JPS6251931A - 植物育成方法 - Google Patents
植物育成方法Info
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- JPS6251931A JPS6251931A JP19111585A JP19111585A JPS6251931A JP S6251931 A JPS6251931 A JP S6251931A JP 19111585 A JP19111585 A JP 19111585A JP 19111585 A JP19111585 A JP 19111585A JP S6251931 A JPS6251931 A JP S6251931A
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- Japan
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- light
- plant
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- light irradiation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
し座業上の利用分野〕
この発明は、植物育成方法に関し、特ＶＣ環境条件のう
ち少なくとも光を制帥するものに関する。
ち少なくとも光を制帥するものに関する。
植物の生長は環境に大きく依存するのに周知の通りであ
る。しかるは、地球上の自然環境に変動し、植物の生産
性から見た場合、必ずしも過当でない。生産に通した条
件を備えｔ期間は、地域により全く無かったり、おった
としてもごく短ｗ３間である。他物の生産性低下をもた
らす環境要因を人工的ＶＣ補い、生産性をできるだけ保
持しようとするのが施設裁層である。しかし、この施設
栽培においてもやにり自然環境から光分に脱却したと１
２言い娠＜、したがって、生＊注にも限界があつｆｃ。
る。しかるは、地球上の自然環境に変動し、植物の生産
性から見た場合、必ずしも過当でない。生産に通した条
件を備えｔ期間は、地域により全く無かったり、おった
としてもごく短ｗ３間である。他物の生産性低下をもた
らす環境要因を人工的ＶＣ補い、生産性をできるだけ保
持しようとするのが施設裁層である。しかし、この施設
栽培においてもやにり自然環境から光分に脱却したと１
２言い娠＜、したがって、生＊注にも限界があつｆｃ。
そこで、自然環境から完全Ｖｃ切り離さｆた人工環視の
もとで、植物の持つ生長力を最大限に発揮させようとす
る試みがなさｎている。いわゆる燻物工場で必る。他物
工場は、任意に制御できる環境のもとての植物栽培であ
り、完全に制御さ几た主題が町舵でめるなど多くのメリ
ットを有している。
もとで、植物の持つ生長力を最大限に発揮させようとす
る試みがなさｎている。いわゆる燻物工場で必る。他物
工場は、任意に制御できる環境のもとての植物栽培であ
り、完全に制御さ几た主題が町舵でめるなど多くのメリ
ットを有している。
し刀・しながら１人工的に塊視を作るため、どうしても
エネルギ消費によるコストがかかり、経済性が問題とし
て残る。植物工場のメリットを生かし実用化するためＫ
１１ｌ、土地生産性および省エネルギを追求することが
大きな蛛題である。そのためは、特開昭５５−２４００
０号公報に記載さｎ７’ｈように植物が成熟し大きくな
るのに伴って植物体の間隔を増大させるように移動し、
生前中密植状態を保って栽培することにより栽培面積を
小さくする工夫がなさルている。
エネルギ消費によるコストがかかり、経済性が問題とし
て残る。植物工場のメリットを生かし実用化するためＫ
１１ｌ、土地生産性および省エネルギを追求することが
大きな蛛題である。そのためは、特開昭５５−２４００
０号公報に記載さｎ７’ｈように植物が成熟し大きくな
るのに伴って植物体の間隔を増大させるように移動し、
生前中密植状態を保って栽培することにより栽培面積を
小さくする工夫がなさルている。
上記のような成熟に伴って植物体の間隔を増大させる方
法では、植物体に照射する元が低照度で６ｎば、植物体
の葉か大きくなり、隣接する植物体の来が憲なるためは
、均一で高品位な植物体が侍らｎなくなるという問題点
があった。また、その分、栽培面稙か大きくなってしま
