JPS6263918A - Liquid crystal element - Google Patents

Liquid crystal element

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Publication number
JPS6263918A
JPS6263918A JP60203994A JP20399485A JPS6263918A JP S6263918 A JPS6263918 A JP S6263918A JP 60203994 A JP60203994 A JP 60203994A JP 20399485 A JP20399485 A JP 20399485A JP S6263918 A JPS6263918 A JP S6263918A
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JP
Japan
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liquid crystal
crystal element
color filter
linear expansion
protective layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP60203994A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Sekimura
関村 信行
Masaru Kamio
優 神尾
Eiji Sakamoto
英治 坂本
Yasuko Motoi
泰子 元井
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Priority to US06/783,429 priority patent/US4744637A/en
Publication of JPS6263918A publication Critical patent/JPS6263918A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133345Insulating layers

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  • Mathematical Physics (AREA)
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To form a liquid crystal element having color picture elements of high transmittance by providing a protective layer having a specific coefft. of linear expansion between a color filter layer and transparent electrodes. CONSTITUTION:The color filter layers 14 which are respectively one picture element of a BGR color filter are provided on a substrate 11a and the transparent electrode 12a is provided via the protective layer 15 on said color filter layer 14. The protective layer 15 is exemplifed by a material selected from materials having the coefft. alpha of linear expansion most adequately 0.05-5 times the coefft. of linear expansion of the transparent electrode 12a. More specifically, SiO2 (alpha; 6X10<-6>/ deg.C) is suitable.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液晶素子に関し、特にカラーディスプレイ装
置に適したカラー液晶素−イに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a liquid crystal device, and particularly to a color liquid crystal device suitable for a color display device.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、液晶カラーディスプレイ装置で用いていた液晶素
子は、マトリクス電極パターンの対向電極部分とその間
に位置する液晶とによって形成した画素と該画素毎に設
けたカラーフィルター層とを有している。この際、カラ
ーフィルター層は、前述の画素を形成している電極の上
か、又は電極と基板との間に配置する方法が採用されて
いる。このカラーフィルター層は、画素毎に青色(B)
フィルター、緑色(G)フィルターと赤色(R)フィル
ターがストライプ形状メはモザイク形状で配置され、画
素の選択的な光学スイツフーングによ−)で所[′7J
とするカテー映像ディスプレイやカラーノ9゛ラフイツ
ノ7′7″イスプし、・イが行なわれる。
A liquid crystal element conventionally used in a liquid crystal color display device has a pixel formed by a counter electrode portion of a matrix electrode pattern and a liquid crystal located between them, and a color filter layer provided for each pixel. At this time, a method is adopted in which the color filter layer is disposed on the electrode forming the aforementioned pixel or between the electrode and the substrate. This color filter layer is colored blue (B) for each pixel.
The filters, green (G) filters and red (R) filters, are arranged in a striped shape and in a mosaic shape, and are formed by pixel-selective optical switching.
The video display and color screen 7'7" will be displayed.

〔発明が解決1.ようとする問題点〕 しかしながら、これまでのカラーディスプレイ装置で用
いていた液晶素fは、開[1時にお(Jる画素の透過率
が小さく、このためカラーギイスプし・イ装置では高輝
度のバックライトを心安としていた。
[The invention solves the problem 1. However, the transmittance of the liquid crystal element used in conventional color display devices is low when the pixel is opened (J). I felt safe in Light.

前述の問題点に対し、て、未発明治らは検討を重ねたと
ころ、カラー画素を構成しているカラーフィルター層上
に透明’Tji極となるITO(インジウム争ティン拳
オキサイド)を形成する際に、ITO膜形成に用いるス
パッタ1)フグ時のコロナ発生対にするカシ−フィルグ
一層の保護として、該カラーフィルター層1.に光硬化
+1樹脂などからなる保護層を設けていたが、かかる保
護層がスパッタリング時の200℃以十の加熱により、
保護層とITO膜との臨界面が粗面状あるいはうねり状
の不均一面となり、この不均一面が開口時における画素
の透過率を低rさせていた原因であることをつきとめた
Regarding the above-mentioned problem, after repeated studies, Mitsubishi et al. found that when forming ITO (indium tin oxide), which becomes a transparent electrode, on the color filter layer that constitutes the color pixel, , sputtering used for ITO film formation 1) Corona generation during puffing As a layer of protection for the oak filter layer, the color filter layer 1. A protective layer made of photo-curing +1 resin was provided on the 2000-2000, but this protective layer was heated to 200°C or more during sputtering, and
It was found that the critical surface between the protective layer and the ITO film was a rough or undulating non-uniform surface, and that this non-uniform surface was the cause of the low transmittance of the pixel when it was opened.

従って、本発明の目的は、高透過率のカラー画素を有す
る液晶素子を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a liquid crystal element having color pixels with high transmittance.

