JPS625981A - Production of thiazolidine derivative - Google Patents

Production of thiazolidine derivative

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JPS625981A
JPS625981A JP61042609A JP4260986A JPS625981A JP S625981 A JPS625981 A JP S625981A JP 61042609 A JP61042609 A JP 61042609A JP 4260986 A JP4260986 A JP 4260986A JP S625981 A JPS625981 A JP S625981A
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孝雄 吉岡
Takeshi Fujita
岳 藤田
Eiichi Kitazawa
栄一 北沢
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Abstract

PURPOSE:To obtain the objective compound by using an acetophenone derivative and a nitro compound as raw materials, reducing and diazotizing the nitro group, subjecting the product to Meerwein arylation with an acrylic acid derivative and reacting with thiourea. CONSTITUTION:The objective compound of formula VII (Y and Z are O or imino) can be produced by (1) reacting the compound of formula I (R<2> is H, lower alkyl, etc.; R<3> is H, aliphatic lower acyl, etc.; R<4> and R<5> are H, lower alkyl, etc.) with the compound of formula II (R<1> is H, lower alkyl, etc.; n is 1-3), reducing and optionally acylating the resultant compound of formula III, converting the compound to the compound of formula IV by elimination reaction, reducing and diazotizing the product, subjecting to the Meerwein acylation reaction with the acrylic acid derivative of formula V (A' is CN, etc.), reacting the produced compound of formula VI (X is halogen; A is A', etc.) with thiourea and, if necessary, hydrolyzing the reaction product.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は血中脂質並びに糖代謝改善作用すなわち血中過
酸化脂質低下作用、血中トリグリセライド低下作用、血
中コレステロール低下作用および血糖低下作用を有し、
かつ極めて低毒性の新規チアゾリジン誘導体の製法に関
する。さらに詳しくは、本発明は、一般式 〔式(1)中、R1およびR2は同一または異なって水
素原子または低級アルキル基を、R3および後述するR
5′は水素原子、脂肪族低級アシル基、脂環式アシル基
、置換基を有していてもよい芳香族アシル基、複素環ア
シル基、置換基を有していてもよい芳香脂肪族アシル基
、低級アおよび几5は同一または異なって水素原子、低
級アルキル基または低級アルコキシ基を、nは1乃至3
の整数を、Wはメチレン基、カルボニル基または式>−
OR”を、YおよびZは酸素原子またはイミノ基を示す
。〕で表わされるチアからメチレン基に変換する方法に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention has an effect of improving blood lipid and glucose metabolism, that is, an effect of lowering blood peroxide lipids, a blood triglyceride lowering effect, a blood cholesterol lowering effect, and a blood sugar lowering effect,
The present invention also relates to a method for producing a novel thiazolidine derivative with extremely low toxicity. More specifically, the present invention is based on the general formula [Formula (1), R1 and R2 are the same or different and represent a hydrogen atom or a lower alkyl group, R3 and R
5' is a hydrogen atom, an aliphatic lower acyl group, an alicyclic acyl group, an optionally substituted aromatic acyl group, a heterocyclic acyl group, an optionally substituted aromatic aliphatic acyl group group, lower a, and 几5 are the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group, and n is 1 to 3.
W is a methylene group, a carbonyl group, or a formula>-
OR'', Y and Z represent an oxygen atom or an imino group], and relates to a method for converting thia to a methylene group.

発明の構成 本発明に係わるチアゾリジン誘導体は以下のごとく製造
することができる。
Constitution of the Invention The thiazolidine derivative according to the present invention can be produced as follows.

A法 A法はすでに本発明者らによって、特願昭58−158
375号(前号1と略す)に詳述された方法であり、一
般式(1)において、Wがメチレン基である化合物を製
造するのに有利に使用される。拳法によって、以下に示
すように、化合物(3)は目的化合物(1)(W:〉c
I(2)に導かれる。(A−1→A−5) 上記式中、ul、 R2,R3,R4,R5およびnは
前述したものと同意義を示し、mは0乃至2の整数を、
Xはハロゲン原子を、Aはシアノ基、カルボキシ基、ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基または式−00
0M  (式中、Mは等価の陽イオンを示す。)を、(
!!(W :)0142 )はWがメチレン基であるチ
アゾリジン誘導体を示し、B 10は後に示す。
Method A Method A has already been proposed by the present inventors in a patent application filed in 1982-158.
This method is detailed in No. 375 (abbreviated as No. 1), and is advantageously used to produce a compound of general formula (1) in which W is a methylene group. By Kenpo, as shown below, compound (3) is converted into target compound (1) (W:〉c
I am guided by (2). (A-1 → A-5) In the above formula, ul, R2, R3, R4, R5 and n have the same meanings as described above, m is an integer from 0 to 2,
X is a halogen atom, A is a cyano group, carboxy group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group or formula -00
0M (in the formula, M represents an equivalent cation), (
! ! (W:)0142) represents a thiazolidine derivative in which W is a methylene group, and B 10 will be shown later.

本工程は、リチウムアルミナムハイドライド、ビトライ
ド〔ソデイウム ビス(2−メトキシエトキシ)アルミ
ナム ハイドライド〕のような金属ハイドライドによる
還元工程である。
This step is a reduction step using a metal hydride such as lithium aluminum hydride or bitride (sodium bis(2-methoxyethoxy)aluminum hydride).

本工程は、クロマンアルコール類+41 ヲニトロ基を
有するクロマン類(5)に導く工程である。
This step is a step that leads to a chroman alcohol (5) having a chroman alcohol +41 onitro groups.

該反応に先立ちフェノール性水酸基を保護することが好
ましく、水酸基の保護基R10としては、たとえば、メ
トキシメチル、2−テトラヒドロピラニルなどのような
アルコキシアルキル基が好ましい。保護されたフェノー
ル性水酸基を有するクロマンアルコール類は、単離する
こともできるが、単離することなく、と同意義を表わす
。)を有する化合物と反応させ、ニトロ基を有するクロ
マン類(5)に導びかれる。
It is preferable to protect the phenolic hydroxyl group prior to the reaction, and the hydroxyl protecting group R10 is preferably an alkoxyalkyl group such as methoxymethyl or 2-tetrahydropyranyl. Chroman alcohols having a protected phenolic hydroxyl group can be isolated, but have the same meaning as "without isolation." ) to lead to chromans (5) having a nitro group.

A−3 本工程は、A−2で得られたニトロ体(5)を、対応す
るアミン体(6)に還元する工程である。
A-3 This step is a step of reducing the nitro compound (5) obtained in A-2 to the corresponding amine compound (6).

該還元反応に際して、該ニトロ体(5)のフェノール性
水酸基の保護基BIGはそのままでもよいが、脱保護し
てもよく、さらに他の基、たとえば アセチル基、ベン
ゾイル基のようなアシル基に変えてもよく、アシル基に
変えることが好ましい。化合物(5)の脱保護をおこな
う場合、脱保護工程は(5)を低濃度の酸の存在下に加
水分解することによって達成される。
In the reduction reaction, the protecting group BIG for the phenolic hydroxyl group of the nitro compound (5) may be left as is, or may be deprotected, or may be further converted into another group, such as an acyl group such as an acetyl group or a benzoyl group. It is preferable to change it to an acyl group. When deprotecting compound (5), the deprotection step is achieved by hydrolyzing (5) in the presence of a low concentration of acid.

化合物(5)の保護基な了シル基などに変える場合、該
アシル化は上記加水分解によって脱保護された化合物を
さらにアセチルクロリド、ベンゾイルクロリドのような
酸ハライド類、無水酢酸のような酸無水物類で示される
アシル化剤で処理することによって達成される。
When converting compound (5) into a protecting group such as a silyl group, the acylation is performed by further converting the deprotected compound by the above hydrolysis into an acid halide such as acetyl chloride or benzoyl chloride, or an acid anhydride such as acetic anhydride. This is achieved by treatment with an acylating agent as shown in the following.

ニトロ体 (5)からアミン体(6)への還元反応とし
ては、接触還元あるいは亜鉛、鉄などの金属と酸(たと
えば、塩酸、硫酸などの鉱酸、あるいは酢酸などの有機
酸)による還元があげられるが、好ましくは接触還元が
あけられる。
The reduction reaction from the nitro compound (5) to the amine compound (6) is catalytic reduction or reduction with metals such as zinc and iron and acids (for example, mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, or organic acids such as acetic acid). However, catalytic reduction is preferred.

本工程において、芳香族アミノ化合物(6)をジアゾ化
して一般式OH,2:0H−A’で表わされるアクリル
酸誘導体(式中、A′はシアン基、カルボキシ基、アル
コキシカルボニル基またはカルバモイル基を示す。)と
メイルパインアリ−レイジョン反応に付することによっ
て本発明の目的化合物(1)の前駆体、α−・・ロゲノ
カルボン酸誘導体類(7)に変換されろ。
In this step, the aromatic amino compound (6) is diazotized to obtain an acrylic acid derivative represented by the general formula OH, 2:0H-A' (where A' is a cyan group, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group). ) is converted into α-logenocarboxylic acid derivatives (7), which are the precursors of the object compound (1) of the present invention, by subjecting it to a mailpine arylization reaction.

人−5 本工程において、化合物(7)をチオ尿素と反応せしめ
てZがイミノ体であるチアゾリジン誘導体[fll  
、、  〕とし、あるいは、必〜(W、zOH2) 要に応じて、加水分解反応を行ない、YおよびZが酸素
原子であるチアゾリジン誘導体C(!、!(W : >
。)I2)〕とすることができ、さらに、R3,゛  
      が水素原子であるもの[Q2 (W : 
ン0H2)〕とすることもできる。
Human-5 In this step, compound (7) is reacted with thiourea to produce a thiazolidine derivative in which Z is an imino compound [fll
.
. )I2)], and furthermore, R3,゛
is a hydrogen atom [Q2 (W:
0H2)].

B法 B法は、一般式(11において、Wがメチレン基で、n
が2であるものを製造するのに有利に使用される。クロ
マンアルコール類(4)において、特にnが2であるも
の、(8)、は例えば〜 ジャーナル オブ アメリカン オイル ケミスツ ソ
サイアテイ 51巻、200頁(1974)に記載され
た方法で、ノ・イドロキノン類(9)↓A−5 (1)(W:〉CH2) より、上述するように、多段階を経て製造することがで
きるが、特開昭58−201775号に示された方法に
従い、一段階で製造することができ、A−2乃至 A−
5工程によシ目的化合物を製造することができる。R1
,B2゜R5,R4,およびR5は前述したものと同意
義を示す。
Method B Method B uses the general formula (11, W is a methylene group, n
2. Among the chroman alcohols (4), those in which n is 2, (8), for example, can be prepared by the method described in Journal of the American Oil Chemistry Society, Vol. 51, p. 200 (1974). )↓A-5 (1) (W:>CH2) As mentioned above, it can be produced in multiple steps, but it can be produced in one step according to the method shown in JP-A No. 58-201775. A-2 to A-
The desired compound can be produced in 5 steps. R1
, B2°R5, R4, and R5 have the same meanings as described above.

C法 C法もまた、一般式(1)においてWがメチレン基であ
る目的化合物を製造するのに有利に使用される。
Method C Method C is also advantageously used to produce the target compound in general formula (1) in which W is a methylene group.

本法は ジャーナル オブ メデイシナルケミストリー
 18巻、934頁(1975)に記載された方法に準
じたものであり、クロマン環2位にFL1′(R1′は
、前述したB1の定義から水素原子を除外したものを示
す。)を導入するのに、有利に用いることができる。
This method is based on the method described in Journal of Medicinal Chemistry, Vol. 18, p. 934 (1975), and FL1'(R1' excludes the hydrogen atom from the above definition of B1) is placed at the 2-position of the chroman ring. ) can be advantageously used to introduce

本法によって、以下に示すように、化合物(9)は目的
化合物(1)(w:′:10H2)に導かれる。
By this method, as shown below, compound (9) is led to target compound (1) (w:':10H2).

(C−1→O−11) 上記式中、B1′、R2,R4,B5.およびHloは
前述したものと同意義を示し、B、はカルボン酸の保護
基、たとえば アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アラルキル基、置換さく15) れていてもよい フェニル基を示すが、好ましくは低級
アルキル基を示し、特に保護を必要とせぬ場合は木葉原
子を示してもよい。
(C-1→O-11) In the above formula, B1', R2, R4, B5. and Hlo have the same meanings as described above, and B represents a protecting group for carboxylic acid, such as an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, or a phenyl group which may be substituted, but is preferred. represents a lower alkyl group, and may represent a leaf atom if no protection is required.

該各工程は上記文献に記載された方法と本質的に同等で
ある。
Each step is essentially equivalent to the method described in the above-mentioned document.

0−5工程は必要に応じてなされる、フェノール性水酸
基を保護する工程であるが、C−6エ程に先立ちフェノ
ール性水酸基を保護することが好ましい。水酸基を保護
する場合その保護基R10としては、通常のフェノール
性水酸基の保護基たとえは、メトキシメチル、2−テト
ラヒドロピラニルなどのようなアルコキシアルキル基も
しくは置換していテモよいベンジル基が、また、アセチ
ル、ベンゾイルのよりなアシル基があげられるが、アル
コキシアルキル基が好ましい。保護基を導入する反応は
、通常、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カ
ルシウムのような水素化アルカリもしくはアルカリ土類
金属、また、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、カリウムターシャリ−ブトキサイドのような
アルカリ金属のアルコラードなどの塩基の存在下、クロ
ロメチルメチルエーテルのようなアルコキシアルキル化
剤、モしくはベンジルハライドのようなアルキル化剤を
用いることによって達成される。該反応において、溶媒
としては、たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサン、
ヘプタンのような脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジメチ
ルスルホキサイドのようなスルホキサイド類、スルホラ
ンのようなスルホン類があげられる。化合物O2と該ア
ルキル化剤との割合は、特に限定しないが、α2に対し
でや〜過剰の該アルキル化剤を用いるのが有利である。
The 0-5 step is a step of protecting the phenolic hydroxyl group, which is performed as necessary, but it is preferable to protect the phenolic hydroxyl group prior to the C-6 step. In the case of protecting a hydroxyl group, the protecting group R10 may be a general protecting group for a phenolic hydroxyl group, such as an alkoxyalkyl group such as methoxymethyl or 2-tetrahydropyranyl, or a substituted benzyl group; Examples include acyl groups such as acetyl and benzoyl, but alkoxyalkyl groups are preferred. Reactions to introduce protecting groups are usually carried out using alkali or alkaline earth metal hydrides, such as sodium hydride, potassium hydride, calcium hydride, or sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide. This is accomplished by using an alkoxy alkylating agent such as chloromethyl methyl ether, or alternatively an alkylating agent such as benzyl halide, in the presence of a base such as an alkali metal alcoholade. In this reaction, examples of solvents include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, hexane,
Examples include aliphatic hydrocarbons such as heptane, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethylsulfoxide, and sulfones such as sulfolane. The ratio of the compound O2 to the alkylating agent is not particularly limited, but it is advantageous to use the alkylating agent in a slight to excess amount relative to α2.

好ましくは化合物g!1モルに対して、該アルキル化剤
は1乃至10 モルである。反応温度、反応時間などの
反応条件は、用いられる原料、溶媒などにより異なるが
、通常反応は0乃至50℃、好適には1G −25℃で
、数分乃至数十発行なわれる。このようにして保護され
たクロマンカルボン酸誘導体類は、単離することもでき
るが、単離することなく、c−6エ程においてクロマン
環2位のアルキル化反応に使用することができる。
Preferably compound g! The alkylating agent is present in an amount of 1 to 10 mol per mol. Although reaction conditions such as reaction temperature and reaction time vary depending on the raw materials and solvent used, the reaction is usually carried out at 0 to 50°C, preferably 1G-25°C, for several minutes to several tens of cycles. The thus protected chromancarboxylic acid derivatives can be isolated or used in the alkylation reaction at the 2-position of the chroman ring in the c-6 step without being isolated.

0−6エ程は、所望に応じて、クロマン環6位に保護さ
れた水酸基、同項2位にFL1′を有するクロマンカル
ボン酸誘導体Ma4Iを製造する工程で、クロマン環6
位に保護された水酸基を有するクロマンカルボン酸Q3
1を不活性溶媒中、塩基と処理し、反応液中にカルバニ
オンを発生させた後、 一般式 B 1 ’  X ′ (式中、R1′は前述したものと同意義を示し、X′は
塩素、臭素、沃累のような・・ロゲン原子又はメタンス
ルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、ベンゼンヌ
ルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシのヨウ
ナヌルホニルオキシ基を示す。) を有する化合物を反応させることによって達成される。
Step 0-6 is a step for producing a chroman carboxylic acid derivative Ma4I having a protected hydroxyl group at the 6-position of the chroman ring and FL1' at the 2-position of the chroman ring, as desired.
Chromancarboxylic acid Q3 having a protected hydroxyl group in position
After treating 1 with a base in an inert solvent to generate a carbanion in the reaction solution, the general formula B 1 ' , bromine, iodine, etc.) or an ionanulfonyloxy group such as methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy, p-toluenesulfonyloxy). achieved by.

使用される環基としては、例えば、メチルリチウム、n
−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、フェニルリチ
ウムのような有機リチウム化合物:リチウムジインプロ
ビルアミド、リチウムジシクロへキシルアミド、リチウ
ムイソプロピル シクロヘキシルアミドなどのようなリ
チウムジアルキルアミド類、または、水素化リチウム、
水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのような水素化
アルカリ金属類をあげることができるが、好適には、有
機リチウム化合物、またはリチウムジアルキルアミド類
である。
Examples of the ring group used include methyllithium, n
- organolithium compounds such as butyllithium, t-butyllithium, phenyllithium; lithium dialkylamides such as lithium diimprobylamide, lithium dicyclohexylamide, lithium isopropyl cyclohexylamide, etc.; or lithium hydride;
Examples include alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, but preferably organic lithium compounds or lithium dialkylamides.

使用される不活性溶剤としては反応に関与しなければ特
に限定されないが、例えは、工−チル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類があげられる。
The inert solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, but examples thereof include ethers such as ether, tetrahydrofuran, and dioxane.

