JPH0645619B2 - Method for producing thiazolidine derivative - Google Patents

Method for producing thiazolidine derivative

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JPH0645619B2
JPH0645619B2 JP4260986A JP4260986A JPH0645619B2 JP H0645619 B2 JPH0645619 B2 JP H0645619B2 JP 4260986 A JP4260986 A JP 4260986A JP 4260986 A JP4260986 A JP 4260986A JP H0645619 B2 JPH0645619 B2 JP H0645619B2
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solvent
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孝雄 吉岡
岳 藤田
栄一 北沢
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Sankyo Co Ltd
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Sankyo Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 本発明は血中脂質並びに糖代謝改善作用すなわち血中過
酸化脂質低下作用、血中トリグリセライド低下作用、血
中コレステロール低下作用および低糖低下作用を有し、
かつ極めて低毒性の新規チアゾリジン誘導体の製造に関
する。さらに詳しくは、本発明は、一般式 〔式(1)中、RおよびRは同一または異なつて水
素原子または低級アルキル基を、Rおよび後述するR
′は水素原子、脂肪族低級アシル基、脂環式アシル
基、置換基を有していてもよい芳香族アシル基、複素環
アシル基、置換基を有していてもよい芳香脂環族アシル
基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカ
ルボニル基、または低級アルキル基で置換されていても
よいカルバモイル基を、RおよびRは同一または異
なつて水素原子、低級アルキル基または低級アルコキシ
基を、nは1乃至3の整数を、Wはメチレン基、カルボ
ニル基または式 を、YおよびZは酸素原子またはイミノ基を示す。〕で
表わされるチアゾリジン誘導体を製造する方法、さらに
(1)で表わされるチアゾリジンの置換基をカルボニ
ル基からメチレン基に変換する方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention has blood lipid and glucose metabolism improving action, that is, blood lipid peroxidation lowering action, blood triglyceride lowering action, blood cholesterol lowering action and low sugar lowering action,
It also relates to the production of novel thiazolidine derivatives with extremely low toxicity. More specifically, the present invention has the general formula Wherein (1) the R 1 and R 2 are the same or different connexion hydrogen atom or a lower alkyl group, R 3 and described below R
3 'is a hydrogen atom, an aliphatic lower acyl group, an alicyclic acyl group, optionally substituted aromatic acyl group, a heterocyclic acyl group, an aromatic alicyclic have a substituent A carbamoyl group which may be substituted with an acyl group, a lower alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, or a lower alkyl group, R 4 and R 4 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group, n is an integer of 1 to 3, W is a methylene group, a carbonyl group or a formula And Y and Z represent an oxygen atom or an imino group. ] A method for producing a thiazolidine derivative represented by the above formula, and a method for converting a substituent of the thiazolidine represented by the formula (1) from a carbonyl group to a methylene group.

発明の構成 本発明に係わるチアゾリジン誘導体は以下のごとく製造
することができる。
Structure of the Invention The thiazolidine derivative according to the present invention can be produced as follows.

A法 A法はすでに本発明者らによつて、特開昭60−51189号
(前号1と略す)に詳述された方法であり、一般式
(1)において、Wがメチレン基である化合物を製造す
るのに有利に使用される。本法によつて、以下に示すよ
うに、化合物(3)は目的化合物 に導かれる。(A−1→A−5) 上記式中、R,R,R,R,Rおよびnは前
述したものと同意義を示し、mは0乃至2の整数を、X
は塩素、臭素のようなハロゲン原子、特に臭素原子、を
Aはシアノ基、カルボキシ基、メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、ブトキシカルボニルのようなアルコ
キシカルボニル基、特にブトキシカルボニル基、カルバ
モイル基または式−COOM(式中、Mは等価の陽イオンを
示す。)を、 はWがメチレン基であるチアゾリジン誘導体を示し、R
10は後に示す。
Method A Method A is a method which has already been described in detail by the present inventors in JP-A-60-51189 (abbreviated as the preceding item 1) and has a general formula
In (1) , it is advantageously used for producing a compound in which W is a methylene group. According to this method, as shown below, the compound (3) is a target compound. Be led to. (A-1 → A-5) In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and n have the same meanings as described above, m is an integer of 0 to 2 and X is
Is a halogen atom such as chlorine or bromine, especially a bromine atom, and A is an alkoxycarbonyl group such as a cyano group, a carboxy group, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, butoxycarbonyl, particularly a butoxycarbonyl group, a carbamoyl group or a formula —COOM ( In the formula, M represents an equivalent cation), Represents a thiazolidine derivative in which W is a methylene group, R
10 is shown later.

A−1 本工程は、リチウムアルミナムハイドライド、ビトライ
ド〔ソデイウム ビス(2−メトキシエトキシ)アルミ
ナム ハイドライド〕のような金属ハイドライドによる
還元工程である。
A-1 This step is a reduction step using a metal hydride such as lithium aluminum hydride and bitride (sodium bis (2-methoxyethoxy) aluminum hydride).

A−2 本工程は、クロマンアルコール類(4)をニトロ基を有す
るクロマン類(5)に導く工程である。該反応に先立ちフ
エノール性水酸基を保護することが好ましく、水酸基の
保護基R10としては、たとえば、メトキシメチル、2−
テトラヒドロピラニルなどのようなアルコキシアルキル
基が好ましい。保護されたフエノール性水酸基を有する
クロマンアルコール類は、単離することもできるが、単
離することなく、一般式 (式中、Xは前述と同意義を表わす。)を有する化合物
と反応させ、ニトロ基を有するクロマン類(5)に導び
かれる。
A-2 This step is a step of converting chroman alcohols (4) into chromanes (5) having a nitro group. It is preferable to protect the phenolic hydroxyl group prior to the reaction, and examples of the hydroxyl-protecting group R 10 include methoxymethyl and 2-
Alkoxyalkyl groups such as tetrahydropyranyl and the like are preferred. Chroman alcohols having a protected phenolic hydroxyl group can be isolated, but they can be isolated by the general formula (In the formula, X has the same meaning as described above ), and leads to a chroman (5) having a nitro group.

A−3 本工程は、A−2で得られたニトロ体(5)を、対応す
るアミノ体(5)に還元する工程である。該還元反応に
際して、該ニトロ体(5)のフエノール性水酸基の保護
基R10はそのままでもよいが、脱保護してもよく、さら
に他の基、たとえば、アセチル基、ベンゾイル基のよう
なアシル基に変えてもよく、アシル基に変えることが好
ましい。化合物(5)の脱保護をおこなう場合、脱保護
工程は(5)を低濃度の酸の存在下に加水分解すること
によつて達成される。化合物(5)の保護基をアシル基
などに変える場合、該アシル化は上記加水分解によつて
脱保護された化合物をさらにアセチルクロリド、ベンゾ
イルクロリドのような酸ハライド類、無水酢酸のような
酸無水物類で示されるアシル化剤で処理することによつ
て達成される。ニトロ体(6)からアミノ体(6)への
還元反応としては、接触還元あるいは亜鉛、鉄などの金
属と酸(たとえば、塩酸、硫酸などの鉱酸、あるいは酢
酸などの有機酸)にある還元があげられるが、好ましく
は接触還元があげられる。
A-3 This step is a step of reducing the nitro compound (5) obtained in A-2 to the corresponding amino compound (5) . In the reduction reaction, the protecting group R 10 for the phenolic hydroxyl group of the nitro compound (5) may be used as it is, but may be deprotected, and further another group, for example, an acyl group such as an acetyl group or a benzoyl group. May be changed to, and it is preferable to change to an acyl group. When carrying out deprotection of compound (5) , the deprotection step is achieved by hydrolyzing (5) in the presence of a low concentration of acid. When the protecting group of the compound (5) is changed to an acyl group or the like, the acylation is carried out by further adding a compound deprotected by the above hydrolysis to an acid halide such as acetyl chloride or benzoyl chloride or an acid such as acetic anhydride. This is achieved by treatment with an acylating agent represented by anhydrides. The reduction reaction from the nitro form (6) to the amino form (6) includes catalytic reduction or reduction with a metal such as zinc or iron and an acid (for example, a mineral acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid or an organic acid such as acetic acid). However, catalytic reduction is preferable.

A−4 本工程において、酸化第一銅、酸化第二銅のような酸化
銅、または塩化第一銅、塩化第二銅、臭化第一銅、臭化
第二銅もしくはそれらの水和物のような銅イオンの存在
下、芳香族アミノ化合物(6)をジアゾ化して一般式CH
=CH−A′で表わされるアクリル酸誘導体(式中、
A′はシアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル
基またはカルバモイル基を示す。)とメイルバインアリ
ーレイシヨン反応を付けることによつて本発明の目的化
合物(1)の前駆体、α−ハロゲンカルボキシ酸誘導体類
(7)に変換される。
A-4 In this step, cuprous oxide, cupric oxide such as cupric oxide, cuprous chloride, cupric chloride, cuprous bromide, cupric bromide or hydrates thereof The aromatic amino compound (6) is diazotized in the presence of a copper ion such as
2 = CH-A ', an acrylic acid derivative (in the formula,
A'represents a cyano group, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group or a carbamoyl group. ) With a Melbine arylation reaction to give a precursor of the object compound (1) of the present invention, α-halogen carboxylic acid derivatives
Is converted to (7) .

A−5 本工程において、化合物(7)をチオ尿素と反応せしめ
てZがイミノ体であるチアゾリジン誘導体 とし、あるいは、必要に応じて、加水分解反応を行な
い、YおよびZが酸素原子であるチアゾリジン誘導体 とすることができ、さらに、Rが水素原子であるもの とすることもできる。
A-5 In this step, a thiazolidine derivative in which Z is an imino derivative by reacting compound (7) with thiourea Or, if necessary, a hydrolysis reaction is carried out, and a thiazolidine derivative in which Y and Z are oxygen atoms And R 3 is a hydrogen atom Can also be

B法 B法は、一般式(1)において、Wがメチレン基で、nが
2であるものを製造するのに有利に使用される。クロマ
ンアルコール類(4)において、特にnが2であるも
の、(8)、は例えばジヤーナル オブ アメリカン
オイル ケミスツ ソサイアテイ 51巻、200頁(1974)
に記載された方法で、ハイドロキシ類(9) より、上述するように、多段階を経て製造することがで
きるが、特開昭58−201775号に示された方法に従い、一
段階で製造することができ、A−2乃至A−5工程によ
り目的化合物を製造することができる。R,R,R
,R,およびRは前述したものと同意義を示す。
Method B Method B is advantageously used for producing a compound of the general formula (1) in which W is a methylene group and n is 2. Among chroman alcohols (4) , particularly those in which n is 2, (8) are, for example, Journal of American
Oil Chemistry Society 51 , 200 (1974)
Hydroxys (9) by the method described in Thus, as described above, it can be manufactured through multiple steps, but it can be manufactured in one step according to the method disclosed in JP-A-58-201775, and can be manufactured by the steps A-2 to A-5. The target compound can be produced. R 1 , R 2 , R
3 , R 4 and R 5 have the same meanings as described above.

C法 C法もまた、一般式(1)においてWがメチレン基であ
る目的化合物を製造するのに有利に使用される。
Method C Method C is also advantageously used for producing the target compound in which W is a methylene group in the general formula (1) .

本法は、ジヤーナル オブ メデイシナルケミストリー
18巻、934頁(1975)に記載された方法に準じたものであ
り、クロマン環2位にR′(R′は、前述したR
の定義から水素原子を除外したものを示す。)を導入す
るのに、有利に用いることができる。
This method is based on the Journal of Medicinal Chemistry.
Vol. 18 , p. 934 (1975), wherein R 1 ′ at the 2-position of the chroman ring (R 1 ′ is the above-mentioned R 1
The hydrogen atom is excluded from the definition of. Can be advantageously used to introduce a).

本法によつて、以下に示すように、化合物(9)は目的
化合物 に導かれる。
According to this method, as shown below, the compound (9) is the target compound. Be led to.

(C−1→C−11) 上記式中、R′,R,R,R,およびR10は前
述したものと同意義を示し、B1はカルボン酸の保護基、
たとえばアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
ラルキル基、置換されていてもよいフエニル基を示す
が、好ましくは低級アルキル基を示し、特に保護を必要
とせぬ場合は水素原子を示してもよい。
(C-1 → C-11) In the above formula, R 1 ′, R 2 , R 4 , R 5 , and R 10 have the same meanings as described above, B 1 is a carboxylic acid protecting group,
Examples thereof include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group and an optionally substituted phenyl group, preferably a lower alkyl group, and particularly a hydrogen atom when protection is not required.

C−1乃至C−4 該各工程は上記文献に記載された方法と本質的に同等で
ある。
C-1 to C-4 The respective steps are essentially the same as the method described in the above literature.

C−5 C−5工程は必要に応じてなされる、フエノール性水酸
基を保護する工程であるが、C−6工程に先立ちフエノ
ール性水酸基を保護することが好ましい。水酸基を保護
する場合その保護基R10としては、通常のフエノール性
水酸基の保護基たとえば、メトキシメチル、2−テトラ
ヒドロピラニルなどのようなアルコキシアルキル基もし
くは置換していてもよいベンジル基が、また、アセチ
ル、ベンゾイルのようなアシル基があげられるが、アル
コキシアルキル基が好ましい。保護基を導入する反応
は、通常、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化
カルシウムのような水素化アルカリもしくはアルカリ土
類金属、また、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエ
トキサイド、カリウムターシヤリーブトキサイドのよう
なアルカリ金属のアルコラートなどの塩基の存在下、ク
ロロメチルメチルエーテルのようなアルコキシアルキル
化剤、もしくはベンジルハライドのようなアルキル化剤
を用いることによつて達成される。該反応において、溶
媒としては、たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサ
ン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジ
メチルスルホキサイドのようなスルホキサイド類、スル
ホランのようなスルホン類があげられる。化合物(1
2)と該アルキル化剤との割合は、特に限定しないが、
(12)に対してやゝ過剰の該アルキル化剤を用いるの
が有利である。好ましくは化合物(12)1モルに対し
て、該アルキル化剤は1乃至10モルである。反応温度、
反応時間などの反応条件は、用いられる原料、溶媒など
により異なるが、通常反応は0乃至50℃、好適には10−
25℃で、数分乃至数十分行なわれる。このようにして保
護されたクロマンカルボン酸誘導体類は、単離すること
もできるが、単離することなく、C−6工程においてク
ロマン環2位のアルキル化反応に使用することができ
る。
C-5 Step C-5 is a step for protecting the phenolic hydroxyl group, which is carried out as necessary, but it is preferable to protect the phenolic hydroxyl group prior to the step C-6. When protecting the hydroxyl group, as the protecting group R 10 , a usual phenolic hydroxyl protecting group, for example, an alkoxyalkyl group such as methoxymethyl or 2-tetrahydropyranyl, or an optionally substituted benzyl group, Examples thereof include acyl groups such as acetyl, acetyl and benzoyl, and alkoxyalkyl groups are preferable. The reaction for introducing a protecting group is usually carried out using an alkali or alkaline earth metal hydride such as sodium hydride, potassium hydride or calcium hydride, or sodium methoxide, sodium ethoxide or potassium tertiary butoxide. This can be achieved by using an alkoxyalkylating agent such as chloromethyl methyl ether or an alkylating agent such as benzyl halide in the presence of a base such as various alkali metal alcoholates. In the reaction, as the solvent, for example, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, dimethylformamide, Examples thereof include amides such as dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and sulfones such as sulfolane. Compound (1
The ratio of 2) to the alkylating agent is not particularly limited,
It is advantageous to use a slight excess of the alkylating agent relative to (12) . Preferably, the alkylating agent is 1 to 10 mol per 1 mol of the compound (12) . Reaction temperature,
The reaction conditions such as reaction time will differ depending on the starting materials used, solvent, etc., but usually the reaction is 0 to 50 ° C., preferably 10-
It is carried out at 25 ° C for several minutes to several tens of minutes. The chromancarboxylic acid derivatives protected in this manner can be isolated, but can be used for the alkylation reaction at the 2-position of the chroman ring in the C-6 step without isolation.

C−6 C−6工程は、所望に応じて、クロマ環6位に保護され
た水酸基、同環2位にR′を有するクロマンカルボン
酸誘導体類(14)を製造する工程で、クロマン環6位
に保護された水酸基を有するクロマンカルボン酸(1
3)を不活性溶媒中、塩基と処理し、反応液中にカルバ
ニオンを発生させた後、 一般式 R′−X′ (式中、R′は前述したものと同意義を示し、X′は
塩基、臭素、沃素のようなハロゲン原子又はメタンスル
ホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、ベンゼンスル
ホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシのような
スルホニルオキシ基を示す。) を有する化合物を反応させることによつて達成される。
使用される塩基としては、例えば、メチルリチウム、n
−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、フエニルリチ
ウムのような有機リチウム化合物:リチウムジイソプロ
ピルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミド、リチウ
ムイソプロピル シクロヘキシルアミドなどのようなリ
チウムジアルキルアミド類、または、水素化チリウム、
水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのような水素化
アルカリ金属類をあげることができるが、好適には、有
機リチウム化合物、またはリチウムジアルキルアミド類
である。
C-6 The C-6 step is a step of producing a chromancarboxylic acid derivative (14) having a protected hydroxyl group at the 6-position of the chroma ring and R 1 ′ at the 2-position of the same ring, if desired. Chromancarboxylic acid having a hydroxyl group protected at the 6-position (1
3) is treated with a base in an inert solvent to generate a carbanion in the reaction solution, and then the general formula R 1 ′ -X ′ (in the formula, R 1 ′ has the same meaning as described above, X ′ Is a base, a halogen atom such as bromine or iodine, or a sulfonyloxy group such as methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy and p-toluenesulfonyloxy). To be achieved.
Examples of the base used include methyllithium, n
-Butyllithium, t-butyllithium, organolithium compounds such as phenyllithium: lithium dialkylamides such as lithium diisopropylamide, lithium dicyclohexylamide, lithium isopropylcyclohexylamide, or thylium hydride,
Examples thereof include alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, and preferred are organic lithium compounds or lithium dialkylamides.

使用される不活性溶剤としては反応に関与しなければ特
に限定されないが、例えば、エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類があげられる。
The inert solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and examples thereof include ethers such as ether, tetrahydrofuran and dioxane.

反応温度は前段のアニオンの発生では、−78℃乃至室
温であり、後段のアニオンと前記化合物R′−X′と
の反応では、0℃乃至60℃であり、反応に要する時間は
前段では30分間乃至2時間であり、後段では1時間乃
至24時間である。
The reaction temperature is −78 ° C. to room temperature for the generation of the anion in the first stage, and 0 ° C. to 60 ° C. for the reaction of the anion in the second stage with the compound R 1 ′ -X ′, and the time required for the reaction is It is from 30 minutes to 2 hours, and in the latter stage from 1 hour to 24 hours.

C−7乃至C−11 各工程は、それぞれ、A−1乃至A−5工程に対応し、
がアルキル基である目的化合物 が製造される。
The steps C-7 to C-11 correspond to the steps A-1 to A-5, respectively.
Target compound in which R 1 is an alkyl group Is manufactured.

なお、所望に応じて、(13)を用い、C−6工程を経
由せず直接にC−7乃至C−11に準じた反応を実施す
ることにより、Rが水素原子である目的化合物 を製造することができる。
If desired, by using (13) and directly carrying out a reaction according to C-7 to C-11 without going through the C-6 step, the target compound in which R 1 is a hydrogen atom is obtained. Can be manufactured.

D法 本法はすでに本発明者らによつて、特開昭61−36284号
(前号2と略す)に詳述された方法であり、一般式
(1)において、Wがカルボニル基である化合物を製造
するのに有利に使用される。本法によつて、以下に示す
ように化合物(2)は目的物、 に導かれる。(D−1→D−4) 上記式中、R,R,R,R,R、A,Xおよ
びnは前述したものと同意義を示し、 はWがカルボニル基であるチアゾリジン誘導体を示す。
Method D This method is a method which has already been described in detail by the present inventors in JP-A-61-36284 (abbreviated as the previous item 2) and has a general formula
In (1) , it is advantageously used for producing a compound in which W is a carbonyl group. According to this method, as shown below, the compound (2) is a target compound, Be led to. (D-1 → D-4) In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , A, X and n have the same meanings as described above, Represents a thiazolidine derivative in which W is a carbonyl group.

D−1 本工程で、アセトフエノン誘導体類(2)をニトロ体
(15)とピロリジン、ピペリジンもしくはモルホリン
のような有機塩基の存在下で反応せしめ、ニトロフエノ
キシ基を有する4−オキソクロマン誘導体類(16)
製造される。
D-1 In this step, acetophenone derivatives (2) were converted to nitro form
By reacting (15) with pyrrolidine, piperidine, or an organic base such as morpholine, 4-oxochroman derivatives (16) having a nitrophenoxy group are produced.