〔問題点を解決するための手段〕及び〔作用〕木発明は
、一対の基板間に液晶を配置した液晶素子において、前
記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板がカラーフ
ィルター層と該カラーフィルター層の上に設けた透明電
極とを有しているとともに、前記カラーフィルター層と
透明電極との間に該透明電極の線膨張係数に対して0.
01〜6倍の線膨張係数をもつ保護層を有している液晶
素子に特徴を有している。
[Means for Solving the Problem] and [Operation] The invention provides a liquid crystal element in which a liquid crystal is arranged between a pair of substrates, in which at least one of the pair of substrates has a color filter layer and the color filter. a transparent electrode provided on the layer, and a gap between the color filter layer and the transparent electrode of 0.00000 with respect to the linear expansion coefficient of the transparent electrode.
The liquid crystal element is characterized by having a protective layer having a linear expansion coefficient of 0.01 to 6.0 times.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は、カラーディスプレイ装置に適用しうる液晶素
子の実施態様を表わし、第1図(A)はその平面図で第
1図(B)はその断面図である。第1図に示す液晶素子
は、画素毎にBGRカラーフィルターがストライブ形状
で配置され、走査線1に走査信り〜を1llrj 次印
加152、この走査信号と同期させて表示線2に情報4
11号や映像信号などの表示信号を印加することによっ
てカラーディスプレイが得られる。
FIG. 1 shows an embodiment of a liquid crystal element that can be applied to a color display device, with FIG. 1(A) being a plan view thereof and FIG. 1(B) being a sectional view thereof. In the liquid crystal element shown in FIG. 1, a BGR color filter is arranged in a stripe shape for each pixel, and a scanning signal 152 is applied to the scanning line 1, and information 4 is applied to the display line 2 in synchronization with this scanning signal.
A color display can be obtained by applying a display signal such as No. 11 or a video signal.

本発明の液晶素子−は、一対の基板]、 l aと11
b(例えば、ガラス、プラスチックフィルム)の間に液
晶16が配置されており、基板11a4こは表小線2と
なるス)・ライブ状透明電ai12a(例えばITo)
が配線され、基板11bには走査線lとなるストライブ
状透明電極12b(例えばITO)が配線されでいる。
The liquid crystal element of the present invention comprises a pair of substrates], la and 11.
A liquid crystal 16 is arranged between the substrates 11a4 and 2b (e.g. glass, plastic film), and a live transparent electrode ai12a (e.g. ITo).
are wired, and a striped transparent electrode 12b (for example, ITO) that becomes a scanning line 1 is wired on the substrate 11b.

さらに、本発明では、基板11aにはBGRカラーフィ
ルターの1つの画素となるカラーフィルター層14が設
けられ、このカラーフィルター層14の−にに保護層1
5を介して1)口述の透明電極12aが設けられている
Further, in the present invention, the substrate 11a is provided with a color filter layer 14 that becomes one pixel of the BGR color filter, and a protective layer 1 is provided on the side of the color filter layer 14.
5. 1) A transparent electrode 12a is provided.

本発明で用いる保護層15と1.ては、透明電極12a
の線膨張係数に対して0.01倍〜6倍、好ましくは0
.01倍〜5倍、最適には0.05倍〜5倍の線Il張
係数(以上−αで示す)をもつものから選択したものを
挙げることができる。具体的には、5i02(α、 6
 X 10−7/’O)、Ti02(α; 9 X 1
0−7/’Cりやガラス(α;45〜100 X 10
−7/’O)などの絶縁性無機物質又はアクリル系熱硬
化性樹脂(α;200〜300 X 10−7/℃)エ
ポキシ系熱硬化性樹脂(α;200〜400X10−7
/’Cり、シリコン樹脂(α;200〜500X10−
710C)やポリイミド樹脂(α、400〜500X1
0−7/’O)などの熱硬化型樹脂が適している。
Protective layer 15 used in the present invention and 1. The transparent electrode 12a
0.01 to 6 times, preferably 0.01 to 6 times the linear expansion coefficient of
.. Examples include those selected from those having a linear Il tensile coefficient (denoted by -α) of 0.01 to 5 times, most preferably 0.05 to 5 times. Specifically, 5i02(α, 6
X 10-7/'O), Ti02(α; 9 X 1
0-7/'C Riya glass (α; 45-100 X 10
Insulating inorganic substances such as -7/'O) or acrylic thermosetting resins (α; 200 to 300
/'C, silicone resin (α; 200~500X10-
710C) and polyimide resin (α, 400-500X1
A thermosetting resin such as 0-7/'O) is suitable.

これらのm膨張係数αはJIS(白木工業規格)K67
14での測定に基づいている。又、本発明で用いる透明
電極12aとしては、ITO(インジウムと錫との混合
割合が異なることによってその線膨張係数は異なるが、
一般的に80 X 10−7〜100 X 10−7/
’Oである)が適当である。又、酸化インジウム(約4
0×10−77”O)や酸化錫(約40 X 10−7
/’O)も透明電極として用いることができる。
These m expansion coefficients α are JIS (Shiraki Industrial Standard) K67
Based on measurements at 14. In addition, as the transparent electrode 12a used in the present invention, ITO (the coefficient of linear expansion differs depending on the mixing ratio of indium and tin,
Generally 80 x 10-7 to 100 x 10-7/
'O) is appropriate. In addition, indium oxide (approximately 4
0 x 10-77"O) and tin oxide (approximately 40 x 10-7
/'O) can also be used as a transparent electrode.