;ヰとの反応では、o ’c乃至60℃であり、反応に
要する時間は前段では30分間乃至2時間であシ、後段
では1時間乃至24時間である。
In the reaction with ;O'C to 60°C, the time required for the reaction is 30 minutes to 2 hours in the first stage and 1 hour to 24 hours in the second stage.

0−7  乃至 C−11 各工程は、それぞれ、A−1乃至 A−5工程に対応し
、R1がアルキル基である目的化合物 f’l(w :
 >OH2,Rキ11 )が製造される。
0-7 to C-11 Each step corresponds to A-1 to A-5 steps, respectively, and the target compound f'l (w:
>OH2,Rki11) is produced.

なお、所望に応じて、03)を用い、0−6エ程を経由
せず直接にO−7乃至C−11に準じた反応を実施する
ことにより、R1が水素原子である目的化合物 fg(
W : 〉OH2,R1=H)を製造することができる
In addition, if desired, the target compound fg(
W: >OH2, R1=H) can be produced.

D法 本法はすでに本発明者らによって、特願昭59−156
907号(前号2と略す)に詳述された方法であり、一
般式(1)において、Wがカルボニル基である化合物を
製造するのに有利に使用される。本法によって、以下に
示すように、化合物(2)は目的物、辺(W:>−0)
、に導かれる。(D−1→D−4) (2; 〕) 上記式中、R”、 R2,R3,n’、 R”、 A、
 X  およびnは前述したものと同意義を示し、(1
1(W :、)−〇 )はWがカルボニル基であるチア
ゾリジン誘導体を示す。
Method D This method has already been proposed by the present inventors in a patent application filed in 1982-156.
This method is described in detail in No. 907 (abbreviated as No. 2), and is advantageously used to produce a compound in which W is a carbonyl group in the general formula (1). By this method, as shown below, compound (2) is obtained as the target object, edge (W:>-0)
, guided by. (D-1→D-4) (2; ]) In the above formula, R", R2, R3, n', R", A,
X and n have the same meanings as described above, and (1
1(W:,)-〇) represents a thiazolidine derivative in which W is a carbonyl group.

本工程で、アセトフェノン誘導体類(2)をニトロ体セ
とピロリジン、ピペリジンもしくはモルホリンのような
有機塩基の存在下で反応せしめ、ニトロフェノキシ基を
有スる4−オキソクロマン誘導体類αeが製造される。
In this step, acetophenone derivatives (2) are reacted with a nitro compound in the presence of an organic base such as pyrrolidine, piperidine or morpholine to produce 4-oxochroman derivatives αe having a nitrophenoxy group.

D−2,D−3,D−4 各工程は、それぞれ、A−3,A−4,A−5工程に対
応し、上述したようにして、Wがカルボニル基である目
的化合物、(!2(W :>=O)が製造される。
D-2, D-3, D-4 Each step corresponds to A-3, A-4, and A-5 steps, respectively, and as described above, the target compound in which W is a carbonyl group, (! 2(W:>=O) is produced.

E法 E法は一般式(11において、Wがカルボニル基であり
、かつクロマン環2位に置換基R1′を有する化合物を
製造するのに有利に使用される。本法によって、以下に
示すように、化合物υは、中間体安に導かれる。(E−
1→E−7) C−3工程で得られたクロモンカルボン酸惣     
      9 (ハ) 土4z昌 (L)(w : ’)−〇 )類αDを0−
4工程において使用した条件よりも緩和な条件で、2位
と3位の炭素原子が形成する二重結合のみを還元(E−
1)する工程; ならびにE−2乃至B−7の各工程;
によって構成される。式中、R1′、B2. B4. 
R5゜R10,および B、は前述したものと同倉義を
示し、B2は保護されたカルボニル基を示ス。
Method E Method E is advantageously used to produce a compound of the general formula (11) in which W is a carbonyl group and has a substituent R1' at the 2-position of the chroman ring. , the compound υ is guided to an intermediate body (E-
1→E-7) Chromonecarboxylic acid obtained in step C-3
9 (c) Earth 4z Chang (L) (w:')-〇) type αD is 0-
Under conditions milder than those used in step 4, only the double bond formed by the carbon atoms at the 2nd and 3rd positions was reduced (E-
1) step; and each step of E-2 to B-7;
Consisted of. In the formula, R1', B2. B4.
R5゜R10, and B have the same meanings as described above, and B2 represents a protected carbonyl group.

以下各工程について詳述する。Each step will be explained in detail below.

E−1工程はクロモンカルボン1Rα1)より4−オキ
ソクロマンカルボン酸類Hを得る工程である。還元方法
としては、接触還元が用いられる。接触還元に用いられ
る触媒はパラジウム−炭素、ラネーニッケル、酸化白金
などがあげられるが、好ましくは、パラジウム−炭素で
ある。水素圧は1気圧乃至100気圧であるが、1気圧
乃至6気圧が好ましい。溶媒としては、メタノール、エ
タノールのようなアルコール類、ベンゼン、トルエンの
ヨウな芳香族炭化水素類、テトラヒドロフランのような
エーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミドのようなアミド類、酢酸のような有機酸類、水およ
びこれらのものの混合物があげられるが、アミド類が好
ましい。反応温度、反応時間などの反応条件は用いられ
る原料、溶媒によって異なるが、通常室温乃至50℃、
 好ましくは室温乃至40℃で、数分乃至数日、好まし
くは、約30 分乃至約20時間である。
Step E-1 is a step of obtaining 4-oxochromancarboxylic acids H from chromonecarboxylic acid 1Rα1). Catalytic reduction is used as the reduction method. Examples of the catalyst used in the catalytic reduction include palladium-carbon, Raney nickel, and platinum oxide, but palladium-carbon is preferable. The hydrogen pressure is from 1 atm to 100 atm, preferably from 1 atm to 6 atm. Examples of solvents include alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, ethers such as tetrahydrofuran, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, and organic acids such as acetic acid. Mention may be made of water and mixtures of these, with amides being preferred. Reaction conditions such as reaction temperature and reaction time vary depending on the raw materials and solvent used, but are usually room temperature to 50°C,
Preferably at room temperature to 40° C. for several minutes to several days, preferably about 30 minutes to about 20 hours.

E−2工程は4−オキソクロマンカルボン酸類すのカル
ボニル基を、所望により、保護する工程であるが、E−
4工程による、クロマン環2位のアルキル化反応に先立
ち該保護を行なうことが望ましい。保護基としては通常
のカルボニル基の保護基であれば特に限定はなく、該オ
キソ化合物を、たとえば、エノールエーテル類、あるい
は エノールエステル類のような保護されたエノール類
に変換してもよいが、環状もしくは非環状の 4≠孝揃
≠=社≠扛#ケトンアセタール類 もしくはケトンジチ
オアセタール類に変換してもよく、ケトンジチオアセタ
ール類への変換が好ましい。保護されたカルボニル基を
有するクロマンカルボン酸類←l〔式中、R2,B4.
 R5,および B1は前述したものと同意義を示し、
B2は 式−B5−B4−83−を示し、B3は酸素原
子もしくは硫黄原子、好ましくは硫黄原子を示し、B4
はたとえば式−(OH2)2  v式−(an2)5−
Step E-2 is a step of protecting the carbonyl group of 4-oxochromancarboxylic acids, if desired.
It is desirable to carry out this protection prior to the alkylation reaction at the 2-position of the chroman ring in four steps. The protecting group is not particularly limited as long as it is a normal carbonyl group protecting group, and the oxo compound may be converted into protected enols such as enol ethers or enol esters, but It may be converted into cyclic or non-cyclic 4≠Kyosho≠=sha≠扛#ketone acetals or ketone dithioacetals, and conversion to ketone dithioacetals is preferred. Chromancarboxylic acids having a protected carbonyl group←l [wherein R2, B4.
R5 and B1 have the same meanings as described above,
B2 represents the formula -B5-B4-83-, B3 represents an oxygen atom or a sulfur atom, preferably a sulfur atom, and B4
For example, the formula -(OH2)2 v formula -(an2)5-
.

式−(CH2)4−もしくは式−0H2−OH=OH−
OH2−(cis)、好ましくは 式−(CH2)2−
 もしくは式=(CH2)5−ρに式−(OH2)3−
を示す。〕の製造は、通常、4−オキソクロマンカルボ
ン酸類αlと、エチレンクリコール、1.3−プロパン
ジオール、1,2−エタンジチオール、1,3−プロパ
ンジチオール あるいは cis−2−ブテン−1,4
−ジオールのような 1l−B5−B4−B3−)1 
(式中、B3. B4は前述したものと同意義を示す。
Formula -(CH2)4- or formula -0H2-OH=OH-
OH2-(cis), preferably formula -(CH2)2-
Or the formula = (CH2)5-ρ and the formula -(OH2)3-
shows. ] is usually produced using 4-oxochromancarboxylic acids αl and ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-ethanedithiol, 1,3-propanedithiol or cis-2-butene-1,4
-like diol 1l-B5-B4-B3-)1
(In the formula, B3 and B4 have the same meanings as described above.

)で表わされる化合物、好ましくは1,3−プロパンジ
チオール、とを、触媒の存在下もしくは非存在下に脱水
反応させることによって達成される。該触媒としては、
三フッ化ホウ素、そのエーテル錯塩、その酢酸錯塩、塩
化アルミニウムのようなルイス酸;もしくは塩酸、硫酸
のような無機酸類;酢酸、コハク酸、フマール酸、マレ
イン酸、パラトルエンスルホン酸、またはメタンスルホ
ン酸のような有機酸類があげられるが、ルイス酸が好ま
しく、特に 三フッ化ホウ素の酢酸錯塩が好ましい。溶
媒は使用しなくても良いが、溶媒を使用する場合には、
該溶媒としてベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水
素類、クロロホルム、ジクロロメタンのようなハロゲン
化炭化水素類を、好ましくはクロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素類をあげるととができる。化合物■とH
−B3−B4−B6−Hとの割合は特に限定はないが、
化合物o9に対して等モルよりやや過剰のH−B3−B
4−B3−Hを使用するのがよい。好ましくは化合物0
11モルに対して、H−B3−B4−B3−11 1乃
至2モルである。化合物01と触媒との割合は特に限定
はないが、化合物Ql 1モルに対して、触媒 1乃至
4モルである。反応温度、反応時間などの反応条件は用
いられる原料、溶媒の種類によって異なるが、通常 0
℃〜100”C1好ましくは10°乃至40℃で、数分
乃至数日、好ましくは1時間乃至30時間である。
), preferably 1,3-propanedithiol, in the presence or absence of a catalyst. As the catalyst,
Lewis acids such as boron trifluoride, its ether complex, its acetate complex, aluminum chloride; or inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid; acetic acid, succinic acid, fumaric acid, maleic acid, para-toluenesulfonic acid, or methanesulfone Examples include organic acids such as acids, but Lewis acids are preferred, and acetic acid complex salts of boron trifluoride are particularly preferred. It is not necessary to use a solvent, but if a solvent is used,
Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane, and preferably halogenated hydrocarbons such as chloroform. Compound ■ and H
-B3-B4-B6-H ratio is not particularly limited, but
Slightly more than equimolar excess of H-B3-B with respect to compound o9
4-B3-H is preferably used. Preferably compound 0
1 to 2 moles of H-B3-B4-B3-11. The ratio of compound 01 and catalyst is not particularly limited, but is 1 to 4 moles of catalyst per 1 mole of compound Ql. Reaction conditions such as reaction temperature and reaction time vary depending on the raw materials and type of solvent used, but are usually 0.
C. to 100" C1, preferably 10.degree. to 40.degree. C., for several minutes to several days, preferably for 1 hour to 30 hours.

E−3工程は、クロマン環4位が保護されたオキソクロ
マンカルボン酸類(イ)の、同項6位のフェノール性水
酸基を、所望により、保護する工程であるが、E−4工
程による、クロマン環2位のアルキル化反応に先立ち該
保護を行なうことが好ましい。
Step E-3 is a step in which the phenolic hydroxyl group at the 6-position of the chroman ring of the oxochroman carboxylic acid (a) protected at the 4-position of the chroman ring is optionally protected. It is preferable to carry out this protection prior to the alkylation reaction at the 2-position of the ring.

(2B) 水酸基の保護基R釦としては、通常のフェノール性水酸
基の保護基たとえば、メトキシいてもよいベンジル基が
、また、アセチル、ベンゾイルのようなアシル基があげ
られるが、水素化カリウム、水素化カルシウムのような
水素化アルカリもしくはアルカリ土類金属、また、ナト
リウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド、カリウ
ムターシャリ−ブトキサイドのようなアルカリ金属のア
ルコラードなどの塩基類の存在下、クロロメチルメチル
エーテルのようなアルコキシアルキル化剤、もしくはベ
ンジルハライドのようなアルキル化剤を用いることによ
って達成される。該反応において、溶媒としては、たと
えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのよウナエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
のような芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタンのよう
な脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキサイ
ドのようなスルホキサイド類、スルホランのようなスル
ホン類があげられる。化合物c2αと該アルキル化剤と
の割合は、特に限定しないが、翰に対して等モルよシや
\過剰の該アルキル化剤を用いるのがよく、好ましくは
c2α1モルに対して、該アルキル化剤は1乃至2モル
である。
(2B) Protecting groups for hydroxyl groups R buttons include the usual protecting groups for phenolic hydroxyl groups, such as benzyl groups which may be methoxy, and acyl groups such as acetyl and benzoyl, potassium hydride, hydrogen In the presence of bases such as alkali or alkaline earth metal hydrides such as calcium chloride, and alcolades of alkali metals such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide, chloromethyl methyl ether, etc. This is achieved by using an alkylating agent such as alkoxyalkylating agent such as alkoxyalkylating agent or benzyl halide. In this reaction, examples of solvents include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, dimethylformamide and dimethyl Examples include amides such as acetamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and sulfones such as sulfolane. The ratio of the compound c2α and the alkylating agent is not particularly limited, but it is preferable to use an equimolar or excess amount of the alkylating agent with respect to the amount of the alkylating agent, and preferably the alkylating agent is The amount of the agent is 1 to 2 moles.

反応温度、反応時間などの反応条件は、用14にする。Reaction conditions such as reaction temperature and reaction time are as specified in Table 14.

このようにして保護されたクロマンカルボン酸類Qυは
単離することもできるが単離することなくE−4工程で
使用することもできる。
The thus protected chromancarboxylic acids Qυ can be isolated or used in Step E-4 without being isolated.

E−4工程は、所望に応じて、クロマン環6位に保護さ
れた水酸基、同項4位に保護されたカルボニル基、同項
2位にR1′を有するクロマンカルボン酸類(221を
製造する工程で、クロマン環6位に保護された水酸基、
同項4位に保護されたカルボニル基を有するクロマンカ
ルボン酸類(2+1を不活性溶媒中、塩基と処理し、反
応液中にカルバニオンを発生させた後、一般式R” −
X’ (式中、 1/  は前述したものと同章義を示し、X
′は塩累、臭素、沃素のようなハロゲン原子又はメタン
スルホニルオキン、エタンスルホニルオキシ、ベンゼン
スルホニルオキシ、p−)ルエンスルホニルオキシのヨ
ウナスルホニルオキシ基を示す。) を有する化合物を反応させることによって達成される。
Step E-4 is a process for producing chromancarboxylic acids (221) having a hydroxyl group protected at the 6-position of the chroman ring, a carbonyl group protected at the 4-position of the same term, and R1' at the 2-position of the same term, as desired. , a hydroxyl group protected at the 6-position of the chroman ring,
Chromancarboxylic acids (2+1) having a protected carbonyl group at the 4-position of the same term are treated with a base in an inert solvent to generate a carbanion in the reaction solution, and then the general formula R'' -
X' (In the formula, 1/ indicates the same meaning as mentioned above,
' represents a salt, a halogen atom such as bromine or iodine, or a ionasulfonyloxy group such as methanesulfonyloquine, ethanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy or p-)luenesulfonyloxy. ) is achieved by reacting a compound having

使用される塩基としては、例えば、メチルリチウム、n
−ブチルリチウム、1、−ブチルリチウム、フェニルリ
チウムのような有機リチウム化合物;リチウムジイソプ
ロピルアミド、リチウムジシクロへキシルアミド、リチ
ウムイソプロピル シクロヘキシルアミドなどのような
リチウムジアルキルアミド類;または、水素化リチウム
、水素化すl・リウム、水素化カリウムなどのような水
素化アルカリ金属類をあげることができるが、好適には
有機リチウム化合物、またはリチウムジアルキルアミド
類である。
Bases used include, for example, methyllithium, n
-organolithium compounds such as butyllithium, 1,-butyllithium, phenyllithium; lithium dialkylamides such as lithium diisopropylamide, lithium dicyclohexylamide, lithium isopropyl cyclohexylamide, etc.; or lithium hydride, hydride Alkali metal hydrides such as l.lium and potassium hydride can be mentioned, but organic lithium compounds or lithium dialkylamides are preferred.

使用される不活性溶剤としては反応に関与しなければ特
に限定されないが、例えば、エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類が好適に使用され
る。
The inert solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, but ethers such as ether, tetrahydrofuran, and dioxane are preferably used.

反応温度は前段のアニオンの発生では、す、反応に要す
る時間は前段では30分間乃至2時間であシ、後段では
1時間乃至24 時間である。
The reaction temperature is determined by the generation of anions in the first stage, and the time required for the reaction is 30 minutes to 2 hours in the first stage, and 1 hour to 24 hours in the second stage.

なお、所望に応じて、R1が水素原子であるクロマンカ
ルボンH’$Guを用い、E−4工程を経由することな
く、直接にE−5工程に準じた還元反応並びに以降に示
した各反応を実施することにより、R1が水素原子であ
る 目的化合物、史(w : )−〇、 R,1:H)
・ を製造することができる。
In addition, if desired, using chromancarvone H'$Gu in which R1 is a hydrogen atom, a reduction reaction according to Step E-5 and each reaction shown below can be carried out directly without going through Step E-4. By carrying out, the target compound where R1 is a hydrogen atom, history (w: )-〇, R,1:H)
・ Can be manufactured.

