JPS6261020A - Light beam exposing device - Google Patents
Light beam exposing deviceInfo
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- JPS6261020A JPS6261020A JP60202410A JP20241085A JPS6261020A JP S6261020 A JPS6261020 A JP S6261020A JP 60202410 A JP60202410 A JP 60202410A JP 20241085 A JP20241085 A JP 20241085A JP S6261020 A JPS6261020 A JP S6261020A
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- laser beam
- wiring pattern
- scanning
- light beam
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プリント配線板の配線パターンを形成する場
合において、光化学反応を利用して絶縁基板上に直接イ
メージング露光をおこなう装置に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an apparatus that performs direct imaging exposure on an insulating substrate using a photochemical reaction when forming a wiring pattern for a printed wiring board. .
第4図は従来の光ビーム露光装置を示す図、第5図は従
来の装置により形成された回路像の一例を示す図である
。これらの図において、1はレーザ発振器、2はビーム
変調器、3,5.7は平面ミラー、4はレンズ、6はポ
リゴンミラー、20は走査レーザビーム、21はプリン
ト配線板、22は可動ステージ、50は回路像である。FIG. 4 is a diagram showing a conventional light beam exposure device, and FIG. 5 is a diagram showing an example of a circuit image formed by the conventional device. In these figures, 1 is a laser oscillator, 2 is a beam modulator, 3, 5.7 are plane mirrors, 4 is a lens, 6 is a polygon mirror, 20 is a scanning laser beam, 21 is a printed wiring board, and 22 is a movable stage. , 50 is a circuit image.
以下、動作について説明する。レーザ発振器1で発生し
たレーザビームは、ビーム変調器2によりON又はOF
Fされ、次いで平面ミラー3で反射し、レンズ4を通り
、さらに平面ミラー5で反射してポリゴンミラー6に照
射される。照射されたレーザビームは、高速で回転する
ポリゴンミラー6により高速で走査され走査レーザビー
ム20となり、平面ミラー7で反射してプリント配線板
21上に照射される。このとき、平面ミラー5は、レー
ザビームがポリゴンミラー6により反射して走査レーザ
ビーム20となるような位置に設置され、レンズ4は、
走査レーザビーム20の焦点がプリント配線板21上に
くるように、レーザビームを調整する。また、走査レー
ザビーム20が走査方向において所望の部分を露光する
ために、レーザビームは、作画フォーマントで制御され
るビーム変調器2によりON又はOFFされる。一方、
プリント配線板21は走査方向と垂直の方向に走査レー
ザビーム20の粒子径以下の距離で少しずつ移動し、こ
れにより走査方向の露光部分は垂直方向に連続するよう
に形成され、連続した配線パターン50を形成する。The operation will be explained below. The laser beam generated by the laser oscillator 1 is turned on or off by the beam modulator 2.
The light is then reflected by a plane mirror 3, passes through a lens 4, is further reflected by a plane mirror 5, and is irradiated onto a polygon mirror 6. The irradiated laser beam is scanned at high speed by a polygon mirror 6 rotating at high speed to become a scanning laser beam 20, reflected by a plane mirror 7, and irradiated onto a printed wiring board 21. At this time, the plane mirror 5 is installed at a position where the laser beam is reflected by the polygon mirror 6 and becomes a scanning laser beam 20, and the lens 4 is
The laser beam is adjusted so that the focus of the scanning laser beam 20 is on the printed wiring board 21. Further, in order for the scanning laser beam 20 to expose a desired portion in the scanning direction, the laser beam is turned on or off by the beam modulator 2 controlled by the drawing formant. on the other hand,
The printed wiring board 21 moves little by little in a direction perpendicular to the scanning direction at a distance less than the particle diameter of the scanning laser beam 20, so that the exposed portion in the scanning direction is formed to be continuous in the vertical direction, and a continuous wiring pattern is formed. form 50.
このように、従来の光ビーム露光装置はラスク走査方式
で配線パターンを形成するものであり、配線パターンは
、ビームスポットの集まりとして形成される。As described above, the conventional light beam exposure apparatus forms a wiring pattern using the rask scanning method, and the wiring pattern is formed as a collection of beam spots.
上記のような従来の光ビーム露光装置では、配線パター
ンはビームスポットの集まりとして形成されるので、第
5図に示すように、回路像のエツジに波打ちが生じると
いう問題点があった。また配線パターンの作画フォーマ
ントをラスク走査モードに変換するのに長時間を要する
という問題点もあった。In the conventional light beam exposure apparatus as described above, since the wiring pattern is formed as a collection of beam spots, there is a problem in that the edges of the circuit image are wavy, as shown in FIG. There is also another problem in that it takes a long time to convert the drawing formant of the wiring pattern to the rask scanning mode.