本発明では、下達の実施例で明らかにするが、前述の保
護層15の線膨張係数をその上にスパッタリング法(特
に基板温度を200℃以上としたスパッタリング法)で
形成する透明電極の線膨張係数に対して0.01倍〜6
倍とすることによって、スパッタリング時の200 ’
C以上の加熱に原因していた保護層15の粗面化又はう
ねり化を防止することができた。この理由は、今のとこ
ろ明らかではないが、保護層15の線膨張係数を例えば
6倍以上の様に大きくすると、保護層15の上に加熱下
でITO膜が形成され、その加熱後急冷されるため保護
層15がITO膜より急激に大きな収縮を受け、この収
縮力が保護層15の粗面化又はうねり化を生じさせる原
因となっていることが予想される。
In the present invention, as will be made clear in the examples below, the linear expansion coefficient of the above-mentioned protective layer 15 is determined by the linear expansion of the transparent electrode formed thereon by a sputtering method (particularly a sputtering method at a substrate temperature of 200° C. or higher). 0.01 times to 6 for the coefficient
By multiplying the sputtering time by 200'
It was possible to prevent the surface roughening or waviness of the protective layer 15 caused by heating above C. The reason for this is not clear at present, but when the linear expansion coefficient of the protective layer 15 is increased, for example, by a factor of 6 or more, an ITO film is formed on the protective layer 15 under heating, and after the heating, it is rapidly cooled. As a result, the protective layer 15 undergoes a sharper contraction than the ITO film, and this contraction force is expected to cause the protective layer 15 to become rough or wavy.

従って、保護層15の線膨張係数を最適化することによ
って保護層15の粗面化又はうねり化を防止することが
できるものと考えられる。
Therefore, it is considered that by optimizing the coefficient of linear expansion of the protective layer 15, roughening or waviness of the protective layer 15 can be prevented.

又、本発明で用いるRGBカラーフィルター層1層上4
ては、顔料又は染料の蒸着層あるいは顔料又は染料を樹
脂バインダーに含有させて被膜形成したものを用いるこ
とができる。
In addition, 4 on top of the RGB color filter layer 1 used in the present invention.
Alternatively, a vapor-deposited layer of a pigment or dye or a film formed by containing a pigment or dye in a resin binder can be used.

前述の透明電極12aと12bの上には、ラビング処理
などで一軸性配向軸を形成した配向制御膜13aと13
bが形成されている。配向制御膜13aと13bとして
は、ポリイミド、ポリエステルイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリアミド、ポリビニルアルコールなどにより被膜
形成したものが適用されるが、本発明ではカラーフィル
ター層14の紫外線による退色を防止する上で、配向制
御膜13aとしてポリイミドが適している。特にポリイ
ミド膜の膜厚な0、5 p、 m以上と設定することで
50%以上の紫外線(波長350nm以下)をカットす
ることができる。又、ポリイミドは、その前駆体である
ポリアミック酸樹脂成分の溶媒として例えばN−メチル
ピロリド等が使用されているが、この溶媒がカラーフィ
ルター層に直接塗布すると、カラーフィルター層がこの
溶媒によって溶出するために、本発明では前述の透明電
極12aをカラーフィルター層の上に形成することで、
前述の溶出を防止できる効果を有している。
On the transparent electrodes 12a and 12b described above, alignment control films 13a and 13 are formed with uniaxial alignment axes by rubbing treatment or the like.
b is formed. As the orientation control films 13a and 13b, films formed of polyimide, polyesterimide, polyamideimide, polyamide, polyvinyl alcohol, etc. are applicable, but in the present invention, in order to prevent color fading of the color filter layer 14 due to ultraviolet rays, Polyimide is suitable for the orientation control film 13a. In particular, by setting the thickness of the polyimide film to 0, 5 p, m or more, it is possible to cut out 50% or more of ultraviolet rays (wavelength of 350 nm or less). In addition, for polyimide, for example, N-methylpyrrolid is used as a solvent for the polyamic acid resin component that is its precursor, but if this solvent is applied directly to the color filter layer, the color filter layer will be eluted by this solvent. In addition, in the present invention, by forming the above-mentioned transparent electrode 12a on the color filter layer,
It has the effect of preventing the above-mentioned elution.