E−5工程は、クロマン−2−カルボン酸類(221を
、A−1工程に準じて、対応するアルコール類(ハ)に
還元する工程であシ、還元剤としては、たとえばリチウ
ム アルミナム ハイドライド、ビトライド(ソデイウ
ム ビス〔2−メトキシ エトキシ〕アルミナム ハイ
ドライド)などのようなハイドライド類が使用される。
Step E-5 is a step of reducing chroman-2-carboxylic acids (221) to the corresponding alcohols (c) according to step A-1, and examples of the reducing agent include lithium aluminum hydride and vitride. (Sodium bis[2-methoxy ethoxy] aluminum hydride) and the like are used.

還元反応で使用される溶媒としては、たとえば、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコール
ジメチルエーテルのようなエーテル類、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサン、
ヘプタン、シクロヘキサン、石油エーテル、リグロイン
、エチルシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類、な
どがあげられる。
Examples of the solvent used in the reduction reaction include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and ethylene glycol dimethyl ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, hexane,
Examples include aliphatic hydrocarbons such as heptane, cyclohexane, petroleum ether, ligroin, and ethylcyclohexane.

化合物に)と還元剤の割合は特に限定はないが、化合部
Q2に対してやや過剰の還元剤を使用するのが良い。好
ましくは、化合物(2211モルに対して、1〜2モル
である。反応温度、反応時間などの反応条件は用いられ
る原料、E−6エ程は、E−5工程で得られたアルコー
ル類(ハ)に基+No2を導入する工程である。該工程
は化合物9に、通常、塩基たとえば、水素化ナトリウム
、水素化カルシウムのような水素化アルカリもしくはア
ルカリ土類金属、また、ナトリウムメトキサイド、ナト
リウムエトキサイド、カリウムターシャリ−ブトキサイ
ドのようなアルカリ金属のアルコラード、好適には水素
化ナトリウム、もしくはナトリウムエトキサイドを反応
させて、化合物(ハ)を対応するアルコキサイドとし、
これに一般式X −()No、2  (式中、Xは前述
したものと同意義を示す。)を有する化合物を反応させ
ることによって達成される。
Although there is no particular limitation on the ratio of the compound) and the reducing agent, it is preferable to use a slight excess of the reducing agent with respect to the compound portion Q2. Preferably, the amount is 1 to 2 moles per 2211 moles of the compound (2211 moles).The reaction conditions such as reaction temperature and reaction time are based on the raw materials used, and the alcohols ( This is a step of introducing a group +No2 into compound 9. This step is usually a step of introducing a group +No2 into compound 9. ethoxide, an alkali metal alkoxide such as potassium tert-butoxide, preferably sodium hydride, or sodium ethoxide to form the compound (c) into the corresponding alkoxide;
This is achieved by reacting this with a compound having the general formula X-()No,2 (wherein, X has the same meaning as described above).

該反応において、溶媒としては、たとえばジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよ
うなアミド類、ジメチルスルホキサイドのようなスルホ
キサイド類、スルホランのようなスルホン類があけられ
るがアミド類が好適に使用される。化合物C!五と塩基
との割合は特に限定はないが、化合物□□□に対して、
やや過剰の塩基を使用するのが良く、好ましくは化合物
(2311モルに対して塩基1乃至2モルである。化合
物(231と 化合物X+N02との割合は特に限定は
ないが、化合物Q31に対1乃至10モルである。反応
温度、反応時間などの反応条件は、用いられる原料、溶
媒などによって異なるが、通常 30°乃至100 η
で数分乃至数時間である。
In this reaction, examples of the solvent include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, dimethylformamide, Amides such as dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and sulfones such as sulfolane can be used, but amides are preferably used. Compound C! There is no particular limitation on the ratio of 5 and base, but for compound □□□,
It is better to use a slight excess of base, preferably 1 to 2 moles of base per mole of compound (2311).The ratio of compound (231 to compound 10 mol.Reaction conditions such as reaction temperature and reaction time vary depending on the raw materials and solvent used, but are usually 30° to 100 η.
It takes several minutes to several hours.

本工程で得られた、クロマン環4位に保護されたカルボ
ニル基を有するニトロ化合物24は、D−2,D−3,
D−4で示される還元反応、メイルパイン アリ−レイ
ジョン、チオ尿素との反応を経て目的化合物(、、!2
(W : >−o )へと段階的に変換されるが、該ク
ロマン環4位に関する脱保護反応は上記いずれの段階で
実施してもよく、例えば好ましい方法の一つとして、E
−7に示す工程をあげることができる。
The nitro compound 24 having a protected carbonyl group at the 4-position of the chroman ring obtained in this step is D-2, D-3,
The target compound (,,!2
(W: >-o), but the deprotection reaction regarding the 4-position of the chroman ring may be carried out at any of the above steps. For example, as one of the preferred methods, E
The process shown in -7 can be mentioned.

E−7エ程は、所望に応じて、クロマン環6位に保護さ
れた水酸基、4位に保護されたカルボニル基を有するニ
トロ体(241の脱保護を行なう工程である。本工程に
おいては、通常4位の脱保護反応が実施されるが、や〜
過激な反応条件を設定することにより、同6位の脱保護
を、同時に達成することが可能である。
Step E-7 is a step in which a nitro compound (241) having a protected hydroxyl group at the 6-position of the chroman ring and a protected carbonyl group at the 4-position is deprotected as desired. In this step, Usually, a deprotection reaction at position 4 is carried out, but
By setting radical reaction conditions, it is possible to simultaneously achieve deprotection of the 6-position.

脱保護剤としては、特に限定はないが、通常の脱保護剤
、たとえば、塩酸、硫酸のようなプロトン酸;三フッ化
ホウ素、そのエーテル錯塩、その酢酸錯塩、塩化アルミ
ニウムのようなルイス酸;特にB6が硫黄原子の場合、
重金属塩類、重金属酸化物 または 重金属酸化物; 
またはこれらの2者もしくは3者の混合物があげられ;
 重金属イオンとしては 銀、カドミウム、二価の水銀
、二価の銅、三価のタリウムがあげられ;重金属イオン
の対イオンとしては、塩素、臭素、ヨウ累のようなハロ
ゲンイオン、硝酸イオン、過塩、素酸イオンのような過
酸化物イオンがあげられ;その他ヨウ素、スルフリルク
ロリドのようなスルフリルハライド類、N−クロロサク
シンイミド、N−プロモサクシンイミドのようなN−ハ
ロイミド類があげられるが、好適には塩化第二水銀、あ
るいは 酸化水銀、あるいはそれらの混合物、特にその
混合物である。使用される溶媒としては、メタノール、
エタノール プロパツール イソプロパツールのような
アルコール類、アセトン、メチルエチルケトンのよりな
ケトン類、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエ
タンのようなハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸のような有機
酸類、アセトニトリルのようなニトリル類、および水、
並びにこれらの混合溶媒をあげることができる。
The deprotecting agent is not particularly limited, but common deprotecting agents include protonic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid; boron trifluoride, its ether complex salts, its acetate complex salts, and Lewis acids such as aluminum chloride; Especially when B6 is a sulfur atom,
Heavy metal salts, heavy metal oxides or heavy metal oxides;
or a mixture of two or three of these;
Heavy metal ions include silver, cadmium, divalent mercury, divalent copper, and trivalent thallium; counter ions to heavy metal ions include halogen ions such as chlorine, bromine, and iodine, nitrate ions, and peroxide ions. Other examples include iodine, sulfuryl halides such as sulfuryl chloride, and N-halimides such as N-chlorosuccinimide and N-promosuccinimide. , preferably mercuric chloride, or mercury oxide, or mixtures thereof, especially mixtures thereof. The solvent used is methanol,
Ethanol propatool Alcohols such as isoproptool, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane and dichloroethane, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, and organic acids such as acetic acid. , nitriles such as acetonitrile, and water,
Also, mixed solvents thereof can be mentioned.

化合物Q沿と脱保護剤との割合は特に限定はなく、通常
 C!411モルに対して 脱保護剤1乃至10モル、
好適には1乃至4モルである。
The ratio of compound Q and deprotecting agent is not particularly limited, and is usually C! 1 to 10 moles of deprotecting agent per 411 moles,
The amount is preferably 1 to 4 moles.

反応温度、反応時間などの反応条件は、用いられる原料
および溶媒などによって異なるが、通常室温乃至100
℃、好適には40乃至80℃で、数分乃至数時間、好適
には05乃至4時間である。
Reaction conditions such as reaction temperature and reaction time vary depending on the raw materials and solvent used, but are usually room temperature to 100 ℃.
C., preferably 40 to 80.degree. C., for a few minutes to several hours, preferably 0.5 to 4 hours.

以後、得られる化合物空を用いてD−2工程以下の方法
に準じた方法を逐次月見・ることによって目的化合物、
史(W ; )=o ) f)製造が達成される。
Thereafter, using the obtained compound blank, the target compound,
History (W; )=o) f) Manufacture is achieved.

F法 F法は、Wがメチレン基である目的化合物、(Q(W 
; 〉。I42)、をD法に関する記載において示した
、Wがカルボニル基である化合物06)力1ら製造する
のに有利に使用されろ。
Method F Method F is a method for preparing a target compound in which W is a methylene group, (Q(W
;〉. I42) may be advantageously used to prepare the compounds 06) and 1 shown in the description of process D, in which W is a carbonyl group.

拳法によって、以下に示すように、化合物岬は中間体(
6)に導かれる。(F−1→F−5)式中、R1,B2
. B3. R4,R5,およびnは前述したものと同
意義を示し、眺′はR3の定義より水素原子を除外した
ものを示す。
By Kenpo, the compound cape is an intermediate (
6). (F-1→F-5) In the formula, R1, B2
.. B3. R4, R5, and n have the same meanings as described above, and 'view' indicates that the hydrogen atom is excluded from the definition of R3.

F−1工程は、ニトロ基を有する4−オキソクロマン化
合物Oeを、対応する4−ヒドロキシ化合物(ハ)に還
元する工程である。還元剤としては、水素化ホウ素ナト
リウム、k−セレクトライドのような還元剤があげられ
、特に水素化ホウ素ナトリウムで該還元反応は好適に達
成される。
Step F-1 is a step of reducing the 4-oxochroman compound Oe having a nitro group to the corresponding 4-hydroxy compound (c). Examples of the reducing agent include reducing agents such as sodium borohydride and k-selectride, and the reduction reaction is particularly preferably achieved with sodium borohydride.

化合物(161と水素化ホウ素す) IJウムとの反応
は通常溶媒中で行なわれる。該溶媒としては、たとえば
メタノール、エタノール、ブロノくノール、フタノール
、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコ
ール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類などがあげられる。化合物(161と水素化ホウ素
す) IJウムとの使用モル比は特に限定されないが、
化合物Q61に対して過剰の水素化ホウ素ナトリウムを
使用するのがよい。好ましくは化合物(1611モルに
対し1〜20モルである。
The reaction between compound (161 and boron hydride) IJium is usually carried out in a solvent. Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, bronokol, phthanol, and ethylene glycol monomethyl ether, and ethers such as tetrahydrofuran and dioxane. The molar ratio of the compound (161 and boron hydride) to IJium is not particularly limited, but
It is advisable to use an excess of sodium borohydride relative to compound Q61. Preferably, the amount is 1 to 20 mol per 1611 mol of the compound.

反応温度、反応時間などの反応条件は用いられる原料、
溶媒などによシ異なるが、通常反応は0乃至100℃で
1時間乃至約20時間である。
Reaction conditions such as reaction temperature and reaction time depend on the raw materials used,
The reaction usually takes place at 0 to 100° C. for 1 to about 20 hours, although it varies depending on the solvent and the like.

F−2工程は、所望に応じて、該ヒドロキ 、シ体Q6
1をアシル化する工程である。
In the F-2 step, as desired, the hydroxyl, cycloisomer Q6
This is the step of acylating 1.

化合物(ハ)は酸ノ・ロゲン化物あるいは酸無水物のよ
うなアシル化剤と反応させることによって、目的とする
了シル化物翰に変換することができる。
Compound (c) can be converted into the desired acylated compound by reacting with an acylating agent such as an acid chloride or an acid anhydride.

反応は通常溶媒中で行なわれる。使用される溶媒として
は、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタ
ンのような脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロ
ホルムのようなノ・ロゲン化炭化水素類、ピリジン、ト
リエチルアミンのような有機塩基類、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジメチ
ルスルホキサイドのようなスルホキサイド類、スルホラ
ンのようなスルホン類などがあげられる。
The reaction is usually carried out in a solvent. Solvents used include ethers such as ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, dichloromethane and chloroform. Examples include chlorogenated hydrocarbons such as pyridine, organic bases such as triethylamine, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and sulfones such as sulfolane. It will be done.

化合物(イ)とアシル化剤の割合は特に限定はないが、
化合物(イ)に対して等モルよりやや過剰のアシル化剤
を使用するのがよい。好ましくは化合物@1モルに対し
、アシル化剤1〜10モルである。反応温度、反応時間
などの反応条件は用いられる原料、溶媒の種類によって
異なるが、通常0乃至100″Cで、数分乃至約20時
間である。
The ratio of compound (a) and acylating agent is not particularly limited, but
It is preferable to use the acylating agent in a slightly more than equimolar excess with respect to compound (a). Preferably, the amount of the acylating agent is 1 to 10 mol per 1 mol of the compound. Reaction conditions such as reaction temperature and reaction time vary depending on the raw materials and type of solvent used, but are usually 0 to 100''C and several minutes to about 20 hours.

F−3工程は、ニトロ基を有する4−ヒドロキシクロマ
ン化合物geから水を脱離させることによって、 2H−クロメン類L2ηを製造する工程である。
Step F-3 is a step for producing 2H-chromenes L2η by eliminating water from the 4-hydroxychroman compound ge having a nitro group.

該脱離反応は、脱水剤もしくは 脱水触媒の、存在下も
しくは非存在下に達成される。
The elimination reaction is accomplished in the presence or absence of a dehydrating agent or catalyst.

脱水剤もしくは脱水触媒として、塩酸、硫酸、硝酸、リ
ン酸のような無機酸類、酢酸、コハク酸、マレイン酸の
ような有機酸類、パラトルエンスルホン酸、ナフタレン
スルホン酸、メタンスルホン酸のようなスルホン酸類、
塩化アンモニウム、塩化カルシウムなどの無機塩類、五
酸化リン、ポリリン酸、シリカゲル、アルミナ等があげ
られるが、酢酸などの有機酸類、パラトルエンスルホン
酸などのスルホン酸類が好適である。
As a dehydrating agent or dehydrating catalyst, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, succinic acid, and maleic acid, and sulfonic acids such as paratoluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, and methanesulfonic acid. acids,
Examples include inorganic salts such as ammonium chloride and calcium chloride, phosphorus pentoxide, polyphosphoric acid, silica gel, and alumina, but organic acids such as acetic acid and sulfonic acids such as para-toluenesulfonic acid are preferred.

該脱離反応に際して、溶媒は使用しなくてもよいが、溶
媒を使用する場合は、メタノール、エタノール、イソプ
ロパツールのようなアルコール類、アセトン、メチル 
エチル−ケトンのよりなケトン類、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン
、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキ
サン、シクロヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水
素類、ジクロロメタン、クロロホルムのよりなノ10ゲ
ン化炭化水素類、酢酸、プロピオン酸などの有機酸類、
ピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミ
ド類、ジメチルスルホキサイドのようなスルホキサイド
類、スルホランのようなスルホン類、水などがあげられ
、好適にはベンゼンのような芳香族炭化水素類もしくは
酢酸のような有機酸類があげられる。脱水剤、もしくは
 脱水触媒を使用する場合は、化合物Q6)と脱水剤、
もしくは脱水触媒との割合は、特に限定はないが、通常
化合物001モルに対して 該脱水剤も1〜くは脱水触
媒は001乃至10モル、好適には、01乃至3モルで
ある。反応温度、反応時間などの反応条件は用いられる
原料、溶媒の種類によって異なるが、通常0乃至1oo
”cで、数分乃至約20時間である。
It is not necessary to use a solvent during the elimination reaction, but if a solvent is used, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, acetone, methyl
Ketones such as ethyl-ketone, ethers such as ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, dichloromethane, Hydrocarbons such as chloroform, organic acids such as acetic acid and propionic acid,
Examples include organic bases such as pyridine and triethylamine, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, sulfones such as sulfolane, and water. Preferred examples include benzene and the like. Examples include aromatic hydrocarbons and organic acids such as acetic acid. When using a dehydrating agent or a dehydrating catalyst, compound Q6) and the dehydrating agent,
The ratio of the dehydrating agent to the dehydrating catalyst is not particularly limited, but is usually 1 to 10 moles, preferably 01 to 3 moles, per 001 moles of the compound. Reaction conditions such as reaction temperature and reaction time vary depending on the raw materials and type of solvent used, but are usually 0 to 100 m
”c, from a few minutes to about 20 hours.

F−4工程は、ニトロ基を有する4−アシことによって
、2H−クロメン類+271を製造する工程である。
Step F-4 is a step for producing 2H-chromenes +271 by converting 4-acyl having a nitro group.

該脱離反応は、脱酸剤もしくは脱酸触媒の′ 存在下も
しくは非存在下に達成される。
The elimination reaction is accomplished in the presence or absence of a deoxidizing agent or deoxidizing catalyst.

脱酸剤、もしくは脱酸触媒として、塩酸、硫酸、硝酸、
リン酸のような無機酸類、酢酸、コハク酸、マレイン酸
のような有機酸類、パラトルエンスルホン酸、ナフタレ
ンスルホン酸、メタンスルホン酸のようなスルホン酸類
、塩化アンモニウム、塩化カルシウムのような無機塩類
、ピリジン、トリエチルアミン、のような有機塩基類、
シリカゲル、アルミナ等があげられるが、好適には酢酸
などの有機酸類、パラトルエンスルホン酸などのスルホ
ン酸類があげられる。
Hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid,
Inorganic acids such as phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, succinic acid, maleic acid, sulfonic acids such as para-toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, methanesulfonic acid, inorganic salts such as ammonium chloride, calcium chloride, organic bases such as pyridine, triethylamine,
Examples include silica gel and alumina, and preferred examples include organic acids such as acetic acid and sulfonic acids such as para-toluenesulfonic acid.