D−2,D−3,D−4 各工程は、それぞれ、A−3,A−4,A−5工程に対
応し、上述したようにして、Wがカルボニル基である目
的化合物、 が製造される。
Each of D-2, D-3, and D-4 processes corresponds to A-3, A-4, and A-5 processes, respectively, and as described above, the target compound in which W is a carbonyl group, Is manufactured.

E法 E法は一般式(1)において、Wがカルボニル基であり、
かつクロマン環2位に置換基R′を有する化合物を製
造するのに有利に使用される。本法によつて、以下に示
すように、化合物(11)は、中間体(25)に導かれ
る。(E−1→E−7) C−3工程で得られたクロモンカルボン酸 (11)をC−4工程において使用した条件よりも緩
和な条件で、2位と3位の炭素原子が形成する二重結合
のみを還元(E−1)する工程;ならびにE−2乃至E
−7の各工程;によつて構成される。式中、R′,R
,R,R,R10および、B1は前述したものと同意
義を示し、B2は保護されたカルボニル基を示す。
Method E The method E is represented by the general formula (1) in which W is a carbonyl group,
It is also advantageously used to prepare compounds having the substituent R 1 ′ at the 2-position of the chroman ring. According to this method, as shown below, the compound (11) is introduced into the intermediate (25) . (E-1 → E-7) Chromonecarboxylic acid obtained in the C-3 step Reducing (E-1) only the double bond formed by the carbon atoms at the 2- and 3-positions under milder conditions than those used in the step ( C-4); and E-2 to E
Each step of -7; In the formula, R 1 ′, R
2 , R 4 , R 5 , R 10 and B 1 have the same meanings as described above, and B 2 represents a protected carbonyl group.

以下各工程について詳述する。Each step will be described in detail below.

E−1 E−1工程はクロモンカルボン酸類(11)より4−オ
キソクロマンカルボン酸類(19)を得る工程である。
還元方法としては、接触還元が用いられる。接触還元に
用いられる触媒はパラジウム−炭素、ラネ−ニツケル、
酸化白金などがあげられるが、好ましくは、パラジウム
−炭素である。水素圧は1気圧乃至100気圧であるが、
1気圧乃至6気圧が好ましい。溶媒としては、メタノー
ル、エタノールのようなアルコール類、ベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類、テトラヒドロフランの
ようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミドのようなアミド類、酢酸のような有機酸類、
水およびこれらのものの混合物があげられるが、アミド
類が好ましい。反応温度、反応時間などの反応条件は用
いられる原料、溶媒によつて異なるが、通常温度乃至50
℃、好ましくは室温乃至40℃で、数分乃至数日、好まし
くは、約30分乃至約20時間である。
Step E-1 Step E-1 is a step of obtaining 4-oxochromancarboxylic acids (19) from chromonecarboxylic acids (11) .
Catalytic reduction is used as the reduction method. The catalyst used for catalytic reduction is palladium-carbon, Raney-Nickel,
Platinum oxide and the like can be mentioned, but palladium-carbon is preferable. The hydrogen pressure is 1 to 100 atm,
1 atm to 6 atm is preferred. As the solvent, alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, ethers such as tetrahydrofuran, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, organic acids such as acetic acid,
Water and mixtures of these are mentioned, with the amides being preferred. The reaction conditions such as reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials used and the solvent, but usually the temperature to 50
C., preferably room temperature to 40.degree. C., for a few minutes to a few days, preferably about 30 minutes to about 20 hours.

E−2 E−2工程は4−オキソクロマンカルボン酸類(19)
のカルボニル基を、所望により、保護する工程である
が、E−4工程による、クロマン環2位のアルキル化反
応に先立ち該保護を行なうことが望ましい。保護基とし
ては通常のカルボニル基の保護基であれば特に限定はな
く、該オキソ化合物を、たとえば、エノールエーテル
類、あるいはエノールエステル類のような保護されたエ
ノール類に変換してもよいが、環状もしくは非環状のケ
トンアセタール類もしくはケトンジチオアセタール類に
変換してもよく、ケトンジチオアセタール類への変換が
好ましい。保護されたカルボニル基を有するクロマンカ
ルボン酸類(20)〔式中、R,R,R,および
B1は前述したものと同意義を示し、B2は式−B3−B4−B3
−を示し、B3は酸素原子もしくは硫黄原子、好ましくは
硫黄原子を示し、B4はたとえば式−(CH2)2−,式−(C
H2)3−,式−(CH2)4−もしくは式−CH2−CH=CH−CH2
(cis),好ましくは式−(CH2)2−もしくは式−(CH2)
3−、特に式−(CH2)3−を示す。〕の製造は、通常、4
−オキソクロマンカルボン酸類(19)と、エチレング
リコール、1,3−プロパンジオール、1,2−エタンジオー
ル、1,3−プロパンジチオールあるいはcis−2−ブテン
−1,4−ジオールのようなH−B3−B4−B3−H(式中、B
3,B4は前述したものと同意義を示す。)で表わされる
化合物、好ましくは1,3−プロパンジチオールとを、触
媒の存在下もしくは非存在下に脱水反応させることによ
つて達成される。該触媒としては、三フツ化ホウ素、そ
のエーテル錯塩、その酢酸錯塩、塩化アルミニウムのよ
うなルイス酸;もしくは塩酸、硫酸のような無機酸類;
酢酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、パラトルエ
ンスルホン酸、またはメタンスルホン酸のような有機酸
類があげられるが、ルイス酸が好ましく、特に三フツ化
ホウ素の酢酸錯塩が好ましい。溶媒は使用しなくても良
いが、溶媒を使用する場合には、該溶媒としてベンゼ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類、クロロホル
ム、ジクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素類を、
好ましくはクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類
をあげることができる。化合物(19)とH−B3−B4
3−Hとの割合は特に限定はないが、化合物(19)
対して等モルよりやや過剰のH−B3−B43−Hを使用
するのがよい。好ましくは化合物(19)1モルに対し
て、H−B3−B43−H1乃至2モルである。化合物
(19)と触媒との割合は特に限定はないが、化合物
(19)1モルに対して、触媒1乃至4モルである。反
応温度、反応時間などの反応条件は用いられる原料、溶
媒の種類によつて異なるが、通常0℃〜100℃、好まし
くは10°乃至40℃で、数分乃至数日、好ましくは1時間
乃至30時間である。
E-2 The E-2 step is for 4-oxochromancarboxylic acids (19)
The carbonyl group is optionally protected, but it is desirable to carry out the protection prior to the alkylation reaction at the 2-position of the chroman ring in the E-4 step. The protecting group is not particularly limited as long as it is a usual protecting group for a carbonyl group, and the oxo compound may be converted into, for example, a protected enol such as enol ethers or enol esters, It may be converted to cyclic or acyclic ketone acetals or ketone dithioacetals, and conversion to ketone dithioacetals is preferable. Chroman carboxylic acids having a protected carbonyl group (20) [wherein R 2 , R 4 , R 5 , and
B 1 has the same meaning as described above, and B 2 is the formula −B 3 −B 4 −B 3
-, B 3 represents an oxygen atom or a sulfur atom, preferably a sulfur atom, and B 4 represents, for example, the formula — (CH 2 ) 2 —, the formula — (C
H 2 ) 3- , formula-(CH 2 ) 4 -or formula -CH 2 -CH = CH-CH 2-
(cis), preferably of formula-(CH 2 ) 2 --or formula-(CH 2 )
3 −, particularly the formula − (CH 2 ) 3 −. ] Is usually manufactured by
-Oxochromancarboxylic acids (19) and H-such as ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-ethanediol, 1,3-propanedithiol or cis-2-butene-1,4-diol B 3 -B 4 -B 3 -H (wherein, B
3 and B 4 have the same meaning as described above. A), preferably 1,3-propanedithiol, is dehydrated in the presence or absence of a catalyst. As the catalyst, boron trifluoride, its ether complex salt, its acetic acid complex salt, Lewis acid such as aluminum chloride; or inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid;
Organic acids such as acetic acid, succinic acid, fumaric acid, maleic acid, paratoluenesulfonic acid, or methanesulfonic acid can be mentioned, but Lewis acids are preferable, and acetic acid complex salts of boron trifluoride are particularly preferable. Although a solvent may not be used, when a solvent is used, benzene, aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane are used as the solvent.
Preferable examples include halogenated hydrocarbons such as chloroform. Compound (19) H-B 3 -B 4 -
Although 3 ratio of the -H is not particularly limited, compound (19) in slight excess from equimolar to H-B 3 -B 4 - 3 it is preferable to use -H. Preferably compound (19) with respect to 1 mol, H-B 3 -B 4 - a 3 -H1 to 2 moles. Compound
The ratio of (19) to the catalyst is not particularly limited, but the compound
(19) The catalyst is 1 to 4 mol per 1 mol. The reaction conditions such as reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials used and the type of solvent used, but they are generally 0 ° C to 100 ° C, preferably 10 ° to 40 ° C, and several minutes to several days, preferably 1 hour to 30 hours.

E−3 E−3工程は、クロマン環4位が保護されたオキソクロ
マンカルボン酸類(20)の、同環6位のフエノール性
水酸基を、所望により、保護する工程であるが、E−4
工程による、クロマン環2位のアルキル化反応に先立ち
該保護を行なうことが好ましい。
E-3 Step E-3 is a step of protecting the phenolic hydroxyl group at the 6-position of the oxochromancarboxylic acid (20) in which the 4-position of the chroman ring is protected, if desired.
It is preferable to carry out the protection prior to the alkylation reaction at the 2-position of the chroman ring in the step.

水酸基の保護基R10としては、通常のフエノール性水酸
基の保護基たとえば、メトキシメチル、2−テトラヒド
ロピラニルなどのような置換していてもよいアルキル基
もしくは置換していてもよいベンジン基が、また、アセ
チル、ベンゾイルのようなアシル基があげられるが、ア
ルコキシアルキル基が好ましい。保護基を導入する反応
は、例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素
化カルシウムのような水素化アルカリもしくはアルカリ
土類金属、また、ナトリウムメトキシサイド、ナトリウ
ムエトキシサイド、カリウムターシヤリーブトキシサイ
ドのようなアルカリ金属のアルコラートなどの塩基類の
存在下、クロロメチルメチルエーテルのようなアルコキ
シアルキル化剤、もしくはベンジルハライドのようなア
ルキル化剤を用いることによつて達成される。該反応に
おいて、溶媒としては、たとえばジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなア
ミド類、ジメチルスルホキサイドのようなスルホキサイ
ド類、スルホランのようなスルホン類があげられる。化
合物(20)と該アルキル化剤との割合は、特に限定し
ないが、(20)に対して等モルよりやゝ過剰の該アル
キル化剤を用いるのがよく、好ましくは(20)1モル
に対して、該アルキル化剤は1乃至2モルである。
As the hydroxyl-protecting group R 10 , a usual phenolic hydroxyl-protecting group, for example, an optionally substituted alkyl group such as methoxymethyl or 2-tetrahydropyranyl, or an optionally substituted benzine group, Further, an acyl group such as acetyl and benzoyl can be mentioned, but an alkoxyalkyl group is preferable. The reaction for introducing a protecting group is carried out, for example, with alkali hydrides or alkaline earth metals such as sodium hydride, potassium hydride, calcium hydride, sodium methoxyside, sodium ethoxyside, potassium tertiary butoxide. This is accomplished by using an alkoxyalkylating agent such as chloromethyl methyl ether or an alkylating agent such as benzyl halide in the presence of bases such as various alkali metal alcoholates. In the reaction, as the solvent, for example, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, dimethylformamide, Examples thereof include amides such as dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and sulfones such as sulfolane. The ratio of the compound (20) to the alkylating agent is not particularly limited, but it is preferable to use the alkylating agent in a molar excess over an equimolar amount with respect to (20) , preferably (20) The alkylating agent is 1 to 2 mol per 1 mol.

反応温度、反応時間などの反応条件は、用いられる原
料、溶媒などにより異なるが、通常反応は0乃至50℃
で、数分乃至数時間である。このようにして保護された
クロマンカルボン酸類(21)は単離することもできる
が単離することなくE−4工程で使用することもでき
る。
The reaction conditions such as reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials, solvent, etc. used, but usually the reaction is 0 to 50 ° C.
It takes several minutes to several hours. The chromancarboxylic acids (21) thus protected can be isolated, but can also be used in the E-4 step without isolation.

E−4 E−4工程は、所望に応じて、クロマン環6位に保護さ
れた水酸基、同環4位に保護されたカルボニル基、同環
2位にR′を有するクロマンカルボン酸類(22)
製造する工程で、クロマン環6位に保護された水酸基、
同環4位に保護されたカルボニル基を有するクロマンカ
ルボン酸類(21)を不活性溶媒中、塩基と処理し、反
応液中にカルバニオンを発生させた後、一般式R′−
X′ (式中、R′は前述したものと同意義を示し、X′は
塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子又はメタンスル
ホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、ベンゼンスル
ホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシのような
スルホニルオキシ基を示す。) を有する化合物を反応させることによつて達成される。
使用される塩基としては、例えば、メチルリチウム、n
−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、フエニルリチ
ウムのような有機リチウム化合物;リチウムジイソプロ
ピルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミド、リチウ
ムイソプロピル シクロヘキシルアミドなどのようなリ
チウムジアルキルアミド類;または、水素化リチウム、
水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのような水素化
アルカリ金属類をあげることができるが、好適には有機
リチウム化合物、またはリチウムジアルキルアミド類で
ある。
E-4 Step E-4 is, if desired, a chromane carboxylic acid having a hydroxyl group protected at the 6-position of the chroman ring, a carbonyl group protected at the 4-position of the same ring, and a chromancarboxylic acid having R 1 ′ at the 2-position of the same ring (22 In the process of producing ) , a hydroxyl group protected at the 6-position of the chroman ring,
Chroman carboxylic acids (21) having a carbonyl group protected at the 4-position of the same ring are treated with a base in an inert solvent to generate a carbanion in the reaction solution, and then the compound of the general formula R 1 ′-
X ′ (in the formula, R 1 ′ has the same meaning as described above, X ′ is a halogen atom such as chlorine, bromine, iodine or methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy, p-toluenesulfonyloxy. And a compound having a sulfonyloxy group such as) is reacted.
Examples of the base used include methyllithium, n
An organolithium compound such as -butyllithium, t-butyllithium, phenyllithium; a lithium dialkylamide such as lithium diisopropylamide, lithium dicyclohexylamide, lithium isopropylcyclohexylamide; or lithium hydride
Alkali metal hydrides such as sodium hydride, potassium hydride and the like can be mentioned, with preference given to organolithium compounds or lithium dialkylamides.

使用される不活性溶剤としては反応に関与しなければ特
に限定されないが、例えば、エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類が好適に使用され
る。
The inert solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, but ethers such as ether, tetrahydrofuran and dioxane are preferably used.

反応温度は前段のアニオンの発生では、−78℃乃至室温
であり、後段のアニオンと前記化合物R′−X′との
反応では、0℃乃至60℃であり、反応に要する時間は前
段では30分間乃至2時間であり、後段では1時間乃至24
時間である。
The reaction temperature is −78 ° C. to room temperature for the generation of the anion in the first stage, and 0 ° C. to 60 ° C. for the reaction between the anion in the second stage and the compound R 1 ′ -X ′, and the time required for the reaction is 30 minutes to 2 hours, followed by 1 hour to 24 hours
It's time.

なお、所望に応じて、Rが水素原子であるクロマンカ
ルボン酸類(21)を用い、E−4工程を経由すること
なく、直接にE−5工程に準じた還元反応並びに以降に
示した各反応を実施することにより、Rが水素原子で
ある目的化合物 を製造することができる。
If desired, chromancarboxylic acids (21) in which R 1 is a hydrogen atom are used, and the reduction reaction according to the E-5 step is directly performed without passing through the E-4 step, and each of the following respective reactions. By carrying out the reaction, the target compound in which R 1 is a hydrogen atom Can be manufactured.

E−5 E−5工程は、クロマン−2−カルボン酸類(22)
を、A−1工程に準じて、対応するアルコール類(2
3)に還元する工程であり、還元剤としては、たとえば
リチウム アルミナム ハイドライド、ビトライド(ソ
デイウム ビス〔2−メトキシ エトキシ〕アルミナム
ハイドライド)などのようなハイドライド類が使用さ
れる。還元反応で使用される溶媒としては、たとえば、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリ
コールジメチルエーテルのようなエーテル類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘ
キサン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エーテル、リ
グロイン、エチルシクロヘキサンのような脂肪族炭化水
素類、などがあげられる。
E-5 E-5 step is chroman-2-carboxylic acid(22)
The corresponding alcohols according to step A-1(2
3)And the reducing agent is, for example,
Lithium Aluminium Hydride, Bitride (Sodium
Dium bis [2-methoxyethoxy] aluminum
 Hydrides) such as
Be done. Examples of the solvent used in the reduction reaction include:
Diethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol
Ethers such as kohl dimethyl ether, benze
Aromatic hydrocarbons such as ethylene, toluene, xylene,
Xane, heptane, cyclohexane, petroleum ether,
Aliphatic hydrocarbons such as groin, ethylcyclohexane
And the like.

化合物(22)と還元剤の割合は特に限定はないが、化
合物(22)に対してやや過剰の還元剤を使用するのが
良い。好ましくは、化合物(22)1モルに対して、1
〜2モルである。反応温度、反応時間などの反応条件は
用いられる原料、溶媒などによって異なるが、通常−50
°乃至120℃で約10分乃至約20時間である。
The ratio of the compound (22) to the reducing agent is not particularly limited, but it is preferable to use a slight excess of the reducing agent with respect to the compound (22) . Preferably, 1 mol per 1 mol of compound (22)
~ 2 moles. The reaction conditions such as reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials used, solvent, etc.
It is about 10 minutes to about 20 hours at ° to 120 ° C.

E−6 E−6工程は、E−5工程で得られたアルコール類(2
3)に基 を導入する工程である。該工程は化合物(23)に、通
常、塩基たとえば、水素化ナトリウム、水素化カルシウ
ムのような水素化アルカリもしくはアルカリ土類金属、
また、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイ
ド、カリウムターシヤリーブトキサイドのようなアルカ
リ金属のアルコラート、好適には水素化ナトリウム、も
しくはナトリウムエトキサイドを反応させて、化合物
(23)を対応するアルコキサイドとし、これに一般式 (式中、Xは前述したものと同意義を示す。)を有する
化合物を反応させることによつて達成される。
E-6 The E-6 step is the alcohol (2) obtained in the E-5 step.
Based on 3) Is a step of introducing. This step is carried out by using a compound (23) , usually a base, for example, an alkali hydride or an alkaline earth metal such as sodium hydride or calcium hydride,
In addition, an alkali metal alcoholate such as sodium methoxide, sodium ethoxide, and potassium tertiary butoxide is preferably reacted with sodium hydride or sodium ethoxide to give a compound.
(23) is the corresponding alkoxide, and the general formula This is achieved by reacting a compound having the formula (wherein X has the same meaning as defined above).

該反応において、溶媒としては、たとえばジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよ
うなアミド類、ジメチルスルホキサイドのようなスルホ
キサイド類、スルホランのようなスルホン類があげられ
るがアミド類が好適に使用される。化合物(23)と塩
基との割合は特に限定はないが、化合物(23)に対し
て、やや過剰の塩基を使用するのが良く、好ましくは化
合物(23)1モルに対して塩基1乃至2モルである。
化合物(23)と化合物 との割合は特に限定はないが、化合物(23)に対して
過剰の化合物 を用いるのがよく、好ましくは(23)1モルに対いし
て、 1乃至10モルである。反応温度、反応時間などの反応条
件は、用いられる原料、溶媒などによつて異なるが、通
常30°乃至100℃で数分乃至数時間である。
In the reaction, as the solvent, for example, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, dimethylformamide, Examples thereof include amides such as dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and sulfones such as sulfolane, and amides are preferably used. The ratio of the compound (23) to the base is not particularly limited, but it is preferable to use a slight excess of the base with respect to the compound (23) , preferably 1 to 2 bases per 1 mol of the compound (23). It is a mole.
Compound (23) and compound The ratio of and is not particularly limited, but an excess amount of the compound with respect to the compound (23) Is preferably used, and preferably (23) per 1 mol, It is 1 to 10 mol. The reaction conditions such as reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials, solvent and the like used, but are usually 30 ° C. to 100 ° C. and several minutes to several hours.