本発明の液晶素子で用いる液晶16としては、各種のも
のから選択することができるが、特にツィステッド・ネ
マチック(TN)液晶や強誘電性液晶が適している。特
に、強誘電性液晶としては、双安定状態が付与されたも
のが好ましい。すなわち、双安定状態下にある強誘電性
液晶は、第1の安定状態と第2の安定状態とのなす角度
の1/2の角度(チルト角)が22.5゜の時、直交ニ
コルで最大の透過率と最大の遮光率が得られるが、実際
問題としてかかるチルト角は一般に5°〜15°程度で
ある。しかも、前述した様に、従来のカラーフィルター
層の上に形成していた保護層が透過率を低下させる原因
となっていたため、双安定状態を伺与した強誘電性液晶
素子にカラーフィルター層を設けると透過率が非常に低
下し、かなり高輝度の7へツクライトを採用しない限り
良好なカラーパターンがディスプレイされなかった。
The liquid crystal 16 used in the liquid crystal element of the present invention can be selected from various types, but twisted nematic (TN) liquid crystal and ferroelectric liquid crystal are particularly suitable. In particular, the ferroelectric liquid crystal preferably has a bistable state. In other words, a ferroelectric liquid crystal in a bistable state is in a crossed nicol state when the angle (tilt angle) that is half of the angle between the first stable state and the second stable state is 22.5°. Although maximum transmittance and maximum light shielding rate can be obtained, the tilt angle in practice is generally about 5° to 15°. Moreover, as mentioned above, the protective layer formed on the conventional color filter layer was the cause of reducing the transmittance, so the color filter layer was not applied to the ferroelectric liquid crystal element, which exhibits a bistable state. When provided, the transmittance decreased significantly, and a good color pattern could not be displayed unless a very high brightness 7-channel light was used.

前述の強誘電性液晶としては、非らせん構造のカイラル
スメクチックC相(SmC″″)H相(SmH’)、I
相(SmI’)、に相(SmK’)やG相(SmG”)
を用いることができる。
The above-mentioned ferroelectric liquid crystals include chiral smectic C phase (SmC'''') H phase (SmH'), I
phase (SmI'), phase (SmK') and phase G (SmG")
can be used.

本発明ではこの問題も透明電極とカラーフィルター層の
保護層の線膨張係数を前述の様に調製することによって
解決することができた。
In the present invention, this problem could also be solved by adjusting the linear expansion coefficients of the transparent electrode and the protective layer of the color filter layer as described above.

第2図は、本発明の別の態様を表わした断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing another embodiment of the invention.

第2図は表示用パネルを構成する基板(ガラス?)26
alに、2〜lO木/ m rn程度の密度でマトリク
ス配置された駆動用薄膜トランジスタ(TFT:Th1
n  Fi 1mTransistor)を設けたもの
である。
Figure 2 shows a substrate (glass?) 26 that makes up the display panel.
Drive thin film transistors (TFTs: Th1
nFi 1mTransistor).

TPTは、基板2 ’6 a上に形成されたゲート線(
透明又は金属の薄膜導電膜からなる)、該ゲート線上に
設けたゲート電極21、前記ゲート電極21−hに絶縁
膜25を介して形成した薄膜状の半導体22、半導体の
ソース電極23に接して設けたソース線(導電膜からな
る)及び半導体の他端に設けたドレイン電Fii24客
から構成されている。L記ドレイン電極24は表小要素
弔位となる透明電極29を構成している。
TPT is a gate line (
(consisting of a transparent or metal thin film conductive film), a gate electrode 21 provided on the gate line, a thin film semiconductor 22 formed on the gate electrode 21-h via an insulating film 25, and a semiconductor source electrode 23 in contact with It consists of a source line (made of a conductive film) provided and a drain line provided at the other end of the semiconductor. The L drain electrode 24 constitutes a transparent electrode 29 which serves as a front small element.

又、基板26aの透明市pj129と対応する個所にカ
ラーフィルター層27とその1に形成した保護層28が
設けられているが、この几体例では保護層28の線膨張
係数は透明′電極29の線膨張係数に対して前述のとお
り0.01倍〜6倍、好ましくは0.01倍〜5倍、最
適には0.05倍〜5倍に設定される。さらに、透明電
極29の[−には−一軸性配向軸をもつポリイミドの配
向制御膜20aが設けられている。
Further, a color filter layer 27 and a protective layer 28 formed on the first part of the color filter layer 27 are provided on the substrate 26a at a location corresponding to the transparent layer pj129. As described above, the coefficient of linear expansion is set to 0.01 to 6 times, preferably 0.01 to 5 times, and optimally 0.05 to 5 times. Further, an alignment control film 20a made of polyimide having a -uniaxial alignment axis is provided on the [-] side of the transparent electrode 29.

このTPT基板26aと対向した対向基板26bとの間
に液晶31が配置され、対向基板26bには対向電極3
2がポリイミドの配向制御膜20bに覆われて設けられ
、TPT基板26aと対向基板26bの周辺は液晶41
をシールするシール材33が設けられている。
A liquid crystal 31 is disposed between the TPT substrate 26a and a counter substrate 26b facing the opposite substrate, and a counter electrode 3 is provided on the counter substrate 26b.
2 is provided covered with a polyimide alignment control film 20b, and a liquid crystal 41 is provided around the TPT substrate 26a and the counter substrate 26b.
A sealing material 33 for sealing is provided.

第3図は、第2図に示す液晶素子で使用したカラーフィ
ルター層27を対向基板26bに設置2 けた態様を表わしている。この際も、第2図の液晶素子
と同様にカラーフィルター層27は、保護層34を介し
て透明電極29と位置的に対応させる。
FIG. 3 shows an embodiment in which the color filter layer 27 used in the liquid crystal element shown in FIG. 2 is disposed on a counter substrate 26b. In this case as well, the color filter layer 27 is made to correspond in position to the transparent electrode 29 via the protective layer 34, similar to the liquid crystal element shown in FIG.