該脱酸反応に際して、溶媒は使用しなくてもよいが、溶
媒を使用する場合には、メタノール、エタノール、イソ
プロパツールのようなアルコール類、アセトン、メチル
 エチルケトンのよりなケトン類、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン
、トルエン、キシレンのヨウナ芳香族炭化水素類、ヘキ
サン、シクロヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水
素類、ジクロロメタン、クロロホルムのようなノ10ゲ
ン化炭化水素類、酢酸、プロピオン酸などの有機酸類、
ピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミ
ド類、ジメチ 。
In the deacidification reaction, it is not necessary to use a solvent, but if a solvent is used, alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, ether, and tetrahydrofuran are used. , ethers such as dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, 10-genated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, acetic acid. , organic acids such as propionic acid,
Organic bases such as pyridine and triethylamine, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, and dimethylene.

ルスルホキサイドのようなスルホキサイド類、スルホラ
ンのようなスルホン類、水などがあケラレ、好適にはベ
ンゼンのような芳香族炭化水素類、もしくは酢酸のよう
な有機酸類があげられる。
Preferred examples include sulfoxides such as sulfoxide, sulfones such as sulfolane, water, etc., aromatic hydrocarbons such as benzene, or organic acids such as acetic acid.

脱酸剤もしくは脱酸触媒を使用する場合は、化合物c2
81と脱酸剤もしくは脱酸触媒との割合は、特に限定は
ないが、通常、化合物@1モルに対して、該脱酸剤もし
くは 脱酸触媒は001モル乃至10モル、好適には、
01  乃至3モルである。反応温度、反応時間などの
反応条件は用いられる原料、溶媒の種類などによって異
なるが、通常、0乃至120℃、好適には40°乃至1
00℃で、数分乃至数日、好適には、10分乃至10時
間である。
When using a deoxidizing agent or deoxidizing catalyst, compound c2
The ratio of 81 to the deoxidizing agent or deoxidizing catalyst is not particularly limited, but usually the deoxidizing agent or deoxidizing catalyst is 0.001 to 10 mol per 1 mol of the compound, preferably,
01 to 3 moles. Reaction conditions such as reaction temperature and reaction time vary depending on the raw materials used and the type of solvent, but are usually 0 to 120°C, preferably 40° to 120°C.
00° C. for several minutes to several days, preferably 10 minutes to 10 hours.

F−5工程は、ニトロ基を有する2H−クロメン類(5
)のニトロ基および炭素・炭素二重結合を同時に、還元
することによりアミン基を有するクロマン類(6)を製
造する工程である。
In the F-5 step, 2H-chromenes (5
This is a process for producing chromans (6) having an amine group by simultaneously reducing the nitro group and carbon-carbon double bond of ).

該還元反応には、接触還元法が好適に使用される。接触
還元に用いられる触媒はパラジウム−炭素、ラネーニッ
ケル、酸化白金などがあげられるが、好ましくは、パラ
ジウム−炭素である。水素圧は1気圧乃至100気圧で
あるが、1気圧乃至6気圧が好ましい。溶媒としては、
メタノール、エタノールのよウナよびこれらのものの混
合物があげられる。反応温度、反応時間は用いられる原
料、溶媒によって異なるが、通常室温乃至50″Cで数
分乃至約20時間である。
A catalytic reduction method is preferably used for the reduction reaction. Examples of the catalyst used in the catalytic reduction include palladium-carbon, Raney nickel, and platinum oxide, but palladium-carbon is preferable. The hydrogen pressure is from 1 atm to 100 atm, preferably from 1 atm to 6 atm. As a solvent,
Examples include methanol, ethanol, and mixtures of these. The reaction temperature and reaction time vary depending on the raw materials and solvent used, but are usually at room temperature to 50''C for several minutes to about 20 hours.

以後、得られる化合物(6)を用いてA−4工程によっ
て、α−ノ10ゲノカルボン酸誘導体類(7)の製造が
達成される。
Thereafter, the production of α-no-10-genocarboxylic acid derivatives (7) is achieved by using the obtained compound (6) in step A-4.

なお、F−1,F−2,F−3,F−4゜F−5,A−
4および/もしくは、目的とするチアゾリジン誘導体を
製造する最終工程は順次、所望に応じて、中間体(ハ)
、 @、 @、 (6)。
In addition, F-1, F-2, F-3, F-4°F-5, A-
4 and/or the final step of producing the desired thiazolidine derivative, if desired, the intermediate (c)
, @, @, (6).

および/あるいは(7)を単離することな〈実施し得る
and/or (7) may be carried out without isolation.

また、なお、たとえばF法で示した工程は、示された順
序に限定されることはない。すなわち、たとえば、クロ
マン環4位がカルボニル基である化合物Oeの有するニ
トロ基を最初基であるチアゾリジン誘導体で特にYおよ
びZが共に酸素原子である化合物0jを、Wがメチレン
基である化合物(□□□に変換するものである。
Furthermore, the steps shown in Method F, for example, are not limited to the order shown. That is, for example, a thiazolidine derivative whose initial group is a nitro group possessed by a compound Oe in which the 4th position of the chroman ring is a carbonyl group, especially a compound 0j in which Y and Z are both oxygen atoms, and a compound in which W is a methylene group (□ □□.

式中、R’、 1N2. R3,R” 、 R’、 R
5およびnは前述したものと同意義を示す。
In the formula, R', 1N2. R3, R'', R', R
5 and n have the same meanings as described above.

本工程は、目的化合物の1つであるWがカルボニル基、
YとZが共に酸素原子であるチアゾリジン誘導体0りを
、水素化ホウ素ナトリウム、K−セレクトライドのよう
な還元剤、特に水素化ホウ素ナトリウムで還元し、必要
示す。)であるチアゾリジン誘導体04へ変換せしめる
ものであり、その詳細は前号2の記載と同等である。
In this step, one of the target compounds, W, is a carbonyl group,
A thiazolidine derivative in which both Y and Z are oxygen atoms is reduced with a reducing agent such as sodium borohydride or K-selectride, particularly sodium borohydride, to give the desired effect. ) is converted into thiazolidine derivative 04, the details of which are the same as those described in the previous issue 2.

本工程は、I(−1に次いで、クロマン環4位の一0R
3′(式中、R5!″は前述と同意義を示す。)を脱離
せしめ、クロマン環3および4位が炭素・炭素二重結合
であるチアゾリジン誘導体C351とするものである。
In this step, I(-1, then -10R at the 4-position of the chroman ring
3' (in the formula, R5!'' has the same meaning as described above) is removed to form a thiazolidine derivative C351 in which the 3 and 4 positions of the chroman ring are carbon-carbon double bonds.

その詳細は、本発明におけるF−3および/もしくはF
−、−4工程に準するものである。
The details are F-3 and/or F in the present invention.
This is similar to the steps - and -4.

本工程は、H−2に次いで、該二重結合を還元するもの
であ)、本工程によって目的化合物の1つである、(1
)式においてWがメチレン基;YおよびZが共に酸素原
子であるチアゾリジン錦導体C3lI+)が製造される
。その詳細は、本発明におけるF−5工程(但し、F−
5工程はニトロ基の還元反応も同時に行なうものである
。)に準するものである。
This step reduces the double bond next to H-2), which is one of the target compounds (1
A thiazolidine brocade conductor C3lI+) in which W is a methylene group and Y and Z are both oxygen atoms is produced. The details are as follows: F-5 step in the present invention (however, F-5 step
In Step 5, the reduction reaction of the nitro group is also carried out at the same time. ).

本発明に係る、R3および/もしくはR3′が水素原子
であるチアゾリジン誘導体については、通常の方法によ
って、対応するエステル類に誘導することができる。
The thiazolidine derivatives according to the present invention in which R3 and/or R3' are hydrogen atoms can be converted into corresponding esters by conventional methods.

本発明を構成する、チアゾリジン誘導体filの製造方
法、すなわち、B、  O,E、  F、 Gおよび 
H法のうち、好ましいものは0.E。
A method for producing a thiazolidine derivative fil constituting the present invention, namely B, O, E, F, G and
Among the H methods, the preferred one is 0. E.

F およびH法;さらに好ましいものはC9F および
H法;特に好ましいものはFおよび■(法である。
Methods F and H; more preferred are methods C9F and H; particularly preferred are methods F and (2).

該化合物(+1において、クロマン環の2位およびチア
ゾリジン環5位の炭素原子はそれぞれ不斉炭素原子であ
シ、それらに基づく各異性体もまた(1)式に包含され
る。
In the compound (+1), the carbon atoms at the 2-position of the chroman ring and the 5-position of the thiazolidine ring are asymmetric carbon atoms, and each isomer based thereon is also included in formula (1).

本発明に係る方法によって、たとえば、次表に示すよう
な構造式を有する、好ましい化合物を製造することがで
きる。
By the method according to the invention, preferred compounds can be produced, for example, having the structural formulas shown in the following table.

(略号:たとえば、1−Me、 butyl等は(5B
) 以下に実施例および参考例を上げて本発明をさらに具体
的に説明する。
(Abbreviations: For example, 1-Me, butyl, etc. are (5B
) The present invention will be described in more detail below with reference to Examples and Reference Examples.

NMRスペクトルに関する略号、nd、は他シグナル 
または 溶媒等のシグナルと重なり、実施例1(0−4
) エチル 6−ヒドロキシ−5,7,8−) IJメチル
クロモン−2−カルボキシレート14.9を酢酸320
m1にとかし、10%パラジウム炭素35gの存在下、
水素圧3気圧、  60〜65℃で1時間接触還元した
。該触媒を戸別し、ろ液を水中にあけ析出した白色結晶
を戸数した。仁の目的物の融点は108〜109℃であ
った。
Abbreviations related to NMR spectra, nd, indicate other signals.
Or overlapped with the signal of solvent etc., Example 1 (0-4
) Ethyl 6-hydroxy-5,7,8-) IJ methylchromone-2-carboxylate 14.9 to acetic acid 320
m1, in the presence of 35 g of 10% palladium on carbon,
Catalytic reduction was carried out at 60 to 65° C. for 1 hour under a hydrogen pressure of 3 atm. The catalyst was poured into each household, and the filtrate was poured into water to collect the precipitated white crystals. The melting point of the target product was 108-109°C.

NMRスペクトル(δ  、 aDai3) :29m 1.28 (3H、t 、 J=7Hz) 。NMR spectrum (δ, aDai3): 29m 1.28 (3H, t, J=7Hz).

2.01(3Hl s) + 2.17(6H,S)。2.01 (3Hl s) + 2.17 (6H, S).

1.9〜2.3(2H,nd) 。1.9-2.3 (2H, nd).

2.65(2H,br、t、J=7Hz)。2.65 (2H, br, t, J=7Hz).

4.22 (2H、q 、 J=711z) 。4.22 (2H, q, J=711z).

4.1〜4.3(IH,nd)。4.1-4.3 (IH, n.d.).

4.60(IH,dd、J==7および4Hz)実施例
2(0−5) エチル 6−メドキシメトキシー5.7.8− )エチ
ル 6−ヒドロキシ−5,7,8−) IJメチルクロ
マン−2−カルボキシレート143g、ジメチルホルム
アミド130 mlの混合物に、窒素気流下、5−IQ
”Cで55%油性水素化ナトリウム3g(シクロヘキサ
ンで2回洗う)を少しずつ加える。室温で1時間かきま
ぜたのち、3〜5℃に氷冷し、クロロメチルメチルエー
テル5.6gを滴下する。滴下終了後室温で1時間かき
まぜる。
4.60 (IH, dd, J==7 and 4Hz) Example 2 (0-5) Ethyl 6-Medoxymethoxy5.7.8-) Ethyl 6-hydroxy-5,7,8-) IJ 5-IQ was added to a mixture of 143 g of methylchroman-2-carboxylate and 130 ml of dimethylformamide under a nitrogen stream.
Add 3 g of 55% oily sodium hydride (washed twice with cyclohexane) little by little at room temperature. After stirring at room temperature for 1 hour, ice-cool to 3-5° C. and dropwise add 5.6 g of chloromethyl methyl ether. After the addition is complete, stir at room temperature for 1 hour.

反応混合物を氷水に注ぎ、シクロヘキサンで抽出する。The reaction mixture is poured into ice water and extracted with cyclohexane.

抽出液を水で洗い、無水硫酸す) IJウムで乾燥した
。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶離液;ベンゼン:酢酸エチル=25
 : 1 )に付し、目的化合物を得た。
The extract was washed with water and dried over anhydrous sulfuric acid. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent; benzene:ethyl acetate = 25
: 1) to obtain the target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのRf値=041(
展開溶剤;ベンゼン:酢酸エチル−20:NMRスペク
トル(δ  、cnai3):29m 1.27 (3H、t 、 J=7)1z) 。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 041 (
Developing solvent; benzene: ethyl acetate-20: NMR spectrum (δ, cnai3): 29m 1.27 (3H, t, J=7) 1z).

2.0−2.4 (2H、nd ) 。2.0-2.4 (2H, nd).

2.15(3H,8)。2.15 (3H, 8).

2.16(3H,8)。2.16 (3H, 8).

2.2(3H,s)。2.2 (3H, s).

2、64 (2H、b r、 t 、J−7Hz ) 
+3.61 (3H,S)。
2,64 (2H, br, t, J-7Hz)
+3.61 (3H, S).

4.117(2H,s)。4.117 (2H, s).

実施例3(C−6) ジイソプロピルアミン4,6gのテトラヒドロフラン1
00 ml溶液に−20〜−10℃でn−プチルリチシ
−5,7,8−)ジメチルクロマン−2−カルボキシレ
ート2gのテトラヒドロフラン10 ml溶液を滴下し
同温で2時間攪拌した。臭化イソブチル10gを滴下し
室温で一夜放置後、40”Cで4時間加熱した。反応混
合物を減圧下に濃縮し、水および酢酸エチルを加え有機
層を分液、水洗し無水硫酸ソーダ上で乾燥した。溶媒を
留去して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶離液;ヘキサン:酢酸エチル= 7:1)に付し目的
物を得た。
Example 3 (C-6) 4.6 g of diisopropylamine 1 of tetrahydrofuran
A solution of 2 g of n-butyrrhizic-5,7,8-)dimethylchroman-2-carboxylate in 10 ml of tetrahydrofuran was added dropwise to the 00 ml solution at -20 to -10°C, and the mixture was stirred at the same temperature for 2 hours. 10 g of isobutyl bromide was added dropwise and left overnight at room temperature, then heated at 40"C for 4 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, water and ethyl acetate were added, and the organic layer was separated, washed with water and poured over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off and the residue was subjected to silica gel column chromatography (
The desired product was obtained by using an eluent (hexane:ethyl acetate = 7:1).

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのRf値二0.59
(展開溶剤;ヘキサン:酢酸エチル:トルエン=3:1
:1) NMRスペクトル(δ  ODO氾、):ppm+ 0.9〜1.3(9H,nd) 。
Rf value of silica gel thin layer chromatography 20.59
(Developing solvent; hexane: ethyl acetate: toluene = 3:1
:1) NMR spectrum (δ ODO flood, ): ppm+ 0.9-1.3 (9H, nd).

1.4〜2.7(7H,nd) 。1.4-2.7 (7H, nd).

2.10(3H,s)。2.10 (3H, s).

2.16(3H,s)。2.16 (3H, s).

2.20(3H,s)。2.20 (3H, s).

3.60(3H,8)。3.60 (3H, 8).

4.12 (2H、q 、 J=7tlz) 。4.12 (2H, q, J=7tlz).

4.86(2H,s)。4.86 (2H, s).

実施例4(g−1) 上 エチル 6−ヒドロキシ−5,乙8− ) IJメチル
クロモン−2−カルボキシレート1フウム炭素16gの
存在下、水素圧5気圧、50〜60℃で7時間接触還元
した。該触媒を沖去し、p液を大量の水に注ぎ、析出し
た結晶を戸数した。
Example 4 (g-1) ethyl 6-hydroxy-5, 8-) IJ methylchromone-2-carboxylate catalytic reduction in the presence of 16 g of carbon at a hydrogen pressure of 5 atm and at 50 to 60°C for 7 hours did. The catalyst was removed, the p solution was poured into a large amount of water, and the precipitated crystals were collected.

得られた結晶を酢酸エチルより再結晶し、目的化合物を
得た。
The obtained crystals were recrystallized from ethyl acetate to obtain the target compound.

融点: 120−121°C NMRスペクトル(δ  、 0DO113) :99
m 1、26 、( 3H 、 t 、 J:=7+Tz)
 。
Melting point: 120-121°C NMR spectrum (δ, 0DO113): 99
m 1, 26, (3H, t, J:=7+Tz)
.

2、23(fiH,s)。2, 23 (fiH, s).

2、52(3H,s)。2, 52 (3H, s).

2、98 ( 2 H 、 d 、 、T==7Hz)
 。
2,98 (2H, d, , T==7Hz)
.

4、24 ( 2H 、 q 、 J==7Hz) 。4, 24 (2H, q, J==7Hz).

4、83(IH,s)。4, 83 (IH, s).

4、94 ( I H 、 t 、 J=7Hz) 。4, 94 (IH, t, J=7Hz).

上記目的化合物を戸数したP液を酢酸エチルで抽出し、
抽出液を無水硫酸ソーダで乾燥、次いで溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;
ヘキサン:酢酸エチル−1:1)に付し、第一のフラク
ションからは目的化合物を、第二のフラクションからは
エチル 4、6−シヒドロキシー5. 7. 8−)ジ
メチルクロマン−2−カルボキンレートを得た。
Extract the P solution containing the above target compound with ethyl acetate,
The extract was dried with anhydrous sodium sulfate, and then the solvent was distilled off.
The residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent;
Hexane:ethyl acetate (1:1), the target compound was obtained from the first fraction, and ethyl 4,6-hydroxyhydroxyl was obtained from the second fraction.5. 7. 8-) Dimethylchroman-2-carboxylate was obtained.

融点: 13B−144℃。Melting point: 13B-144°C.

