JP3490773B2 - Laser drawing equipment - Google Patents

Laser drawing equipment

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JP3490773B2
JP3490773B2 JP17717594A JP17717594A JP3490773B2 JP 3490773 B2 JP3490773 B2 JP 3490773B2 JP 17717594 A JP17717594 A JP 17717594A JP 17717594 A JP17717594 A JP 17717594A JP 3490773 B2 JP3490773 B2 JP 3490773B2
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隆之 飯塚
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ペンタックス株式会社
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
    • G03F7/704Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、基板に回路パターンを
形成するとき等に使用されるレーザ描画装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser drawing apparatus used when forming a circuit pattern on a substrate.

【0002】[0002]

【従来技術およびその問題点】基板に回路パターンを形
成する場合、例えば銅等の導電金属材料の薄膜を均一に
付着させた基板上に、フォトポリマー等を均一に付着さ
せ、この基板を露光焼付用マスクによって覆い、この状
態の基板に紫外光等を照射して、露光焼付用マスクに形
成した回路パターンを露光焼付する方法が用いられる。
この方法において、露光焼付後、基板上の露光されたフ
ォトポリマーを溶剤によって洗い流し、銅等を腐食させ
る薬液で処理すると、フォトポリマーが付着したままの
部分が腐食されずに残るため、露光焼付用マスクの回路
パターンと同一の回路パターンを基板上に形成すること
ができる。しかし、このような回路パターンの製造方法
によると、製造過程において不可欠な露光焼付用マスク
の検査に要する時間的、工数的な負担が大きく、また伸
縮防止のために露光焼付用マスクを湿度、温度変化から
保護し、ゴミや傷による障害からも保護しなければなら
ない等、管理上の負担が大きい。
2. Description of the Related Art When forming a circuit pattern on a substrate, a photopolymer or the like is evenly deposited on a substrate on which a thin film of a conductive metal material such as copper is uniformly deposited, and this substrate is exposed and baked. There is used a method in which the circuit pattern formed on the exposure and baking mask is exposed and baked by irradiating the substrate in this state with ultraviolet light or the like by covering with a working mask.
In this method, after exposing and baking, the exposed photopolymer on the substrate is washed away with a solvent and treated with a chemical solution that corrodes copper, etc., because the part where the photopolymer remains adhered remains uncorroded. The same circuit pattern as the mask circuit pattern can be formed on the substrate. However, according to such a circuit pattern manufacturing method, the time and man-hour burden required for the inspection of the exposure and printing mask, which is indispensable in the manufacturing process, is large, and the exposure and baking mask is exposed to humidity and temperature to prevent expansion and contraction. There is a heavy administrative burden, such as protection from changes and protection from dust and scratches.

【0003】他方、露光焼付用マスクを使用せず、レー
ザ光を、ポリゴンミラー等によって基板に対し走査し
て、基板に直接的に描画(露光)する製造方法も知られ
ている。この方法によれば、露光焼付用マスクを用いる
製造方法での上記問題点を緩和することができる。しか
しこの製造方法において、レーザ光をポリゴンミラー等
で反射した後レンズを介して基板上に結像する場合に、
レンズの子午線上を走査されるレーザ光に問題はない
が、子午線上以外を通るレーザ光は、子午線から離れた
位置を透過するとき程曲がって走査されるため、描画光
に歪を生じる問題がある。
On the other hand, there is also known a manufacturing method in which a laser beam is scanned on a substrate by a polygon mirror or the like to directly draw (exposure) the substrate without using an exposure printing mask. According to this method, the above-mentioned problems in the manufacturing method using the exposure printing mask can be alleviated. However, in this manufacturing method, when the laser light is reflected by a polygon mirror or the like and then imaged on the substrate through the lens,
There is no problem with the laser light scanned on the meridian of the lens, but the laser light that passes through other than the meridian is scanned as curved as it passes through a position away from the meridian, which causes distortion in the drawing light. is there.

【0004】[0004]

【発明の目的】本発明は、このような問題意識に基づい
て成されたものであって、露光焼付用マスクを使用せ
ず、描画速度を向上させることができ、かつ描画面に走
査される描画像の歪を可及的に抑えることができるレー
ザ描画装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made on the basis of such a consciousness as described above, and it is possible to improve the drawing speed without using an exposure printing mask and to scan the drawing surface. An object of the present invention is to provide a laser drawing apparatus capable of suppressing distortion of a drawn image as much as possible.

【0005】[0005]

【発明の概要】本発明のレーザ描画装置は、レーザ光源
からのレーザ光を、一列状をなす複数の描画用光束に分
割する分割手段;該一列状の描画用光束を、その反射面
で反射させて描画面に対して走査する偏向ミラー;及
び、この偏向ミラーの上記反射面からの反射光を集光し
て描画面に結像させる、この描画面上での点像の像高が
偏向角θに比例する走査光学系;を備え、下記条件式
(1)を満足することを特徴とするレーザ描画装置。 δ= cos-1{2cosα・cos2ω− cosα} γ= tan-1{ sinα/( 2cosα・sinω・cosω) } とす
るとき、 (1)δsin γ−α<p/f 但し、 f:走査光学系の焦点距離、 α:偏向ミラーの反射面に対する、副走査方向での入射
角、 ω:偏向ミラーの反射面の法線が走査光学系の光軸と入
射光軸との2等分線に対してなす角、 p:一列状をなす複数の描画用光束のピッチ、 δ:偏向ミラーの反射面で反射した描画用光束と走査光
学系の光軸とでなす角、 γ:偏向ミラーの反射面で反射した描画用光束の描画面
での結像点と走査光学系の光軸の該描画面に対する交点
を結ぶ線と、主走査方向とでなす角、である。
SUMMARY OF THE INVENTION A laser drawing apparatus of the present invention is a dividing means for dividing a laser beam from a laser light source into a plurality of drawing light fluxes arranged in a line; the drawing light flux in a row is reflected by its reflection surface. A deflection mirror for scanning the drawing surface; and a reflected light from the reflecting surface of the deflection mirror is condensed to form an image on the drawing surface. The image height of the point image on the drawing surface is deflected. A laser drawing apparatus comprising: a scanning optical system that is proportional to the angle θ and satisfying the following conditional expression (1). When δ = cos -1 {2cos α · cos 2 ω − cos α} γ = tan −1 {sin α / (2cos α · sin ω · cos ω)}, (1) δ sin γ-α <p / f However, f: scanning Focal length of the optical system, α: incident angle in the sub-scanning direction with respect to the reflecting surface of the deflecting mirror, ω: normal line of the reflecting surface of the deflecting mirror is a bisector of the optical axis of the scanning optical system and the incident optical axis Angle: p: pitch of a plurality of drawing light fluxes in a line, δ: angle between the drawing light flux reflected by the reflecting surface of the deflection mirror and the optical axis of the scanning optical system, γ: deflection mirror An angle formed by the main scanning direction and a line connecting the image forming point of the drawing light beam reflected by the reflecting surface on the drawing surface and the intersection of the optical axis of the scanning optical system with the drawing surface.

