JPS62502685A - Phenylene derivative - Google Patents

Phenylene derivative

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JPS62502685A
JPS62502685A JP50183886A JP50183886A JPS62502685A JP S62502685 A JPS62502685 A JP S62502685A JP 50183886 A JP50183886 A JP 50183886A JP 50183886 A JP50183886 A JP 50183886A JP S62502685 A JPS62502685 A JP S62502685A
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formula
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lower alkyl
alkyl group
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JP50183886A
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間瀬 年康
村瀬 清志
弘 原
健一 富岡
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山之内製薬株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称 フェニレン誘導体 発明の詳細な説明 (産業上の利用分野) 本発明は、医薬、殊にS RS −A (S low reacting 5a bstanceof anaphylaxis)拮抗剤として有用な新規フェニ レン誘導体及びその塩に関する。[Detailed description of the invention] name of invention Phenylene derivative Detailed description of the invention (Industrial application field) The present invention relates to pharmaceuticals, particularly SRS-A (S low reacting 5a Novel phenylene peptides useful as antagonists of anaphylaxis) This invention relates to ren derivatives and salts thereof.

(問題点を解決するための手段) 本発明の化合物は、下記一般式(I)で示されるフェニレン誘導体である。(Means for solving problems) The compound of the present invention is a phenylene derivative represented by the following general formula (I).

(式中の記号は以下の意味を表わす。(The symbols in the formula represent the following meanings.

A:水素原子、フェニル基又はフェノキシ基。A: Hydrogen atom, phenyl group or phenoxy group.

n:3〜lOの整数。n: an integer from 3 to 1O.

R1:水素原子又は低級アルコキシ基。R1: hydrogen atom or lower alkoxy group.

X重ニーCHtCH2−、−CH=CH、−CH2YI (式中Y。X double CHtCH2-, -CH=CH, -CH2YI (Y in the formula.

ニー0−、−S−又ハN H−) 、Y t −CHt−1COYz−(式中Y z: NH、−CHx YI−又はY r CHt−)又バー Y t CO− テ示される基。Knee 0-, -S- or HaNH-), Yt -CHt-1COYz- (Y in the formula z: NH, -CHx YI- or YrCHt-) or bar YtCO- The group shown.

コキシ基、カルボキシ基、シアノ基、オキサロアミド基(−NHCOCOOH) 、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、 低級アルコキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルコキシカ ルボニル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキルチオ低級アルキル基、低級ア ルコキシカルボニル低級アルキルチオ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カ ルボキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、低級 アルカノイル低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシカル ボニル低級アルコキシ基、低級アルカノイル基又は アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキ ル基、低級アルカノイル基、カルボキシ低級アルカノイル基、低級アルコキシカ ルボニル低級アルカノイル基、置換又は非置換フェニル低級アルコキシカルボニ ル低級アルカノイル基。Koxy group, carboxy group, cyano group, oxalamide group (-NHCOCOOH) , lower alkoxycarbonyl group, lower alkyl group, hydroxy lower alkyl group, Lower alkoxy lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxy group Rubonyl lower alkyl group, carboxy lower alkylthio lower alkyl group, lower alkyl group, carboxy lower alkylthio lower alkyl group, Rukoxycarbonyl lower alkylthio lower alkyl group, halo lower alkyl group, Ruboxy lower alkoxy group, lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower Alkanoyl lower alkoxy group, lower alkoxycarbonyl lower alkoxyl Bonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl group or Alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group lower alkanoyl group, carboxy lower alkanoyl group, lower alkoxy group Rubonyl lower alkanoyl group, substituted or unsubstituted phenyl lower alkoxycarbonyl group lower alkanoyl group.

カルバモイル基、低級アルキレン基又はモノ又はジ低級アルキルアミノカルボニ ル基)。Carbamoyl group, lower alkylene group or mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group group).

R3:水素原子、水酸基又は低級アルコキシ基〕で示される基、X、ニーCH= CH−、−Y3−Y、−(式中Y、:単結合、−0−。R3: a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a lower alkoxy group], X, and CH= CH-, -Y3-Y, - (Y in the formula: single bond, -0-.

−5−又は−NH−;Y、+途中硫黄原子で中断されていてもよい炭素数社が1 〜6個のアルキレン基)で示される基、D :カルボキシ基、低級アルコキシカ ルボニル基又は化合物又は薬学的に許容されるその塩。-5- or -NH-; Y, + several carbon atoms which may be interrupted by a sulfur atom are 1 ~6 alkylene groups), D: carboxyl group, lower alkoxy group Rubonyl group or compound or pharmaceutically acceptable salt thereof.

上記一般式(I)又は後述する一般式の種々の定義や好適な具体例について以下 詳細に説明する。Below are various definitions and preferred specific examples of the general formula (I) above or the general formulas described below. Explain in detail.

本明細書において「低級」なる語は特に断わらない限り、炭素数カ月ないし6個 の直鎖又は分岐状の炭素鎖を意味する。In this specification, the term "lower" refers to carbon atoms of several months to six carbon atoms, unless otherwise specified. means a straight or branched carbon chain.

従って、「低級アルキル基jとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ プロピル基、ブチル基、イソブチル基、5ec−ブチル基。Therefore, "lower alkyl groups j include methyl group, ethyl group, propyl group, iso Propyl group, butyl group, isobutyl group, 5ec-butyl group.

tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル 基等が挙げられる。又、「低級アルコキシ」及び「低級アルコキシ基」で示され る基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブ トキシ基、イソブトキシ基、 sec −ブトキシ基、 tert−ブトキシ基 、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、イソへキシル オキシ基等が挙げられる。tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, hexyl group, isohexyl Examples include groups. Also, it is indicated by "lower alkoxy" and "lower alkoxy group". Examples of groups include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, and butyl group. Toxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group , pentyloxy group, isopentyloxy group, hexyloxy group, isohexyl Examples include oxy group.

Y4の示す「途中硫黄原子で中断されていてもよい炭素数が1ないし6個のアル キレン基」としては、メチレン基、エチレン基及び前記アルキレン基の炭素数3 ないし6個の具体例が同様に挙げられるほか、これらのアルキレン基の任意の位 置が1個の硫黄原子で中断された基、具体的には、式−〇Hz−S CHx 、 −(CHt)2−S CH2、−(CHt):+−5−CHt 、 −(CHt )45−CH2、−(CH2)2 S (CHt)3 、CHt−S (CHt )4−1CHt CH(CHs ) CH2S CHを−等が挙げられる。Y4 indicates "an alkali having 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted by a sulfur atom" Examples of "kylene group" include methylene group, ethylene group, and alkylene group having 3 carbon atoms. to 6 specific examples are similarly listed, and any position of these alkylene groups A group in which the position is interrupted by one sulfur atom, specifically, a group having the formula -〇Hz-S CHx , -(CHt)2-S CH2, -(CHt):+-5-CHt, -(CHt )45-CH2, -(CH2)2 S (CHt)3, CHt-S (CHt )4-1CHtCH(CHs)CH2SCH-, and the like.

X、の示す「式−CHt −Y +−もしくは−YI CHt−で示される基」 としては、具体的には、メチレンオキシ基(−CHI−0−)。"A group represented by the formula -CHt-Y+- or -YICHt-" represented by X Specifically, it is a methyleneoxy group (-CHI-0-).

メチレンチオ基(−CH2−S−)、メチレンイミノ基(CHt−NH−)、オ キシメチレン基(0−CHt )、チオメチレン基(、−S −CH、−)、イ ミノメチレン基(NH−CHt )が挙げられる。methylenethio group (-CH2-S-), methyleneimino group (CHt-NH-), xymethylene group (0-CHt), thiomethylene group (, -S -CH, -), A minomethylene group (NH-CHt) is mentioned.

またX、の示す「式−Co Yt−もしくは−Y之−CO−で示される基」とし ては、具体的にはカルボニルイミノ基(−CONH−)。In addition, as "a group represented by the formula -CoYt- or -Y-CO-" indicated by X, Specifically, carbonylimino group (-CONH-).

カルボニルメチレンオキシ基(−COCHt−0−)、カルボニルメチレンチオ 基(−COCHt S )、カルボニルメチレンイミノ基(−COCH2−NH −)、イミノカルボニル基(−NHCO−)、メチレンオキシカルボニル基(C Ht OCo )、メチレンチオカルボニル基(−CH2−S−Co−)、メチ レンイミノカルボニル基(−CH,NHCO−:’をオキシメチレンカルボニル 基(−〇−CH!−Go−)、チオメチレンカルボニル基(−S CHt−CO −)、イミノメチレンカルボニル基(−NHCH,−Co−)。carbonylmethyleneoxy group (-COCHt-0-), carbonylmethylenethio group (-COCHt S ), carbonylmethyleneimino group (-COCH2-NH -), iminocarbonyl group (-NHCO-), methyleneoxycarbonyl group (C Ht OCo ), methylenethiocarbonyl group (-CH2-S-Co-), methyl Leniminocarbonyl group (-CH, NHCO-:' is oxymethylenecarbonyl group (-〇-CH!-Go-), thiomethylenecarbonyl group (-S CHt-CO -), iminomethylenecarbonyl group (-NHCH, -Co-).

カルボニルオキシ基(−〇〇−0−)、カルボニルチオ基(−C0−S−)、オ キシカルボニル基(−0−Co−)、チオカルボニル基(−S−Co−)が挙げ られる。Carbonyloxy group (-〇〇-0-), carbonylthio group (-C0-S-), Examples include oxycarbonyl group (-0-Co-) and thiocarbonyl group (-S-Co-). It will be done.

Rt 、 R4又はR3が示す「低級アルカノイル基」としては、ホルミル基、 アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソ バレリル基等が、「置換フェニル低級アルコキシカルボニル低級アルカノイル基 」としては例えばp−メトキシベンジルオキシカルボニルアセチル基が、「低級 アルコキシ基ル基」としてはメトキサリル基、エトキサリル基等が挙げられる。The "lower alkanoyl group" represented by Rt, R4 or R3 includes formyl group, Acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, iso Valeryl group etc. are substituted phenyl lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group. ", for example, p-methoxybenzyloxycarbonylacetyl group, "lower Examples of the "alkoxy group" include methoxalyl group and ethoxalyl group.

x2の示す[式−Y 3− Y−一で示される基としては、具体的には、メチレ ン基(CHt )、エチレン基(−CH−CHt )、テトラメチレン基(−( cHt)、−)、ペンタメチレン基(−(CHI)5−)。Specifically, the group represented by the formula -Y3-Y-1 represented by x2 is methylene group (CHt), ethylene group (-CH-CHt), tetramethylene group (-( cHt), -), pentamethylene group (-(CHI)5-).

メチレンチオメチレン基(−〇H,−5−CH2−)、オキシメチレン基(−Q CH,−)、オキシエチレン基(OCH* CHt −) 、オキシプロピレン 基(−0CH2CHt CHx −) 、オキシプロピレンチオメチレン基(− 〇 −CH2CHt CHt −S CHx −) 、チオメチレン基(−S− CH2−)、チオエチレン基(−S CH2CH2−)、チオプロピレン基(− S−CH,CH2Cl−1t−)、チオエチレンチオメチレン基(S CH2C H2S CHt−)、イミノメチレン基(−N HCHt−) 、イミノエチレ ン基(N HCHt CH2) 。Methylenethiomethylene group (-〇H, -5-CH2-), oxymethylene group (-Q CH, -), oxyethylene group (OCH* CHt -), oxypropylene group (-0CH2CHt CHx-), oxypropylenethiomethylene group (- 〇 -CH2CHt CHt -S CHx -), thiomethylene group (-S- CH2-), thioethylene group (-S CH2CH2-), thiopropylene group (- S-CH, CH2Cl-1t-), thioethylenethiomethylene group (S CH2C H2S CHt-), iminomethylene group (-N HCHt-), iminoethylene N group (N HCHt CH2).

イミノエチレンチオエチレン基(N HCHt CH2−S −CH2CH2) が挙げられる。Iminoethylenethioethylene group (N HCHt CH2-S -CH2CH2) can be mentioned.

上記一般式(I)の化合物は、不斉炭素原子の存在に基づく光学異性体やアルケ ニル基等の存在に基づくシス・トランスの立体異性体の存在するものが含まれて いる。本発明化合物にはこれら異性体の分離されたもの、及びこれらの混合物が 包含される。The compound of general formula (I) above has optical isomers and alkyl atoms based on the presence of an asymmetric carbon atom. Contains cis and trans stereoisomers based on the presence of nyl groups, etc. There is. The compounds of the present invention include separated isomers and mixtures thereof. Included.

また、本発明化合物中には塩を形成するものが存在する。本発明は上記一般式( 1)の化合物の塩をも包含するものであり、そのような塩としては、ナトリウム 、カリウムなどの無機塩基との塩。Furthermore, some of the compounds of the present invention form salts. The present invention is based on the general formula ( It also includes salts of the compound of 1), and such salts include sodium , salts with inorganic bases such as potassium.

エチルアミン、プロピルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン1モルホリ ン、ピペリジン、N−エチルピペリジン、ジェタノールアミン、シクロヘキシル アミンなどの有機塩基との塩、リジン、オルニチン等の塩基性アミノ酸との塩、 アンモニウム塩や、塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸などの鉱酸塩との塩が挙げ られる。Ethylamine, propylamine, diethylamine, triethylamine 1 morphol N, piperidine, N-ethylpiperidine, jetanolamine, cyclohexyl Salts with organic bases such as amines, salts with basic amino acids such as lysine and ornithine, Examples include ammonium salts and salts with mineral acid salts such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and hydrobromic acid. It will be done.

(従来の技術) 本発明の目的化合物は5RS−Aに対し強力な拮抗作用を有する。(Conventional technology) The object compound of the present invention has a strong antagonistic effect against 5RS-A.

ヒトのアレルギー性喘息やその他のアトピー性疾患、あるいは動物のアナフィラ キシ−ショックにおいて、種々の化学伝達物質が肺やその他の組織から遊離され 、気管支筋、肺血管などの平滑筋を収縮したり、皮膚血管の透過性を光道するな どして生体に障害をひきおこすと考えられている。このような化学伝達物質とし てヒスタミンおよび5RS−Aがあげられる。ヒスタミンはモルモットのアナフ ィラキシ−ショックにおいては重要な役割をはたしているが、ヒトアレルギー性 喘息においてはあまり重要な化学伝達物質ではない[E 1ser、 Phar macol、 Ther、、 17 、239−250(19B2)コ。一方、 5RS−Aがヒトのアレルギー性喘息において最も重要な化学伝達物質であるこ とを示唆する多くの証拠がある[Brock−1ehurst、 J、 Phy siol、、151 、416−435 (1960);Au5tenおよびO range、 Am、 Rev、 Re5p。allergic asthma and other atopic diseases in humans, or anaphila in animals. In oxyshock, various chemical messengers are released from the lungs and other tissues. , contract smooth muscles such as bronchial muscles and pulmonary blood vessels, and reduce the permeability of skin vessels. It is thought that this may cause damage to living organisms. As such chemical messengers Examples include histamine and 5RS-A. Histamine is guinea pig anaf Although it plays an important role in irractic shock, human allergic It is not a very important chemical mediator in asthma [E1ser, Phar macol, Ther, 17, 239-250 (19B2). on the other hand, 5RS-A is the most important chemical messenger in human allergic asthma. There is much evidence to suggest that [Brock-1ehurst, J., Phys. siol, 151, 416-435 (1960); Au5ten and O range, Am, Rev, Re5p.

Dis、、112,423−436(1975); Adamsおよびアレルギ ー性反応の症状を予防ないし除去または軽減するための薬剤の開発はかかる化学 伝達物質の産生、放出を抑制することまたはそれらの効果に拮抗することを目標 として行われていた。Dis, 112, 423-436 (1975); Adams and allergy - The development of drugs to prevent or eliminate or alleviate the symptoms of sexual reactions is based on such chemistry. Aims to inhibit the production, release, or antagonize the effects of transmitters It was done as.

ヒスタミンの放出を抑制する薬剤としてはジソジウムク口モグリケート(dis odiem cromoglycate)が著名であり、ヒスタミンに拮抗する 薬剤としては、多数の抗ヒスタミン剤が市販されている。A drug that suppresses the release of histamine is disodium lactate (dis) cromoglycate) is well known and antagonizes histamine. Many antihistamines are commercially available.

一方、5R8−Aは、ヒスタミンが速効性で持続時間が短い化学伝達体であるの に対し、遅効性で持続時間が長い化学伝達体として知られていたが、最近サムエ ルシン(S amaelsson)が構造決定したロイコトリエンC4,D、お よびE4の混合物であることが明らかにされた。5RS−A即ちロイコトリエン (L eukotriens)は多価不飽和脂肪酸(特にアラキドン酸)のりボ キシゲナーゼによる代謝物であり、前記アレルギー性反応における化学伝達体と しての作用以外に粘液分泌亢進作用、繊毛連動低下作用、冠血管収縮作用、心収 縮力低下作用等の作用があることが明らかにされている。従って、このような5 RS−Aの産生、放出を抑制またはそれらの効果に拮抗する薬物の開発が望まれ ている。On the other hand, 5R8-A shows that histamine is a fast-acting and short-lived chemical messenger. It was known as a slow-acting and long-lasting chemical mediator, but recently Samue Leukotriene C4,D, whose structure was determined by Lucin (Samaelsson), and E4. 5RS-A or leukotriene (L eukotriens) are polyunsaturated fatty acids (especially arachidonic acid). A metabolite of xygenase and a chemical mediator in the allergic reaction. In addition to the action of It has been revealed that it has effects such as reducing contraction force. Therefore, such 5 It is desired to develop drugs that suppress the production and release of RS-A or antagonize their effects. ing.

本発明者等は5R6−Aの産生、放出を抑制する薬剤またはこ馴化合物(I)が 5RS−Aに強力に拮抗することを見出し、本発明を完成した。The present inventors have discovered that a drug or compound (I) that suppresses the production and release of 5R6-A It was discovered that it strongly antagonizes 5RS-A, and the present invention was completed.

(発明の効果) 本発明化合物(I)は前述のとおり、5RS−Aに強力に拮抗するので5RS− Aに起因する種々のアレルギー性疾患(例えば気管支喘息、アレルギー性鼻炎、 じん麻診)や5RS−Aに起因する虚血性心疾患、炎症などの予防、治療に有用 である。(Effect of the invention) As mentioned above, the compound (I) of the present invention strongly antagonizes 5RS-A. Various allergic diseases caused by A. (e.g. bronchial asthma, allergic rhinitis, Useful for prevention and treatment of ischemic heart disease, inflammation, etc. caused by hives diagnosis) and 5RS-A. It is.

また、本発明化合物中には、5RS−Aと同様の作用を有するものも含まれてい る。このような5RS−Aアゴニスト作用を有する化合物は、手術後の腸管麻痺 の治療に使用することが期待でき、また従来安定に取得困難なロイコトリエンに 代え抗5RS−A剤又は5RS−A拮抗剤の研究に使用するための試薬としても 有用である。In addition, the compounds of the present invention include those that have the same action as 5RS-A. Ru. Compounds with such 5RS-A agonist effects may cause intestinal paralysis after surgery. It is expected to be used for the treatment of leukotrienes, which are difficult to obtain stably in the past. Also as a reagent for use in research on alternative anti-5RS-A agents or 5RS-A antagonists. Useful.

本発明化合物(I)は、そのままもしくは自体公知の薬学的に許容されうる担体 、賦形剤などと混合した医薬組成物[例、錠剤。Compound (I) of the present invention may be used as is or in a known pharmaceutically acceptable carrier. , excipients, etc. [e.g., tablets.

カプセル剤、散剤、顆粒剤、火剤、軟膏剤、シロップ剤、注射剤。Capsules, powders, granules, gun powder, ointments, syrups, and injections.

吸入剤、坐剤]として経口的もしくは非経口的に安全に投与することができる。It can be safely administered orally or parenterally as an inhaler or suppository.

投与量は投与対象、投与ルート、症状などによっても異なるが、通常成人1日当 り0.1〜500mg好ましくは1〜200mgであり、これを1日2〜3回に 分けて経口または非経口投与する。The dosage varies depending on the subject, route of administration, symptoms, etc., but is usually the same as the daily dose for adults. 0.1 to 500 mg, preferably 1 to 200 mg, 2 to 3 times a day. Administer orally or parenterally in separate doses.

(製造方法) 本発明の化合物はたとえばっぎの反応式で示される方法により製造される。(Production method) The compound of the present invention can be produced, for example, by the method shown in the following reaction formula.

第1製法 又はその反応性誘導体 (Ia) 第2製法 又はその反応性誘導体 (!b) 第3製法 (■)(■) (Ie) 第4製法 (■)(■) (ld) 第5製法 (le) 第6製法 (If) 又はその塩 第7製法 (Xl[I) (Xff) (Ih) 第8製法 (XV) 第9製法 (X■) と同じ意味を、他の記号は以下の意味を表わす。First manufacturing method or a reactive derivative thereof (Ia) Second manufacturing method or a reactive derivative thereof (!b) Third manufacturing method (■) (■) (Ie) Fourth manufacturing method (■) (■) (ld) Fifth manufacturing method (le) 6th manufacturing method (If) or its salt 7th manufacturing method (Xl[I) (Xff) (Ih) 8th manufacturing method (XV) 9th manufacturing method (X■) has the same meaning as , other symbols have the following meanings:

M、:Y、が酸素原子又は硫黄原子であるときは、水素原子又はアルカリ金属原 子、Ylがイミノ基であるときは水素原子、 Zl:ハロゲン原子、又はスルホネート残基、YS:メチレン基、又はメチレン カルボニル基C−CH2CO−)、Y、:メチレン基、又はカルボニルメチレン 基(−coCH,−)、Z、:ハロゲン原子、 R8:フェニル基、又はブチル基、 R9−低級アルキル基、又は低級アルコキシフェニル低級アルキル基、 Y7:酸素原子又は硫黄原子、 M2:水素原子又はアルカリ金属原子。]なお、M、、Mtが示すアルカリ金属 原子としては、ナトリウム原子、カリウム原子等が、Zl及びZ2が示すハロゲ ン原子としてヨウ素原子、臭素原子、塩素原子等が挙げられる。またスルホネー ト残基としてはトルエンスルホン酸エステル残基、ベンゼンスルホン酸エステル 残基等が好適に用いられる。When M:Y is an oxygen atom or a sulfur atom, a hydrogen atom or an alkali metal source child, when Yl is an imino group, a hydrogen atom, Zl: halogen atom, or sulfonate residue, YS: methylene group, or methylene carbonyl group C-CH2CO-), Y,: methylene group, or carbonylmethylene Group (-coCH,-), Z,: halogen atom, R8: phenyl group or butyl group, R9-lower alkyl group, or lower alkoxyphenyl lower alkyl group, Y7: oxygen atom or sulfur atom, M2: hydrogen atom or alkali metal atom. ]In addition, the alkali metal represented by M, Mt Examples of atoms include sodium atoms, potassium atoms, etc., and the halogens represented by Zl and Z2. Examples of the ion atom include an iodine atom, a bromine atom, and a chlorine atom. Also sulfone Examples of residues include toluenesulfonic acid ester residue and benzenesulfonic acid ester residue. Residues and the like are preferably used.

第1製法 本発明化合物中、Xlがカルボニルイミノ基(−CONH−)である化合物(I  a)は、一般式(n)で示される置換安息香酸又はその反応性誘導体と一般式 (III)で示されるアミノ化合物を反応させることによって製造される。First manufacturing method Among the compounds of the present invention, compounds (I) in which Xl is a carbonylimino group (-CONH-) a) is a substituted benzoic acid represented by the general formula (n) or a reactive derivative thereof and the general formula It is produced by reacting the amino compound represented by (III).

化合物(n)の反応性誘導体としては、酸クロライド、酸ブロマイドの如き、酸 ハライド;酸アジド:N−ヒドロキシベンゾトリアゾールやN−ヒドロキシスク シンイミドとの活性エステル;対称型酸無水物:アルキル炭酸混合酸無水物、p −トルエンスルホン酸との混合酸無水物;等が挙げられる。Reactive derivatives of compound (n) include acid chlorides, acid bromides, etc. Halide; acid azide: N-hydroxybenzotriazole and N-hydroxysulfate Active ester with cinimide; Symmetrical acid anhydride: Alkyl carbonic acid mixed acid anhydride, p - Mixed acid anhydride with toluenesulfonic acid; etc.

化合物(n)を遊離のカルボン酸で反応させるときは、ジシクロへキシルカルボ ジイミドや1.ビーカルボニルジイミダゾール等の縮合剤の存在下に実施するの が有利である。When reacting compound (n) with free carboxylic acid, dicyclohexylcarboxylic acid Diimide and 1. It is carried out in the presence of a condensing agent such as b-carbonyldiimidazole. is advantageous.

反応は化合物(II)又はその反応性誘導体と化合物(1)とをほぼ等モルある いは一方を過剰量として用い、反応に不活性な有限溶媒、例えば、ピリジン、テ トラヒドロフラン、ジオキサン、エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン、メ チレンクロリド、ジクロルエタン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、酢酸 エチル、アセトニトリル等の溶媒中に行なわれる。In the reaction, compound (II) or its reactive derivative and compound (1) are used in approximately equal moles. Alternatively, one may be used in excess and a finite solvent inert to the reaction, such as pyridine or tetra Trahydrofuran, dioxane, ether, benzene, toluene, xylene, methane Tylene chloride, dichloroethane, chloroform, dimethylformamide, acetic acid It is carried out in a solvent such as ethyl or acetonitrile.

反応性誘導体の種類によっては反応に際し、トリエチルアミン。Depending on the type of reactive derivative, triethylamine may be used during the reaction.

ピリジン、ピコリン、ルチジン、N、N−ジメチルアニリンや炭酸カリウム、水 酸化ナトリウム等の塩基を添加するのが反応を円滑に進行させる上で有利な場合 がある。ピリジンは溶媒を兼ねることもできる。Pyridine, picoline, lutidine, N,N-dimethylaniline, potassium carbonate, water When it is advantageous to add a base such as sodium oxide to make the reaction proceed smoothly There is. Pyridine can also serve as a solvent.

反応温度は、反応性誘導体の種類によって異なり、特に限定されない。The reaction temperature varies depending on the type of reactive derivative and is not particularly limited.

第2製法 本発明化合物中X、がイミノカルボニル基(N HCO−)T:ある化合物(I b)は、一般式(It/)で示される置換アニリンと一般式(V)で示されるカ ルボン酸又はその反応性誘導体とを反応させることにより製造される。Second manufacturing method In the compound of the present invention, X is an iminocarbonyl group (NHCO-)T: a certain compound (I b) is a substituted aniline represented by the general formula (It/) and a compound represented by the general formula (V). It is produced by reacting with rubonic acid or its reactive derivative.

反応条件については第1製法とほぼ同様である。The reaction conditions are almost the same as in the first production method.

第3製法 本発明化合物中X、が−Y、−CH!−すなわち、−0−CHI−。Third manufacturing method In the compound of the present invention, X is -Y, -CH! -i.e. -0-CHI-.

