JPS6263182A - Rf type ion source - Google Patents
Rf type ion sourceInfo
- Publication number
- JPS6263182A JPS6263182A JP60201591A JP20159185A JPS6263182A JP S6263182 A JPS6263182 A JP S6263182A JP 60201591 A JP60201591 A JP 60201591A JP 20159185 A JP20159185 A JP 20159185A JP S6263182 A JPS6263182 A JP S6263182A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion source
- vacuum
- type ion
- capacitor
- discharge container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は1人工衛星の姿勢制御を行なうRF型イオン
・エンジンに適したRF型イオン源に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an RF ion source suitable for an RF ion engine that controls the attitude of one artificial satellite.
従来のRF (Radiofraquency)型イオ
ン・エンジンの構成を第3図に、RF発振器の構成を第
4図に示す、放電容器1に導入、されたHgガス19に
インダクシミンコイル6によって加速された電子が衝突
して電離プラズマを放電室8内に生成し、Hg+イオン
が電極2,3.4で構成される加速電極によって運動エ
ネルギを与えられ、中和器7から放出される電子によっ
て中和化された後、放出されてイオン・エンジンの推力
となる。The configuration of a conventional RF (Radiofrequency) type ion engine is shown in FIG. 3, and the configuration of an RF oscillator is shown in FIG. 4. collide to generate ionized plasma in the discharge chamber 8, Hg+ ions are given kinetic energy by the accelerating electrodes composed of electrodes 2 and 3.4, and are neutralized by electrons emitted from the neutralizer 7. After that, it is released and becomes the thrust of the ion engine.
インダクシミンコイル6に高周波電流を供給するRF発
振器は高周波発生器9とA級増幅器10と整合器11と
で構成され、高周波電流の搬送には同軸ケーブルを使用
している。整合器11は容量固定のC1コンデンサ13
と容量可変の02コンデンサ12からなり、C2コンデ
ンサ12の容量と周波数を調整してプラズマのインピー
ダンスと整合をとっている。The RF oscillator that supplies high frequency current to the inductor coil 6 is composed of a high frequency generator 9, a class A amplifier 10, and a matching box 11, and uses a coaxial cable to convey the high frequency current. The matching box 11 is a C1 capacitor 13 with a fixed capacity.
and a variable capacitance 02 capacitor 12, and the capacitance and frequency of the C2 capacitor 12 are adjusted to match the impedance of the plasma.
周波数を変化させるため増幅器10はA級を採用してい
る。容量固定の01コンデンサ13は重量的にそれほど
問題ではないが、容量可変の03コンデンサは重く問題
である。In order to change the frequency, the amplifier 10 employs a class A amplifier. The weight of the 01 capacitor 13 with a fixed capacity is not so much of a problem, but the weight of the 03 capacitor with a variable capacity is a problem.
RF型イオン・エンジンを大型化するためにはコンデン
サC1,C,の耐電圧特性を上げる必要があり、さらに
重量が増加することが予想され大きな問題となっている
。In order to increase the size of the RF type ion engine, it is necessary to improve the withstand voltage characteristics of the capacitors C1 and C, which is expected to further increase the weight, which is a major problem.
〔発明の目的〕
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、コ
ンデンサC□s C,の軽量化を実行して大型化可能な
RF型イオン源を提供することを目的とする。[Object of the Invention] The present invention was made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an RF type ion source that can be made larger by reducing the weight of the capacitor C□s C. .
本発明は、別々に構成されていた放電部分と整合器を放
電容器の一部に真空コンデンサ部分を設けて一体化した
ことを特徴とするRF型イオン源である。The present invention is an RF type ion source characterized in that a discharge part and a matching device, which were configured separately, are integrated by providing a vacuum capacitor part in a part of the discharge vessel.
本発明によれば、整合器は放電容器の一部であり大幅な
軽量化が計れるとともに、コンデンサはインダクシ目ン
コイルの近くにありリード線も短く浮遊容量による異常
発振及び電磁妨害も少ない、大型化可能なRF型イオン
源を構成できる。According to the present invention, the matching box is a part of the discharge vessel, which can significantly reduce the weight, and the capacitor is located near the inductor coil, so the lead wire is short and there is less abnormal oscillation and electromagnetic interference due to stray capacitance. A possible RF type ion source can be constructed.