【0006】[0006]

【発明の実施例】以下図示実施例に基づいて本発明を説
明する。図1は、本発明を適用したレーザ描画装置11
の全体を示す外観斜視図である。レーザ描画装置11
は、テーブル10上に、アルゴンレーザ装置12を有
し、ビームベンダ13、23〜25、28〜29、3
0、35、41、44、45、54、調整用ターゲット
15、17、33、ハーフプリズム16、ビームベンダ
(ハーフミラー)14、およびレンズ52、53、65
〜71を有している。レーザ描画装置11はさらに、音
響光学変調器19、20、ビームセパレータ21、2
2、ピッチ変換用集光光学系26、31、27、32、
8チャンネルの音響光学変調器36、37、ビームベン
ダ38、集光光学系34、λ/2板39、偏光ビームス
プリッタ40、イメージローテータ43、ポリゴンミラ
ー46、fθレンズ47、Yスケール用集光レンズ4
8、コンデンサレンズ49、Yスケール50、ミラー6
0、モニター光用ミラー51a、51b、およびYスケ
ール用フォトディテクタ62を有している。調整用ター
ゲット15、17、33は、アルゴンレーザ装置12の
交換時等に、描画用光束L2、L3およびモニター光L
mの光路を確認するための指標である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described below with reference to illustrated embodiments. FIG. 1 shows a laser drawing apparatus 11 to which the present invention is applied.
FIG. 3 is an external perspective view showing the whole of FIG. Laser drawing device 11
Has an argon laser device 12 on the table 10, and beam benders 13, 23-25, 28-29, 3
0, 35, 41, 44, 45, 54, adjustment targets 15, 17, 33, half prism 16, beam bender (half mirror) 14, and lenses 52, 53, 65.
To 71. The laser drawing device 11 further includes acousto-optic modulators 19, 20, beam separators 21, 2,
2. Pitch converting condensing optical system 26, 31, 27, 32,
Eight-channel acousto-optic modulators 36 and 37, beam bender 38, condensing optical system 34, λ / 2 plate 39, polarization beam splitter 40, image rotator 43, polygon mirror 46, fθ lens 47, and Y-scale condensing lens. Four
8, condenser lens 49, Y scale 50, mirror 6
0, monitor light mirrors 51a and 51b, and a Y-scale photodetector 62. The adjustment targets 15, 17, and 33 are used for the drawing light fluxes L2 and L3 and the monitor light L when the argon laser device 12 is replaced.
It is an index for confirming the optical path of m.

【0007】レーザ描画装置11に近接させて、像面で
ある描画テーブル面T(面の位置のみ二点鎖線で示して
いる)に位置するように基板Sをセットする基板セット
装置(図示せず)が設けられている。この基板セット装
置は、Z方向(ポリゴンミラー46の副走査方向(図1
の左右方向))に移動自在なZテーブル(図示せず)
と、図示しない回動軸を中心として図1の上下方向に揺
動するスイング機構(図示せず)を有している。
A substrate setting device (not shown) for setting the substrate S close to the laser drawing device 11 so as to be positioned on the drawing table surface T (only the position of the surface is shown by a chain double-dashed line) which is an image surface. ) Is provided. This substrate setting device is arranged in the Z direction (the sub-scanning direction of the polygon mirror 46 (see FIG. 1).
Z table (not shown)
And a swing mechanism (not shown) that swings in the vertical direction of FIG.

【0008】アルゴンレーザ装置(レーザ光源)12
は、水冷式、出力1.8Wで、波長488nmのレーザ
光L1を出射するように構成されている。音響光学変調
器19、20はそれぞれ、ハーフプリズム16によって
分割された光束L2、L3の光量差を除去する補正を行
ない、またポリゴンミラー46の各反射面46a毎の微
細な面倒れを、制御手段8の記憶部にメモリされた各反
射面46aの面倒れに関するデータに基づいて補正す
る。
Argon laser device (laser light source) 12
Is water-cooled, has an output of 1.8 W, and is configured to emit a laser beam L1 having a wavelength of 488 nm. The acousto-optic modulators 19 and 20 respectively perform correction for removing the light amount difference between the light beams L2 and L3 divided by the half prism 16, and control means for finely tilting each reflecting surface 46a of the polygon mirror 46. The correction is performed based on the data regarding the surface tilt of each reflecting surface 46a stored in the storage unit 8 of FIG.

【0009】音響光学変調器19、20から出射される
光束L2、L3は、ビームセパレータ21、22にそれ
ぞれ入射し、該ビームセパレータ21、22によって各
々8本ずつの第一、第二の描画用光束L5、L6に分割
される。該ビームセパレータ21、22はそれぞれ、そ
の長手方向に沿わせた8個の出射孔を有している。
The light beams L2 and L3 emitted from the acousto-optic modulators 19 and 20 are incident on the beam separators 21 and 22, respectively, and the beam separators 21 and 22 respectively form eight beams for first and second drawing. It is divided into luminous fluxes L5 and L6. Each of the beam separators 21 and 22 has eight emission holes along its longitudinal direction.