S −CH2−、N HCHt−である化合物群(Ic)は、一般式(VI)で 示される置換フェノール若しくは置換フェニルメルカプタン又はそのアルカリ金 属置換体、又は置換アニリンと、一般式(■)で示されるハロゲン化合物又はス ルホネート化合物とを反応させることにより製造することができる。The compound group (Ic) which is S-CH2-, NHCHt- is represented by the general formula (VI) Substituted phenol or substituted phenyl mercaptan or its alkali metal as shown A genus substituted product or a substituted aniline and a halogen compound or a substituted aniline represented by the general formula (■) It can be produced by reacting with a sulfonate compound.

反応は、化合物(■)と化合物(〜1)とをはIi1等モルあるいは一方を過剰 にして、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド。In the reaction, compound (■) and compound (~1) are mixed in 1 equimol or in excess of one of them. and dimethylformamide, dimethyl sulfoxide.

メタノール、エタノール、プロパツール、アセトン、メチルエチルケトン、テト ラヒドロフラン、クロロホルム、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、 ジクロルメタン、ジクロルエタン等の有機溶媒中で行なわれる。Methanol, ethanol, propatool, acetone, methyl ethyl ketone, tet Lahydrofuran, chloroform, dioxane, benzene, toluene, xylene, It is carried out in an organic solvent such as dichloromethane or dichloroethane.

反応は、必要により塩基の存在下行なわれ、そのような塩基としては、炭酸カリ ウム、トリトンB、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、ピリ ジン、ピコリン、N、N−ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、トリメチ ルアミン、トリエチルアミンなどが、好適である。The reaction is carried out in the presence of a base if necessary, and examples of such a base include potassium carbonate. um, triton B, potassium hydroxide, sodium hydride, sodium carbonate, piri gin, picoline, N,N-dimethylaniline, N-methylmorpholine, trimethy Preferred are amine, triethylamine, and the like.

反応温度は、特に限定はないが通常室温又は加温下に設定される。The reaction temperature is not particularly limited, but is usually set at room temperature or under heating.

第4製法 本発明化合物中X、が−CHt Y l−、すなわち−CH,O−。Fourth manufacturing method In the compound of the present invention, X is -CHtYl-, that is, -CH,O-.

−CH,S−、−CH,NH−である化合物群(I d)は、一般式(■)で示 されるハロゲン化合物又はスルホネート化合物と、一般式(■)で示されるヒド ロキシ−若しくはメルカプタン化合物又はそのアルカリ金属置換体、又はアミン 化合物とを反応させることにより製造することができる。The compound group (Id) which is -CH,S-, -CH,NH- is represented by the general formula (■). A halogen compound or sulfonate compound and a hydride represented by the general formula (■) Roxy or mercaptan compound or its alkali metal substituted product, or amine It can be produced by reacting with a compound.

反応条件は第3製法とほぼ同様である。The reaction conditions are almost the same as in the third production method.

第5製法 本発明化合物中X1がビニレン基(−CH=CH−)である化合物(I e)は 、一般式(X)で示される置換ベンジルハライドとトリフェニル(あるいはトリ ブチル)ホスフィンとを反応さけて、置換ベンジルトリフェニルホスホニウム  ハライドとなし、次いで1−ブチルリチウム、乃至アルカリ金属アミド類、アル カリ金属アルコキシド類、メチルスルフィニルメチリド、ナトリウム塩等の塩基 により置換ベンジルトリフェニルホスホランとなし、これを単離することなく一 般式(■)で示されるアルデヒド類を作用させることにより製造される。Fifth manufacturing method Among the compounds of the present invention, the compound (Ie) in which X1 is a vinylene group (-CH=CH-) is , a substituted benzyl halide represented by general formula (X) and triphenyl (or triphenyl) Substituted benzyltriphenylphosphonium by avoiding reaction with (butyl)phosphine halides, then 1-butyllithium, alkali metal amides, alkaline Bases such as potash metal alkoxides, methylsulfinyl methylide, sodium salts, etc. to give a substituted benzyltriphenylphosphorane, which was isolated without isolation. It is produced by reacting with aldehydes represented by the general formula (■).

前段の反応は無溶媒でも進行するが、通常ベンゼン、トルエン。The first stage reaction can proceed without solvent, but usually benzene or toluene.

キシレン等の有機溶媒中で行なわれる。反応温度は特に限定されない。It is carried out in an organic solvent such as xylene. The reaction temperature is not particularly limited.

後段の反応は、前段の反応に用いた有機溶媒乃至テトラヒドロフラン、エーテル 、ジメトキシエタン、ジメチルスルホキシド、アルコール等の溶媒中で行なわれ る。反応温度は特に限定されない。The latter reaction uses the organic solvent, tetrahydrofuran, and ether used in the earlier reaction. , dimethoxyethane, dimethyl sulfoxide, alcohol, etc. Ru. The reaction temperature is not particularly limited.

第6製法 本発明化合物中、Dがカルボキシ基である化合物(I g)は、一般式(If) で示される対応するエステルよりエステル残基を除去することによって製造する ことができる。6th manufacturing method Among the compounds of the present invention, the compound (Ig) in which D is a carboxy group has the general formula (If) produced by removing the ester residue from the corresponding ester represented by be able to.

この反応においては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の塩基の存在下加水 分解するか、あるいは、トリフルオロ酢酸、塩酸等の酸で処理する常法が適用で きる。In this reaction, hydration is performed in the presence of a base such as sodium carbonate or sodium hydroxide. Conventional methods such as decomposition or treatment with acids such as trifluoroacetic acid or hydrochloric acid can be applied. Wear.

第7製法 本発明化合物中、X、が−YフーY4−すなわち−〇−Y4−又は−5−Y、− である化合物(Ih)は、一般式(XI[I)で示されるヒドロキシ若しくはメ ルカプト類、又はそのアルカリ金属置換体と、一般式(XV)で示される置換ア ルキルハライドとを反応さけることにより製造することができる。7th manufacturing method In the compound of the present invention, X is -YfuY4-, i.e. -○-Y4- or -5-Y, - Compound (Ih) is a hydroxy or metal compound represented by the general formula (XI[I) Lucapato, or an alkali metal substituted product thereof, and a substituted atom represented by general formula (XV) It can be produced by avoiding reaction with rukyl halide.

反応条件等は第3及び第4製法とほぼ同様である。The reaction conditions and the like are almost the same as in the third and fourth production methods.

第8製法 一イル基である化合物(Ii)は、一般式(XV)で示されるニトリル化合物と アジ化ナトリウムとを塩化アンモニウムの存在下に作用させて合成できる。8th manufacturing method Compound (Ii), which is a monoyl group, is a nitrile compound represented by the general formula (XV). It can be synthesized by reacting sodium azide with ammonium chloride.

反応はジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒中、加温する ことにより行なわれる。The reaction is carried out by heating in an organic solvent such as dimethylformamide or dimethyl sulfoxide. This is done by

第9製法 本発明化合物は、一般式(X■)で示されるヒドロキシ化合物又はその金属置換 体と、一般式(X■)で示される置換アルキルハライドとを反応させることによ り製造することができる。反応条件は第3製法及び第4製法とほぼ同様である。9th manufacturing method The compound of the present invention is a hydroxy compound represented by the general formula (X■) or a metal-substituted compound thereof. By reacting the compound with a substituted alkyl halide represented by the general formula (X■), can be manufactured by The reaction conditions are almost the same as those in the third production method and the fourth production method.

その他、化合物(I)がビニレン基を有する場合は、常法によりパラジウム−炭 素等による接触還元等を用いて、アルキル基へ還ある化合物の脱保護基によって 得られる。In addition, when compound (I) has a vinylene group, palladium-charcoal can be prepared using a conventional method. By deprotecting a compound that is returned to an alkyl group using catalytic reduction with an element, etc. can get.

更に目的物どうしの変換も常法によって実施できる。Furthermore, conversion between objects can be carried out by conventional methods.

である化合物はR3がアミノ基である化合物のアルキル化、アシル化等により、 R7がハロ低級アルキル基である化合物はR1がヒドロキシ低級アルキル基であ る化合物のハロゲン化%R1がヒドロキシメチル基である化合物はR,がホルミ ル基である化合物の還元により、R1が低級アルコキシ低級アルキル基である化 合物はR。By alkylation, acylation, etc. of a compound in which R3 is an amino group, The compound in which R7 is a halo lower alkyl group is the compound in which R1 is a hydroxy lower alkyl group. The compound in which R1 is a hydroxymethyl group is a compound in which R is a formyl group. R1 is a lower alkoxy-lower alkyl group by reduction of a compound in which R1 is a lower alkyl group. The compound is R.

がハロ低級アルキル基である化合物の低級アルコキシ化、Rtが低級アルコキシ カルボニル低級アルキルチオ低級アルキル基である化合物はR,がハロ低級アル キル基である化合物の低級アルコキシカルボニル低級アルキルチオ化によって得 られる。lower alkoxylation of compounds in which is a halo-lower alkyl group, Rt is lower alkoxy A compound in which R is a carbonyl lower alkylthio lower alkyl group is a halo lower alkyl group. obtained by lower alkoxycarbonyl lower alkylthiolation of compounds that are kill groups. It will be done.

具体的には実施例に記載。Specific details are described in Examples.

これら種々の方法によって製造された本発明化合物は、抽出。The compounds of the present invention produced by these various methods include extraction.

再結晶、カラムクロマトグラフィー等この分野において通常用いられる化学操作 を適用して単離精製される。Chemical operations commonly used in this field, such as recrystallization and column chromatography It is isolated and purified by applying

(1)SRS−AおよびLTD、によるモルモット回腸および気管収縮作用の抑 制 方法二 体重500−700gのHartley系雄性モルモットを頭部打撲に より殺した。回腸およびCon5tantine(1965)の方法にて作製し た気管片を95%0□+5%CO1を通気させた37℃のT yrode液(マ グヌス槽容積10mり中に1gの張力で懸垂した。組織を60分間安定化させた 、この間にT yrode溶液を15分ごとに取り変え張力をIgに調節した。(1) Inhibition of guinea pig ileum and tracheal constriction by SRS-A and LTD system Method 2: A male Hartley guinea pig weighing 500-700g is given a head contusion. I killed more. The ileum was prepared using the method of Con5tantine (1965). The piece of trachea was placed in Tyrode solution (matrix) at 37°C with 95% 0□ + 5% CO1 aerated. It was suspended with a tension of 1 g in a Gnus tank with a volume of 10 m. Tissue was stabilized for 60 minutes During this time, the Tyrode solution was changed every 15 minutes and the tension was adjusted to Ig.

発生する組織の張力をストレインゲージトランスデユーサ−にて等尺性に測定し 、レクチコーダーに記録した。回腸のサブマキシマル濃度の5RS−A(モルモ ット肺由来)に対する反応および気管の10−” MLTD、に対する反応を測 定した後、種々濃度の試験化合物を加えて各agonistの収縮作用を再び測 定した。化合物のインキュベーション時間は20分間とし結果: 本発明化合物 、たとえば実施例23,10.1B、42゜40.41および39の化合物は摘 出モルモット回腸において強い抗5RS−A作用を示した(表1)。さらに実施 例23゜40および39の化合物は摘出モルモット気管においてLTD、による 収縮を抑制した(表1)。The generated tissue tension is measured isometrically using a strain gauge transducer. , recorded on the recticcorder. Submaximal concentration of 5RS-A in the ileum The response to 10-" MLTD of the trachea was measured. After this, the contractile effect of each agonist was measured again by adding various concentrations of the test compound. Established. The incubation time of the compound was 20 minutes. Results: Compound of the present invention For example, the compounds of Examples 23, 10.1B, 42°40.41 and 39 are It showed a strong anti-5RS-A effect in the guinea pig ileum (Table 1). Further implementation Example 23 Compounds 40 and 39 were tested by LTD in isolated guinea pig trachea. The contraction was suppressed (Table 1).

表1. 摘出モルモット回腸お、よび気管における本発明の代表的IClC50 ( 化合物 回腸 気管 // 10 1.8XlO−’ − 〃 18 3.3X10’−’ − ” 42 8.1XlO−” − 〃40 3.6xlO−” 5.7xlO−”// 41 7.4XIO−’  − // 39 7.3xlO−” 2.5xlO−’(2)モルモットにおけるL TD、による血管透過性先進の抑制方法: 16時間絶食した体重270〜30 5gのHart ley系雄性モルモットに1%Evans blae溶液を1 m/静脈内投与した。Table 1. Representative IClC50 of the present invention in isolated guinea pig ileum and trachea ( Compound Ileum Trachea //10 1.8XlO-'- 〃〃 18 3.3X10'-'- "42 8.1XlO-"- 40 3.6xlO-” 5.7xlO-” // 41 7.4XIO-’ − //39 7.3xlO-” 2.5xlO-’ (2) L in guinea pigs Method for suppressing advanced vascular permeability due to TD: Weight 270-30 after fasting for 16 hours Add 1% Evans Blae solution to 5 g of Hart Ley male guinea pigs. m/administered intravenously.

2分後に、毛を刈った背部皮肉2ケ所にLTD、を5 nH2O,1m//5i te投与した。また、動物に対する非特異的な刺激作用をみるために、LTD、 の溶媒を0.1m/m/膜内投与。LTD4および溶媒を投与した部位に露出し た色素をHarada et al、(1971)の方法で抽出し、620nm で比色定量した。LTD4による血管透過性亢進は、LTD4および溶媒によっ て露出した色素量の差として表わした。試験化合物は、LTD、投与の30分前 に経口投与した。After 2 minutes, apply 5 nH2O, 1m//5i of LTD to the two shaved dorsal areas. te was administered. In addition, in order to examine non-specific stimulatory effects on animals, LTD, of solvent was administered at 0.1 m/m/intramembrane. exposed to the site where LTD4 and vehicle were administered. The pigment was extracted using the method of Harada et al. (1971), and Colorimetric determination was carried out. Vascular hyperpermeability caused by LTD4 is caused by LTD4 and solvent. It was expressed as the difference in the amount of dye exposed. Test compounds were administered at LTD, 30 minutes before administration. Orally administered.

結果;実施例23.39および40の化合物は、モルモットにおけるLTD、に よろ血管透過性の亢進を用量依存的に抑制し、ED50値はそれぞれ、22.8 ,36.1および5 、5 mg/ kgp、o、であった。これらの結果は実 施例23.39および40の化合物が経口投与で強い抗ロイコトリエン作用をあ られすことを示している。Results; Compounds of Examples 23.39 and 40 showed no effect on LTD in guinea pigs. Increased vascular permeability was suppressed in a dose-dependent manner, with an ED50 value of 22.8. , 36.1 and 5, 5 mg/kgp, o. These results are Example 23. Compounds of 39 and 40 exhibit strong anti-leukotriene effects upon oral administration. This indicates that the

(3)ラットにおける急性毒性 7週令の雄性F 1scher 344ラツトを使用した。実施例39および4 0の化合物は1000 mg/ kg p、o、で、7日間の観察期間中ラット に対して毒性作用を示さなかった。(3) Acute toxicity in rats Seven-week-old male F1scher 344 rats were used. Examples 39 and 4 Compound 0 was administered to rats at 1000 mg/kg p,o during a 7-day observation period. showed no toxic effects on

引用文献 Con5tantine、 J 、W、 J 、pharm、 Pharmac ol、、■、384Harada、 M、et a、e 、、 J 、Phar m、Pharmacol、、 23 、218以下に実施例を掲記し、本発明の 詳細な説明する。References Con5tantine, J, W, J, pharm, Pharmac ol,, ■, 384 Harada, M, et a, e,, J, Phar m, Pharmacol, 23, 218 Examples are listed below, and the present invention Detailed explanation.

なお、原料化合物の製造例を参考例に示す。In addition, a manufacturing example of the raw material compound is shown in Reference Example.

参考例1 2−アミノ−5−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール3.9g、炭酸カリ ウム4.2g、エタノール50mNの混合物に氷冷下エチルブロモアセテート5 gを徐々に加えた後、室温で3時間かきまぜた。反応液に水200m/を加え酢 酸エチルで抽出した。抽出液を水洗、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去 して得ろれる固形物をトルエンで洗い、乾燥してエチル(5−アミノ−1,3, 4−チアジアゾール−2−イルチオ)アセテート2.7gを得た。核磁気共鳴ス ペクトル(CD(、j3. TMS、 ppm)1.25(3H,t、−CHa )、3.90(2H,s、CHs−)、4.19参考例2 2.5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール37.2gを、f取し、メ タノール−水(loll)で洗浄し、減圧上乾燥してエチル3−[(5−メルカ プト−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオ]ブチレート41.5gを 得た。融点107〜108℃参考例3 エチル0−ニトロシンナメート2.2gを30m、eのエタノールに溶解した溶 液に還元鉄2.2g及び濃塩酸0.5m/と水2.5m/の混液を加え、1時間 加熱還流後、不溶物をf別、f液を減圧濃縮した。残留物に炭酸水素ナトリウム 水溶液を加え、トルエン抽出し、抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去してエチル0 −アミノシンナメートの黄色結晶1.6gを得た。Reference example 1 3.9 g of 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, potassium carbonate Ethyl bromoacetate 5 was added to a mixture of 4.2 g of aluminum and 50 mN of ethanol under ice cooling. After gradually adding g, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Add 200ml of water to the reaction solution and add vinegar. Extracted with ethyl acid. The extract was washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off. The resulting solid was washed with toluene and dried to give ethyl (5-amino-1,3, 2.7 g of 4-thiadiazol-2-ylthio)acetate were obtained. nuclear magnetic resonance Spectrum (CD (, j3. TMS, ppm) 1.25 (3H, t, -CHa ), 3.90 (2H,s, CHs-), 4.19 Reference Example 2 37.2 g of 2.5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole was taken as Ethyl 3-[(5-merca) was washed with ethanol-water (roll) and dried under reduced pressure. 41.5 g of pt-1,3,4-thiadiazol-2-yl)thio]butyrate Obtained. Melting point 107-108℃ Reference example 3 A solution of 2.2 g of ethyl 0-nitrosinnamate dissolved in 30 m, e of ethanol. Add 2.2 g of reduced iron and a mixture of 0.5 m of concentrated hydrochloric acid and 2.5 m of water to the solution and leave for 1 hour. After heating under reflux, insoluble materials were separated from f, and liquid f was concentrated under reduced pressure. Sodium bicarbonate in the residue An aqueous solution was added, extracted with toluene, the extract was washed with water, and after drying, the solvent was distilled off and ethyl -1.6 g of yellow crystals of aminocinnamate were obtained.

核磁気共鳴スペクトル(CD C1s、 TMS 、 ppm)1.30 (3 H,t+−CH3)、 4.23(2H,q、−o CHa )、6.30(L  H,d)。Nuclear magnetic resonance spectrum (CD C1s, TMS, ppm) 1.30 (3 H, t+-CH3), 4.23 (2H, q, -o CHa), 6.30 (L H, d).

6.50〜7.50(4H,II+)、 7.80(I H,d)参考例4 p−ペプチルオキシ安息香酸4.7g、1−ヒドロキシベンズトリアゾール(H OBT)2.7g、テトラヒドロフラン50m/の混液に水冷下ジシクロへキシ ルカルボジイミド(DCC)4.2gを加え、室温で1時間攪拌したのち0−ア ミノフェノール9gを加え室温で一夜攪拌する。生じたジシクロヘキシル尿素を ?去しf液を濃縮する。残留物を酢酸エチル500+n/に溶解し、希塩酸。6.50-7.50 (4H, II+), 7.80 (IH, d) Reference example 4 4.7 g p-peptyloxybenzoic acid, 1-hydroxybenztriazole (H OBT) 2.7 g, tetrahydrofuran 50 m / dicyclohexy under water cooling. After adding 4.2 g of carbodiimide (DCC) and stirring at room temperature for 1 hour, Add 9 g of minophenol and stir overnight at room temperature. The resulting dicyclohexyl urea ? Concentrate the filtrate. The residue was dissolved in 500+n/ethyl acetate and diluted hydrochloric acid.

精成酸水素ナトリウム溶液及び水で類火洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥、減 圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付しくシリカゲル 500me使用)トルエン−酢酸エチル(1:l)の混液で溶出しさらにエタノ ールより再結晶して、p−へブチルオキシ−N −(o−ヒドロキシフェニル) ベンズアミド5.6gを得た。Fire washed with purified sodium hydrogen oxide solution and water, dried with anhydrous magnesium sulfate, and reduced. Concentrate under pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography. 500me) Elute with a mixture of toluene-ethyl acetate (1:l) and further evaporate with ethyl acetate. Recrystallized from p-hebutyloxy-N-(o-hydroxyphenyl) 5.6 g of benzamide was obtained.

融点131〜133℃ 参考例5〜7 参考例4と同様にして以下の化合物を得た。Melting point 131-133℃ Reference examples 5 to 7 The following compound was obtained in the same manner as in Reference Example 4.

参考例5 m−へブチルオキシ−N− 参考例6 p−へブチルオキシ−N− 参考例7 m−へブチルオキシ−N− 参考例8 参考例5で得たm−へブチルオキシ−N−(0−ヒドロキシフェニル)ベンズア ミド1.6g、クロロアセトニトリル0.5g、無水炭酸カリウム0.8g、ヨ ウ化カリウム0 、1 g、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド0 、 1 g、メチルエチルケトン20m/の混液を70〜80℃で1時間激しく攪拌 する。冷後反応液に酢酸エチル100m/を加え、水洗し、無水硫酸マグネシウ ムで乾燥し減圧濃縮し残留物をエタノールより再結晶しm−へブチルオキシ−N −(0−シアノメトキシフェニル)ベンズアミド1.4gを得た。Reference example 5 m-hebutyloxy-N- Reference example 6 p-hebutyloxy-N- Reference example 7 m-hebutyloxy-N- Reference example 8 m-hebutyloxy-N-(0-hydroxyphenyl)benza obtained in Reference Example 5 Mido 1.6g, chloroacetonitrile 0.5g, anhydrous potassium carbonate 0.8g, iodine Potassium uride 0, 1 g, tetra-n-butylammonium bromide 0, A mixture of 1 g and 20 m of methyl ethyl ketone was vigorously stirred at 70 to 80°C for 1 hour. do. After cooling, add 100ml of ethyl acetate to the reaction solution, wash with water, and add anhydrous magnesium sulfate. The residue was recrystallized from ethanol to give m-hebutyloxy-N. 1.4 g of -(0-cyanomethoxyphenyl)benzamide was obtained.

融点105〜106°C 参考例9〜11 参考例8と同様にして以下の化合物を得た。Melting point 105-106°C Reference examples 9 to 11 The following compound was obtained in the same manner as in Reference Example 8.

参考例i。Reference example i.

p−へブチルオキシ−N− 参考例ll m−へブチルオキシ−N− 実施例1 参考例1で得られたエチル(5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2−イ ルチオ)アセテート0.5g、m−へブチルオキシ安息を酸0.7g、ジシクロ へキシルカルボジイミド0.7g、p−トルエンスルホン酸2〜3mgをピリジ ンlOm/中室温で2時間かきまぜた。反応後不溶物を炉別し、f液を減圧濃縮 する。残留物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を留去して固 形物を得る。固形物をトルエン−n−ヘキサン(2:1)混液で洗うた後乾燥し てエチル[[5−(m−へブチルオキシベンズアミド)−1,3,4−チアジア ゾール−2−イル]チオコアセテート1.0gを得た。融点114〜116℃ 元素分析値(CtoHttNsO,Slとして)0% H% 8% 理論値 54.90 6.22 9.60実験値 55.20 6.29 9. 77実施例1と同様にして後記実施例7及び10の化合物を得た。p-hebutyloxy-N- Reference example ll m-hebutyloxy-N- Example 1 Ethyl (5-amino-1,3,4-thiadiazol-2-y) obtained in Reference Example 1 0.5 g of m-hebutyloxybenzene, 0.7 g of dicycloacetate, Add 0.7 g of hexylcarbodiimide and 2 to 3 mg of p-toluenesulfonic acid to pyridine. The mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After the reaction, insoluble matter is separated in a furnace and the f liquid is concentrated under reduced pressure. do. The residue was extracted with ethyl acetate, the extract was washed with water, dried, and the solvent was distilled off to solidify. Get a shape. The solid was washed with a mixture of toluene and n-hexane (2:1) and then dried. ethyl[[5-(m-hebutyloxybenzamide)-1,3,4-thiadiazine] 1.0 g of zol-2-yl]thiocoacetate was obtained. Melting point 114-116℃ Elemental analysis value (as CtoHttNsO, Sl) 0% H% 8% Theoretical value 54.90 6.22 9.60 Experimental value 55.20 6.29 9. 77 Compounds of Examples 7 and 10 described later were obtained in the same manner as in Example 1.

実施例2 参考例3で得られたエチル0−アミノシンナメート0.4gをピリジン4m/に 溶解した溶液を一20℃以下に冷却し、p−(4−フェニルブトキシ)安息香酸 をベンゼン中ジメチルホルムアミドを触媒としてチオニルクロル化して得たp− (4−フェニルブトキシ)ベンゾイルクロリド0.7gを加えた後室温で30分 間かきまぜた。反応液に水30m/を加え、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水 洗し、5%塩酸水、水で順次洗った後無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去 して固形物を得た。固形物をトルエン10m/に加熱溶解後n−ヘキサン2m/ を加え、冷浸析出した結晶をt取乾燥して、エチルo−[p−(4−フェニルブ トキシ)ベンズアミトコシンナメート0.8gを得た。融点129〜131’c 元素分析値(CI8HtsN O−とじて)0% H% N% 理論値 75.82 6.59 3.16実験値 75.83 6.53 3. 14実施例2と同様にして後記実施例5.6及び8の化合物を得た。Example 2 0.4 g of ethyl 0-aminocinnamate obtained in Reference Example 3 was added to 4 m/p of pyridine. The dissolved solution was cooled to below -20°C, and p-(4-phenylbutoxy)benzoic acid was obtained by thionyl chlorination in benzene with dimethylformamide as a catalyst. After adding 0.7 g of (4-phenylbutoxy)benzoyl chloride, it was kept at room temperature for 30 minutes. I stirred it up for a while. Add 30ml of water to the reaction solution and extract with ethyl acetate. Extract with water After washing with 5% hydrochloric acid and water sequentially, drying with anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off. A solid was obtained. After heating and dissolving the solid in 10 m/toluene, add 2 m/n-hexane. The crystals precipitated by cold leaching were dried, and ethyl o-[p-(4-phenylbutylene) was added. 0.8 g of benzamitococinnamate was obtained. Melting point 129-131'c Elemental analysis value (CI8HtsN O-bound) 0% H% N% Theoretical value 75.82 6.59 3.16 Experimental value 75.83 6.53 3. 14 In the same manner as in Example 2, compounds of Examples 5.6 and 8 below were obtained.