本工程で得られた、クロマン環4位に保護されたカルボ
ニル基を有するニトロ化合物(24)は、D−2,D−
3,D−4で示される還元反応、メイルバイン アリー
レイシヨン、チオ尿素との反応を経て目的化合物 へと段階的に変換されるが、該クロマン環4位に関する
脱保護反応は上記いずれの段階で実施してもよく、例え
ば好ましい方法の一つとして、E−7に示す工程をあげ
ることができる。
The nitro compound (24) having a carbonyl group protected at the 4-position of the chroman ring obtained in this step is D-2, D-
3, a target compound through a reduction reaction represented by D-4, a mail vine arylation, and a reaction with thiourea However, the deprotection reaction at the 4-position of the chroman ring may be carried out at any of the above steps. For example, one of the preferable methods is the step shown in E-7. .

E−7 E−7工程は、所望に応じて、クロマン環6位に保護さ
れた水酸基、4位に保護されたカルボニル基を有するニ
トロ体(24)の脱保護を行なう工程である。本工程に
おいては、通常4位の脱保護反応が実施されるが、やゝ
過激な反応条件を設定することにより、同6位の脱保護
を、同時に達成することが可能である。
E-7 Step E-7 is a step of deprotecting the nitro compound (24) having a hydroxyl group protected at the 6-position of the chroman ring and a carbonyl group protected at the 4-position, if desired. In this step, the deprotection reaction at the 4-position is usually carried out, but the deprotection at the 6-position can be achieved at the same time by setting reaction conditions that are rather radical.

脱保護剤としては、特に限定はないが、通常の脱保護
剤、たとえば、塩酸、硫酸のようなプロトン酸;三フツ
化ホウ素、そのエーテル錯塩、その酢酸錯塩、塩化アル
ミニウムのようなルイス酸;特にB3が硫黄原子の場合、
重金属塩類、重金属酸化物または重金属過酸化物;また
はこれらの2者もしくは3者の混合物があげられ;重金
属イオンとしては銀、カドミウム、二価の水銀、二価の
銅、三価のタリウムがあげられ;重金属イオンの対イオ
ンとしては、塩素、臭素、ヨウ素のようなハロゲンイオ
ン、硝酸イオン、過塩素酸イオンのような過酸化物イオ
ンがあげられ;その他ヨウ素、スルフリルコロリドのよ
うなスルフリルハライド類、N−クロロサクシンイミ
ド、N−プロモサクシンイミドのようなN−ハロイミド
類があげられるが、好適には塩化第二水銀、あるいは酸
化水銀、あるいはそれらの混合物、特にその混合物であ
る。使用される溶媒としては、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノールのようなアルコー
ル類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタンの
ようなハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、酢酸のような有機酸類、
アセトニトリルのようなニトリル類、および水、並びに
これらの混合溶媒をあげることができる。
The deprotecting agent is not particularly limited, but a conventional deprotecting agent, for example, a protic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid; boron trifluoride, an ether complex salt thereof, an acetic acid complex salt thereof, a Lewis acid such as aluminum chloride; Especially when B 3 is a sulfur atom,
Heavy metal salts, heavy metal oxides or heavy metal peroxides; or mixtures of two or three of these; examples of heavy metal ions are silver, cadmium, divalent mercury, divalent copper, trivalent thallium. Examples of the counter ion of heavy metal ions include halogen ions such as chlorine, bromine and iodine, and peroxide ions such as nitrate ion and perchlorate ion; and other sulfuryl halides such as iodine and sulfuryl chloride. Examples thereof include N-haloimides such as N-chlorosuccinimide and N-bromosuccinimide, preferably mercuric chloride or mercury oxide, or a mixture thereof, particularly a mixture thereof. Examples of the solvent used include alcohols such as methanol, ethanol, propanol and isopropanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane and dichloroethane, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane. , Organic acids such as acetic acid,
Examples thereof include nitriles such as acetonitrile, water, and a mixed solvent thereof.

化合物(24)と脱保護剤との割合は特に限定はなく、
通常(24)1モルに対して、脱保護剤1乃至10モル、
好適には1乃至4モルである。反応温度、反応時間など
の反応条件は、用いられる原料および溶媒などによつて
異なるが、通常室温乃至100℃、好適には40乃至80℃
で、数分乃至数時間、好適には0.5乃至4時間である。
The ratio of the compound (24) to the deprotecting agent is not particularly limited,
Usually (24) 1 to 10 moles of a deprotecting agent,
It is preferably 1 to 4 mol. The reaction conditions such as reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials and solvent used, but are usually room temperature to 100 ° C, preferably 40 to 80 ° C.
It is several minutes to several hours, preferably 0.5 to 4 hours.

以後、得られる化合物(25)を用いてD−2工程以下
の方法に準じた方法を逐次用いることによつて目的化合
物、 の製造が達成される。
Thereafter, using the obtained compound (25) , the target compound is obtained by sequentially using a method according to the method of Step D-2 or below. Manufacturing is achieved.

F法 F法は、Wがメチレン基である目的化合物、 をD法に関する記載において示した、Wがカルボニル基
である化合物(16)から製造するのに有利に使用され
る。
Method F Method F is a target compound in which W is a methylene group, Is advantageously used to prepare the compound (16) shown in the description of Method D in which W is a carbonyl group.

本法によつて、以下に示すように、化合物(16)は中
間体(6)に導かれる。(F−1→F−5) 式中、R,R,R,R,R,およびnは前述
したものと同意義を示し、▲R3 a▼′はRの定義より
水素原子を除外したものを示す。
According to this method, as shown below, the compound (16) is introduced into the intermediate (6) . (F-1 → F-5) In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and n have the same meanings as described above, and ▲ R 3 a ▼ 'represents R 3 excluding a hydrogen atom. .

F−1 F−1工程は、ニトロ基を有する4−オキソクロマン化
合物(16)を、対応する4−ヒドロキシ化合物(2
6)に還元する工程である。還元剤としては、水素化ホ
ウ素ナトリウム、k−セレクトライドのような還元剤が
あげられ、特に水素化ホウ素ナトリウムで該還元反応は
好適に達成される。
F-1 In the F-1 step, the 4-oxochroman compound (16) having a nitro group is converted to the corresponding 4-hydroxy compound (2
This is a step of reducing to 6) . Examples of the reducing agent include reducing agents such as sodium borohydride and k-selectride, and the reducing reaction is preferably achieved with sodium borohydride.

化合物(16)と水素化ホウ素ナトリウムとの反応は通
常溶媒中で行なわれる。該溶媒としては、たとえばメタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール
類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類
などがあげられる。化合物(16)と水素化ホウ素ナト
リウムとの使用モル比は特に限定されないが、化合物
(16)に対して過剰の水素化ホウ素ナトリウムを使用
するのがよい。好ましくは化合物(16)1モルに対し
1〜20モルである。反応温度、反応時間などの反応条件
は用いられる原料、溶媒などにより異なるが、通常反応
は0乃至100℃で1時間乃至約20時間である。
The reaction of compound (16) with sodium borohydride is usually carried out in a solvent. Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol and ethylene glycol monomethyl ether, and ethers such as tetrahydrofuran and dioxane. The molar ratio of the compound (16) to sodium borohydride used is not particularly limited,
It is advisable to use an excess of sodium borohydride with respect to (16) . It is preferably 1 to 20 mol per 1 mol of the compound (16) . The reaction conditions such as reaction temperature and reaction time vary depending on the starting materials, solvent and the like used, but the reaction is usually at 0 to 100 ° C. for 1 to 20 hours.

F−2 F−2工程は、所望に応じて、該ヒドロキシ体(26)
をアシル化する工程である。
F-2 In the F-2 step, the hydroxy derivative (26) can be used, if desired.
Is a step of acylating.

化合物(26)は酸ハロゲン化物であるいは酸無水物の
ようなアシル化剤と反応させることによつて、目的とす
るアシル化物(28)に変換することができる。
The compound (26) can be converted to the desired acyl compound (28) by reacting with an acid halide or with an acylating agent such as an acid anhydride.

反応は通常溶媒中で行なわれる。使用される溶媒として
は、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタ
ンのような脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素類、ピリジン、トリ
エチルアミンのような有機塩基類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジメチル
スルホキサイドのようなスルホキサイド類、スルホラン
のようなスルホン類などがあげられる。
The reaction is usually performed in a solvent. Examples of the solvent used include ethers such as ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, dichloromethane and chloroform. Examples thereof include halogenated hydrocarbons, organic bases such as pyridine and triethylamine, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and sulfones such as sulfolane.

化合物(26)とアシル化剤の割合は特に限定はない
が、化合物(26)に対して等モルよりやや過剰のアシ
ル化剤を使用するのがよい。好ましくは化合物(26)
1モルに対し、アシル化剤1〜10モルである。反応温
度、反応時間などの反応条件は用いられる原料、溶媒の
種類によつて異なるが、通常0乃至100℃で、数分乃至
約20時間である。
The ratio of the compound (26) to the acylating agent is not particularly limited, but it is preferable to use the acylating agent in a slightly equimolar amount to the compound (26) . Preferably compound (26)
The amount of the acylating agent is 1 to 10 mol per 1 mol. The reaction conditions such as reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials used and the type of solvent used, but they are generally 0 to 100 ° C. and several minutes to about 20 hours.

F−3 F−3工程は、ニトリ基を有する4−ヒドロキシクロマ
ン化合物(26)から水を脱離させることによつて、 2H−クロメン類(27)を製造する工程である。
F-3 Step F-3 is a step of producing 2H-chromenes (27) by removing water from the 4-hydroxychroman compound (26) having a nitri group.

該脱離反応は、脱水剤もしくは、脱水触媒の、存在下も
しくは非存在下に達成される。脱水剤もしくは脱水触媒
として、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸のような無機酸類、
酢酸、コハク酸、マレイン酸のような有機酸類、パラト
ルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスル
ホン酸のようなスルホン酸類、塩化アンモニウム、塩化
カルシウムなどの無機塩類、五酸化リン、ポリリン酸、
シリカゲル、アルミナ等があげられるが、酢酸などの有
機酸類、パラトルエンスルホン酸などのスルホン酸類が
好適である。
The elimination reaction is accomplished in the presence or absence of a dehydrating agent or dehydrating catalyst. As a dehydrating agent or catalyst, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid,
Acetic acid, succinic acid, organic acids such as maleic acid, paratoluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, sulfonic acids such as methanesulfonic acid, ammonium chloride, inorganic salts such as calcium chloride, phosphorus pentoxide, polyphosphoric acid,
Examples thereof include silica gel and alumina, and organic acids such as acetic acid and sulfonic acids such as paratoluenesulfonic acid are preferable.

該脱離反応に際して、溶媒は使用しなくてもよいが、溶
媒を使用する場合は、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノールのようなアルコール類、アセトン、メチル、
エチルケトンのようなケトン類、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、
トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルムようなハロゲン化炭
化水素類、酢酸、プロピオン酸などの有機酸類、ピリジ
ン、トリエチルアミンような有機塩基類、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジ
メチルスルホキサイドのようなスルホキサイド類、スル
ホランのようなスルホン酸、水などがあげられ、好適に
はベンゼンのような芳香族炭化水素類もしくは酢酸のよ
うな有機酸類があげられる。脱水剤、もしくは脱水触媒
を使用する場合は、化合物(26)と脱水剤、もしくは
脱水触媒との割合は、特に限定はないが、通常化合物
(26)1モルに対して該脱水剤もしくは脱水触媒は0.
01乃至10モル、好適には、0.1乃至3モルである。反応
温度、反応時間などの反応条件は用いられる原料、溶媒
の種類によつて異なるが、通常0乃至100℃で、数分乃
至約20時間である。
A solvent may not be used in the elimination reaction, but when a solvent is used, alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol, acetone, methyl,
Ketones such as ethyl ketone, ethers, tetrahydrofuran, ethers such as dioxane, benzene,
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, organic acids such as acetic acid and propionic acid, pyridine and triethylamine. Organic bases, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethylsulfoxide, sulfonic acids such as sulfolane, and water, preferably aromatic hydrocarbons such as benzene. And organic acids such as acetic acid. When a dehydrating agent or a dehydrating catalyst is used, the ratio of the compound (26) to the dehydrating agent or the dehydrating catalyst is not particularly limited, but is usually a compound
(26) The amount of the dehydrating agent or dehydrating catalyst is 0.
The amount is 01 to 10 mol, preferably 0.1 to 3 mol. The reaction conditions such as reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials used and the type of solvent used, but they are generally 0 to 100 ° C. and several minutes to about 20 hours.

F−4 F−4工程は、ニトロ基を有する4−アシルオキシクロ
マン化合物(28)から、化合物▲R3 a▼′OH(▲R
3 a▼′は前述と同意義を示す。)を離脱させることによ
つて、2H−クロメン類(27)を製造する工程である。
F-4 The F-4 step is performed by converting the 4-acyloxychroman compound (28) having a nitro group into the compound ▲ R 3 a ▼ 'OH (▲ R
3 a ▼ ′ has the same meaning as described above. ) Is released to produce 2H-chromenes (27) .

該脱離反応は、脱酸剤もしくは脱酸触媒の存在下もしく
は非存在下に達成される。
The elimination reaction is accomplished in the presence or absence of a deoxidizing agent or deoxidizing catalyst.

脱酸剤、もしくは脱酸触媒として、塩酸、硫酸、硝酸、
リン酸のような無機酸類、酢酸、コハク酸、マレイン酸
のような有機酸類、パラトルエンスルホン酸、ナフタレ
ンスルホン酸、メタンスルホン酸のようなスルホン酸
類、塩化アンモニウム、塩化カルシウムのような無機塩
類、ピリジン、トリエチルアミン、のような有機塩基
類、シリカゲル、アルミナ等があげられるが、好適には
酢酸などの有機酸類、パラトルエンスルホン酸などのス
ルホン酸類があげられる。
As a deoxidizing agent or deoxidizing catalyst, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid,
Inorganic acids such as phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, succinic acid, maleic acid, sulfonic acids such as paratoluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, methanesulfonic acid, inorganic salts such as ammonium chloride and calcium chloride, Examples thereof include organic bases such as pyridine and triethylamine, silica gel, alumina, and the like, with preference given to organic acids such as acetic acid and sulfonic acids such as paratoluenesulfonic acid.

該脱酸反応に際して、溶媒は使用しなくてもよいが、溶
媒を使用する場合には、メタノール、エタノール、イソ
プロパノールのようなアルコール類、アセトン、メチル
エチルケトンのようなケトン類、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、
トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルムのようなハロゲン化
炭化水素類、酢酸プロピオン酸などの有機酸類、ピリジ
ン、トリエチルアミンのような有機塩基類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、
ジメチルスルホキサイドのようなスルホキサイド類、ス
ルホランのようなスルホン類、水などがあげられ、好適
にはベンゼンのような芳香族炭化水素類、もしくは酢酸
のような有機酸類があげられる。
A solvent may not be used in the deoxidation reaction, but when a solvent is used, alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol, acetone and ketones such as methyl ethyl ketone, ether, tetrahydrofuran and dioxane are used. Such as ethers, benzene,
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, organic acids such as acetic acid propionate, pyridine and triethylamine. Organic bases such as, amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide,
Examples thereof include sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, sulfones such as sulfolane, water and the like, preferably aromatic hydrocarbons such as benzene, and organic acids such as acetic acid.

脱酸剤もしくは脱酸触媒を使用する場合は、化合物(2
8)と脱酸剤もしくは脱酸触媒との割合は、特に限定は
ないが、通常、化合物(28)1モルに対して、該脱酸
剤もしくは脱酸触媒は0.01モル乃至10モル、好適には、
0.1乃至3モルである。反応温度、反応時間などの反応
条件は用いられる原料、溶媒の種類などによつて異なる
が、通常、0乃至120℃、好適には40°乃至100℃で、数
分乃至数日、好適には、10分乃至10時間である。
When a deoxidizing agent or deoxidizing catalyst is used, the compound (2
The ratio of 8) to the deoxidizing agent or the deoxidizing catalyst is not particularly limited, but usually 0.01 mol to 10 mol of the deoxidizing agent or the deoxidizing catalyst, preferably 1 mol of the compound (28). Is
It is 0.1 to 3 mol. The reaction conditions such as reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials used, the type of solvent, etc., but are usually 0 to 120 ° C., preferably 40 ° to 100 ° C., and a few minutes to a few days, preferably , 10 minutes to 10 hours.

F−5 F−5工程は、ニトロ基を有する2H−クロメン類(2
7)のニトロ基および炭素・炭素二重結合を同時に、還
元することによりアミノ基を有するクロマン類(6)
製造する工程である。
F-5 The F-5 step is performed in the 2H-chromenes (2
This is a step of producing chromanes (6) having an amino group by simultaneously reducing the nitro group and the carbon-carbon double bond of 7) .

該還元反応には、接触還元法が好適に使用される。接触
還元に用いられる触媒はパラジウム−炭素、ラネーニツ
ケル、酸化白金などがあげられるが、好ましくは、パラ
ジウム−炭素である。水素圧は1気圧乃至100気圧であ
るが、1気圧乃至6気圧が好ましい。溶媒としては、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、ベンゼ
ン、トルエンのような芳香族炭化水素類、テトラヒドロ
フランのようなエーテル類、酢酸のような有機酸類、水
およびこれらのものの混合物があげられる。反応温度、
反応時間は用いられる原料、溶媒によつて異なるが、通
常室温乃至50℃で数分乃至約20時間である。
A catalytic reduction method is preferably used for the reduction reaction. Examples of the catalyst used for catalytic reduction include palladium-carbon, Raney-Nitzkel, platinum oxide and the like, but palladium-carbon is preferable. The hydrogen pressure is 1 atm to 100 atm, preferably 1 atm to 6 atm. Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, ethers such as tetrahydrofuran, organic acids such as acetic acid, water, and a mixture of these. Reaction temperature,
While the reaction time varies depending on the starting materials and solvent used, it is generally several minutes to about 20 hours at room temperature to 50 ° C.

以後、得られる化合物(6)を用いてA−4工程によつ
て、α−ハロゲノカルボン酸誘導体類(7)の製造が達
成される。
After that, the production of α-halogenocarboxylic acid derivatives (7) is achieved by the step A-4 using the obtained compound (6) .

なお、F−1,F−2,F−3,F−4,F−5,A−
4および/もしくは、目的とするチアゾリジン誘導体を
製造する最終工程は順次、所望に応じて、中間体(2
6)(27)(28)(6),および/あるいは
(7)を単離することなく実施し得る。
In addition, F-1, F-2, F-3, F-4, F-5, A-
4 and / or the final step for producing the desired thiazolidine derivative is sequentially carried out, if desired, with the intermediate (2
6) , (27) , (28) , (6) , and / or
(7) can be carried out without isolation.

また、なお、たとえばF法で示した工程は、示された順
序に限定されることはない。すなわち、たとえば、クロ
マン環4位がカルボニル基である化合物(16)有する
ニトロ基を最初に還元し、次いで、4位カルボニル基の
還元を行ない、さらに脱水して2H−クロメンとし、次い
で還元反応を行ないアミノ化合物(6)とすることなど
はF法と同等である。
Further, for example, the steps shown by Method F are not limited to the order shown. That is, for example, the nitro group having the compound (16) in which the 4-position of the chroman ring is a carbonyl group is first reduced, then the 4-position carbonyl group is reduced, and further dehydrated to 2H-chromene, followed by the reduction reaction. Performing the amino compound (6) is the same as in the F method.

G法 G法は、F法と類似的で、以下に示すように一般式
(1)においてWがメチレン基である化合物を、クロマ
ン環4位がカルボニル基である化合物から、製造するの
に使用することができる。すなわち、D法、E法、およ
びA法で述べたクロマン環6位の水酸基の保護基の脱保
護反応、同、水酸基のアシル化反応により製造された、
B2が式−S−(CH2)p−S−、(式中pは2,3,4を示
す。)を有する化合物(29)あるいは(31)をラネ
ーニツケル などのニツケル触媒により、接触還元するとクロマン4
位がメチレンである化合物(30)あるいは(32)
を、それぞれ、得ることができる。
G method G method is similar to F method and can be expressed by the general formula
(1)In which W is a methylene group,
From a compound in which the 4-position of the ring is a carbonyl group.
Can be used for That is, D method, E method, and
And deprotection of the protecting group for the hydroxyl group at the 6-position of the chroman ring described in Method A.
Protection reaction, the same as that produced by the acylation reaction of the hydroxyl group,
B2Is the formula -S- (CH2)p-S-, (In the formula, p represents 2,3,4
You Compound having(29)Or(31)Ranet
-NickelChromane 4 when catalytically reduced by a nickel catalyst such as
Compounds where the position is methylene(30)Or(32)
Can be obtained respectively.

水素圧は1気圧乃至100気圧であるが、1気圧乃至6気
圧が好ましい。溶媒としては、メタノール、エタノール
のようなアルコール類、ベンゼン、トルエンのような芳
香族炭化水素類、テトラヒドロフランのようなエーテル
類、酢酸のような有機酸、水およびこれらのものの混合
物があげられる。反応温度、反応時間は用いられる原
料、溶媒によつて異なるが、通常室温乃至50℃で数分乃
至約20時間である。
The hydrogen pressure is 1 atm to 100 atm, preferably 1 atm to 6 atm. Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, ethers such as tetrahydrofuran, organic acids such as acetic acid, water, and a mixture of these. The reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials and solvent used, but will usually be from room temperature to 50 ° C., and from several minutes to about 20 hours.

