still high due to the lack of extraction of impurities by clean HCI water. As taught in that patent, topping the water-containing product at high temperature (75° C.) assists in the hydrolysis of M2O and causes the impurity level of the product to remain high.

アルキル基に1〜4の炭素原子を有するアルキルスルホ
ニルクロリドを製造する場合、粗製生成物は多結の水と
、MSAと、HCI水とを含有する塔底液相として回収
される。MSAと水とはしっかシ結合した水和物を形成
し、酸及び水は比較的に高い沸点を有することから、真
空下においてさえ望ましくない付加的副生物を生成する
ことなくM8人及び水をMSCから気化させることは極
めて難かしい。 p004特許の精製手順はこの問題を
克服しない。
When preparing alkylsulfonyl chlorides having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl group, the crude product is recovered as a bottom liquid phase containing coagulated water, MSA, and HCI water. Because MSA and water form tightly bound hydrates, and because acids and water have relatively high boiling points, it is possible to combine M8 and water even under vacuum without producing undesirable additional by-products. It is extremely difficult to vaporize from MSC. The purification procedure of the p004 patent does not overcome this problem.

米国特許へ995,692号は上述した特許へ62へ0
04号に類似のMSC製造法を開示している。粗製生成
物を冷却し、かつMSCを相分離してストリッピングす
る前に不純物のいくらかの分離を行う。いくらかの生成
物はまた、ベンゼンで抽出することによって汚染された
水性HCI相から回収される。しかし、生成物は依然α
5%を越える不純物を含有する。
No. 995,692 to U.S. Patent No. 62 to the above-mentioned patent
No. 04 discloses a similar MSC manufacturing method. The crude product is cooled and some separation of impurities is performed before phase separation and stripping of the MSC. Some product is also recovered from the contaminated aqueous HCI phase by extraction with benzene. However, the product is still α
Contains more than 5% impurities.

米国特許4.280.966号はMBCを濃塩酸によシ
共生産(coploduc・)するプロセスを開示して
いる。粗製生成物が生成されるにつれて塔頂から取シ出
され、かつHCj等の−JvI揮発性の成分のいくらか
は「サイクロン」ガス分111 leaによシ分離され
る。これは、いくらかのHCI並ひに揮発性の一層低い
水及びMSAをal製Msc生成物中に残す。次いで、
粗製生成物に減圧で不活性なスイープ(sweep )
ガスによる精製操作を行ってHCIをパージすることが
できる。生成物は、依然、望ましくない量の不純物を含
有する。
US Pat. No. 4,280,966 discloses a process for coproducing MBC with concentrated hydrochloric acid. As the crude product is produced, it is taken off the top of the column and some of the -JvI volatile components, such as HCj, are separated by the "cyclone" gas fraction 111 lea. This leaves some HCI as well as the less volatile water and MSA in the al Msc product. Then,
Inert sweep on the crude product under reduced pressure
A gas purification operation can be performed to purge the HCI. The product still contains undesirable amounts of impurities.

発明の記述 問題点を解決するための手段 本発明はオルガノスルホニルクロリド製造プロセスから
回収されるか或はその他同様に汚染された状態で見出さ
れる粗製液体オルガノスルホニルクロリド生成物のgI
製方法を指向するもので、初めに該粗製生成物に溶液の
重置を基準にして少くとも約18%の酸濃度を有する清
浄な塩酸水溶液によジオルガノスルホン酸を抽出するに
十分な時間スクラビング接触を行い、洗浄した(sCr
ubb@d)生成物を塩酸溶液から分離し、次いで該洗
浄生成物をストリッピングされるオルガノスルホニルク
ロリドから副生物のスルホン酸が生成する温度よシも通
常低い湿度でかつ約500トルよシも低い減圧下でス)
 IJツビングするに、その間不活性ガスによりストリ
ツピングする間にオルガノスルホニルクロリドから生じ
る揮発分を吹き流すようにさせる。
DESCRIPTION OF THE INVENTION Means for Solving Problems The present invention provides a solution to the gI of crude liquid organosulfonyl chloride product recovered from an organosulfonyl chloride production process or otherwise found in a similarly contaminated state.
the crude product for a period sufficient to first extract the diorganosulfonic acid with a clean aqueous hydrochloric acid solution having an acid concentration of at least about 18% based on the overlay of the solution. A scrubbing contact was made and cleaned (sCr
ubb@d) Separating the product from the hydrochloric acid solution and then stripping the washed product to form the by-product sulfonic acid from the organosulfonyl chloride at a temperature typically lower than that and at a humidity of about 500 Torr. under low vacuum)
During IJ tubing, the volatiles generated from the organosulfonyl chloride are blown away during stripping with an inert gas.