実施例3 p−へブチルオキシ−2−ブロモアセトフェノン0.6g、エチル(5−メルカ プト−1,3,4−チアジアゾール−2−イルチオ)ブチレート0.6g、炭酸 カリウム0.4gをアセトン20meと共に30分間加熱還流した。冷浸、不溶 物を炉別、を液を減圧濃縮して得られろ固形物をエタノールで洗い、乾燥してエ チル4−[[5−[(p−へブチルオキシフェナシル)チオ]−1,3,4−チ アジアゾール−2−イルコチオ]ブチレート1.0gを得た。融点72〜73℃ 元素分析値(CtyH32N 204S3として)0% Hz 8% 理論値 55.62 6.49 5.64実験値 55.54 6.52 5. 52実施例3と同様にして後記実施例9の化合物を得た。Example 3 p-hebutyloxy-2-bromoacetophenone 0.6 g, ethyl (5-merca Butyrate 0.6g, carbonic acid 0.4 g of potassium was heated under reflux with 20 me of acetone for 30 minutes. cold soaked, insoluble Separate the materials in a furnace, concentrate the liquid under reduced pressure, wash the resulting solids with ethanol, dry them, and evaporate them. Chil-4-[[5-[(p-hebutyloxyphenacyl)thio]-1,3,4-thi 1.0 g of adiazol-2-ylcothio]butyrate was obtained. Melting point 72-73℃ Elemental analysis value (as CtyH32N 204S3) 0% Hz 8% Theoretical value 55.62 6.49 5.64 Experimental value 55.54 6.52 5. 52 In the same manner as in Example 3, the compound of Example 9 described later was obtained.

実施例4 エチル5−ヒドロキシ−1−メトキシインダン−2−アセテート190mgとp −へブチルオキシベンジルクロライド220mgをジメチルホルムアミド2ml に溶解し、炭酸カリウム180mgを加え60°Cで一夜攪拌した。放冷後、水 及び酢酸エチルを加えよく振り混ぜ、有機層を分液する。有機層を水洗、乾燥、 濃縮して得られた残渣をフラッシュクロマトグラフィー(溶離液トルエン/酢酸 エチル(25/1))にて精製すると220mgのエチル5−(p−へブチルオ キシベンジルオキシ)−1−メトキシ−2−インダンアセテートが無色油状物と して得られn0核磁気共鳴スペクトル(CDCl2.TMs、 pI)m):1 ,89(3H。Example 4 190 mg of ethyl 5-hydroxy-1-methoxyindan-2-acetate and p -220 mg of hebutyloxybenzyl chloride in 2 ml of dimethylformamide 180 mg of potassium carbonate was added thereto, and the mixture was stirred at 60°C overnight. After cooling, water Add ethyl acetate and shake well, and separate the organic layer. Wash the organic layer with water, dry it, The residue obtained by concentration was subjected to flash chromatography (eluent: toluene/acetic acid). Purification with ethyl (25/1) yields 220 mg of ethyl 5-(p-hebutyl). xybenzyloxy)-1-methoxy-2-indane acetate as a colorless oil. n0 nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl2.TMs, pI) m): 1 , 89 (3H.

br)、 1.23(3H,t、J =7 Hz)、 1.2〜1.9(10H )、2.3−3.4(5H)、3.41(3H,s)、3.96(2H,t、J =7Hz)。br), 1.23 (3H, t, J = 7 Hz), 1.2 to 1.9 (10H ), 2.3-3.4 (5H), 3.41 (3H, s), 3.96 (2H, t, J =7Hz).

4.17(2H,q、J=7Hz)、4.48(I H,d、J=3.5Hz) 。4.17 (2H, q, J = 7Hz), 4.48 (IH, d, J = 3.5Hz) .

4.96(2H,s)、6.8〜7.4(7H)実施例5〜10によって得られ た化合物とその物性を以下に示す。4.96 (2H, s), 6.8-7.4 (7H) obtained by Examples 5-10 The compounds and their physical properties are shown below.

実施例5 エチル[[5−(p−へブチルオキシベンズアミド)−1,3,4−チアジアゾ ール−2−イルコチオコアセテートi)融点 159〜160℃ ii)元素分析値(Ct。H*7N304S2として)0% Hz 8% 理論値 、)4.90 6.22 9.60実験値 55.18 G、39 9 .63原料化合物 実施例6 エチル[[5−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド]−1゜3.4− チアジアゾール−2−イル]チオ]アセテートi)融点 147〜148℃ ii)元素分析値(C**HtsN 304S 2として)0% Hz N% 理論@ 58.58 5.34 8’、91実験値 58.37 5.23 8 .89原料化合物 実施例7 エチル[[5−(m−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド]−1゜3.4− チアジアゾール−2−イル]チオコアセテートi)融点 124〜126℃ ii)元素分析値(CtsHtsNaO4Stとして)0% Hz 8% 理論値 5B、58 5.34 8.91実験値 58.80 5.36 8. 83原料化合物 実施例8 エチルo−[p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド]シンナメート i)融点 129〜131’C 11)元素分析値(C、aHzaN O4として)0% Hz N% 理論値 75.82 6.59 3.16実験値 75.83 6.53 3. 14原料化合物 実施例9 エチル4−[[5−(p−へブチルオキシベンジル)チオ−1,3,4−チアジ アゾール−2−イル]チオコブチレートi)融点56〜57℃ ii)元素分析値(CstHstNtOsSsとして)、0% 8% 8% 理論値 56.38 6.88 5.98実験・値 56.32 7.0B、  5.87原料化合物 実施例10 エチル 3− [o −(p −(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド]フェ ニル]プロピオネート i)油状物 ii)核磁気共鳴スペクトル (CD Cl s、 T M S 、 ppm)1.10(3H,t)、1.5 〜2.0(4H)、2.4〜3.0(6H)、3.8〜4.3(4)()、6. 8〜8.2(13H)原料化合物 実施例11 実施例2で得られたエチルo−[p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド] シンナメート0.5gを50%水酸化カリウム2mlとメタノール20a+/の 混液と共に10分間加熱還流した。反応液に水20m/を加えた後、10%塩酸 を加え酸性とし析出する結晶をO戸数し、水、エタノールで順次洗い、乾燥して o−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド]ケイヒ酸0.15gを得た 。Example 5 Ethyl [[5-(p-hebutyloxybenzamide)-1,3,4-thiadiazole R-2-ylcothiocoacetate i) Melting point 159-160°C ii) Elemental analysis value (Ct. H*7N304S2) 0% Hz 8% Theoretical value, ) 4.90 6.22 9.60 Experimental value 55.18 G, 39 9 .. 63 raw material compounds Example 6 Ethyl [[5-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide]-1゜3.4- Thiadiazol-2-yl]thio]acetate i) Melting point 147-148°C ii) Elemental analysis value (as C**HtsN 304S 2) 0% Hz N% Theory @ 58.58 5.34 8', 91 Experimental value 58.37 5.23 8 .. 89 raw material compounds Example 7 Ethyl [[5-(m-(4-phenylbutoxy)benzamide]-1゜3.4- Thiadiazol-2-yl]thiocoacetate i) Melting point 124-126°C ii) Elemental analysis value (as CtsHtsNaO4St) 0% Hz 8% Theoretical value 5B, 58 5.34 8.91 Experimental value 58.80 5.36 8. 83 raw material compounds Example 8 Ethyl o-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide]cinnamate i) Melting point: 129-131'C 11) Elemental analysis value (C, aHzaN as O4) 0% Hz N% Theoretical value 75.82 6.59 3.16 Experimental value 75.83 6.53 3. 14 raw material compounds Example 9 Ethyl 4-[[5-(p-hebutyloxybenzyl)thio-1,3,4-thiazidi Azol-2-yl]thiocobutyrate i) Melting point 56-57°C ii) Elemental analysis value (as CstHstNtOsSs), 0% 8% 8% Theoretical value 56.38 6.88 5.98 Experimental value 56.32 7.0B, 5.87 Raw material compounds Example 10 Ethyl 3-[o-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide]phene Propionate i) Oily substance ii) Nuclear magnetic resonance spectrum (CD Cl s, TM S, ppm) 1.10 (3H, t), 1.5 ~2.0 (4H), 2.4~3.0 (6H), 3.8~4.3 (4) (), 6. 8-8.2 (13H) raw material compound Example 11 Ethyl o-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide] obtained in Example 2 Add 0.5 g of cinnamate to 2 ml of 50% potassium hydroxide and 20 a+ methanol. The mixture was heated under reflux for 10 minutes. After adding 20ml of water to the reaction solution, 10% hydrochloric acid Add acid to remove precipitated crystals, wash with water and ethanol sequentially, and dry. 0.15 g of o-(p-(4-phenylbutoxy)benzamido]cinnamic acid was obtained. .

i)融 点 129〜131’C(エタノールから再結晶)ii)元素分析値( C*aHt*N O、として)0% 8% 8% 理論値 75.82 6.59 3.16実験値 75.83 6.53 3. 14実施例11と同様にして後記実施例12〜18の化合物を得た。i) Melting point: 129-131'C (recrystallized from ethanol) ii) Elemental analysis value ( C*aHt*N O, as) 0% 8% 8% Theoretical value 75.82 6.59 3.16 Experimental value 75.83 6.53 3. 14 In the same manner as in Example 11, compounds of Examples 12 to 18 described later were obtained.

実施例12 [[5−(p−へブチルオキシベンズアミド)−1,3,4−チアジアゾール− 2−イルコチオコ酢酸 i)融点246〜248°C 11)元素分’tR@ (Cls Ht 3 N s O4S tとして)0%  8% 8% 理論値 52.79 5.66 10.26実験値 52.93 5,75 1 0.19原料化合物 実施例5の化合物 実施例13 [[5−[1)−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド]−1,3,4−チア ジアゾール−2−イルコチオコ酢酸i)融点244〜245℃ ii 、)元素分析値(C31H□N s O4S tとして)0% 8% 8 % 8% 理論値 56.87 4.77 9.47 14.46実験値 56,68 4 .57 9.43 14.31原料化合物 実施例6の化合物 実施例14 [C5(m (47エ:ルプトキシ)ベンズアミドi−t、a、4−チアジアゾ ール−2−イノ四チオコ酢酸i)融点 182〜183°C 11)元素分析値(Ct + H21Ns O4S 2として)0% H% 8 % 8% 理論値 56.87 4.77 9.47 14.46実験値 56.93 4 .62 9.37 14.30原料化合物 実施例7の化合物 実施例15 [[5−(m−ヘプチルオキシベンズアミド)−1,3,4−チアジアゾール− 2−イルコチオ]酢酸 i)融点 196〜198°C 11)元素分析値(C+ e Hz 3 N s O4S tとして)0% H % N% 理論値 52.79 5.66 10.26実験値 52.78 、)、58  10−.14原料化合物 実施例1の化合物 実施例16 4−[[5−(p−へブチルオキシフェナシル)チオ]−1,3,4−チアジア ゾール−2−イル]チオ]酪酸 i)融点 116〜117℃ ii)元素分析値(C21Ht s N 204S sとして)0% H% N % 理論値 53.82 6.02 5.9B実験値 53.60 6.05 5. 87原料化合物 実施例3の化合物 実施例17 4− [[:5− [(p−へブチルオキシベンジル)チオ]−1,3.4−チ アジアゾール−2−イルコチオコ酪酸 i)融点 106〜107℃ ii)元素分析値(C2oH2sNtOsS3として)0% H% N% 理論値 54.51 6.40 6.36実験値 54.49 6.54 6. 36原料化合物 実施例9の化合物 実施例18 3−[o−[p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド]フェニルコブロビオ ン酸 i)融点 154〜1569C ii)元素分析値(C!IIH*tN O4として)0% H% N% 理論値 74.80 6.52 3.35実験値 74.48 6.87 3. 63原料化合物 実施例IOの化合物 実施例19 実施例4で得られたエチル5−[p−へブチルオキシベンジルオキシ)−1−メ トキシ−2−インダンアセテート220mgをテトラヒドロフラン1m/、メタ ノール8meに溶解し5%水酸化ナトリウム水溶液1m/を加え室温で8時間攪 拌した。水で希釈して、塩酸で酸性とし酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を 水洗。Example 12 [[5-(p-Hebutyloxybenzamide)-1,3,4-thiadiazole- 2-ylcothiocoacetic acid i) Melting point 246-248°C 11) Elemental content 'tR@ (as Cls Ht 3 Ns O4S t) 0% 8% 8% Theoretical value 52.79 5.66 10.26 Experimental value 52.93 5,75 1 0.19 raw material compound Compound of Example 5 Example 13 [[5-[1)-(4-phenylbutoxy)benzamide]-1,3,4-thia Diazol-2-ylcothiocoacetic acid i) Melting point 244-245°C ii,) Elemental analysis value (as C31H□Ns O4S t) 0% 8% 8 % 8% Theoretical value 56.87 4.77 9.47 14.46 Experimental value 56,68 4 .. 57 9.43 14.31 Raw material compound Compound of Example 6 Example 14 [C5(m(47E:luptoxy)benzamide it,a,4-thiadiazole) Melting point: 182-183°C 11) Elemental analysis value (as Ct + H21Ns O4S 2) 0% H% 8 % 8% Theoretical value 56.87 4.77 9.47 14.46 Experimental value 56.93 4 .. 62 9.37 14.30 Raw material compound Compound of Example 7 Example 15 [[5-(m-heptyloxybenzamide)-1,3,4-thiadiazole- 2-ylcothio]acetic acid i) Melting point: 196-198°C 11) Elemental analysis value (as C + e Hz 3 N s O4S t) 0% H % N% Theoretical value 52.79 5.66 10.26 Experimental value 52.78, ), 58 10-. 14 raw material compounds Compound of Example 1 Example 16 4-[[5-(p-hebutyloxyphenacyl)thio]-1,3,4-thiadias Sol-2-yl]thio]butyric acid i) Melting point 116-117°C ii) Elemental analysis value (as C21HtsN 204Ss) 0% H%N % Theoretical value 53.82 6.02 5.9B Experimental value 53.60 6.05 5. 87 raw material compounds Compound of Example 3 Example 17 4-[[:5-[(p-hebutyloxybenzyl)thio]-1,3.4-thi Asiazol-2-ylcothiocobutyric acid i) Melting point: 106-107℃ ii) Elemental analysis value (as C2oH2sNtOsS3) 0% H% N% Theoretical value 54.51 6.40 6.36 Experimental value 54.49 6.54 6. 36 raw material compounds Compound of Example 9 Example 18 3-[o-[p-(4-phenylbutoxy)benzamido]phenylcobrobio acid i) Melting point: 154-1569C ii) Elemental analysis value (as C!IIH*tN O4) 0% H% N% Theoretical value 74.80 6.52 3.35 Experimental value 74.48 6.87 3. 63 raw material compounds Compound of Example IO Example 19 Ethyl 5-[p-hebutyloxybenzyloxy)-1-methane obtained in Example 4 220 mg of toxy-2-indan acetate was added to 1 m of tetrahydrofuran, meta Dissolve in 8me of alcohol, add 1ml of 5% aqueous sodium hydroxide solution and stir at room temperature for 8 hours. Stirred. It was diluted with water, acidified with hydrochloric acid, and extracted with ethyl acetate. Ethyl acetate layer Wash with water.

乾燥し、濃縮した。得られた結晶性残渣をエーテル−ペンタンより再結晶するこ とにより5−(p−へブチルオキシベンジルオキシ)−1−メトキシ−2−イン ダン酢酸150mgを得た。Dry and concentrate. The obtained crystalline residue is recrystallized from ether-pentane. and 5-(p-hebutyloxybenzyloxy)-1-methoxy-2-yne 150 mg of danacetic acid was obtained.

i)融点80〜82°C 11)元素分析値(CzeH:++Osとして)0% H% 理論値 73.21 8.03 実験値 73.20 8.26 実施例20 参考例10で得られたp−へブチルオキシ−N−(o−シアノメトキシフェニル )ベンズアミド500mg、ナトリウムアジド116mg、塩化アンモニウム9 5mg、ジメチルホルムアミド10m/の混液を140〜150℃で一夜撹拌す る。冷浸、反応液に水50mNを加え、酢酸エチルで洗う。水層を希塩酸で酸性 となし、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥 し減圧濃縮し、残留物をエタノールより再結晶し、4−へブチルオキシ−2’− (5−テトラゾリルメトキシ)ベンズアニリド300mgを得た。i) Melting point 80-82°C 11) Elemental analysis value (as CzeH:++Os) 0% H% Theoretical value 73.21 8.03 Experimental value 73.20 8.26 Example 20 p-hebutyloxy-N-(o-cyanomethoxyphenyl) obtained in Reference Example 10 ) Benzamide 500mg, sodium azide 116mg, ammonium chloride 9 Stir a mixture of 5 mg and dimethylformamide at 140-150°C overnight. Ru. Cool immersion, add 50 mN of water to the reaction solution, and wash with ethyl acetate. Acidify the aqueous layer with dilute hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. Wash the extract with water and dry with anhydrous magnesium sulfate. The residue was recrystallized from ethanol to give 4-hebutyloxy-2'- 300 mg of (5-tetrazolylmethoxy)benzanilide was obtained.

i)融点 148〜150℃ ii)元素分析値(C*tHttNsOsとして)0% H% N% 理論値 64.53 6.65 17.10実験値 64.65 6.70 1 7.13実施例20と同様にして以下実施例21〜23の化合物を得た。i) Melting point: 148-150℃ ii) Elemental analysis value (as C*tHttNsOs) 0% H% N% Theoretical value 64.53 6.65 17.10 Experimental value 64.65 6.70 1 7.13 In the same manner as in Example 20, the following compounds of Examples 21 to 23 were obtained.

実施例21 4−へブチルオキシ−3’−(5−テトラゾリルメトキシ)ベンズアニリド i)融点 187〜190℃ ii)元素分析値(C*zHtyNsOsとして)0% H% 計算値 64.53 6.65 実測値 64.64 6;81 原料化合物 参考例9の化合物 実施例22 3−へブチルオキシ−3’−(5−テトラゾリルメトキシ)ベンズアニリド i)融点 149〜150℃ ii)元素分析値(CttH!?N 503として)0% H% N% 計算値 64.53 6.65 17.10実測値 64.55 6.77 1 7.02原料化合物 参考例11の化合物 実施例23 3−へブチルオキシ−2’ −(5−テトラゾリルメトキシ)ベンズアニリド i)融点 108〜110℃ ii)元素分析値(C*tHztNsOsとして)0% H% N% 計算値 64.53 6.65 17.10実測値 64.59 6.77 1 7.13原料化合物 参考例8の化合物 参考例12 5m1の溶液にN、N−ジメチルホルムアミドを1滴加え、−30℃以下でオキ ザリルクロライド2mlを加え、室温で3時間攪はんする。反応液を減圧濃縮し 、粗製のp−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイルクロライドを得る。このもの をメチレンクロライド5m/に溶解し、2−アミノ−4−メチルフェノール1g 、ピリジン5m/の溶液に水冷下加え、室温で3時間損はんする。反応液を濃塩 酸−氷に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗し、炭酸水素ナトリウム水 溶液で洗い、更に水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮し、2 ′−ヒドロキシ−5′−メチル−4−(4−フェニルブトキシ)ベンズアニリド 1.4gを得た。Example 21 4-Hebutyloxy-3'-(5-tetrazolylmethoxy)benzanilide i) Melting point: 187-190℃ ii) Elemental analysis value (as C*zHtyNsOs) 0% H% Calculated value 64.53 6.65 Actual value 64.64 6;81 raw material compound Compound of Reference Example 9 Example 22 3-Hebutyloxy-3'-(5-tetrazolylmethoxy)benzanilide i) Melting point: 149-150℃ ii) Elemental analysis value (CttH!?N as 503) 0% H% N% Calculated value 64.53 6.65 17.10 Actual value 64.55 6.77 1 7.02 Raw material compounds Compound of Reference Example 11 Example 23 3-hebutyloxy-2'-(5-tetrazolylmethoxy)benzanilide i) Melting point: 108-110℃ ii) Elemental analysis value (as C*tHztNsOs) 0% H% N% Calculated value 64.53 6.65 17.10 Actual value 64.59 6.77 1 7.13 Raw material compounds Compound of Reference Example 8 Reference example 12 Add 1 drop of N,N-dimethylformamide to 5 ml of solution and oxidize at below -30°C. Add 2 ml of zaryl chloride and stir at room temperature for 3 hours. Concentrate the reaction solution under reduced pressure. , to obtain crude p-(4-phenylbutoxy)benzoyl chloride. this thing was dissolved in 5 m/m of methylene chloride, and 1 g of 2-amino-4-methylphenol was added. , added to a solution of 5 m/pyridine under water cooling, and left at room temperature for 3 hours. Add concentrated salt to the reaction solution. Pour into acid-ice and extract with ethyl acetate. Wash the extract with water and dilute with sodium bicarbonate water. After washing with a solution, further washing with water, drying with anhydrous magnesium sulfate, and concentrating under reduced pressure, '-Hydroxy-5'-methyl-4-(4-phenylbutoxy)benzanilide 1.4g was obtained.

融点138〜140℃。Melting point: 138-140°C.

参考例13 2−アミノ−4−クロロフェノールIgを出発原料として参考例12と同様に処 理して、5′〜クロロ−2′−ヒドロキシ−4−(4−フェニルブトキシ)ベン ズアニリド1.4.2gを得た。Reference example 13 Treated in the same manner as in Reference Example 12 using 2-amino-4-chlorophenol Ig as the starting material. 5'-chloro-2'-hydroxy-4-(4-phenylbutoxy)ben 1.4.2 g of Zuanilide was obtained.

融点137〜139℃。Melting point: 137-139°C.

参考例14 2−アミノ−4−ニトロフェノール400mgを出発原料として参考例12と同 様に処理して、2′−ヒドロキシ−5′−二)・ロー4−(4−フェニルブトキ シ)ベンズアニリド450mgを得た。Reference example 14 Same as Reference Example 12 using 400 mg of 2-amino-4-nitrophenol as the starting material. 2'-hydroxy-5'-di)rho-4-(4-phenylbutoxy) c) 450 mg of benzanilide was obtained.

融点174〜176℃。Melting point: 174-176°C.

参考例15 2−アミノフェノール400mgを出発原料として参考例12と同様に処理して 、2′−ヒドロキシ−4−(4−フェニルブトキシ)ベンズアニリド630mg を得fこ。融点116〜117℃。Reference example 15 Using 400 mg of 2-aminophenol as the starting material, it was treated in the same manner as in Reference Example 12. , 2'-hydroxy-4-(4-phenylbutoxy)benzanilide 630 mg I got it. Melting point 116-117°C.

参考例16 エチル3−(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート塩酸塩1g を出発県料として参考例12と同様に処理して、エチル3−[4−ヒドロキシ− 3−[p−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイル]アミドフェニル]プロピオネ ート1.6gを得た。Reference example 16 Ethyl 3-(3-amino-4-hydroxyphenyl)propionate hydrochloride 1g was treated as the starting material in the same manner as in Reference Example 12 to obtain ethyl 3-[4-hydroxy- 3-[p-(4-phenylbutoxy)benzoyl]amidophenyl]propione 1.6 g of salt was obtained.

融点94〜96℃ 参考例17 1.6gの水素化ナトリウム(60%、油性)、ジメチルスルホキサイド60m /の混液を55〜606Cで1時間攪はんした。室温に戻した後、(4−カルボ キシブチル)トリフェニルホスホニウムブロマイド9g、ジメチルスルホキサイ ド20mf’の溶液を加え室温で30分損はんした後、0−ニトロベンズアルデ ヒド3g、ジメチルスルホキサイド10meの溶液を加え、室温で2時間攪はん する。反応液を冷希塩酸に注ぎ、ニー・チルで抽出する。抽出液を水洗後、無水 硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧a縮し、油状の6−(0−ニトロフェニル)− 5−ヘキセン酸を得た。このものをエタノール20m、ff、濃塩酸4meの溶 液に加え、3時間加熱還流しを水洗し、精成酸水素ナトリウム含水で洗い、水洗 し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。残留物をシルカゲルカラム クロマトグラフィーに付し、トルエンで溶出して、エチル6−(0−ニトロフェ ニル)−5−ヘキセネート0.73gを得た。Melting point 94-96℃ Reference example 17 1.6 g sodium hydride (60%, oily), 60 m dimethyl sulfoxide / was stirred at 55 to 606C for 1 hour. After returning to room temperature, (4-carbo xybutyl) triphenylphosphonium bromide 9g, dimethyl sulfoxy After adding 20 mf' of O-nitrobenzalde solution and incubating at room temperature for 30 minutes, Add a solution of 3 g of hydrogen and 10 me of dimethyl sulfoxide, and stir at room temperature for 2 hours. do. Pour the reaction solution into cold dilute hydrochloric acid and extract with Ni-chill. After washing the extract with water, anhydrous Dry over magnesium sulfate and reduce in vacuo to give an oily 6-(0-nitrophenyl)- 5-hexenoic acid was obtained. Dissolve this in 20ml of ethanol, ff, and 4ml of concentrated hydrochloric acid. Add to the liquid, heat under reflux for 3 hours, wash with water, wash with purified sodium hydrogen oxide water, and wash with water. After drying over anhydrous magnesium sulfate, concentrate under reduced pressure. Transfer the residue to a silica gel column Chromatography and elution with toluene yielded ethyl 6-(0-nitrophe). 0.73 g of Nyl)-5-hexenate was obtained.

このものをエタノール10meに溶解し、10%パラジウム−炭素0.1gを加 え、水素の吸収が止むまで接触還元する。触媒をろ去し、減圧濃縮し、エチル6 −(o−アミノフェニル)ヘキセネート0.6gを得た。Dissolve this in 10me of ethanol and add 0.1g of 10% palladium-carbon. Then, catalytic reduction is carried out until hydrogen absorption stops. The catalyst was filtered off, concentrated under reduced pressure, and ethyl 6 0.6 g of -(o-aminophenyl)hexenate was obtained.

核磁気共鳴スペクトル(CD C1,中、TMS内部標準、 ppm)124( t、3H)、’1.0〜2.0(m、6H)、2.30(t、2H)。Nuclear magnetic resonance spectrum (CD C1, medium, TMS internal standard, ppm) 124 ( t, 3H), '1.0-2.0 (m, 6H), 2.30 (t, 2H).

2.49(t、2H)、2.8〜3.8(2H)、4.10(q、2H)。2.49 (t, 2H), 2.8-3.8 (2H), 4.10 (q, 2H).

6.5〜7.2(m、4H) 参考例18 0−エトキシカルボニルメトキシ安息香酸2g及びp−アミノフェノールtgを 原料として参考例1と同様に処理して、エチル0−[(p−ヒドロキシフェニル )カルバモイルコツエノキシアセテート1.5gを得た。融点208〜210℃ 。6.5-7.2 (m, 4H) Reference example 18 2 g of 0-ethoxycarbonylmethoxybenzoic acid and tg of p-aminophenol. As a raw material, ethyl 0-[(p-hydroxyphenyl ) 1.5 g of carbamoyl coquinoxy acetate was obtained. Melting point 208-210℃ .

参考例19 CI(CH2)3sCHtCOOC2I(sエチル メルカプトアセテート2. 0g、1−ブロモ−3−クロロプロパン3.13g、無水炭酸カリウム2.29 g及びN 、 N−ジメチルホルムアミド10m、/の混合物を室温で3時間か きまぜる。Reference example 19 CI(CH2)3sCHtCOOC2I(sethyl mercaptoacetate 2. 0g, 1-bromo-3-chloropropane 3.13g, anhydrous potassium carbonate 2.29 A mixture of g and N, N-dimethylformamide 10m// was heated at room temperature for 3 hours. Mix it up.