以下、本発明を実施例に従って説明する。Hereinafter, the present invention will be explained according to examples.

実施例1 ガラス(コーニン社製7059)の上に先ず、スピンナ
ー塗布法により、ポジ型レジスト(商品名;0FPR8
00,東京応化製)を5000〜7000人の膜厚で画
素電極上に塗布した。次に90℃、30分間のプリベー
タを行なった後、紫外光にて、マスク露光を行ない、専
用現像液に1分間浸漬し、同じく専用リンス液に1分間
浸漬して、レジストマスクを形成した。次にレジストマ
スクの形成されたフォトセンサーアレイ全面に露光を行
ない、溶剤に可溶とした。続いてフォトセンサーアレイ
と、Moボートに詰めた銅フタロシアニンを真空容器内
に設置し、真空度10−5〜10−6T o r rに
おいて、Moポートを450〜550℃に加熱し、銅フ
タロシアニンの蒸着を行ない、膜厚は4. OOO入と
した。しかる後に、0FPR専用現像液中にて浸漬攪拌
を行ない、レジストマスクを溶解しながら蒸着膜の不要
部分を除去することによって、パターン状古色カラーフ
ィルター層を形成した。続いてこのパターン状青色色素
層の形成されたフォトセンサーアレイ七に同様の−「程
で0FPR800を塗布し、露光、現像した後1次のパ
ターン状緑色色素に相当するレジストマスクを形成した
。全面露光後、真空蒸着機に設置し、今度はPbフタロ
シアニンを450〜550℃で蒸着し3000人の膜を
得た。しかる後に現像液で浸漬攪拌し、パターン状緑色
カラーフィルター層を形成した。
Example 1 First, a positive resist (trade name: 0FPR8) was applied onto glass (7059 manufactured by Konin Co., Ltd.) by a spinner coating method.
00, manufactured by Tokyo Ohka Chemical Co., Ltd.) was applied onto the pixel electrode to a film thickness of 5,000 to 7,000 layers. Next, after performing pre-beta at 90°C for 30 minutes, mask exposure was performed with ultraviolet light, immersion in a dedicated developer for 1 minute, and immersion in a dedicated rinsing solution for 1 minute to form a resist mask. Next, the entire surface of the photosensor array on which the resist mask was formed was exposed to light to make it soluble in a solvent. Next, the photosensor array and the copper phthalocyanine packed in the Mo boat were placed in a vacuum container, and the Mo port was heated to 450 to 550°C at a vacuum degree of 10-5 to 10-6 Torr to remove the copper phthalocyanine. Vapor deposition was performed, and the film thickness was 4. It was set to OOO. Thereafter, the resist mask was immersed and stirred in a developer exclusive for 0FPR to remove unnecessary portions of the deposited film while dissolving the resist mask, thereby forming a patterned old color filter layer. Subsequently, a similar 0FPR800 was applied to the photosensor array 7 on which this patterned blue dye layer was formed, and after exposure and development, a resist mask corresponding to the first patterned green dye layer was formed on the entire surface. After exposure, it was placed in a vacuum evaporator, and Pb phthalocyanine was then evaporated at 450 to 550°C to obtain a film of 3,000 layers.After that, it was immersed in a developer and stirred to form a patterned green color filter layer.

さらに全く同様の二「程により、ペリレンテトラカルボ
ン酸誘導体系の赤色色素として、イルガジンレツドBP
T(商品名:チパガイギー製ClNo、71127)を
、400−500’Cで約3000久八着し、現像液処
理によりパターン状赤色カラーフィルター層を得た。
Furthermore, by using exactly the same process, Irgazine Red BP was produced as a red pigment based on perylenetetracarboxylic acid derivatives.
T (trade name: ClNo. 71127 manufactured by Chipa Geigy) was deposited at 400-500'C for about 3000 minutes, and treated with a developer to obtain a patterned red color filter layer.

次に前述のカラーフィルター層を設けたガラス基板の上
に5i02を真空蒸着法で1000人の膜厚で被膜形成
した。この5i02をJISK6714で測定したとこ
ろ、6X10−7/℃であった。次に、ITOを5i0
2膜の上に1ooo人の膜厚で基板温度を250℃とし
たスパッタリング法で被膜形成した。このITO膜JI
SK6714で測定したところ、95×10−7/”O
であった。
Next, a film of 5i02 was formed to a thickness of 1000 nm on the glass substrate provided with the color filter layer described above by vacuum evaporation. When this 5i02 was measured according to JIS K6714, it was 6X10-7/°C. Next, add ITO to 5i0
A film was formed on the two films to a thickness of 100 mm by sputtering at a substrate temperature of 250°C. This ITO film JI
When measured with SK6714, it was 95×10-7/”O
Met.

前述の方法で作成したITO/5i02/カラーフィル
ター/ガラス板のITO膜表面を小板研究所製の万能表
面形状測定器rSE−3CJで測定したところ、粗表面
及びうねりは観測されなかった。さらに、透過率の測定
を行なったところ、白色蛍光下で72%(波長400〜
600nmの平均透過率)であった。
When the ITO film surface of the ITO/5i02/color filter/glass plate prepared by the above method was measured using a universal surface shape measuring instrument rSE-3CJ manufactured by Koita Research Institute, no rough surface or waviness was observed. Furthermore, when we measured the transmittance, we found that it was 72% under white fluorescence (wavelength 400~
average transmittance at 600 nm).

