JPS6266616A - Manufacturing solid electrolytic condenser - Google Patents

Manufacturing solid electrolytic condenser

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JPS6266616A
JPS6266616A JP20524985A JP20524985A JPS6266616A JP S6266616 A JPS6266616 A JP S6266616A JP 20524985 A JP20524985 A JP 20524985A JP 20524985 A JP20524985 A JP 20524985A JP S6266616 A JPS6266616 A JP S6266616A
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友澤 秀喜
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電導性高分子化合物を固体電W?質として用
いた、性能の良好な固体電解コンテン4ノの製造り法に
関するしのである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Field of Application] The present invention provides a method for converting a conductive polymer compound into a solid conductor. This paper describes a method for producing solid electrolytic content 4 with good performance, which was used as a quality material.

[従来の技術] 従来の固体電解二1ンデンサ、例えばアルミニ・クム電
解コンデンリは、エツチング処理した比表面積の大きい
多孔質アルミニ・クム箔の上に誘電体である酸化アルミ
ニウム層を設け、陰極箔との間の電解紙に液状の電解液
を含浸させた構造からなっているが、電解液が液状であ
るために液漏れ刃の問題を引き起こし好ましいしのでは
なく、従って、この7tf導層を固体電解質で代替する
試みがなされている。それらの固体電解コンデンサは、
PAis化被膜金被膜るアルミニウム、タンタルなと?
li膜形成金属に固体電解質を付着した構造を有したち
のであり、この種の固体コンデンサの固体電解?1には
主に硝酸マンガンの熱分解により形成される二酸化マン
ガンが用いられている。しかし、この固体電解質コンデ
ンサは、熱分解の際に要する高熱と発生するNOxガス
の醇化作用などによって、誘電体であるアルミニウム、
タンタルなどの金属酸化被膜の損傷があり、そのため耐
電圧は低下し、漏れ電流が大きくなり、講電特性を劣化
さVるなと極めて大きな欠点があり、また、再化成とい
う工程b4!′I要とされている。
[Prior Art] Conventional solid electrolytic capacitors, such as aluminum cum electrolytic capacitors, are made by providing an aluminum oxide layer as a dielectric on etched porous aluminum cum foil with a large specific surface area, and then forming a layer between the cathode foil and the aluminum oxide layer. The structure consists of electrolytic paper impregnated with a liquid electrolyte, but since the electrolyte is liquid, it causes a problem of liquid leakage, which is not desirable. Attempts have been made to replace it with electrolytes. Those solid electrolytic capacitors are
PAis coating gold-coated aluminum, tantalum?
It has a structure in which a solid electrolyte is attached to the Li film-forming metal, and is the solid electrolyte of this type of solid capacitor? 1 mainly uses manganese dioxide formed by thermal decomposition of manganese nitrate. However, due to the high heat required during thermal decomposition and the meltening effect of the NOx gas generated, solid electrolyte capacitors are difficult to use due to the dielectric material aluminum.
There is damage to the oxide film of metals such as tantalum, which lowers the withstand voltage, increases leakage current, and deteriorates the electrical characteristics, which is a very big drawback. 'I is considered essential.

これらの欠点を補うため、高熱を付加t!チに固聚 体電解層を形成する方法として、高に4竹のh機半導体
材料を固体電解質とする方法が試みられている。その例
としては、特開昭52−・79255号公報に記載され
るように、7.7.8.8−テトラシアノキノジメタン
(TCNQ)錯塩を含む電導性有機化合物を固体電解質
の主成分とする固体電解コンデンサが知られている。し
かしながら、この固体電解コンデンυは、TCNQ錯塩
が陽極酸化被膜との付着性に劣り、電聯度も10−3〜
10’S/cmとネト分であるため、コンモレ丈の容f
fi値は小さく、誘Ti損失も大きく、また熱的経時的
な安定性も劣り信頼性が低い。また、TCN Q ta
塩はコストが高いため、固体電解コンデンサ全体の製造
コストが高くつくという問題があった。
To compensate for these shortcomings, high heat is added! As a method for forming a solid electrolyte layer in the field, a method has been attempted in which a solid electrolyte is made of a very high-performance semiconductor material. For example, as described in JP-A-52-79255, a conductive organic compound containing a 7.7.8.8-tetracyanoquinodimethane (TCNQ) complex salt is used as the main component of a solid electrolyte. Solid electrolytic capacitors are known. However, in this solid electrolytic capacitor υ, the TCNQ complex salt has poor adhesion to the anodic oxide film, and the degree of connectivity is 10-3~
Since it is 10'S/cm, it has a length of 10'S/cm.
The fi value is small, the induced Ti loss is large, and the thermal stability over time is also poor, resulting in low reliability. Also, TCN Qta
Since salt is expensive, there has been a problem in that the manufacturing cost of the entire solid electrolytic capacitor is high.