【0010】ビームセパレータ21、22から出射され
た第一、第二の描画用光束L5、L6は、ピッチ変換用
集光光学系26、31および27、32にそれぞれに入
射される。このピッチ変換用集光光学系26、31およ
び27、32はそれぞれ、ビームセパレータ21、22
によって、一列状をなす8本ずつの光束に分割された第
一、第二の描画用光束L5、L6の各々のピッチを、8
チャンネルの音響光学変調器36、37のピッチに合わ
せる。
The first and second drawing light beams L5 and L6 emitted from the beam separators 21 and 22 are incident on the pitch converting condensing optical systems 26, 31 and 27, 32, respectively. The pitch converting condensing optical systems 26, 31 and 27, 32 are respectively beam separators 21, 22.
The pitch of each of the first and second drawing light fluxes L5 and L6 divided into eight light fluxes in a line by
Match the pitch of the acousto-optic modulators 36, 37 of the channel.

【0011】偏光ビームスプリッタ40は、ハーフミラ
ー面40aを副走査方向(Z)に対して45゜傾斜させ
た状態で固定されている。偏光ビームスプリッタ40
は、ビームベンダ38で偏向されて入射する、一列状を
なす第一の描画用光束L5と、λ/2板39を透過して
入射する、一列状をなす第二の描画用光束L6を、所定
のピッチで交互に混在させ、Y方向(ポリゴンミラー4
6の主走査方向(図1の上下方向))に沿って再び一列
状に整列させる。第一の描画用光束L5は偏光方向を変
更されないが、第二の描画用光束L6は、λ/2板39
によって偏光方向を描画用光束L5のそれに対して90
゜回転される。このように偏向方向を互いに90゜異な
らせた描画用光束L5とL6が、上記のように偏光ビー
ムスプリッタ40によって交互に組合わされ、一列状に
整列される。
The polarization beam splitter 40 is fixed in a state where the half mirror surface 40a is inclined by 45 ° with respect to the sub scanning direction (Z). Polarizing beam splitter 40
Is a first drawing light beam L5 in one line that is deflected by the beam bender 38, and a second drawing light beam L6 that is in one line and passes through the λ / 2 plate 39 to enter. Alternately mixed at a predetermined pitch, and in the Y direction (polygon mirror 4
6 along the main scanning direction (vertical direction in FIG. 1) again. Although the polarization direction of the first drawing light beam L5 is not changed, the second drawing light beam L6 does not change its polarization direction.
The polarization direction is 90 relative to that of the drawing light beam L5.
Rotated by °. In this way, the drawing light beams L5 and L6 whose deflection directions are different from each other by 90 ° are alternately combined by the polarization beam splitter 40 as described above, and aligned in a line.

【0012】音響光学変調器36、37はそれぞれ、二
酸化テルル等の結晶に超音波を印加したとき該結晶の屈
折率が微小変化するという音響光学効果を基に構成され
ており、結晶の端面に設けたトランスデューサーに高周
波の電界を印加したときに、結晶内部に進行波形の超音
波を発生させてレーザ光をブラッグ回折させ、高周波の
電界を印加しないときに、入射するレーザ光を透過する
ことができる。従って、音響光学変調器36(37)に
対する高周波の印加を切り換えれば、入射光つまり描画
用光束L5とL6のオンオフを自在に切換えることがで
きる。音響光学変調器36(37)が有する8個の各チ
ャンネルは、一列状をなす第一、第二の描画光束L5、
L6をそれぞれに入射させ、その入射した光束L5、L
6をそれぞれ左右方向(図1のZ方向)に変調させるべ
く一列状をなしている。
Each of the acousto-optic modulators 36 and 37 is constructed on the basis of the acousto-optic effect that the refractive index of a crystal of tellurium dioxide or the like is slightly changed when an ultrasonic wave is applied to the crystal. When a high-frequency electric field is applied to the provided transducer, ultrasonic waves of a traveling waveform are generated inside the crystal to Bragg-diffract the laser light, and the incident laser light is transmitted when the high-frequency electric field is not applied. You can Therefore, by switching the application of the high frequency wave to the acousto-optic modulator 36 (37), the incident light, that is, the drawing light beams L5 and L6 can be switched on and off freely. Each of the eight channels of the acousto-optic modulator 36 (37) includes a first drawing light flux L5 and a second drawing light flux L5 that form a line.
L6 is made incident on each of them, and the incident light beams L5, L
6 are arranged in a line so as to be modulated in the left-right direction (Z direction in FIG. 1).

【0013】8チャンネルの音響光学変調器36、37
はそれぞれ、8本に分割した第一、第二の描画用光束L
5、L6の光量のバラツキを取り除く機能と、8本ずつ
の描画用光束L5、L6を、所定データに基づく制御手
段8によって各々独立にオンオフし、ビームセパレータ
21、22で分割された描画用光束L5、L6の各分割
描画光束にそれぞれ、個別のオンオフの描画情報を与え
る機能を有する。そして音響光学変調器36、37は、
走査手段としてポリゴンミラー46を用い、該ポリゴン
ミラー46により走査される描画用光束L5、L6の集
光手段としてfθレンズを用いた本レーザ描画装置11
において、描画テーブル面Tの基板Sに対して走査され
る描画像iに図17のような歪を生じさせず、図6のよ
うに適正に描画できるような描画情報を、描画用光束L
5、L6に与える。
8-channel acousto-optic modulators 36, 37
Are respectively the first and second drawing light fluxes L divided into eight.
5 and L6, the function of removing the variation in the light amount, and the drawing light fluxes L5 and L6, each of which is eight, are independently turned on and off by the control means 8 based on predetermined data, and are divided by the beam separators 21 and 22. It has a function of giving individual on / off drawing information to each of the divided drawing light fluxes of L5 and L6. The acousto-optic modulators 36 and 37 are
This laser drawing apparatus 11 using a polygon mirror 46 as a scanning means and an fθ lens as a light collecting means for the drawing light beams L5 and L6 scanned by the polygon mirror 46.
In FIG. 6, the drawing image i scanned by the drawing table surface T with respect to the drawing image i is not distorted as shown in FIG.
5, give to L6.

【0014】上記fθレンズ(走査光学系)47は、ポ
リゴンミラー(偏向ミラー)46によって走査される描
画用光束の走査面(描画面)に対する等速性を得るため
に用いられる。このfθレンズ47は、走査面上におい
て描画光束の点像位置が偏向角θに比例せず、走査面の
上方ほど tanθで速く走査してしまうという問題を解消
するもので、凹レンズと凸レンズを数枚組合わせてあ
り、走査面上での描画用光束の点像の像高が、反射光束
とfθレンズ47の光軸とでなす偏向角θに比例する。
The fθ lens (scanning optical system) 47 is used to obtain a constant velocity with respect to the scanning surface (drawing surface) of the drawing light beam scanned by the polygon mirror (deflection mirror) 46. The fθ lens 47 solves the problem that the point image position of the drawing light beam on the scanning surface is not proportional to the deflection angle θ, and the scanning is performed faster by tan θ toward the upper side of the scanning surface. The image height of the point image of the drawing light beam on the scanning surface is proportional to the deflection angle θ formed by the reflected light beam and the optical axis of the fθ lens 47.