次に、前述で作成した基板のITO膜をストライプ形状
にパターニングした後に、ioo。
Next, after patterning the ITO film of the substrate created above into a stripe shape, IOO was applied.

人のポリイミド膜(ポリアミック酸の5%N−メチルビ
ロリドン液を塗布した後、脱水閉環した)を設け、その
表面を布で一方向にラビング処理を施した。
A human polyimide membrane (a 5% N-methylpyrrolidone solution of polyamic acid was applied and then dehydrated and ring-closed) was provided, and its surface was rubbed in one direction with a cloth.

又、対向基板として前述の基板を作成した際に用いた5
i02膜とカラーフィルター層を省略したほかは、同様
の方法で作成したものを用いた。
In addition, 5 used when creating the above-mentioned substrate as a counter substrate.
The same method was used except that the i02 film and color filter layer were omitted.

次に、2枚の基板のストライプ状ITO膜が互いに交差
し、それぞれのラビング方向が平行となり、且つ2枚の
基板間隔が1.5gmとなる様にセル組して空セルを作
成した。
Next, the cells were assembled so that the striped ITO films of the two substrates crossed each other, their rubbing directions were parallel, and the distance between the two substrates was 1.5 gm to create an empty cell.

この空セルの注入口から真空注入法により等実相のP−
デシロキシベンジリデン−P′−アミノー2−メチルブ
チルシンナメート(DOBAMBC)を空セル内に注入
し、封口してからセルを5℃/時間の割合で70℃まで
徐冷したところ双安定性を示す強誘電性液晶(カイラル
スメクチックC相)が発現した。
By vacuum injection method from the injection port of this empty cell, P-
Desyloxybenzylidene-P'-amino-2-methylbutylcinnamate (DOBAMBC) was injected into an empty cell, sealed, and then slowly cooled to 70°C at a rate of 5°C/hour, showing bistability. A ferroelectric liquid crystal (chiral smectic C phase) was developed.

この液晶素子に一対の直交ニコルを配置してから、その
背後から30Wの白色蛍光灯を拡散透過板を介して点灯
させ、液晶素子に駆動電圧を印加することによって表示
を行なったところ、明るいカラーディスプレイが得られ
た。
After arranging a pair of orthogonal Nicols on this liquid crystal element, a 30W white fluorescent lamp was turned on from behind through a diffuser-transmitting plate, and a driving voltage was applied to the liquid crystal element to display a bright color. Got the display.

実施例2 実施例1の液晶素子を作成した時に用いたカラーフィル
ター基板の5i02膜(保護層)に代えて、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂とテトラエチレンペンタンミ
ン硬化剤を含有する無溶剤型の熱硬化性接着剤を用いた
ほかは、実施例1と同様の方法で液晶素子を作成してか
ら、評価を行ったところ実施例1と同様の結果が得られ
た。
Example 2 Instead of the 5i02 film (protective layer) of the color filter substrate used when creating the liquid crystal element of Example 1, a solvent-free thermosetting film containing a phenol novolac type epoxy resin and a tetraethylenepentanmine curing agent was used. A liquid crystal element was prepared in the same manner as in Example 1, except that a liquid adhesive was used, and then evaluated, and the same results as in Example 1 were obtained.

又、前述の熱硬化性接着・剤の硬化被膜での線膨張係数
を実施例1と同様の方法で測定したところ、480 X
 10−7/℃であった。
In addition, when the linear expansion coefficient of the cured film of the thermosetting adhesive/agent described above was measured in the same manner as in Example 1, it was found to be 480
It was 10-7/°C.

比較例1 実施例1の液晶素子を作成した時に用いたカラーフィル
ター基板の5i02膜に変えてアクリル系光硬化型樹脂
(積木ファインケミカル社製c7)Photolec 
 RFG)を用いたほかは、実施例1と同様の方法で液
晶素子を作成した。この液晶素子を作成した際に用いた
カラーフィルター基板の透過率は58%であった。
Comparative Example 1 In place of the 5i02 film of the color filter substrate used when creating the liquid crystal element of Example 1, an acrylic photocurable resin (c7 manufactured by Tsukiku Fine Chemical Co., Ltd.) Photolec was used.
A liquid crystal element was produced in the same manner as in Example 1, except that RFG) was used. The transmittance of the color filter substrate used when creating this liquid crystal element was 58%.

又、実施例1で用いた表面形状測定器でITO膜表面の
状態を”測定したところ、平均粗さ約1川程度のうねり
が観測された。
Furthermore, when the condition of the ITO film surface was measured using the surface profile measuring instrument used in Example 1, waviness with an average roughness of about 1 river was observed.

この光硬化型樹脂の硬化被膜での線膨張係数を実施例1
と同様の方法で測定したところ、線膨張係数は約780
 X I O−7/°Oであった。
Example 1 The linear expansion coefficient of the cured film of this photocurable resin
When measured using the same method, the linear expansion coefficient was approximately 780.
X I O-7/°O.