近年、Ti導度が高く、誘電体被膜との付着性がよく、
また安価な電導性高分子化合物を固体電解質に用いた固
体電解コンデンサを提供する試みがなされている。この
試みにおいては、誘電体として用いる多孔質金属酸化物
の被膜上にWiす性高分子化合物を付着させる際に、多
孔質金属酸化物の細孔内に電導性高分子化合物を巧みに
導入して安定化させることが、最も重要な課題となって
いる。
In recent years, Ti has high conductivity and good adhesion with dielectric coatings.
Attempts have also been made to provide solid electrolytic capacitors using inexpensive conductive polymer compounds as solid electrolytes. In this attempt, a conductive polymer compound was skillfully introduced into the pores of the porous metal oxide when adhering the wiping polymer compound onto the porous metal oxide film used as the dielectric. The most important challenge is to stabilize the environment.

一般に、電導性高分子化合物は不溶、不融であり賦形性
、加工性が著しく劣っている。このため殆どの電導性高
分子化合物は、溶融成形や、キャスティング法による成
形などができないため、固体電解質としてのすぐれた性
能を有しながら、多孔賃金111M化物の細孔内に導入
することができず、従って固体電解コンデンサには用い
ることのできない場合が多かった。
Generally, conductive polymer compounds are insoluble and infusible, and have extremely poor formability and processability. For this reason, most conductive polymer compounds cannot be molded by melt molding or casting methods, so while they have excellent performance as solid electrolytes, they cannot be introduced into the pores of porous 111M compounds. Therefore, in many cases, it could not be used for solid electrolytic capacitors.

[発明が解決しようとする問題点1 本発明の目的は、上述した従来技術の問題点を解決し、
多孔質誘電体の細孔内に固体電解質としての性能のすぐ
れている電導性高分子化合物を容易に導入することがで
き、ざらに誘電体被膜との付rJ性が9好で、しかも製
造コストが低いM m性高分子化合物を固体電WI質と
する固体電解コンデンサの製造方法を提供することにあ
る。
[Problem to be solved by the invention 1 The purpose of the present invention is to solve the problems of the prior art described above,
A conductive polymer compound with excellent performance as a solid electrolyte can be easily introduced into the pores of a porous dielectric, and the adhesion with the dielectric coating is approximately 9%, and the manufacturing cost is low. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor using a solid electrolytic polymer compound having a low M m property as a solid conductive material.

[問題点を解決するための手段] 本発明に従えば、電導性高分子化合物を固体電解質とす
る固体電解コンデンサを製造するに当り、該電導性高分
子化合物をスパッタリング法により多孔質誘電体層に付
着させることを特徴とづるβ1体電解コンデン丈の製造
方法が提供される。
[Means for Solving the Problems] According to the present invention, in manufacturing a solid electrolytic capacitor using a conductive polymer compound as a solid electrolyte, the conductive polymer compound is formed into a porous dielectric layer by sputtering. Provided is a method for producing a β1-electrolytic condenser, which comprises adhering the same to a β-1 electrolytic condenser.

本発明において固体電解!1として用いられる電導性高
分子化合物とは、π電子共役系を右する高分子化合物の
ことであり、電気伝導度が1O−2S/cIR以上の値
を有するものが望ましい。このような電導性高分子化合
物の代表例どしては、ボリアセヂレン、ポリパラフェニ
レン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリシアノアセ
チレン、ポリイソチアナフテン、ポリジアセチレン、ポ
リアニリン、ポリフタロシアニン及びこれらのポリマー
を構成するモノマーの誘導体の重合体等をあげることが
できる。これらの電導性高分子化合物のうち、好ましい
電導性高分子化合物としては、ポリパラフェニレンをあ
げることができる。
Solid electrolysis in the present invention! The conductive polymer compound used as 1 is a polymer compound having a π-electron conjugated system, and preferably has an electrical conductivity of 1O-2S/cIR or more. Typical examples of such conductive polymer compounds include polyacetylene, polyparaphenylene, polypyrrole, polythiophene, polycyanoacetylene, polyisothianaphthene, polydiacetylene, polyaniline, polyphthalocyanine, and monomers constituting these polymers. Examples include polymers of derivatives of. Among these conductive polymer compounds, a preferable conductive polymer compound is polyparaphenylene.