実施例5(E−2) エチル 6−ヒドロキシ−5. 7. 8 = トリメ
チル−4−オキソクロマン−2−カルホキシレー) 1
6.6g,  1. 3−プロパンジチオール9.7.
9のクロロホルム500mg溶液に水冷下三フッ化ホウ
素酢酸錯塩(三フッ化ホウ素40%) 20m1を滴下
し、室温にて24時間放置した。反応混合物を氷水中に
あけ、炭酸カリウムで中和した後、酢酸エチルにて抽出
し、抽出液を無水硫酸ソーダ」二にて乾燥した。溶媒を
減圧下に留去し、残渣を酢酸エチルより再結晶し目的化
合物を得た。
Example 5 (E-2) Ethyl 6-hydroxy-5. 7. 8 = trimethyl-4-oxochroman-2-carboxyle) 1
6.6g, 1. 3-Propanedithiol9.7.
20 ml of boron trifluoride acetate complex salt (40% boron trifluoride) was added dropwise to a solution of 500 mg of chloroform of No. 9 under water cooling, and the mixture was left at room temperature for 24 hours. The reaction mixture was poured into ice water, neutralized with potassium carbonate, extracted with ethyl acetate, and the extract was dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was recrystallized from ethyl acetate to obtain the target compound.

融点: 186−188℃ NMRスペクトル(δ  、、 ODOρ3):99m 1、35(3H, t 、J==7H2) 。Melting point: 186-188℃ NMR spectrum (δ,, ODOρ3): 99m 1, 35 (3H, t, J==7H2).

t8−2.4 ( 2 H 、 nd ) 。t8-2.4 (2H, nd).

2、18(6H,8)。2, 18 (6H, 8).

2、5−2.9 ( 3H 、 nd ) 。2, 5-2.9 (3H, nd).

2、80(3H,s)。2,80 (3H,s).

3、0−3.5 ( 3 H 、 m) 。3, 0-3.5 (3H, m).

4、31(2H,q,JニアHz)。4, 31 (2H, q, J near Hz).

4、50(IH,s)。4,50 (IH, s).

4、79 ( I H, dd 、 J=2および10
1■z)。
4, 79 (I H, dd, J=2 and 10
1■z).

実施例6(E−3) エチル スピロ〔6−ヒドロキシ−5. 7. 8 −
トリメチルクロマン−4.2’−〔1,31ジチアン〕
合物に室温下、超音波処理を1時間行った後、氷冷下に
クロロメチルメチルエーテル3gを加え、室温下に1夜
放置した。反応混合物に水を加え酢酸エチルにて抽出し
、水層はさらにベンゼンにて抽出・した。酢酸エチル溶
液、ベンゼン溶液とも3回水洗し、両者を合わせて無水
硫酸ソーダ上にて乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘ
キサン:酢酸エチル=5:1)に付し、目的化合物を得
た。
Example 6 (E-3) Ethyl spiro[6-hydroxy-5. 7. 8-
Trimethylchroman-4.2'-[1,31 dithiane]
After the mixture was subjected to ultrasonic treatment at room temperature for 1 hour, 3 g of chloromethyl methyl ether was added under ice cooling, and the mixture was left at room temperature overnight. Water was added to the reaction mixture and extracted with ethyl acetate, and the aqueous layer was further extracted with benzene. Both the ethyl acetate solution and the benzene solution were washed with water three times, and both were combined and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: hexane:ethyl acetate = 5:1) to obtain the target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのRf値二0、21
(i開溶剤;ヘキサン:酢酸エチル=5:NMRスペク
トル(δ  、CDCQ3):99m 1、34 ( 3H 、 t 、 J=7Hz) 。
Rf value of silica gel thin layer chromatography 20, 21
(i opener; hexane: ethyl acetate = 5: NMR spectrum (δ, CDCQ3): 99 m 1, 34 (3H, t, J = 7 Hz).

1、7−2.4 ( 2 H 、 nd ) 。1, 7-2.4 (2H, nd).

2、16(3H,S)。2, 16 (3H, S).

2.21 (3H,s)。2.21 (3H, s).

2.5−3.0  (3H、nd )  。2.5-3.0 (3H, nd).

2.87(3H,S)。2.87 (3H, S).

3.0−3.5 (3H、nd ) 。3.0-3.5 (3H, nd).

3.60(3H,S)。3.60 (3H, S).

4.30 (2H、q 、 J=7Hz) 。4.30 (2H, q, J=7Hz).

4.7−5.0 (1r−i 、 nd ) 。4.7-5.0 (1r-i, nd).

4.89(2H,S)。4.89 (2H, S).

実施例T(E−4およびE−5) ジイソプロピルアミン3gのテトラヒドロフラン90m
1溶液中に一60°c〜−so℃にて、n−ブチ置した
。−60℃にてエチル スピロ〔6−メドキシメトキシ
ー5.乙8−トリメチルクロマン−4,2’−(1,3
)ジチアンクー2−カルボキシレ−) 4.8!9を加
え、10分間攪拌した後臭化イソブチル4.1gを加え
30分間攪拌後、室温下1.5時間攪拌し、さらに臭化
インブチル3gを加え40℃にて5時間加熱した。反応
混合物を一50℃に冷却し、リチウムアルミナムノ・イ
ドライド0.6gを加え室温下1時間攪拌した。反応混
合物にベンゼン、酢酸エチル及び水を加え、有機層を分
離し水洗後、無水硫酸ソーダ上にて乾燥した。
Example T (E-4 and E-5) 3 g of diisopropylamine 90 m of tetrahydrofuran
1 solution at -60°C to -so°C. Ethyl spiro[6-medoxymethoxy5. Otsu8-trimethylchroman-4,2'-(1,3
) 4.8!9 was added and stirred for 10 minutes, then 4.1 g of isobutyl bromide was added, stirred for 30 minutes, stirred at room temperature for 1.5 hours, and further 3 g of inbutyl bromide was added. It was heated at 40°C for 5 hours. The reaction mixture was cooled to -50°C, 0.6 g of lithium aluminum hydride was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Benzene, ethyl acetate, and water were added to the reaction mixture, and the organic layer was separated, washed with water, and dried over anhydrous sodium sulfate.

溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル−5:1
)に付し、目的化合物を得た。
The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: hexane:ethyl acetate-5:1).
) to obtain the target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのRf値=0.16
(展開溶剤;ヘキサン:酢酸エチル−5:NMRスペク
トル(δ  、CDCl13):29m 1.03 (3H,d 、 J=6Hz) 。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 0.16
(Developing solvent; hexane: ethyl acetate-5: NMR spectrum (δ, CDCl13): 29 m 1.03 (3H, d, J = 6 Hz).

1.04 (3H、d 、 J=6Hz) 。1.04 (3H, d, J=6Hz).

1.70 (2H,d 、 J =6Hz) 。1.70 (2H, d, J = 6Hz).

1.8−2.3(3H,nd) 。1.8-2.3 (3H, nd).

2.08(3H,S)。2.08 (3H, S).

2.20(31−I、s)’。2.20 (31-I, s)'.

2.3−3.0 (4H、nd ) 。2.3-3.0 (4H, nd).

2.91 (3H,S) 。2.91 (3H, S).

3.05−3.95(51J、nd)。3.05-3.95 (51J, n.d.).

3U2(3H,s、)。3U2 (3H,s,).

4.88(2H,s)。4.88 (2H, s).

実施例8(E−s) −y720mlの混合物中にエタノール4 ml ヲ加
え、さらに、スピロ〔2−イソブチル−6−メドキシメ
トキシー5.7.8− )リメチルクロマン−4゜2’
−(1,3)ジチアン〕−2−イルメタノール3.2g
のテトラヒドロフラン20m1溶液を加えた。
Example 8 (E-s) 4 ml of ethanol was added to a mixture of 720 ml of -y, and spiro[2-isobutyl-6-medoxymethoxy5.7.8-)limethylchroman-4°2'
-(1,3)dithiane]-2-ylmethanol 3.2g
A solution of 20 ml of tetrahydrofuran was added.

減圧下に溶媒を留去し乾固させた後、ジメチルホルムア
ミド30m1を加え、減圧下に40’Cで1時間加温し
た。p−ニトロクロロベンゼン10gヲ加え50℃で2
時間加熱した。
After the solvent was distilled off to dryness under reduced pressure, 30 ml of dimethylformamide was added, and the mixture was heated at 40'C for 1 hour under reduced pressure. Add 10g of p-nitrochlorobenzene and heat at 50℃ for 2 hours.
heated for an hour.

反応混合物に水を加え、ベンゼンで抽出し、ベンゼン溶
液を2回水洗した後、無水硫酸ソーダ上にて乾燥した。
Water was added to the reaction mixture, extracted with benzene, and the benzene solution was washed twice with water and then dried over anhydrous sodium sulfate.

溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル−6=1
)に付し、目的化合物を得た。
The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent; hexane:ethyl acetate-6=1
) to obtain the target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのRf値=054(
展開溶剤;ヘキサン:酢酸エチル−2=NMRスペクト
ル(δ  、 cnan3) :29m 1.02 (3H、d 、J=6Hz)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 054 (
Developing solvent; hexane:ethyl acetate-2=NMR spectrum (δ, cnan3): 29m 1.02 (3H, d, J=6Hz).

1.09 (3H、d 、 J=6Hz) 。1.09 (3H, d, J=6Hz).

1.83 (2H、d 、 J=6Hz) 。1.83 (2H, d, J=6Hz).

1.8−2.3 (3H、nd ) 。1.8-2.3 (3H, nd).

2.11 (3H,s) 。2.11 (3H, s).

2.22(3H,s)。2.22 (3H, s).

2.3−2.9 (3H、nd ) 。2.3-2.9 (3H, nd).

2.89(3H,s)。2.89 (3H, s).

3.0−3.7 (3H、nd ) 。3.0-3.7 (3H, nd).

3.62(3H,l1l)。3.62 (3H, l1l).

3.92(IH,d、、r二4.5FIz)。3.92 (IH, d,, r2 4.5 FIz).

4.50 (I H、d 、 J=4.5EIz) 。4.50 (IH, d, J = 4.5EIz).

4.90(2H,s)。4.90 (2H, s).

6.90 (2H、d 、 J=4.51(Z、) 。6.90 (2H, d, J=4.51 (Z,).

8.17(2H,d、J=4.5Hz)。8.17 (2H, d, J=4.5Hz).

実施例9(B−7) スピロ〔2−イソブチル−6−メドキシメトキシー5.
乙8−トリメチル−2−(4−二トロフエノキシメチル
)クロマン−4,2’−〔1,3]ジチアン:]3,3
g、塩化第二水銀4g、酸化第二水銀1.4g、及び1
0%含水メタノール3amlの混合物を2時間加熱還流
した。反応混合物にエーテルを加え、不溶物を戸別し、
P液を食塩水、ついで硫酸アンモニウム水溶液で洗った
後、無水硫酸す) IJウムで乾燥した。溶媒を留去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトクラフィー(溶離液
;ヘキサン:酢酸エチル=4:1)に付し、分離・精製
を行い目的化合物(11および(2)を得た。
Example 9 (B-7) Spiro[2-isobutyl-6-medoxymethoxy5.
Otsu8-trimethyl-2-(4-nitrophenoxymethyl)chroman-4,2'-[1,3]dithiane:]3,3
g, 4 g of mercuric chloride, 1.4 g of mercuric oxide, and 1
A mixture of 3 aml of 0% aqueous methanol was heated under reflux for 2 hours. Add ether to the reaction mixture, filter out insoluble matter,
After washing the P solution with a saline solution and then an aqueous ammonium sulfate solution, it was dried over anhydrous sulfuric acid (IJ). The solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent; hexane:ethyl acetate = 4:1) for separation and purification to obtain the target compounds (11 and (2)).

シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤;ヘキサ
ン:酢酸エチル−2=1) (1)のRf値=048 (2)のRf値=04O NMRスペクトル(δ  、 ODOρ6):99m fl) 1.01(6H,d、J=6Hz)。
Silica gel thin layer chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate-2=1) Rf value of (1) = 048 Rf value of (2) = 04O NMR spectrum (δ, ODOρ6): 99m fl) 1.01 (6H , d, J=6Hz).

1.84(2H,s)。1.84 (2H, s).

1.6−2.1 (I H、nd ) 。1.6-2.1 (IH, nd).

2.12(3H,s) 。2.12 (3H, s).

2.27(3H,s)。2.27 (3H, s).

2.58 (3H,S) 。2.58 (3H, S).

2.81(IH,d、J=19Hz)。2.81 (IH, d, J=19Hz).

3.00 (I H、d 、 J=19Hz) 。3.00 (IH, d, J=19Hz).

3.62(3H,s)。3.62 (3H, s).

4.14(IH,d、J=11Hz)。4.14 (IH, d, J=11Hz).

4.25 (I H、d 、 J=1111z) 。4.25 (IH, d, J=1111z).

4.8’9(2H,s)。4.8'9 (2H, s).

6.95 (2H、d 、 J=4.5Hz) 。6.95 (2H, d, J=4.5Hz).

8.20 (2H、d 、 J=4.5Hz) 。8.20 (2H, d, J=4.5Hz).

(210,9g (3H、d 、 J=6Hz)’ 。(210,9g (3H, d, J=6Hz)'.

1.00 (3H、d 、 J=6Hz) 。1.00 (3H, d, J=6Hz).

1゜8(1(2H,d 、 、r=snz) 。1°8 (1(2H, d, , r=snz).

165−2.1 (I H、nd ) 。165-2.1 (IH, nd).

2.13(3H,S)。2.13 (3H, S).

2.23(3H,S)。2.23 (3H, S).

2.57(3H,s)。2.57 (3H, s).

2.82 (I H,d 、 J−141’lz) 。2.82 (IH, d, J-141'lz).

3.00 (I H、d 、 J=1411z) 。3.00 (IH, d, J=1411z).

4.13(IH,d、J=12Hz)。4.13 (IH, d, J=12Hz).

4.27 (I H、d 、 J=12Hz) 。4.27 (IH, d, J=12Hz).

4.66(IH,s)。4.66 (IH, s).

11i、95 (2H、d 、 J=9H2) 。11i, 95 (2H, d, J=9H2).

8.19(2H,d、J=9Hz)。8.19 (2H, d, J=9Hz).

実施例10 6−ヒドロキシ−2−インブチル−5,7,8−トリメ
チル−2−(4−ニトロフェノキシメチル)り0マン 
4−オニ/L59.  ピリジン3oml。
Example 10 6-hydroxy-2-ynbutyl-5,7,8-trimethyl-2-(4-nitrophenoxymethyl)
4-Oni/L59. 3 oml of pyridine.

の混合物に、無水酢酸3gを加えて、室温で35時間か
きまぜた。反応混合物を濃縮し、水を加えた後酢酸エチ
ルおよびベンゼンで抽出し、抽出液を無水硫酸す) I
Jウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エ
チル−5=1)に付し、目的化合物を得た。
3 g of acetic anhydride was added to the mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 35 hours. The reaction mixture was concentrated, water was added, extracted with ethyl acetate and benzene, and the extract was diluted with anhydrous sulfuric acid).
It was dried with Jum. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: hexane:ethyl acetate-5=1) to obtain the target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのRf値=042(
展開溶剤;ヘキサン:酢酸エチル=2=1)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 042 (
Developing solvent; hexane:ethyl acetate=2=1).

NMRスペクトル(δ  、 cncp3) :99m 1.01 (6)(、d 、 J=6h) 。NMR spectrum (δ, cncp3): 99m 1.01 (6) (, d, J=6h).

1.7−2.2 (3H、nd ) 。1.7-2.2 (3H, nd).

2.09 (3H,s) 。2.09 (3H, s).

2.12(3I(、S)。2.12(3I(,S).

2.33 (3H,S) 。2.33 (3H, S).

2.42(3H,s)。2.42 (3H, s).

2.91 (2H、AB型、 J= 1811z) 。2.91 (2H, AB type, J=1811z).

413および4.25 (2H、AB型、 J=9Hz
) 。
413 and 4.25 (2H, AB type, J=9Hz
).

6.95 (2H、d 、 J==9Hz) 。6.95 (2H, d, J==9Hz).

g2Q(2t(、d、、r二9Hz)。g2Q(2t(,d,,r29Hz).

実施例11 6−アセトキシ−2−イソフ゛チル−5.乙8〜トリメ
チル−2−(4−ニトロフェノキシメチル)クロマン−
4−オン1.4.9をメタノール35m1にとかし、1
0%パラジウム炭素11の存在下、水素圧約1気圧で3
時間還元した。触媒をp去後、溶媒を減圧下留去し目的
物を得た。
Example 11 6-acetoxy-2-isobutyl-5. Otsu 8 ~ Trimethyl-2-(4-nitrophenoxymethyl)chroman-
Dissolve 1.4.9 of 4-one in 35 ml of methanol,
3 at a hydrogen pressure of approximately 1 atm in the presence of 0% palladium on carbon-11.
I got my time back. After removing the catalyst, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the desired product.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのaf値=054(
展開溶剤;酢酸エチル)。
af value of silica gel thin layer chromatography = 054 (
Developing solvent; ethyl acetate).

NMRスペクトル(δppm 、 cnan3) :0
.97 (6H、d 、 J=6Hz) 。
NMR spectrum (δppm, cnan3): 0
.. 97 (6H, d, J=6Hz).

1.6−2.2 (3H、nd ) 。1.6-2.2 (3H, nd).

2.08 (3H,S) 。2.08 (3H, S).

2.14(3H,S)。2.14 (3H, S).

2.32 (3H,8)。2.32 (3H, 8).

2.42(3H,S)。2.42 (3H, S).

2.14および3.02(2H,AB型、J二16FI
z)。
2.14 and 3.02 (2H, AB type, J216FI
z).

3.2−3.7 (2H、br、s ) 。3.2-3.7 (2H, br, s).

394および4.06(2H,AB型、 J=9Hz)
 。
394 and 4.06 (2H, AB type, J=9Hz)
.

6.58 (2H、d 、 J=9■Z) 。6.58 (2H, d, J=9■Z).

6.73 (2H、d 、 J=9Flz)。6.73 (2H, d, J=9Flz).