【0015】このため、描画用光束を等速に走査するこ
とができるが、fθレンズ47を用いる場合、次のよう
な問題を生じる。つまり、ポリゴンミラー46で反射す
る複数の分割描画用光束は、図16に示されるように、
ポリゴンミラー46の副走査方向(Z)に一列状に並ん
だ状態で走査されるため、副走査方向に高さを増す程、
fθレンズ47の光軸Oから離れた位置を通過し、走査
される描画像iに歪(図17)を生じることとなる。
Therefore, the drawing light beam can be scanned at a constant speed, but when the fθ lens 47 is used, the following problems occur. That is, the plurality of divided drawing light beams reflected by the polygon mirror 46 are, as shown in FIG.
Since the polygon mirrors 46 are scanned in a line in the sub-scanning direction (Z), as the height increases in the sub-scanning direction,
Distortion (FIG. 17) occurs in the drawn image i that is scanned by passing through the position away from the optical axis O of the fθ lens 47.

【0016】本発明に係るレーザ描画装置11は、この
ような問題を解決するために、次のような特徴を備えて
いる。すなわち、fθレンズ47の焦点距離をf、ポリ
ゴンミラー46の主走査方向(Y)での像高をy、ポリ
ゴンミラー46の副走査方向(Z)での像高をz、ポリ
ゴンミラー46の反射面46aに対する、副走査方向
(Z)での入射角をα、ポリゴンミラー46の反射面4
6aの法線mがfθレンズ47の光軸Oと入射光軸との
2等分線に対してなす角をω、一列状をなす複数の描画
用光束L5、L6のピッチをp(図5参照)、および、
ポリゴンミラー46の反射面46aで反射した描画用光
束L5、L6とfθレンズ47の光軸Oとでなす角をδ
とする。さらに、ポリゴンミラー46の反射面46aで
反射した描画用光束L5、L6の描画面での結像点とf
θレンズ47の光軸Oの該描画面に対する交点を結ぶ線
と、主走査方向(Y)とでなす角をγとするとき(図2
〜図5)、下記条件式(1)を満足させるべく構成され
ている。主、副走査方向の像高はそれぞれ y=fδcos γ z=fδsin γ で与えられ、 δ= cos-1{2cosα・cos2ω− cosα} γ= tan-1{ sinα/( 2cosα・sinω・cosω) } とす
るとき、 (1)δsin γ−α<p/f この条件式中、反射面46aの法線mとfθレンズ47
の光軸Oとでなす角ω、つまりポリゴンミラー46の回
転角ωの基準は、図7に示されるように、反射面46a
の法線mが、fθレンズ46の光軸Oと入射する描画用
光束(入射光束)L5、L6とでなすβを2等分すると
きとしている。
The laser drawing apparatus 11 according to the present invention has the following features in order to solve such a problem. That is, the focal length of the fθ lens 47 is f, the image height of the polygon mirror 46 in the main scanning direction (Y) is y, the image height of the polygon mirror 46 in the sub scanning direction (Z) is z, and the reflection of the polygon mirror 46 is reflected. The incident angle in the sub-scanning direction (Z) with respect to the surface 46a is α, and the reflecting surface 4 of the polygon mirror 46 is
The normal m of 6a forms an angle ω with respect to the bisector of the optical axis O of the fθ lens 47 and the incident optical axis, and the pitch of a plurality of drawing light beams L5 and L6 in a row is p (FIG. 5). ), And
The angle formed by the drawing light beams L5 and L6 reflected by the reflecting surface 46a of the polygon mirror 46 and the optical axis O of the fθ lens 47 is δ.
And Further, the image forming point of the drawing light beams L5 and L6 reflected by the reflecting surface 46a of the polygon mirror 46 on the drawing surface and f
When the angle formed by the line connecting the intersection of the optical axis O of the θ lens 47 and the drawing surface and the main scanning direction (Y) is γ (FIG. 2)
(FIG. 5), it is configured to satisfy the following conditional expression (1). The image heights in the main and sub-scanning directions are respectively given by y = fδcos γ z = fδsin γ, and δ = cos −1 {2cosα ・ cos 2 ω− cosα} γ = tan −1 {sinα / (2cosα ・ sinω ・ cosω )}, (1) δsin γ-α <p / f In this conditional expression, the normal m of the reflecting surface 46a and the fθ lens 47
The angle ω formed with the optical axis O of the polygon mirror 46, that is, the reference of the rotation angle ω of the polygon mirror 46 is, as shown in FIG.
It is assumed that the normal line m divides β formed by the drawing optical flux (incident luminous flux) L5 and L6 incident on the optical axis O of the fθ lens 46 into two equal parts.

【0017】従って、ポリゴンミラー(偏向ミラー)4
6を用い、該ポリゴンミラー46により走査される描画
用光束L5、L6の集光手段としてfθレンズ47を用
いた本レーザ描画装置11では、描画像iの副走査方向
(Z)でのズレ量を1ピッチp(図5)より小さくする
ことができる。そして本レーザ描画装置11では、fθ
レンズ47の光軸Oに比較的近い部分を描画用として使
用し、光軸Oから離れた周辺部寄りの部分は描画用とし
て使用しないから、ポリゴンミラー46の反射面46a
で反射する複数の分割光束L5、L6を一列状に並んだ
状態で走査する際、走査される描画像i(図17)に生
じる歪を可及的に抑えて、図6のように適正に描画する
ことができる。また、上記条件式から、fθレンズ47
として焦点距離fの大きいものを使用する方が、描画像
iの歪をより小さくする上で好ましいことが理解でき
る。
Therefore, the polygon mirror (deflection mirror) 4
6 and the laser drawing apparatus 11 using the fθ lens 47 as a condensing means for the drawing light beams L5 and L6 scanned by the polygon mirror 46, the deviation amount of the drawn image i in the sub-scanning direction (Z). Can be smaller than 1 pitch p (FIG. 5). Then, in the present laser drawing apparatus 11, fθ
Since the portion of the lens 47 relatively close to the optical axis O is used for drawing, and the portion near the peripheral portion away from the optical axis O is not used for drawing, the reflecting surface 46a of the polygon mirror 46 is used.
When a plurality of divided light beams L5 and L6 reflected by the laser beam are scanned in a state of being arranged in a line, distortion occurring in the drawn image i (FIG. 17) to be scanned is suppressed as much as possible, and as shown in FIG. Can be drawn. From the above conditional expression, the fθ lens 47
It can be understood that it is preferable to use a lens having a large focal length f as the above in order to further reduce the distortion of the drawn image i.