上記の電導性高分子化合物の中には、中性の状態で10
’S/1以上の電気伝導度を有するものもあと れば、電子供与性あるいは電子吸引性のドーパントをド
ープすることによって1O−2S/cIR以上の電気伝
導度を右−4るムのもあり、いずれも固体電解質として
用いることができる。
Some of the above conductive polymer compounds contain 10
Some have electrical conductivity of S/1 or higher, while others have electrical conductivity of 1O-2S/cIR or higher by doping with electron-donating or electron-withdrawing dopants. Both can be used as solid electrolytes.

1者の場合、ドーピングは化学的ドーピング、電気化学
的ドーピングのいずれの方法を採用してもよい。化学的
にドーピングするドーパント沃糸、臭素及び沃化Q素の
如きハロゲン、<II)五弗化砒素、五弗化アンチモン
、四弗化珪素、五J冨化燗、五弗化燐、塩化アルミニウ
ム、臭化アルミニウム及び弗化アルミニウムの如き金属
ハロゲン化物、(III)硫酸、硝酸、フル4口硫酸、
トリフルオロメタン硫酸及びクロロ硫酸の如きプロトン
酸、(TV)三酸化硫黄、二酸化窒県、ジフルオロスル
ホニルバー′A竪シトの如き酸化剤、(V)AgC4+
04、(■)テトラシアノエブレン、テトラシアノキノ
ジメタン、フロラニール、2.3−ジクロル−5,6−
ジシアツバラベンゾキノン、2.3−ジブロム−5,6
−ジシアツバラベンゾキノン、(■)Li、Na、にの
如きアルカリ金属等を用いることができる。一方、電気
化学的にドーピングするドーバン[−としては、(I)
PFii 、Sb Fi 、As Fe 、Sb Cρ
iの如きVa族の元素のハロゲン化物アニオン、BFi
の如き1lia族の元素のハ[]ゲン化物アニオン、■
−(Ii )、Br−、C,O−の如きハロゲンアニオ
ン、090イの如さ過塩素酸アニオン等の陰イオン・ド
ーパント及び(TI)Li”、Na”、に+。
In the case of one, either chemical doping or electrochemical doping may be used for doping. Chemically doped dopant iodide, halogens such as bromine and Q-iodide, <II) arsenic pentafluoride, antimony pentafluoride, silicon tetrafluoride, J-rich phosphorus, phosphorous pentafluoride, aluminum chloride , metal halides such as aluminum bromide and aluminum fluoride, (III) sulfuric acid, nitric acid, full 4-sulfuric acid,
Protonic acids such as trifluoromethane sulfuric acid and chlorosulfuric acid, (TV) oxidizing agents such as sulfur trioxide, nitrogen dioxide, difluorosulfonyl bar'A, (V) AgC4+
04, (■) Tetracyanoeblene, Tetracyanoquinodimethane, Floranil, 2,3-dichloro-5,6-
Dicyatsubara benzoquinone, 2,3-dibrome-5,6
-Alkali metals such as benzoquinone, (■) Li, Na, and Ni, etc. can be used. On the other hand, electrochemically doped dopane [- is (I)
PFii, SbFi, AsFe, SbCρ
Halide anions of Va group elements such as i, BFi
Ha[]genide anions of elements of the 1lia group, such as ■
-(Ii), anionic dopants such as halogen anions such as Br-, C, O-, perchlorate anions such as 090i, and (TI)Li", Na", and +.

Rh+、Cs“の如さアルカリ金属イオン、一般式RM
+1−1  またはRM  ”  (式中、[くは4−
x      X        3  1CからC1
oのアルキル基、)[ニル、八〇)[ニル、アル:〜ル
フェニル等のアリール阜、Mは’N、P、As、M1は
O又はS、×は0又は1を表す。)′r−示されるテト
ラアルキルアンモニウムイオン、デトラアルキル小スホ
ニウムイオン、テトラアルキルアンモニウムイオン、ト
リフルー髪ルA4ソニウム、トリアルキルスル小ニウム
イオン等の陽イオン・ドーパント等をあげることができ
るが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
Rh+, alkali metal ion such as Cs, general formula RM
+1-1 or RM'' (in the formula, [ is 4-
x x 3 1C to C1
o alkyl group, ) [nyl, 80) [nyl, al: - aryl group such as ruphenyl, M is 'N, P, As, M1 is O or S, × represents 0 or 1; )'r-Cation and dopants such as tetraalkyl ammonium ion, detraalkyl small sulfonium ion, tetraalkyl ammonium ion, trifluorol A4 sonium, trialkylsul small nium ion, etc. can be mentioned, but these are not necessarily included. It is not limited to.