実施例12(D−3) 6−アセトキシ−2−(4−アミノフェノキシメチル)
−2−イソブチル−5,7,8−)ジメチルクロマン−
4−オン1.1g、アセトン2aml!の混合物に、窒
素気流下、室温で、濃塩酸15me、ついで亜硝酸ソー
ダ0.8gと水0.3mlを加え、さらにアクリル酸エ
チル4gを加えた。室温下、酸化第一銅0.1gを加え
1時間攪拌した。反応混金物に水を加えベンゼンで抽出
した。該抽出液を水で洗い、無水硫酸す) IJウムで
乾燥して、溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エ
チル−5:1)に付し、目的化合物を得た。
Example 12 (D-3) 6-acetoxy-2-(4-aminophenoxymethyl)
-2-isobutyl-5,7,8-)dimethylchroman-
4-one 1.1g, acetone 2aml! To the mixture were added 15 me concentrated hydrochloric acid, 0.8 g of sodium nitrite and 0.3 ml of water, and then 4 g of ethyl acrylate at room temperature under a nitrogen stream. At room temperature, 0.1 g of cuprous oxide was added and stirred for 1 hour. Water was added to the reaction mixture and extracted with benzene. The extract was washed with water, dried over anhydrous sulfuric acid (IJ), and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: hexane:ethyl acetate-5:1) to obtain the target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのRf値二074(
展開溶剤;ヘキサン:酢酸エチル=1=2)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography is 2074 (
Developing solvent; hexane: ethyl acetate = 1 = 2).

NMRスペクトル(δ  、 cncc3) :pm 0.98 (6H、d 、 J=6Hz) 。NMR spectrum (δ, cncc3): pm 0.98 (6H, d, J=6Hz).

1.25 (3H、t 、 J=7Hz) 。1.25 (3H, t, J=7Hz).

1.5−2.2(3H,nd) 。1.5-2.2 (3H, nd).

2.08(3)1.s)。2.08(3)1. s).

2.13(3H,s)。2.13 (3H, s).

2.32(3H,S)。2.32 (3H, S).

2.42(3H,s)。2.42 (3H, s).

2.78および3.(li (2H、A、B型、 、T
=171Tz) 。
2.78 and 3. (li (2H, A, B type, , T
=171Tz).

2.8−3.5 (2T(、nd ) 。2.8-3.5 (2T(,nd).

3.8−4.5 (5H、nd ) 。3.8-4.5 (5H, nd).

6.82(2H,d、J=9Hz) 。6.82 (2H, d, J=9Hz).

7.11 (2H,d、J=9Hz)。7.11 (2H, d, J=9Hz).

実施例13(D−4) エチル 3−[4−(6−アセトキシ−2−イソブチル
−5,7,8−)リフチル−4−オキンクロマン−2−
イルメトキシ)フェニル〕−2−クロロプロピオネート
05g、チオ尿素0.2gおよびスルホラン0.851
の混合物を窒素気流下、12G−135℃で4時間加熱
する。その後、反応混合物に濃塩酸1ml、水1ml、
 エチレングリコールモノメチルエーテル5 mlの混
合物を加え、さらに6時間加熱還流した。反応混合物を
水にあけ、酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリ
カゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤;ヘキサン:
酢酸エチル−1:1)に付し、目的化合物を得た。
Example 13 (D-4) Ethyl 3-[4-(6-acetoxy-2-isobutyl-5,7,8-)rifthyl-4-okynechroman-2-
ylmethoxy)phenyl]-2-chloropropionate 05 g, thiourea 0.2 g and sulfolane 0.851
The mixture is heated at 12G-135°C for 4 hours under nitrogen flow. Then, add 1 ml of concentrated hydrochloric acid, 1 ml of water to the reaction mixture,
A mixture of 5 ml of ethylene glycol monomethyl ether was added, and the mixture was further heated under reflux for 6 hours. The reaction mixture was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the extract was dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel thin layer chromatography (developing solvent: hexane:
Ethyl acetate (1:1) to obtain the target compound.

軟化点ニア0−78°C NMRスペクトル(δppm 、 0naQ3) :0
.97 (6H、d 、 、T=6Hz) 。
Softening point near 0-78°C NMR spectrum (δppm, 0naQ3): 0
.. 97 (6H, d, , T=6Hz).

1.5−2.1 (3H,nd) 。1.5-2.1 (3H, nd).

2.12(3H,s)。2.12 (3H, s).

2.21 (3H,s) 。2.21 (3H, s).

2.53(3H,s)。2.53 (3H, s).

2.77および2.99(2H,AB型、J==46H
z)。
2.77 and 2.99 (2H, AB type, J==46H
z).

2.8−3.2 (I H、nd ) 。2.8-3.2 (IH, nd).

3.41 (IH,dd、J:4および14H2)。3.41 (IH, dd, J:4 and 14H2).

4、[+6(2H,AB型、 J=1 fJFIz) 
4, [+6 (2H, AB type, J=1 fJFIz)
.

4.43(IH,dd、J=4および9H2)。4.43 (IH, dd, J=4 and 9H2).

4.6−5.3 (I H、br、s 、重水添加によ
り消失)。
4.6-5.3 (I H, br, s, disappeared by addition of heavy water).

6.81 (2H,d 、 J−=9Flz) 。6.81 (2H, d, J-=9Flz).

7.12 (2H、d 、 J−=9Hz) 。7.12 (2H, d, J-=9Hz).

8.7−9.3 (I H、br、s、 、重水添加に
より消失)。
8.7-9.3 (I H, br, s, , disappeared by addition of heavy water).

実施例14(D−1) 2.5−ジヒドロキシ−3,4,6−ドリメチルアセト
フエノン3.9g、4−ニトロフェノキシアセトン39
g、ピロリジン2.0gおよびトルエン15gを室温下
、2日間放置後、反応混合物中に希塩酸を加えエーテル
で抽出する。水層をさらに酢酸エチルで抽出しエーテル
抽出液と合わせて無水硫酸ソーダ上にて乾燥する。
Example 14 (D-1) 2.5-dihydroxy-3,4,6-drimethylacetophenone 3.9 g, 4-nitrophenoxyacetone 39
After leaving 2.0 g of pyrrolidine and 15 g of toluene at room temperature for 2 days, dilute hydrochloric acid was added to the reaction mixture and extracted with ether. The aqueous layer is further extracted with ethyl acetate, combined with the ether extract, and dried over anhydrous sodium sulfate.

溶媒を留去し、得られた残渣にヘキサンを加え、析出し
た結晶を戸数する。さらにシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル−5:1)に
付した後、酢酸エチルより再結晶し、目的化合物を得た
The solvent is distilled off, hexane is added to the resulting residue, and the precipitated crystals are counted. The residue was further subjected to silica gel column chromatography (eluent: hexane:ethyl acetate-5:1), and then recrystallized from ethyl acetate to obtain the target compound.

融点: 199−204℃ NMRスペクトル(δ  、 nMso−d6) :9
9m 1.43 (3H、s ) 。
Melting point: 199-204°C NMR spectrum (δ, nMso-d6): 9
9m 1.43 (3H, s).

2.01 (3r−r、 s) 。2.01 (3r-r, s).

2.14(3H,s)。2.14 (3H, s).

2.46(3H,s) 。2.46 (3H, s).

2.67 (I H、d 、 J=16Hz) 。2.67 (IH, d, J=16Hz).

3.03 (I H、d 、 J=16Hz) 。3.03 (IH, d, J=16Hz).

4.31 (2H,s)。4.31 (2H, s).

7.19(2H,d、J=9tTz)。7.19 (2H, d, J=9tTz).

7.92(1H,S)。7.92 (1H, S).

8.21(2H,d、、r=9Hz)。8.21 (2H, d,, r=9Hz).

実施例15(D−1) =4−オン a)  5−アセトキシ−2−ヒドロキシ−3,4゜6
−ドリメチルアセトフエノン17.7g、4−ニトロフ
ェノキシアセトン14.6g、ピロリジン7.59およ
びベンゼン60′rnlの混合物を室温下1日放置後、
水分離器を用いて7時間還流加熱した。反応混合物に水
および酢酸エチルを加え、有機層を分液し、無水硫酸す
) IJウム上にて乾燥した。溶媒を留去して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;
ヘキサン:酢酸エチル=2:1)K付し、目的化合物を
得た。
Example 15 (D-1) =4-one a) 5-acetoxy-2-hydroxy-3,4°6
- After leaving a mixture of 17.7 g of dolimethylacetophenone, 14.6 g of 4-nitrophenoxyacetone, 7.59 pyrrolidine and 60'rnl of benzene at room temperature for 1 day,
The mixture was heated under reflux for 7 hours using a water separator. Water and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the organic layer was separated and dried over anhydrous sulfuric acid. The residue obtained by distilling off the solvent was subjected to silica gel column chromatography (eluent;
Hexane:ethyl acetate=2:1) K was added to obtain the target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるRf 値= 
0.17 (展開溶剤;ヘキサン:酢酸エチル−3=1
) NMRスペクトル(δ  、 ODOρ3):99m 1.56(3H,s)。
Rf value by silica gel thin layer chromatography =
0.17 (developing solvent; hexane:ethyl acetate-3=1
) NMR spectrum (δ, ODOρ3): 99m 1.56 (3H, s).

2.10(6H,S)。2.10 (6H, S).

2.36(3H,s)。2.36 (3H, s).

2.43(3H,s)。2.43 (3H, s).

2.70 (I H、d 、 J=15f(z) 。2.70 (IH, d, J=15f(z).

3.06(1H,d、、r二15Hz)。3.06 (1H, d, r2 15Hz).

4.11 (IH,d、J=10Hz) 。4.11 (IH, d, J=10Hz).

4.24(IH,d、J=10FIz) 。4.24 (IH, d, J=10FIz).

6.98 (2H、d 、 J=9Hz) 。6.98 (2H, d, J=9Hz).

8.20 (2H、d 、 J=9Hz)。8.20 (2H, d, J=9Hz).

b)  a)においてピロリジンの代りにピペリジンを
用いた混合物を水分離器を用いて3時間加熱還流した。
b) The mixture in a) in which piperidine was used instead of pyrrolidine was heated under reflux for 3 hours using a water separator.

反応混合物に5%塩酸を加えベンゼンで抽出した。抽出
液を水洗ついで無水硫酸す) IJウムで乾燥した。溶
媒を留去して得られた目的化合物のaf値およびNMR
スペクトルは、a)におけるそれと一致した。
5% hydrochloric acid was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with benzene. The extract was washed with water and dried with anhydrous sulfuric acid (IJum). af value and NMR of the target compound obtained by distilling off the solvent
The spectrum matched that in a).

c) b)においてピペリジンの代りにモルホリンを用
い、以下b)と同様にして得られた目的化合物のRf値
およびNMrLスペクトルはa)におけるそれと一致し
た。
c) The Rf value and NMrL spectrum of the target compound obtained in the same manner as in b) using morpholine instead of piperidine in b) were consistent with those in a).

d) a)において、ピロリジンの代りにモルホリンを
、ベンゼンの代りにトルエンを用いた混合物を1時間加
熱還流し、以下b)と同様に実施例16(D−1) 実施例14に準じて、4−t−ブチル−2,5−ジヒド
ロキシアセトフェノン2.0g、4−ニトロフェノキシ
アセトン1.9,9.  ピロリジン1.0g、および
ベンゼン10m1から製造された目的化合物は次の物性
を有する。
d) In a), a mixture in which morpholine was used instead of pyrrolidine and toluene was used instead of benzene was heated under reflux for 1 hour, followed by Example 16 (D-1) in the same manner as in b). 4-t-butyl-2,5-dihydroxyacetophenone 2.0g, 4-nitrophenoxyacetone 1.9,9. The target compound produced from 1.0 g of pyrrolidine and 10 ml of benzene has the following physical properties.

融点: 205−209℃ NMRスペクトル(δ  2重アセトン)二pm 1.39(3H,s)。Melting point: 205-209℃ NMR spectrum (δ double acetone) 2 pm 1.39 (3H, s).

1.53(9H,s)。1.53 (9H, s).

2.70 (I H、d 、 J=16.5Hz) 。2.70 (IH, d, J=16.5Hz).

3.05 (I H、d 、 J=16.5tlz) 
3.05 (I H, d, J=16.5tlz)
.

4.37(2H,S)。4.37 (2H, S).

6.80(IH,s)。6.80 (IH, s).

7.18(2H,d、J=10Hz)。7.18 (2H, d, J=10Hz).

7.22(IH,s)。7.22 (IH, s).

8.22 (2H、d 、 J=’1Otlz) 。8.22 (2H, d, J='1Otlz).

8.31 (IH,S 、重水添加で消失)。8.31 (IH, S, disappeared by addition of heavy water).

実施例17 7−t−ブチル−6−ヒドロキシ−2−メチル−2−(
4−ニトロフェノキシメチル)クロマン−4−オン1.
7g、無水酢酸1 ml 1およびピリジン10meの
混合物を室温で1日放置する。反応混合物を氷水中にあ
け、2時間攪拌した後、ベンゼンで抽出する。有機層を
順次3N塩酸、水、飽和炭酸水素す) IJウム水溶液
、水で洗浄し、無水硫酸す) IJウムで乾燥する。溶
媒を減圧下留去して得られた残渣をベンゼン−酢酸エチ
ル(約10 : 1 )から再結晶して、目的化合物を
得た。
Example 17 7-t-butyl-6-hydroxy-2-methyl-2-(
4-nitrophenoxymethyl)chroman-4-one1.
A mixture of 7 g, 1 ml of acetic anhydride and 10 me of pyridine is left at room temperature for 1 day. The reaction mixture was poured into ice water, stirred for 2 hours, and then extracted with benzene. The organic layer is washed successively with 3N hydrochloric acid, water, saturated hydrogen carbonate, an aqueous IJ solution, and water, and dried over anhydrous sulfuric acid. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was recrystallized from benzene-ethyl acetate (about 10:1) to obtain the target compound.

融点:82−84°C NMRスペクトル(δ  2重アセトン):99m 1.33 (9H,8) 。Melting point: 82-84°C NMR spectrum (δ double acetone): 99m 1.33 (9H, 8).

1.57(3H,S)。1.57 (3H, S).

2.33(3H,s)。2.33 (3H, s).

2.82 (I H、d 、 J=16.5Hz) 。2.82 (IH, d, J=16.5Hz).

3.13 (I H、d 、 J=16.5Hz) 。3.13 (IH, d, J=16.5Hz).

4.42(2H,s)。4.42 (2H, s).

6.93(1H,s)。6.93 (1H, s).

7.25 (2H、d 、 J=9Hz) 。7.25 (2H, d, J=9Hz).

7.44(IH,s)。7.44 (IH, s).

8.22(2H1d、J=9Hz)。8.22 (2H1d, J=9Hz).

実施例18(F−1) 6−アセトキシ−4−ヒドロキシ−2,5,7,8−テ
トラメチル−2−(4−ニトロフェノキシメチル)クロ
マン 6−アセトキシ−2,5,7,8−テトラメチル−2−
(4−ニトロフェノキシメチル)クロマン−4−オンL
8fi、メタノール15m1.ベンゼン1mlの混合物
に、水素化ホウ素ナトリウム160■を水冷下で加えて
、30分かきまぜた。反応混合物を氷水にあけ、10%
塩酸で中和した後、ベンゼンで抽出し、抽出液を水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
離液;ベンゼン:酢酸エチル−9:1)に付し、得られ
た結晶をベンゼン、ヘキサンの混合液より再結晶し、目
的化合物を得た。
Example 18 (F-1) 6-acetoxy-4-hydroxy-2,5,7,8-tetramethyl-2-(4-nitrophenoxymethyl)chroman 6-acetoxy-2,5,7,8-tetra Methyl-2-
(4-nitrophenoxymethyl)chroman-4-one L
8fi, methanol 15ml 1. To a mixture of 1 ml of benzene was added 160 μm of sodium borohydride under water cooling, and the mixture was stirred for 30 minutes. Pour the reaction mixture into ice water and dilute to 10%
After neutralizing with hydrochloric acid, the mixture was extracted with benzene, and the extract was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: benzene:ethyl acetate - 9:1), and the obtained crystals were recrystallized from a mixture of benzene and hexane to obtain the target compound. I got it.

融点: 139−141°C NMRスペクトル(δ  、 ODO+!3) :99
m 1.56(3H,s)。
Melting point: 139-141°C NMR spectrum (δ, ODO+!3): 99
m 1.56 (3H, s).

2.05(6H,s)。2.05 (6H, s).

2.0−2.4 (2H、nd ) 。2.0-2.4 (2H, nd).

2.19(3H,s)。2.19 (3H, s).

2.33(3H,s)。2.33 (3H, s).

4.10(2H,AB型、 J−9h ) +5.0(
IH,dd、J=3および9frz)。
4.10 (2H, AB type, J-9h) +5.0(
IH, dd, J=3 and 9frz).

7.03(2H,d、J=91(z)。7.03 (2H, d, J=91(z).

8.23 (2H、d 、 J=9Hz)。8.23 (2H, d, J=9Hz).

実施例19(F−1) クロマン 6−アセドキシー7−t−ブチル−2−メチル−2−(
4−ニトロフェノキシメチル)クロマ:/−4−オン3
0gのTHF(20ml)溶液を、水冷、攪拌下水素化
ホウ素ナトリウム03gのメタノール懸濁液(10m6
)中に滴下する。滴下終了後、室温にて2時間攪拌する
。再び氷冷し、10%塩酸で弱酸性にした後、酢酸エチ
ルで抽出する。有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。
Example 19 (F-1) Chroman 6-acedoxy 7-t-butyl-2-methyl-2-(
4-nitrophenoxymethyl) chroma:/-4-one 3
A solution of 0 g of THF (20 ml) was added to a suspension of 0.3 g of sodium borohydride in methanol (10 m6) under water cooling and stirring.
). After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. Cool again on ice, make weakly acidic with 10% hydrochloric acid, and then extract with ethyl acetate. After washing the organic layer with water, it is dried over anhydrous sodium sulfate.

溶媒を留去して得られた結晶をベンゼン−石油エーテル
より再結晶し、目的化合物を得た。
The crystals obtained by distilling off the solvent were recrystallized from benzene-petroleum ether to obtain the target compound.

融点: 194−201℃ NMRスペクトル(δ  1重アセトン)二pm 1.34(9H,s)。Melting point: 194-201℃ NMR spectrum (δ single acetone) 2 pm 1.34 (9H, s).

1.5f](3H,s、) 。1.5f] (3H, s,).

1.88 (I H、dd 、 J=13.5および9
Hz)。
1.88 (I H, dd, J=13.5 and 9
Hz).

2.45 (I H、dd 、 J=13.5および6
Hz)。
2.45 (I H, dd, J=13.5 and 6
Hz).

2.78(IH,s 、重水添加により消失)。2.78 (IH, s, disappeared by addition of heavy water).

4.15 (2H,8) 。4.15 (2H, 8).