反応液をトルエンで希釈し、不溶物をろ過する。ろ液を水酸化ナトリウム水溶液 、水で順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧iJk Mする。残留物 シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(15:1 )の混液で溶出し、油状のエチル[(3−クロロプロピル)チオ]アセテート2 .65gを得た。The reaction solution is diluted with toluene and insoluble matter is filtered. Add the filtrate to aqueous sodium hydroxide solution , washed successively with water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and vacuumed. residue Subjected to silica gel column chromatography, hexane-ethyl acetate (15:1) ), and the oily ethyl [(3-chloropropyl)thio]acetate 2 .. 65g was obtained.

核磁気共鳴スペクトル(CDCIs中、TMS内部標準、 ppm)1.28( t、3H)、1.9〜2.2(2H)、2.7〜2.9(2H)。Nuclear magnetic resonance spectrum (in CDCIs, TMS internal standard, ppm) 1.28 ( t, 3H), 1.9-2.2 (2H), 2.7-2.9 (2H).

3.20(s、3H)、3.64(t、2H)、4.19(q、2H)マススペ クトル m/z : 196(M+)参考例20 バニリン860mg、4−ブロモブチルベンゼン1.OOg、炭酸カリウム1. oog及び2−ブタノン8+nfの混合物を3時間加熱還流した。反応混合物を 水に注ぎ入れ、生成物をエーテルで抽出した。エーテル層を水洗、乾燥、濃縮し て得られる残渣をシルカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、トルエンで溶出 し、4−(4−フェニルブトキシ)−3−メトキシベンズアルデヒド500mg を得た。3.20 (s, 3H), 3.64 (t, 2H), 4.19 (q, 2H) mass spec m/z: 196 (M+) Reference example 20 Vanillin 860mg, 4-bromobutylbenzene 1. OOg, potassium carbonate 1. A mixture of oog and 2-butanone 8+nf was heated to reflux for 3 hours. reaction mixture Poured into water and extracted the product with ether. Wash the ether layer with water, dry it, and concentrate it. The residue obtained was subjected to silica gel column chromatography and eluted with toluene. 500mg of 4-(4-phenylbutoxy)-3-methoxybenzaldehyde I got it.

核磁気共鳴スペクトル(CDC13中、T M S内部標準、 ppm)1.8 〜2.0(4H)、2.71(t、2H,J=7Hz)、3.89(s。Nuclear magnetic resonance spectrum (in CDC13, TMS internal standard, ppm) 1.8 ~2.0 (4H), 2.71 (t, 2H, J=7Hz), 3.89 (s.

3H)、4.08(t、2H,J=7Hz)、6.92(d、IH,J=9.5 Hz)、7.15〜7.50(7H)、9.85(s、IH)参考例21 参考例20で得た4−(4−フェニルブトキシ)−3−メトキシベンズアルデヒ ド660mgをメタノール5m/に溶解し、0℃にて水素化ホウ素ナトリウム2 00mgを徐々に加えた。1時間攪はんした後、水及び酢酸エチルを加えて激し く攪はんした。分液して得られた酢酸エチル層を、水9食塩水で順次洗い、濃縮 した。残渣をシルカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、トルエン:酢酸エチ ル(10:1)で溶出し、4−(4−フェニルブトキシ)−3−メトキシベンジ ルアルコール430mgを得た。3H), 4.08 (t, 2H, J = 7Hz), 6.92 (d, IH, J = 9.5 Hz), 7.15 to 7.50 (7H), 9.85 (s, IH) Reference Example 21 4-(4-phenylbutoxy)-3-methoxybenzaldehy obtained in Reference Example 20 Dissolve 660 mg of sodium borohydride in 5 m of methanol and add 2 ml of sodium borohydride at 0°C. 00 mg was added gradually. After stirring for 1 hour, add water and ethyl acetate and mix vigorously. I stirred it up. The ethyl acetate layer obtained by separating the layers was washed successively with water and 9 brine, and concentrated. did. The residue was subjected to silica gel column chromatography using toluene:ethyl acetate. Elute with 4-(4-phenylbutoxy)-3-methoxybendi 430 mg of alcohol was obtained.

核磁気共鳴スペクトル(CDC13中、 T M S内部標準、 ppm)1. 7〜1.9(4H)、2.68(t、2H,J=7H2)、3.87C5゜3H )、4.00(t、2H,J=7Hz)、4.60(d、IH,J=5.5参考 例22 参考例21で得た4−(4−フェニルブトキシ)−3−メトキシベンジルアルコ ール410mg、トルエン0.5m/、ベンゼン2m/の溶液に、0℃で塩化チ オニル0.5[+1/を加えた。20分攪はんし、飽和重曹水を加えた。分液し て、有機層を水及び食塩水で洗い濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ ラフィーに付し、トルエン:ヘキサン:酢酸エチル(20:15:1)で溶出し 、4−クロロメチル−2−メトキシ−1−(4−フェニルブトキシ)ベンゼン3 00mgを得た。Nuclear magnetic resonance spectrum (in CDC13, TMS internal standard, ppm) 1. 7-1.9 (4H), 2.68 (t, 2H, J=7H2), 3.87C5°3H ), 4.00 (t, 2H, J = 7Hz), 4.60 (d, IH, J = 5.5 Reference Example 22 4-(4-phenylbutoxy)-3-methoxybenzyl alcohol obtained in Reference Example 21 Add nitrogen chloride to a solution of 410 mg of alcohol, 0.5 m of toluene, and 2 m of benzene at 0°C. Onyl 0.5[+1/] was added. After stirring for 20 minutes, saturated sodium bicarbonate solution was added. Separate the liquid Then, the organic layer was washed with water and brine and concentrated. Chromatograph the residue on a silica gel column. Raffy and eluted with toluene:hexane:ethyl acetate (20:15:1) , 4-chloromethyl-2-methoxy-1-(4-phenylbutoxy)benzene 3 00 mg was obtained.

核磁気共鳴スペクトル(CD CI!中、TMS内部標準、 ppm)1.75 〜1.95(4H)、2.68(t、2H,J=7Hz)、3.87(s、3H )、4.01(d、2H,J=7Hz)、4.52(s、2H)、6.80〜6 .90(3H)、7.15〜7.25(5H)上記生成物をキシレン2meに溶 解し、トリフェニルホスフィン304mgと還流温度で1.5時間処理した。冷 浸、析出した無色結晶を吸引捕集し、減圧上乾燥すると、l:4−(4−フェニ ルブトキシ)゛−2−メトキシペンジルコトリフェニルホスホニウムクロライド 260mgを得た。融点119〜128℃。Nuclear magnetic resonance spectrum (CD in CI!, TMS internal standard, ppm) 1.75 ~1.95 (4H), 2.68 (t, 2H, J=7Hz), 3.87 (s, 3H ), 4.01 (d, 2H, J=7Hz), 4.52 (s, 2H), 6.80-6 .. 90 (3H), 7.15-7.25 (5H) The above product was dissolved in xylene 2me. The mixture was dissolved and treated with 304 mg of triphenylphosphine at reflux temperature for 1.5 hours. cold The precipitated colorless crystals were collected by suction and dried under reduced pressure to give l:4-(4-phenylene). (rubutoxy)-2-methoxypenzylcotriphenylphosphonium chloride 260 mg was obtained. Melting point 119-128°C.

マススペクトル m/z: 531 (M” −CI)参考例23 参考例10〜22と同様の操作により、サリチルアルデヒドを原料として、o− (4−フェニルブトキシ)ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドを得た 。融点214〜216℃。Mass spectrum m/z: 531 (M”-CI) Reference example 23 By the same operation as in Reference Examples 10 to 22, o- (4-phenylbutoxy)benzyltriphenylphosphonium chloride was obtained . Melting point 214-216°C.

参考例24 4−クロロメチル−1−(4−フェニルブトキシ)ベンゼン390mgとカテコ ール180mg、炭酸カリウム270mgをN、N−ジメチルホルムアミド1. 5m/中、室温で終夜攪はんした。反応混合物を水と酢酸エチルに分散し、分液 した。酢酸エチル層を、泉9食塩水で順次洗い、乾燥、濃縮した。得られた残渣 をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、トルエンで溶出し、a rp− (4−フェニルブトキシ)ベンジルオキシ]フェノール240mgを得た。核磁 気共鳴スペクトル(CD CI、中、TMS内部標準、ppm) 1.7〜2.0(4H)、2.5〜2.8(2H)、3.B〜4.1(2H)。Reference example 24 390mg of 4-chloromethyl-1-(4-phenylbutoxy)benzene and cateco 180 mg of potassium carbonate and 270 mg of potassium carbonate were mixed with 1. The mixture was stirred overnight at room temperature in a 5 m/m medium. Disperse the reaction mixture in water and ethyl acetate and separate the liquids. did. The ethyl acetate layer was sequentially washed with Izumi 9 brine, dried, and concentrated. the residue obtained was subjected to silica gel column chromatography, eluted with toluene, arp- 240 mg of (4-phenylbutoxy)benzyloxy]phenol was obtained. nuclear magnetism Gas resonance spectrum (CD CI, medium, TMS internal standard, ppm) 1.7-2.0 (4H), 2.5-2.8 (2H), 3. B~4.1 (2H).

4.95(s、2H)、5.63(s、IH,DzOで消失)、6.5〜7.5 参考例25 −(4−フェニルブチルオキシ)ベンジルコチオコアニリンを得た。4.95 (s, 2H), 5.63 (disappeared with s, IH, DzO), 6.5-7.5 Reference example 25 -(4-phenylbutyloxy)benzylcothiocoaniline was obtained.

核磁気共鳴スペクトル(CDCh中、TMS内部標準、 pp[11)1.7〜 1.9(4H)、2.6〜2.8(2H)、3.85(s、2H)。Nuclear magnetic resonance spectrum (in CDCh, TMS internal standard, pp[11) 1.7~ 1.9 (4H), 2.6-2.8 (2H), 3.85 (s, 2H).

368〜4.0(2H)、4.2(ブロード、 2 H、D t Oで消失)。368-4.0 (2H), 4.2 (broad, 2H, disappeared with DtO).

6.5〜7.3(13H) −ト0.64g、無水炭酸カリウム0.48g、 2−ブタノン20m1.触媒 量のテトラ n−ブチルアンモニウム ブロマイドの混液を3時間加熱還流した 。反応液にトルエンLGOmlを加え、希水酸化ナトリウム溶液、水で順次洗い 、無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧a縮後イソプロピルアルコールより再結晶 し、エチル 4−メチル−2(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドラフ エノキシアセテート1.5gを得た。6.5-7.3 (13H) -0.64g, anhydrous potassium carbonate 0.48g, 2-butanone 20ml. catalyst of tetra n-butylammonium bromide was heated under reflux for 3 hours. . Add toluene LGO ml to the reaction solution and wash sequentially with dilute sodium hydroxide solution and water. , dried over anhydrous magnesium sulfate, compressed under reduced pressure, and recrystallized from isopropyl alcohol. and ethyl 4-methyl-2(p-(4-phenylbutoxy)benzamide rough 1.5 g of enoxy acetate was obtained.

理化学的性状 1)融点 79〜80℃ 2)元素分析値 (CzgH5+NO5として)C(%) H(%) N(%) 理論値 72.86 6.77 3.03実験値 72.80 6.63 2. 87以下、実施例24と同様にして実施例25〜32の化合物を得た。physical and chemical properties 1) Melting point: 79-80℃ 2) Elemental analysis values (as CzgH5+NO5) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 72.86 6.77 3.03 Experimental value 72.80 6.63 2. Compounds of Examples 25 to 32 were obtained in the same manner as in Example 24.

実施例25 エチル 4−クロロ−2−1:p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドラフ エノキシアセテート 理化学的性状 l)融点 81〜84℃ 2)元素分析値 (C2?H28CIN Os ;!−シテ)C(%) H(% ) N(%)CI(%)理論値 67.28 5゜86 2.91 7.36実 験値 67.33 5.87 2.82 7.31原料化合物:参考例13ノ化 合物+BrCHzCOOCtHs実施例26 エチル 4−ニトロー2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドラフエ ノキシアセテート 理化学的性状 1)融点 113℃ 2)元素分析値 (C2?H2as tO7として)N(%) 理論値 5.09 実験値 5.39 原料化合物:参考例14の化合物: B r CH2COOCz Hsエチル  o−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドラフエノキシアセテート 理化学的性状 I)油状物 2)元素分析値 (CttH2sN Os として)C(%) H(%) N( %) 理論値 72.46 6.53 3.13実験値 72.22 6.53 3. 05原料化合物:参考例15の化合物+BrCH,C00C,H3実施例28 エチル 3−〔4−エトキシカルボメトキシ−3−(p−(4−フェニルブトキ シ)ベンズアミド〕フェニル〕プロピオネート理化学的性状 1)融点 61〜62℃ 2)元素分析値 (C32H37N Ot として)C(%) H(%) N( %) 理論値 70.18 6,81 2.56実験値 7Q、13 6.73 2. 47原料化合物:参考例16の化合物+ B r CHt COOCt I(5 実施例29 エチル ((3−(4−クロロ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズア ミド〕フェノキシ〕プロピル〕チオ〕アセテート理化学的性状 l)融点 70〜73°C 2)元素分Fi−f直 (C3oH34N、05S C1として)N(%) 理論値 2.52 実験値 2.71 原料化合物:参考例13の化合物〒参考例19の化合物エチル o−(N−(p −(4−フェニルブトキシ)フェニル〕カルバモイル〕フェノキシアセテート 理化学的性状 1)融点 86〜88℃ 2)元素分析値 (CttHtsNOs として)C(%) H(%) N(% ) 理論値 72.46 6.53 3.13実験値 ?2.54 6.62 3. IQ原料化合物:参考例18の化合物+Br(CH,)。Phエチル o−(p −(4−フェニルブトキシ)ベンジルオキシフフェノキシアセテート 理化学的性状 l)油状物 2)核磁気共鳴スペクトル(CD CI3中、 T M S内部標準、 ppm )1.24(t、3H)、 L、S〜1.8(4H)、2.5〜2.7(2H) 、3.8〜4.0(611)、4.16(Q、211)、4.61(s、2H) 、5.02(s、211)、6.7〜7.3(1311)原料化合物:参考例2 4の化合物÷BrCHtCOOC2Hiエチル N −(o −((p−(4− フェニルブトキシ)ベンジル〕チオ〕フェニル〕グリシン 理化学的性状 l)油状物 2)核磁気共鳴スペクトル(CDC1,中、T MS内部標準、ppm)1.2 8(t、3H)、1.7〜1.9(4H)、2.6〜2.8(21()、3.8 〜4.0(61)、4.z7(q、2)1)、5.84(11()、6.6〜7 .3(13H)原料化合物:参考例25の化合物子B r CH* G 00  Ct H5p−(フェニルブトキシ)安息香酸1gとオキザリルクロライド2m lより調製したp−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイルクロライド゛のメチレ ンクロライド溶液を、参考例17で得たエチル 6−(〇−アミノフェニル)ヘ キサネート0.6gとピリジン10m1の溶液に一30℃以下で加える。室温で 一夜攪はんし、減圧a縮する。残留物にトルエンを加え、希塩酸で洗い、水洗し 、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して、油状のエチル 6−(o−( p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェニル〕ヘキサネート1.0g を得た。Example 25 Ethyl 4-chloro-2-1: p-(4-phenylbutoxy)benzamide rough enoxy acetate physical and chemical properties l) Melting point: 81-84℃ 2) Elemental analysis value (C2?H28CIN Os;!-Site) C (%) H (% ) N (%) CI (%) Theoretical value 67.28 5°86 2.91 7.36 Actual Experimental value 67.33 5.87 2.82 7.31 Raw material compound: Reference example 13 Compound+BrCHZCOOCtHs Example 26 Ethyl 4-nitro 2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide lafe) Noxyacetate physical and chemical properties 1) Melting point: 113℃ 2) Elemental analysis value (C2?H2as tO7) N (%) Theoretical value 5.09 Experimental value 5.39 Raw material compound: Compound of Reference Example 14: B r CH2COOCz Hs ethyl o-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide dolphenoxy acetate physical and chemical properties I) Oily substance 2) Elemental analysis value (as CttH2sN Os) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 72.46 6.53 3.13 Experimental value 72.22 6.53 3. 05 raw material compound: Compound of Reference Example 15 + BrCH, C00C, H3 Example 28 Ethyl 3-[4-ethoxycarbomethoxy-3-(p-(4-phenylbutoxy) C) Physical and chemical properties of benzamide phenyl propionate 1) Melting point: 61-62℃ 2) Elemental analysis values (as C32H37N Ot) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 70.18 6,81 2.56 Experimental value 7Q, 13 6.73 2. 47 Raw material compound: Compound of Reference Example 16 + B r CHt COOCt I (5 Example 29 Ethyl ((3-(4-chloro-2-(p-(4-phenylbutoxy)benza Midophenoxypropylthioacetate physical and chemical properties l) Melting point: 70-73°C 2) Element content Fi-f direct (C3oH34N, 05S as C1) N (%) Theoretical value 2.52 Experimental value 2.71 Raw material compound: Compound of Reference Example 13 Compound of Reference Example 19 Ethyl o-(N-(p -(4-phenylbutoxy)phenyl]carbamoyl]phenoxyacetate physical and chemical properties 1) Melting point: 86-88℃ 2) Elemental analysis values (as CttHtsNOs) C (%) H (%) N (% ) Theoretical value 72.46 6.53 3.13 Experimental value? 2.54 6.62 3. IQ raw material compound: Compound of Reference Example 18+Br(CH,). Ph ethyl o-(p -(4-phenylbutoxy)benzyloxyfuphenoxy acetate physical and chemical properties l) Oily substance 2) Nuclear magnetic resonance spectrum (CD in CI3, TMS internal standard, ppm ) 1.24 (t, 3H), L, S ~ 1.8 (4H), 2.5 ~ 2.7 (2H) , 3.8-4.0 (611), 4.16 (Q, 211), 4.61 (s, 2H) , 5.02 (s, 211), 6.7-7.3 (1311) Raw material compound: Reference example 2 Compound 4÷BrCHtCOOC2Hiethyl N-(o-((p-(4- phenylbutoxy)benzyl]thio]phenyl]glycine physical and chemical properties l) Oily substance 2) Nuclear magnetic resonance spectrum (CDC1, medium, TMS internal standard, ppm) 1.2 8 (t, 3H), 1.7-1.9 (4H), 2.6-2.8 (21 (), 3.8 ~4.0 (61), 4. z7 (q, 2) 1), 5.84 (11 (), 6.6-7 .. 3 (13H) raw material compound: Compound B r CH * G 00 of Reference Example 25 Ct H5p-(phenylbutoxy)benzoic acid 1g and oxalyl chloride 2m Methylene of p-(4-phenylbutoxy)benzoyl chloride prepared from The chloride solution was added to the ethyl 6-(〇-aminophenyl) obtained in Reference Example 17. Add to a solution of 0.6 g of xanate and 10 ml of pyridine at -30°C or below. at room temperature Stir overnight and compress under reduced pressure. Add toluene to the residue, wash with dilute hydrochloric acid, and then with water. , dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure to obtain oily ethyl 6-(o-( p-(4-phenylbutoxy)benzamide]phenyl]hexanate 1.0g I got it.

理化学的性状 1)油状物 2)核磁気共鳴スペクトル(CD C’rs中、TMS内部標準、 ppm)1 .20(t、 3H)、 1.0〜2.0(::m、 l0H)、 2.28( t、 2H)、 2.4〜2.8(m、4tl) 、4.O2(t 、21)、4.08(q、2H)、8.8〜8.2(m、 13)1)3)マス スペクトル m/ z:487(M” )ライドLmlより調製した(3−フェ ノキシプロポキシ)ベンゾイルクロライドと、エチル O−アミノシンナメー)  G、3i(を出発原料として、実施例31と同様に処理して、エチル o−( p−(3−フェノキシプロポキシ)ベンズア気ド〕シンナメート0.52gを得 た。physical and chemical properties 1) Oily substance 2) Nuclear magnetic resonance spectrum (CD C’rs, TMS internal standard, ppm) 1 .. 20(t, 3H), 1.0-2.0(::m, l0H), 2.28( t, 2H), 2.4-2.8 (m, 4tl), 4. O2(t , 21), 4.08 (q, 2H), 8.8-8.2 (m, 13) 1) 3) Mass Spectrum m/z: 487 (M”) Prepared from Lml of 3-phere (oxypropoxy)benzoyl chloride and ethyl O-aminocinname) G. 0.52 g of p-(3-phenoxypropoxy)benzado]cinnamate was obtained. Ta.

理化学的性状 l)融点 155〜157℃ 2)元素分析値 (CztHttNOs として)C(%) H(%) N(% ) 理論値 72.79 B、11 3.14実験値 72.69 6.10 3. 15実施例34で得られた、エチル o−(p−(3−フェノキシプロポキシ) ベンズアミド〕シンナメー)2+Omgとメタノール10m1、酢酸エチル20 m1の溶液に10%パラジウム−炭素を加え、水素の吸収が止むまで接触還元す る。触媒をろ去し、減圧濃縮し、残留物をイソプロピルアルコールより再結晶し て、エチル 3−Co−(p−(3−フェノキシプロポキシ)ベンズアミド〕フ ェニル〕プロピオネート200mgを得た。physical and chemical properties l) Melting point: 155-157℃ 2) Elemental analysis values (as CztHttNOs) C (%) H (%) N (% ) Theoretical value 72.79 B, 11 3.14 Experimental value 72.69 6.10 3. 15 Ethyl o-(p-(3-phenoxypropoxy) obtained in Example 34) Benzamide] Cinname) 2 + Omg, methanol 10ml, ethyl acetate 20 Add 10% palladium-carbon to ml of solution and perform catalytic reduction until hydrogen absorption stops. Ru. The catalyst was filtered off, concentrated under reduced pressure, and the residue was recrystallized from isopropyl alcohol. and ethyl 3-Co-(p-(3-phenoxypropoxy)benzamide) 200 mg of phenyl]propionate was obtained.

理化学的性状 1)融点 89〜90℃ 2)元素分析値 (C2tHtsN Os として)C(%) H(%) N( %) 理論値 72.4B 6.53 3.13実験値 72.27 6.54 3. 12トキシベンジル〕−トリフェニルホスホニウム クロライド260mgのテ トラヒドロフラン2.’5mL中懸濁液に0℃で1.42M n−プチルリチウ ム/ヘキサン溶液0.36m1を滴下した。10分間飛はんすると暗赤色溶液と なった。この溶液を注射筒を用い、エチル 0−ホルミルフェノキシアセテート 114mg、テトラヒドロフラン1mlの溶液にO″Cで滴下した。20分間飛 はんした後、飽和塩化アンモニウム水を加えた。生成物をエーテルで抽出した。physical and chemical properties 1) Melting point: 89-90℃ 2) Elemental analysis value (as C2tHtsN Os) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 72.4B 6.53 3.13 Experimental value 72.27 6.54 3. 12toxybenzyl]-triphenylphosphonium chloride 260mg Trahydrofuran2. 1.42 M n-butyllithium at 0°C in suspension in 5 mL 0.36 ml of a hum/hexane solution was added dropwise. After flying for 10 minutes, a dark red solution appears. became. Using a syringe, add this solution to ethyl 0-formylphenoxy acetate. 114 mg was added dropwise to a solution of 1 ml of tetrahydrofuran at O''C. After stirring, saturated ammonium chloride water was added. The product was extracted with ether.

エーテル層を水、食塩水で洗っr二後、乾燥、濃縮しに0粗製物を分取TLCで 分離(展開液、ヘキサン;塩化メチレン:アセトン=8:2+1)すると、17 0mgのエチル o−〔3−メトキシ、4−(4−フェニルブトキシ)スチリル 〕フェノキシアセテートが得られた。The ether layer was washed with water and brine, dried and concentrated, and the crude product was analyzed by preparative TLC. When separated (developing solution, hexane; methylene chloride: acetone = 8:2 + 1), 17 0 mg ethyl o-[3-methoxy, 4-(4-phenylbutoxy)styryl ] Phenoxy acetate was obtained.

理化学的性状 1)核磁気共鳴スペクトル (CDC1j中、 T M S内部標準、 ppm )1.27,1.29(それぞれt1合わせて3H,J=7.2Hz)、1.7 5〜1.9(4H)、2.6〜2.75(2H) 、 3.52(s 、 3H ) 、 3.95〜4.40(4H) 、 4.61.4.66(それぞれS。physical and chemical properties 1) Nuclear magnetic resonance spectrum (CDC1j, TMS internal standard, ppm ) 1.27, 1.29 (respectively t1 total 3H, J = 7.2Hz), 1.7 5-1.9 (4H), 2.6-2.75 (2H), 3.52 (s), 3H ), 3.95-4.40 (4H), 4.61.4.66 (S.

合わせて2)1)、6.6〜7.6(14H)フェニルホスホニウム クロライ ド230mgのテトラヒドロフラン2ml中@濁液に、0℃で、L4Mn−ブチ ルリチウム/ヘキサン溶液を滴下した。20分間飛はん後、この深紅色溶液を、 エチル0−ホルミルフェノキシアセテ−) 100mgのテトラヒドロフラン1 ml中溶液に、0°Cで滴下した。50分間飛ばんした後、飽和塩化アンモニウ ム水溶液を加え、酢酸エチルで生成物を抽出しfこ。酢酸エチル層を水(2回) 、゛飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥、減圧濃縮した。得られ几残渣380mgを シリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し、エチル o−(o−(4−フ ェニルブトキシ)スチリル〕フェノキシアセテ−1−180mgを無色曲状物と して得r二。Combined with 2) 1), 6.6-7.6 (14H) phenylphosphonium chloride A suspension of 230 mg of L4Mn-butylene in 2 ml of tetrahydrofuran was added at 0°C. A lithium/hexane solution was added dropwise. After flying for 20 minutes, this deep red solution was Ethyl 0-formylphenoxyacetate) 100mg tetrahydrofuran 1 ml solution at 0°C. After flying for 50 minutes, saturated ammonium chloride Add an aqueous solution of aluminum and extract the product with ethyl acetate. Add the ethyl acetate layer to water (twice) , Washed successively with saturated brine, dried, and concentrated under reduced pressure. 380 mg of the obtained residue Purified by silica gel preparative thin layer chromatography, ethyl o-(o-(4-ph) phenylbutoxy)styryl]phenoxyacetate-1-180mg as a colorless curved product I got two.