ドーパントは、電導性高分子化合物を多孔質誘電体層上
にスパッタリングによって成膜した後にドーピングする
方法が一般的であるが、1−i)。
The dopant is generally formed by sputtering a conductive polymer compound onto the porous dielectric layer and then doped with the dopant (1-i).

Na+等の金属陽イオンをドーパントとする場合等には
、予めこれらの金属陽イオンをドーピングした電導性高
分子化合物をスパッタリングすることら可能であり、従
来公知のドーピング方法はいずれら用いることができる
。電導性高分子化合物としてボリバラフTニレンを用い
る場合は、電子受容性化合物、電子供り性化合物、陰イ
オン・ドーパント、及び陽イオン・ドーパントによるド
ーピングはいずれも可能であるが、好ましくは空気中で
安定である電子受容性化合物及び陰イオン・ドーパント
によるドーピングである。
When using metal cations such as Na+ as a dopant, it is possible to sputter a conductive polymer compound doped with these metal cations in advance, and any conventional doping method can be used. . When Bolivaraf T-nylene is used as a conductive polymer compound, doping with an electron-accepting compound, an electron-loving compound, an anion dopant, or a cation dopant is possible, but it is preferably doped in air. Doping with stable electron-accepting compounds and anionic dopants.

本発明において用いられる多孔′d誘電体の種類には特
に限定はないが、例えばアルミニウム、クンタル、ニオ
ブ等の金属の酸化物を好適に使用することができる。
The type of porous dielectric material used in the present invention is not particularly limited, but oxides of metals such as aluminum, kuntal, and niobium can be suitably used.

本発明において、多孔質誘電体層にスパッタリング法に
よってTi導性高分子化合物を付着さUるために用いら
れるスパッタリング装置としては、DC2極スパッタリ
ング方式、RF 2 Kスパッタリング方式、3極プラ
ズマスパッタリングh式、41ルプラズマスパッタリン
グ方式、ACスパッタリング方式、バイアススパッタリ
ング6式、リアクツイブスパッタリング方式、イオンビ
ームスパッタリング方式、DCマグネトロンスパッタリ
ング方式、R「マグネトロンスパッタリング方式、同軸
マグネトロンスパッタリング方式等のスパッタリング方
式を用いた装置があげられるが、特にこれらに限定され
るものではない。これらのスパッタリング法のうち、薄
膜の生産性が高く好ましいものはマグネトロンスパッタ
リング方式である。
In the present invention, the sputtering equipment used to deposit the Ti conductive polymer compound onto the porous dielectric layer by sputtering includes a DC two-pole sputtering method, an RF 2 K sputtering method, and a three-pole plasma sputtering method. , 41 Plasma sputtering method, AC sputtering method, bias sputtering 6 types, reactive twin sputtering method, ion beam sputtering method, DC magnetron sputtering method, R "Apparatus using sputtering methods such as magnetron sputtering method, coaxial magnetron sputtering method, etc. Among these sputtering methods, magnetron sputtering is preferred because it has high productivity of thin films.

本発明において電導性高分子化合物をターゲットとして
装置i ?jる137人としては、例えば銅板Fに電導
性高分子化合物のパウダーを加圧成型する方法、銅板上
にエボ1シ系接着剤やテフロン等の接着剤を用いて接着
する方法等があげられるが、特にこれらに限定されるも
のでは(、−い。
In the present invention, the device i? For example, examples include a method of pressure molding conductive polymer compound powder onto a copper plate F, and a method of adhering it onto a copper plate using an adhesive such as EVO 1 adhesive or Teflon. However, it is not particularly limited to these.

本発明に用いられるスパッタリング法は、一般に ■ 適切な条付下で化合物、合金等のような複雑な組成
のターゲットを用いて同じ組成の膜が得られる。
The sputtering method used in the present invention is generally (1) capable of obtaining films of the same composition by using targets of complex compositions such as compounds, alloys, etc. under appropriate conditions.

■ 被膜すべき物体の面積、形状に対する制約が少ない
■ There are fewer restrictions on the area and shape of the object to be coated.