4.75(1H,m)。4.75 (1H, m).

6.62(IH,S)。6.62 (IH, S).

8、!H(1H,s)。8,! H(1H,s).

7.15 (2H、d 、 J=9Hz) 。7.15 (2H, d, J=9Hz).

8.20(2H,d、、■= 9 Hz )  。8.20 (2H, d,, ■ = 9 Hz).

実施例20(F−2) クロマン 7−t−ブチル−4,6−ジヒドロキシ−2=メチル−
2−(4−ニトロフェノキシメチル)クロマン2.0g
とピリジン20m1の混合物中に無水酢酸3 mlを加
え、50℃にて3時間加温する。反応液をベンゼンに溶
かし、順次、3N塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、水で洗浄した後、無水硫酸ナトIJウムで乾燥す
る。溶媒を留去し、淡黄色油状の目的化合物を得た。
Example 20 (F-2) Chroman 7-t-butyl-4,6-dihydroxy-2=methyl-
2-(4-nitrophenoxymethyl)chroman 2.0g
3 ml of acetic anhydride was added to a mixture of 20 ml of pyridine and 20 ml of pyridine, and the mixture was heated at 50°C for 3 hours. The reaction solution was dissolved in benzene, washed successively with 3N hydrochloric acid, water, saturated aqueous sodium bicarbonate solution, and water, and then dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off to obtain the target compound as a pale yellow oil.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるaf値: 0
.62 (展開溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=5:1) NMRスペクトル(δ  2重アセトン)二pm 1.31 (9H,S) 。
AF value by silica gel thin layer chromatography: 0
.. 62 (Developing solvent; benzene: ethyl acetate = 5:1) NMR spectrum (δ double acetone) 2 pm 1.31 (9H,S).

1.55(3H,s)。1.55 (3H, s).

1.77(3H,S)。1.77 (3H, S).

2.0−2.3 (I H、nd ) 。2.0-2.3 (IH, nd).

2.27(3H,S)。2.27 (3H, S).

2.45−2.7 (I H、nd ) 。2.45-2.7 (IH, nd).

4.20および4.38 (2H、AB型+ J 二1
 (l Hz ) +5.85−6.10(IH,m)
4.20 and 4.38 (2H, AB type + J 21
(l Hz) +5.85-6.10 (IH, m)
.

6.87(11(、S)。6.87(11(,S).

6.98(IH,s)。6.98 (IH, s).

7.20(2H,d、J二9Hz)。7.20 (2H, d, J29Hz).

8.30 (2H、d 、 J=9Hz)。8.30 (2H, d, J=9Hz).

実施例21 (F’−4) 6−アセトキシ−?−t−ブチルー2−メチークロメン 4.6−ジアセドキシー7−t−ブチル−2−メチル−
2−(4−ニトロフェノキシメチル)クロマン2.4,
9.  p−)ルエンスルホン酸−水和物01g1及び
ベンゼン50m1の混合物を1時間加熱還流する。今後
、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧上
留去して黄色油状の目的化合物を得た。
Example 21 (F'-4) 6-acetoxy-? -t-butyl-2-methychromene 4,6-diacedoxy7-t-butyl-2-methyl-
2-(4-nitrophenoxymethyl)chroman 2.4,
9. p-) A mixture of 01 g1 of toluenesulfonic acid hydrate and 50 ml of benzene is heated under reflux for 1 hour. Thereafter, the reaction solution is washed with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, then with water, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the target compound as a yellow oil.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるRf値= o
、ss (展開溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=10 :
 1 ) NMRスペクトル(δ  1重アセトン)二pm 1.27 (9H,s ) 。
Rf value by silica gel thin layer chromatography = o
, ss (developing solvent; benzene: ethyl acetate = 10:
1) NMR spectrum (δ single acetone) 2 pm 1.27 (9H,s).

1.54(3H,S)。1.54 (3H, S).

2.27(3H,s)。2.27 (3H, s).

4.28(21(、S)。4.28(21(,S).

5.79 (I H、d 、 J−1(ltlz) 。5.79 (IH, d, J-1 (ltlz).

6.52(IH,d、J二10Hz)。6.52 (IH, d, J2 10Hz).

6.67(IH,s)。6.67 (IH, s).

6.76(IH,s)。6.76 (IH, s).

7.13(2H,d、、r二9[(z)。7.13(2H,d,,r29[(z).

8.20(2H,d、J=9Hz)。8.20 (2H, d, J=9Hz).

実施例22(F−3) ロメン 実施例21に準じて、6−アセトキシ−4−ヒドロキシ
−2,5,乙8−テトラメチル−2−(4−ニトロフェ
ノキシメチル)クロマン160m9゜p−トルエンスル
ホン酸10mq、ベンゼン2mlから製造された目的化
合物は次の物性を有する。
Example 22 (F-3) Romene According to Example 21, 6-acetoxy-4-hydroxy-2,5,8-tetramethyl-2-(4-nitrophenoxymethyl)chroman 160m9゜p-toluenesulfone The target compound produced from 10 mq of acid and 2 ml of benzene has the following physical properties.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのaf値=0.49
 (展開溶剤:ベンゼン:酢酸エチル−2(1:1)N
MRスペクトル(δ  、 ancu3) :99m 1.59(3H,S)。
Silica gel thin layer chromatography af value = 0.49
(Developing solvent: benzene:ethyl acetate-2 (1:1)N
MR spectrum (δ, ancu3): 99m 1.59 (3H,S).

2.03(3H,s)。2.03 (3H, s).

2.05(3H,s)。2.05 (3H, s).

2.09(3H,S)。2.09 (3H, S).

2.33(3H,s)。2.33 (3H, s).

tlo(2I+、AB型、 J:9[IZ) 。tlo (2I+, AB type, J:9 [IZ).

5.13 (I H、d 、 J=IQHz) 。5.13 (IH, d, J=IQHz).

6.73 (I H、d 、 J=10Hz) 。6.73 (IH, d, J=10Hz).

6.96 (2H、d 、 J==9Hz) 。6.96 (2H, d, J==9Hz).

8.22 (2H、d 、 J=9Hz)。8.22 (2H, d, J=9Hz).

実施例23(F−5) 一=−と− 6−アセドキシー7−t−ブチル−2−メチル−2−(
4−ニトロフェノキシメチル) −2H存在下、室温、
水素圧約1気圧で10時間還元した。触媒を戸去後、ベ
ンゼン溶液を飽和炭酸水素す) IJウム水溶液、次い
で水で洗浄し、無水硫酸す) IJウム上で乾燥する。
Example 23 (F-5) 1 = - and - 6-acedoxy7-t-butyl-2-methyl-2-(
4-nitrophenoxymethyl)-2H at room temperature,
Reduction was carried out under a hydrogen pressure of about 1 atm for 10 hours. After removing the catalyst, the benzene solution is washed with a saturated aqueous solution of hydrogen carbonate, then water, and dried over anhydrous sulfuric acid.

溶媒を減圧下に留去して得られる残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶離液:ベンゼン)に付し、淡
褐色油状の目的化合物を得た。
The residue obtained by evaporating the solvent under reduced pressure was subjected to silica gel column chromatography (eluent: benzene) to obtain the target compound as a pale brown oil.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのRf値=Q、t3
 (MHFl溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=10=NM
Rスペクトル(δ  2重アセトン):99m 1.30(9H,S)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = Q, t3
(MHFl solvent; benzene: ethyl acetate = 10 = NM
R spectrum (δ double acetone): 99m 1.30 (9H,S).

1.40 (3H,S ) 。1.40 (3H, S).

1.7−2.2 (2H、nd ) 。1.7-2.2 (2H, nd).

2.27(3H,S)。2.27 (3H, S).

2.73 (2H、br、 t 、 J=7Hz) 。2.73 (2H, br, t, J=7Hz).

3.89 (2H,s) 。3.89 (2H, s).

3.7−4.5 (2H、br、重水添加で消失)。3.7-4.5 (2H, br, disappeared by addition of heavy water).

6.50−7.05 (6H、m)。6.50-7.05 (6H, m).

実施例24(P−5) 実施例23に準じて、6−アセトキシ−2,5,7゜8
−テトラメチル−2〜(4−ニトロフェノキシメチル)
−2H−クロメン100’m9を メタノール2 ml
にとかし10%パラジウム炭素20m9の存在下、水素
圧約1気圧で還元して得られた目的化合物は次の物性を
有する。
Example 24 (P-5) According to Example 23, 6-acetoxy-2,5,7°8
-tetramethyl-2~(4-nitrophenoxymethyl)
-2H-chromene 100'm9 methanol 2 ml
The target compound obtained by reducing the solution under hydrogen pressure of about 1 atmosphere in the presence of 20 m9 of 10% palladium on carbon has the following physical properties.

融点: 13B−140℃ NMRスペクトル(δ  、 CDCf13) :99
m 1.42(3H,s)。
Melting point: 13B-140°C NMR spectrum (δ, CDCf13): 99
m 1.42 (3H, s).

2.00(3H,s)。2.00 (3H, s).

約2 (2H+m)+ 2.04(31(、S)。Approximately 2 (2H+m)+ 2.04(31(,S).

2.10(3H,s)。2.10 (3H, s).

2.31 (3H,s) 。2.31 (3H, s).

2.6 (2H、br、t 、 J=6Hz) 。2.6 (2H, br, t, J=6Hz).

3.37 (2H、br1重水添加で消失)。3.37 (disappeared with addition of 2H, br1 heavy water).

380および3.95 (2H、AB型、 J=9Hz
) 。
380 and 3.95 (2H, AB type, J=9Hz
).

6.62 (2H、d 、 J=7.5Hz) 。6.62 (2H, d, J=7.5Hz).

6.78 (2H、d 、 J =7.5Hz)。6.78 (2H, d, J = 7.5Hz).

実施例25(A−4) シ)フェニル〕−2−クロロプロピオネート6−アセト
キシ−2−(4−アミノフェノキシメチル) −2,5
,乙8−テトラメチルクロマン17.5.!9をアセト
ン130m1と水30metf)混合溶媒にとかし、水
冷下に濃塩酸i 3ml! 、ついで、亜硝酸ソーダ4
.3gを水8.5 mlにとかして滴下する。さらにア
クリル酸エチル37.3 mlを滴下したのち、温度を
40−43°Cとし、酸化第一銅 680mpを徐々に
加える。約30分で窒素の発生が終了する。
Example 25 (A-4) phenyl]-2-chloropropionate 6-acetoxy-2-(4-aminophenoxymethyl) -2,5
, Otsu 8-tetramethylchroman 17.5. ! 9 in a mixed solvent of 130ml of acetone and 30metf of water, and while cooling with water, add 3ml of concentrated hydrochloric acid I! , then sodium nitrite 4
.. Dissolve 3 g in 8.5 ml of water and add dropwise. After further dropping 37.3 ml of ethyl acrylate, the temperature was brought to 40-43°C and 680 mp of cuprous oxide was gradually added. Nitrogen generation ends in about 30 minutes.

2層となっている反応混合物にベンゼンを加えて有機層
を抽出、ベンゼン抽出液を飽和食塩水で洗い、硫酸す)
 IJウムで乾燥、溶媒の留去をおこなう。得られた黒
褐色油をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
ベンゼン−シクロヘキサン(1:1v/v)で溶出し、
ついで同(2:IV/V)さらにベンゼンで溶出する。
Add benzene to the two-layer reaction mixture to extract the organic layer, wash the benzene extract with saturated saline, and sulfuric acid)
Dry with IJum and evaporate the solvent. The obtained dark brown oil was subjected to silica gel column chromatography,
Elute with benzene-cyclohexane (1:1 v/v),
Then, the same solution (2:IV/V) was further eluted with benzene.

ベンゼン−シクロヘキサン(2:1v/v)およびベン
ゼンで溶出される部分より目的化合物を得た。
The target compound was obtained from the portion eluted with benzene-cyclohexane (2:1 v/v) and benzene.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるuf値= 0
.39 (展開溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=20 :
 1 )。
uf value by silica gel thin layer chromatography = 0
.. 39 (Developing solvent; benzene: ethyl acetate = 20:
1).

N M nスペクトル(δ  、 CDOρ3)二pm 1.23 (3H、t 、 J=7.5)1z) 。N Mn spectrum (δ, CDOρ3) 2 pm 1.23 (3H, t, J=7.5)1z).

1.42 (31−I、 s ) 。1.42 (31-I, s).

約2 (2H,m)。Approximately 2 (2H, m).

1.98(3H,s)。1.98 (3H, s).

2.04(3H,s)。2.04 (3H, s).

2.09 (3H,s ) 。2.09 (3H, s).

2’、31(3H,s)。2', 31 (3H, s).

2.6  (2H、br、 t 、 J==6Hz) 
2.6 (2H, br, t, J==6Hz)
.

3.05 (IH,dd 、 J=15および7.5H
z)。
3.05 (IH, dd, J=15 and 7.5H
z).

3.31 (IH,dd、J:15および7.5i’l
z)。
3.31 (IH, dd, J: 15 and 7.5i'l
z).

383および3.99(2H,AB型、 J=9Hz)
 。
383 and 3.99 (2H, AB type, J=9Hz)
.

4.18(2H1q、J−75H2)I4.38 (I
 H、t 、 J=7.5FIz) 。
4.18 (2H1q, J-75H2) I4.38 (I
H, t, J=7.5FIz).

6.85 (2H、d 、 J=91Tz) 。6.85 (2H, d, J=91Tz).

7.14(2H,d、J=911z)。7.14 (2H, d, J=911z).

実施例26(A−4) 実施例25に準じて、6−アセトキシ−2−(4−アミ
ノフェノキシメチル)−7−t−ブチル−2−メチルク
ロマン1.74 g、亜硝酸ナトリウム380Tn9、
濃塩酸0.8ml、アクリル酸エチル4.5g、酸化第
一銅65m9、およびアセトン17m1から製造された
、淡黄色油状の目的化合物は次の物性を有する。
Example 26 (A-4) According to Example 25, 1.74 g of 6-acetoxy-2-(4-aminophenoxymethyl)-7-t-butyl-2-methylchroman, 380Tn9 of sodium nitrite,
The desired compound as a pale yellow oil, prepared from 0.8 ml of concentrated hydrochloric acid, 4.5 g of ethyl acrylate, 65 ml of cuprous oxide, and 17 ml of acetone, has the following physical properties.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーによる′FLf値:
 0.55 (展開溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=5:
1) NMRスペクトル(δ  、 cDax3) :99m 1.23 (3H、t 、 J==7.5r(z) 。
'FLf value determined by silica gel thin layer chromatography:
0.55 (developing solvent; benzene: ethyl acetate = 5:
1) NMR spectrum (δ, cDax3): 99m 1.23 (3H, t, J==7.5r(z).

1.31 (9H,s ) 。1.31 (9H, s).

1.45(3H,8)。1.45 (3H, 8).

1.63−2.20(2H,m) 。1.63-2.20 (2H, m).

2.28(3H,s)。2.28 (3H, s).

2.72 (2H、br、t 、 J=7Hz) 。2.72 (2H, br, t, J=7Hz).

3.08 (I H、dd 、 J=7.5および15
Hz)。
3.08 (I H, dd, J=7.5 and 15
Hz).

3.30 (? H、dcl 、 J=7.5および1
5Hz)。
3.30 (?H, dcl, J=7.5 and 1
5Hz).

388および3.98(2H,AB型、 J =9 H
z ) +4.18(2H,q、J=7.5Hz)。
388 and 3.98 (2H, AB type, J = 9H
z) +4.18 (2H, q, J=7.5Hz).

4.37 (I H、t 、 J=7.5Hz) 。4.37 (IH, t, J=7.5Hz).

6.73(IH,s)。6.73 (IH, s).

6.85(IH,8)。6.85 (IH, 8).

6.88 (2H、d 、 J=9Hz) 。6.88 (2H, d, J=9Hz).

7.15 (2H,d 、 J=9Hz)。7.15 (2H, d, J=9Hz).

実施例27(A−5) エチル 3−(4−(6−アセトキシ−2,5゜7.8
−テトラメチルクロマン−2−イルメトキシ)フェニル
〕−2−クロロプロピオネート9.611チオ尿素1.
8g、スルホラン11 mlの混合物を窒素気流中11
5−120℃で80分加熱する。その後、反応混合物に
酢酸90m1.濃塩酸30m1.および水15m/!の
混合物を加え、85〜90℃でさらに12時間加熱する
。反応混合物に炭酸水素ナトリウム21gを加え、炭酸
ガスの発生が終了したのち溶媒を留去する。粗製物にベ
ンゼンと酢酸エチルの10 : 1 (V/V)混合溶
媒を加え、飽和炭酸木葉ナトリウム水溶液:水(1: 
1 、 v/v )で洗う。生成した白色粉末をp取、
さらに水洗し、アセトンから再結晶をおこなって、目的
化合物(a)を得た。
Example 27 (A-5) Ethyl 3-(4-(6-acetoxy-2,5°7.8
-Tetramethylchroman-2-ylmethoxy)phenyl]-2-chloropropionate 9.611 Thiourea 1.
A mixture of 8 g of sulfolane and 11 ml of sulfolane was added to
Heat at 5-120°C for 80 minutes. Thereafter, 90ml of acetic acid was added to the reaction mixture. Concentrated hydrochloric acid 30ml1. and water 15m/! Add the mixture and heat at 85-90°C for an additional 12 hours. 21 g of sodium hydrogen carbonate is added to the reaction mixture, and after the generation of carbon dioxide gas is completed, the solvent is distilled off. A 10:1 (V/V) mixed solvent of benzene and ethyl acetate was added to the crude product, and a saturated aqueous solution of sodium carbonate: water (1:
1, wash with v/v). Collect the white powder produced,
The product was further washed with water and recrystallized from acetone to obtain the target compound (a).

融点: 205−207°C NMRスペクトル(δ  r dy dmf + D2
0 ) :99m 1.37(3H,S)。
Melting point: 205-207°C NMR spectrum (δ r dy dmf + D2
0): 99m 1.37 (3H, S).

約2(2H,m)。Approximately 2 (2H, m).

2.02(3H,S)。2.02 (3H, S).

2.14(6H,8)。2.14 (6H, 8).

(2,3−3,1,溶媒吸収)。(2,3-3,1, solvent absorption).