発明の説明 本発明はオルガノスルホニルクロリド製造プロセスから
回収されるか或はその他の手段によって汚染された粗製
液体オルガノスルホニルクロリドからオルガノスルホン
酸及び揮発性不純物を比較できる程に除去する方法、好
ましくは連続方法である。
DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a process, preferably continuous, for the comparative removal of organosulfonic acids and volatile impurities from crude liquid organosulfonyl chloride recovered from an organosulfonyl chloride production process or contaminated by other means. It's a method.

本方法において処理するオルガノスルホニルクロリドは
PaChCj式(式中、Rは1〜12の炭素原子゛を有
するアルキル基である)のオルガノスルホニルクロリド
である。これらのR基の例はメチル、エチル、プロピル
、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル
、ドデシルである。
The organosulfonyl chloride treated in this method is an organosulfonyl chloride of the formula PaChCj, where R is an alkyl group having from 1 to 12 carbon atoms. Examples of these R groups are methyl, ethyl, propyl, butyl, isobutyl, pentyl, hexyl, octyl, dodecyl.

好ましいR基はC1〜C4アルキル基である。特に好ま
しいものはメチルである。
Preferred R groups are C1-C4 alkyl groups. Particularly preferred is methyl.

本方法における粗aM8Cの第1処理工程用スクラビン
グ溶液は、それ自体、実質的に純粋であるか或は通常の
MBCプロセスの汚染物の無いものでなければならない
。スクラビング塩酸水溶液の有効濃度Fi浴溶液重置基
準で約18〜約36%MCIである。水によるM2Oの
加水分解速度をかなシ低減させるために濃度は50〜3
6%の範囲が好ましい。本明細書中で使用する「スクラ
ビング」溶液なる用語は、粗製MSC生成物と均質に混
合した場合に望ましくない副生物を可溶化しかつ不溶性
の主生成物を望ましくない汚染物の存在しない状態で収
集し得ることを意味する。本明細書中で使用する「スク
ラビング接触」なる用語は、スクラビング溶液を粗製M
SC生成物と塔内の静止溶液として、或はスクラビング
溶液と粗製MSCとの向流又はよシ好ましくはない並流
流れとして均質に混合することを意味する。
The scrubbing solution for the first treatment step of crude aM8C in the present method must itself be substantially pure or free of conventional MBC process contaminants. The effective concentration of the scrubbing hydrochloric acid aqueous solution is about 18 to about 36% MCI based on Fi bath solution overlay. The concentration is 50-3 to significantly reduce the rate of M2O hydrolysis by water.
A range of 6% is preferred. As used herein, the term "scrubbing" solution refers to a solution that, when intimately mixed with the crude MSC product, solubilizes undesirable by-products and leaves the insoluble main product free of undesirable contaminants. It means that it can be collected. As used herein, the term "scrubbing contact" refers to contacting the scrubbing solution with crude M
It is meant to homogeneously mix the SC product as a static solution in the column, or the scrubbing solution and the crude MSC in countercurrent or, less preferably, cocurrent flow.

スクラビング溶液における粗1zMscの有効な接触時
間は釣3〜約60分の範囲である。好適な接触時間Fi
3〜15分の間である。
The effective contact time of crude 1zMsc in the scrubbing solution ranges from 3 to about 60 minutes. Suitable contact time Fi
It is between 3 and 15 minutes.

第1工程におけるスクラビング溶液の有効な運転温度は
塩酸溶液の流量点〜洲点の範囲である(36%HCjの
場合、その範囲は一17°へ110℃である)。好適な
範囲は約08〜約50℃1一層好ましくは約10°〜約
25℃である。
The effective operating temperature of the scrubbing solution in the first step is in the range from the flow point of the hydrochloric acid solution to the point (for 36% HCj, the range is -17° to 110° C.). A preferred range is from about 08°C to about 50°C, and more preferably from about 10°C to about 25°C.