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、回路像のエツジに波打ちが生じず、また、作
画フォーマントのラスク走査モードへの変換を必要とせ
ず、高品位な配線パターンを得ることのできる光ビーム
露光装置を提供することを目的とする。This invention was made to solve the above-mentioned problems, and it is possible to achieve high-quality wiring without causing ripples on the edges of the circuit image, and without the need to convert the drawing formant to rask scanning mode. An object of the present invention is to provide a light beam exposure device that can obtain a pattern.
この発明に係る光ビーム露光装置は、配線バクーンの線
に沿ってレーザビームを走査させるベクタ走査方式で配
線パターンを形成するものである。The light beam exposure apparatus according to the present invention forms a wiring pattern using a vector scanning method in which a laser beam is scanned along the lines of a wiring pattern.
この発明においては、配線パターンの線に沿ってレーザ
ビームを走査するので、エツジの波打ちが生じない。In this invention, since the laser beam is scanned along the lines of the wiring pattern, no edge undulation occurs.
第1図は本発明の一実施例による光ビーム露光装置を示
す図である。図中、1〜5.21は第4図で示した従来
の装置と同一である。10.12は平面ミラー(可動ミ
ラー)、11.13は平面ミラー10.12を互いに垂
直な回転軸上で揺動させるためのスキャナー、18は走
査レーザビームである。FIG. 1 is a diagram showing a light beam exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. In the figure, numbers 1 to 5.21 are the same as the conventional device shown in FIG. 10.12 is a plane mirror (movable mirror); 11.13 is a scanner for swinging the plane mirrors 10.12 on mutually perpendicular rotation axes; and 18 is a scanning laser beam.
第2図は本発明の一実施例の配線パターンからスキャナ
ー駆動信号を作成する回路のブロック図である0図中、
30はプリント配線板の配線パターン発生器、31は制
御装置、32は走査像の歪を補正するための演算回路、
33.34はD/A変換器、35.36はスキャナー1
1.13を駆動するためのアンプである。第3図はプリ
ント配線板上でのビーム走査線の一部を示す図であり、
40は走査線である。FIG. 2 is a block diagram of a circuit for creating a scanner drive signal from a wiring pattern according to an embodiment of the present invention.
30 is a wiring pattern generator for a printed wiring board, 31 is a control device, 32 is an arithmetic circuit for correcting distortion of a scanned image,
33.34 is D/A converter, 35.36 is scanner 1
This is an amplifier for driving 1.13. FIG. 3 is a diagram showing a part of the beam scanning line on the printed wiring board,
40 is a scanning line.
次に動作について説明する。レーザビームは、互いに垂
直な回転軸上で揺動される2つの平面ミラー10.12
により順次反射されて、プリント配線板21上の任意の
位置に走査される。すなわち、スキャナー11は平面ミ
ラー10を揺動させることにより、走査レーザビーム1
8のプリント配線板21上でのX軸方向の位置決めを行
い、スキャナー13は平面ミラー12を揺動させること
により、走査レーザビーム18のプリント配線板21上
でのY軸方向の位置決めを行う。また、走査されるレー
ザビームのスポット径は、配線パターンの線幅に対応す
るようにレンズ4により調整する。Next, the operation will be explained. The laser beam is transmitted through two plane mirrors 10.12 which are oscillated on rotational axes perpendicular to each other.
The light is sequentially reflected and scanned to an arbitrary position on the printed wiring board 21. That is, the scanner 11 swings the plane mirror 10 to scan the scanning laser beam 1.
The scanning laser beam 18 is positioned on the printed wiring board 21 in the X-axis direction, and the scanner 13 swings the plane mirror 12 to position the scanning laser beam 18 on the printed wiring board 21 in the Y-axis direction. Further, the spot diameter of the scanned laser beam is adjusted by the lens 4 so as to correspond to the line width of the wiring pattern.
そして、レーザビームの走査位置は第2図の回路により
決定される。すなわち、第2図に示すように、配線パタ
ーン発生器30からの信号は、制御装置31に入力され
、該制御装置31からレーザビームをON又はOFFす
る信号aとスキャナー制御信号すとが出力される。上記
信号すから演算回路32でX方向信号とY方向信号とが
演算出力され、D/A変換器33,34、アンプ35゜
36を経てスキャナーに入力される。ここで、演算回路
32は、第3図に示すように走査線40のY軸方向への
揺れ角θが大きくなるに従って該走査線40の走査線@
lの歪eが大きくなり、例えばθ=15°のときe/
J =0.017となり無視できなくなるため、この歪
を補正するために設けている。The scanning position of the laser beam is determined by the circuit shown in FIG. That is, as shown in FIG. 2, the signal from the wiring pattern generator 30 is input to the control device 31, and the control device 31 outputs a signal a for turning the laser beam ON or OFF and a scanner control signal S. Ru. From the above-mentioned signals, an X-direction signal and a Y-direction signal are calculated and outputted by the calculation circuit 32, and are input to the scanner via D/A converters 33, 34 and amplifiers 35 and 36. Here, as shown in FIG. 3, the arithmetic circuit 32 calculates the scanning line @ of the scanning line 40 as the swing angle θ of the scanning line 40 in the Y-axis direction increases.