以下本発明の実施例を詳細に説明する。なお従来装置と
その構成が同一の部分iIついては同一符号を附けてそ
の説明を省略する。第1図および第2図に示すように、
放電容器1の外側に3枚の電極を設けて、真空コンデン
サ12.13を構成し、密封容器14で覆う、真空コン
デンサ12の電極間距離を可変にしておけば、整合器1
1が構成されたことになる。密封容器14は電磁シール
ドの必要がなければ、なくてもよい、地上での実験中、
密封容器14がなければ真空コンデンサ12.13が大
気等にふれる場合が考えられる。このときは密封容器1
4を大気等の圧力に耐えれるようにする必要がある。Examples of the present invention will be described in detail below. Note that portions iI whose configurations are the same as those of the conventional device are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. As shown in Figures 1 and 2,
By providing three electrodes on the outside of the discharge vessel 1 to form a vacuum capacitor 12, 13 and covering it with a sealed vessel 14, if the distance between the electrodes of the vacuum capacitor 12 is made variable, the matching device 1
1 has been configured. The sealed container 14 may be omitted if there is no need for electromagnetic shielding, during experiments on the ground.
Without the sealed container 14, the vacuum capacitors 12, 13 may come into contact with the atmosphere. At this time, sealed container 1
4 must be able to withstand atmospheric pressure.
第3図に別の実施例を示す、第3図に示すように、放電
容器1の内側に3枚の電極を設けて、真空コンデンサ1
2.13を構成し、真空コンデンサ12の電極間距離を
可変にしておけば整合器11が構成される。Hgガスが
電極に害をおよぼす恐れがある場合は密封容器で覆えば
よい、 Hgガスが電極に害をおよぼす恐れのないとき
は、ガス拡散板5の機 4能を真空コンデンサ12.1
3の電極にもたせることも可能である。Another embodiment is shown in FIG. 3.As shown in FIG. 3, three electrodes are provided inside the discharge vessel 1, and the vacuum capacitor 1 is
2.13 and the distance between the electrodes of the vacuum capacitor 12 is made variable, the matching device 11 is constructed. If there is a risk that Hg gas may harm the electrode, cover it with a sealed container. If there is no risk that Hg gas may harm the electrode, the function of the gas diffusion plate 5 can be replaced by a vacuum capacitor 12.1.
It is also possible to have it on the third electrode.
第1図乃至第3図では、電極3枚で真空コンデンサ12
.13を構成する場合について述べたが、要は真空コン
デンサが構成できればよく、第゛2図や第3図の位置、
形状、電極枚数に限定するものではない。又、真空コン
デンサ12−、13の2個により成り立つ整合器11の
場合について説明したが、要はプラズマとインピーダン
ス整合がとれる整合器であればよく、真空コンデンサの
数を2個に限定するものではない。重量の軽い容量固定
のコンデンサは従来どうり放電部分と別にしてもよい。In Figures 1 to 3, a vacuum capacitor 12 with three electrodes is shown.
.. 13, but the point is that it is sufficient if a vacuum capacitor can be constructed, and the position shown in Figures 2 and 3,
It is not limited to the shape or the number of electrodes. In addition, the case where the matching device 11 is made up of two vacuum capacitors 12- and 13 has been explained, but the point is that any matching device that can achieve impedance matching with the plasma is sufficient, and the number of vacuum capacitors is not limited to two. do not have. A light weight fixed capacity capacitor may be provided separately from the discharge section as is conventional.
導入ガスとしてngを用いているが、 l1gガスに限
定するものでもない。Although ng is used as the introduced gas, it is not limited to l1g gas.
本発明は、RF型イオン・エンジンについて説明したが
、RFタイプの放電室を使用している全ての装置に適用
できる。・例えば、該融合で使用されているプラズマ加
熱用粒子入射装置のRF型イオン源についても全く同じ
ように適用できる。Although the invention has been described with respect to an RF type ion engine, it is applicable to any device using an RF type discharge chamber. - For example, the same applies to the RF type ion source of the particle injection device for plasma heating used in the fusion.
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す一部切欠視斜図、第2図
はその断面図、第3図は本発明の別の実施例を示す断面
図、第4図は従来のRF型イオン・エンジンの断面図、
第5図は従来のRF発振器のブロック図である。
1・・・放電容器 2,3.4・・・加速電極
5・・・ガス拡散板
6・・・インダクションコイル
7・・・中和器 8・・・放電室9・・・高
周波発生器 10・・・A級増幅器11・・・整合
器 12・・・可変コンデンサ13・・・固
定コンデンサ 14・・・密封容器代理人 弁理士
則 近 憲 佑
同 竹 花 喜久男
第 1 図
==ロ■ロ■ロー 3[Brief Description of the Drawings] Fig. 1 is a partially cutaway perspective view showing an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a sectional view thereof, and Fig. 3 is a sectional view showing another embodiment of the invention. Figure 4 is a cross-sectional view of a conventional RF type ion engine.