H法 H法は、一般式(1)においてWがカルボニル基である
チアゾリジン誘導体で特にYおよびZが共に酸素原子で
ある化合物(33)を、Wがメチレン基である化合物
(36)に変換するものである。
Method H is a thiazolidine derivative in which W is a carbonyl group in the general formula (1) , particularly a compound (33) in which Y and Z are both oxygen atoms, and a compound in which W is a methylene group.
It is converted into (36) .

式中、R,R,R,R′,R,Rおよびn
は前述したものと同意義を示す。
Where R 1 , R 2 , R 3 , R 3 ′, R 4 , R 5 and n
Has the same meaning as described above.

H−1 本工程は、目的化合物の1つであるWがカルボニル基、
YとZが共に酸素原子であるチアゾリジン誘導体(3
3)を、水素化ホウ素ナトリウム、K−セレクトライド
のような還元剤、特に水素化ホウ素ナトリウムで還元
し、必要に応じてさらにアシル化剤を反応せしめ、Wが
(式中、R′は前記と同意義を示す。)であるチアゾ
リジン誘導体(34)へ変換せしめるものであり、その
詳細は前号2の記載と同等である。
H-1 In this step, W, which is one of the target compounds, is a carbonyl group,
A thiazolidine derivative in which both Y and Z are oxygen atoms (3
3) is reduced with a reducing agent such as sodium borohydride or K-selectride, especially sodium borohydride, and further reacted with an acylating agent if necessary, and W is represented by the formula (In the formula, R 3 ′ has the same meaning as described above), and the thiazolidine derivative (34) can be converted into the details, which are the same as those described in 2 above.

H−2 本工程は、H−1に次いで、クロマン環4位の−OR3
(式中、R′は前述と同意義を示す。)を脱離せし
め、クロマン環3および4位が炭素・炭素二重結合であ
るチアゾリジン誘導体(35)とするものである。その
詳細は、本発明におけるF−3および/もしくはF−4
工程に準ずるものである。
H-2 In this step, after H-1 is followed by —OR 3 ′ at the 4-position of the chroman ring.
(In the formula, R 3 ′ has the same meaning as described above) is eliminated to obtain a thiazolidine derivative (35) in which the chroman ring 3 and 4 positions are carbon-carbon double bonds. For details, see F-3 and / or F-4 in the present invention.
It is similar to the process.

H−3 本工程は、H−2に次いで、該二重結合を還元するもの
であり、本工程によつて目的化合物の1つである、
(1)式においてWがメチレン基;YおよびZが共に酸
素原子であるチアゾリジン誘導体(36)が製造され
る。その詳細は、本発明におけるF−5工程(但し、F
−5工程はニトロ基の還元反応も同様に行なうものであ
る。)に準ずるものである。
H-3 This step is to reduce the double bond after H-2 and is one of the target compounds according to this step.
In the formula (1) , a thiazolidine derivative (36) in which W is a methylene group; Y and Z are both oxygen atoms is produced. The details are described in the F-5 step (provided that F
In step -5, the reduction reaction of the nitro group is similarly performed. ).

本発明に係る、Rおよび/もしくはR′が水素原子
であるチアゾリジン誘導体については、通常の方法によ
つて、対応するエステル類に誘導することができる。
The thiazolidine derivative according to the present invention in which R 3 and / or R 3 ′ is a hydrogen atom can be converted to the corresponding ester by a conventional method.

本発明を説明する、チアゾリジン誘導体(1)の製造方
法、すなわち、B,C,E,F,GおよびH法のうち、
好ましいものはC,E,FおよびH法;さらに好ましい
ものはC,FおよびH法;特に好ましいものはFおよび
H法である。
The method for producing the thiazolidine derivative (1) , that is, the B, C, E, F, G, and H methods for explaining the present invention,
Preferred are methods C, E, F and H; more preferred are methods C, F and H; particularly preferred are methods F and H.

本発明において最も好適な化合物、即ち式(1)におい
てR、R、RおよびRがメチル基を示し、R
が水素原子を示し、Wがメチレン基を示し、YおよびZ
が酸素原子を示し、nが1を示す化合物、を製造するに
際しては、下記の工程に順次付す製法が好ましい。
The most preferable compound in the present invention, that is, in the formula (1), R 1 , R 2 , R 4 and R 5 represent a methyl group, and R 3
Represents a hydrogen atom, W represents a methylene group, Y and Z
When producing a compound in which is an oxygen atom and n is 1, a production method in which the following steps are sequentially performed is preferable.

即ち、式(2)を有する化合物と式(15)を有する化
合物とを反応させて式(16)を有する化合物を製造し
(D−1工程)、次いで得られた化合物を還元して式
(26)を有する化合物を製造し(F−1工程)、次い
で得られた化合物を脱水反応に付して式(27)を有す
る化合物を製造し(F−3工程)、次いで得られた化合
物を還元して式(6)を有する化合物を製造し(F−5
工程)、次いで得られた化合物をジアゾ化し、更に一般
式CH=CH−A(式中、Aはカルボキシ基またはア
ルコキシカルボニル基、特にブトキシカルボニル基、を
示す。)で表されるアクリル酸誘導体とメイルバインア
リーレイション反応に付して式(7)を有する化合物を
製造し(A−4工程)、次いで得られた化合物をチオ尿
素と反応させ、必要に応じて加水分解をすることによっ
て式(1)を有する化合物を製造する方法である。
That is, the compound having the formula (2) is reacted with the compound having the formula (15) to produce the compound having the formula (16) (step D-1), and then the obtained compound is reduced to give the formula ( 26) is produced (step F-1), then the obtained compound is subjected to a dehydration reaction to produce a compound having the formula (27) (step F-3), and then the obtained compound is obtained. Reduction to produce a compound having formula (6) (F-5
Step), then diazotizing the obtained compound, and further represented by the general formula CH 2 ═CH—A (wherein A represents a carboxy group or an alkoxycarbonyl group, particularly a butoxycarbonyl group). To produce a compound having the formula (7) by subjecting it to a Meylbaine arylation reaction (step A-4), and then reacting the obtained compound with thiourea, and optionally by hydrolysis. A method for producing a compound having (1).

この方法によれば工程の短縮、収率の向上はもとより、
有害、有毒および有臭物質の不使用、産業廃棄物の極少
化、の目的にかない、その結果住環境、作業環境等のい
わゆる地球環境の保全への貢献が特筆される。
According to this method, not only the process is shortened and the yield is improved,
The use of harmful, toxic, and odorous substances, the minimization of industrial waste, and other purposes are notable, and as a result, the contribution to the conservation of the so-called global environment such as the living environment and working environment is noted.

該化合物(1)において、クロマン環の2位およびアゾ
リン環5位の炭素原子はそれぞれ不斉炭素原子であり、
それらに基づく各異性体もまた(1)式に包含される。
In the compound (1) , the carbon atom at the 2-position of the chroman ring and the 5-position of the azoline ring are asymmetric carbon atoms,
Each isomer based on them is also included in the formula (1) .

本発明に係る方法によつて、たとえば、次表に示すよう
な構造式を有する、好ましい化合物を製造することがで
きる。
By the method according to the present invention, for example, preferable compounds having the structural formulas shown in the following table can be produced.

(略号:たとえば、1−Me.butyl等は1−methylbutyl
を示す。) 以下に実施例および参考例を上げて本発明をさらに具体
的に説明する。
(Abbreviation: For example, 1-Me.butyl is 1-methylbutyl
Indicates. ) Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Reference Examples.

NMRスペクトルに関する略号、nd、は他シグナルまたは
溶媒等のシグナルと重なり、判別が不可能であることを
示す。
The abbreviations for NMR spectra, nd, overlap with other signals or signals of solvents and the like, indicating that discrimination is impossible.

実施例1(C−4) エチル 6−ヒドロキシ−5,7,8−トリメチルクロマン
−2−カルボキシレート エチル 6−ヒドロキシ−5,7,8−トリメチルクロモン
−2−カルボキシレート14gを酢酸320mにとかし、1
0%パラジウム炭素3.5gの存在下、水素圧3気圧、60〜
65℃で1時間接触還元した。該触媒を別し、液を水
中にあけ析出した白色結晶を取した。この目的物の融
点は108〜109℃であつた。
Example 1 (C-4) Ethyl 6-hydroxy-5,7,8-trimethylchroman-2-carboxylate Ethyl 6-hydroxy-5,7,8-trimethylchromone-2-carboxylate 14 g was dissolved in 320 m of acetic acid. , 1
Hydrogen pressure 3 atm, 60-
It was catalytically reduced at 65 ° C. for 1 hour. The catalyst was separated and the solution was poured into water to deposit white crystals. The melting point of this target product was 108 to 109 ° C.

NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.28(3H,t,J,=7Hz), 2.07(3H,s), 2.17(6H,s), 1.9〜2.3(2H,nd), 2.65(2H,br.t,J=7Hz), 4.22(2H,q,J=7Hz), 4.1〜4.3(1H,nd), 4.60(1H,dd,J=7および4Hz)。NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 1.28 (3H, t, J, = 7Hz), 2.07 (3H, s), 2.17 (6H, s), 1.9 to 2.3 (2H, nd), 2.65 (2H, br) .t, J = 7Hz), 4.22 (2H, q, J = 7Hz), 4.1 to 4.3 (1H, nd), 4.60 (1H, dd, J = 7 and 4Hz).

実施例2(C−5) エチル 6−メトキシメトキシ−5,7,8−トリメチルク
ロマン−2−カルボキシレート エチル 6−ヒドロキシ−5,7,8−トリメチルクロマン
−2−カルボキシレート14.3g、ジメチルホルムアミド
130mの混合物に、窒素気流下、5−10℃で55%油性
水素化ナトリウム3g(シクロヘキサンで2回洗う)を
少しずつ加える。室温で1時間かきまぜたのち、3〜5
℃に氷冷し、クロロメチルメチルエーテル5.6gを滴下
する。滴下終了後室温で1時間かきまぜる。反応混合物
を氷水に注ぎ、シクロヘキサンで抽出する。抽出液を水
で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下
に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
(溶離液;ベンゼン:酢酸エチル=25:1)に付し、目
的化合物を得た。
Example 2 (C-5) Ethyl 6-methoxymethoxy-5,7,8-trimethylchroman-2-carboxylate Ethyl 6-hydroxy-5,7,8-trimethylchroman-2-carboxylate 14.3 g, dimethylformamide
To a 130 m mixture, under nitrogen flow, 3 g of 55% oily sodium hydride (wash twice with cyclohexane) was added little by little at 5-10 ° C. Stir at room temperature for 1 hour, then 3-5
After ice-cooling to ℃, 5.6 g of chloromethyl methyl ether is added dropwise. After the dropping, stir for 1 hour at room temperature. The reaction mixture is poured into ice water and extracted with cyclohexane. The extract was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was evaporated under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: benzene: ethyl acetate = 25: 1) to obtain the target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーのRF値=0.41(展開
溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=20:1) NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.27(3H,t,J=7Hz), 2.0−2.4(2H,nd), 2.15(3H,s), 2.16(3H,s), 2.2(3H,s), 2.64(2H,br.t,J=7Hz), 3.61(3H,s), 4.24(2H,q,J=7Hz), 4.64(1H,dd,J=4および7Hz), 4.87(2H,s)。
RF value of silica gel thin layer chromatography = 0.41 (developing solvent; benzene: ethyl acetate = 20: 1) NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 1.27 (3H, t, J = 7Hz), 2.0-2.4 (2H , nd), 2.15 (3H, s), 2.16 (3H, s), 2.2 (3H, s), 2.64 (2H, br.t, J = 7Hz), 3.61 (3H, s), 4.24 (2H, q , J = 7Hz), 4.64 (1H, dd, J = 4 and 7Hz), 4.87 (2H, s).

実施例3(C−6) エチル 2−イソブチル−6−メトキシメトキシ−5,7,
8−トリメチルクロマン−2−カルボキシレート ジイソプロピルアミン4.6gのテトラヒドロフラン100m
溶液に−20〜−10℃でn−ブチルリチウムのヘキサン
溶液(1.62mmo/m)25mを加え−5℃で20分
間攪拌した後、−70〜−60℃に冷却しエチル 6−メト
キシメトキシ−5,7,8−トリメチルクロマン−2−カル
ボキシレート2gのテトラヒドロフラン10m溶液を滴
下し同温で2時間攪拌した。臭化イソブチル10gを滴下
し室温で一夜放置後、40℃で4時間加熱した。反応混合
物を減圧下に濃縮し、水および酢酸エチルを加え有機層
を分液、水洗し無水硫酸ソーダ上で乾燥した。溶媒を留
去して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(溶
離液;ヘキサン:酢酸エチル=7:1)に付し目的物を
得た。
Example 3 (C-6) Ethyl 2-isobutyl-6-methoxymethoxy-5,7,
8-Trimethylchroman-2-carboxylate Diisopropylamine 4.6 g tetrahydrofuran 100 m
To the solution was added 25m of a hexane solution of n-butyllithium (1.62mmo / m) at -20 to -10 ° C and stirred at -5 ° C for 20 minutes, then cooled to -70 to -60 ° C and ethyl 6-methoxymethoxy-. A 10 m solution of tetrahydrofuran containing 2 g of 5,7,8-trimethylchroman-2-carboxylate was added dropwise, and the mixture was stirred at the same temperature for 2 hours. 10 g of isobutyl bromide was added dropwise, and the mixture was left at room temperature overnight, and then heated at 40 ° C for 4 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, water and ethyl acetate were added, the organic layer was separated, washed with water, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent; hexane: ethyl acetate = 7: 1) to obtain the desired product.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーのRf値=0.59(展開
溶剤;ヘキサン:酢酸エチル:トルエン=3:1:1) NMRスペクトル(δppm,CDC): 0.9〜1.3(9H,nd), 1.4〜2.7(7H,nd), 2.10(3H,s), 2.16(3H,s), 2.20(3H,s), 3.60(3H,s), 4.12(2H,q,J=7Hz), 4.86(2H,s)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 0.59 (developing solvent; hexane: ethyl acetate: toluene = 3: 1: 1) NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 0.9 to 1.3 (9H, nd), 1.4 to 2.7 (7H, nd), 2.10 (3H, s), 2.16 (3H, s), 2.20 (3H, s), 3.60 (3H, s), 4.12 (2H, q, J = 7Hz), 4.86 (2H, s) ).

実施例4(E−1) エチル 6−ヒドロキシ−5,7,8−トリメチルクロモン
−2−カルボキシレート エチル 6−ヒドロキシ−5,7,8−トリメチル−4−オ
キソクロマン−2−カルボキシレート12gをジメチルホ
ルムアミド250mにとかし、10%パラジウム炭素16g
の存在下、水素圧5気圧、50〜60℃で7時間接触還元し
た。該触媒を去し、液を大量の水に注ぎ、析出した
結晶を取した。得られた結晶を酢酸エチルより再結晶
し、目的化合物を得た。
Example 4 (E-1) Ethyl 6-hydroxy-5,7,8-trimethylchromone-2-carboxylate Ethyl 6-hydroxy-5,7,8-trimethyl-4-oxochroman-2-carboxylate 12 g was added to dimethyl. Formamide 250m, 10% palladium on carbon 16g
Under a hydrogen pressure of 5 atm at 50 to 60 ° C. for 7 hours. The catalyst was removed, the liquid was poured into a large amount of water, and the precipitated crystals were collected. The obtained crystal was recrystallized from ethyl acetate to obtain the target compound.

融点:120−121℃ NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.26(3H,t,J=7Hz), 2.23(6H,s), 2.52(3H,s), 2.98(2H,d,J=7Hz), 4.24(2H,q,J=7Hz), 4.83(1H,s), 4.94(1H,t,J=7Hz), 上記目的化合物を取した液を酢酸エチルで抽出し、
抽出液を無水硫酸ソーダで乾燥、次いで溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(溶離液;
ヘキサン:酢酸エチル=1:1)に付し、第一のフラク
シヨンからは目的化合物を、第二のフラクシヨンからは
エチル 4,6−ジヒドロキシ−5,7,8−トリメチルクロマ
ン−2−カルボキシレートを得た。
Melting point: 120-121 ° C NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 1.26 (3H, t, J = 7Hz), 2.23 (6H, s), 2.52 (3H, s), 2.98 (2H, d, J = 7Hz) ), 4.24 (2H, q, J = 7Hz), 4.83 (1H, s), 4.94 (1H, t, J = 7Hz), extract the solution containing the above target compound with ethyl acetate,
The extract is dried over anhydrous sodium sulfate, then the solvent is distilled off,
The residue is subjected to silica gel column chromatography (eluent;
Hexane: ethyl acetate = 1: 1), and the target compound from the first fraction and ethyl 4,6-dihydroxy-5,7,8-trimethylchroman-2-carboxylate from the second fraction. Obtained.

融点:138−144℃。Melting point: 138-144 ° C.

実施例5(E−2) エチル スピロ〔6−ヒドロキシ−5,7,8−トイメチル
クロマン−4,2′−〔1,3〕ジチアン〕−2−カルボキシ
レート エチル 6−ヒドロキシ−5,7,8−トリメチル−4−オ
キソクロマン−2−カルボキシレート16.6g,1,3−プ
ロパンジチオール9.7gのクロロホルム500m溶液に氷
冷下三フツ化ホウ素酢酸錯塩(三フツ化ホウ素40%)20
mを滴下し、室温にて24時間放置した。反応混合物を
氷水中にあけ、炭酸カリウムで中和した後、酢酸エチル
にて抽出し、抽出液を無水硫酸ソーダ上にて乾燥した。
溶媒を減圧下に留去し、残渣を酢酸エチルより再結晶し
目的化合物を得た。
Example 5 (E-2) Ethyl Spiro [6-hydroxy-5,7,8-toymethylchroman-4,2 '-[1,3] dithiane] -2-carboxylate Ethyl 6-hydroxy-5,7 1,8-Trimethyl-4-oxochroman-2-carboxylate 16.6g, 1,3-propanedithiol 9.7g in a 500m solution of chloroform under ice-cooling Boron trifluoride acetic acid complex salt (boron trifluoride 40%) 20
m was added dropwise and the mixture was left at room temperature for 24 hours. The reaction mixture was poured into ice water, neutralized with potassium carbonate, extracted with ethyl acetate, and the extract was dried over anhydrous sodium sulfate.
The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was recrystallized from ethyl acetate to obtain the target compound.

融点:186−188℃ NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.35(3H,t,J=7Hz), 1.8−2.4(2H,nd), 2.18(6H,s), 2.5−2.9(3H,nd), 2.80(3H,s), 3.0−3.5(3H,m), 4.31(2H,q,J=7Hz), 4.50(1H,s), 4.79(1H,dd,J=2および10Hz)。Mp: 186-188 ° C. NMR spectrum (δ ppm, CDC 3): 1.35 (3H, t, J = 7Hz), 1.8-2.4 (2H, nd), 2.18 (6H, s), 2.5-2.9 (3H, nd ), 2.80 (3H, s), 3.0−3.5 (3H, m), 4.31 (2H, q, J = 7Hz), 4.50 (1H, s), 4.79 (1H, dd, J = 2 and 10Hz).

実施例6(E−3) エチル スピロ〔6−メトキシメトキシ−5,7,8−トリ
メチルクロマン−4,2′−〔1.3〕ジチアン〕−2−カル
ボキシレート エチル スピロ〔6−ヒドロキシ−5,7,8−トリメチル
クロマン−4,2′−〔1,3〕ジチアン〕−2−カルボキシ
レート6.6g,ジメチルホルムアミド100m,55%油性
水素化ナトリウム1gの混合物に室温下、超音波処理を
1時間行つた後、氷冷下にクロロメチルメチルエーテル
3gを加え、温室下に1夜放置した。反応混合物に水を
加え酢酸エチルにて抽出し、水層はさらにベンゼンにて
抽出した。酢酸エチル溶液、ベンゼン溶液とも3回水洗
し、両者を合わせて無水硫酸ソーダ上にて乾燥した。溶
媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフイー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)
に付し、目的化合物を得た。
Example 6 (E-3) Ethylspiro [6-methoxymethoxy-5,7,8-trimethylchroman-4,2 '-[1.3] dithiane] -2-carboxylate Ethylspiro [6-hydroxy-5,7 A mixture of 6.6 g of 8,8-trimethylchroman-4,2 ′-[1,3] dithian] -2-carboxylate, 100 m of dimethylformamide and 1 g of 55% oily sodium hydride was sonicated at room temperature for 1 hour. Then, 3 g of chloromethyl methyl ether was added under ice cooling, and the mixture was left in a greenhouse overnight. Water was added to the reaction mixture and extracted with ethyl acetate, and the aqueous layer was further extracted with benzene. Both the ethyl acetate solution and the benzene solution were washed with water three times, and both were combined and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent; hexane: ethyl acetate = 5: 1).
And the target compound was obtained.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーのRf値=0.21(展開
溶剤;ヘキサン:酢酸エチル=5:1) NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.34(3H,t,J=7Hz), 1.7−2.4(2H,nd), 2.16(3H,s), 2.21(3H,s), 2.5−3.0(3H,nd), 2.87(3H,s) 3.0−3.5(3H,nd), 3.60(3H,s), 4.30(2H,q,J=7Hz), 4.7−5.0(1H,nd), 4.89(2H,s)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 0.21 (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 5: 1) NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 1.34 (3H, t, J = 7Hz), 1.7-2.4 (2H , nd), 2.16 (3H, s), 2.21 (3H, s), 2.5-3.0 (3H, nd), 2.87 (3H, s) 3.0-3.5 (3H, nd), 3.60 (3H, s), 4.30 (2H, q, J = 7Hz), 4.7−5.0 (1H, nd), 4.89 (2H, s).