When the strain e of l increases, for example, when θ=15°, e/
Since J = 0.017, which cannot be ignored, this distortion is provided to correct this distortion.
゛ このように、本実施例ではベクタ走査方式によりレ
ーザビームを配線パターンの線に沿って走査させて、所
望の線幅の配線パターンを形成することができる。In this way, in this embodiment, a laser beam is scanned along the lines of the wiring pattern using the vector scanning method, thereby making it possible to form a wiring pattern with a desired line width.
なお、上記実施例ではプリント配線板の感光面を露光す
る場合について述べたが、本発明はエネルギービームを
用いた他のバターニング加工にも適用できるものである
。In the above embodiment, the case where the photosensitive surface of a printed wiring board is exposed to light has been described, but the present invention can also be applied to other patterning processes using an energy beam.
この発明は以上説明したとおり、配線パターンの線に沿
ってレーザビームを走査させて配線パターンを形成する
ことにより、回路像のエツジに波打ちが生じず高品位な
配線パターンが得られ、また作画フォーマットを変換す
る必要がなくなるという効果がある。As explained above, this invention enables a wiring pattern to be formed by scanning a laser beam along the lines of the wiring pattern, thereby making it possible to obtain a high-quality wiring pattern without causing undulations at the edges of the circuit image. This has the effect of eliminating the need to convert.
第1図は本発明の一実施例による光ビーム露光装置を示
す図、第2図は本発明の一実施例の配線パターンからス
キャナー駆動信号を作成する回路のブロック図、第3図
はビーム走査像の一例を示す図、第4図は従来の装置の
一実施例を示す図、第5図は従来の装置により形成した
回路像の一例を示す図である。
図中、1はレーザ発振器、2はビーム変調器、10.1
2は平面ミラー(可動ミラー)、11゜13はスキャナ
ー、18は走査レーザビーム、21はプリント配線板、
32は演算回路、35,36はアンプである。
なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。FIG. 1 is a diagram showing a light beam exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram of a circuit for creating a scanner drive signal from a wiring pattern according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a beam scanning FIG. 4 is a diagram showing an example of a conventional device, and FIG. 5 is a diagram showing an example of a circuit image formed by the conventional device. In the figure, 1 is a laser oscillator, 2 is a beam modulator, 10.1
2 is a plane mirror (movable mirror), 11° 13 is a scanner, 18 is a scanning laser beam, 21 is a printed wiring board,
32 is an arithmetic circuit, and 35 and 36 are amplifiers. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts.
Claims (3)
ザビームにより直接イメージング露光する装置において
、 上記レーザビームを発生するレーザビーム発生手段と、 上記レーザビームを上記プリント配線板上の配線パター
ンの線に沿って走査させるレーザビーム走査手段とを備
えたことを特徴とする光ビーム露光装置。(1) In an apparatus that directly images and exposes a photosensitive resin coated on a printed wiring board with a laser beam, a laser beam generating means for generating the laser beam; A light beam exposure apparatus comprising: a laser beam scanning means for scanning along a line.
直となるように取付けた2つの可動ミラーからなること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ビーム露光
装置。(2) The light beam exposure apparatus according to claim 1, wherein the laser beam scanning means comprises two movable mirrors mounted so that their rotation axes are perpendicular to each other.
演算回路が、上記2つの可動ミラーを駆動するための2
つのスキャナーの駆動アンプの入力側に設けられている
ことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の光ビーム
露光装置。(3) An arithmetic circuit for correcting the distortion of the image formed on the printed wiring board is connected to the two movable mirrors for driving the two movable mirrors.
3. The light beam exposure apparatus according to claim 2, wherein the light beam exposure apparatus is provided on the input side of a drive amplifier of two scanners.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60202410A JPS6261020A (en) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | Light beam exposing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60202410A JPS6261020A (en) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | Light beam exposing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6261020A true JPS6261020A (en) | 1987-03-17 |
Family
ID=16457040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60202410A Pending JPS6261020A (en) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | Light beam exposing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6261020A (en) |
-
1985
- 1985-09-12 JP JP60202410A patent/JPS6261020A/en active Pending
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