■ 基板とターゲットの相対的位置関係にυ1約がなく
、どのような方向にb成膜できる。
■ There is no υ1 difference in the relative positional relationship between the substrate and the target, so b can be deposited in any direction.

■ 膜厚1.II御が容易である。■ Film thickness 1. II is easy to control.

■ 基板入射スパッタ原子の運動エネルV−が高いので
、膜の基板への付る力が人さい。
■ Since the kinetic energy V- of the sputtered atoms incident on the substrate is high, the force applied to the film on the substrate is small.

などの特長を右している。これを本発明固体電解コンデ
ン昏すの製造方法に用いることにより、電導度が高く、
誘電体被膜との(Jn性がよく、また高周波特性がよく
安価な電導性高分子化合物を固体電解質として用いるこ
とができる。
It has the right features such as: By using this in the manufacturing method of the solid electrolytic capacitor of the present invention, the electrical conductivity is high,
An inexpensive conductive polymer compound that has good Jn properties with a dielectric film and good high frequency characteristics can be used as the solid electrolyte.

[弁明の効果] 本発明の方法によって¥J造される固体電解]ンfンリ
は、従来の無機酸化物本4休ヤ)右1半導体を用いた固
体電解]ンデンリに比して、容♀、誘電損失、杼時安定
竹において著しくすぐれた性能をイjしている。
[Effect of explanation] The solid electrolyte produced by the method of the present invention has a higher capacity than the conventional solid electrolyte using an inorganic oxide semiconductor. Bamboo has outstanding performance in terms of dielectric loss, stability under shuttle.

また、本発明の方法によって製造される固体電解コンデ
ンサは、従来公知の固体電解コンアン1ノに比較して、
以下のような利点を有している。
Furthermore, the solid electrolytic capacitor manufactured by the method of the present invention has the following characteristics compared to the conventionally known solid electrolytic capacitor:
It has the following advantages.

■ 高温に加熱することなく多孔ri誘電体層上に電導
性高分子化合物を形成できるので、陽極の酸化被膜のに
1傷がなく、補修のための陽極酸化(再化成)を行う必
要もない。そのため、定格電圧を従来の数倍に上げるこ
とができ、同容量、同定格電圧のコンデンサを得るのに
、従来のものに比較して形状を小型化できる。
■ Since a conductive polymer compound can be formed on the porous RI dielectric layer without heating it to high temperatures, there is no scratch on the oxide film of the anode, and there is no need to perform anodization (reformation) for repair. . Therefore, the rated voltage can be increased to several times that of the conventional capacitor, and the shape can be made smaller compared to the conventional capacitor, even though the capacitor has the same capacity and the same rated voltage.

■ ffi導fi高分子化合物と誘電体被膜との付着性
が良好であるため、漏れ電流が小さい。
(2) Leakage current is small because the adhesion between the ffi-conducting fi polymer compound and the dielectric coating is good.

■ ^耐圧のコンデンVをfi製することができ十分に
高いため、グラファイト等の13ffilを設ける必要
がなく、そのための工程を簡略化することができる。
^ Since the pressure-resistant condensate V can be made of fi and is sufficiently high, there is no need to provide 13ffil of graphite or the like, and the process for this can be simplified.

■ 周波数特性が良い。■Good frequency characteristics.

■ 製造コストが低い。■ Low manufacturing cost.

[実施例] 以下、実施例、及び比較例をあげて本発明を更に工T細
に説明する。
[Examples] Hereinafter, the present invention will be explained in further detail by giving Examples and Comparative Examples.

なお、各個の固体電解コンデンサの特性値は表に示した
Note that the characteristic values of each solid electrolytic capacitor are shown in the table.

実施例 1 厚さ100μmのアルミニウム箔(純度99.99%)
をgiI4iとし、直流及び交流の交互使用により、箔
の表面を電気化学的にエツチングして平均細孔径2μ瓦
で、比表面積が12m2/gの多孔質アルミニウム箔と
した。次いで、このエツチング処理したアルミニウム箔
を111Mアンモニウムの液中に浸漬し、液中で電気化
学的にアルミニウム箔の上に誘電体の薄層を形成した。
Example 1 Aluminum foil with a thickness of 100 μm (purity 99.99%)
was designated as giI4i, and the surface of the foil was electrochemically etched by alternating direct current and alternating current to produce a porous aluminum foil with an average pore diameter of 2 μm and a specific surface area of 12 m 2 /g. The etched aluminum foil was then immersed in a 111M ammonium solution to electrochemically form a thin dielectric layer on the aluminum foil in the solution.

