JPS6255543B2

JPS6255543B2 -

Info

Publication number: JPS6255543B2
Application number: JP16493979A
Authority: JP
Inventors: Aburahamu Aabitsuto Harorudo
Original assignee: Mobil Oil Corp
Current assignee: ExxonMobil Oil Corp
Priority date: 1978-12-20
Filing date: 1979-12-20
Publication date: 1987-11-20
Also published as: JPS55106254A

Description

【発明の詳細な説明】

この発明はポリ（ｐ―メチルスチレン）と、低
照射量のイオン化放射線によつて架橋できる低分
子量（2000〜20000の分子量、以下、低分子量と
いう）のポリオレフインおよびオレフインコポリ
マとのブレンドに関する。この発明は(a)少なくとも95重量％のｐ―メチル
スチレン、0.1重量％以下のｏ―メチルスチレン
および残余がｍ―メチルスチレンを含むメチルス
チレンのホモポリマ、またはメチルスチレンと１
〜10重量％の共役ジエンとのコポリマと、 (b)メチルスチレンポリマに基づいて0.1〜10重
量％のC₂〜C₄モノオレフインホモポリマ、モノ
オレフインコポリマまたはスチレン―ブタジエン
ゴムからなる成分であつて、成分(b)の分子量がい
ずれも2000〜20000であるものとのブレンドに関
する。この発明のブレンドを造るのに使用する単量体
（この単量体はホモポリマまたはコポリマを造る
のに使用される）はｐ―メチルスチレンである。
パラメチルスチレンに富んだメチルスチレン類の
混合物を使用することもこの発明の範囲内に属す
ることである。このような混合物は少くとも95重
量％、好適には97〜99重量％のｐ―メチルスチレ
ンおよび0.1重量％以下のｏ―メチルスチレンお
よび残余はｍ―メチルスチレンを含む。代表的な
混合物は約95重量％のｐ―メチルスチレン、約５
重量％のｍ―メチルスチレンおよび約0.5重量％
のｏ―メチルスチレンを含む。これらの混合物は
米国特許第4086287号に記載のエチルメチルベン
ゼン類の混合物の接触脱水素化により得られる。この発明で意図するポリマはｐ―メチルスチレ
ンまたはｐ―メチルスチレンに富んだ異性体混合
物のホモポリマまたはブタジエンおよびイソプレ
ンのような共役ジエンを10重量％〜１重量％含有
するそれらのコポリマである。重合反応はスチレ
ンを重合するために業界において周知の方法およ
び触媒によつて実施できる。反応は溶液重合、塊
状重合、懸濁重合または乳化重合により行われ
る。この発明によるポリ（ｐ―メチルスチレン）(a)
とブレンドされる物質(b)は低分子量のそれぞれポ
リ（C₂〜C₄）オレフイン、オレフインコポリマま
たはスチレンブタジエンゴムである。これらのブ
レンドされる物質(b)はいずれも2000〜20000の分
子量をもつ。この物質はエチレン、プロピレンお
よびブタジエン―１のホモポリマおよびエチレン
―プロピレン、ブテン―プロピレンまたはブテン
―エチレンのようなそれらのコポリマである。更
にオレフインとそれと共重合できる不飽和単量体
との、エチレン―アクリレートコポリマのような
共重合体例えばエチレン―アクリル酸コポリマ、
エチレン―エチルアクリレートまたはエチレン―
ビニルアセテートをも使用できる。このようなポ
リオレフインまたはオレフインコポリマは通常フ
リーラジカル条件下で、業界で周知の方法により
造ることができる。好適な物質は例えば米国特許
第2402137号、第2504400号および第2683141号の
ような米国特許明細書に記載の低分子量ポリエチ
レンである。低分子量ポリオレフイン特にポリオ
レフインが商業的に入手できる。少量の低分子量ポリオレフインまたはコポリマ
は低照射量の放射線により架橋を誘発するのに有
効である。一般に、0.1重量％〜10重量％、好適
には約0.5重量％〜約５重量％が使用される。ブ
レンドを造るには種々の方法、例えばトルエンの
ような芳香族溶媒中に溶解することによつて（こ
の溶液からシートまたはフイルムを注形できる）
行うことができる。ブレンド成分をタンブルブレ
ンダ中で混合し、押出機に供給して、シート、フ
イルムまたは発泡シートを造り、またはそれらの
成分を押出機中でブレンドするために押出機に
別々に供給してもよい。この発明のブレンドはシート、フイルムまたは
発泡シートに成形でき、および熱成形して造形品
例えば食料品容器を製造することができる。照射
後造形品は耐熱性であり、電子オーブン条件下で
脂肪食品によつて影響されない。イオン化放射線は超短波長、高エネルギー、透
過性光線例えばガンマー線、Ｘ―線およびサイク
ロトロン、ベータートロン、シンクロトロンおよ
び直線加速器中で加速された次原子を含む。造形
品を照射する効果はポリ（ｐ―メチルスチレン）
ブレンドを架橋するにある。照射量は約20メガラ
ド〜約45メガラドであることができるが、ポリ
（ｐ―メチルスチレン）は約50メガラド〜約60メ
ガラドであることを要する。ポリスチレンを使用
する同様なブレンドは低照射量では架橋しない。例１ｍ―メチルスチレン異性体３％およびｏ―メチ
ルスチレン異性体0.1％を含有するポリ（ｐ―メ
チルスチレン）（PPMS）を25重量％濃度でトル
エン中に溶解し、次いで固体重量に基いて１重量
％の低分子量の細かく分割したポリエチレン（平
均粒子寸法12ミクロン）を添加し、溶解した。こ
のポリエチレンは約5000〜6000の分子量および
0.99ｇ/c.c.の密度をもつ。ポリエチレンテレフタ
レートで被覆した平滑表面上にフイルムを注形
し、引落し、乾燥すれば約0.0508mm（２ミル）の
乾燥フイルム厚のフイルムが得られた。フイルム
のサンプルを種々のメガラド（Ｍラド）の照射量
の電子線によつて照射した。各照射量に対して、
架橋量は室温で一夜トルエン中への照射したフイ
ルムの溶解度を測定することによつて架橋度を測
定した。こうして生成した不溶性ゲルは過し、
乾燥し、115℃で恒量になるまで乾燥した。比較
のために、上記により使用したポリエチレン１重
量％を含有するポリスチレン（PS）フイルムを
照射し、ゲル含量を試験した。関連データを第１
表に掲げる。