うという問題がめった。この問題点？：除去するためＫ
は、尚照度の光を組物に照射するのがＭ初であると考え
らｎるが、上記で説明したように人工光源を用いた組物
数理装置では、煕明電力を出来るだけ低減することか重
要であり、高照度の光を植物体に照射することは好まし
くない。
法では、植物体に照射する元が低照度で６ｎば、植物体
の葉か大きくなり、隣接する植物体の来が憲なるためは
、均一で高品位な植物体が侍らｎなくなるという問題点
があった。また、その分、栽培面稙か大きくなってしま
うという問題がめった。この問題点？：除去するためＫ
は、尚照度の光を組物に照射するのがＭ初であると考え
らｎるが、上記で説明したように人工光源を用いた組物
数理装置では、煕明電力を出来るだけ低減することか重
要であり、高照度の光を植物体に照射することは好まし
くない。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
几たもので、低照度の光照射でも均一でかつ高品位な植
物体を得ることができ、さらに栽培面積を小さくできる
植物育成方法乞提供することを目的としている。
几たもので、低照度の光照射でも均一でかつ高品位な植
物体を得ることができ、さらに栽培面積を小さくできる
植物育成方法乞提供することを目的としている。
この発明に係る植物育成方法は、環境条件のうち少なく
とも光を制御する植物育成方法において他物体ＶＣ光を
連続的に照射する場合の２倍以上の照度の光を、上記植
物体に間欠的に照射するようにしたものでるる。
とも光を制御する植物育成方法において他物体ＶＣ光を
連続的に照射する場合の２倍以上の照度の光を、上記植
物体に間欠的に照射するようにしたものでるる。
間欠的に強い照度の光を照射することにより。
植物体がこの光に対応し、４１Ｌ物体の葉が小さくなる
。
。
植物の生長と環境俄因との関係は複雑であり。
光分に明らかにさｎておらず、こｎらの関係を調べる研
究に努力が払わｎている。
究に努力が払わｎている。
この発明は１間欠元照射の明期の照度が植物体の葉の形
状に及ぼす効果ＫＮ目してなさまたものであり、明期と
暖期の平均照度が低照度でかつ明期の照度が連続的に光
を照射する場合の照度よりも高照度の光を植物体に間欠
的に照射するよりにしたものである。
状に及ぼす効果ＫＮ目してなさまたものであり、明期と
暖期の平均照度が低照度でかつ明期の照度が連続的に光
を照射する場合の照度よりも高照度の光を植物体に間欠
的に照射するよりにしたものである。
以下０図を用いてさらに詳しく説明する。
第１図はこの発明の一実施例に係わる植物栽培装置を示
す構成図である。図において、（１）は光照射装置（４
）を収納する植物栽培装置、（２）に温度および湿度を
ｉ、Ｉ４節する空調＠、 （３１は炭酸ガス注入口。
す構成図である。図において、（１）は光照射装置（４
）を収納する植物栽培装置、（２）に温度および湿度を
ｉ、Ｉ４節する空調＠、 （３１は炭酸ガス注入口。
（５）は恒温水槽、（６）は仕切板、（７）は間欠光照
射電源。
射電源。
（８）に連続光照射電源、（９）は空気供給器、 （Ｉ
Ｇは人工光源、αυは水耕槽、α３ｉＩ水耕液、α３は
タンク、α４はポンプ、ｔｔｃＪａ間欠光照射室、αＩ
は連続光照射室。
Ｇは人工光源、αυは水耕槽、α３ｉＩ水耕液、α３は
タンク、α４はポンプ、ｔｔｃＪａ間欠光照射室、αＩ
は連続光照射室。
（Ｌ′０は植物体８例えばブラダ菜である。
図中、英綴の矢印は水耕液の供給の流ｆ′Ｌを示し。
点線の矢印は空気の供給の流ｆ′Ｌ？：示す。
上記光照射装ｋ（４）は植物栽培装［（１１内に収納さ
ｎ、仕切板＋６１ Ｋよって間欠光照射室（Ｉ！９と連
続光照射室αｅの２つのセクションに分けら几ている。
ｎ、仕切板＋６１ Ｋよって間欠光照射室（Ｉ！９と連
続光照射室αｅの２つのセクションに分けら几ている。
光照射室ａ５及びａｅ内に周囲面からの光反射をなくす
るために１例えば黒色ゴムシートで覆わ几ている。
るために１例えば黒色ゴムシートで覆わ几ている。
植物栽培装［（１１内の気温及び湿度が空調機（２）に
より調節さ几、また水耕液（Ｉｚの温度が恒温水槽（５
）により調節さル、植物栽培装ｋＴｌｌ内の環境条件が
植物体面の生育にとって好適な条件に制御さする。
より調節さ几、また水耕液（Ｉｚの温度が恒温水槽（５