本方法のベンチ又はプラントスケール運転では、スクラ
ビング溶液を第1ユニツト又はスクラバー塔で使用する
。スクラビング溶液は、(a)粗製MSCからMS人及
びその水和物を除去し、(b)過剰猷のクロリドイオン
を存在させてスルホニルクロリドの方に加水分解平衡を
押し進めることによってMSCの加水分解を防止し、(
C)水溶液のイオン強度がわずかに極性のM2Oを一層
疎水性にさえさせることによってスクラビング媒質にお
けるMSCの溶解度を減小させ、(d)スクラビング酸
溶液を反応装置への原料として用いることによってM 
SCの終局的な損失を防止することができ、とれよシス
クラピング峡中に懸濁した生成物を代表的なデカンテー
ション工程で収集することが可能になる。
In bench or plant scale operation of the process, the scrubbing solution is used in the first unit or scrubber column. The scrubbing solution (a) removes MS and its hydrates from the crude MSC and (b) promotes the hydrolysis of the MSC by the presence of excess chloride ion to push the hydrolysis equilibrium toward sulfonyl chloride. Prevent (
C) the ionic strength of the aqueous solution reduces the solubility of MSC in the scrubbing medium by even making the slightly polar M2O more hydrophobic; and (d) the use of the scrubbing acid solution as feed to the reactor reduces the
The ultimate loss of SC can be prevented and the product suspended in the isthmus can be collected in a typical decantation step.

副生物のMi9Aは3分子までのしつかり結合した水と
結合するので、ストリッピング中にM8Aが存在するこ
とは一層多くのゆるく結合した水をMSAから押し離す
よ〕も高い温度及び高い真空を使用することを必要とす
る。MBCを分解することができる激しい条件下でのみ
、強く結合した水和水をMSAから分離させることがで
きる。ストリッピングする前に副生物のMSAを除去す
ることが、ストリッピング運転の間に上昇させた糸玉に
おいて一層低い温度で水を除去し得ることになる。
Since the by-product Mi9A binds up to three molecules of tightly bound water, the presence of M8A during stripping will push more loosely bound water away from the MSA. need to be used. Only under harsh conditions that can degrade MBC can the strongly bound water of hydration be separated from MSA. Removing the by-product MSA prior to stripping allows water to be removed at lower temperatures in the raised ball of yarn during the stripping operation.

MSAが一世除去されるならば、温和なストリッピング
条件を用いてそれ以上のMSCの加水分解を防止しなけ
ればならない。ストリッピングをプロセスの第2ユニツ
ト又はストリッピングセクションで行う。本明細書で用
いる「ストリッピング」なる用飴は、洗浄したNSCを
約50トル程に低い真空圧及び真空下にある場合に少く
とも100℃の温度に維持することができる1つ又はそ
れ以上の容器に送出し、かつ本発明の範囲内のス) I
Jツピング圧及び温度にさせる操作を意味する。
Once MSA is removed, mild stripping conditions must be used to prevent further MSC hydrolysis. Stripping takes place in the second unit or stripping section of the process. As used herein, a "stripping" candy is defined as one or more candies capable of maintaining the cleaned NSCs at a vacuum pressure as low as about 50 Torr and a temperature of at least 100°C when under vacuum. and within the scope of the present invention) I
Refers to the operation of increasing the J-tsuping pressure and temperature.

真空ストリッパーの運転温度は約20°〜約70℃の範
囲である。好適な温度は約40°〜約60°である。
The operating temperature of the vacuum stripper ranges from about 20° to about 70°C. A preferred temperature is about 40° to about 60°.