実施例7(E−4およびE−5) スピロ〔2−イソブチル−6−メトキシメトキシ−5,7,
8−トリメチルクロマン−4,2′−〔1,3〕ジチアン〕−
2−イソメタノール ジイソプロピルアミン3gのテトラヒドロフラン90m
液中に−60℃〜−50℃にて、n−ブチルリチウムのヘキ
サン溶液(ブチルリチウム1.62mmo/m)15m
を滴下し、室温に20分間放置した。−60℃にてエチル
スピロ〔6−メトキシメトキシ−5,7,8−トリメチルク
ロマン−4,2′−〔1,3〕ジチアン〕−2−カルボキシレ
ート4.8gを加え、10分間攪拌した後臭化イソブチル4.1
gを加え30分間攪拌後、室温下1.5時間攪拌し、さらに
臭化イソブチル3gを加え40℃にて5時間加熱した。反
応混合物を−50℃に冷却し、リチウムアルミナムハイド
ライド0.6gを加え室温下1時間攪拌した。反応混合物
にベンゼン、酢酸エチル及び水を加え、有機層を分離し
水洗後、無水硫酸ソーダ上にて乾燥した。溶媒を減圧下
に留去し、残渣をリカゲルカラムクロマトグラフイー
(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に付し、目
的化合物を得た。
Example 7 (E-4 and E-5) Spiro [2-isobutyl-6-methoxymethoxy-5,7,
8-Trimethylchroman-4,2 '-[1,3] dithiane]-
2-isomethanol diisopropylamine 3g tetrahydrofuran 90m
15m of hexane solution of n-butyllithium (butyllithium 1.62mmo / m) at -60 ℃ to -50 ℃ in liquid
Was dropped and the mixture was left at room temperature for 20 minutes. Ethyl at -60 ° C
Add 4.8 g of spiro [6-methoxymethoxy-5,7,8-trimethylchroman-4,2 '-[1,3] dithiane] -2-carboxylate, stir for 10 minutes, and then add isobutyl bromide 4.1.
g was added and the mixture was stirred for 30 minutes, then stirred at room temperature for 1.5 hours, further added with 3 g of isobutyl bromide and heated at 40 ° C. for 5 hours. The reaction mixture was cooled to −50 ° C., 0.6 g of lithium aluminum hydride was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Benzene, ethyl acetate and water were added to the reaction mixture, the organic layer was separated, washed with water and then dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was evaporated under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: hexane: ethyl acetate = 5: 1) to obtain the target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーのRf値=0.16(展開
溶剤;ヘキサン:酢酸エチル=5:1) NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.03(3H,d,J=6Hz), 1.04(3H,d,J=6Hz), 1.70(2H,d,J=6Hz), 1.8−2.3(3H,nd), 2.08(3H,s) 2.20(3H,s), 2.3−3.0(4H,nd), 2.91(3H,s), 3.05−3.95(5H,nd), 3.62(3H,s), 4.88(2H,s)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 0.16 (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 5: 1) NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 1.03 (3H, d, J = 6Hz), 1.04 (3H, d , J = 6Hz), 1.70 (2H, d, J = 6Hz), 1.8−2.3 (3H, nd), 2.08 (3H, s) 2.20 (3H, s), 2.3−3.0 (4H, nd), 2.91 ( 3H, s), 3.05-3.95 (5H, nd), 3.62 (3H, s), 4.88 (2H, s).

実施例8(E−6) スピロ〔2−イソブチル−6−メトキシメトキシ−5,7,
8−トリメチル−2−(4−ニトロフエノキシメチル)
クロマン−4,2′−〔1,3〕ジチアン〕 55%油性水素化ナトリウム0.6gとテトラヒドロフラン2
0mの混合物中にエタノール4mを加え、さらに、
スピロ〔2−イソブチル−6−メトキシメトキシ−5,7,
8−トリメチルクロマン−4,2′−〔1,3〕ジチアン〕−
2−イルメタノール3.2gのテトラヒドロフラン20m
溶液を加えた。減圧下に溶媒を留去し乾固させた後、ジ
メチルホルムアミド30mを加え、減圧下に40℃で1時
間加温した。p−ニトロクロロベンゼン10gを加え50℃
で2時間加熱した。
Example 8 (E-6) Spiro [2-isobutyl-6-methoxymethoxy-5,7,
8-Trimethyl-2- (4-nitrophenoxymethyl)
Chroman-4,2 '-[1,3] dithiane] 55% oily sodium hydride 0.6 g and tetrahydrofuran 2
4m of ethanol was added to the mixture of 0m, and further,
Spiro [2-isobutyl-6-methoxymethoxy-5,7,
8-Trimethylchroman-4,2 '-[1,3] dithiane]-
2-ylmethanol 3.2 g tetrahydrofuran 20 m
The solution was added. After the solvent was distilled off under reduced pressure to dryness, 30 m of dimethylformamide was added, and the mixture was heated at 40 ° C. for 1 hour under reduced pressure. Add 10g of p-nitrochlorobenzene, 50 ℃
Heated for 2 hours.

反応混合物に水を加え、ベンゼンで抽出し、ベンゼン溶
液を2回水洗した後、無水硫酸ソーダ上にて乾燥した。
溶媒を減圧下に留去し、残渣をリシカゲルカラムクロマ
トグラフイー(溶離液;ヘキサン:酢酸=6:1)に付
し、目的化合物を得た。
Water was added to the reaction mixture, extraction was performed with benzene, the benzene solution was washed twice with water, and then dried over anhydrous sodium sulfate.
The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to Lysica gel column chromatography (eluent; hexane: acetic acid = 6: 1) to obtain the target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーのRf値=0.54(展開
溶剤;ヘキサン:酢酸エチル=2:1) NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.02(3H,d,J=6Hz), 1.09(3H,d,J=6Hz), 1.83(2H,d,J=6Hz), 1.8−2.3(3H,nd), 2.11(3H,s), 2.22(3H,s), 2.3−2.9(3H,nd), 2.89(3H,s), 3.0−3.7(3H,nd), 3.62(3H,s), 3.92(1H,d,J=4.5Hz), 4.50(1H,d,J=4.5Hz), 4.90(2H,s), 6.90(2H,d,J=4.5Hz), 8.17(2H,d,J=4.5Hz)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 0.54 (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 2: 1) NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 1.02 (3H, d, J = 6Hz), 1.09 (3H, d , J = 6Hz), 1.83 (2H, d, J = 6Hz), 1.8−2.3 (3H, nd), 2.11 (3H, s), 2.22 (3H, s), 2.3−2.9 (3H, nd), 2.89 (3H, s), 3.0−3.7 (3H, nd), 3.62 (3H, s), 3.92 (1H, d, J = 4.5Hz), 4.50 (1H, d, J = 4.5Hz), 4.90 (2H, s), 6.90 (2H, d, J = 4.5Hz), 8.17 (2H, d, J = 4.5Hz).

実施例9(E−7) 2−イソブチル−6−メトキシメトキシ−5,7,8−トリ
メチル−2−(4−ニトロフエノキシメチル)−4−オ
キソクロマン(1) および2−イソブチル−6−ヒドロキシ−5,7,8−トリ
メチル−2−(4−ニトロフエノキシメチル)−4−オ
キソクロマン(2) スピロ〔2−イソブチル−6−メトキシメトキシ−5,7,
8−トリメチル−2−(4−ニトロフエノキシメチル)
クロマン−4,2′−〔1,3〕ジチアン〕3.3g,塩化第二
水銀4g,酸化第二水銀1.4g,および10%含水メタノ
ール30mの混合物を2時間加熱還流した。反応混合物
にエーテルを加え、不溶物を別し、液を食塩水、つ
いで硫酸アンモニウム水溶液で洗つた後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフイー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチ
ル=4:1)に付し、分離・精製を行い目的化合物(1)
および(2)を得た。
Example 9 (E-7) 2-Isobutyl-6-methoxymethoxy-5,7,8-trimethyl-2- (4-nitrophenoxymethyl) -4-oxochroman (1) and 2-isobutyl-6- Hydroxy-5,7,8-trimethyl-2- (4-nitrophenoxymethyl) -4-oxochroman (2) spiro [2-isobutyl-6-methoxymethoxy-5,7,
8-Trimethyl-2- (4-nitrophenoxymethyl)
A mixture of 3.3 g of chroman-4,2 '-[1,3] dithiane], 4 g of mercuric chloride, 1.4 g of mercuric oxide, and 30 m of 10% hydrous methanol was heated under reflux for 2 hours. Ether was added to the reaction mixture, the insoluble matter was separated, the solution was washed with brine and then with an aqueous solution of ammonium sulfate, and then dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent; hexane: ethyl acetate = 4: 1) to separate and purify the target compound (1).
And (2) were obtained.

シリカゲル薄層クロマトグラフイー(展開溶剤;ヘキサ
ン:酢酸エチル=2:1) (1)のRf値=0.48 (2)のRf値=0.40 NMRスペクトル(δppm,CDC): (1)1.01(6H,d,J=6Hz), 1.84(2H,s), 1.6−2.1(1H,nd), 2.12(3H,s), 2.27(3H,s), 2.58(3H,s), 2.81(1H,d,J=19Hz), 3.00(1H,d,J=19Hz), 3.62(3H,s), 4.14(1H,d,J=11Hz), 4.25(1H,d,J=11Hz), 4.89(2H,s), 6.95(2H,d,J=4.5Hz), 8.20(2H,d,J=4.5Hz), (2)0.98(3H,d,J=6Hz), 1.00(3H,d,J=6Hz), 1.80(2H,d,J=6Hz), 1.65−2.1(1H,nd) 2.13(3H,s), 2.23(3H,s), 2.57(3H,s), 2.82(1H,d,J=14Hz), 3.00(1H,d,J=14Hz), 4.13(1H,d,J=12Hz), 4.27(1H,d,J=12Hz), 4.66(1H,s), 6.95(2H,d,J=9Hz), 8.19(2H,d,J=9Hz)。
Silica gel thin layer chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 2: 1) Rf value of (1) = 0.48 Rf value of (2) = 0.40 NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): (1) 1.01 ( 6H, d, J = 6Hz), 1.84 (2H, s), 1.6−2.1 (1H, nd), 2.12 (3H, s), 2.27 (3H, s), 2.58 (3H, s), 2.81 (1H, d, J = 19Hz), 3.00 (1H, d, J = 19Hz), 3.62 (3H, s), 4.14 (1H, d, J = 11Hz), 4.25 (1H, d, J = 11Hz), 4.89 (2H , s), 6.95 (2H, d, J = 4.5Hz), 8.20 (2H, d, J = 4.5Hz), (2) 0.98 (3H, d, J = 6Hz), 1.00 (3H, d, J = 6Hz), 1.80 (2H, d, J = 6Hz), 1.65−2.1 (1H, nd) 2.13 (3H, s), 2.23 (3H, s), 2.57 (3H, s), 2.82 (1H, d, J) = 14Hz), 3.00 (1H, d, J = 14Hz), 4.13 (1H, d, J = 12Hz), 4.27 (1H, d, J = 12Hz), 4.66 (1H, s), 6.95 (2H, d, J = 9Hz), 8.19 (2H, d, J = 9Hz).

実施例10(D−2) 6−アセトキシ−2−イソブチル−5,7,8−トリメチル
−2−(4−ニトロフエノキシメチル)クロマン−4−
オン 6−ヒドロキシ−2−イソブチル−5,7,8−トリメチル
−2−(4−ニトロフエノキシメチル)クロマン−4−
オン1.5g,ピリジン30m,の混合物に、無水酢酸3
gを加えて、室温で35時間かきまぜた。反応混合物を濃
縮し、水を加えた後酢酸エチルおよびベンゼンで抽出
し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減
圧下に留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフイー
(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に付し、目
的混合物を得た。
Example 10 (D-2) 6-acetoxy-2-isobutyl-5,7,8-trimethyl-2- (4-nitrophenoxymethyl) chroman-4-
On 6-hydroxy-2-isobutyl-5,7,8-trimethyl-2- (4-nitrophenoxymethyl) chroman-4-
Acetic anhydride 3 in a mixture of 1.5 g of ON and 30 m of pyridine.
g, and the mixture was stirred at room temperature for 35 hours. The reaction mixture was concentrated, water was added, the mixture was extracted with ethyl acetate and benzene, and the extract was dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent; hexane: ethyl acetate = 5: 1) to obtain a target mixture.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーのRf値=0.42(展開
溶剤;ヘキサン:酢酸エチル=2:1)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 0.42 (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 2: 1).

NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.01(6H,d,J=6Hz), 1.7−2.2(3H,nd) 2.09(3H,s), 2.12(3H,s), 2.33(3H,s), 2.42(3H,s), 2.91(2H,AB型,J=18Hz), 4.13および4.25(2H,AB型,J=9Hz), 6.95(2H,d,J=9Hz), 8.20(2H,d,J=9Hz)。NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 1.01 (6H, d, J = 6Hz), 1.7−2.2 (3H, nd) 2.09 (3H, s), 2.12 (3H, s), 2.33 (3H, s), 2.42 (3H, s), 2.91 (2H, AB type, J = 18Hz), 4.13 and 4.25 (2H, AB type, J = 9Hz), 6.95 (2H, d, J = 9Hz), 8.20 (2H, d, J = 9Hz).

実施例11(D−2) 6−アセトキシ−2−(4−アミノフエノキシメチル)
−2−イソブチル−5,7,8−トリメチルクロマン−4−
オン 6−アセトキシ−2−イソブチル−5,7,8−トリメチル
−2−(4−ニトロフエノキシメチル)クロマン−4−
オン1.4gをメタノール35mにとかし、10%パラジウ
ム炭素1gの存在下、水素圧約1気圧で3時間還元し
た。触媒を去後、溶媒を減圧下留去し目的物を得た。
Example 11 (D-2) 6-acetoxy-2- (4-aminophenoxymethyl)
-2-isobutyl-5,7,8-trimethylchroman-4-
On 6-acetoxy-2-isobutyl-5,7,8-trimethyl-2- (4-nitrophenoxymethyl) chroman-4-
1.4 g of on was dissolved in 35 m of methanol and reduced under a hydrogen pressure of about 1 atm for 3 hours in the presence of 1 g of 10% palladium carbon. After removing the catalyst, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the desired product.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーのRf値=0.54(展開
溶剤;酢酸エチル)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 0.54 (developing solvent; ethyl acetate).

NMRスペクトル(δppm,CDC): 0.97(6H,d,J=6Hz), 1.6−2.2(3H,nd), 2.08(3H,s), 2.14(3H,s), 2.32(3H,s), 2.42(3H,s), 2.74および3.02(2H,AB型,J=16Hz), 3.2−3.7(2H,br.s), 3.9および4.06(2H,AB型,J=9Hz), 6.58(2H,d,J=9Hz), 6.73(2H,d,J=9Hz)。NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 0.97 (6H, d, J = 6Hz), 1.6-2.2 (3H, nd), 2.08 (3H, s), 2.14 (3H, s), 2.32 (3H, s) , 2.42 (3H, s), 2.74 and 3.02 (2H, AB type, J = 16Hz), 3.2−3.7 (2H, br.s), 3.9 and 4.06 (2H, AB type, J = 9Hz), 6.58 (2H , d, J = 9Hz), 6.73 (2H, d, J = 9Hz).

実施例12(D−3) エチル 3−〔4−(6−アセトキシ−2−イソブチル
−5,7,8−トリメチル−4−オキソクロマン−2−イル
メトキシ)フエニル〕−2−クロロプロピオネート 6−アセトキシ−2−(4−アミノフエノキシメチル)
2−イソブチル−5,7,8−トリメチルクロマン−4−オ
ン1.1g,アセトン20mの混合物に、窒素気流下、室
温で、濃塩酸1.5m、ついで亜硝酸ソーダ0.8gと水0.
3mを加え、さらにアクリル酸エチル4gを加えた。
室温下、酸化第一銅0.1gを加え一時間攪拌した。反応
混合物に水を加えベンゼンで抽出した。該抽出液を水で
洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧下に
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に付し、目
的化合物を得た。
Example 12 (D-3) Ethyl 3- [4- (6-acetoxy-2-isobutyl-5,7,8-trimethyl-4-oxochroman-2-ylmethoxy) phenyl] -2-chloropropionate 6- Acetoxy-2- (4-aminophenoxymethyl)
A mixture of 2-isobutyl-5,7,8-trimethylchroman-4-one (1.1 g) and acetone (20 m) was stirred at room temperature under a nitrogen stream at room temperature with concentrated hydrochloric acid (1.5 m), sodium nitrite (0.8 g) and water (0.8 g).
3 m was added, and further 4 g of ethyl acrylate was added.
At room temperature, 0.1 g of cuprous oxide was added and stirred for 1 hour. Water was added to the reaction mixture and extracted with benzene. The extract was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent; hexane: ethyl acetate = 5: 1) to obtain the target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーのRf値=0.74(展開
溶剤;ヘキサン:酢酸エチル=1:2)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 0.74 (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 1: 2).

NMRスペクトル(δppm,CDC): 0.98(6H,d,J=6Hz), 1.25(3H,t,J=7Hz), 1.5−2.2(3H,nd), 2.08(3H,s), 2.13(3H,s), 2.32(3H,s), 2.42(3H,s), 2.78および3.01(2H,AB型,J=17Hz), 2.8−3.5(2H,nd), 3.8−4.5(2H,nd), 6.82(2H,d,J=9Hz), 7.11(2H,d,J=9Hz)。NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 0.98 (6H, d, J = 6Hz), 1.25 (3H, t, J = 7Hz), 1.5−2.2 (3H, nd), 2.08 (3H, s), 2.13 ( 3H, s), 2.32 (3H, s), 2.42 (3H, s), 2.78 and 3.01 (2H, AB type, J = 17Hz), 2.8−3.5 (2H, nd), 3.8−4.5 (2H, nd) , 6.82 (2H, d, J = 9Hz), 7.11 (2H, d, J = 9Hz).

実施例13(D−4) 5−〔4−(6−ヒドロキシ−2−イソブチル−5,7,8
−トリメチル−4−オキソクロマン−2−イルメトキ
シ)ベンジル〕チアゾリジン−2,4−ジオン エチル 3−〔4−(6−アセトキシ−2−イソブチル
−5,7,8−トリメチル−4−オキソクロマン−2−イル
メトキシ)フエニル〕−2−クロロプロピオネート0.5
g,チオ尿素0.2gおよびスルホラン0.8gの混合物を窒
素気流下、120−135℃で4時間加熱する。その後、反応
混合物に濃塩酸1m,水1m,エチレングリコール
モノメチルエーテル5mの混合物を加え、さらに6時
間加熱還流した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで
抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を減圧下に留去し、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラ
フイー(展開溶剤;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)に
付し、目的化合物を得た。
Example 13 (D-4) 5- [4- (6-hydroxy-2-isobutyl-5,7,8
-Trimethyl-4-oxochroman-2-ylmethoxy) benzyl] thiazolidine-2,4-dione ethyl 3- [4- (6-acetoxy-2-isobutyl-5,7,8-trimethyl-4-oxochroman-2-ylmethoxy) ) Phenyl] -2-chloropropionate 0.5
A mixture of g, 0.2 g of thiourea and 0.8 g of sulfolane is heated at 120-135 ° C for 4 hours under a nitrogen stream. Then, a mixture of concentrated hydrochloric acid 1 m, water 1 m, and ethylene glycol monomethyl ether 5 m was added to the reaction mixture, and the mixture was heated under reflux for 6 hours. The reaction mixture was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the extract was dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel thin layer chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain the target compound.