理化学的性状 ■)油状物 2)核磁気共鳴スペクトル (CD C13中、 T M S内部標準、ppm )1.2〜1.4(3)1)、1.7〜1 、9 (41() 、 2 、6〜 2.8(2)1)、3.9〜4.4(4H)、4.61及び4.63(それぞれ S9合わ什て2H)、6.tl+−7,7(15H)実施例26で得られたエチ ル 4−ニトロ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキ シアセテート2.81gとエタノール−テトラヒドロフラン(1: l )50 mlの混液に10%パラジウム−炭素0.5gを加え、室温、常圧下に水素の吸 収が止むまで接触還元する。触媒をろ去し、ろ液を減圧a縮し、得られf二結晶 をイソプロピルアルコールで洗い、エチル 4−アミノ−2−(p−(4−フェ ニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシアセテート1.72gを得た。physical and chemical properties ■) Oily substance 2) Nuclear magnetic resonance spectrum (CD C13, TMS internal standard, ppm ) 1.2-1.4 (3) 1), 1.7-1, 9 (41(), 2, 6- 2.8 (2) 1), 3.9-4.4 (4H), 4.61 and 4.63 (respectively S9 total 2H), 6. tl+-7,7(15H) Ethiobtained in Example 26 4-nitro-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide)phenoki Cyacetate 2.81g and ethanol-tetrahydrofuran (1:l) 50 Add 0.5 g of 10% palladium-carbon to ml of the mixed solution, and absorb hydrogen at room temperature and normal pressure. Catalytic reduction is carried out until the yield stops. The catalyst was removed by filtration, the filtrate was condensed under reduced pressure, and the obtained F-2 crystals were obtained. Wash with isopropyl alcohol and add ethyl 4-amino-2-(p-(4-ph). 1.72 g of nylbutoxybenzamide]phenoxyacetate was obtained.

理化学的性状 ■)融点 88〜90°C 2)核磁気共鳴スペクトル (CD CI3中、TMS内部標準、 ppm)t 、26(t 、3[) 、 1.5〜2.0(m 、 4t() 、 2.4〜 2.8(m、2t() 、 3.8〜4.2(m、2)1j 、 4 。physical and chemical properties ■) Melting point: 88-90°C 2) Nuclear magnetic resonance spectrum (CD in CI3, TMS internal standard, ppm) , 26(t, 3[), 1.5~2.0(m), 4t(), 2.4~ 2.8(m, 2t(), 3.8-4.2(m, 2)1j, 4.

22(Q、2H)、4.60(s、2H)、6.0〜7.0(m、 12H)実 施例24で得られrニエチル 4−メチル−2−(p−(4−フェニルブトキシ )ベンズアミド〕フェノキシアセテート1.5gを10%水酸化カリウム−90 %メタノール溶液20m1に加え、50〜60℃で1時間攪はんする。飽和食塩 水LOmlを加えた後、希塩酸で酸性とし酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗 し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧a縮する。残留物を酢酸エチルより再 結晶し、4−メチル−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェ ノキシ酢酸1.12gを得た。22 (Q, 2H), 4.60 (s, 2H), 6.0-7.0 (m, 12H) actual rniethyl 4-methyl-2-(p-(4-phenylbutoxy) obtained in Example 24 ) Benzamide] 1.5 g of phenoxy acetate in 10% potassium hydroxide-90 % methanol solution and stirred at 50-60°C for 1 hour. saturated salt After adding LO ml of water, acidify with dilute hydrochloric acid and extract with ethyl acetate. Wash the extract with water , dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. Residue from ethyl acetate It crystallized and gave 4-methyl-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide)phene. 1.12 g of noxyacetic acid was obtained.

理化学的性状 1)融点 122〜123℃ 2)元素分析値 (CtaH2?N Os として)C(%) H(%) N( %) 理論値 72.04 6.28 3.23実験値 ?1.79 6.23 3. 20以下、実施例39と同様にして実施例・10〜52の化合物を得fこ。physical and chemical properties 1) Melting point: 122-123℃ 2) Elemental analysis value (as CtaH2?N Os) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 72.04 6.28 3.23 Experimental value? 1.79 6.23 3. Compounds of Examples 10 to 52 were obtained in the same manner as in Example 39.

4−クロロ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシ酢 酸 理化学的性状 l)融点 139〜140℃ 2)元素分析値 (c zsHx4No 5C1として)C(%) H(%)  N(%) 理論値 66.15 5゜33 3.09実験値 66.01 5J4 3.1 6原料化合物;実施例25の化合物 4−ニトロ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシ酢 酸 理化学的性状 1)融点 168〜170℃ 2)元素分析値 (Ct、Ht、NtQ□ として)C(%) H(%) N( %) 理論値 64.65° 5.21 6.03実験値 64.47 5.29 5 .89原料化合物:実施例26の化合物 酸 理化学的性状 l)融点 135〜137℃ 2)元素分析値 (C*sH□No、として)C(%) H(%) N(%) 計算値 71.5g 6.01 3,34実測値 71.54 5.98 3J 5原料化合物:実施例27の化合物 3−〔4−カルボメトキシ−3−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド 〕フェニル〕プロピオン酸理化学的性状 l)融点 218〜220℃ 2)元素分析値 (C*aHtsN Ot として)C(%) H(%) N( %) 理論値 68.42 5.95 2.85実験値 68.27 6.00 2, 9G原料化合物:実施例28の化合物 ((3−(4−クロロ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フ ェノキシ〕プロピル〕チオ〕酢酸理化学的性状 l)融点 94〜96℃ 2)元素分析値 (CzsHsoN OsS C1として)C(%) H(%)  N(%) 理論値 63.69 5.73 2.65実験値 63.54 5.78 2. 56原料化合物:実施例29の化合物 o−(N −(p−(4−フェニルブトキシ)フェニル〕カルバモイル〕フェノ キシ酢酸 理化学的性状 り融点 150〜152℃ 2)元素分析値 (C!sHtsN Os として)C(%) H(%) N( %) 理論値 71.5g 6.01 3.34実験値 ?1.41 6,12 3. 43原料化合物:実施例30の化合物 ル〕ヘキサン酸 理化学的性状 l)融点 125〜127℃ 2)元素分’F値 (CtsHs+NO4として)C(%) H(%) N(% ) 計W (i 75 、79 7 、24 :a 、 O5実測値 75.61  7.27 3.01原料化合物:実施例33の化合物 ニル〕プロピオン酸 理化学的性状 工)融点 161〜163°C 2)元素分析値 (C□H*5NOs として)C(%) H(%) N(%) 計算値 71.58 6.01 3J4゛欠測値 71.49 B、05 3. SQ原料化合物:実施例35の化合物 4−アミノ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシ酢 酸 理化学的性状 l)融点 178〜tao℃ 2)元素分析値 (C25H28N to s として)N(%) 計算値 6.45 実測値 6.32 原料化合物:実施例38の化合物 酢酸 理化学的性状 1)油状物 2)元素分析値 (CzsHteOs として)C(%) H(%) 理論値 73.78 6.45 実験値 73.65 6.47 原料化合物:実施例31の化合物 ニルコグリシン 理化学的性状 ■)融点 135〜137°C 2)元素分析値 (CzsHt7NOsS として)C(%) H(%) N( %) S(%)理論値 71.23 6.46 3.32 7.61実験値 7 1.OL 6.43 3.32 7.7.3原料化合物:実施例32の化合物 ルブトキシ)スチリル〕フェノキシ酢酸を得た。但し、再結晶の代わりにシリカ ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液=クロロホルム:メタノール(12:  1 ))で精製した。4-chloro-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide) phenoxy vinegar acid physical and chemical properties l) Melting point: 139-140℃ 2) Elemental analysis value (as czsHx4No5C1) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 66.15 5゜33 3.09 Experimental value 66.01 5J4 3.1 6 Raw material compound; Compound of Example 25 4-nitro-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide) phenoxy vinegar acid physical and chemical properties 1) Melting point: 168-170℃ 2) Elemental analysis values (as Ct, Ht, NtQ□) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 64.65° 5.21 6.03 Experimental value 64.47 5.29 5 .. 89 Raw material compound: Compound of Example 26 acid physical and chemical properties l) Melting point: 135-137℃ 2) Elemental analysis value (as C*sH□No) C (%) H (%) N (%) Calculated value 71.5g 6.01 3,34 Actual value 71.54 5.98 3J 5 Raw material compound: Compound of Example 27 3-[4-carbomethoxy-3-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide) [Phenyl]propionic acid physicochemical properties l) Melting point: 218-220℃ 2) Elemental analysis value (as C*aHtsN Ot) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 68.42 5.95 2.85 Experimental value 68.27 6.00 2, 9G raw material compound: Compound of Example 28 ((3-(4-chloro-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide) Physical and chemical properties of phenoxy[propyl]thio]acetic acid l) Melting point: 94-96℃ 2) Elemental analysis value (as CzsHsoN OsS C1) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 63.69 5.73 2.65 Experimental value 63.54 5.78 2. 56 Raw material compound: Compound of Example 29 o-(N-(p-(4-phenylbutoxy)phenyl]carbamoyl]pheno xyacetic acid physical and chemical properties Melting point: 150-152℃ 2) Elemental analysis value (as C!sHtsN Os) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 71.5g 6.01 3.34 Experimental value? 1.41 6, 12 3. 43 Raw material compound: Compound of Example 30 ]hexanoic acid physical and chemical properties l) Melting point: 125-127℃ 2) Elemental content’F value (as CtsHs+NO4) C (%) H (%) N (% ) Total W (i 75, 79 7, 24:a, O5 actual value 75.61 7.27 3.01 Raw material compound: Compound of Example 33 propionic acid physical and chemical properties Engineering) Melting point: 161-163°C 2) Elemental analysis values (as C□H*5NOs) C (%) H (%) N (%) Calculated value 71.58 6.01 3J4 Missing value 71.49 B, 05 3. SQ raw material compound: Compound of Example 35 4-amino-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide) phenoxy vinegar acid physical and chemical properties l) Melting point: 178~tao℃ 2) Elemental analysis value (as C25H28N tos) N (%) Calculated value 6.45 Actual value 6.32 Raw material compound: Compound of Example 38 acetic acid physical and chemical properties 1) Oily substance 2) Elemental analysis value (as CzsHteOs) C (%) H (%) Theoretical value 73.78 6.45 Experimental value 73.65 6.47 Raw material compound: Compound of Example 31 nilcoglycine physical and chemical properties ■) Melting point: 135-137°C 2) Elemental analysis values (as CzsHt7NOsS) C (%) H (%) N ( %) S (%) Theoretical value 71.23 6.46 3.32 7.61 Experimental value 7 1. OL 6.43 3.32 7.7.3 Raw material compound: Compound of Example 32 (rubutoxy)styryl]phenoxyacetic acid was obtained. However, instead of recrystallization, silica Gel column chromatography (eluent = chloroform:methanol (12: 1)).

理化学的性状 l)油状物 2)核磁気共鳴スペクトル (CD CIs中、TMS内部標準、 ppm)1 、7〜1.9(4H)、2.6〜2.8(2H)、3.63(s 、 3H)  、 3..9〜4.1.(2H)、4.60,4.74(それぞれS2合わせて 2H)、5.35(ブロード、lI20で消失)、6.6〜7.8(14H) o−(o−(4−フェニルブトキシ)スチリル〕フェノキシ酢酸理化学的性状 1)油状物 2)核磁気共鳴スペクトル (CD C1,中、TMS内部標準、 ppm)1 .7〜2.0(4H)、2.6〜2.8(2H)、3.9〜4.1(2B)、4 .54及び4.69(それぞれS2合わせて2H)、6.1(ブロード、 Dt Oで消失)、6.6〜7.7(15H)原料化合物:実施例37の化合物 参考例26 3−ヒドロキシ−4−二トロ桂皮酸エチル3.32gをテトラヒドロフラン30 m1.エタノール130m1に溶解し、10%パラジウム−炭素100mgを加 え、常圧水素雰囲気下水素の吸収が止むまで攪拌する。physical and chemical properties l) Oily substance 2) Nuclear magnetic resonance spectrum (CD in CIs, TMS internal standard, ppm) 1 , 7-1.9 (4H), 2.6-2.8 (2H), 3.63 (s, 3H) , 3. .. 9-4.1. (2H), 4.60, 4.74 (each combined with S2) 2H), 5.35 (broad, disappears at lI20), 6.6-7.8 (14H) Physical and chemical properties of o-(o-(4-phenylbutoxy)styryl)phenoxyacetic acid 1) Oily substance 2) Nuclear magnetic resonance spectrum (CD C1, medium, TMS internal standard, ppm) 1 .. 7-2.0 (4H), 2.6-2.8 (2H), 3.9-4.1 (2B), 4 .. 54 and 4.69 (each S2 combined 2H), 6.1 (broad, Dt Disappeared with O), 6.6-7.7 (15H) Raw material compound: Compound of Example 37 Reference example 26 3.32 g of ethyl 3-hydroxy-4-nitrocinnamate was dissolved in 30 g of tetrahydrofuran. m1. Dissolve in 130ml of ethanol and add 100mg of 10% palladium-carbon. Then, stir under a normal pressure hydrogen atmosphere until hydrogen absorption stops.

触媒を吸引ヂ取し、を液を減圧下a縮して粗製のエチル 4−アミノ−3−ヒド ロキシベンゼンプロピオネート3.lOgを得る。The catalyst was taken out by suction, and the liquid was condensed under reduced pressure to obtain crude ethyl 4-amino-3-hydride. Roxybenzene propionate 3. Obtain lOg.

1)油状物 2)核磁気共鳴スペクトル (CD C13中、TMS内部標準、ppm)1. 22(3H,t)、2.4〜2.8(28)、3.5〜3.8(2H)、4.  to(211,4)、6.60(3H)p−(4−フェニルブトキシ)安息番a 1.41.gのメチレンクロライド35m1の溶液にN、N−ジメチルホルムア ミドを1滴加え、水冷下オキザリルクロライド1.5mtを加え、30分間攪拌 し、室温で更に1時間攪拌する。反応液を減圧下濃縮し、粗製の1)−(4−フ ェニルブトキシ)ベンゾイルクロライドを得る。これをメチレンクロライド15 m1に溶解し、エチル 3−アミノ−4−ヒドロキシベンゾニー)0.93gの ピリジン8ml、メチレンクロライド10m1の溶液に水冷下加え、1.5時間 攪拌する。反応混合物を0℃の10%塩酸に注ぎ、生成物を酢酸エチルにて抽出 する。酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗 い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮する。得られた結晶性残渣をヘ キサン−酢酸エチルから再結晶して1.47gのエチル 3−ヒドロキシ−4− (p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕ベンゾエートを得る。1) Oily substance 2) Nuclear magnetic resonance spectrum (in CD C13, TMS internal standard, ppm) 1. 22 (3H, t), 2.4-2.8 (28), 3.5-3.8 (2H), 4.  to(211,4), 6.60(3H) p-(4-phenylbutoxy) rest number a 1.41. N,N-dimethylforma was added to a solution of 35 ml of methylene chloride. Add 1 drop of Mido, add 1.5 mt of oxalyl chloride under water cooling, and stir for 30 minutes. and stir for an additional hour at room temperature. The reaction solution was concentrated under reduced pressure to obtain the crude 1)-(4-phthalate). phenylbutoxy)benzoyl chloride is obtained. Add this to methylene chloride 15 0.93 g of ethyl 3-amino-4-hydroxybenzony) dissolved in Added to a solution of 8 ml of pyridine and 10 ml of methylene chloride under water cooling for 1.5 hours. Stir. The reaction mixture was poured into 10% hydrochloric acid at 0°C, and the product was extracted with ethyl acetate. do. The ethyl acetate layer was washed sequentially with saturated aqueous sodium bicarbonate solution, water, and saturated brine. The solution is dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained crystalline residue is Recrystallized from xane-ethyl acetate to yield 1.47 g of ethyl 3-hydroxy-4- (p-(4-phenylbutoxy)benzamide)benzoate is obtained.

■)融点 156〜158℃ 2)元素分析値 (CzaHt7N Os として)C(%) H(%) N( %) 計算値 72.04 6.28 3.24実験値 71.97 6,26 3. 16以下同様の方法で参考例28〜36の化合物を得た。■) Melting point: 156-158℃ 2) Elemental analysis values (as CzaHt7N Os) C (%) H (%) N ( %) Calculated value 72.04 6.28 3.24 Experimental value 71.97 6,26 3. Compounds of Reference Examples 28 to 36 were obtained in the same manner as below.

5゛−ブロモ−2°−ヒドロキシ−4−(4−フェニルブトキシ)ベンズアニリ ド り融点 145〜147℃ 2)元素分析値 (C*3Hz2N O3B r として)C(%) H(%)  N(%) Br(%)理論値 62,74 5.04 3.18 18.13 実験値 62.5? 5.01 3.05 18.21B r COC1 2”−ヒドロキシ−4−(4−フェニルブトキシ)−5°−フェニルスルホニル オキシベンズアニリド 融点 169〜171℃ 元素分析値 (CzsH*、N0aS として)C(%) H(%) N(%)  S(%)理論値 67.29 5.26 2.71 6.205°−エチル− 2°−ヒドロキシ−4−(4−フェニルブトキシ)ベンズアニリド 融点 122〜124℃ 元素分析値 (CzsH!?N Ox として)C(%) H(%) N(%) 理論値 77.09 6.99 3.60実験値 ??、Go ?、14 3. 622°−ヒドロキシ−4−(4−フェニルブトキシ)−5°−プロピルベンズ アニリド 1)融点 125〜128℃ 2)元素分析値 (CtsHtsN Os として)C(%) H(%) N( %) 理論値 77.39 7.24 3.47実験値 ??、55 7.24 3. 44 ・5゛−シアノ−2゛−ヒドロキシ−4−(4−フェニルブトキシ)ベン ズアニリド l)融点 133〜154℃ 2)元素分析値 (Cz4Ht2N tOs として)C(%) H(%) N (%) 理論値 ?4.59 5.73 7.25実験値 74.69 5.79 7. 21エチル 4−ヒドロキシ−3−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミ ド〕フェニルアセテート l)油状物 2)核磁気共鳴スペクトル (CD C13中、TMS内部FFJ 孕、ppm )1.23(3H,t)、1.7〜2.0(4H)、2.6〜2.8(2H)、 3.45(2H,s)、3.9〜4.2(21i)、4.08(2H,q)、6 .8〜8.2(12H)CH:C00C:H+ COCl エチル 3−ヒドロキシ−4−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドラ ベンゾエート 1)融点 148〜149°C 2)元素分析fia (C211827N Os として)C(%) H(%)  N(%) 理論値 ?2.04 6.28 3.23実験値 71.81 6.31 3. 602゛−ヒドロキシ−5°−イソプロピル−4−(4−フェニルブトキシ)ベ ンズアニリド l)融点 105〜107°C 2)元素分升陳 (C28HteN O3として)C(%) H(%) N(% ) 理論値 77.39 7.24 3.47実験@ 77.47 7.23 34 5CH(CHlh COCl エチル 3−〔3−ヒドロキシ−4−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズア ミド〕フェニル〕プロピオネートl)融点 105〜107°C 2)元素分析値 (CtsHsrN Os として)C(%) H(%) N( %) 理論値 72.86 6.77 3.03実験値 72,71 6,81 2. 91参考例37 4−ヒドロキシ−3−ニトロベンズアルデヒド8 g、1.3−7’ロパンジオ 一ル16g、触媒量のピリジニウム パラトルエンスルホン酸及びトルエン25 0m1の混液を加熱還流下に共沸脱水をする。反応液を冷却し、水洗し無水FM 酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残留物をトルエン−〇−ヘキサンより 再結晶し、4−(1,3−ジオキサン−2−イル)−2−二トロフェノール9. 2gを得た。5'-Bromo-2'-hydroxy-4-(4-phenylbutoxy)benzanili de Melting point: 145-147℃ 2) Elemental analysis value (as C*3Hz2N O3Br) C (%) H (%) N (%) Br (%) Theoretical value 62,74 5.04 3.18 18.13 Experimental value 62.5? 5.01 3.05 18.21B r COC1 2”-hydroxy-4-(4-phenylbutoxy)-5°-phenylsulfonyl oxybenzanilide Melting point: 169-171℃ Elemental analysis value (as CzsH*, N0aS) C (%) H (%) N (%) S (%) theoretical value 67.29 5.26 2.71 6.205°-ethyl- 2°-Hydroxy-4-(4-phenylbutoxy)benzanilide Melting point: 122-124℃ Elemental analysis value (as CzsH!?N Ox) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 77.09 6.99 3.60 Experimental value? ? , Go? , 14 3. 622°-hydroxy-4-(4-phenylbutoxy)-5°-propylbenz Anilide 1) Melting point: 125-128℃ 2) Elemental analysis value (as CtsHtsN Os) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 77.39 7.24 3.47 Experimental value? ? , 55 7.24 3. 44・5′-cyano-2′-hydroxy-4-(4-phenylbutoxy)ben Zuanilide l) Melting point: 133-154℃ 2) Elemental analysis value (as Cz4Ht2N tOs) C (%) H (%) N (%) Theoretical value ? 4.59 5.73 7.25 Experimental value 74.69 5.79 7. 21 Ethyl 4-hydroxy-3-(p-(4-phenylbutoxy)benzami [Do] Phenyl acetate l) Oily substance 2) Nuclear magnetic resonance spectrum (CD C13, TMS internal FFJ, ppm ) 1.23 (3H, t), 1.7-2.0 (4H), 2.6-2.8 (2H), 3.45 (2H, s), 3.9-4.2 (21i), 4.08 (2H, q), 6 .. 8-8.2 (12H) CH:C00C:H+ COCl Ethyl 3-hydroxy-4-(p-(4-phenylbutoxy)benzamidera) benzoate 1) Melting point: 148-149°C 2) Elemental analysis fia (as C211827N Os) C (%) H (%) N (%) Theoretical value ? 2.04 6.28 3.23 Experimental value 71.81 6.31 3. 602゛-Hydroxy-5゜-isopropyl-4-(4-phenylbutoxy) base nzanilide l) Melting point: 105-107°C 2) Elemental division (as C28HteN O3) C (%) H (%) N (% ) Theoretical value 77.39 7.24 3.47 Experiment @ 77.47 7.23 34 5CH (CHlh COCl Ethyl 3-[3-hydroxy-4-(p-(4-phenylbutoxy)benza Mido]phenyl]propionate l) Melting point: 105-107°C 2) Elemental analysis values (as CtsHsrN Os) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 72.86 6.77 3.03 Experimental value 72,71 6,81 2. 91 Reference example 37 4-hydroxy-3-nitrobenzaldehyde 8 g, 1.3-7' lopandio 16 g, catalytic amount of pyridinium para-toluenesulfonic acid and 25 toluene 0 ml of the mixed liquid is subjected to azeotropic dehydration under heating and reflux. The reaction solution was cooled, washed with water, and anhydrous FM Dry with magnesium acid and concentrate under reduced pressure. The residue was extracted from toluene-〇-hexane. Recrystallize to give 4-(1,3-dioxan-2-yl)-2-nitrophenol9. 2g was obtained.

l)融点 70〜71℃ 参考例38 4°−ヒドロキシ−3゛−ニトロアセトフェノン3gを出発原料として、参考例 37と同様に処理し、4−(1−メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−2 −ニトロフェノール2.8gを得た。l) Melting point 70-71℃ Reference example 38 Reference example using 3 g of 4°-hydroxy-3′-nitroacetophenone as a starting material 4-(1-methyl-1,3-dioxan-2-yl)-2 -2.8 g of nitrophenol were obtained.

1)融点 109〜111℃ 参考例39 参考例37で得た 4−(1,3−ジオキサン−2−イル)−2−二トロフェノ ール4gをテトラヒドロフラン50m1に溶解し、10%パラジウム−炭素0. 5gの存在下、室温常圧で水素の吸収が止むまで接触還元する。触媒をヂ去し、 母液にピリジン5+nlを加え、−20℃以下に冷却する。この混液に p−( 4−フェニルブトキシ)安息香酸4.8gより参考例27に従って調製し1こ、 p−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイル クロライドを加える。室温で2時間 攪拌し、酢酸エチル200m1を加え、希塩酸、水、精成酸水素ナト・リウム水 溶液、水で順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して 5°−( 1,3−ジオキサン−2−イル)−2°−ヒドロキシ−(4−フェニルブトキシ )ベンズアニリド7.5gを得た。1) Melting point: 109-111℃ Reference example 39 4-(1,3-dioxan-2-yl)-2-nitropheno obtained in Reference Example 37 4 g of alcohol was dissolved in 50 ml of tetrahydrofuran, and 10% palladium-carbon was added. Catalytic reduction is carried out in the presence of 5 g at room temperature and normal pressure until hydrogen absorption stops. remove the catalyst, Add 5+nl of pyridine to the mother liquor and cool to below -20°C. Add p-( 1 prepared according to Reference Example 27 from 4.8 g of 4-phenylbutoxy)benzoic acid, Add p-(4-phenylbutoxy)benzoyl chloride. 2 hours at room temperature Stir, add 200 ml of ethyl acetate, dilute hydrochloric acid, water, and purified sodium/lium hydrogen oxide water. The solution was washed sequentially with water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give 5°-( 1,3-dioxan-2-yl)-2°-hydroxy-(4-phenylbutoxy ) 7.5 g of benzanilide was obtained.

■)融点 122〜123℃ 2)元素分析値 (e *7HtsHOs として)C(%) H(%) N( %) 計算値 72.46 ’ 6.53 3.13実験値 ?2.50 6.60  3.06参考例40 参考例38で得た 4−(l−メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−2− 二トロフェノール1.5gを出発原料とし参考例39と同様に処理して 5°− アセチル−2゛−ヒドロキシ−(4−フェニルブトキシ)ベンズアニリド2.5 gを得た。■) Melting point: 122-123℃ 2) Elemental analysis values (e *7HtsHOs) C (%) H (%) N ( %) Calculated value 72.46' 6.53 3.13 Experimental value? 2.50 6.60 3.06 Reference example 40 4-(l-methyl-1,3-dioxan-2-yl)-2- obtained in Reference Example 38 5°- Acetyl-2'-hydroxy-(4-phenylbutoxy)benzanilide 2.5 I got g.

l)融点 134〜135°C 2)元素分析値 (CtsHtsH04として)C(%) H(%) N(%) 計算値 ?4.42 6.25 3.47実験値 74.20 6.27 3. 43参考例41 参考例39で得f二 5”(IJ−ジオキサン−2−イル)−2’−ヒドロキシ −(4−フェニルブトキシ)ベンズアニリド7.5g、エチル ブロモアセテー ト2.97g、無水炭酸カリウム2.7g、触媒量のテトラ n−ブチルアンモ ニウムブロマイド、2−ブタン100m1の混液を60〜65℃で6時間攪拌す る。反応液にトルエン300m1を加え、希水酸化ナトリウム水溶液で洗い、水 洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して エチル 4−(1,3− ジオキサン−2−イル)−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕 フェノキシアセテート8.69gを得た。l) Melting point: 134-135°C 2) Elemental analysis values (as CtsHtsH04) C (%) H (%) N (%) Calculated value ? 4.42 6.25 3.47 Experimental value 74.20 6.27 3. 43 Reference example 41 f25''(IJ-dioxan-2-yl)-2'-hydroxy obtained in Reference Example 39 -(4-phenylbutoxy)benzanilide 7.5g, ethyl bromoacetate 2.97 g of anhydrous potassium carbonate, 2.7 g of anhydrous potassium carbonate, and a catalytic amount of tetra-n-butylammonium Stir a mixture of nium bromide and 100ml of 2-butane at 60-65℃ for 6 hours. Ru. Add 300ml of toluene to the reaction solution, wash with dilute aqueous sodium hydroxide solution, and add water. Washed, dried over anhydrous magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure to obtain ethyl 4-(1,3- dioxan-2-yl)-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide] 8.69 g of phenoxy acetate was obtained.