本プロセスのプラント運転では、ストリッパーセクショ
ンは連続した2つの容器から成る。第1容器は平均約7
0℃及び平均約230トルの圧力で作動し、窒素ガスが
揮発分を吹き流す。MBC中の水のほとんどをこの第1
容器で除いた後にMSCを第2容器に通す。水のほとん
どを除いたから、第2容器は温度85−95℃及び圧力
160−!500)ルで運転し、窒素をMSCに通して
バブリングさせて少し残留する揮発分の内のいく分かを
窒素に伴なって出させる。この手Pムは、はとんど全て
の水が除かれるまでMSCが第2容器の旙温に露呈され
るのをおくらせる。これはMSCのMSA、水を結合し
て除去を一層困難にさせる物質への加水分解を促進する
条件を回避する。
In plant operation of this process, the stripper section consists of two vessels in series. The first container averages about 7
Operating at 0° C. and an average pressure of about 230 Torr, nitrogen gas sweeps away volatiles. Most of the water in MBC is contained in this first
After removal in the container, the MSCs are passed into a second container. Since most of the water has been removed, the second container has a temperature of 85-95°C and a pressure of 160°C! Nitrogen is bubbled through the MSC to entrain some of the remaining volatiles with the nitrogen. This step delays the MSCs from being exposed to the morning temperature of the second container until almost all the water is removed. This avoids conditions that promote hydrolysis of MSC to MSA, a substance that binds water and makes removal more difficult.

運転圧は限られた効率の真空源を使用する際に揮発性不
純物を有効に除去する任意の減圧にすることができる。
The operating pressure can be any vacuum that effectively removes volatile impurities when using a vacuum source of limited efficiency.

60℃におけるスチームジェットの場合の通常の運転圧
N囲は約201)〜約350トル(水蒸気圧149トル
と、残留揮発分と、空気スイープ(swaep )とか
ら成る)である。通常、運転真空圧は約100〜約50
0トルの範囲である。
Typical operating pressures for steam jets at 60 DEG C. range from about 201 Torr to about 350 Torr (consisting of the water vapor pressure of 149 Torr, residual volatiles, and air sweep). Normally, the operating vacuum pressure is about 100 to about 50
It is in the range of 0 torr.

ストリッピング運転の間、不活性ガスをMSC生成物が
ス) IJッピングされているにつれてMSC生成物か
ら発生する揮発分に通させる(揮発分を吹き流すように
させる)。ガスは任意の不活性蒸気にすることができる
が、乾燥空気、窒素又はヘリウムを使用するのが好まし
い。不活性ガスは、MSC生成物からストリッピングさ
れる揮発性汚染物の蒸気を除去するのに十分な量で吹き
流すようにさせる。通常、スリッパ−におけるMSCの
単位容垣当り少くとも約[15車位容量/分のガスを用
いる。ストリッパー’BdEにおいてMSCの単位容鼠
当シ約1〜2の間の単位容h/分のスイープガスを用い
る。ストリッピングとスイーピングの併運転を所望の純
度のMSC生成物とするのに十分なkの副生物を除去す
る時間行う。通常、約3〜約60分で十分である。
During the stripping operation, an inert gas is passed through the volatiles generated from the MSC product as it is being stripped (allowing the volatiles to be swept away). The gas can be any inert vapor, but preferably dry air, nitrogen or helium are used. The inert gas is blown in a sufficient amount to remove volatile contaminant vapors that are stripped from the MSC product. Typically, at least about 15 volumes/minute of gas are used per unit volume of MSC in the slipper. In the stripper 'BdE, a sweep gas of between about 1 and 2 h/min per unit volume of MSC is used. The combined stripping and sweeping operations are carried out for a time sufficient to remove k by-products to provide the desired purity of the MSC product. Usually about 3 to about 60 minutes is sufficient.

ストリッピングされている溶液の上に不活性ガスのスイ
ープを加えることは揮発性汚染物の流れない蒸気を運び
出すのに役立つ。不活性ガスのスイープはス) IJツ
バ−効率を増大させ、かつ一層低い温度並びに一層高い
糸玉を使用することを可能にする。処理されるMBCの
80°〜50℃の温度低下は、MBCの加水分解速度定
数を、例えば少くとも100倍小さくさせる。
Adding a sweep of inert gas over the solution being stripped helps to carry away any vapors of volatile contaminants. The inert gas sweep increases IJ collar efficiency and allows the use of lower temperatures as well as higher balls of yarn. A temperature reduction of 80° to 50° C. of the treated MBC reduces the hydrolysis rate constant of the MBC by a factor of, for example, at least 100 times.

以下の例は本発明の方法を例示する。The following examples illustrate the method of the invention.