【0018】なお、図3においてfθレンズ47を、あ
たかも1つのレンズから構成されているように図示した
が、このfθレンズ47は、上述の通り、凹レンズと凸
レンズを数枚組合わせて構成されている。
Although the f.theta. Lens 47 is shown in FIG. 3 as if it were composed of one lens, the f.theta. Lens 47 is composed of a combination of several concave and convex lenses as described above. There is.

【0019】他方、モニター光Lmは、描画用光束L2
( L5) 、L3( L6) とは別系統の光束とされて光路
長を長くされ、描画用光束L5とL6に対し空間的に所
定距離離れた位置を光路としている。モニター光Lm
は、ビームベンダ54、25によって偏向され、第一、
第二の描画用光束L5、L6から所定距離離れた位置を
通り、さらにミラー35、60によって偏向された後描
画用光束L5、L6に接近し、レンズ71、ビームベン
ダ41およびレンズ52等を介して、描画用光束L5、
L6の光路の真横に位置するようにその進路が変えられ
る。
On the other hand, the monitor light Lm is the drawing light flux L2.
(L5) and L3 (L6) are light beams of a different system to have a longer optical path length, and a position spatially separated from the drawing light beams L5 and L6 by a predetermined distance is used as an optical path. Monitor light Lm
Is deflected by beam benders 54, 25,
The light passes through a position separated from the second drawing light beams L5 and L6 by a predetermined distance, and further approaches the drawing light beams L5 and L6 after being deflected by the mirrors 35 and 60, and passes through the lens 71, the beam bender 41, the lens 52, and the like. , The drawing light flux L5,
The path is changed so that it is located right beside the optical path of L6.

【0020】イメージローテータ43は、ポリゴンミラ
ー46による走査時に、隣接する第一、第二の描画用光
束L5、L6の各点像を互いに重ね合わせることができ
るように、一列状に(略同一平面内に)16本並んだ描
画用光束L5とL6を、描画テーブル面Tに斜めに配置
させるためのミラー系である。従って、第一、第二の描
画用光束L5、L6は、イメージローテータ43に入射
するまでは、ポリゴンミラー46の主走査方向(Y)と
平行な方向に沿って一列状に16本並んでいるが、イメ
ージローテータ43から出射するときには、例えば図1
5に示されるように、同図の時計方向に所定角度回転さ
れる。
The image rotator 43 is arranged in a line (substantially the same plane) so that the point images of the adjacent first and second drawing light beams L5 and L6 can be superposed on each other during scanning by the polygon mirror 46. It is a mirror system for arranging 16 drawing light fluxes L5 and L6 arranged side by side on the drawing table surface T at an angle. Therefore, until the first and second drawing light beams L5 and L6 are incident on the image rotator 43, 16 of the first and second drawing light beams L5 and L6 are arranged in a line in a direction parallel to the main scanning direction (Y) of the polygon mirror 46. However, when the image is emitted from the image rotator 43, for example, as shown in FIG.
As shown in FIG. 5, it is rotated by a predetermined angle in the clockwise direction in FIG.

【0021】第一、第二の描画用光束L5、L6および
モニター光Lmは、さらにビームベンダ44と45によ
って偏向された後ポリゴンミラー46の反射面46aに
入射される。ポリゴンミラー46は、回転軸73を中心
として図8の反時計方向に回転するとき、偏向角θ(図
3参照)を連続的に変化させて同方向に回転移動する各
反射面46aによって、第一、第二の描画用光束L5、
L6およびモニター光Lmを走査する。これにより、第
一、第二の描画用光束L5、L6がそれぞれ、fθレン
ズ47およびコンデンサレンズ49を透過して、描画テ
ーブル面Tに位置する基板S上に結像される。またポリ
ゴンミラー46は、図示しない調整手段を介してその回
転軸73を回転移動されることが可能で、これにより主
走査線の副走線に対する垂直度を調整することができ
る。
The first and second drawing light fluxes L5 and L6 and the monitor light Lm are further deflected by the beam benders 44 and 45, and then enter the reflecting surface 46a of the polygon mirror 46. When the polygon mirror 46 rotates counterclockwise in FIG. 8 about the rotation axis 73, the polygon mirror 46 continuously changes the deflection angle θ (see FIG. 3) and is rotated by the respective reflecting surfaces 46a in the same direction. The first and second drawing light fluxes L5,
Scan L6 and monitor light Lm. As a result, the first and second drawing light beams L5 and L6 respectively pass through the fθ lens 47 and the condenser lens 49 and are imaged on the substrate S located on the drawing table surface T. Further, the polygon mirror 46 can be rotationally moved about its rotary shaft 73 via an adjusting means (not shown), whereby the perpendicularity of the main scanning line to the sub-traveling line can be adjusted.