次に、このカラーフィルター基板を用いて実施例1と同
様の方法で液晶素子を作成してから、カラーディスプレ
イを行ったが、実施例1のもの比較して暗いディスプレ
イであった。
Next, a liquid crystal element was prepared using this color filter substrate in the same manner as in Example 1, and a color display was performed, but the display was darker than that in Example 1.

また、ITO膜形成時のスパッタリングを100’O以
下の低温スパッタリング法に代えてITO膜形成を行な
うことによって、透過率低下の原因となっているうねり
現象を防止することができたが、ITO膜が低温スパッ
タリング法で被膜形成されていたため、保護層(光硬化
性樹脂の硬化被膜)との密着性が悪くなり、長期間の使
用には適していないことが判明した。
Furthermore, by replacing the sputtering during ITO film formation with a low-temperature sputtering method below 100'O, we were able to prevent the waviness phenomenon that causes transmittance reduction. It was found that because the film was formed by low-temperature sputtering, the adhesion with the protective layer (cured film of photocurable resin) was poor, making it unsuitable for long-term use.

実施例3 実施例1の液晶素子を作成した時番、′用いたカラーフ
ィルター基板のS i02膜(保護層)に代えて、熱硬
化性アクリル樹脂(三菱レーヨン社製、FR−3288
)を用いたほかは、実施例1と同様の方法で液晶素子を
作成し、てかう、評価を行なったところ、実施例1と同
様の結果が得られた。
Example 3 When the liquid crystal element of Example 1 was prepared, a thermosetting acrylic resin (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., FR-3288) was used instead of the Si02 film (protective layer) of the color filter substrate used.
) was used, but a liquid crystal element was prepared in the same manner as in Example 1, and the same results as in Example 1 were obtained.

又、前述の熱硬化性アクリル樹脂の硬化被膜での線膨張
係数を実施例1と同様の方法で測定したところ、530
 X 10−7〜100×10−7/℃であった。
Furthermore, when the linear expansion coefficient of the cured film of the thermosetting acrylic resin was measured in the same manner as in Example 1, it was found to be 530.
X10-7 to 100×10-7/°C.

比較例2 実施例1の液晶素子を作成した時に用いたカラーフィル
ター基板のS i02膜に代えて、熱可塑性のスチレン
−メタクリル酸メチル共重合体樹脂(製鉄化学社製、 
MS 200)を用いたほかは実施例1と同様の方υ、
で液晶素子を作成した。この液晶素子を作成した際に用
いたカラーフルター基椴の透過率は57%であった。
Comparative Example 2 In place of the Si02 film of the color filter substrate used when creating the liquid crystal element of Example 1, a thermoplastic styrene-methyl methacrylate copolymer resin (manufactured by Tetsu Kagaku Co., Ltd.,
The same method as in Example 1 except that MS 200) was used,
A liquid crystal element was created. The transmittance of the color filter substrate used in producing this liquid crystal element was 57%.

又、実施例1で用いた表面形状測定器でITO膜表面の
状態を測定したどころ、−4!均相さ約l It程度の
うねりがAl1定さ才また。この熱、nf塑廿樹脂被膜
の線膨張係数を実施例1と同様の方法でAllll−た
ところ、線Ill張係数it g i o xl、0−
7/’Cであった。
Furthermore, when the surface condition of the ITO film was measured using the surface profile measuring device used in Example 1, the result was -4! The undulations are approximately uniform and uniform. When the linear expansion coefficient of this heat and nf plastic resin coating was measured in the same manner as in Example 1, the linear expansion coefficient it gio xl, 0-
It was 7/'C.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