ベンゼンをルイス酸(AJ (J 3 )及び酸化剤(
Cu CJ 2 )の存在下で攪拌(フリーアル・クラ
フッ反応による重合)し、次いで、低分子団成分及び不
純物を洗浄後、真空乾燥しポリパラフェニレンの褐色粉
末を得た。この粉末をエポキシ系接着剤を用いて銅板上
に接着プレス成型しターゲットとした。このターゲット
を、プラナ−型RFマグネトロンスパッタリング装向の
ペルジャー内に取り付け、上記の如くして得た誘電体層
を有するアルミニウム箔を基板として設置した。スパッ
タ出力を1’47cm2〜3訂α2、アルゴン圧力を5
x 10  torr 〜2 x 10’torr(7
)範囲で設定し、rate(付着速度)を10〜100
人/■inとしてスパッタリングを行った。この結采、
基板上に付着力の強いポリパラフェニレンの薄膜を得た
Benzene is mixed with a Lewis acid (AJ (J 3 )) and an oxidizing agent (
The mixture was stirred in the presence of (Cu CJ 2 ) (polymerization by Freel-Crauff reaction), and then, after washing low molecular weight components and impurities, it was vacuum dried to obtain a brown powder of polyparaphenylene. This powder was adhesively press-molded onto a copper plate using an epoxy adhesive to form a target. This target was installed in a Pelger equipped for planar type RF magnetron sputtering, and the aluminum foil having the dielectric layer obtained as described above was placed as a substrate. Sputter output 1'47cm2~3 α2, argon pressure 5
x 10 torr ~2 x 10'torr (7
) range, and set the rate (adhesion speed) from 10 to 100.
Sputtering was performed as a person/■in. This conclusion,
A thin film of polyparaphenylene with strong adhesion was obtained on the substrate.

このポリパラフェニレンの1111をBF3ガスに曝し
てドーピングを行った。この時のポリパラフェニレンの
電気伝導度は2S/1であった。陰極にアルミニウム箔
を用いてゴムで14止して固体電解コンデンサを作製し
た。
This polyparaphenylene 1111 was doped by exposing it to BF3 gas. The electrical conductivity of polyparaphenylene at this time was 2S/1. A solid electrolytic capacitor was prepared by using aluminum foil as a cathode and fixing it with rubber.

実施例 2 実施例1で得たポリパラフェニレンの褐色粉末にli+
をドーピングした。この時の電気伝導+ffは1S/C
IRであった。この予めドーピングしたポリパラフェニ
レンをエポキシ系接4剤を用いて銅板上に接着プレス成
へ1!ジターゲツトとし、実施例1と同様のアルミニウ
ム箔を基板どした以外は、実/[1と同様にスパッタリ
ングを行って固体電解コンデンサを作製した。
Example 2 Li+ was added to the brown powder of polyparaphenylene obtained in Example 1.
was doped. Electrical conduction +ff at this time is 1S/C
It was IR. This pre-doped polyparaphenylene is bonded and pressed onto a copper plate using an epoxy adhesive.1! A solid electrolytic capacitor was produced by sputtering in the same manner as in Example 1, except that the same aluminum foil as in Example 1 was used as the target.

比較例 実施例1と同じ誘電体層を右するアルミニウム箔を使用
し、従来の二酸化マンガンを固体電解質とし、陰極をア
ルミニウム箔とした固体電解コンデンサを作製した。
Comparative Example A solid electrolytic capacitor was fabricated using the same aluminum foil as in Example 1 for the dielectric layer, conventional manganese dioxide as the solid electrolyte, and aluminum foil as the cathode.

table

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  電導性高分子化合物を固体電解質とする固体電解コン
デンサを製造するに当り、該電導性高分子化合物をスパ
ッタリング法により多孔質誘電体層に付着させることを
特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, which comprises depositing the conductive polymer compound on a porous dielectric layer by sputtering, in manufacturing a solid electrolytic capacitor using a conductive polymer compound as a solid electrolyte.
JP20524985A 1985-09-19 1985-09-19 Method for manufacturing solid electrolytic capacitor Expired - Lifetime JPH0650708B2 (en)

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JP20524985A JPH0650708B2 (en) 1985-09-19 1985-09-19 Method for manufacturing solid electrolytic capacitor

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JP20524985A JPH0650708B2 (en) 1985-09-19 1985-09-19 Method for manufacturing solid electrolytic capacitor

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