【0022】第一、第二の描画用光束L5、L6と共に
fθレンズ47、コンデンサレンズ49を透過したモニ
ター光Lmは、モニター光用ミラー51aと51bで順
に反射されて180゜偏向され、描画テーブル面Tの結
像面と等価な位置に配置されたYスケール50に入射す
る。このYスケール50は、リニアなエンコーダと同じ
ように、ガラスにスリットを形成したものである。そし
てモニター光Lmは、Yスケール50を透過した後、長
尺のミラー63、64でそれぞれに反射、集光され、Y
スケール用集光レンズ48でさらに集光されて、Yスケ
ール用フォトディテクタ62に入射する。このYスケー
ル用フォトディテクタ62により検出されるモニター光
Lmの位置に基づき、16本並んだ第一、第二の描画用
光束L5、L6の位置が判定され、この判定データに基
づく制御手段8からの信号により、第一、第二の描画用
光束L5、L6の16本の光束はそれぞれ個別に描画情
報を与えられる。
The monitor light Lm that has passed through the fθ lens 47 and the condenser lens 49 together with the first and second drawing light fluxes L5 and L6 is sequentially reflected by the monitor light mirrors 51a and 51b, and is deflected by 180 °. The light enters the Y scale 50 arranged at a position equivalent to the image plane of the surface T. This Y scale 50 has a slit formed in glass, as in the linear encoder. Then, the monitor light Lm is transmitted through the Y scale 50, then reflected and condensed by the long mirrors 63 and 64, respectively, and Y
The light is further condensed by the scale condenser lens 48 and is incident on the Y-scale photodetector 62. Based on the position of the monitor light Lm detected by the Y-scale photodetector 62, the positions of the 16 first and second drawing light beams L5 and L6 arranged in line are judged, and the control means 8 based on this judgment data 16 signals of the first and second drawing light fluxes L5 and L6 are individually given the drawing information by the signal.

【0023】描画テーブル面Tに対しやや傾斜して結像
する第一、第二の描画用光束L5、L6の各点像は、8
チャンネルの音響光学変調器36、37を介して、点像
径が例えば30μmとなるように補正される。これによ
り、図14に示すような各点像の光量のバラツキが、図
15に示すように調整される。本実施例において、描画
用光束L5、L6の各スポットは、音響光学変調器3
6、37を介して、相互の間隔P(図12)が例えば5
μmとなるようにピッチ調整される。
The point images of the first and second drawing light fluxes L5 and L6 which are slightly inclined with respect to the drawing table surface T are 8
Through the acousto-optic modulators 36 and 37 of the channels, the point image diameter is corrected to be 30 μm, for example. Thereby, the variation in the light amount of each point image as shown in FIG. 14 is adjusted as shown in FIG. In this embodiment, the spots of the drawing light beams L5 and L6 are the acousto-optic modulator 3
6 and 37, the mutual interval P (FIG. 12) is, for example, 5
The pitch is adjusted to be μm.

【0024】副走査方向(Z)に沿わせた各点像による
描画ラインL(図15)は、音響光学変調器36、37
による描画情報によって描画されるが、描画用光束L5
とL6には点像同士の干渉を防止するための間隔cが設
けられるため、例えば図15において最下部の描画用光
束L5を露光した後次ぎなる描画用光束L6を直に露光
しても、描画ラインLは線にならない。そこで、本レー
ザ描画装置11では、最下部の描画用光束L5を露光し
た後次ぎなる描画用光束L6を直に露光させずに、所定
時間置いてから露光させる。これにより、前に露光され
た描画用光束L5の点像に対し次ぎなる描画用光束L6
の点像を適正に重ねることができるから、この操作を連
続して行なうことにより図15のようなラインLを描画
することができる。その場合、図12のように、ライン
Lの各点像位置にバラツキが出るときは、8チャンネル
の音響光学変調器36、37の変調タイミングを適宜変
えることにより、図13のように補正することができ
る。
The drawing line L (FIG. 15) formed by each point image along the sub-scanning direction (Z) is defined by the acousto-optic modulators 36 and 37.
The drawing light flux L5
And L6 are provided with an interval c for preventing interference between the point images, therefore, for example, even if the drawing light beam L6 at the bottom of FIG. The drawing line L does not become a line. Therefore, in the present laser drawing apparatus 11, the lowermost drawing light beam L5 is exposed, and then the next drawing light beam L6 is not directly exposed, but is exposed after a predetermined time. As a result, the drawing light beam L6 next to the point image of the drawing light beam L5 previously exposed is obtained.
Since it is possible to properly superimpose the point images of, the line L as shown in FIG. 15 can be drawn by continuously performing this operation. In this case, when the point image positions of the line L vary as shown in FIG. 12, the modulation timings of the eight-channel acousto-optic modulators 36 and 37 are appropriately changed to correct as shown in FIG. You can

【0025】上記構成を有する本レーザ描画装置11
は、次のように作動させることができる。先ず、回路パ
ターンを形成すべき基板Sの位置決め孔(図示せず)
を、基板セット装置の対応する部位に合わせ、この基板
Sを該装置に対して適正にセットする。これにより基板
Sは、この基板セット装置のZテーブルおよびスイング
機構(図示せず)により、図1の副走査方向(Z)に沿
ってスライド自在、かつその位置において回動軸(図示
せず)を軸として揺動自在にセットされる。
The present laser drawing apparatus 11 having the above structure
Can be operated as follows. First, a positioning hole (not shown) of the substrate S on which a circuit pattern is to be formed
Are aligned with corresponding portions of the substrate setting device, and the substrate S is properly set in the device. As a result, the substrate S is slidable in the sub-scanning direction (Z) of FIG. 1 by the Z table and swing mechanism (not shown) of this substrate setting device, and at that position a rotation axis (not shown). It is set so that it can swing about the axis.

【0026】この状態において、アルゴンレーザ装置1
2を発振させてレーザ光L1の照射を開始させると、こ
のレーザ光L1は、先ず、ビームベンダ13で偏向さ
れ、調整用ターゲット15を通過した後ハーフプリズム
16に入射し、このハーフプリズム16によって、その
まま直進する光束L2と、90゜偏向されてハーフミラ
ー14に向かう描画用光束とに分割される。この描画用
光束は、ハーフミラー14を介して、90゜偏向されて
上記光束L2と並んで進む光束L3、およびビームベン
ダ54に向かい該ビームベンダ54で90゜偏向される
モニター光Lmとに分割される。
In this state, the argon laser device 1
When the laser beam L1 is oscillated and the irradiation of the laser beam L1 is started, the laser beam L1 is first deflected by the beam bender 13, passes through the adjustment target 15, and then enters the half prism 16, which is then reflected by the half prism 16. , And is split into a light beam L2 that goes straight and a drawing light beam that is deflected by 90 ° and goes toward the half mirror 14. The drawing light beam is split through the half mirror 14 into a light beam L3 which is deflected by 90 ° and travels in parallel with the light beam L2, and a monitor light Lm which is directed toward the beam bender 54 and is deflected by 90 ° by the beam bender 54. To be done.