【表】第１表のデータから約20メガラド（Ｍラド）〜
約45Mラドの照射量でPPMSとポリエチレンのブ
レンドは実質的架橋（ゲル化により測定）を生ず
るが、しかしPSブレンドは架橋しなかつたこと
がわかる。PPMS単独（非ブレンド）の場合には
架橋するには50〜60Mラドを必要とした。こうし
て、この発明のブレンドを使用すればかなりのエ
ネルギーの節約が行われる。例２使用したポリエチレンが約18000の分子量で密
度が0.924ｇ/c.c.である以外は例１の操作を使用し
た。PPMS中の１％ブレンドの0.0508mm（２ミ
ル）のフイルムを照射したデータを第２表に示
す。

【表】例３〜７例１の操作によりPPMSとの一連のブレンドを
造つた。各ブレンドは１重量％の種々のポリオレ
フインまたはオレフイン共重合体を含有し、それ
からフイルムを造つた。各フイルムを種々のメガ
ラド照射量で電子線で照射した。例１に記載のよ
うに、架橋量を各照射量について決定し、関連す
るデータおよび結果を第３表に掲げる。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１ (a) 少なくとも95重量％のｐ―メチルスチレ
ン、0.1重量％以下のｏ―メチルスチレンおよ
び残余がｍ―メチルスチレンを含むメチルスチ
レンのホモポリマ、またはメチルスチレンと１
〜10重量％の共役ジエンとのコポリマと、 (b) メチルスチレンポリマに基づいて0.1〜10重
量％のC₂〜C₄モノオレフインホモポリマ、モ
ノオレフインコポリマまたはスチレン―ブタジ
エンゴムからなる成分であつて、成分(b)の分子
量がいずれも2000〜20000であるものとのブレンド。２ C₂〜C₄モノオレフインホモポリマ、モノオ
レフインコポリマまたはスチレン―ブタジエンゴ
ムを0.5〜５重量％含有する、特許請求の範囲第
１項記載のブレンド。３ C₂〜C₄モノオレフインホモポリマが分子量
5000〜6000のポリエチレンである特許請求の範囲
第１項または第２項記載のブレンド。４ C₂〜C₄モノオレフインホモポリマが分子量
18000のポリエチレンである、特許請求の範囲第
１項または第２項記載のブレンド。５スチレン―ブタジエンゴムが0.5〜５重量％
の量で含まれる、特許請求の範囲第２項記載のブ
レンド。６ C₂〜C₄モノオレフインホモポリマがポリプ
ロピレンである特許請求の範囲第２項記載のブレ
ンド。７モノオレフインコポリマがエチレン―プロピ
レンゴムである特許請求の範囲第２項記載のブレ
ンド。