軟化点:70−78℃ NMRスペクトル(δppm,CDC): 0.97(6H,d,J=6Hz), 1.5−2.1(3H,nd), 2.12(3H,s), 2.21(3H,s), 2.53(3H,s), 2.77および2.99(2H,AB型,J=16Hz), 2.8−3.2(1H,nd), 3.41(1H,dd,J=4および14Hz), 4.06(2H,AB型,J=10Hz), 4.43(1H,dd,J=4および9Hz), 4.6−5.3(1H,br.s,重水添加により消失), 6.81(2H,d,J=9Hz), 7.12(2H,d,J=9Hz), 8.7−9.3(1H,br.s.,重水添加により消失)。Softening point: 70-78 ° C. NMR spectrum (δ ppm, CDC 3): 0.97 (6H, d, J = 6Hz), 1.5-2.1 (3H, nd), 2.12 (3H, s), 2.21 (3H, s) , 2.53 (3H, s), 2.77 and 2.99 (2H, AB type, J = 16Hz), 2.8−3.2 (1H, nd), 3.41 (1H, dd, J = 4 and 14Hz), 4.06 (2H, AB type) , J = 10Hz), 4.43 (1H, dd, J = 4 and 9Hz), 4.6−5.3 (1H, br.s, lost by addition of heavy water), 6.81 (2H, d, J = 9Hz), 7.12 (2H, d, J = 9Hz), 8.7-9.3 (1H, br.s., disappeared by adding heavy water).

実施例14(D−1) 6−ヒドロキシ−2,5,7,8−テトラメチル−2−(4−
ニトロフエノキシメチル)クロマン−4−オン 2,5−ジヒドロキシ−3,4,6−トリメチルアエトフエノン
3.9g,4−ニトロフエノキシアセトン3.9g,ピロリジ
ン2.0gおよびトルエン15gを室温下、2日間放置後、
反応混合物中に希塩酸を加えエーテルで抽出する。水層
をさらに酢酸エチルで抽出しエーテル抽出液と合わせて
無水硫酸ソーダ上にて乾燥する。
Example 14 (D-1) 6-hydroxy-2,5,7,8-tetramethyl-2- (4-
Nitrophenoxymethyl) chroman-4-one 2,5-dihydroxy-3,4,6-trimethylaethophenone
After leaving 3.9 g, 4-nitrophenoxyacetone 3.9 g, pyrrolidine 2.0 g and toluene 15 g at room temperature for 2 days,
Dilute hydrochloric acid is added to the reaction mixture and the mixture is extracted with ether. The aqueous layer is further extracted with ethyl acetate, combined with the ether extract and dried over anhydrous sodium sulfate.

溶媒を留去し、得られた残渣にヘキサンを加え、析出し
た結晶を取する。さらにシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に
付した後、酢酸エチルより再結晶し、目的化合物を得
た。
The solvent is distilled off, hexane is added to the obtained residue, and the precipitated crystals are collected. Further, after subjecting to silica gel column chromatography (eluent; hexane: ethyl acetate = 5: 1), recrystallization from ethyl acetate gave the target compound.

融点:199−204℃ NMRスペクトル(δppm,DMSO−d): 1.43(3H,s), 2.01(3H,s), 2.14(3H,s), 2.46(3H,s), 2.67(1H,d,J=16Hz), 3.03(1H,d,J=16Hz), 4.31(2H,s), 7.19(2H,d,J=9Hz), 7.92(1H,s), 8.21(2H,d,J=9Hz)。Mp: 199-204 ° C. NMR spectrum (δ ppm, DMSO-d 6 ): 1.43 (3H, s), 2.01 (3H, s), 2.14 (3H, s), 2.46 (3H, s), 2.67 (1H, d, J = 16Hz), 3.03 (1H, d, J = 16Hz), 4.31 (2H, s), 7.19 (2H, d, J = 9Hz), 7.92 (1H, s), 8.21 (2H, d, J = 9Hz).

実施例15(D−1) 6−アセトキシ−2,5,7,8−テトラメチル−2−(4−
ニトロフエノキシメチル)クロマン−4−オン a)5−アセトキシ−2−ヒドロキシ−3,4,6−トリメ
チルアセトフエノン17.7g,4−ニトロフエノキシアセ
トン14.6g,ピロリジン7.5gおよびベンゼン60mの
混合物を室温下1日放置後、水分離器を用いて7時間還
流加熱した。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、
有機層を分液し、無水硫酸ナトリウム上にて乾燥した。
溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)に付し、目的化合物を得た。
Example 15 (D-1) 6-acetoxy-2,5,7,8-tetramethyl-2- (4-
Nitrophenoxymethyl) chroman-4-one a) 5-acetoxy-2-hydroxy-3,4,6-trimethylacetophenone 17.7 g, 4-nitrophenoxyacetone 14.6 g, pyrrolidine 7.5 g and benzene 60 m The mixture was left standing at room temperature for 1 day and then heated under reflux for 7 hours using a water separator. Water and ethyl acetate were added to the reaction mixture,
The organic layer was separated and dried over anhydrous sodium sulfate.
The residue obtained by distilling off the solvent was subjected to silica gel column chromatography (eluent; hexane: ethyl acetate = 2:
Then, the target compound was obtained.

シリカゲル薄層クロマチグラフイーによるRf値=0.17
(展開溶剤;ヘキサン:酢酸エチル=3:1) NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.56(3H,s), 2.10(6H,s), 2.36(3H,s), 2.43(3H,s), 2.70(1H,d,J=15Hz), 3.06(1H,d,J=15Hz), 4.11(1H,d,J=10Hz), 4.24(1H,d,J=10Hz), 6.98(2H,d,J=9Hz), 8.20(2H,d,J=9Hz)。
Rf value by silica gel thin layer chromatigraphy = 0.17
(Developing solvent; hexane: ethyl acetate = 3: 1) NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 1.56 (3H, s), 2.10 (6H, s), 2.36 (3H, s), 2.43 (3H, s) , 2.70 (1H, d, J = 15Hz), 3.06 (1H, d, J = 15Hz), 4.11 (1H, d, J = 10Hz), 4.24 (1H, d, J = 10Hz), 6.98 (2H, d) , J = 9Hz), 8.20 (2H, d, J = 9Hz).

b)a)においてピロリジンの代りにピペリジンを用いた
混合物を水分離器を用いて3時間加熱還流した。反応混
合物に5%塩酸を加えベンゼンで抽出した。抽出液を水
洗ついで無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し
て得られた目的化合物のRf値およびNMRスペクトルは、
a)におけるそれと一致した。
b) The mixture in which piperidine was used instead of pyrrolidine in a) was heated to reflux for 3 hours using a water separator. 5% Hydrochloric acid was added to the reaction mixture and extracted with benzene. The extract was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The Rf value and NMR spectrum of the target compound obtained by distilling off the solvent are
Consistent with that in a).

c)b)においてピペリンジンの代りにモルホリンを用
い、以下b)と同様にして得られた目的化合物のRf値およ
びNMRスペクトルはa)におけるそれと一致した。
c) The Rf value and the NMR spectrum of the target compound obtained in the same manner as in b) by using morpholine in place of piperindine in b) were the same as those in a).

d)a)において、ピロリジンの代りにモルホリンを、ベ
ンゼンの代りにトルエンを用いた混合物を1時間加熱還
流し、以下b)と同様にして得られた目的化合物のRf値お
よびNMRスペクトルはa)におけるそれと一致した。
d) In a), a mixture of morpholine in place of pyrrolidine and toluene in place of benzene was heated under reflux for 1 hour, and the Rf value and NMR spectrum of the target compound obtained in the same manner as in b) below are a). Coincided with that in.

実施例16(D−1) 7−t−ブチル−6−ヒドロキシ−2−メチル−2−
(4−ニトロフエノキシメチル)クロマン−4−オン 実施例14に準じて、4−t−ブチル−2,5−ジヒドロ
キシアセトフエノン2.0g,4−ニトロフエノキシアセ
トン1.9g,ピロリジン1.0g,およびベンゼン10mか
ら製造された目的化合物は次の物性を有する。
Example 16 (D-1) 7-t-butyl-6-hydroxy-2-methyl-2-
(4-Nitrophenoxymethyl) chroman-4-one According to Example 14, 4-t-butyl-2,5-dihydroxyacetophenone 2.0 g, 4-nitrophenoxyacetone 1.9 g, pyrrolidine 1.0 The target compound produced from g and 10 m of benzene has the following physical properties.

融点:205−209℃ NMRスペクトル(δppm,重アセトン): 1.39(3H,s), 1.53(9H,s), 2.70(1H,d,J=16.5Hz), 3.05(1H,d,J=16.5Hz), 4.37(2H,s), 6.80(1H,s), 7.18(2H,d,J=10Hz), 7.22(1H,s), 8.22(2H,d,J=10Hz), 8.21(1H,s,重水添加で消失)。Melting point: 205-209 ° C NMR spectrum (δ ppm , deuterated acetone): 1.39 (3H, s), 1.53 (9H, s), 2.70 (1H, d, J = 16.5Hz), 3.05 (1H, d, J = 16.5Hz), 4.37 (2H, s), 6.80 (1H, s), 7.18 (2H, d, J = 10Hz), 7.22 (1H, s), 8.22 (2H, d, J = 10Hz), 8.21 (1H , s, disappears when heavy water is added).

実施例17(D−2) 6−アセトキシ−7−t−ブチル−2−メトキシ−2−
(4−ニトロフエノキシメチル)クロマン−4−オン 7−t−ブチル−6−ヒドロキシ−2−メチル−2−
(4−ニトロフエノキシメチル)クロマン−4−オン1.
7g、無水酢酸1m、およびピリジン10mの混合物
を室温で1日放置する。反応混合物を氷水中にあけ、2
時間攪拌した後、ベンゼンで抽出する。有機層を順次3
N塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去
して得られた残渣をベンゼン−酢酸エチル(約10:1)
から再結晶して、目的化合物を得た。
Example 17 (D-2) 6-acetoxy-7-t-butyl-2-methoxy-2-
(4-Nitrophenoxymethyl) chroman-4-one 7-t-butyl-6-hydroxy-2-methyl-2-
(4-Nitrophenoxymethyl) chroman-4-one 1.
A mixture of 7 g, 1 m acetic anhydride and 10 m pyridine is left for 1 day at room temperature. Pour the reaction mixture into ice water, 2
After stirring for an hour, extract with benzene. 3 organic layers in sequence
It is washed with N hydrochloric acid, water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and water, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was evaporated under reduced pressure and the obtained residue was benzene-ethyl acetate (about 10: 1).
The crystals were recrystallized from to obtain the target compound.

融点:82−84℃ NMRスペクトル(δppm,重アセトン): 1.33(9H,s), 1.57(3H,s), 2.33(3H,s), 2.82(1H,d,J=16.5Hz), 3.13(1H,d,J=16.5Hz), 4.42(2H,s), 6.93(1H,s), 7.25(2H,d,J=9Hz), 7.44(1H,s), 8.22(2H,d,J=9Hz)。Melting point: 82-84 ° C NMR spectrum (δ ppm , deuterated acetone): 1.33 (9H, s), 1.57 (3H, s), 2.33 (3H, s), 2.82 (1H, d, J = 16.5Hz), 3.13 (1H, d, J = 16.5Hz), 4.42 (2H, s), 6.93 (1H, s), 7.25 (2H, d, J = 9Hz), 7.44 (1H, s), 8.22 (2H, d, J = 9Hz).

実施例18(F−1) 6−アセトキシ−4−ヒドロキシ−2,5,7,8−テトラメ
チル−2−(4−ニトロフエノキシメチル)クロマン 6−アセトキシ−2,5,7,8−テトラメチル−2−(4−
ニトロフエノキシメチル)クロマン−4−オン1.8g,
メタノール15m,ベンゼン1mの混合物に、水素化
ホウ素ナトリウム160mgを氷冷下で加えて、30分かきま
ぜた。反応混合物を氷水にあけ、10%塩酸で中和した
後、ベンゼンで抽出し、抽出液を水で洗い、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイー(溶離液;ベンゼ
ン:酢酸エチル=9:1)に付し、得られた結晶をベン
ゼン,ヘキサンの混合液より再結晶し、目的化合物を得
た。
Example 18 (F-1) 6-acetoxy-4-hydroxy-2,5,7,8-tetramethyl-2- (4-nitrophenoxymethyl) chroman 6-acetoxy-2,5,7,8 -Tetramethyl-2- (4-
Nitrophenoxymethyl) chroman-4-one 1.8 g,
To a mixture of 15 m of methanol and 1 m of benzene, 160 mg of sodium borohydride was added under ice cooling, and the mixture was stirred for 30 minutes. The reaction mixture was poured into ice water, neutralized with 10% hydrochloric acid, extracted with benzene, the extract was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent; benzene: ethyl acetate = 9: 1), and the obtained crystals were recrystallized from a mixed solution of benzene and hexane to obtain the objective. The compound was obtained.

融点:139−141℃ NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.56(3H,s), 2.05(6H,s), 2.0−2.4(2H,nd), 2.19(3H,s), 2.33(3H,s), 4.10(2H,AB型,J=9Hz), 5.0(1H,dd,J=3および9Hz), 7.03(2H,d,J=9Hz), 8.23(2H,d,J=9Hz)。Mp: 139-141 ° C. NMR spectrum (δ ppm, CDC 3): 1.56 (3H, s), 2.05 (6H, s), 2.0-2.4 (2H, nd), 2.19 (3H, s), 2.33 (3H, s), 4.10 (2H, AB type, J = 9Hz), 5.0 (1H, dd, J = 3 and 9Hz), 7.03 (2H, d, J = 9Hz), 8.23 (2H, d, J = 9Hz).

実施例19(F−1) 7−t−ブチル−4,6−ジヒドロキシ−2−メチル−2
−(4−ニトロフエノキシメチル)クロマン 6−アセトキシ−7−t−ブチル−2−メチル−2−
(4−ニトロフエノキシメチル)クロマン−4−オン3.
0gのTHF(20m)溶液を、氷冷、攪拌下水素化ホウ素
ナトリウム0.3gのメタノール懸濁液(10m)中に滴
下する。滴下終了後、室温にて2時間攪拌する。再び氷
冷し、10%塩酸で弱酸性にした後、酢酸エチルで抽出す
る。有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
溶媒を留去して得られた結晶ヲベンゼン−石油エーテル
より再結晶し、目的化合物を得た。
Example 19 (F-1) 7-t-butyl-4,6-dihydroxy-2-methyl-2
-(4-Nitrophenoxymethyl) chroman 6-acetoxy-7-t-butyl-2-methyl-2-
(4-Nitrophenoxymethyl) chroman-4-one 3.
A solution of 0 g of THF (20 m) was added dropwise to a suspension of sodium borohydride (0.3 g) in methanol (10 m) under ice cooling and stirring. After completion of dropping, the mixture is stirred at room temperature for 2 hours. The mixture is ice-cooled again, made weakly acidic with 10% hydrochloric acid, and then extracted with ethyl acetate. The organic layer is washed with water and then dried over anhydrous sodium sulfate.
The crystals obtained by distilling off the solvent were recrystallized from benzene-petroleum ether to obtain the target compound.

融点:194−201℃ NMRスペクトル(δppm,重アセトン): 1.34(9H,s), 1.50(3H,s), 1.88(1H,dd,J=13.5および9Hz), 2.45(1H,dd,J=13.5および6Hz), 2.78(1H,s,重水添加により消失), 4.15(2H,s), 4.75(1H,m), 6.62(1H,s), 6.91(1H,s), 7.15(2H,d,J=9Hz), 8.20(2H,d,J=9Hz)。Melting point: 194-201 ° C NMR spectrum (δ ppm , heavy acetone): 1.34 (9H, s), 1.50 (3H, s), 1.88 (1H, dd, J = 13.5 and 9Hz), 2.45 (1H, dd, J) = 13.5 and 6Hz), 2.78 (1H, s, disappears by adding heavy water), 4.15 (2H, s), 4.75 (1H, m), 6.62 (1H, s), 6.91 (1H, s), 7.15 (2H, d, J = 9Hz), 8.20 (2H, d, J = 9Hz).

実施例20(F−2) 4,6−ジアセトキシ−7−t−ブチル−2−メチル−2
−(4−ニトロフエノキシメチル)クロマン 7−t−ブチル−4,6−ジヒドロキシ−2−メチル−2
−(4−ニトロフエノキシメチル)クロマン20gとピリ
ジン20mの混合物中に無水酢酸3mを加え、50℃に
て3時間加温する。反応液をベンゼンに溶かし、順次、
3N塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去
し、淡黄色油状の目的化合物を得た。
Example 20 (F-2) 4,6-diacetoxy-7-t-butyl-2-methyl-2
-(4-Nitrophenoxymethyl) chroman 7-t-butyl-4,6-dihydroxy-2-methyl-2
3m of acetic anhydride was added to a mixture of 20g of-(4-nitrophenoxymethyl) chroman and 20m of pyridine, and the mixture was heated at 50 ° C for 3 hours. Dissolve the reaction solution in benzene,
The extract is washed with 3N hydrochloric acid, water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and water, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off to obtain a pale yellow oily target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーによるRf値=0.62
(展開溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=5:1) NMRスペクトル(δppm,重アセトン): 1.31(9H,s), 1.55(3H,s), 1.77(3H,s), 2.0−2.3(1H,nd), 2.27(3H,s), 2.4−2.7(1H,nd), 4.20および4.38(2H,AB型,J=10Hz), 5.85−6.10(1H,m), 6.87(1H,s), 6.98(1H,s), 7.20(2H,d,J=9Hz), 8.30(2H,d,J=9Hz)。
Rf value by silica gel thin layer chromatography = 0.62
(Developing solvent; benzene: ethyl acetate = 5: 1) NMR spectrum (δ ppm , deuterated acetone): 1.31 (9H, s), 1.55 (3H, s), 1.77 (3H, s), 2.0-2.3 (1H, nd), 2.27 (3H, s), 2.4−2.7 (1H, nd), 4.20 and 4.38 (2H, AB type, J = 10Hz), 5.85−6.10 (1H, m), 6.87 (1H, s), 6.98 (1H, s), 7.20 (2H, d, J = 9Hz), 8.30 (2H, d, J = 9Hz).

実施例21(F−4) 6−アセトキシ−7−t−ブチル−2−メチル−2−
(4−ニトロフエノキシメチル)−2H−クロメン 4,6−ジアセトキシ−7−t−ブチル−2−メチル−2
−(4−ニトロフエノキシメチル)クロマン2.4g,p
−トルエンスルホン酸−水和物0.1g、及びベンゼン50
mの混合物を1時間加熱還流する。冷後、反応液を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去して黄色
油状の目的化合物を得た。
Example 21 (F-4) 6-acetoxy-7-t-butyl-2-methyl-2-
(4-Nitrophenoxymethyl) -2H-chromene 4,6-diacetoxy-7-t-butyl-2-methyl-2
-(4-Nitrophenoxymethyl) chroman 2.4 g, p
-Toluenesulfonic acid-hydrate 0.1 g, and benzene 50
The mixture of m is heated to reflux for 1 hour. After cooling, the reaction solution is washed with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and then with water, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a yellow oily target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーによるRf値=0.58
(展開溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=10:1) NMRスペクトル(δppm,重アセトン): 1.27(9H,s), 1.54(3H,s), 2.27(3H,s), 4.28(2H,s), 5.79(1H,d,J=10Hz), 6.52(1H,d,J=10Hz), 6.67(1H,s), 6.76(1H,s), 7.13(2H,d,J=9Hz), 8.20(2H,d,J=9Hz)。
Rf value by silica gel thin layer chromatography = 0.58
(Developing solvent; benzene: ethyl acetate = 10: 1) NMR spectrum (δ ppm , heavy acetone): 1.27 (9H, s), 1.54 (3H, s), 2.27 (3H, s), 4.28 (2H, s) , 5.79 (1H, d, J = 10Hz), 6.52 (1H, d, J = 10Hz), 6.67 (1H, s), 6.76 (1H, s), 7.13 (2H, d, J = 9Hz), 8.20 ( 2H, d, J = 9Hz).