1)融点 736C 2)元素分析値 (Cs+HisNOy として)C(%) H(%) N(% ) 計算値 69.78 6.61 2.62実験値 89.68 6.58 2. 49参考例42 参考例29で得た 2′−ヒドロキシ−4−(4−フェニルブトキシ)−5°− フェニルスルホニルオキシベンズアニリド0.80gを出発原料として参考例4 1と同様に処理して、エチル 2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミ ドツー4−フェニルスルホニルオキシフェノキシアセテート0.91gを得た。1) Melting point 736C 2) Elemental analysis values (as Cs+HisNOy) C (%) H (%) N (% ) Calculated value 69.78 6.61 2.62 Experimental value 89.68 6.58 2. 49 Reference example 42 2'-hydroxy-4-(4-phenylbutoxy)-5°- obtained in Reference Example 29 Reference example 4 using 0.80 g of phenylsulfonyloxybenzanilide as a starting material Treat in the same manner as in 1 to obtain ethyl 2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide). 0.91 g of Dotsu 4-phenylsulfonyloxyphenoxy acetate was obtained.

C(%) H(%) N(%) S(%)計算値 85.66 5.51 2. 32 5.31実験値 65.45 5.45 2.23 5.48参考例43 エチル 4−ヒドロキシインダン−1−オン−2−アセテート2.27gとp− へブチルオキシベンジルクロライド2.10g、炭酸カリウム2.0Hgを2− ブタノン15m1中で一夜加熱還流する。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで 生成物を抽出する。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗い無水硫酸マグネシ ウム上で乾燥する。揮発性物質を減圧下除去し得られる残渣をシリカゲルカラム クロマトグラフィー(溶出液 トルエン−酢酸エチル(20: 1 ))で精製 するとエチル 4−(p−へブチルオキシベンジルオキシ)インダン−1−オン −2−アセテート2.17gが得られる。C (%) H (%) N (%) S (%) Calculated value 85.66 5.51 2. 32 5.31 Experimental value 65.45 5.45 2.23 5.48 Reference example 43 Ethyl 4-hydroxyindan-1-one-2-acetate 2.27g and p- 2.10 g of hebutyloxybenzyl chloride, 2.0 Hg of potassium carbonate Heat to reflux in 15 ml of butanone overnight. Add water to the reaction mixture and dilute with ethyl acetate. Extract the product. The ethyl acetate layer was sequentially washed with water and saturated saline and dissolved in anhydrous magnesium sulfate. Dry on a rack. Volatile substances were removed under reduced pressure and the resulting residue was transferred to a silica gel column. Purification by chromatography (eluent: toluene-ethyl acetate (20:1)) Then ethyl 4-(p-hebutyloxybenzyloxy)indan-1-one 2.17 g of -2-acetate are obtained.

1)油状物 2)核磁気共鳴スペクトル (CD C1,中、TMS内部標準、 ppm)0 .8〜0.95(3H)、1.21(3H,t)、1.2〜1.4(8H)、1 .7〜1.9(2)り、2.3〜3゜1(41) 、 L 44(LH,dd)  、 3.96(2H,t) 、 4.14(2H,q) 、 5.08(2H ,s) 、 6.Xに2L d)、?、’0〜7.4(5H) 参考例44 p−へブチルオキシ安息香酸730Dをメチレンクロライド5mlに溶解し、N 、N−ジメチルホルムアミドlOμl、オキザリルクロライド410μlを加え 1時間攪拌する。反応混合物を減圧下濃縮すると粗p−へブチルオキシベンゾイ ルクロライドが得られる。3−(m−アミノフェニル)プロピオニトリル380 mgのピリジン1.5m1.メチレンクロライド4ml溶液に、−30℃で上記 のp−へプチル才キシベンゾイルクロライドの2ml溶液を滴下する。徐々に室 温とし3時間攪拌する。水を加え酢酸エチルで生成物を抽出する。酢酸エチル層 を5%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水、水、飽和食塩水で順次水洗い、無水硫 酸マグネシウム上で乾燥し、減圧上濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマト グラフィー(溶出液 トルエン−酢酸エチル(to: 1 ))で精製すると、 3− Cm −((p−ヘプチルオキシ)ベンズアミド〕フエ、=ル〕プロピオ ニトリル830mgを得る。1) Oily substance 2) Nuclear magnetic resonance spectrum (CD C1, medium, TMS internal standard, ppm) 0 .. 8-0.95 (3H), 1.21 (3H, t), 1.2-1.4 (8H), 1 .. 7-1.9 (2), 2.3-3゜1 (41), L 44 (LH, dd) , 3.96 (2H, t), 4.14 (2H, q), 5.08 (2H , s), 6. 2L for X d),? ,'0~7.4 (5H) Reference example 44 Dissolve p-hebutyloxybenzoic acid 730D in 5 ml of methylene chloride, add N Add 10 μl of N-dimethylformamide and 410 μl of oxalyl chloride. Stir for 1 hour. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure to yield crude p-hebutyloxybenzoylene. Luchloride is obtained. 3-(m-aminophenyl)propionitrile 380 mg of pyridine 1.5 ml. Add the above to 4 ml of methylene chloride solution at -30°C. A 2 ml solution of p-heptyloxybenzoyl chloride is added dropwise. gradually chamber Warm and stir for 3 hours. Add water and extract the product with ethyl acetate. Ethyl acetate layer Washed sequentially with 5% hydrochloric acid, saturated sodium bicarbonate, water, and saturated saline, and anhydrous sulfur. Dry over magnesium chloride and concentrate under reduced pressure. Silica gel column chromatography of the residue When purified by graphography (eluent: toluene-ethyl acetate (to: 1)), 3- Cm -((p-heptyloxy)benzamide]hue, =ru]propio 830 mg of nitrile are obtained.

1)融点 129〜131℃ 2)核磁気共鳴スペクトル (CD CI3中、TMS内部標準、 ppm)0 .8〜1.0(3H)、1.3〜1.6(8H)、1.7〜1.9(2H)、2 .55〜2.75(2H)、2.90〜3.10(2H)、4.03(2[(、 t)、6.9〜7.9(8H)実施例53 参考例40で得た5′−アセチル−2′−ヒドロキシ−4−(4−フェニルブト キシ)ベンズアニリド2.5g、エチル ブロモアセテート1.3g、無水炭酸 カリウム1.2g、触媒量のテトラ n−ブチルアンモニウム ブロマイド、2 −ブタノン30m1の混液を60〜70℃で6時間攪拌する。反応液にトルエン 50m1を加え、希水酸化ナトリウム水溶液で洗い、水洗し、無水硫酸マグネシ ウムで乾燥し減圧濃縮する。残留物をイソプロピルアルコールより再結晶して、 エチル4−アセチル−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドシフエ ノキシアセテート2.4gを得た。1) Melting point: 129-131℃ 2) Nuclear magnetic resonance spectrum (CD in CI3, TMS internal standard, ppm) 0 .. 8-1.0 (3H), 1.3-1.6 (8H), 1.7-1.9 (2H), 2 .. 55-2.75 (2H), 2.90-3.10 (2H), 4.03 (2[(, t), 6.9-7.9 (8H) Example 53 5'-acetyl-2'-hydroxy-4-(4-phenylbutylene) obtained in Reference Example 40 xy)benzanilide 2.5g, ethyl bromoacetate 1.3g, carbonic anhydride Potassium 1.2 g, catalytic amount of tetra n-butylammonium bromide, 2 - Stir a mixture of 30 ml of butanone at 60-70° C. for 6 hours. Toluene in reaction solution Add 50ml, wash with dilute aqueous sodium hydroxide solution, rinse with water, and add anhydrous magnesium sulfate. Dry with a vacuum cleaner and concentrate under reduced pressure. The residue was recrystallized from isopropyl alcohol, Ethyl 4-acetyl-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide) 2.4 g of noxyacetate was obtained.

1)融点 105〜107℃ 2)元素分析値 (C2s H31N Oe とシテ)C(%) H(%) N (%) 計算値 ?1.15 6J8 2.86実験値 70.92 6,39 2.7 7以下同様な方法により実施例54〜63の化合物を得た。1) Melting point: 105-107℃ 2) Elemental analysis value (C2s H31N Oe and shite) C (%) H (%) N (%) Calculated value ? 1.15 6J8 2.86 Experimental value 70.92 6,39 2.7 7 Compounds of Examples 54 to 63 were obtained by the same method.

エチル 4−ブロモ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドフェノ キシアセテート 理化学的性状 1)融点 85〜86℃ 2)元素分析値 (Cx7H218N 05B r として)C(%) H(% ) N(%) 、Br(%)理論@ 61.60 5.36 2.66 15. 18実験値 61.58 5.35 2.61 15.20原料化合物:参考例 28の化合物+B r CHt COOCt Hs実施例55 理化学的性状 1)融点 58〜59℃ 2)元素分析流(CzsH31N Os として)C(%) H(%) N(% ) 理論値 73.24 6.99 2.95実験値 73.14 6.85 2. 69原料化合物:参考例30の化合物+B r CH* COOCt Hs実施 例56 エチル 2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドツー4−プロピルフ ェノキシアセテート 理化学的性状 1)融点 57〜586C 2)元素分析値 (Cs o H2S NO7として)C(%) H(%) N (%) 理論値 73,60 7.21 2.86実験値 73.47 7.39. 2 .84原料化合物:参考例31ノ化合物÷BrCH,C00CtHs実施例57 CH(CH+)z エチル 4−イソプロピル−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド 〕フェノキシアセテート 理化学的性状 l)油状物 2)元素分析値 (C30HssN Os として)C(%) H(%) N( %) 理論値 73.60 7.21 2.86実験値 73.64 7J1 2.8 2原料化合物:参考例35ノ化合物: BrCHzCOOCtHs実施例58 N エチル 4−シアノ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェ ノキシ アセテート 理化学的性状 1)融点 115〜116℃ 2)元素分析値 (C*aHtsN tOs として)C(%) H(%) N (%) 理論値 71.1? 5.97 5.93実験値 71.15 6.01 5. 85原料化合物:参考例32の化合物子B r CHt C00C* Hs実施 例59 エチル 4−エトキシカルボニルメトキシ−3−(p−(4−フェニルブトキシ )ベンズアミド〕ベンゾエート理化学的性状 l)融点 93〜94℃ 2)元素分析値 (CS。HisNOt として)C(%) H(%) N(% ) 理論値 69.35 6,40 2.70実験値 694O6,452,63 原料化合物:参考例27の化合物÷BrCHtCOOCtHs実施例60 エチル 4−エトキシカルボニルメチル−2−(p−(4−フェニルブトキシ) ベンズアミド〕フェノキシアセテート理化学的性状 1)油状物 2)元素分析値 (C3tHaaNOt として)N(%) 理論値 2.62 実験値 2.54 原料化合物:参考例33の化合物+B r CH* COOCx Hs実施例6 1 エチル 3−エトキシカルボニルメトキシ−4−(p−(4−フェニルブトキシ )ベンズアミド〕ベンゾエート理化学的性状 l)融点 113〜114℃ 2)元素分析値 (C,。Hs 3 N OV として)C(%) H(%)  N(%) 理論値 89.35 6.40 2.70実験値 69.19 6.53 2. 75原料化合物:参考例34の化合物+BrCHtCOOCzHs実施例62 エチル 5−(2−エトキシカルボニル)エチル−2−(p−(4−フェニルブ トキシ)ベンズアミド〕フェノキシアセテート理化学的性状 1)融点 86〜88℃ 2)元素分析値 (Cs*HsqN O7として)C(%) H(%) N(% ) 理論値 70.18 6.81 2.56実験値 70.19 6.87 2. 57原料化合物:参考例36の化合物÷B r CHt C00Ct HsCI エチル 4−〔4−クロロ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド 〕フェノキシブチレート 理化学的性状 l)融点 87〜88℃ 2)元素分析値 (C*sH3*N OsC1として)C(%) H(%) N (%) 理論値 68.29 6.32 2.75実験値 68.09 64O2,75 原料化合物: 実施例64 参考例41で得たエチル 4−(1,3−ジオキサン−2−イル)−2−(p− (4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシアセテート8.69gをア セトン200m1に溶解し、6%塩酸6mlを加え室 □温で2時間攪拌する。Ethyl 4-bromo-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamidephenol) xyacetate physical and chemical properties 1) Melting point: 85-86℃ 2) Elemental analysis value (as Cx7H218N 05B r) C (%) H (% ) N (%), Br (%) Theory @ 61.60 5.36 2.66 15. 18 Experimental value 61.58 5.35 2.61 15.20 Raw material compound: Reference example Compound 28 + B r CHt COOCt Hs Example 55 physical and chemical properties 1) Melting point: 58-59℃ 2) Elemental analysis flow (as CzsH31N Os) C (%) H (%) N (% ) Theoretical value 73.24 6.99 2.95 Experimental value 73.14 6.85 2. 69 raw material compound: Compound of Reference Example 30 + B r CH * COOCt Hs implementation Example 56 Ethyl 2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide-4-propylph phenoxy acetate physical and chemical properties 1) Melting point: 57-586C 2) Elemental analysis value (as Cs o H2S NO7) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 73,60 7.21 2.86 Experimental value 73.47 7.39. 2 .. 84 Raw material compound: Reference example 31 compound ÷ BrCH, C00CtHs Example 57 CH(CH+)z Ethyl 4-isopropyl-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide ]Phenoxy acetate physical and chemical properties l) Oily substance 2) Elemental analysis values (as C30HssN Os) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 73.60 7.21 2.86 Experimental value 73.64 7J1 2.8 2 Raw material compound: Reference example 35 Compound: BrCHzCOOCtHs Example 58 N Ethyl 4-cyano-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide)phene Noxy acetate physical and chemical properties 1) Melting point: 115-116℃ 2) Elemental analysis value (as C*aHtsN tOs) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 71.1? 5.97 5.93 Experimental value 71.15 6.01 5. 85 raw material compound: Compound B r CHt C00C* Hs implementation of Reference Example 32 Example 59 Ethyl 4-ethoxycarbonylmethoxy-3-(p-(4-phenylbutoxy) ) Benzamide] benzoate physicochemical properties l) Melting point: 93-94°C 2) Elemental analysis values (CS.HisNOt) C (%) H (%) N (% ) Theoretical value 69.35 6,40 2.70 Experimental value 694O6,452,63 Raw material compound: Compound of Reference Example 27 ÷ BrCHtCOOCtHs Example 60 Ethyl 4-ethoxycarbonylmethyl-2-(p-(4-phenylbutoxy) Benzamide] phenoxy acetate physical and chemical properties 1) Oily substance 2) Elemental analysis value (as C3tHaaNOt) N (%) Theoretical value 2.62 Experimental value 2.54 Raw material compound: Compound of Reference Example 33 + B r CH * COOCx Hs Example 6 1 Ethyl 3-ethoxycarbonylmethoxy-4-(p-(4-phenylbutoxy) ) Benzamide] benzoate physicochemical properties l) Melting point: 113-114℃ 2) Elemental analysis value (C,.Hs 3N OV) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 89.35 6.40 2.70 Experimental value 69.19 6.53 2. 75 Raw material compound: Compound of Reference Example 34 + BrCHtCOOCzHs Example 62 Ethyl 5-(2-ethoxycarbonyl)ethyl-2-(p-(4-phenylbutylene) Toxi)benzamide] phenoxyacetate physical and chemical properties 1) Melting point: 86-88℃ 2) Elemental analysis values (as Cs*HsqN O7) C (%) H (%) N (% ) Theoretical value 70.18 6.81 2.56 Experimental value 70.19 6.87 2. 57 raw material compound: Compound of Reference Example 36 ÷ B r CHt C00Ct HsCI Ethyl 4-[4-chloro-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide) ]Phenoxybutyrate physical and chemical properties l) Melting point: 87-88℃ 2) Elemental analysis value (C*sH3*N as OsC1) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 68.29 6.32 2.75 Experimental value 68.09 64O2,75 Raw material compound: Example 64 Ethyl 4-(1,3-dioxan-2-yl)-2-(p- (4-phenylbutoxy)benzamide] 8.69 g of phenoxy acetate was added to the Dissolve in 200 ml of setone, add 6 ml of 6% hydrochloric acid, and stir at room temperature for 2 hours.

水30m1を加え、冷却し、析出した結晶を炉取し、50%アセトンで洗い、エ チル 4−ホルミル−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェ ノキシアセテ−) 6.0gを得た。Add 30ml of water, cool, remove the precipitated crystals, wash with 50% acetone, and evaporate. Chil 4-formyl-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide)phene 6.0 g of Noxyacetate was obtained.

l)融点 109〜110℃ 2)元素分析値 (C2sH29N Oa として)C(%)■((%) N( %) 計算値 70.72 6.13 2.93実験(1“α 70.77 6.05  2.93実施例64で得たエチル 4−ホルミル−2−(p−(4−フェニル ブトキシ)ベンズアミドシフエノキシアセテート2.8g、エタノール30m1 の混液に水冷下、水素化ホウ素ナトリウ1.0.2gを加える。l) Melting point 109-110℃ 2) Elemental analysis value (as C2sH29N Oa) C (%) ■ ((%) N ( %) Calculated value 70.72 6.13 2.93 Experimental (1"α 70.77 6.05 2.93 Ethyl 4-formyl-2-(p-(4-phenyl) obtained in Example 64 butoxy)benzamidocyphenoxy acetate 2.8g, ethanol 30ml Add 1.0.2 g of sodium borohydride to the mixed solution while cooling with water.

室温で2時間攪拌し、酢酸エチル50m1を加え希塩酸で酸性とする。Stir at room temperature for 2 hours, add 50 ml of ethyl acetate, and acidify with dilute hydrochloric acid.

酢酸エチル層を分取し、水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮する。The ethyl acetate layer is separated, washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure.

残留物をエタノールで再結晶し エチル 4−ヒドロキシメチル−2−(p−( 4−フェニルブトキシ)ベンズアミドシフエノキシアセテート2.06gを得几 。The residue was recrystallized from ethanol to give ethyl 4-hydroxymethyl-2-(p-( Obtained 2.06 g of 4-phenylbutoxy)benzamidocyphenoxy acetate. .

■)融点 101〜104°C 2)元素分析値 (C2a H31NOa として)C(%) H(%) N( %) 計算(直 70.42 6.54 2.93実験値 70.25 6.51 2 .85実施例6ロ ーフエニルブトキシ)ベンズアミドシフエノキシアセテート1g。■) Melting point: 101-104°C 2) Elemental analysis values (as C2a H31NOa) C (%) H (%) N ( %) Calculation (Direct 70.42 6.54 2.93 Experimental value 70.25 6.51 2 .. 85 Example 6b -phenylbutoxy)benzamidocyphenoxy acetate 1 g.

ベンゼン20m1.メチレンクロライド20m1の溶液に水冷下260mgの塩 化チオニルを加える。室温で30分間攪拌し、トルエン60m1を加え、冷水で 洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残留物をトルエン−n− ヘキサンで再結晶し、エチル 4−クロロメチル−2−(p−(4−フェニルブ トキシ)ベンズアミドシフエノキシアセテート0.76gを得た。Benzene 20ml1. Add 260 mg of salt to a solution of 20 ml of methylene chloride under water cooling. Add thionyl chloride. Stir for 30 minutes at room temperature, add 60ml of toluene, and rinse with cold water. Wash, dry over anhydrous magnesium sulfate, and concentrate under reduced pressure. The residue was dissolved in toluene-n- Recrystallize from hexane to give ethyl 4-chloromethyl-2-(p-(4-phenylbutylene) 0.76 g of benzamide siphenoxy acetate was obtained.

l)融点 115〜117℃ 2)元素分析値 (C26H3゜N Os C! として)C(%) H(%)  N(%) CI(%)計算値 67.80 6.10 2.82 7.15実 験値 67.87 6.13 2.797.27実施例67 ニルブトキシ)ベンズアミドシフエノキシアセテート200mg、エチル チオ アセテート50mg 、無水炭酸カリウム60mg、 N 、 N−ジメチルホ ルムアミド5mlの混液を室温で1時間攪拌する、トルエン20m1を加え、水 洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮す(シリカゲルニ30ffll )、トルエン−酢酸エチル(9:1)の混液で溶出し、エチル 4−〔(エトキ シカルボニルチオ)メチル)−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミ ドシフエノキシアセテート170mgを得fこ。l) Melting point: 115-117℃ 2) Elemental analysis value (as C26H3゜N Os C!) C (%) H (%) N (%) CI (%) Calculated value 67.80 6.10 2.82 7.15 Actual Experimental value 67.87 6.13 2.797.27 Example 67 nylbutoxy)benzamidocyphenoxy acetate 200mg, ethyl thio Acetate 50mg, anhydrous potassium carbonate 60mg, N, N-dimethylphosate Stir a mixture of 5 ml of Lumamide at room temperature for 1 hour, add 20 ml of toluene, and add water. Wash, dry with anhydrous magnesium sulfate, and concentrate under reduced pressure (30 ffll of silica gel). ), eluted with a mixture of toluene and ethyl acetate (9:1), and ethyl 4-[(ethyl (cycarbonylthio)methyl)-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzami Obtain 170 mg of dosiphenoxy acetate.

1)融点 56〜57°C 2)元素分析値 (C32H!?N O?S として)C(%) H(%) N (%) 計算値 66.30 6.43 2.42実験値 66.04 6.43 2. 31実施例68 ズアミド〕フェノキシアセテート 塩酸塩200mg、ピリジン3mlの混液に 蟻酸−無水酢酸(3: 5 v/v)の混液1mlを加え室温で終夜攪拌する。1) Melting point: 56-57°C 2) Elemental analysis value (as C32H!?N O?S) C (%) H (%) N (%) Calculated value 66.30 6.43 2.42 Experimental value 66.04 6.43 2. 31 Example 68 Zuamide] phenoxy acetate hydrochloride 200mg, pyridine 3ml mixture Add 1 ml of a mixture of formic acid and acetic anhydride (3:5 v/v) and stir at room temperature overnight.

反応液に酢酸エチル40m1を加え、希塩酸で酸性とし分液する。酢酸エチル層 を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧aMす°る。残留物をイソプロピ ルアルコールで再結晶し、エチル 4−ホルミルアミド−2−(p−(4−フェ ニルブトキシ)ベンズアミドシフエノキシアセテート130mgを得る。Add 40 ml of ethyl acetate to the reaction solution, acidify with dilute hydrochloric acid, and separate the layers. Ethyl acetate layer The sample was washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and vacuumed. Isopropyl residue Recrystallize from alcohol to obtain ethyl 4-formylamide-2-(p-(4-phenylated) 130 mg of nylbutoxy)benzamide siphenoxy acetate are obtained.

1)融点 112〜114°C 2)元素分析値 (C2aH3o\20+1 として)C(%) H(%) N (%) 計算値 6g、56 6.16 j、71実験値 68.43 6.31 5. 62実施例69 エチル 4−アミノ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドシフエ ノキシアセテート 塩酸塩200mgとピリジン5mlの混液に無水酢酸1ml を水冷下加え、室温で一夜攪拌する。反応液を実施例68と同様に処理して、エ チル 4−アセトアミド−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドシ フエノキシアセテート150mgを得た。1) Melting point: 112-114°C 2) Elemental analysis values (as C2aH3o\20+1) C (%) H (%) N (%) Calculated value 6g, 56 6.16 j, 71 Experimental value 68.43 6.31 5. 62 Example 69 Ethyl 4-amino-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide) Noxyacetate Hydrochloride 200mg and pyridine 5ml mixed with acetic anhydride 1ml was added under water cooling and stirred at room temperature overnight. The reaction solution was treated in the same manner as in Example 68 to obtain Chil 4-acetamido-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamidosy) 150 mg of phenoxy acetate was obtained.

l)融点 130〜132°C 2)元素分析値 (C2983□N20. として)C(%) H(%) N( %) 計算値 69.03 6.39 5.55実験値 68.89 6.37 5. 43実施例70゜ ン40 、5mg、メチレンクロライド5mlの混液にエチル イソシアネー)  30mgを加え、室温で一夜攪拌する。反応液を実施例68と同様に処理して 、エチル 4−(3−エチルウレイド)−2−(p−(4−フェニルブトキシ) ベンズアミド〕フニノキシアセテート130mgを得た。l) Melting point: 130-132°C 2) Elemental analysis value (as C2983□N20.) C (%) H (%) N ( %) Calculated value 69.03 6.39 5.55 Experimental value 68.89 6.37 5. 43 Example 70° Ethyl isocyanate in a mixture of 40, 5 mg, and 5 ml of methylene chloride) Add 30 mg and stir at room temperature overnight. The reaction solution was treated in the same manner as in Example 68. , ethyl 4-(3-ethylureido)-2-(p-(4-phenylbutoxy) 130 mg of benzamide]funinoxy acetate was obtained.

■)融点 170〜172℃ 2)元素分析値 (C3o H3S N s Oe として)C(%) H(% ) N(%) 計算値 67.53 6.61 7.87実験値 67.59 6.63 7. 80実施例71 ズアミド〕フェノキシアセテート 塩酸塩200mg、ピリジン5mlの混液に エチル オキザリルクロライド200mg、メチレンクロライド1mlの混液を 一30℃以下で加え、室温で一夜攪拌する。反応液を実施例68と同様に処理し て、油状のエチル 4−エトキサリルアミド−2−(p−(4−フェニルブトキ シ)ベンズアミド〕フェノキシアセテート200mgを得た。■) Melting point: 170-172℃ 2) Elemental analysis value (as C3o H3S Ns Oe) C (%) H (% ) N (%) Calculated value 67.53 6.61 7.87 Experimental value 67.59 6.63 7. 80 Example 71 Zuamide] phenoxy acetate hydrochloride 200mg, pyridine 5ml mixture Add a mixture of 200 mg of ethyl oxalyl chloride and 1 ml of methylene chloride. -Add at below 30°C and stir overnight at room temperature. The reaction solution was treated in the same manner as in Example 68. and oily ethyl 4-ethoxalylamide-2-(p-(4-phenylbutoxy) c) 200 mg of benzamide] phenoxy acetate was obtained.