【0027】光束L2は、レンズ65、調整用ターゲッ
ト17およびレンズ67を介して音響光学変調器19に
入射され、また描画用光束L3は、レンズ66、68を
透過して音響光学変調器20に入射される。そして該光
束L2、L3両者間の光量差は、音響光学変調器19と
20によって除去される。該光束L2、L3はさらに、
ビームセパレータ21と22により、主走査方向(Y)
に互いに並列する8本の第一の描画用光束L5と第二の
描画用光束L6とにそれぞれ分割される。該第一、第二
の描画用光束L5、L6はさらに、ピッチ変換用集光光
学系26、27をそれぞれに透過し、ビームベンダ2
8、29で90゜偏向された後、ピッチ変換用集光光学
系31、32を介して音響光学変調器36、37にそれ
ぞれ入射される。
The light beam L2 is incident on the acousto-optic modulator 19 via the lens 65, the adjustment target 17 and the lens 67, and the drawing light beam L3 is transmitted through the lenses 66 and 68 to the acousto-optic modulator 20. It is incident. Then, the light quantity difference between the light fluxes L2 and L3 is removed by the acousto-optic modulators 19 and 20. The luminous fluxes L2 and L3 are further
Main scanning direction (Y) by beam separators 21 and 22
Is divided into eight first drawing light fluxes L5 and second drawing light fluxes L6 which are parallel to each other. The first and second drawing light fluxes L5 and L6 further pass through the pitch conversion condensing optical systems 26 and 27, respectively, and the beam bender 2
After being deflected by 90 ° at 8, 29, they are incident on acousto-optic modulators 36, 37 via pitch-converging condensing optical systems 31, 32, respectively.

【0028】それぞれ8本ずつに分割された描画用光束
L5、L6は、それぞれの光量のバラツキを、8チャン
ネルの音響光学変調器36と37の音響光学効果によっ
て個々に除去されると共に、制御手段8に基づく音響光
学変調器36、37から描画情報を与えられる。
The drawing light fluxes L5 and L6, which are each divided into eight light fluxes, are individually removed by the acousto-optic effect of the 8-channel acousto-optic modulators 36 and 37, and the control means is used. Drawing information is given from the acousto-optic modulators 36 and 37 based on 8.

【0029】音響光学変調器36から出射される描画用
光束L5は、ビームベンダ38で90゜偏向された後偏
光ビームスプリッタ40に入射され、また音響光学変調
器37から出射される描画用光束L6は、λ/2板39
を透過して偏光方向を変えられた後偏光ビームスプリッ
タ40に入射される。これらの描画用光束L5とL6
は、それぞれ8本ずつ有する個々の描画用光束を、偏光
ビームスプリッタ40により順に組合わされて、主走査
方向(Y)に一列に並ぶように合成される。
The drawing light beam L5 emitted from the acousto-optic modulator 36 is deflected by 90 ° by the beam bender 38 and then enters the polarization beam splitter 40, and the drawing light beam L6 emitted from the acousto-optic modulator 37. Is the λ / 2 plate 39
After passing through, the polarization direction is changed, and then the light is incident on the polarization beam splitter 40. These drawing light beams L5 and L6
The individual drawing light fluxes, each of which has eight light beams, are sequentially combined by the polarization beam splitter 40, and are combined so as to be arranged in a line in the main scanning direction (Y).

【0030】さらに制御手段8が、ポリゴンミラー46
からの描画用光束L5、L6の走査に同期させて基板セ
ット装置を作動させ、基板Sを、描画テーブル面T上で
副走査方向(Z)と平行な方向に沿ってスライドさせ
る。よって、主走査方向(Y)に対しやや斜めに16本
並列して適時オンオフされる描画用光束L5、L6によ
り、基板S上に、回路パターンが二次元的に描画(露
光)される。
Further, the control means 8 includes a polygon mirror 46.
The substrate setting device is operated in synchronism with the scanning of the drawing light beams L5 and L6 from, and the substrate S is slid on the drawing table surface T along the direction parallel to the sub-scanning direction (Z). Therefore, the circuit pattern is two-dimensionally drawn (exposed) on the substrate S by the drawing light beams L5 and L6 which are turned on and off at appropriate times in parallel with 16 16 lines which are slightly oblique to the main scanning direction (Y).

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、露
光焼付用マスクを使用することなく、描画速度を向上さ
せることができるレーザ描画装置を提供することができ
る。そして本発明によれば、偏向ミラーによって走査さ
れる光束を走査光学系を通して結像させる場合に、走査
される描画像における歪の発生を可及的に抑えることが
できる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a laser drawing apparatus capable of improving the drawing speed without using an exposure printing mask. Further, according to the present invention, when the light beam scanned by the deflection mirror is imaged through the scanning optical system, it is possible to suppress the occurrence of distortion in the drawn image to be scanned as much as possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用したレーザ描画装置の全体を示す
外観斜視図である。
FIG. 1 is an external perspective view showing an entire laser drawing apparatus to which the present invention is applied.

【図2】同レーザ描画装置における描画像の走査時の原
理を説明するための説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining the principle of scanning a drawn image in the laser drawing apparatus.

【図3】同レーザ描画装置における描画像の走査時の原
理を説明するための説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining the principle of scanning a drawn image in the laser drawing apparatus.

【図4】同レーザ描画装置における描画像の走査時の原
理を説明するための説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining the principle of scanning a drawn image in the laser drawing apparatus.

【図5】同レーザ描画装置における描画像の走査時の原
理を説明するための説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining the principle of scanning a drawn image in the laser drawing apparatus.

【図6】同レーザ描画装置によって描画される描画像の
一例を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an example of a drawn image drawn by the laser drawing apparatus.

【図7】同レーザ描画装置における描画像の走査時の原
理を説明するための説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining the principle of scanning a drawn image in the laser drawing apparatus.

【図8】同レーザ描画装置で使用されるポリゴンミラー
を示す拡大斜視図である。
FIG. 8 is an enlarged perspective view showing a polygon mirror used in the laser drawing apparatus.

【図9】二列の描画用光束群を回転させるときの状態を
示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing a state in which two drawing light flux groups are rotated.