例  1 直径2.51で長さ501のガラス製(スクラバー)塔
ニmc 56f[t% )塩酸(HCt )水t’A人
し、メタンスルホンa (M 8 A ) 1.900
 ppm(cL19重量%)及び水1,1ooppm(
α11重ff1%)を含有する粗製メタンスルホニルク
ロリド(MSC)10−を25℃で静止浴′#i献に6
0分かけて滴下した。MSCを周囲温度で10分間濃H
Cノに接触させたままにした。MSCはスクラバー塔か
ら容易にデカントされ、透明に見え、くα001%のM
8A及びα2%の水を含有していた。スクラビング工程
の間にMSCの加水分解は検出できなかった。
Example 1 A glass (scrubber) column with a diameter of 2.51 and a length of 501 mc 56f [t%], hydrochloric acid (HCt), water t'A, methanesulfone a (M8A) 1.900
ppm (cL 19% by weight) and water 1,1ooppm (
Crude methanesulfonyl chloride (MSC) 10- containing α11 weight ff 1%) was added to a static bath at 25°C.
It was added dropwise over 0 minutes. MSC in concentrated H for 10 min at ambient temperature.
I left it in contact with C. The MSC is easily decanted from the scrubber tower, appears transparent, and has an α001% M
It contained 8A and α2% water. No hydrolysis of MSCs could be detected during the scrubbing process.

スクラビング溶液を溶液の重量基準で18%の酸濃度の
HCノ水溶猷に代えた他は上記の手順を繰シ返した。M
SCはスクラバー塔から容易にデカントされ、わずかに
雄C(hazyLMsAの含有量は(LOO1%より4
少なかった。洗浄芯液中のMSAの量は、25℃でα1
%の加水分解が起きていたことを示した。
The above procedure was repeated except that the scrubbing solution was replaced with an aqueous HC solution having an acid concentration of 18% based on the weight of the solution. M
The SC is easily decanted from the scrubber tower, and the content of slightly male C (hazyLMsA) is lower than (LOO1%).
There weren't many. The amount of MSA in the cleaning core liquid is α1 at 25°C.
% hydrolysis had occurred.

濃(36%) HClスクラビング溶液から得られたデ
カントした生成物を、ストリッピングされるMSCの積
度上にある不活性ガス流を送出するプラスチック管によ
シろ過する回転N膜(th(n−fllm)、5発器(
ストリッパー)に入れた。MSCに200トルの減圧、
50℃でストリッピングを灯った。清浄な乾燥空気をス
トリッパー内のMSC1リットル当りt 41Jットル
/分の速度で管よりス) IJツバ−に通し、金糸圧を
350トルに上げた。薄膜蒸兄器は35rpmの速度で
回転した。
The decanted product obtained from the concentrated (36%) HCl scrubbing solution is filtered through a rotating N membrane (th(n -fllm), 5-shot (
I put it in a stripper). 200 Torr vacuum on the MSC;
The stripping was carried out at 50°C. Clean, dry air was passed from the tube through the IJ collar at a rate of 41 J torr/min per liter of MSC in the stripper, and the thread pressure was increased to 350 torr. The thin film steamer rotated at a speed of 35 rpm.

10分の凄触時間の後に回収したMSCはくα001%
のMSA及び〈α011%の水を含有していた。
MSC foil α001% recovered after 10 minutes of exposure time
of MSA and <α011% of water.

上記の精製結果は、上述した通)に濃(36%)11C
Iで洗浄し、次いで、デカンテーションした後に、30
rl)mで回転する回転動M!;4蒸発姦において圧力
250トル及び温度80℃で乾燥スイープガスを存在さ
せずに10分間ストリッピングしたM8C生成物につい
て見られる結果に比べてはつきシした相違を示す。これ
らの条件下でMSCは(115%のMSA及び(105
%の水を含有していた。ゆるく結合した水をMSAから
駆逐するのに一層高い温度を用いることは、ストリッピ
ングする間に除かれないMSA副生物の生成を引き起こ
した。
The above purification results are as follows:
After washing with I and then decanting, 30
rl) Rotational motion M rotating at m! shows a marked difference compared to the results seen for the M8C product stripped for 10 minutes in the absence of dry sweep gas at 250 Torr pressure and 80°C temperature in the 4 evaporation process. Under these conditions MSCs have (115% MSA and (105%)
It contained % water. Using higher temperatures to drive loosely bound water from the MSA caused the formation of MSA byproducts that were not removed during stripping.