実施例22(F−3) 6−アセトキシ−2,5,7,8−テトラメチル−2−(4−
ニトロフエノキシメチル)−2H−クロメン 実施例21に準じて、6−アセトキシ−4−ヒドロキシ−
2,5,7,8−テトラメチル−2−(4−ニトロフエノキシ
メチル)クロマン160mg,p−トルエンスルホン酸10m
g,ベンゼン2mから製造された目的化合物は次の物
性を有する。
Example 22 (F-3) 6-acetoxy-2,5,7,8-tetramethyl-2- (4-
Nitrophenoxymethyl) -2H-chromene According to Example 21, 6-acetoxy-4-hydroxy-
2,5,7,8-Tetramethyl-2- (4-nitrophenoxymethyl) chroman 160mg, p-toluenesulfonic acid 10m
The target compound produced from g and benzene 2m has the following physical properties.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーのRf値=0.49(展開
溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=20:1) NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.59(3H,s), 2.03(3H,s), 2.05(3H,s), 2.09(3H,s), 2.33(3H,s), 4.10(2H,AB型,J=9Hz), 5.73(1H,d,J=10Hz), 6.73(1H,d,J=10Hz), 6.96(2H,d,J=9Hz), 8.22(2H,d,J=9Hz)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 0.49 (developing solvent; benzene: ethyl acetate = 20: 1) NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 1.59 (3H, s), 2.03 (3H, s), 2.05 ( 3H, s), 2.09 (3H, s), 2.33 (3H, s), 4.10 (2H, AB type, J = 9Hz), 5.73 (1H, d, J = 10Hz), 6.73 (1H, d, J = 10Hz), 6.96 (2H, d, J = 9Hz), 8.22 (2H, d, J = 9Hz).

実施例23(F−5) 6−アセトキシ−2−(4−アミノフエノキシメチル)
−7−t−ブチル−2−メチルクロマン 6−アセトキシ−7−t−ブチル−2−メチル−2−
(4−ニトロフエノキシメチル)−2H−クロメン2.1g
をベンゼン20mおよび酢酸2mの混合物にとかし、
10%パラジウム炭素0.1gの存在下、室温、水素圧約1
気圧で10時間還元した。触媒を去後、ベンゼン溶液を
飽和炭素水素ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウム上で乾燥する。溶媒を減圧下に留去し
て得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
(溶離液;ベンゼン)に付し、淡褐色油状の目的化合物
を得た。
Example 23 (F-5) 6-acetoxy-2- (4-aminophenoxymethyl)
-7-t-Butyl-2-methylchroman 6-acetoxy-7-t-butyl-2-methyl-2-
(4-Nitrophenoxymethyl) -2H-chromene 2.1 g
To a mixture of 20 m benzene and 2 m acetic acid,
In the presence of 0.1 g of 10% palladium carbon, room temperature, hydrogen pressure of about 1
Reduced at atmospheric pressure for 10 hours. After removing the catalyst, the benzene solution is washed with saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution, then with water, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was evaporated under reduced pressure and the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: benzene) to obtain a light brown oily target compound.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーのRf値=0.13(展開
溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=10:1) NMRスペクトル(δppm,重アセトン): 1.30(9H,s), 1.40(3H,s), 1.7−2.2(2H,nd), 2.27(3H,s), 2.73(2H,br.t,J=7Hz), 3.89(2H,s), 3.7−4.5(2H,br.重水添加で消失), 6.50−7.05(6H,m)。
Rf value of silica gel thin layer chromatography = 0.13 (developing solvent; benzene: ethyl acetate = 10: 1) NMR spectrum (δ ppm , deuterated acetone): 1.30 (9H, s), 1.40 (3H, s), 1.7- 2.2 (2H, nd), 2.27 (3H, s), 2.73 (2H, br.t, J = 7Hz), 3.89 (2H, s), 3.7−4.5 (2H, br. Disappeared by adding heavy water), 6.50− 7.05 (6H, m).

実施例24(F−5) 6−アセトキシ−2−(4−アミノフエノキシメチル)
−2,5,7,8−テトラメチルクロマン 実施例23に準じて、6−アセトキシ−2,5,7,8−テトラ
メチル−2−(4−ニトロフエノキシメチル)−2H−ク
ロメン100mgをメタノール2mにとかし10%パラジウ
ム炭素20mgの存在下、水素圧約1気圧で還元して得られ
た目的化合物は次の物性を有する。
Example 24 (F-5) 6-acetoxy-2- (4-aminophenoxymethyl)
-2,5,7,8-Tetramethylchroman According to Example 23, 6-acetoxy-2,5,7,8-tetramethyl-2- (4-nitrophenoxymethyl) -2H-chromene 100 mg. Was dissolved in 2 m of methanol and reduced in the presence of 20 mg of 10% palladium-carbon at a hydrogen pressure of about 1 atm to give the target compound having the following physical properties.

融点:138−140℃ NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.42(3H,s), 2.00(3H,s), 約2(2H,m), 2.04(3H,s), 2.10(3H,s), 2.31(3H,s), 2.6(2H,br.t,J=6Hz), 3.37(2H,br.重水添加で消失), 3.80および3.95(2H,AB型,J=9Hz), 6.62(2H,d,J=7.5Hz), 6.78(2H,d,J=7.5Hz)。Mp: 138-140 ° C. NMR spectrum (δ ppm, CDC 3): 1.42 (3H, s), 2.00 (3H, s), about 2 (2H, m), 2.04 (3H, s), 2.10 (3H, s ), 2.31 (3H, s), 2.6 (2H, br.t, J = 6Hz), 3.37 (2H, br. Disappeared by adding heavy water), 3.80 and 3.95 (2H, AB type, J = 9Hz), 6.62 ( 2H, d, J = 7.5Hz), 6.78 (2H, d, J = 7.5Hz).

実施例25(A−4) エチル 3−〔4−(6−アセトキシ−2,5,7,8−テト
ラメチルクロマン−2−イルメトキシ)フエニル〕2−
クロロプロピオネート 6−アセトキシ−2−(4−アミノフエノキシメチル)
−2,5,7,8−テトラメチルクロマン17.5gをアセトン130
mと水30mの混合溶媒にとかし、氷冷下に濃塩酸13
m、ついで、亜硝酸ソーダ4.3gを水8.5mにとかし
て滴下する。さらにアクリル酸エチル37.3mを滴下し
たのち、温度を40〜43℃とし、酸化第一銅680mgを徐々
に加える。約30分で窒素の発生が終了する。2層となつ
ている反応混合物にベンゼンを加えて有機層を抽出、ベ
ンゼン抽出液を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムで乾
燥、溶媒の留去をおこなう。得られた黒褐色油をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーに付し、ベンゼン〜シク
ロヘキサン(1:1V/V)で溶出し、ついで同(2:
1V/V)さらにベンゼンで溶出する。ベンゼン〜シク
ロヘキサン(2:1V/V)およびベンゼンで溶出され
る部分より目的化合物を得た。
Example 25 (A-4) Ethyl 3- [4- (6-acetoxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) phenyl] 2-
Chloropropionate 6-acetoxy-2- (4-aminophenoxymethyl)
−2,5,7,8-Tetramethylchroman 17.5 g with acetone 130
dissolved in a mixed solvent of 30m and 30m of water and concentrated hydrochloric acid under ice-cooling 13
Then, 4.3 g of sodium nitrite is dissolved in 8.5 m of water and added dropwise. Further, 37.3 m of ethyl acrylate was added dropwise, the temperature was adjusted to 40 to 43 ° C., and 680 mg of cuprous oxide was gradually added. Generation of nitrogen is completed in about 30 minutes. Benzene is added to the reaction mixture forming two layers to extract the organic layer, the benzene extract is washed with saturated saline, dried over sodium sulfate, and the solvent is distilled off. The obtained black-brown oil was subjected to silica gel column chromatography, eluted with benzene-cyclohexane (1: 1 V / V), and then the same (2:
1V / V) Further elute with benzene. The target compound was obtained from the portion eluted with benzene to cyclohexane (2: 1 V / V) and benzene.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーによるRf値=0.39
(展開溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=20:1)。
Rf value by silica gel thin layer chromatography = 0.39
(Developing solvent; benzene: ethyl acetate = 20: 1).

NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.23(3H,t,J=7.5Hz), 1.42(3H,s), 約2(2H,m), 1.98(3H,s), 2.04(3H,s), 2.09(3H,s), 2.31(3H,s), 2.6(2H,br.t,J=6Hz), 3.05(1H,dd,J=15および7.5Hz), 3.31(1H,dd,J=15および7.5Hz), 3.83および3.99(2H,AB型,J=9Hz), 4.18(2H,q,J=7.5Hz), 4.38(1H,t,J=7.5Hz), 6.85(2H,d,J=9Hz), 7.14(2H,d,J=9Hz)。NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 1.23 (3H, t, J = 7.5Hz), 1.42 (3H, s), about 2 (2H, m), 1.98 (3H, s), 2.04 (3H, s) , 2.09 (3H, s), 2.31 (3H, s), 2.6 (2H, br.t, J = 6Hz), 3.05 (1H, dd, J = 15 and 7.5Hz), 3.31 (1H, dd, J = 15 and 7.5Hz), 3.83 and 3.99 (2H, AB type, J = 9Hz), 4.18 (2H, q, J = 7.5Hz), 4.38 (1H, t, J = 7.5Hz), 6.85 (2H, d, J = 9Hz), 7.14 (2H, d, J = 9Hz).

実施例26(A−4) エチル 3−〔4−(6−アセトキシ−7−t−ブチル
−2−メチルクロマン−2−イルメトキシ)フエニル〕
2−クロロプロピオネート 実施例25に準じて、6−アセトキシ−2−(4−アミノ
フエノキシメチル)−7−t−ブチル−2−メチルクロ
マン1.74g、亜硝酸ナトリウム380mg、濃塩酸0.8m、
アクリル酸エチル4.5g、酸化第一銅65mg、およびアセ
トン17mから製造された、淡黄色油状の目的化合物は
次の物性を有する。
Example 26 (A-4) Ethyl 3- [4- (6-acetoxy-7-t-butyl-2-methylchroman-2-ylmethoxy) phenyl]
2-Chloropropionate According to Example 25, 1.74 g of 6-acetoxy-2- (4-aminophenoxymethyl) -7-t-butyl-2-methylchroman, 380 mg of sodium nitrite, 0.8% of concentrated hydrochloric acid. m,
The pale yellow oily target compound produced from 4.5 g of ethyl acrylate, 65 mg of cuprous oxide, and 17 m of acetone has the following physical properties.

シリカゲル薄層クロマチグラフイーによるR値=0.55
(展開溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=5:1) NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.23(3H,t,J=7.5Hz), 1.31(9H,s), 1.45(3H,s), 1.63−2.20(2H,m), 2.28(3H,s), 2.72(2H,br.t,J=7Hz), 3.08(1H,dd,J=7.5および15Hz), 3.30(1H,dd,J=7.5および15Hz), 3.88および3.98(2H,AB型,J=9Hz), 4.18(2H,q,J=7.5Hz), 4.37(1H,t,J=7.5Hz), 6.73(1H,s), 6.85(1H,s), 6.88(2H,d,J=9Hz), 7.15(2H,d,J=9Hz)。
R f value by silica gel thin layer chromatigraphy = 0.55
(Developing solvent; benzene: ethyl acetate = 5: 1) NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 1.23 (3H, t, J = 7.5Hz), 1.31 (9H, s), 1.45 (3H, s), 1.63 −2.20 (2H, m), 2.28 (3H, s), 2.72 (2H, br.t, J = 7Hz), 3.08 (1H, dd, J = 7.5 and 15Hz), 3.30 (1H, dd, J = 7.5) And 15Hz), 3.88 and 3.98 (2H, AB type, J = 9Hz), 4.18 (2H, q, J = 7.5Hz), 4.37 (1H, t, J = 7.5Hz), 6.73 (1H, s), 6.85 (1H, s), 6.88 (2H, d, J = 9Hz), 7.15 (2H, d, J = 9Hz).

実施例27(A−5) 5−〔4−(6−ヒドロキシ−2,5,7,8−テトラメチル
クロマン−2−イルメトキシ)ベンジル〕−2−イミノ
チアゾリジン−4−オン(a)および5−〔4−(6−ヒ
ドロキシ−2,5,7,8−テトラメチルクロマン−2−イル
メトキシ)ベンジル〕チアゾリジン−2,4−ジオン(b) エチル 3−〔4−(6−アセトキシ−2,5,7,8−テト
ラメチルクロマン−2−イルメトキシ)フエニル〕−2
−クロロプロピオネート9.6g、チオ尿素1.8g、スルホ
ラン11mの混合物を窒素気流中115−120℃で80分加熱
する。その後、反応混合物に酢酸90m、濃塩酸30m
、および水15mの混合物を加え、85〜90℃でさらに
12時間加熱する。反応混合物に炭酸水素ナトリウム27g
を加え、炭酸ガスの発生が終了したのち溶媒を留去す
る。粗製物にベンゼンと酢酸エチルの10:1(V/V)
混合溶媒を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液:水
(1:1,V/V)で洗う。生成した白色粉末を取、
さらに水洗し、アセトンから再結晶をおこなつて、目的
化合物(a)を得た。
Example 27 (A-5) 5- [4- (6-hydroxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] -2-iminothiazolidin-4-one (a) and 5 -[4- (6-Hydroxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] thiazolidine-2,4-dione (b) ethyl 3- [4- (6-acetoxy-2, 5,7,8-Tetramethylchroman-2-ylmethoxy) phenyl] -2
A mixture of 9.6 g of chloropropionate, 1.8 g of thiourea, 11 m of sulfolane is heated at 115-120 ° C. for 80 minutes in a nitrogen stream. After that, 90m of acetic acid and 30m of concentrated hydrochloric acid were added to the reaction mixture.
, And a mixture of 15m of water, and then at 85-90 ℃
Heat for 12 hours. 27 g of sodium hydrogen carbonate in the reaction mixture
After the generation of carbon dioxide gas is completed, the solvent is distilled off. 10: 1 (V / V) of benzene and ethyl acetate to the crude product
Add the mixed solvent and wash with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate: water (1: 1, V / V). Take the white powder produced,
Further, it was washed with water and recrystallized from acetone to obtain the target compound (a).

融点:205−207℃ NMRスペクトル(δppm,d7-dmf+D2O): 1.37(3H,s), 約2(2H,m), 2.02(3H,s), 2.14(6H,s), (2.3−3.1,溶媒吸収), 3.42(1H,dd,J=15および4.5Hz), 4.60(1H,dd,J=9および4.5Hz), 6.93(2H,d,J=9Hz), 7.23(2H,d,J=9Hz)。Mp: 205-207 ° C. NMR spectrum (δ ppm, d 7 -dmf + D 2 O): 1.37 (3H, s), about 2 (2H, m), 2.02 (3H, s), 2.14 (6H, s) , (2.3-3.1, solvent absorption), 3.42 (1H, dd, J = 15 and 4.5Hz), 4.60 (1H, dd, J = 9 and 4.5Hz), 6.93 (2H, d, J = 9Hz), 7.23 (2H, d, J = 9Hz).

前記白色粉末を除去して得られた有機層を水洗ついで、
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒の留去をおこなう。得ら
れた粗成物をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに付
し、ベンゼン:酢酸エチル(10:1V/V)で溶出し、
ついでベンゼン:酢酸エチル(10:1.4)で溶出する部
分から、目的化合物(b)を得た。
The organic layer obtained by removing the white powder was washed with water,
It is dried over sodium sulfate and the solvent is distilled off. The obtained crude product was subjected to silica gel column chromatography and eluted with benzene: ethyl acetate (10: 1 V / V),
Then, the target compound (b) was obtained from the portion eluted with benzene: ethyl acetate (10: 1.4).

融点:184−186℃ NMRスペクトル(δppm,重アセトン): 1.39(3H,s), 約2(2H,m), 2.02(3H,s), 2.09(3H,s), 2.13(3H,s), 2.63(2H,br.t,J=6Hz), 3.07(1H,dd,J=15および9Hz), 3.41(1H,dd,J=15および4.5Hz), 3.97(2H,AB型,J=9Hz), 4.70(1H,dd,J=9および4.5Hz), 6.90(2H,d,J=9Hz), 7.21(2H,d,J=9Hz)。Melting point: 184-186 ° C NMR spectrum (δ ppm , deuterated acetone): 1.39 (3H, s), about 2 (2H, m), 2.02 (3H, s), 2.09 (3H, s), 2.13 (3H, s) ), 2.63 (2H, br.t, J = 6Hz), 3.07 (1H, dd, J = 15 and 9Hz), 3.41 (1H, dd, J = 15 and 4.5Hz), 3.97 (2H, AB type, J = 9Hz), 4.70 (1H, dd, J = 9 and 4.5Hz), 6.90 (2H, d, J = 9Hz), 7.21 (2H, d, J = 9Hz).

実施例28(A−5) 5−〔4−(6−ヒドロキシ−2,5,7,8−テトラメチル
クロマン−2−イルメトキシ)ベンジル〕チアゾリジン
−2,4−ジオン エチル 3−〔4−(6−アセトキシ−2,5,7,8−テト
ラメチルクロマン−2−イルメトキシ)フエニル〕2−
クロロプロピオネート9.6g、チオ尿素1.8gおよびスル
ホラン11mの混合物を窒素気流中、120℃で3.5時間加
熱する。次いでエチレングリコールモノメチルエーテル
100m、10%塩酸70mを加えて12時間加熱還流し、
実施例27と同様に処理および精製をおこなつて、目的化
合物を得た。融点およびNMRスペクトルは実施例27にお
けるそれと一致した。
Example 28 (A-5) 5- [4- (6-hydroxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] thiazolidine-2,4-dione ethyl 3- [4- ( 6-acetoxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) phenyl] 2-
A mixture of 9.6 g of chloropropionate, 1.8 g of thiourea and 11 m of sulfolane is heated at 120 ° C. for 3.5 hours in a nitrogen stream. Then ethylene glycol monomethyl ether
Add 100m, 70m of 10% hydrochloric acid and heat to reflux for 12 hours.
The target compound was obtained by the same treatment and purification as in Example 27. The melting point and NMR spectrum were in agreement with those in Example 27.

実施例29(A−5) 5−〔4−(7−t−ブチル−6−ヒドロキシ−2−メ
チルクロマン−2−イルメトキシ)ベンジル〕チアゾリ
ジン−2,4−ジオン 実施例28に準じて、エチル 3−〔4−(6−アセトキ
シ−7−t−ブチル−2−メチルクロマン−2−イルメ
トキシ)フエニル〕−2−クロロプロピオネート1.43
g、チオ尿素430mg、およびスルホラン5mの混合物
を120℃で3.5時間加熱し、次いでエチレングリコールモ
ノメチルエーテル15m、10%塩酸10mを加えて13時
間加熱還流して製造した目的化合物(淡黄色粉末)は次
の物性を有する。
Example 29 (A-5) 5- [4- (7-t-Butyl-6-hydroxy-2-methylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] thiazolidine-2,4-dione According to Example 28, ethyl 3- [4- (6-acetoxy-7-t-butyl-2-methylchroman-2-ylmethoxy) phenyl] -2-chloropropionate 1.43
g, thiourea 430 mg, and sulfolane 5 m were heated at 120 ° C. for 3.5 hours, then ethylene glycol monomethyl ether (15 m) and 10% hydrochloric acid (10 m) were added, and the mixture was heated under reflux for 13 hours to produce the target compound (pale yellow powder). It has the following physical properties.

シリカゲル薄層クロマトグラフイーによるRf値=0.31
(展開溶媒;ベンゼン:酢酸エチル=5:1) NMRスペクトル(δppm,CDC): 1.37(9H,s), 1.43(3H,s), 1.63−2.30(2H,m), 2.67(2H,br.t,J=7Hz), 3.07(1H,dd,J=9および15Hz), 3.45(1H,dd,J=4および15Hz), 3.87および3.97(2H,AB型,J=9Hz), 4.48(1H,dd,J=4および9Hz), 4.62(1H,br.s,重水添加で消失), 6.41(1H,s), 6.78(1H,s), 6.88(2H,d,J=9Hz), 7.15(2H,d,J=9Hz), 8.40−8.93(1H,br,重水添加で消失)。
R f value by silica gel thin layer chromatography = 0.31
(Developing solvent; benzene: ethyl acetate = 5: 1) NMR spectrum (δ ppm , CDC 3 ): 1.37 (9H, s), 1.43 (3H, s), 1.63−2.30 (2H, m), 2.67 (2H, br.t, J = 7Hz), 3.07 (1H, dd, J = 9 and 15Hz), 3.45 (1H, dd, J = 4 and 15Hz), 3.87 and 3.97 (2H, AB type, J = 9Hz), 4.48 (1H, dd, J = 4 and 9Hz), 4.62 (1H, br.s, lost by addition of heavy water), 6.41 (1H, s), 6.78 (1H, s), 6.88 (2H, d, J = 9Hz) , 7.15 (2H, d, J = 9Hz), 8.40-8.93 (1H, br, disappeared by adding heavy water).