1)核磁気共鳴スペクトル (CD C1,、T M S内5標準、 ppm) 1、1〜1.6(m、6H) 、 1.6〜2.0(+n、4H) 、 2.5 〜2.8(m、 2H) 、 3.8〜4.1(m、 2Hj 4.1〜4.5(m、4H)、4.58(s、2H)、6.6−7.8(12H )実施例72 エチル 4−アミノ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェ ノキヅ!セテート 塩酸塩200mg、モノ−p−メトキシベンジル マロネー ト107mg、ピリジン5mlの混液に、ジシクロへキシルカルボジイミド90 mgを加え、室温で一夜攪拌する。反応液を実施例68と同様に処理したのち、 シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、トルエン−酢酸エチル(4:1) の混液で溶出しカラメル状のエチル 4−(p−メトキシベンジルオキシカルボ ニル)アセトアミド−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェ ノキシアセテートlLOmgを得た。1) Nuclear magnetic resonance spectrum (CD C1, 5 standards in TMS, ppm) 1, 1-1.6 (m, 6H), 1.6-2.0 (+n, 4H), 2.5 ~2.8 (m, 2H), 3.8~4.1 (m, 2Hj 4.1-4.5 (m, 4H), 4.58 (s, 2H), 6.6-7.8 (12H ) Example 72 Ethyl 4-amino-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide)phene Nokizu! Cetate hydrochloride 200mg, mono-p-methoxybenzyl Maloney To a mixture of 107 mg of dicyclohexyl carbodiimide and 5 ml of pyridine, add 90 mg of dicyclohexylcarbodiimide. mg and stirred overnight at room temperature. After treating the reaction solution in the same manner as in Example 68, Toluene-ethyl acetate (4:1) was subjected to silica gel column chromatography. Elute with a mixture of caramelized ethyl 4-(p-methoxybenzyloxycarboxylate) nyl)acetamido-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide]phene 1LOmg of noxyacetate was obtained.

l)核磁気共鳴スペクトル (DMSO−d、、TMS内部標準、 ppm)L 、 if!(t 、 訃) 、 1.5〜2.0(m、 41() 、 2.5 ”−2,8(m、2H) 、 3.46(s 、 2H)@、 3.72(s  。l) Nuclear magnetic resonance spectrum (DMSO-d, TMS internal standard, ppm) L , if! (t, death), 1.5-2.0 (m, 41(), 2.5 ”-2,8 (m, 2H), 3.46 (s, 2H) @, 3.72 (s) .

3H) 、 4.9〜4.2(m、 2H) 、 4.16(q、 2H) 、  4.82(s 、 2H) 、 5.06(s、 2H)@、 6.8〜8゜ 3(16FI) 実施例73 エチル 4−アミノ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェ ノキシアセテート 塩酸塩200B、エチル ブロモアセテート70.4mg、 無水炭酸カリウム114mg、N、N−ジメチルホルする。残留物をシリカゲル  カラム クロマトグラフィーに付し、トルエン−酢酸エチル(4:1)の混液 で溶出し、エチル 4−エトキシカルボニルメチルアミノ−2−(p−(4−フ ェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシアセテート140mgを得た。3H), 4.9-4.2 (m, 2H), 4.16 (q, 2H), 4.82 (s, 2H), 5.06 (s, 2H)@, 6.8~8° 3 (16FI) Example 73 Ethyl 4-amino-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide)phene Noxyacetate hydrochloride 200B, ethyl bromoacetate 70.4mg, 114 mg of anhydrous potassium carbonate, N,N-dimethylform. Silica gel residue Column: Subjected to chromatography and mixed with toluene-ethyl acetate (4:1) Elute with ethyl 4-ethoxycarbonylmethylamino-2-(p-(4-ph) 140 mg of phenylbutoxybenzamide]phenoxyacetate was obtained.

l)融点 61〜63℃ 2)元素分析値 (C31Hs * N t Oマ として)C(%) H(% ) N(%) 計算値 67.87 6.61 5.11実験値 67.74 6.56 5. 11実施例74 ルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシアセテート0.5g、メタノール5 m l、テトラヒドロフラン5n+1の混液に、1蜆定 水酸化ナトリウム水溶液を 加え、室温で2時間攪拌する。反応液に水10m1を加え、減圧濃縮して、メタ ノール、テトラヒドロフランを除く。l) Melting point 61-63℃ 2) Elemental analysis value (as C31Hs *NtOma) C (%) H (% ) N (%) Calculated value 67.87 6.61 5.11 Experimental value 67.74 6.56 5. 11 Example 74 (rubutoxy)benzamide] phenoxy acetate 0.5 g, methanol 5 m 1. Add 1 ml of aqueous sodium hydroxide solution to a mixture of 5n+1 tetrahydrofuran. Add and stir at room temperature for 2 hours. Add 10ml of water to the reaction solution, concentrate under reduced pressure, and remove methane. Excluding alcohol and tetrahydrofuran.

残留物に希塩酸を加え酸性とし、生じた結晶を炉取し、イソプロピルアルコール で再結晶して、4−アセチル−2=(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミ ド〕フェノキシ酢酸0.39gを得た。Dilute hydrochloric acid is added to the residue to make it acidic, and the resulting crystals are collected in a furnace and mixed with isopropyl alcohol. to give 4-acetyl-2=(p-(4-phenylbutoxy)benzamide). 0.39 g of phenoxyacetic acid was obtained.

l)融点 186〜188℃ 2)元素分析値 (Cx7H2?N Oe として)C(%) H(%) N( %) 計算値 70,27 5.90 3.03実験値 70.07 5.73 3. 02゜以下同様な方法により実施例75〜92の化合物を得た。l) Melting point: 186-188℃ 2) Elemental analysis value (as Cx7H2?N Oe) C (%) H (%) N ( %) Calculated value 70,27 5.90 3.03 Experimental value 70.07 5.73 3. Compounds of Examples 75 to 92 were obtained by the same method below.

4−エチル−2−Cp−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノギソ酢 酸 理化学的性状 1)融点 129〜132℃ 2)元素分析値 (Ct7H29N Os として)C(%) H(%) N( %) 理論値 72.46 6,53 3.13実験値 72.33 6.65 3. 09原料化合物:実施例55の化合物 2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドツー4−プロピルフェノキシ 酢酸 理化学的性状 1)融点 109〜112°C 2)元素分析値 (Ct a Hs lN Os として)N(%) 理論値 3.03 実験値 3.01 3)核磁気共鳴スペクトル (CD C13中、TMS内部標準、ppm)0. 90(t、3)1)、1.4〜2.0(6H)、2.4〜2.8(4H)、3. 8〜4.1(2H)。4.70(s、2tO、6,7〜7.0(4H) 、7. 0〜7.4(5tl) 、 7.8〜8.0(2H)、8.15(d、 IH)  、8.62(s、LH)、8.91(S、LH) 原料化合物;実施例56の化合物 4−イソプロピル−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノ キシ酢酸 理化学的性状 ■)融点 117〜】19°C 2)元素分析値 (C28831N Os として)C(%) H(%) N( %) 理論値 72.83 6.77 3.03実験値 73.05 6.91 3. 04原料化合物:実施例57の化合物 4−ヒドロキシ−2−[p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキ シ酢酸 理化学的性状 ■)融点 198〜199℃ 2)元素分析値 (CzsHtsN Oa として)C(%) H(%) S( %) 理論値 6g、95 5.79 3.22実験値 69.01 5.99 3. 13原料化合物:参考例42の化合物 4−ホルムアミド−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノ キシ酢酸 理化学的性状 l)融点 78〜80℃ 2)元素分析値 (CzeHteNtOe として)N(%) 理論値 6.06 実験値 5.99 原料化合物:実施例68の化合物 4−アセトアミド−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノ キシ酢酸 理化学的性状 1)融点 184〜186℃ 2)元素分析値 (C2?H!8N 206 として)C(%) H(%) N (%) 理論値 6g、05 5.92 5.88実験値 67.77 5,96 5. 79原料化合物:実施例69の化合物 4−オキザロアミド−2−[p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェ ノキシ酢酸 理化学的性状 l)融点 206〜207°C 2)元素分析値 (C2?818N *Os・1八H,Oとして)C(%) H (%) N(%) 理論値 63.57 5.22 5.49実験値 63.63 5.21 5. 44原料化合物:実施例71の化合物 実施例82 4−(2−カルボキシアセトアミド)−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベ ンズアミド〕フェノキシ酢酸理化学的性状 1)融点 179〜181℃ (分解)2)元素分析値 (C!aHtsNzO s として)C(%) H(%) N(%) 理論値 64.61 5.42 5.38実験値 64.67 5.39 5. 324−カルボキシ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドシフエ ノキシ酢酸 理化学的性状 1)融点 244〜246°C 2)元素分析値 (028825N O7として)C(%) H(%) N(% ) 理論値 67.38 5.44 3.02実験値 67.33 5.48 3. 03原料化合物:実施例59の化合物 4−カルボキシメチル−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドシフ エノキシ酢酸 理化学的性状 l)融点 210〜2゛13℃ 2)元素分析値 (C2,H*tN O? として)理論値 67.91 5. 70 2.93実験値 87.45 5.69 2.92原料化合物:実施例6 0の化合物 4−ホルミル−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドシフエノキシ 酢酸 理化学的性状 ■)融点 151〜152℃ C(%) H(%) N(%) 理論値 69,79 5.63 3.13実験値 69.79 5.54 3. 11原料化合物:実施例64の化合物 4−ヒドロキシメチル−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドシフ エノキシ酢酸 理化学的性状 l)融点 138〜139℃ 2)元素分析値 (Clll81?N Oe として)C(%) H(%) N (%) 理論値 69.47 6.05 3.12実験値 69.34 5Jl 3.0 5原料化合物:実施例65の化合物 4−カルボキシメチルチオメチル−2−(p=(4−フェニルブトキシ)ベンズ アミド〕フェノキシ酢酸理化学的性状 l)融点 139〜141°C 2)元素分析値 (CtsHteN O? S として)N(%) 理論値 2.68 実験値 2.57 原料化合物:実施例67の化合物 4−シアノ−2−(p−’(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシ 酢酸 理化学的性状 1)融点 148〜149℃ 2)元素分析値 (C26H24N 205 として)C(%) H(%) N (%) 理論値 70.26 5.44 6.30実験値 70.14 5.44 6. 12原料化合物:実施例58の化合物 4−ブロモ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドシフエノキシ酢 酸 理化学的性状 1)融点 163〜165℃ 2)元素分析値 (C25H24N O5として)C(%) H(%) N(% ) Br(%)理論値 60.25 4.8:) 2.81 16.03実験値  60.15 4.99 2.75 16.02原料化合物:実施例54の化合 物 5−カルボキシー2−[p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミドシフエノキ シ酢酸 理化学的性状 ■)融点 235〜237.5°C 2)元素分析値 (C28825N O? として)C(%) H(%) N( %) 理論値 67.385.44 3.02実験値 87.06 5.53 3.1 0原料化合物:実施例61の化合物 5−(2−カルボキシ)エチル−2−(p−(4−フェニルゾ)・キシ)ベンズ アミド〕フェノキシ酢酸 理化学的性状 ■)融点 147〜149℃ 2)元素分析値 (C* s H2−s N O?・0JHtOとして)C(% ) H(%) N(%) 理論値 67.68 6.00 2.82実験値 67.60 6.19 2. 64原料化合物:実施例62の化合物 実施例92 4−〔4−クロロ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノ キシ〕ブチリック アシッド理化学的性状 1)融点 118〜119℃ 2)元素分析値 (CxqHtsN OsC1として)C(%) H(%) N (%) 理論値 67.28 5.86 2.91実験値 67.13 5.77 2. 82原料化合物:実施例63の化合物 実施例93 シ)ベンズアミド〕フェノキシ酢酸 理化学的性状 1)融点 129〜132°C 2)元素分析値 (CztHzaN 207・’/1Hto として)C(%)  H(%) N(%) 理論値 64.66 5.83 5.59実験値 64.69 5.92 5. 46原料化合物:実施例73の化合物 4−(3−エチルウレイド)−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミ ドシフエノキシ酢酸 理化学的性状 ■)融点 156℃ 2)元素分析値 (C2e H31N s Oa として)C(%) H(%)  N(%) 理論値 66.52 6.18 8.3L実験値 66.18 6゜15 8. 13原料化合物:実施例70の化合物 実施例95 実施例78で得た 4−ヒドロキシ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベン ズアミド〕フェノキシ酢酸0.62g、無水炭酸カリウム0゜46g、ヨウ化メ チル2.47g及び2−ブタノン10m1の混合物に、触媒量の臭化テトラ−n −ブチルアンモニウムを加え60℃で20時間かきまぜる。反応液を酢酸エチル で希釈し、不溶物をf過する。f液を0 、02.N水酸化ナトリウム水溶液、 水で順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた固形 物をエタノールから再結晶してメチル 4−メトキシ−2−(p−(4−フェニ ルブトキシ)ベンズアミドシフエノキシアセテート0.59gを得た。4-ethyl-2-Cp-(4-phenylbutoxy)benzamide] fenogyo vinegar acid physical and chemical properties 1) Melting point: 129-132℃ 2) Elemental analysis values (as Ct7H29N Os) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 72.46 6,53 3.13 Experimental value 72.33 6.65 3. 09 Raw material compound: Compound of Example 55 2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide to 4-propylphenoxy acetic acid physical and chemical properties 1) Melting point: 109-112°C 2) Elemental analysis value (as Ct a Hs lN Os) N (%) Theoretical value 3.03 Experimental value 3.01 3) Nuclear magnetic resonance spectrum (in CD C13, TMS internal standard, ppm) 0. 90 (t, 3) 1), 1.4-2.0 (6H), 2.4-2.8 (4H), 3. 8-4.1 (2H). 4.70 (s, 2tO, 6,7-7.0 (4H), 7. 0-7.4 (5tl), 7.8-8.0 (2H), 8.15 (d, IH) , 8.62 (s, LH), 8.91 (S, LH) Raw material compound; compound of Example 56 4-isopropyl-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide)pheno xyacetic acid physical and chemical properties ■) Melting point 117 ~] 19°C 2) Elemental analysis values (as C28831N Os) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 72.83 6.77 3.03 Experimental value 73.05 6.91 3. 04 Raw material compound: Compound of Example 57 4-Hydroxy-2-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide]phenoki cyanoacetic acid physical and chemical properties ■) Melting point: 198-199℃ 2) Elemental analysis values (as CzsHtsN Oa) C (%) H (%) S ( %) Theoretical value 6g, 95 5.79 3.22 Experimental value 69.01 5.99 3. 13 Raw material compound: Compound of Reference Example 42 4-formamide-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide)pheno xyacetic acid physical and chemical properties l) Melting point: 78-80℃ 2) Elemental analysis value (as CzeHteNtOe) N (%) Theoretical value 6.06 Experimental value 5.99 Raw material compound: Compound of Example 68 4-acetamido-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide)pheno xyacetic acid physical and chemical properties 1) Melting point: 184-186℃ 2) Elemental analysis value (as C2?H!8N 206) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 6g, 05 5.92 5.88 Experimental value 67.77 5,96 5. 79 Raw material compound: Compound of Example 69 4-Oxaloamide-2-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide]phene Noxyacetic acid physical and chemical properties l) Melting point: 206-207°C 2) Elemental analysis value (C2?818N *Os・18H, as O) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 63.57 5.22 5.49 Experimental value 63.63 5.21 5. 44 Raw material compound: Compound of Example 71 Example 82 4-(2-carboxyacetamide)-2-(p-(4-phenylbutoxy)base Phenoxyacetic acid physical and chemical properties 1) Melting point: 179-181℃ (decomposition) 2) Elemental analysis value (C!aHtsNzO s) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 64.61 5.42 5.38 Experimental value 64.67 5.39 5. 324-carboxy-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide) Noxyacetic acid physical and chemical properties 1) Melting point: 244-246°C 2) Elemental analysis values (028825N as O7) C (%) H (%) N (% ) Theoretical value 67.38 5.44 3.02 Experimental value 67.33 5.48 3. 03 Raw material compound: Compound of Example 59 4-carboxymethyl-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide Schiff Enoxyacetic acid physical and chemical properties l) Melting point: 210-2゛13℃ 2) Elemental analysis value (as C2, H*tN O?) Theoretical value 67.91 5. 70 2.93 Experimental value 87.45 5.69 2.92 Raw material compound: Example 6 0 compounds 4-formyl-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamidocyphenoxy) acetic acid physical and chemical properties ■) Melting point: 151-152℃ C (%) H (%) N (%) Theoretical value 69,79 5.63 3.13 Experimental value 69.79 5.54 3. 11 Raw material compound: Compound of Example 64 4-Hydroxymethyl-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide Schiff Enoxyacetic acid physical and chemical properties l) Melting point: 138-139℃ 2) Elemental analysis value (as Cll81?N Oe) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 69.47 6.05 3.12 Experimental value 69.34 5Jl 3.0 5 Raw material compound: Compound of Example 65 4-carboxymethylthiomethyl-2-(p=(4-phenylbutoxy)benz Physicochemical properties of amide] phenoxyacetic acid l) Melting point: 139-141°C 2) Elemental analysis value (as CtsHteN O?S) N (%) Theoretical value 2.68 Experimental value 2.57 Raw material compound: Compound of Example 67 4-cyano-2-(p-'(4-phenylbutoxy)benzamide]phenoxy acetic acid physical and chemical properties 1) Melting point: 148-149℃ 2) Elemental analysis value (as C26H24N 205) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 70.26 5.44 6.30 Experimental value 70.14 5.44 6. 12 Starting compound: Compound of Example 58 4-Bromo-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamidesiphenoxy vinegar acid physical and chemical properties 1) Melting point: 163-165℃ 2) Elemental analysis values (as C25H24N O5) C (%) H (%) N (% ) Br (%) Theoretical value 60.25 4.8:) 2.81 16.03 Experimental value 60.15 4.99 2.75 16.02 Raw material compound: Compound of Example 54 thing 5-carboxy 2-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide cyanoacetic acid physical and chemical properties ■) Melting point: 235-237.5°C 2) Elemental analysis value (as C28825N O?) C (%) H (%) N ( %) Theoretical value 67.385.44 3.02 Experimental value 87.06 5.53 3.1 0 raw material compound: Compound of Example 61 5-(2-carboxy)ethyl-2-(p-(4-phenylzo)xy)benz Amide] Phenoxyacetic acid physical and chemical properties ■) Melting point: 147-149℃ 2) Elemental analysis value (as C*sH2-sNO?・0JHtO)C (% ) H (%) N (%) Theoretical value 67.68 6.00 2.82 Experimental value 67.60 6.19 2. 64 raw material compound: compound of Example 62 Example 92 4-[4-chloro-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide]pheno Butyric acid physical and chemical properties 1) Melting point: 118-119℃ 2) Elemental analysis value (as CxqHtsN OsC1) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 67.28 5.86 2.91 Experimental value 67.13 5.77 2. 82 Raw material compound: Compound of Example 63 Example 93 c) Benzamide] Phenoxyacetic acid physical and chemical properties 1) Melting point: 129-132°C 2) Elemental analysis value (as CztHzaN 207・'/1Hto) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 64.66 5.83 5.59 Experimental value 64.69 5.92 5. 46 Raw material compound: Compound of Example 73 4-(3-ethylureido)-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzami Dosiphenoxyacetic acid physical and chemical properties ■) Melting point: 156℃ 2) Elemental analysis value (as C2e H31N s Oa) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 66.52 6.18 8.3L Experimental value 66.18 6°15 8. 13 Raw material compound: Compound of Example 70 Example 95 4-hydroxy-2-(p-(4-phenylbutoxy)ben) obtained in Example 78 Zuamide] Phenoxyacetic acid 0.62g, anhydrous potassium carbonate 0.46g, iodide solution A catalytic amount of tetra-n bromide was added to a mixture of 2.47 g of chill and 10 ml of 2-butanone. -Add butylammonium and stir at 60°C for 20 hours. Dilute the reaction solution with ethyl acetate diluted with water and filtered to remove insoluble matter. Add f liquid to 0, 02. N aqueous sodium hydroxide solution, After successively washing with water and drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off. solid obtained The product was recrystallized from ethanol to give methyl 4-methoxy-2-(p-(4-phenyl) 0.59 g of (rubutoxy)benzamide siphenoxy acetate was obtained.

1)融点 91〜93℃ 2)元素分析値 (CayHteN Oe として)N(%) 計算値 3.02 実験値 2.98 実施例96 トキシ)ベンズアミド〕フェノキシ酢酸0.64g、無水炭酸カリウム0゜50 g、エチル ブロモアセテート0.60g及び2−ブタノン8mlの混合物に、 触媒量の臭化テトラ−n−ブチルアンモニウムを加え60℃で4時間かきまぜる 。反応液を酢酸エチルで希釈し、不溶物を?過する。f液を水洗し、無水硫酸マ グネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた固形物をエタノールから再結晶 して、エチル 〔〔4−エトキシカルボニルメトキシ−2−(p−(4−フェニ ルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシ〕アセトキシ〕アセテートO,,83g を得た。1) Melting point: 91-93℃ 2) Elemental analysis value (as CayHteN Oe) N (%) Calculated value 3.02 Experimental value 2.98 Example 96 Toxy)benzamide] phenoxyacetic acid 0.64g, anhydrous potassium carbonate 0°50 g, in a mixture of 0.60 g of ethyl bromoacetate and 8 ml of 2-butanone, Add a catalytic amount of tetra-n-butylammonium bromide and stir at 60°C for 4 hours. . Dilute the reaction solution with ethyl acetate and remove the insoluble matter. pass Wash the f solution with water and add anhydrous sulfuric acid. After drying with magnesium, the solvent was distilled off. Recrystallize the obtained solid from ethanol Then, ethyl [[4-ethoxycarbonylmethoxy-2-(p-(4-phenyl) (rubutoxy)benzamide]phenoxy]acetoxy]acetate O, 83g I got it.

り融点 64℃ 2)元素分析値 (033H39N O+。 とじて)C(%) H(%) N (%) 計算値 65.23 6.14 2J1実験値 6.)、00 5.96 2. 23実施例97 実施例95で得たメチル 4−メトキシ−2−(p−(4−フェニルブトキシ) ベンズアミドシフエノキシアセテート0.54gを90%メタノール25m1に 懸濁させ、これにIN水酸化ナトリウム水溶液10m1を加え、60℃で2時間 かきまぜる。反応液を50m1の水で希釈し、2N塩酸7mlを加えて酸性とし 、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶 媒を留去した。得られた固形物をイソプロピルアルコールから再結晶して、4− メトキシ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシ酢酸 0.49gを得た。Melting point: 64℃ 2) Elemental analysis value (033H39N O+. Closed) C (%) H (%) N (%) Calculated value 65.23 6.14 2J1 experimental value 6. ), 00 5.96 2. 23 Example 97 Methyl 4-methoxy-2-(p-(4-phenylbutoxy) obtained in Example 95 Add 0.54 g of benzamide siphenoxy acetate to 25 ml of 90% methanol. Suspend, add 10 ml of IN sodium hydroxide aqueous solution, and stir at 60°C for 2 hours. Stir. Dilute the reaction solution with 50ml of water and acidify by adding 7ml of 2N hydrochloric acid. , extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then dissolved. The medium was distilled off. The obtained solid was recrystallized from isopropyl alcohol to give 4- Methoxy-2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide]phenoxyacetic acid 0.49g was obtained.

l)融点 139〜141 ”C 2)元素分析値 (CiaH1?N Os として)C(%) H(%) N( %) 計算値 69.47 B、05 3.12実験値 69.:13 6.1’a  3.Q3実施例98 −2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシ〕アセトキシ 〕アセテート0.77gを原料とし、実施例97と同様に処理して(2−(p− (4−フェニルブトキシ)ベンズアミド)−1,4−フェニレンジオキシ〕二酢 酸0.57gを得た。l) Melting point: 139-141"C 2) Elemental analysis values (as CiaH1?N Os) C (%) H (%) N ( %) Calculated value 69.47B, 05 3.12 Experimental value 69. :13 6.1'a 3. Q3 Example 98 -2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide]phenoxy]acetoxy ] Using 0.77 g of acetate as a raw material, it was treated in the same manner as in Example 97 to obtain (2-(p- (4-phenylbutoxy)benzamide)-1,4-phenylenedioxy] diacetic acid 0.57 g of acid was obtained.

l)融点 211〜214℃ 2)元素分析値 (Ct7HtqN Os として)C(%) H(%) N( %) 計算値 65.71 5.51 2.84実験値 65.74 5.51 2. 77実施例99 メトキサイド−メタノール溶液に、実施例66で得たエチル 4−クロロメチル −2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシアセテ−)  200mgを加え、室温で一夜攪拌する。反応液に水1mlを加え一時間攪拌し 、希塩酸で酸性としたのち減圧濃縮する。残留物に水10m1を加え結晶を?戸 数し、イソプロピルアルコールで再結晶し 4−メトキシメチル−2−(p−( 4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシ酢酸100mgを得た。l) Melting point: 211-214℃ 2) Elemental analysis values (as Ct7HtqN Os) C (%) H (%) N ( %) Calculated value 65.71 5.51 2.84 Experimental value 65.74 5.51 2. 77 Example 99 Add the ethyl 4-chloromethyl obtained in Example 66 to the methoxide-methanol solution. -2-(p-(4-phenylbutoxy)benzamide]phenoxyacetate) Add 200 mg and stir overnight at room temperature. Add 1 ml of water to the reaction solution and stir for 1 hour. , acidify with dilute hydrochloric acid, and then concentrate under reduced pressure. Add 10ml of water to the residue to form crystals? door 4-methoxymethyl-2-(p-( 100 mg of 4-phenylbutoxy)benzamide]phenoxyacetic acid was obtained.

1、)融点 126〜129°C 2)元素分析値 (CiaHtsN Oa として)C(%) H(%) N( %) 計算値 69.79 5.63 3.13実験値 69.79 5.54 3. 11実施例100 塩化第一セリウム・7水和物30mgのメタノール(8ml)溶液に参考例43 で得られたエチル 4−(p−へブチルオキシベン、ジルオキシ)インダン−1 −オン−2−アセテート350mgを溶解し一10°Cに冷却する。水素化硼素 ナトリウム300mgを加え30分間攪拌する。1.) Melting point: 126-129°C 2) Elemental analysis values (as CiaHtsN Oa) C (%) H (%) N ( %) Calculated value 69.79 5.63 3.13 Experimental value 69.79 5.54 3. 11 Examples 100 Reference Example 43 was added to a methanol (8 ml) solution of 30 mg of cerous chloride heptahydrate. Ethyl 4-(p-hebutyloxyben,zyloxy)indan-1 obtained in 350 mg of -one-2-acetate was dissolved and cooled to -10°C. boron hydride Add 300 mg of sodium and stir for 30 minutes.

水を加え室温とし酢酸エチルで生成物を抽出する。酢酸エチル層を飽和食塩水で 2回洗い、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮するとエチル 1−ヒ ドロキシ−4−(p−へブチルオキシベンジルオキシ)インダン−2−アセテー ト390mgが得られる。Add water and bring to room temperature and extract the product with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was diluted with saturated saline. Washed twice, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to yield ethyl 1-hyperoxychloride. Droxy-4-(p-hebutyloxybenzyloxy)indan-2-acetate This yields 390 mg.

l)油状物 2)核磁気共鳴スペクトル (CDC13中、TMS内iH準、 ppm)0. 8〜1.0(2t()、1.25,1.2B(合せて3H1それぞれt)、1. 2〜1.45(8H)。l) Oily substance 2) Nuclear magnetic resonance spectrum (iH quasi in CDC13, TMS, ppm) 0. 8 to 1.0 (2t(), 1.25, 1.2B (3H1 each t in total), 1. 2-1.45 (8H).