例  2 M5C製造プラントで用いる生成物MSCを精製する大
規模運転、は、(1)スクラビング容器として直径1フ
イート(α5 m )で高さ15フイート(4,6vQ
)のテフロンライニングを施したスチール塔及び(2)
ストリッピングセクションを含む。スクラバー塔は、洗
浄MBCが沈降すると5さトノ2フイー)(CL6m)
の下部領域と、1インチ(2,51)のセラミックサF
ルから成る充填物を収容する扁さ約9フイー)(2,7
m)の中間充填セクションと、使用された塩酸スクラビ
ング溶液が集まシかつ取シ出される高さ約4フイート(
12m )の上部領域とから成る。
Example 2 A large-scale operation purifying the product MSC for use in an M5C manufacturing plant consists of (1) a 1-foot diameter (α5 m ) and a 15-foot high (4.6 vQ) scrubbing vessel;
) Teflon-lined steel tower and (2)
Includes stripping section. When the washed MBC settles, the scrubber tower is heated to 2 feet (CL6m).
and a 1 inch (2,51) ceramic sa F
(approximately 9 feet wide) (2,7
m) and an intermediate filling section approximately 4 feet in height (
It consists of an upper area of 12 m ).

ストリッピングセクションは、直列に連結した2つのス
チーム加熱ガラスポットから成る。第1ストリツパーは
高さ114インチ(2q O(31)の塔で、塔の底部
50インチ(7M3)の高さのセクションは直径8イン
チ(20cx )であシ、かつ頂部84インチ(2t3
cm)のセクションは直径6インチ(15cm)である
。底部セクションはガラス製スチームコイルを配置させ
てストリッピングされるMBCを加熱する。このス) 
IJツバ−は40%の全レベルの積度上にMSC入口を
有しかつ塔底部における反対側に出口を有する。1イン
チ(2,s cm )の水平管がス) IJツバ−容器
の頂部に連結して揮発分を塔頂から取シ出し、かつ揮発
分を伴うスイープガスの通路とする。第2ストリツパー
は第1ストリツパーと同様であるが、頂部セクションは
たった55インチ(140C11)の高さであシ、全塔
高は85インチ(216cm)である。第2ストリツパ
ーの容積が第1ストリツパーよりも小さいことから、第
2ストリツパーのMSC入口は50%の全レベルの積度
上であるが、出口はまた塔の底部にある。加えて、第2
ストリツパーは底部にガス入口を有して最終のストリッ
ピング段階の間にスイープガスがMSCを通ってバブリ
ングさせる。第2ストリツパーからのスィーブガス及び
揮発分は頂部の1インチ(2,scm)の水平パイプを
通して取シ出され、パイプを通って第1ストリツパーの
上へ戻シ、七こでガスは第1ストリツパーの揮発分を吹
き流し、両方のストリッパーからのスイープガス及び揮
発分は塔頂から取シ出される。
The stripping section consists of two steam-heated glass pots connected in series. The first stripper is a 114-inch (2q O(31)) high column with a bottom 50-inch (7M3) high section that is 8 inches (20cx) in diameter and a top 84-inch (2t3) high section.
cm) section is 6 inches (15 cm) in diameter. The bottom section houses a glass steam coil to heat the MBC to be stripped. This class)
The IJ tube has an MSC inlet on the 40% total level loading and an outlet on the opposite side at the bottom of the column. A 1 inch (2, s cm) horizontal tube is connected to the top of the IJ tube to remove volatiles from the top of the column and to provide a path for the sweep gas with volatiles. The second stripper is similar to the first stripper, but the top section is only 55 inches (140C11) high and the total tower height is 85 inches (216 cm). Since the volume of the second stripper is smaller than the first stripper, the MSC inlet of the second stripper is above the 50% total level, but the outlet is also at the bottom of the column. In addition, the second
The stripper has a gas inlet at the bottom to allow sweep gas to bubble through the MSC during the final stripping step. Sweep gas and volatiles from the second stripper are removed through a 1 inch (2, scm) horizontal pipe at the top and returned through the pipe to the top of the first stripper. The volatiles are blown away and the sweep gas and volatiles from both strippers are removed overhead.