3.42(IH,dd、J=15および4.5Hz)。3.42 (IH, dd, J=15 and 4.5Hz).

4.60(H(、dd、J:9および4.51Tz)。4.60 (H(, dd, J: 9 and 4.51 Tz).

6.93 (2H、d 、 J=911z) 。6.93 (2H, d, J=911z).

7.23 (2H、d 、 J=9Hz)。7.23 (2H, d, J=9Hz).

前記白色粉末を除去して得られた有機層を水洗ついで、
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒の留去をおこなう。得ら
れた組成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、ベンゼン:酢酸エチル(10: 1 v/v)で溶
出し、ついでベンゼン:酢酸エチル(10:1.4)で
溶出する部分から、目的化合物(blを得た。
The organic layer obtained by removing the white powder was washed with water, and then
Dry with sodium sulfate and evaporate the solvent. The resulting composition was subjected to silica gel column chromatography, eluted with benzene:ethyl acetate (10:1 v/v), and then the target compound was detected from the portion eluted with benzene:ethyl acetate (10:1.4). (I got bl.

融点: 184−186℃ NMRスペクトル(δ   重アセトン):ppm、 
’ 1.39(3H,s)。
Melting point: 184-186°C NMR spectrum (δ heavy acetone): ppm,
' 1.39 (3H, s).

約2 (2H,m)。Approximately 2 (2H, m).

2.02(3H,S)。2.02 (3H, S).

2.09(3H,S)。2.09 (3H, S).

2.13(3H,s)。2.13 (3H, s).

2.63(2H,br、t、J=61’lz)。2.63 (2H, br, t, J=61'lz).

3.07(IH,dd、J=15および9H2)。3.07 (IH, dd, J=15 and 9H2).

3.41 (IH,dd、J=15および4.5Hz)
3.41 (IH, dd, J=15 and 4.5Hz)
.

3.97 (2H、AB型、J=9Hz)。3.97 (2H, AB type, J=9Hz).

4.70(IH,dd、J=9および4.5FIz)。4.70 (IH, dd, J=9 and 4.5FIz).

6.90 (2H、d 、 J=9Hz) 。6.90 (2H, d, J=9Hz).

7.21 (2)(、d、J=9Hz)。7.21 (2) (, d, J=9Hz).

実施例28(A−5) エチル 31:4−(6−アセトキシ−2,5゜7.8
−テトラメチルクロマン−2−イルメトキシ)フェニル
〕−2−クロロプロピオネ−)9.611チオ尿素1.
89およびスルホラン11+++lの混合物を窒素気流
中、120℃で35時間加熱する。
Example 28 (A-5) Ethyl 31:4-(6-acetoxy-2,5°7.8
-Tetramethylchroman-2-ylmethoxy)phenyl]-2-chloropropione-)9.611 Thiourea1.
A mixture of 89 and sulfolane 11+++l is heated at 120° C. for 35 hours in a nitrogen stream.

次いでエチレングリコールモノメチルエーテル100m
1. 10%塩酸70m1V加えて12時間加熱還流し
、実施例27と同様に処理および精製をおこなって、目
的化合物を得た。融点およびNMRスペクトルは実施例
21におけるそれと一致した。
Then 100m of ethylene glycol monomethyl ether
1. 70ml/V of 10% hydrochloric acid was added, and the mixture was heated under reflux for 12 hours, and treated and purified in the same manner as in Example 27 to obtain the target compound. The melting point and NMR spectrum were consistent with that in Example 21.

実施例29(A−5) 実施例28に準じて、エチル 3−[4−(6−アセド
キシー7−t−ブチル−2−メチルクロマン−2−1ル
メトキシ)フェニル’:1−2−クロロプロピオネート
1.43 g、チオ尿素430mg、およびスルホラン
5 mlの混合物を120℃で3.5時間加熱し、次い
でエチレングリコールモノメチルエーテル15m1. 
10%塩酸10m1を加えて13時間加熱還流して製造
した目的化合物(淡黄色粉末)は次の物性を有する。
Example 29 (A-5) According to Example 28, ethyl 3-[4-(6-acedoxy7-t-butyl-2-methylchroman-2-1-lmethoxy)phenyl':1-2-chloropropro A mixture of 1.43 g of pionate, 430 mg of thiourea, and 5 ml of sulfolane was heated at 120° C. for 3.5 hours, then 15 ml of ethylene glycol monomethyl ether was added.
The target compound (pale yellow powder) produced by adding 10 ml of 10% hydrochloric acid and heating under reflux for 13 hours has the following physical properties.

シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるRf値:0.
31(展開溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=5:1) NMRスペクトル(δ  、CDCQ3):99m 1.37(9H,s)。
Rf value determined by silica gel thin layer chromatography: 0.
31 (developing solvent; benzene:ethyl acetate = 5:1) NMR spectrum (δ, CDCQ3): 99m 1.37 (9H, s).

1.43(3H,s)。1.43 (3H, s).

1.63−2.30 (2H、m) 。1.63-2.30 (2H, m).

2.67 (2H、br、 t 、 J=7Hz) 。2.67 (2H, br, t, J=7Hz).

3.07(IH,ad、J:9および15[1z)。3.07 (IH, ad, J: 9 and 15 [1z).

3.45(IH,dd、J:4および15Hz)。3.45 (IH, dd, J: 4 and 15 Hz).

3.87および3.97(2H,AB型、 J=9Hz
) 。
3.87 and 3.97 (2H, AB type, J=9Hz
).

4.48(IH,dd、J=4および9Hz)。4.48 (IH, dd, J=4 and 9Hz).

4.62(IH,br、s 、重水添加で消失)。4.62 (IH, br, s, disappeared by addition of heavy water).

6.41 (IH,s)。6.41 (IH, s).

6.78(IH,s)。6.78 (IH, s).

6.88 (2H、d 、 J=9Hz) 。6.88 (2H, d, J=9Hz).

7.15(2n、d、、y=9Hz)。7.15 (2n, d,,y=9Hz).

8.40−8.93 (I H、br 、重水添加で消
失)。
8.40-8.93 (IH, br, disappeared with addition of heavy water).

実施例30(H−1) 5−[4−(6−ヒドロキシ−2,5,7,8−テトラ
メチル−4−オキソクロマン−2−イルメトキシ)ベン
ジル〕チアゾリジンー2.4−ジオン278 m9とメ
チルアルコール9meの混合物に水素化ホウ素ナトリウ
ム450■を加え室温下2時間攪拌する。反応混合物中
へ1%酢酸水溶液を加えた後、炭酸カリウム水溶液で中
和し、酢酸エチルにて抽出する。酢酸エチル溶液を水洗
後、無水硫酸ソーダ上にて乾燥する。酢酸エチルを減圧
下に留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:3)
に付し、目的化合物を得た。
Example 30 (H-1) 5-[4-(6-hydroxy-2,5,7,8-tetramethyl-4-oxochroman-2-ylmethoxy)benzyl]thiazolidine-2,4-dione 278 m9 and methyl alcohol 450 μ of sodium borohydride was added to the mixture of 9me and stirred at room temperature for 2 hours. After adding a 1% acetic acid aqueous solution to the reaction mixture, the mixture was neutralized with a potassium carbonate aqueous solution and extracted with ethyl acetate. After washing the ethyl acetate solution with water, it is dried over anhydrous sodium sulfate. Ethyl acetate was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: hexane: ethyl acetate = 5:3).
The target compound was obtained.

融点: 102−118℃ NMRスペクトル(δ  1重アセトン及び重水):9
9m 1.52(3H,S)。
Melting point: 102-118°C NMR spectrum (δ single acetone and heavy water): 9
9m 1.52 (3H, S).

2.01 (3H,s) 。2.01 (3H, s).

2.13 (3H,S) 。2.13 (3H, S).

2.29 (3H,s) 。2.29 (3H, s).

1.9−2.5 (I H、nd ) 。1.9-2.5 (IH, nd).

2.9−3.6 (2H,m) 。2.9-3.6 (2H, m).

4.03 (2H,s ) 。4.03 (2H, s).

3.9−4.5 (I H、nd ) 。3.9-4.5 (IH, nd).

4.6−5.1 (2H、m) 。4.6-5.1 (2H, m).

6.7−7.4 (4H、nd )。6.7-7.4 (4H, nd).

実施例31(H−2) 実施例22の反応条件に準じて、5−[4−(4゜6−
シヒドロキシー2.5.7.8−テトラメチルクロマン
−2−イルメトキシ)ベンジルコチアゾリジン−2,4
−ジオン1401ng、p−)ルエンスルホンM’10
yytq、ベンゼンHJm/!、 ジメチルホルムアミ
ド0.5 mlより製造された目的化合物は次の物性を
有する。
Example 31 (H-2) According to the reaction conditions of Example 22, 5-[4-(4゜6-
cyhydroxy-2.5.7.8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy)benzylchothiazolidine-2,4
-Dione 1401ng, p-) Luenesulfone M'10
yytq, benzene HJm/! The target compound prepared from 0.5 ml of dimethylformamide has the following physical properties.

軟化点: 173−176℃ NMRスペクトル(δ  2重アセトン):99m 1.50(3H,s)。Softening point: 173-176℃ NMR spectrum (δ double acetone): 99m 1.50 (3H, s).

2.02(3H,s)。2.02 (3H, s).

2.12(3H,s)。2.12 (3H, s).

2.18 (3H,s) 。2.18 (3H, s).

3.06 (I H、dd 、 、J==9Hzおよび
14Hz)。
3.06 (I H, dd, , J=9Hz and 14Hz).

3.40 (I H、dd 、 J=4FIzおよび1
4Hz)。
3.40 (I H, dd, J=4FIz and 1
4Hz).

3.94 (I H、d 、 J=101’lz) 。3.94 (IH, d, J=101'lz).

4.05 (I H、d 、 J=I GHz) 。4.05 (IH, d, J=I GHz).

4.70(IH,dd、J、=4および9Hz)。4.70 (IH, dd, J, = 4 and 9 Hz).

5.75(IH,d、J=10Hz)。5.75 (IH, d, J=10Hz).

6.72 (I H、d 、 J=10h) 。6.72 (IH, d, J=10h).

6.85 (2H、d 、 J=91(z) 。6.85 (2H, d, J=91(z).

7.19(2H,d、J =9Hz)。7.19 (2H, d, J = 9Hz).

実施例32(H−3) 実施例23の反応条件に準じて、5−(4−(6−ヒド
ロキシ−2,5,乙8−テトラメチル−2H−りo 、
I 7−2−4ルメトキシ)ベンジルコチアゾリジン−
2,4−ジオン120m9をメタノール4mlにとかし
、10%パラジウム炭素40m9の存在下水素圧3〜5
気圧で還元して得られた目的化合物の融点およびNMR
スペクトルは実施例27におけるそれと一致した。
Example 32 (H-3) According to the reaction conditions of Example 23, 5-(4-(6-hydroxy-2,5,8-tetramethyl-2H-rio),
I 7-2-4-methoxy)benzylchothiazolidine-
120 m9 of 2,4-dione was dissolved in 4 ml of methanol, and the hydrogen pressure was 3-5 in the presence of 40 m9 of 10% palladium on carbon.
Melting point and NMR of target compound obtained by reduction at atmospheric pressure
The spectrum matched that in Example 27.

参考例1゜ t−ブチルヒドロキノン1oOg、無水酢酸130m1
.および三フッ化ホウ素酢酸錯塩(40%) 1 kg
の混合物をかくはんしながら60°Cで2時間加熱した
後、さらに90℃で2時間加熱する。冷後反応混合物を
氷水31中に注ぎ、ベンゼンで抽出する。抽出液を水、
飽和炭酸水素す) IJウム水溶液、水で順次洗い、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去する。得られた油
状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;
ベンゼン)に付し、目的化合物を得た。
Reference example 1 t-butylhydroquinone 1oOg, acetic anhydride 130ml
.. and boron trifluoride acetic acid complex salt (40%) 1 kg
The mixture was heated with stirring at 60°C for 2 hours, and then further heated at 90°C for 2 hours. After cooling, the reaction mixture is poured into ice water 31 and extracted with benzene. Add the extract to water,
Wash sequentially with an aqueous IJ carbonate solution and water, dry over anhydrous sodium sulfate, and then evaporate the solvent. The obtained oil was subjected to silica gel column chromatography (eluent;
benzene) to obtain the target compound.

融点: 86.5−87.5℃Melting point: 86.5-87.5℃

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^2は水素原子または低級アルキル基を示し
、R^3は水素原子、脂肪族低級アシル基、脂環式アシ
ル基、置換基を有していてもよい芳香族アシル基、複素
環アシル基、置換基を有していてもよい芳香脂肪族アシ
ル基、低級アルコキシカルボニル基またはアラルキルオ
キシカルボニル基を示し、R^4およびR^5は同一ま
たは異なつて水素原子、低級アルキル基または低級アル
コキシ基を示す。〕 で表わされる化合物と 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は同一または異なる前述したR^2と同
意義を表わす基を示し、nは1乃至3の整数を示す。〕 で表わされる化合物を反応させて 一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5およ
びnは前述したものと同意義を示す。〕 で表わされる化合物を製造し、該化合物を還元し、必要
に応じてアシル化して 一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^3′は同一または異なる前述したR^3と
同意義を表わす基を示し、R^1、R^2、R^3、R
^4、R^5およびnは前述したものと同意義を示す。 〕で表わされる化合物となし、これを脱離反応に付して 一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5およ
びnは前述したものと同意義を示す。〕 で表わされる化合物となし、ついでこれを還元して 一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5およ
びnは前述したものと同意義を示す。〕 で表わされる化合物を得て、該化合物をジアゾ化し、つ
いで 一般式CH_2=CH−A′ 〔式中、A′はシアノ基、カルボキシ基、アルコキシカ
ルボニル基またはカルバモイル基を示す。〕 で表わされるアクリル酸誘導体とメイルバインアリーレ
イシヨン反応に付して 一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5およ
びnは前述したものと同意義を示し、Xはハロゲン原子
を示し、AはA′と同意義を有する基および式−COO
M(式中、Mは等価の陽イオンを示す。)〕で表わされ
る化合物となし、得られる化合物とチオ尿素を反応させ
、必要に応じてさらに、加水分解することを特徴とする 一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5およ
びnは前述したものと同意義を示し、YおよびZは酸素
原子またはイミノ基を示す。〕 で表わされるチアゾリジン誘導体の製法。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1およびR^2は同一または異なつて水素
原子または低級アルキル基を示し、R^3は水素原子、
脂肪族低級アシル基、脂環式アシル基、置換基を有して
いてもよい芳香族アシル基、複素環アシル基、置換基を
有していてもよい芳香脂肪族アシル基、低級アルコキシ
カルボニル基またはアラルキルオキシカルボニル基を示
し、R^4およびR^5は同一または異なつて水素原子
、低級アルキル基または低級アルコキシ基を示し、nは
1乃至3の整数を示す。〕 で表わされる化合物を還元し、必要に応じてさらにアシ
ル化して得られる 一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^3′は同一または異なる前述したR^3と
同意義を表わす基を示し、R^1、R^2、R^3、R
^4、R^5およびnは前述したものと同意義を示す。 〕で表わされる化合物を脱離反応に付して 一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5およ
びnは前述したものと同意義を示す。〕 で表わされる化合物となし、得られる化合物を還元する
ことを特徴とする 一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5およ
びnは前述したものと同意義を示す。〕 で表わされるチアゾリジン誘導体の製法。
[Claims] 1. General formula▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc.▼ [In the formula, R^2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, R^3 represents a hydrogen atom, an aliphatic lower acyl group, Alicyclic acyl group, aromatic acyl group which may have a substituent, heterocyclic acyl group, aromatic aliphatic acyl group which may have a substituent, lower alkoxycarbonyl group or aralkyloxycarbonyl group and R^4 and R^5 are the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group. ] Compounds represented by the general formula ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. shows. ] By reacting the compounds represented by the general formula ▲ there are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. indicates the same meaning. ] A compound represented by is produced, and the compound is reduced and optionally acylated to form the general formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ [In the formula, R^3' is the same or different R^ as mentioned above.] Indicates a group having the same meaning as 3, R^1, R^2, R^3, R
^4, R^5 and n have the same meanings as described above. [In the formula, R^1, R^2, R^3, R^4, R ^5 and n have the same meanings as described above. ] This is then reduced to give the general formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ [In the formula, R^1, R^2, R^3, R^4, R^5 and n indicates the same meaning as described above. ] A compound represented by the following is obtained, the compound is diazotized, and then the general formula CH_2=CH-A' is obtained. [In the formula, A' represents a cyano group, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group. ] There are general formulas ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. for the acrylic acid derivative represented by the acrylic acid derivative and the mailvine arylation reaction ▼ [In the formula, R^1, R^2, R^3, R^4, R^5 and n have the same meanings as described above, X represents a halogen atom, and A represents a group having the same meaning as A' and the formula -COO
M (wherein M represents an equivalent cation)], the resulting compound is reacted with thiourea, and if necessary, further hydrolyzed. There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R^1, R^2, R^3, R^4, R^5 and n have the same meanings as above, and Y and Z are oxygen atoms. Or represents an imino group. ] A method for producing a thiazolidine derivative represented by 2. General formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R^1 and R^2 are the same or different and represent a hydrogen atom or a lower alkyl group, R^3 is a hydrogen atom,
Aliphatic lower acyl group, alicyclic acyl group, aromatic acyl group that may have a substituent, heterocyclic acyl group, aromatic aliphatic acyl group that may have a substituent, lower alkoxycarbonyl group or an aralkyloxycarbonyl group, R^4 and R^5 are the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group, and n represents an integer of 1 to 3. ] General formula obtained by reducing the compound represented by and further acylating if necessary ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R^3' is the same or different as the above-mentioned R^3 Indicates a group expressing the meaning, R^1, R^2, R^3, R
^4, R^5 and n have the same meanings as described above. ] When a compound represented by the following is subjected to an elimination reaction, the general formula ▲ has a mathematical formula, a chemical formula, a table, etc. ▼ [In the formula, R^1, R^2, R^3, R^4, R^5 and n indicates the same meaning as above. ] There are general formulas ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. that are characterized by reducing the resulting compound with the compound represented by ▼ [In the formula, R^1, R^2, R^3, R^4 , R^5 and n have the same meanings as described above. ] A method for producing a thiazolidine derivative represented by
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