）により調節さル、植物栽培装ｋＴｌｌ内の環境条件が
植物体面の生育にとって好適な条件に制御さする。
また、所定の濃度の水耕液ｃＬｚは、空気供給器（９）
によりエアレーションされて光分な溶存酸素Ｑ度が保だ
ｎている。さらに植物栽培装置（１）内の炭販ガス濃度
が所定の濃度となるようは、注入口（３）から炭酸ガス
を注入する。光照射ｇｕ！９及び住ｅ内に設置さｎたフ
ァン（図示せず）Ｋエフ、上記のように調節さｎｆｃ植
物裁培栽培置装１１内の空気が光照射室αつ及び住［９
Ｔ？３に送気さｎる。
によりエアレーションされて光分な溶存酸素Ｑ度が保だ
ｎている。さらに植物栽培装置（１）内の炭販ガス濃度
が所定の濃度となるようは、注入口（３）から炭酸ガス
を注入する。光照射ｇｕ！９及び住ｅ内に設置さｎたフ
ァン（図示せず）Ｋエフ、上記のように調節さｎｆｃ植
物裁培栽培置装１１内の空気が光照射室αつ及び住［９
Ｔ？３に送気さｎる。
従って、光照射室ｕ！９及び−内の環境条件は１元条件
を除いて同一となる。その友、サラダ菜ｑ力が光照射室
ａＳ及びｔｔｅ内の水耕槽α１）Ｋ植えらル９間欠光照
射呈（１５及び連続光照射室（１１９の人工光源ａＯが
そ几ぞｆ′Ｌ電源（７）及び＋８１ＶＣより点灯さ几て
植物の裁培が開始さｎる。この際０間欠光照射の明期の
照度を１例えば連続光照射のそｎの５倍とするＶＣは。
を除いて同一となる。その友、サラダ菜ｑ力が光照射室
ａＳ及びｔｔｅ内の水耕槽α１）Ｋ植えらル９間欠光照
射呈（１５及び連続光照射室（１１９の人工光源ａＯが
そ几ぞｆ′Ｌ電源（７）及び＋８１ＶＣより点灯さ几て
植物の裁培が開始さｎる。この際０間欠光照射の明期の
照度を１例えば連続光照射のそｎの５倍とするＶＣは。
電源（７１Ｋよジ明期と暗期の比率を１：４とし、かつ
人工光源αＱの点灯本数を連続光照射の場合の５倍とす
る。このようにすｎば１間欠光照射の平均照度が連続光
照射のそｎと等しくな）１間欠光照射の明期の照度が植
物体αＤの形状に及ぼす効果を調べることができる。
人工光源αＱの点灯本数を連続光照射の場合の５倍とす
る。このようにすｎば１間欠光照射の平均照度が連続光
照射のそｎと等しくな）１間欠光照射の明期の照度が植
物体αＤの形状に及ぼす効果を調べることができる。
上記のように構成さ几た植物栽培装置ｔ ｆｉｌを用い
て２間欠光照射の明期の照度を、連続に光を照射し几場
合の照度の２〜１０倍まで変化させ、栽培後の生体重量
が１００ＰＫなった時のサラダ菜σＤの葉の寸法を測定
した。
て２間欠光照射の明期の照度を、連続に光を照射し几場
合の照度の２〜１０倍まで変化させ、栽培後の生体重量
が１００ＰＫなった時のサラダ菜σＤの葉の寸法を測定
した。
表１Ｖｃこ几らの結果を示す。このとき２間欠元照射の
周期に１０ｍ５．気温は２０℃、炭酸ガス濃度は４００
０１ｐ、相対湿度は８０％１周速に０．５ｍ／ ｓｅｃ
、水耕液住ｚの温度、＠度２よびＰＨはそ几ぞｎ２１℃
、１２ミリモーｌ ５〜ａ、５．日長に２４時間であつ
几。また１人工元源αＯとして蛍光灯を用いている。
周期に１０ｍ５．気温は２０℃、炭酸ガス濃度は４００
０１ｐ、相対湿度は８０％１周速に０．５ｍ／ ｓｅｃ
、水耕液住ｚの温度、＠度２よびＰＨはそ几ぞｎ２１℃
、１２ミリモーｌ ５〜ａ、５．日長に２４時間であつ
几。また１人工元源αＯとして蛍光灯を用いている。
表 １゜
表ｔＶｃおけるＫは
？示すものであり、生体重量が１０ｏｆのサラダ菜の大
きさは、第ｚＨｖｃおける縦の長さくａ）（ｉＸ横の長
さくｂ）（ｙｔ） Ｙ示すものである。
きさは、第ｚＨｖｃおける縦の長さくａ）（ｉＸ横の長
さくｂ）（ｙｔ） Ｙ示すものである。
表１に示すようは、この実施例にょルば、明期と暗期の
平均照度が９ ｋｌｘの低照度でも、従来の連続光照射
の２０ ｋｌＸ （？ラダ菜の光飽和照度；照度を高く
しても生長速度が増大しない照度）での植物体形状に匹
敵するものが得ら几る。
平均照度が９ ｋｌｘの低照度でも、従来の連続光照射
の２０ ｋｌＸ （？ラダ菜の光飽和照度；照度を高く
しても生長速度が増大しない照度）での植物体形状に匹
敵するものが得ら几る。
従来の連続的に光を照射する方法において、９に１ｘの
低照度でに植物体の葉が著しく大きくなり低品位で不均
一なものになっていた。こ′ｎに比べて９明期と暗期の
平均照度が９ ｋｌＸで、かつ明期の照度が連続的に光