運転に際し、初めにスクラバー塔に515%の濃清浄塩
酸を完全に満たした。CL1〜α2%の水を含有する粗
製MSCを塔の充填物の積度上に流量約5ガロン/分(
15)47分)で通し、かつ塩酸を連続して塔に充填物
の頂度下から流量15ガロン/時間(5,71/時間)
でロタメーターに通してポンプで送った。周囲温度でM
BCの液滴が充填物上に降下し、塩酸と均質に接触し、
MSCは実質的に全てのMSAが除去され、塔の底部に
層を形成した。塩酸は降下するMSCと接触しながら上
方に通シ、かつ塔の頂部を出て行った。
During operation, the scrubber column was first completely filled with 515% concentrated clean hydrochloric acid. Crude MSC containing CL1-α2% water was placed on top of the column packing at a flow rate of approximately 5 gallons/min (
15) 47 minutes) and hydrochloric acid was continuously passed into the column from below the top of the packing at a flow rate of 15 gallons/hour (5,71/hour).
Then I pumped it through a rotameter. M at ambient temperature
A droplet of BC falls onto the packing and comes into homogeneous contact with the hydrochloric acid;
The MSC formed a layer at the bottom of the column with virtually all MSA removed. The hydrochloric acid passed upwards in contact with the descending MSC and exited the top of the column.

MSAの存在しない湿胸のMSCがスクラバー塔の塔底
から流t5ガロン/分(191/分)で、自動パルプよ
シ第1ストリッパーに通った。第1ストリツパーでは温
度を約70℃に保ち、かつ圧力は平均約250トルであ
った。これらの条件下で、90%を越える水を沸騰して
除き、かつ窒素スイープガスの助けによって塔頂から取
り出した。
The wet breast MSC, free of MSA, was passed from the bottom of the scrubber column at a flow rate of 5 gallons/minute (191/minute) to the first stripper of the automatic pulp scrubber. In the first stripper, the temperature was maintained at about 70°C and the pressure averaged about 250 Torr. Under these conditions, over 90% of the water was boiled off and removed overhead with the aid of a nitrogen sweep gas.

MSCは第2ストリツパーに通シ、第1ストリツパーと
ほぼ同じ圧力であるが、平均的90”Cの一層幼い温度
にされて実質的に全ての水を絞り出した。第2ストリツ
パーでは、窒素を流伝jmcfH1(CL 02 B 
5 m”7分)(各ストIJ ツバ−セクションにおけ
るMSCの単位容−当シ約t1$位容シのガス)で塔の
中間に通してバブリングさせた。
The MSC was passed through a second stripper, which was brought to approximately the same pressure as the first stripper but at a much younger temperature of 90"C on average, to squeeze out virtually all of the water. In the second stripper, nitrogen was flushed out. jmcfH1(CL 02 B
5 m" (7 minutes) (unit volume of MSC in each IJ collar section - approximately 1 $ volume of gas per unit) was bubbled through the middle of the column.

第2ス) IJツバ−かも回収したMSCは100万当
シ150部よシ少い水を含有するものであった。
2nd step) The MSC recovered from IJ tube contained less water than 150 parts per million.