FIG. 5 is a block diagram of a conventional RF oscillator. 1...Discharge vessel 2,3.4...Acceleration electrode 5...Gas diffusion plate 6...Induction coil 7...Neutralizer 8...Discharge chamber 9...High frequency generator 10 ... Class A amplifier 11 ... Matching box 12 ... Variable capacitor 13 ... Fixed capacitor 14 ... Sealed container agent Patent attorney
Nori Chika Ken Yudo Takehana Kikuo No. 1 Diagram==Ro■Ro■Ro 3
Claims (6)
設けたインダクションコイルと中和器とRF発振器と加
速電源等で構成されるイオン源に於いて、放電容器の一
部に電極機構を設けて真空コンデンサを構成したことを
特徴とするRF型イオン源。(1) In an ion source consisting of a gas introduction system, a discharge vessel, an electrode, an induction coil provided on the outer periphery of the vessel, a neutralizer, an RF oscillator, an acceleration power source, etc., an electrode mechanism is installed in a part of the discharge vessel. An RF type ion source characterized in that a vacuum capacitor is configured by providing a vacuum capacitor.
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のRF型イオン
源。(2) The RF type ion source according to claim 1, wherein one of the vacuum capacitors has a variable capacity.
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のRF型イオン源
。(3) The RF type ion source according to claim 1, characterized in that a vacuum capacitor is disposed outside the discharge vessel.
する特許請求の範囲第3項記載のRF型イオン源。(4) The RF type ion source according to claim 3, wherein the vacuum condenser is covered with a sealed container.
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のRF型イオン源
。(5) The RF type ion source according to claim 1, characterized in that a vacuum capacitor is disposed inside the discharge vessel.
特徴とする特許請求の範囲第5項記載のRF型イオン源
。(6) The RF type ion source according to claim 5, characterized in that the vacuum condenser has a gas diffusion function.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60201591A JPS6263182A (en) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | Rf type ion source |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60201591A JPS6263182A (en) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | Rf type ion source |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6263182A true JPS6263182A (en) | 1987-03-19 |
Family
ID=16443593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60201591A Pending JPS6263182A (en) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | Rf type ion source |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6263182A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107725296A (en) * | 2017-09-01 | 2018-02-23 | 兰州空间技术物理研究所 | A kind of adjustable permanent magnetism hall thruster magnetic structure of magnetic induction intensity |
-
1985
- 1985-09-13 JP JP60201591A patent/JPS6263182A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107725296A (en) * | 2017-09-01 | 2018-02-23 | 兰州空间技术物理研究所 | A kind of adjustable permanent magnetism hall thruster magnetic structure of magnetic induction intensity |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5017835A (en) | High-frequency ion source | |
KR940010844B1 (en) | Ion source | |
JP3414398B2 (en) | Ion beam gun | |
US5750987A (en) | Ion beam processing apparatus | |
JPH0577142B2 (en) | ||
EP0738101A1 (en) | Radio-frequency particle accelerator | |
KR20030081060A (en) | High-frequency electron source, in particular a neutralizer | |
JPS6263182A (en) | Rf type ion source | |
JP3454384B2 (en) | Ion beam generator and method | |
JPS63119198A (en) | Plasma generator | |
JP2603722B2 (en) | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer | |
JPS6263184A (en) | Rf type ion source | |
US4931698A (en) | Ion source | |
JPH0650110B2 (en) | RF ion source | |
JP3114547B2 (en) | High frequency ion source | |
RU2757210C1 (en) | Wave plasma source of electrons | |
JPH06251738A (en) | High frequency ion source | |
JPH05182597A (en) | High frequency power source | |
JPH0650109B2 (en) | RF ion source | |
JPH03203146A (en) | Ion source device | |
JPH01183036A (en) | Microwave ion source | |
JP2953010B2 (en) | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer | |
SU1186063A1 (en) | High-frequency electron accelerator | |
JPS63171954U (en) | ||
JPH0469414B2 (en) |