を照射した場合の２倍以上の尚照度の光を間欠的に照射
して裁培すると、サラダ菜σηの葉はまとまりよく小さ
くなり、均一で藺品位なものが得らｎる。平均照度”：
ｔ ５ ｋｌｘ Ｋ下げても、サラダ菜αηの葉は尚品
位で均一なものが得らルるが、明期の照度が連続的に光
を照射した場合の２倍未満だと、従来と同程度の葉の大
きさになジ、あまり効果がない。また８平均前度が連続
照射の場合の元飽和照度よりも高い照度にしても植物体
に影響する効果は２元飽和照度の時の効果と同程度にな
る。
低照度でに植物体の葉が著しく大きくなり低品位で不均
一なものになっていた。こ′ｎに比べて９明期と暗期の
平均照度が９ ｋｌＸで、かつ明期の照度が連続的に光
を照射した場合の２倍以上の尚照度の光を間欠的に照射
して裁培すると、サラダ菜σηの葉はまとまりよく小さ
くなり、均一で藺品位なものが得らｎる。平均照度”：
ｔ ５ ｋｌｘ Ｋ下げても、サラダ菜αηの葉は尚品
位で均一なものが得らルるが、明期の照度が連続的に光
を照射した場合の２倍未満だと、従来と同程度の葉の大
きさになジ、あまり効果がない。また８平均前度が連続
照射の場合の元飽和照度よりも高い照度にしても植物体
に影響する効果は２元飽和照度の時の効果と同程度にな
る。
上記実施例では、明期の照度が高照度の間欠光照射を単
独で行なっているが、平均照度が５１（ｌｘ程度の低照
度の間欠光照射と一定照度１例えば数ｋｌｘの低照度の
連続光照射とを四時に行なっても上記実施例と同様の効
果が得らｎる。
独で行なっているが、平均照度が５１（ｌｘ程度の低照
度の間欠光照射と一定照度１例えば数ｋｌｘの低照度の
連続光照射とを四時に行なっても上記実施例と同様の効
果が得らｎる。
また、上記実施例では間欠光照射の周期を１０ｍ日とし
たが１間欠元照射の周期にｉ ｍ８ から１０６０、ｍ
ｓ の範囲でも上記と同様の効果が得ら几る。また、炭
酸ガス濃度が大気Ｉｉｋ度より数倍以上において上記と
同様の効果が得ら几る。さらに気温が２０℃から３０℃
において上記と同様の効果が得らｎる。
たが１間欠元照射の周期にｉ ｍ８ から１０６０、ｍ
ｓ の範囲でも上記と同様の効果が得ら几る。また、炭
酸ガス濃度が大気Ｉｉｋ度より数倍以上において上記と
同様の効果が得ら几る。さらに気温が２０℃から３０℃
において上記と同様の効果が得らｎる。
以上説明したようは、この発明によ几ば、環境条件のう
ち少なくとも光を制御する植物育底力法において、植物
体に光を連続的に照射する場合の２倍以上の照度の光を
、上記植物体に間欠的に照射することにより、平均照度
が低い光照射でも。
ち少なくとも光を制御する植物育底力法において、植物
体に光を連続的に照射する場合の２倍以上の照度の光を
、上記植物体に間欠的に照射することにより、平均照度
が低い光照射でも。
均一で高品位な植物体が得らｎ、さらに栽培面積を小さ
くできる効果がある。
くできる効果がある。
第１図はこの発明における植物育底力法の−実捲例に係
わる植物育成装置を示す構成図、第２図はこの実施例に
係わる植物体を示す上面図である。 （１１・・・植物栽培装置、（２）・・・空調機、（３
）・・・炭酸ガス注入口、（４）・・・光照射装置、（
５）・・・恒温水槽、（７）・・・間欠光照射電源、（
９）・・・空気供給器、αＱ・・・人工光源。 αト・−水耕槽、住ｚ・・・水耕液、α３・・・タンク
、（１４・・・ポンプ、住訃・・間欠光照射室、α訃・
・植物体。 なお０図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
わる植物育成装置を示す構成図、第２図はこの実施例に
係わる植物体を示す上面図である。 （１１・・・植物栽培装置、（２）・・・空調機、（３
）・・・炭酸ガス注入口、（４）・・・光照射装置、（
５）・・・恒温水槽、（７）・・・間欠光照射電源、（
９）・・・空気供給器、αＱ・・・人工光源。 αト・−水耕槽、住ｚ・・・水耕液、α３・・・タンク
、（１４・・・ポンプ、住訃・・間欠光照射室、α訃・
・植物体。 なお０図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (3)
- （１）環境条件のうち少なくとも光を制御する植物育成
方法において、植物体に光を連続的に照射する場合の２
倍以上の照度の光を、上記植物体に間欠的に照射するこ