ニー 同       風  間  弘  志パ1\、  、
Nee Dofu Hiroshi Ma Shipa 1\, ,

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 オルガノスルホニルクロリド製造プロセスから回収
されるか或はその他同様に汚染された粗製液体オルガノ
スルホニルクロリド生成物の精製方法であつて、初めに
該粗製生成物に溶液の重量を基準にして少くとも約18
%の酸濃度を有する清浄な塩酸水溶液によりオルガノス
ルホン酸を抽出するに十分な時間スクラビングを行い、
洗浄した生成物を塩酸溶液から分離し、次いで該洗浄生
成物を約70℃以下の温度及び約500トル以下の減圧
下でストリツピングするに、その間不活性ガスによりス
トリツピングされるオルガノスルホニルクロリドから生
じる揮発分を吹き流すようにさせ、その後精製したオル
ガノスルホニルクロリド生成物を回収することを含む方
法。 2、オルガノスルホニルクロリドがC_1−C_4アル
カンスルホニルクロリドである特許請求の範囲第1項記
載の方法。 3、塩酸溶液が30%以上の濃度を有する特許請求の範
囲第1項記載の方法。 4 酸溶液の温度がである特許請 求の範囲第1項記載の方法。 5、スクラビング溶液におけるオルガノスルホニルクロ
リドの滞留時間が約5〜約15分である特許請求の範囲
第1項記載の方法。 6、ストリツピング温度が約40°〜約60℃である特
許請求の範囲第1項記載の方法。 7、全ストリツピング圧が350トル以下である特許請
求の範囲第1項記載の方法。 8、不活性ガスが350トルよりも小さい分圧の空気、
窒素又はヘリウムである特許請求の範囲第1項記載の方
法。 9、不活性ガスの流量がオルガノスルホニルクロリドの
単位容量当り0.5単位容量/分以上である特許請求の
範囲第8項記載の方法。 10、初めに粗製メタンスルホニルクロリド生成物を塩
酸の清浄水溶液により溶液の重量を基準にして約30〜
約36%の酸濃度で約3〜約15分間スクラビングし、
洗浄したメタンスルホニルクロリドを塩酸溶液からデカ
ンテイングし、メタンスルホニルクロリドに約40°〜
約60℃の間の温度、350トル以下の全圧下でストリ
ツピングを行い、その間ストリツピングされるメタンス
ルホニルクロリドから生ずる揮発分をオルガノスルホニ
ルクロリドの単位容量当り1.0単位容量/分以上の速
度で流れる不活性ガスによつて吹き流しかつ350トル
よbも小さい分圧にすることを含む粗製メタンスルホニ
ルクロリド生成物の精製方法。 11、塩酸溶液の温度が約10°〜約25℃である特許
請求の範囲第10項記載の方法。
Claims: 1. A method for purifying a crude liquid organosulfonyl chloride product recovered from an organosulfonyl chloride production process or otherwise similarly contaminated, comprising first adding a weight of solution to the crude product. At least about 18 on the basis of
scrubbing with a clean aqueous hydrochloric acid solution having an acid concentration of % for a sufficient time to extract the organosulfonic acids;
The washed product is separated from the hydrochloric acid solution and the washed product is then stripped at a temperature below about 70° C. and under a vacuum below about 500 Torr, while removing the volatiles resulting from the organosulfonyl chloride being stripped with an inert gas. 2. A method comprising allowing a minute to flow through and then recovering the purified organosulfonyl chloride product. 2. The method according to claim 1, wherein the organosulfonyl chloride is C_1-C_4 alkanesulfonyl chloride. 3. The method according to claim 1, wherein the hydrochloric acid solution has a concentration of 30% or more. 4. The method according to claim 1, wherein the temperature of the acid solution is . 5. The method of claim 1, wherein the residence time of the organosulfonyl chloride in the scrubbing solution is about 5 to about 15 minutes. 6. The method of claim 1, wherein the stripping temperature is about 40° to about 60°C. 7. The method of claim 1, wherein the total stripping pressure is less than 350 torr. 8. Air with a partial pressure of inert gas less than 350 torr;
The method according to claim 1, wherein nitrogen or helium is used. 9. The method according to claim 8, wherein the flow rate of the inert gas is 0.5 unit volume/minute or more per unit volume of organosulfonyl chloride. 10. First, the crude methanesulfonyl chloride product is dissolved with a clean aqueous solution of hydrochloric acid, based on the weight of the solution.
Scrubbing with an acid concentration of about 36% for about 3 to about 15 minutes,
The washed methanesulfonyl chloride was decanted from the hydrochloric acid solution, and the methanesulfonyl chloride
The stripping is carried out at a temperature of about 60° C. and under a total pressure of less than 350 torr, during which the volatiles arising from the stripped methanesulfonyl chloride are flowed at a rate of not less than 1.0 unit volume per minute of organosulfonyl chloride. A process for purifying a crude methanesulfonyl chloride product comprising blowing with an inert gas and achieving a partial pressure as low as 350 torr. 11. The method according to claim 10, wherein the temperature of the hydrochloric acid solution is about 10°C to about 25°C.
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