【図10】二列の描画用光束群のうち、一方の列をポリ
ゴンミラーの主走査方向に移動させるときの状態を示す
説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram showing a state when one of the two groups of drawing light fluxes is moved in the main scanning direction of the polygon mirror.

【図11】二列の描画用光束群のうち、一方の列をポリ
ゴンミラーの副走査方向に移動させるときの状態を示す
説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing a state when one of the two groups of drawing light fluxes is moved in the sub-scanning direction of the polygon mirror.

【図12】一列状の描画用光束と、この描画用光束によ
って描画されるラインとの関係を補正前の状態で示す図
である。
FIG. 12 is a diagram showing a relationship between a single-line drawing light beam and a line drawn by the drawing light beam in a state before correction.

【図13】一列状の描画用光束と、この描画用光束によ
って描画されるラインとの関係を補正後の状態で示す図
である。
FIG. 13 is a diagram showing a relationship between a line of drawing light flux and a line drawn by the drawing light flux in a corrected state.

【図14】一列状の描画用光束と、この描画用光束によ
って描画されるラインとの関係を補正前の状態で示す図
である。
FIG. 14 is a diagram showing a relationship between a single-line drawing light beam and a line drawn by the drawing light beam in a state before correction.

【図15】一列状の描画用光束と、この描画用光束によ
って描画されるラインとの関係を補正後の状態で示す図
である。
FIG. 15 is a diagram showing a relationship between a line of drawing light flux and a line drawn by the drawing light flux in a state after correction.

【図16】ポリゴンミラーとfθレンズを用いた描画時
の不都合を説明するための説明図である。
FIG. 16 is an explanatory diagram for explaining an inconvenience during drawing using a polygon mirror and an fθ lens.

【図17】ポリゴンミラーとfθレンズを用いた描画時
の不都合を説明するための説明図である。
FIG. 17 is an explanatory diagram for explaining an inconvenience during drawing using a polygon mirror and an fθ lens.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 レーザ描画装置 12 アルゴンレーザ装置(レーザ光源) 16 ハーフプリズム 36 37 音響光学変調器 21 22 ビームセパレータ 39 λ/2板 40 偏光ビームスプリッタ 43 イメージローテータ 46 ポリゴンミラー(偏向ミラー) 47 fθレンズ(走査光学系) i 描画像 L1 レーザ光 L2 L3 光束 L5 L6 描画用光束 Lm モニター光 S 基板 T 描画テーブル面 11 Laser drawing device 12 Argon laser device (laser light source) 16 Half prism 36 37 Acousto-optic modulator 21 22 Beam separator 39 λ / 2 plate 40 Polarizing beam splitter 43 image rotator 46 Polygon mirror (deflection mirror) 47 fθ lens (scanning optical system) i drawing image L1 laser light L2 L3 luminous flux L5 L6 Drawing light flux Lm monitor light S substrate T drawing table surface

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 レーザ光源からのレーザ光を、一列状を
なす複数の描画用光束に分割する分割手段;該一列状の
描画用光束を、その反射面で反射させて描画面に対して
走査する偏向ミラー;及び、 この偏向ミラーの上記反射面からの反射光を集光して描
画面に結像させる、この描画面上での点像の像高が偏向
角θに比例する走査光学系;を備え、 下記条件式(1)を満足することを特徴とするレーザ描
画装置。 δ= cos-1{2cosα・cos2ω− cosα} γ= tan-1{ sinα/( 2cosα・sinω・cosω) } とす
るとき、 (1)δsin γ−α<p/f 但し、 f:走査光学系の焦点距離、 α:偏向ミラーの反射面に対する、副走査方向での入射
角、 ω:偏向ミラーの反射面の法線が走査光学系の光軸と入
射光軸との2等分線に対してなす角、 p:一列状をなす複数の描画用光束のピッチ、 δ:偏向ミラーの反射面で反射した描画用光束と走査光
学系の光軸とでなす角、 γ:偏向ミラーの反射面で反射した描画用光束の描画面
での結像点と走査光学系の光軸の該描画面に対する交点
を結ぶ線と、主走査方向とでなす角。
1. A splitting means for splitting a laser beam from a laser light source into a plurality of drawing light fluxes arranged in a line; and scanning the drawing surface by reflecting the one row light fluxes for drawing on its reflection surface. And a scanning optical system in which the image height of the point image on the drawing surface is proportional to the deflection angle θ, and the reflected light from the reflecting surface of the deflecting mirror is condensed to form an image on the drawing surface. And satisfying the following conditional expression (1): When δ = cos -1 {2cosα ・ cos 2 ω-cosα} γ = tan -1 {sinα / (2cosα ・ sinω ・ cosω)}, (1) δsin γ-α <p / f However, f: scanning Focal length of the optical system, α: incident angle in the sub-scanning direction with respect to the reflecting surface of the deflecting mirror, ω: normal line of the reflecting surface of the deflecting mirror is a bisector of the optical axis of the scanning optical system and the incident optical axis Angle: p: pitch of a plurality of drawing light fluxes in a line, δ: angle between the drawing light flux reflected by the reflecting surface of the deflection mirror and the optical axis of the scanning optical system, γ: deflection mirror An angle formed by the main scanning direction and a line connecting an image forming point on the drawing surface of the drawing light beam reflected by the reflecting surface and an intersection of the optical axis of the scanning optical system with the drawing surface.
【請求項2】 請求項1において、偏向ミラーは、多数
の反射面を有するポリゴンミラーであり、その回転によ
り、該反射面で反射する一列状の分割描画用光束を、そ
の主走査方向に走査するように構成されているレーザ描
画装置。
2. The deflecting mirror according to claim 1, wherein the deflecting mirror is a polygon mirror having a large number of reflecting surfaces, and the rotation of the deflecting mirror scans a line of divided drawing light beams reflected by the reflecting surfaces in a main scanning direction thereof. A laser writing apparatus configured to.
【請求項3】 請求項1において、走査光学系は、描画
面上での描画用光束の点像の像高がその光軸と反射光束
とでなす偏向角θに比例する、描画用光束を等速に走査
するためのfθレンズであるレーザ描画装置。
3. The scanning optical system according to claim 1, wherein the image height of the point image of the drawing light beam on the drawing surface is proportional to the deflection angle θ formed by the optical axis and the reflected light beam. A laser drawing device that is an fθ lens for scanning at a constant speed.
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