実施例30(A−4およびA−5) n−ブチル 3−[4−(6−アセトキシ−2、5、
7、8−テトラメチルクロマン−2−イルメトキシ)フ
ェニル]−2−ブロモプロピオネートおよび5−[4−
(6−アセトキシ−2、5、7、8−テトラメチルクロ
マン−2−イルメトキシ)ベンジル]−2−イミノチア
ゾリジン−4−オン 6−アセトキシ−2−(4−アミノフェノキシメチル)
−2、5、7、8−テトラメチルクロマン50g、アセト
ン100mlの混合物に、氷冷下で臭化水素酸68.4g、次い
で亜硝酸ソーダ10.3gを水26mlに溶解して滴下した。さ
らに、アクリル酸n−ブチル173.4gを室温で注加した
後、酸化第一銅1.9gを徐々に加え4時間攪拌した。反
応混合物を飽和食塩水で2回洗浄し、有機層を濃縮乾固
した。得られた黒褐色油にメタノール250ml、チオ尿素1
0.3g、無水酢酸ソーダ11.1gを加え、八時間加熱還流
した。反応混合物を冷却し、析出した結晶をろ取すると
5−[4−(6−アセトキシ−2,5,7,8−テトラメチル
クロマン−2−イルメトキシ)ベンジル]−2−イミノ
チアゾリジン−4−オンが45.7g得られた(収率70
%)。
Example 30 (A-4 and A-5) n-Butyl 3- [4- (6-acetoxy-2,5,
7,8-Tetramethylchroman-2-ylmethoxy) phenyl] -2-bromopropionate and 5- [4-
(6-acetoxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] -2-iminothiazolidin-4-one 6-acetoxy-2- (4-aminophenoxymethyl)
To a mixture of 2,5,7,8-tetramethylchroman (50 g) and acetone (100 ml), hydrobromic acid (68.4 g) and sodium nitrite (10.3 g) were dissolved in water (26 ml) and added dropwise under ice cooling. Further, 173.4 g of n-butyl acrylate was added at room temperature, 1.9 g of cuprous oxide was gradually added, and the mixture was stirred for 4 hours. The reaction mixture was washed twice with saturated saline, and the organic layer was concentrated to dryness. 250 ml of methanol and 1 thiourea were added to the obtained blackish brown oil.
0.3 g and 11.1 g of anhydrous sodium acetate were added, and the mixture was heated under reflux for 8 hours. The reaction mixture was cooled, and the precipitated crystals were collected by filtration to give 5- [4- (6-acetoxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] -2-iminothiazolidin-4-one. Was obtained (yield 70
%).

融点:220−222℃ 実施例31(A−4およびA−5) n−ブチル 3−[4−(6−アセトキシ−2、5、
7、8−テトラメチルクロマン−2−イルメトキシ)フ
ェニル]−2−ブロモプロピオネートおよび5−[4−
(6−アセトキシ−2、5、7、8−テトラメチルクロ
マン−2−イルメトキシ)ベンジル]−2−イミノチア
ゾリジン−4−オン 実施例30において、酸化第一銅1.9gの代わりに酸化第
二銅1.1gを用い、他は同様に実施すると5−[4−
(6−アセトキシ−2、5、7、8−テトラメチルクロ
マン−2−イルメトキシ)ベンジル]−2−イミノチア
ゾリジン−4−オンが49.0g得られた(収率75%)。
Melting point: 220-222 ° C Example 31 (A-4 and A-5) n-butyl 3- [4- (6-acetoxy-2,5,
7,8-Tetramethylchroman-2-ylmethoxy) phenyl] -2-bromopropionate and 5- [4-
(6-Acetoxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] -2-iminothiazolidin-4-one In Example 30, cupric oxide was replaced with 1.9 g of cuprous oxide. If 1.1g is used and others are carried out similarly, 5- [4-
49.0 g of (6-acetoxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] -2-iminothiazolidin-4-one was obtained (yield 75%).

実施例32(A−4およびA−5) n−ブチル 3−[4−(6−アセトキシ−2、5、
7、8−テトラメチルクロマン−2−イルメトキシ)フ
ェニル]−2−ブロモプロピオネートおよび5−[4−
(6−アセトキシ−2、5、7、8−テトラメチルクロ
マン−2−イルメトキシ)ベンジル]−2−イミノチア
ゾリジン−4−オン 実施例30において、酸化第一銅1.9gの代わりに塩化第
二銅・二水和物2.3gを用い、他は同様に実施すると5
−[4−(6−アセトキシ−2、5、7、8−テトラメ
チルクロマン−2−イルメトキシ)ベンジル]−2−イ
ミノチアゾリジン−4−オンが49.0g得られた(収率75
%)。
Example 32 (A-4 and A-5) n-Butyl 3- [4- (6-acetoxy-2,5,
7,8-Tetramethylchroman-2-ylmethoxy) phenyl] -2-bromopropionate and 5- [4-
(6-Acetoxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] -2-iminothiazolidin-4-one In Example 30, cupric chloride was replaced with 1.9 g of cuprous oxide.・ If dihydrate 2.3g is used and others are performed in the same manner, 5
49.0 g of-[4- (6-acetoxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] -2-iminothiazolidin-4-one was obtained (yield 75
%).

実施例33(A−4およびA−5) n−ブチル 3−[4−(6−アセトキシ−2、5、
7、8−テトラメチルクロマン−2−イルメトキシ)フ
ェニル]−2−ブロモプロピオネートおよび5−[4−
(6−アセトキシ−2、5、7、8−テトラメチルクロ
マン−2−イルメトキシ)ベンジル]−2−イミノチア
ゾリジン−4−オン 実施例30において、酸化第一銅1.9gの代わりに臭化第
二銅3.0gを用い、他は同様に実施すると5−[4−
(6−アセトキシ−2、5、7、8−テトラメチルクロ
マン−2−イルメトキシ)ベンジル]−2−イミノチア
ゾリジン−4−オンが49.6g得られた(収率76%)。
Example 33 (A-4 and A-5) n-Butyl 3- [4- (6-acetoxy-2,5,
7,8-Tetramethylchroman-2-ylmethoxy) phenyl] -2-bromopropionate and 5- [4-
(6-Acetoxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] -2-iminothiazolidin-4-one In Example 30, instead of 1.9 g of cuprous oxide, the second bromide was used. 5- [4-]
49.6 g of (6-acetoxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] -2-iminothiazolidin-4-one was obtained (yield 76%).

参考例1. 5−アセトキシ−4−t−ブチル−2−ヒドロキシアセ
トフエノン t−ブチルヒドロキノン100g、無水酢酸130m、およ
び三フツ化ホウ素酢酸錯塩(40%)1kgの混合物をかく
はんしながら60℃で2時間加熱した後、さらに90℃で2
時間加熱する。冷後反応混合物を氷水3中に注ぎ、ベ
ンゼンで抽出する。抽出液を水、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水で順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後
溶媒を留去する。得られた油状物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフイー(溶離液;ベンゼン)に付し、目的化
合物を得た。
Reference example 1. 5-acetoxy-4-t-butyl-2-hydroxyacetophenone 100 g of t-butylhydroquinone, 130 m of acetic anhydride, and 1 kg of boron trifluoride acetic acid complex salt (40%) were stirred and heated at 60 ° C for 2 hours. And then at 90 ℃ 2
Heat for hours. After cooling, the reaction mixture is poured into ice water 3 and extracted with benzene. The extract is washed successively with water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and water, dried over anhydrous sodium sulfate and the solvent is distilled off. The obtained oily substance was subjected to silica gel column chromatography (eluent: benzene) to obtain the target compound.

融点:86.5−87.5℃ 参考例2 5−アセトキシ−2−ヒドロキシ−3、4、6−トリメ
チルアセトフェノン 1、2−ジクロロエタン60mlに窒素気流下で無水塩化ア
ルミニウム粉末22gおよび塩化アセチル11.8gを加えて
溶解させた後、トリメチルヒドロキノン7.61gを1、2
−ジクロロエタン16mlでスラリー化した溶液を徐々に注
加した。その混合物を10時間加熱還元した後、氷水中に
注入し分液し、次いで5%炭酸水素ソーダ水溶液、水で
洗浄し有機層を濃縮乾固した。得られた油状物にn−ヘ
キサン50mlを加え結晶化させた後、ろ取すると5−アセ
トキシ−2−ヒドロキシ−3、4、6−トリメチルアセ
トフェノン8.03g(収率68%が得られた。
Melting point: 86.5-87.5 ° C. Reference Example 2 5-acetoxy-2-hydroxy-3,4,6-trimethylacetophenone 1,2-dichloroethane 60 ml of anhydrous aluminum chloride powder 22 g and acetyl chloride 11.8 g were added and dissolved under a nitrogen stream. Then, 1.61 g of trimethylhydroquinone
A solution slurried with 16 ml of dichloroethane was added slowly. The mixture was heated and reduced for 10 hours, poured into ice water for liquid separation, then washed with 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution and water, and the organic layer was concentrated to dryness. After 50 ml of n-hexane was added to the obtained oil to crystallize it, it was collected by filtration to obtain 8.03 g of 5-acetoxy-2-hydroxy-3,4,6-trimethylacetophenone (yield 68%).

融点:68−73℃ 参考例3(H−1) 5−〔4−(4,6−ジヒドロキシ−2,5,7,8−テトラメチ
ルクロマン−2−イルメトキシ)ベンジル〕チアゾリジ
ン−2,4−ジオン 5−〔4−(6−ヒドロキシ−2,5,7,8−テトラメチル
−4−オキソクロマン−2−イルメトキシ)ベンジル〕
チアゾリジン−2,4−ジオン278mgとメチルアルコー
ル9mの混合物に水素化ホウ素ナトリウム450mgを加
え室温下2時間攪拌する。反応混合物中へ1%酢酸水溶
液を加えた後、炭酸カリウム水溶液で中和し、酢酸エチ
ルにて抽出する。酢酸エチル溶液を水洗後、無水硫酸ソ
ーダ上にて乾燥する。酢酸エチルを減圧下に留去し、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(溶
離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:3)に付し、目的化
合物を得た。
Melting point: 68-73 ° C Reference Example 3 (H-1) 5- [4- (4,6-dihydroxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] thiazolidine-2,4- Dione 5- [4- (6-hydroxy-2,5,7,8-tetramethyl-4-oxochroman-2-ylmethoxy) benzyl]
450 mg of sodium borohydride was added to a mixture of thiazolidine-2,4-dione (278 mg) and methyl alcohol (9 m), and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. A 1% acetic acid aqueous solution is added to the reaction mixture, which is then neutralized with an aqueous potassium carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate solution is washed with water and then dried over anhydrous sodium sulfate. Ethyl acetate was evaporated under reduced pressure, and the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent; hexane: ethyl acetate = 5: 3) to obtain the target compound.

融点:102−118℃ NMRスペクトル(δppm,重アセトン及び重水): 1.52(3H,s), 2.01(3H,s), 2.13(3H,s), 2.29(3H,s), 1.9−2.5(1H,nd), 2.9−3.6(2H,m), 4.03(2H,s), 3.9−4.5(1H,nd), 4.6−5.1(2H,m), 6.7−7.4(4H,nd)。Melting point: 102-118 ° C NMR spectrum (δ ppm , heavy acetone and heavy water): 1.52 (3H, s), 2.01 (3H, s), 2.13 (3H, s), 2.29 (3H, s), 1.9-2.5 ( 1H, nd), 2.9-3.6 (2H, m), 4.03 (2H, s), 3.9-4.5 (1H, nd), 4.6-5.1 (2H, m), 6.7-7.4 (4H, nd).

参考例4(H−2) 5−〔4−(6−ヒドロキシ−2,5,7,8−テトラメチル
−2H−クロメン−2−イルメトキシ)ベンジル〕チアゾ
リジン−2,4−ジオン 実施例22の反応条件に準じて、5−〔4−(4,6−ジヒ
ドロキシ−2,5,7,8−テトラメチルクロマン−2−イル
メトキシ)ベンジル〕チアゾリジン−2,4−ジオン140m
g、p−トルエンスルホン酸10mg、ベンゼン10m、ジ
メチルホルムアミド0.5mより製造された目的化合物
は次の物性を有する。
Reference Example 4 (H-2) 5- [4- (6-hydroxy-2,5,7,8-tetramethyl-2H-chromen-2-ylmethoxy) benzyl] thiazolidine-2,4-dione Example 22 According to the reaction conditions, 5- [4- (4,6-dihydroxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] thiazolidine-2,4-dione 140 m
The target compound prepared from g, p-toluenesulfonic acid 10 mg, benzene 10 m, and dimethylformamide 0.5 m has the following physical properties.

軟化点:173−176℃ NMRスペクトル(δppm,重アセトン): 1.50(3H,s), 2.02(3H,s), 2.12(3H,s), 2.18(3H,s), 3.06(1H,dd,J=9Hzおよび14Hz), 3.40(1H,dd,J=4Hzおよび14Hz), 3.94(1H,d,J=10Hz), 4.05(1H,d,J=10Hz), 4.70(1H,dd,J=4および9Hz), 5.75(1H,d,J=10Hz), 6.72(1H,d,J=10Hz), 6.85(2H,d,J=9Hz), 7.19(2H,d,J=9Hz)。Softening point: 173-176 ° C NMR spectrum (δ ppm , deuterated acetone): 1.50 (3H, s), 2.02 (3H, s), 2.12 (3H, s), 2.18 (3H, s), 3.06 (1H, dd) , J = 9Hz and 14Hz), 3.40 (1H, dd, J = 4Hz and 14Hz), 3.94 (1H, d, J = 10Hz), 4.05 (1H, d, J = 10Hz), 4.70 (1H, dd, J) = 4 and 9Hz), 5.75 (1H, d, J = 10Hz), 6.72 (1H, d, J = 10Hz), 6.85 (2H, d, J = 9Hz), 7.19 (2H, d, J = 9Hz).

参考例5(H−3) 5−〔4−(6−ヒドロキシ−2,5,7,8−テトラメチル
クロマン−2−イルメトキシ)ベンジル〕チアゾリジン
−2,4−ジオン 実施例23の反応条件に準じて、5−〔4−(6−ヒドロ
キシ−2,5,7,8−テトラメチル−2H−クロメン−2−イ
ルメトキシ)ベンジル〕チアゾリジン−2,4−ジオン120
mgをメタノール4mにとかし、10%パラジウム炭素40
mgの存在下水素圧3〜5気圧で還元して得られた目的化
合物の融点およびNMRスペクトルは実施例27におけるそ
れと一致した。
Reference Example 5 (H-3) 5- [4- (6-Hydroxy-2,5,7,8-tetramethylchroman-2-ylmethoxy) benzyl] thiazolidine-2,4-dione Under the reaction conditions of Example 23. Similarly, 5- [4- (6-hydroxy-2,5,7,8-tetramethyl-2H-chromen-2-ylmethoxy) benzyl] thiazolidine-2,4-dione 120
Dissolve mg in 4 m of methanol, 10% palladium on carbon 40
The melting point and NMR spectrum of the target compound obtained by reduction under hydrogen pressure of 3-5 atm in the presence of mg were in agreement with those in Example 27.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 495/10 9165−4C ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location C07D 495/10 9165-4C

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式 [式中、RおよびRは同一または異なって水素原子
または低級アルキル基を示し、Rは水素原子、脂肪族
低級アシル基、脂環式アシル基、置換基を有していても
よい芳香族アシル基、複素環アシル基、置換基を有して
いてもよい芳香脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボ
ニル基またはアラルキルオキシカルボニル基を示し、R
およびRは同一または異なって水素原子、低級アル
キル基または低級アルコキシ基を示す。nは1乃至3の
整数を示す。] で表される化合物のジアゾ化体と 一般式 CH=CH−A′ [式中、A′はシアノ基、カルボキシ基、アルコキシカ
ルボニル基またはカルバモイル基を示す。] で表されるアクリル酸誘導体とをメイルバインアリーレ
イション反応に付して 一般式 〔式中、R,R,R,R,Rおよびnは前述
したものと同意義を示し、Xはハロゲン原子を示し、A
はA′と同意義を有する基および式−COOM(式中、Mは
等価の陽イオンを示す。)〕で表わされる化合物とな
し、得られる化合物とチオ尿素を反応させ、必要に応じ
てさらに、加水分解することを特徴とする 一般式 〔式中、R,R,R,R,Rおよびnは前述
したものと同意義を示し、YおよびZは酸素原子または
イミノ基を有す。〕 で表わされるチアゾリジン誘導体の製法。
1. A general formula [In the formula, R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and R 3 may have a hydrogen atom, an aliphatic lower acyl group, an alicyclic acyl group or a substituent. An aromatic acyl group, a heterocyclic acyl group, an aromatic aliphatic acyl group which may have a substituent, a lower alkoxycarbonyl group or an aralkyloxycarbonyl group, R
4 and R 5 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group. n represents an integer of 1 to 3. ] A diazotized compound of the compound represented by the general formula and CH 2 ═CH—A ′ [wherein A ′ represents a cyano group, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group or a carbamoyl group. ] Acrylic acid derivative represented by [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and n have the same meanings as described above, X represents a halogen atom and A
Is a group having the same meaning as A ′ and a compound represented by the formula —COOM (wherein M represents an equivalent cation)], and the obtained compound is reacted with thiourea, and if necessary, further , A general formula characterized by being hydrolyzed [In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and n have the same meanings as described above, and Y and Z each have an oxygen atom or an imino group. ] The manufacturing method of the thiazolidine derivative represented by these.
【請求項2】一般式 〔式中、Rは水素原子または低級アルキル基を示し、
は水素原子、脂肪族低級アシル基、脂環式アシル
基、置換基を有していてもよい芳香族アシル基、複素環
アシル基、置換基を有していてもよい芳香脂肪族アシル
基、低級アルコキシカルボニル基またはアラルキルオキ
シカルボニル基を示し、RおよびRは同一または異
なつて水素原子、低級アルキル基または低級アルコキシ
基を示す。〕 で表わされる化合物と 一般式 〔式中、Rは同一または異なる前述したRと同意義
を表わす基を示し、nは1乃至3の整数を示す。〕 で表わされる化合物を反応させて 一般式 〔式中、R,R,R,R,Rおよびnは前述
したものと同意義を示す。〕 で表わされる化合物を製造し、該化合物を還元し、必要
に応じてアシル化して 一般式 〔式中、R′は同一または異なる前述したRと同意
義を表わす基を示し、R,R,R,R,R
よびnは前述したものと同意義を示す。〕 で表わされる化合物となし、これを脱離反応に付して 一般式 〔式中、R,R,R,R,Rおよびnは前述
したものと同意義を示す。〕 で表わされる化合物となし、ついでこれを還元して 一般式 〔式中、R,R,R,R,Rおよびnは前述
したものと同意義を示す。〕 で表わされる化合物を得て、該化合物をジアゾ化し、つ
いで 一般式 CH2=CH−A′ 〔式中、A′はシアノ基、カルボキシ基、アルコキシカ
ルボニル基またはカルバモイル基を示す。〕 で表わされるアクリル酸誘導体とメイルバインアリーレ
イシヨン反応に付して 一般式 〔式中、R,R,R,R,Rおよびnは前述
したものと同意義を示し、Xはハロゲン原子を示し、A
はA′と同意義を有する基および式−COOM(式中、Mは
等価の陽イオンを示す。)〕 で表わされる化合物となし、得られる化合物とチオ尿素
を反応させ、必要に応じてさらに、加水分解することを
特徴とする 一般式 〔式中、R,R,R,R,Rおよびnは前述
したものと同意義を示し、YおよびZは酸素原子または
イミノ基を示す。〕 で表わされるチアゾリジン誘導体の製法。
2. General formula [In the formula, R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group,
R 3 is a hydrogen atom, an aliphatic lower acyl group, an alicyclic acyl group, an aromatic acyl group which may have a substituent, a heterocyclic acyl group, an aromatic aliphatic acyl which may have a substituent Group, a lower alkoxycarbonyl group or an aralkyloxycarbonyl group, and R 4 and R 5 are the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group. ] And a compound represented by the general formula [In the formula, R 1 is the same or different and represents a group having the same meaning as R 2 described above, and n represents an integer of 1 to 3. ] By reacting a compound represented by [In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and n have the same meanings as described above. ] The compound represented by the formula is produced, and the compound is reduced, and if necessary, acylated, the compound of the general formula [In the formula, R 3 ′ represents the same or different group having the same meaning as R 3 described above, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and n have the same meanings as described above. ] The compound of the general formula [In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and n have the same meanings as described above. ] The compound of the general formula [In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and n have the same meanings as described above. ] The compound represented by the following formula is obtained, the compound is diazotized, and then CH 2 ═CH—A ′ of the general formula [wherein A ′ represents a cyano group, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group or a carbamoyl group. ] The acrylic acid derivative represented by [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and n have the same meanings as described above, X represents a halogen atom and A
Is a group having the same meaning as A ′ and a compound represented by the formula —COOM (wherein M represents an equivalent cation)], and the obtained compound is reacted with thiourea, and if necessary, further , A general formula characterized by being hydrolyzed [In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and n have the same meanings as described above, and Y and Z represent an oxygen atom or an imino group. ] The manufacturing method of the thiazolidine derivative represented by these.
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