従って、本発明によれば、カラー液晶素rIIIカラー
フィルター基板を作成するに11って、密着に1に優れ
た200℃以−1−の高温スパッタリング法の適用を1
1f能にすることができる。すなわち、高温1八−急冷
時に発生するカラーフィルター基板の粗表面又はうねり
現象を防11〜することができ、この結果カテーテ゛イ
スプ1/イ装置におけるカラ・−透過率を向−4するこ
とができる。
Therefore, according to the present invention, in order to produce a color liquid crystal element rIII color filter substrate, a high temperature sputtering method of 200° C. or lower, which is excellent in adhesion, is applied.
It can be made into 1f function. That is, it is possible to prevent the rough surface or waviness of the color filter substrate that occurs during high-temperature rapid cooling, and as a result, the color transmittance in the catheter spray device can be improved by 40%.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(A)は、本発明の液晶素fの1ノ面図で、第1
図(B)はそのA−A断面図である。 第2図及び第3図は本発明の液晶素イーの別の態様を表
わす断面図である。
FIG. 1(A) is a first side view of the liquid crystal element f of the present invention.
Figure (B) is its AA sectional view. FIGS. 2 and 3 are cross-sectional views showing another embodiment of the liquid crystal element E of the present invention.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一対の基板間に液晶を配置した液晶素子において
、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板がカラ
ーフィルター層と該カラーフィルター層の上に設けた透
明電極とを有しているとともに、前記カラーフィルター
層と透明電極との間に該透明電極の線膨張係数に対して
0.01〜6倍の線膨張係数をもつ保護層を有している
ことを特徴とする液晶素子。
(1) In a liquid crystal element in which a liquid crystal is arranged between a pair of substrates, at least one of the pair of substrates has a color filter layer and a transparent electrode provided on the color filter layer, and . A liquid crystal element, comprising a protective layer having a linear expansion coefficient 0.01 to 6 times that of the transparent electrode between the color filter layer and the transparent electrode.
(2)前記保護層が透明電極の線膨張係数に対して0.
01〜5倍の線膨張係数を有している特許請求の範囲第
1項記載の液晶素子。
(2) The protective layer has a linear expansion coefficient of 0.0 with respect to the linear expansion coefficient of the transparent electrode.
The liquid crystal element according to claim 1, having a linear expansion coefficient of 0.01 to 5.
(3)前記保護層が透明電極の線膨張係数に対して0.
05〜5倍の線膨張係数を有している特許請求の範囲第
1項記載の液晶素子。
(3) The protective layer has a linear expansion coefficient of 0.
2. The liquid crystal element according to claim 1, having a coefficient of linear expansion of 0.05 to 5.
(4)前記保護層が熱硬化性樹脂を硬化被膜形成するこ
とによって得た層である特許請求の範囲第1項記載の液
晶素子。
(4) The liquid crystal element according to claim 1, wherein the protective layer is a layer obtained by forming a cured film of a thermosetting resin.
(5)前記保護層が絶縁性無機物質の被膜である特許請
求の範囲第1項記載の液晶素子。
(5) The liquid crystal element according to claim 1, wherein the protective layer is a coating made of an insulating inorganic substance.
(6)前記絶縁性無機物質がSiO_2である特許請求
の範囲第5項記載の液晶素子。
(6) The liquid crystal element according to claim 5, wherein the insulating inorganic substance is SiO_2.
(7)前記透明電極が酸化インジウムと酸化スズの混合
物を基板温度200℃以上としたスパッタリング法で形
成した被膜である特許請求の範囲第1項記載の液晶素子
(7) The liquid crystal element according to claim 1, wherein the transparent electrode is a film formed by sputtering a mixture of indium oxide and tin oxide at a substrate temperature of 200° C. or higher.
(8)前記カラーフィルター層が顔料又は染料を蒸着法
で形成した被膜である特許請求の範囲第1項記載の液晶
素子。
(8) The liquid crystal element according to claim 1, wherein the color filter layer is a coating formed with a pigment or dye by vapor deposition.
(9)前記カラーフィルター層が顔料又は染料を樹脂バ
インダーに含有させて形成した被膜である特許請求の範
囲第1項記載の液晶素子。
(9) The liquid crystal element according to claim 1, wherein the color filter layer is a film formed by containing a pigment or dye in a resin binder.
(10)前記透明電極の線膨張係数が40×10^−^
7〜100×10^−^7/℃である特許請求の範囲第
1項記載の液晶素子。
(10) The linear expansion coefficient of the transparent electrode is 40×10^-^
7 to 100×10^-^7/°C. The liquid crystal element according to claim 1.
(11)前記保護層の線膨張係数が2×10^−^7〜
6×10^−^5/℃である特許請求の範囲第1項記載
の液晶素子。
(11) The linear expansion coefficient of the protective layer is 2×10^-^7~
The liquid crystal element according to claim 1, which has a temperature of 6×10^-^5/°C.
(12)前記透明電極の上に液晶を一方向に配向させる
効果をもつ一軸性配向軸を有する配向制御膜が被覆され
ている特許請求の範囲第1項記載の液晶素子。
(12) The liquid crystal element according to claim 1, wherein the transparent electrode is coated with an alignment control film having a uniaxial alignment axis that has the effect of aligning the liquid crystal in one direction.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01193813A (en) * 1988-01-29 1989-08-03 Toppan Printing Co Ltd Electrode plate for display device and its production
JPH01223417A (en) * 1988-03-03 1989-09-06 Canon Inc Color liquid crystal element
JPH01241521A (en) * 1988-03-23 1989-09-26 Canon Inc Color liquid crystal element
JPH0237327A (en) * 1988-07-27 1990-02-07 Toppan Printing Co Ltd Electrode plate for display device
JP4832642B2 (en) * 1998-10-07 2011-12-07 マイクロソフト コーポレーション Method for increasing the resolution of a displayed image in a computer system and computer readable medium carrying computer readable instructions

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01193813A (en) * 1988-01-29 1989-08-03 Toppan Printing Co Ltd Electrode plate for display device and its production
JPH01223417A (en) * 1988-03-03 1989-09-06 Canon Inc Color liquid crystal element
JPH01241521A (en) * 1988-03-23 1989-09-26 Canon Inc Color liquid crystal element
JPH0237327A (en) * 1988-07-27 1990-02-07 Toppan Printing Co Ltd Electrode plate for display device
JP4832642B2 (en) * 1998-10-07 2011-12-07 マイクロソフト コーポレーション Method for increasing the resolution of a displayed image in a computer system and computer readable medium carrying computer readable instructions

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