とを特徴とする植物育成方法。 - （２）植物体に間欠的に照射する光の明期と暗期の平均
照度は、光を連続的に照射する場合の光飽和照度よりも
低くしたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
植物育成方法。 - （３）植物体に間欠的に光を照射すると同時に、一定照
度の光を植物体に連続的に照射することを特徴とする特
許請求の範囲第１項または第２項記載の植物育成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19111585A JPS6251931A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | 植物育成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19111585A JPS6251931A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | 植物育成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6251931A true JPS6251931A (ja) | 1987-03-06 |
Family
ID=16269112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19111585A Pending JPS6251931A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | 植物育成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6251931A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0491661U (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-10 | ||
| US6387497B1 (en) | 1997-12-19 | 2002-05-14 | Matsumoto Yushi-Seiyaku Co Ltd | Synthetic organic particles, process for the production of the same, and use thereof |
| US7084633B2 (en) | 2002-05-20 | 2006-08-01 | Neomax Co., Ltd. | Magnetic field generating device and MRI equipment using the device |
| WO2022071129A1 (ja) * | 2020-09-30 | 2022-04-07 | Ｍｉｒａｉ株式会社 | 栽培環境制御装置 |
-
1985
- 1985-08-30 JP JP19111585A patent/JPS6251931A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0491661U (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-10 | ||
| US6387497B1 (en) | 1997-12-19 | 2002-05-14 | Matsumoto Yushi-Seiyaku Co Ltd | Synthetic organic particles, process for the production of the same, and use thereof |
| US7084633B2 (en) | 2002-05-20 | 2006-08-01 | Neomax Co., Ltd. | Magnetic field generating device and MRI equipment using the device |
| WO2022071129A1 (ja) * | 2020-09-30 | 2022-04-07 | Ｍｉｒａｉ株式会社 | 栽培環境制御装置 |
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