1.6〜1 、9 (2H) 、 2 、3〜4.4(’+H)、3.96(2 H,t)、4.15.4.21(合せて2H1それぞれq、7:4)、5.00 (2H,s)、5.20(IH,wへ= 111(Z)、6.8〜7,4(7) 1)実施例101 実施例100で得られたエチル 1−ヒドロキシ−4−(p−へブチルオキシベ ンジルオキシ)−2−インダンアセテ−h380mgをメタノール10m1に溶 解し5%苛性曹達水溶液2.5mlを加え室温で8時間攪拌する。20%塩酸に て酸性となし、酢酸エチルで抽出する。1.6-1, 9 (2H), 2, 3-4.4 ('+H), 3.96 (2 H, t), 4.15.4.21 (total of 2H1 each q, 7:4), 5.00 (2H, s), 5.20 (IH, to w = 111 (Z), 6.8 to 7, 4 (7) 1) Example 101 Ethyl 1-hydroxy-4-(p-hebutyloxybenzene) obtained in Example 100 Dissolve 380 mg of (indyloxy)-2-indane acetate in 10 ml of methanol. Add 2.5 ml of a 5% caustic soda aqueous solution and stir at room temperature for 8 hours. to 20% hydrochloric acid Make acidic and extract with ethyl acetate.

酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗滌し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し 、減圧下濃縮乾固する。結晶性残渣を酢酸エチル−ヘキサンから再結晶すると2 30mgの1−ヒドロキシ−4−(p−ヘプチルオキシベンジルオキシ)−2− インダン酢酸を得る。The ethyl acetate layer was washed successively with water and saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. , and concentrated to dryness under reduced pressure. Recrystallization of the crystalline residue from ethyl acetate-hexane yields 2 30 mg of 1-hydroxy-4-(p-heptyloxybenzyloxy)-2- Obtain indane acetic acid.

l)融点 180℃ 2)元素分析値 (CxsHs20s として)C(%) H(%) 理論値 72’、79 7.82 実験値 72.66 7.98 実施例102 参考例44で得られた3−(m−((p−へブチルオキシ)ベンズアミド〕フェ ニル〕プロピオニトリル630mgをN、N−ジメチルホルムアミド5mlに溶 解し、アジ化ナトリウム340mg、塩化アンモニウム280mgを加え、13 0℃に加熱する。4時間後及び16時間後に同量のアジ化ナトリウム、塩化アン モニウムを加え、20時間加熱する。l) Melting point: 180℃ 2) Elemental analysis value (as CxsHs20s) C (%) H (%) Theoretical value 72', 79 7.82 Experimental value 72.66 7.98 Example 102 3-(m-((p-hebutyloxy)benzamide)phene obtained in Reference Example 44 Dissolve 630 mg of propionitrile in 5 ml of N,N-dimethylformamide. Dissolved, added 340 mg of sodium azide and 280 mg of ammonium chloride, and Heat to 0°C. After 4 hours and 16 hours, same amounts of sodium azide and ammonium chloride were added. Add monium and heat for 20 hours.

反応混合物に水を加えて生じる結晶性固体を吸引捕集する。固体を水洗、乾燥後 、メタノール−酢酸エチルから再結晶し、4−ヘプチルオキシ−3°−(2−( 5−テトラゾリル)エチル〕ベンズアニリド540mgを得る。Water is added to the reaction mixture and the resulting crystalline solid is collected by suction. After washing the solid with water and drying it , recrystallized from methanol-ethyl acetate to give 4-heptyloxy-3°-(2-( 540 mg of 5-tetrazolyl)ethyl]benzanilide are obtained.

l)融点 164〜165℃ 2)元素分析値 (C23Ht s N i O2として)C(%) H(%)  N(%) 理論値 67.79 7.17 17.19実験値 67.96 7.13 1 6.91冥験例103 (錠剤) 実施例40の化合物〔4−クロロ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズ アミド〕フェノキシ酢酸) 30mg乳糖 1.04mg コーンスターチ 57B ヒドロキシプロピルセルロース 4mgカルボキシメチルセルロース カルシウ ム 4mgステアリン酸マグネシウム 1mg 案施例40の化合物(4−クロロ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズ アミド〕フェノキシ酢酸)30g、乳糖IQ4g及びコーンスターチ57gを均 一に混合し、この混合物にヒドロキシプロピルセルロース10%(w/v)水溶 液40m1を加え、湿式造粒法により顆粒を調製した。この顆粒にカルボキシメ チルセルロースカルシウム4g及びステアリン酸マグネシウム1gを加えて混合 したのちこれを圧縮打錠して錠剤(1錠200mg)とした。l) Melting point: 164-165℃ 2) Elemental analysis value (as C23Ht s N i O2) C (%) H (%) N (%) Theoretical value 67.79 7.17 17.19 Experimental value 67.96 7.13 1 6.91 Hades Example 103 (tablet) Compound of Example 40 [4-chloro-2-(p-(4-phenylbutoxy)benz Amide] phenoxyacetic acid) 30mg Lactose 1.04mg Cornstarch 57B Hydroxypropylcellulose 4mg Carboxymethylcellulose Calciu Magnesium stearate 1mg Compound of Example 40 (4-chloro-2-(p-(4-phenylbutoxy)benz) amido] phenoxyacetic acid), 4 g of lactose IQ, and 57 g of corn starch. Add 10% (w/v) hydroxypropyl cellulose dissolved in water to this mixture. 40 ml of liquid was added and granules were prepared by wet granulation. Carboxyme to this granule Add 4 g of chillulose calcium and 1 g of magnesium stearate and mix. This was then compressed into tablets (200 mg per tablet).

実施例104 (カプセル剤) 実施例4oの化合物(4−クロロ−2’−(p−(4−フェニルブトキシ)ベン ズアミド)フェノキシ酢酸) 30J結晶セルロース 40mg 結晶乳糖 129mg ステアリン酸マグネシウム 1mg 上記各成分の1,000倍量をとり、常法により混合したのちゼラチンカプセル に充填しカプセル剤(lカプセル200mg)とした。Example 104 (capsules) Compound of Example 4o (4-chloro-2'-(p-(4-phenylbutoxy)ben zamide) phenoxyacetic acid) 30J crystalline cellulose 40mg Crystal lactose 129mg Magnesium stearate 1mg Take 1,000 times the amount of each of the above ingredients, mix in a conventional manner, and then gelatin capsules. The mixture was filled into capsules (1 capsule 200 mg).

実施例105 実施例40の化合物(4−クロロ−2−(p−(4−フェニルブトキシ)ベンズ アミド〕フェノキシ酢M)O,1gをエタノール−プロピレングリコール−精製 水(30蟻:10w:60猶・)混液的90m1に溶解し、ざらに同混液を加え て全量を100+nlとした後、100m1ごと所定容器に充填密栓し吸入剤と した。Example 105 Compound of Example 40 (4-chloro-2-(p-(4-phenylbutoxy)benz) Amide] phenoxy vinegar M) O, 1 g purified with ethanol-propylene glycol Dissolve in 90 ml of water (30 ml: 10 w: 60 min.) and add the same mixture to a colander. After adjusting the total volume to 100+nl, fill each 100ml into a designated container and seal it as an inhaler. did.

国際調査報告 国際調査報告 2 ANNEX To ムi(E INTERNATIONAL 5EARC!(R EFORT 0NZNTERNATIONAL APPC−1CATION N o、 PCT/j? 8610OLSS (SA 126B0)international search report International search report 2 ANNEX To Mui (E INTERNATIONAL 5EARC!(R EFORT 0NZNTERNATIONAL APPC-1CATION N o, PCT/j? 8610OLSS (SA 126B0)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1.一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中の記号は以下の意味を表わす。 A:水素原子、フェニル基又はフェノキシ基n:3〜10の整数 R1:水素原子又は低級アルコキシ基 X1:−CH2CH2−,−CH=CH−,−CH2−Y1−(式中Y1:−O −,−S−又は−NH−),−Y1−CH2−,−CO−Y2−(式中Y2:− NH−,−CH2−Y1−又は−Y1−CH2−)又は−Y2−CO−で示され る基, ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R2:水素原子,ハロゲン原子,ニトロ基,水酸基,低級アルコキシ基, カルボキシ基,シアノ基,オキサロアミド基(−NHCOCOOH),低級アル コキシカルボニル基,低級アルキル基,ヒドロキシ低級アルキル基,低級アルコ キシ低級アルキル基,カルボキシ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニル低 級アルキル基,カルボキシ低級アルキルチオ低級アルキル基,低級アルコキシカ ルボニル低級アルキルチオ低級アルキル基,ハロ低級アルキル基,カルボキシ低 級アルコキシ基,低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイ ル低級アルコキシ基,低級アルコキシカルボニル低級アルコキシカルボニル低級 アルコキシ基,低級アルカノイル基又は式▲数式、化学式、表等があります▼( 式中R4とRとは同一又は異なつて水素原子,低級アルキル基,カルボキシ低級 アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキル基,低級アルカノイル基, カルボキシ低級アルカノイル基,低級アルコキシカルボニル低級アルカノイル基 ,置換又は非置換フェニル低級アルコキシカルボニル低級アルカノイル基,カル バモイル基,低級アルコキサリル基又はモノ又はジ低級アルキルァミノカルボニ ル基)、 水素原子,水酸基又は低級アルコキシ基〕で示される基、−CH=CH−,−Y 3−Y4−(式中Y3:単結合,−O−,−S−又は−NH−;Y4:途中硫黄 原子で中断されていてもよい炭素数が1〜6個のアルキレン基)で示される基、 カルボキシ基,低級アルコキシカルボニル基又は▲数式、化学式、表等がありま す▼で示される基、 但し、Aが水素原子の時(B)が▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式 、化学式、表等があります▼或はDが▲数式、化学式、表等があります▼で示さ れる化合物又は薬学的に許容されるその塩。 2.請求の範囲第1項記載の一般式においてAが水素原子又はフェニル基,nが 4〜7,R1が水素原子,X1が−CO−Y2−(式中Y2は−XH−)(B) が▲数式、化学式、表等があります▼(式中R2は水素原子,ハロゲン原子,ニ トロ基,低級アルキル基又はカルボキシ低級アルキル基)又は▲数式、化学式、 表等があります▼X2が−CH=CH−又は−Y3−Y4−(式中Y3は単結合 ,−O−又は−S−,Y4は途中硫黄原子で中断されていてもよい炭素数が1〜 6個のアルキレン基),Dがカルボキシ基又は▲数式、化学式、表等があります ▼である請求の範囲第1項記載の化合物。 3.4−クロロ−2−〔p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキ シ酢酸である請求の範囲第1項記載の化合物。 4.3−〔o−〔p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェニル〕プロ ピオン酸である請求の範囲第1項記載の化合物。 5.o−〔p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕ケイヒ酸である請求の 範囲第1項記載の化合物。 6.o−〔p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシ酢酸である 請求の範囲第I項記載の化合物。 7.4−ニトロ−2−〔p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキ シ酢酸である請求の範囲第1項記載の化合物。 8.4−メチル−2−〔p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキ シ酢酸である請求の範囲第1項記載の化合物。 9.4−ヘブチルオキシー2′−(5−テトラゾリルメトキシ)ベンズアニリド である請求の範囲第1項記載の化合物。 10.(a) 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II)〔式中の記号は以下の意味を表わす 。 A:水素原子,フェニル基又はフェノキシ基,n:3〜10の整数, R1:水素原子又は低級アルコキシ基。〕で示されるカルボン酸又はその反応性 誘導体と、一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III){式中の記号は以下の意味を表わ す。 (B):▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等がありま す▼〔式中R2:水素原子,ハロゲン原子,ニトロ基,水酸基,低級アルコキシ 基,カルボキシ基,シアノ基,オキサロアミド基(−NHCOCOOH),低級 アルコキシカルボニル基,低級アルキル基,ヒドロキシ低級アルキル基,低級ア ルコキシ低級アルキル基,カルボキシ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニ ル低級アルキル基,カルボキシ低級アルキルチオ低級アルキル基,低級アルコキ シカルボニル低級アルキルチオ低級アルキル基,ハロ低級アルキル基,カルボキ シ低級アルコキシ基,低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基,低級アルカ ノイル低級アルコキシ基,低級アルコキシカルボニル低級アルコキシカルボニル 低級アルコキシ基,低級アルカノイル基又は式▲数式、化学式、表等があります ▼(式中R4とR5とは同一又は異って水素原子,低級アルキル基,カルボキシ 低級アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキル基,低級アルカノイル 基,カルボキシ低級アルカノイル基,低級アルコキシカルボニル低級アルカノイ ル基,置換又は非置換フェニル低級アルコキシカルボニル低級アルカノイル基, カルバモイル基,低級アルコキサリル基又はモノ又はジ低級アルキルアミノカル ボニル基)、R3:水素原子,水酸基又は低級アルコキシ基〕で示される基、X 2:−CH=CH−,−Y3−Y4−(式中Y3:単結合,−O−,−S−又は −NH−;Y4:途中硫黄原子で中断されていてもよい炭素数が1〜6個のアル キレン基)で示される基、 D:カルボキシ基,低級アルコキシカルボニル基又は▲数式、化学式、表等があ ります▼で示される基、 但し、一般式(II)でAが水素原子の時、▲数式、化学式、表等があります▼ 又は▲数式、化学式、表等があります▼,或はDは▲数式、化学式、表等があり ます▼で示されるアミノ化合物とを反応させるか、 又は (b)一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV)〔式中A,n及びR1は前記に同じ 〕 で示されるアミノ化合物と 一般式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(V)〔式中(B),X2及びDは前記に同 じ〕で示されるカルボン酸又はその反応性誘導体とを反応させるか、又は (c)一般式(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI)〔式中A,n及びR1は前記に同じ 。Y1は−O−,−S−又は−NH−を,M1はY1が酸素原子又は硫黄原子で あるときは水素原子又はアルカリ金属原子,Y1がイミノ基であるときは水素原 子を意味する。〕で示される化合物と 一般式(VII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII)〔式中(B),X2及びDは前記 に同じ。Z1はハロゲン原子又はスルホネート残基を,Y5はメチレン基,又は メチレンカルボニル基(−CH2CO−)を意味する。〕で示される化合物とを 反応させるか、 又は (d)一般式(VIII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII)〔式中A,n,R1及びZ1は 前記に同じ。Y6はメチレン基又はカルボニルメチレン基(−COCH2−)を 意味する。〕で示される化合物と 一般式(IX) ▲数式、化学式、表等があります▼(IX)〔式中M1,Y1,(B)X2及び Dは前記に同じ。〕で示される化合物とを反応させるか、 又は (e)一般式(X) ▲数式、化学式、表等があります▼(X)〔式中A,n及びR1は前記に同じ。 Z2はハロゲン原子を意味する。〕で示されるハロゲン化合物にトリフェニルホ スフィン或はトリブチルホスフィンを反応させて一般式(XI)▲数式、化学式 、表等があります▼(XI)〔式中A,n,R1及びZ2は前記に同じ。R6は フェニル基又はブチル基を意味する。〕で示される化合物とし、次いで塩基によ り置換ベンジルトリフェニル(又はトリブチル)ホスホランとなし、これに一般 式(XII) ▲数式、化学式、表等があります▼(XII)〔式中B,X2及びDは前記に同 じ。〕で示される化合物を作用させるか、 又は (f)一般式(If) ▲数式、化学式、表等があります▼(If)〔式中A,n,R1(B)及びX2 は前記に同じ。X1は−CH2CH2−,−CH=CH−,−CH2−Y1−( 式中Y1は前記に同じ。)−Y1−CH2−,CO−Y2−(式中Y2は−NH −,−CH2−Y1−又は−Y1−CH2−を意味する)又は−Y2−CO−で 示される基を,R7は低級アルキル基又は低級アルコキシフェニル低級アルキル 基を意味する。〕 で示されるエステルよりエステル残基を除去するか、又は (g)一般式(XIII) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中A,n,R1,X1及び(B)は前記に同じ。Y7は酸素原子又は硫黄原 子をM2は水素原子又はアルカリ金属原子を意味する。〕で示される化合物と 一般式(XIV) Z2−Y4−D(XIV) 〔式中Z2,Y4及びDは前記に同じ。〕で示される化合物とを反応させるか、 又は (h)一般式(XV) カルボニル低級アルカノイル基,カルバモイル基,低級アルコキサリル基又はモ ノ又はジ低級アルキルアミノカルボニル基)、R3:水素原子,水酸基又は低級 アルコキシ基〕で示される基、X2:−CH=CH−,−Y3−Y4−(式中Y 3:単結合,−O−,−S−又は−NH−;Y4:途中硫黄原子で中断されてい てもよい炭素数が1〜6個のアルキレン基)で示される基、 D:カルボキシ基,低級アルコキシカルボニル基又は▲数式、化学式、表等があ ります▼で示される基、 但し、一般式(II)でAが水素原子の時、▲数式、化学式、表等があります▼ 又は▲数式、化学式、表等があります▼或はDは▲数式、化学式、表等がありま す▼で示されるアミノ化合物とを反応させるか, 又は (b)一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV)〔式中A,n及びR1は前記に同じ 〕 で示されるアミノ化合物と 一般式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(V)〔式中(B),X2及びDは前記に同 じ〕で示されるカルボン酸又はその反応性誘導体とを反応させるか、又は (C)一般式(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI)〔式中A,n及びR1は前記に同じ 。Y1は−O−,−S−又は−NH−を,M1はY1が酸素原子又は硫黄原子で あるときは水素原子又はアルカリ金属原子,Y1がイミノ基であるときは水素原 子を意味する。〕で示される化合物と 一般式(VII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII)〔式中(B),X2及びDは前記 に同じ。Z1はハロゲン原子又はスルホネート残基を,Y5はメチレン基,又は メチレンカルボニル基(−CH2CO−)を意味する。〕で示される化合物とを 反応させるか、 又は (d)一般式(VIII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII)〔式中A,n,R1及びZ1は 前記に同じ。Y6はメチレン基又はカルボニルメチレン基(−COCH2−)を 意味する。〕で示される化合物と 一般式(IX) ▲数式、化学式、表等があります▼(IX)〔式中MI,Y1,(B)・X2及 びDは前記に同じ。〕で示される化合物とを反応させるか、 又は (e)一般式(X) ▲数式、化学式、表等があります▼(X)〔式中A,n及びR1は前記に同じ。 Z2はハロゲン原子を意味する。〕で示されるハロゲン化合物にトリフェニルホ スフィン或はトリブチルホスフィンを反応させて一般式(XI)▲数式、化学式 、表等があります▼(XI)〔式中A,n,R1及びZ2は前記に同じ。R8は フェニル基又はブチル碁を意味する。〕で示される化合物とし,次いで塩基によ り置換ベンジルトリフェニル(又はトリブチル)ホスホランとなし、これに一般 式(XII) ▲数式、化学式、表等があります▼(XII)〔式中B,X2及びDは前記に同 じ。〕で示される化合物を作用されるか、 又は (f)一般式(If) ▲数式、化学式、表等があります▼(If)〔式中A,n,R1,(B)及びX 2は前記に同じ。X1は−CH2CH2−,−CH=CH−,−CH2−Y1− (式中Y1は前記に同じ。)−Y1−CH2−],−CO−Y2−(式中Y2は −NH−,−CH2−Y1−又は−Y1−CH2−を意味する)又は−Y2−C O−で示される基を,R7は低級アルキル基又は低級アルコキシフェニル低級ア ルキル基を意味する。〕 で示されるエステルよりエステル残基を除去するか、又は (g)一般式(XIII) ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII)〔式中A,n,R1,X1及び (B)は前記に同じ。Y7は酸素原子又は硫黄原子をM2は水素原子又はアルカ リ金属原子を意味する。〕で示される化合物と 一般式(XIV) Z2−Y4−D(XIV) 〔式中Z2,Y4及びDは前記に同じ。〕で示される化合物とを反応させるか、 又は (h)一般式(XV) ▲数式、化学式、表等があります▼(XV)〔式中A,n,R1,X1,(B) 及びX2は前記に同じ。〕で示される化合物にアジ化ナトリウムを作用させるか 、又は (i)一般式(XVII) ▲数式、化学式、表等があります▼(XVII)〔式中M2,R1,X1,(B )X2及びDは前記に同じ。〕で示される化合物と 一般式(XVIII) A−(CH2)n−Z2(XVIII)〔式中A,n及びZ2は前記に同じ。〕 で示される置換アルキルハライドとを反応させて一般式(I) ▲数式、化学式、表等があります▼(I)〔式中A,n,R1,X1,(B)X 2及びDは前記に同じ。〕で示されるフェニレン誘導体又はその塩を得、次いで 所望により (j)化合物(I)がビニレン基を有する場合には常法により還元して対応する エチレン基を有する化合物(I)に変換するか、(k)化合物(I)でR2がア ミノ基である場合には常法によりアルキル化又はアシル化して対応するアルキル アミノ基又はアシルアミノ基である化合物(I)に変換するか、(1)化合物( I)でR2がヒドロキシ低級アルキル基である場合には,常法によりハロゲン化 して対応するハロ低級アルキル基である化合物(I)に変換するか、 (m)化合物(I)でR2がホルミル基である場合には、常法により還元して対 応するヒドロキシメチル基である化合物(I)に変換するか、 (n)化合物(I)でR2がハロ低級アルキル基である場合には、常法により低 級アルコキシ化して対応する低級アルコキシ低級アルキル基である化合物(I) に変換するか、(o)化合物(I)でR2がハロ低級アルキル基である場合には ,常法により低級アルコキシカルボニル低級アルキルチオ化して対応する低級ア ルコキシカルボニル低級アルキルチオ低級アルキル基である化合物(I)に変換 することを特徴とする前記一般式(I)で示されるフェニレン誘導体又はその塩 の製造法。 12.一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II)〔式中の記号は以下の意味を表わす 。 A:水素原子,フェニル基又はフェノキシ基,n:3〜10の整数, R1:水素原子又は低級アルコキシ基。〕で示されるカルボン酸又はその反応性 誘導体と、一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III){式中の記号は以下の意味を表わ す。 (B):▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります ▼又は▲数式、化学式、表等があります▼〔式中R2:水素原子,ハロゲン原子 ,ニトロ基,水酸基,低級アルコキシ基,カルボキシ基,シアノ基,オキサロア ミド基(−NHCOCOOH),低級アルコキシカルボニル基,低級アルキル基 ,ヒドロキシ低級アルキル基,低級アルコキシ低級アルキル基,カルボキシ低級 アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキル基,カルボキシ低級アルキ ルチオ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキルチオ低級アルキ ル基,ハロ低級アルキル基,カルボキシ低級アルコキシ基,低級アルコキシカル ボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル低級アルコキシ基,低級アルコキシ カルボニル低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル基又 は式▲数式、化学式、表等があります▼(式中R4とR5とは同一又は異って水 素原子,低級アルキル基.カルボキシ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニ ル低級アルキル基,低級アルカノイル基,カルボキシ低級アルカノイル基,低級 アルコキシカルボニル低級アルカノイル基,置換又は非置換フェニル低級アルコ キシカルボニル低級アルカノイル基,カルバモイル基,低級アルコキサリル碁又 はそノ又はジ低級アルキルアミノカルボニル基),R3:水素原子,水酸基又は 低級アルコキシ基〕で示される基,X2:−CH=CH−,−Y3−Y4−(式 中Y3:単結合,−O−,−S−又は−NH−;Y4:途中硫黄原子で中断され ていてもよい炭素数が1〜6個のアルキレン基)で示される基, D:カルボキシ基,低級アルコキシカルボニル基又は▲数式、化学式、表等があ ります▼で示される基、 但し、一般式(II)でAが水素原子の時,(B)は▲数式、化学式、表等があ ります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼,或はDは▲数式、化学式、表 等があります▼で示されるアミノ化合物とを反応させることを特徴とする一般式 (Ia)▲数式、化学式、表等があります▼(Ia)〔式中A,n,R1,(B ),X2及びDは前記に同じ。〕で示される化合物の製造法。 13.一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV)〔式中の記号は以下の意味を表わす 。 A:水素原子,フェニル基又はフェノキシ基,n:3〜10の整数, R1:水素原子又は低級アルコキシ基。〕で示されるアミノ化合物と 一般式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(V){式中の記号は以下の意味を表わす。 (B):▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります ▼又は▲数式、化学式、表等があります▼〔式中R2:水素原子,ハロゲン原子 ,ニトロ基,水酸基,低級アルコキシ基,カルボキシ基,シアノ基,オキサロア ミド基(−NHCOCOOH),低級アルコキシカルボニル基,低級アルキル基 ,ヒドロキシ低級アルキル基,低級アルコキシ低級アルキル基,カルボキシ低級 アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキル基,カルボキシ低級アルキ ルチオ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキルチオ低級アルキ ル基,ハロ低級アルキル基,カルボキシ低級アルコキシ基,低級アルコキシカル ボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル低級アルコキシ基,低級アルコキシ カルボニル低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル基又 は式▲数式、化学式、表等があります▼(式中R4とR5とは同一又は異って水 素原子,低級アルキル基,カルボキシ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニ ル低級アルキル基,低級アルカノイル基,カルボキシ低級アルカノイル基,低級 アルコキシカルボニル低級アルカノイル基,置換又は非置換フェニル低級アルコ キシカルボニル低級アルカノイル基,カルバモイル基,低級アルコキサリル基又 はモノ又はジ低級アルキルアミノカルボニル基),R3:水素原子,水酸基又は 低級アルコキシ基〕で示される基,X2:−CH=CH−,−Y3−Y4−(式 中Y3:単結合,−O−,−S−又は−NH−;Y4:途中硫黄原子で中断され ていてもよい炭素数が1〜6個のアルキレン基)で示される基, D:カルボキシ基,低級アルコキシカルボニル基又は▲数式、化学式、表等があ ります▼で示される基、 但し、一般式(IV)でAが水素原子の時,(B)は▲数式、化学式、表等があ ります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼或はDは▲数式、化学式、表等 があります▼で示される カルボン酸又はその反応性誘導体とを反応させることを特徴とする一般式(Ib ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中A,n,R1,(B),X2及びDは前記に同じ。〕(Ib) で示される化合物の製造法。 14.一般式(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI){式中の記号は以下の意味を表わす 。 A:水素原子,フェニル基又はフェノキシ基,n:3〜10の整数, R1:水素原子又は低級アルコキシ基,Y1:−O−, −S−又は−NH−, M1:Y1が酸素原子又は硫黄原子であるときは水素原子又はアリカリ金属原子 ,Y1がイミノ基であるときは水素原子。〕で示される化合物と、 一般式(VII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII){式中の記号は以下の意味を表わ す。 Z1:ハロゲン原子又はスルホネート残基,Y5:メチレン基又はメチレンカル ボニル基(−CH2CO−),(B):▲数式、化学式、表等があります▼,▲ 数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼〔式中 R2:水素原子,ハロゲン原子,ニトロ基,水酸基,低級アルコキシ基,カルボ キシ基,シアノ基,オキサロアミド基(−NHCOCOOH),低級アルコキシ カルボニル基,低級アルキル基,ヒドロキシ低級アルキル基,低級アルコキシ低 級アルキル基,カルボキシ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アル キル基,カルボキシ低級アルキルチオ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニ ル低級アルキルチオ低級アルキル基,ハロ低級アルキル基,カルボキシ低級アル コキシ基,低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル低級 アルコキシ基,低級アルコキシカルボニル低級アルコキシカルボニル低級アルコ キシ基,低級アルカノイル基又は式▲数式、化学式、表等があります▼(式中R 4とR5とは同一又は異って水素原子,低級アルキル基,カルボキシ低級アルキ ル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキル基,低級アルカノイル基,カルボ キシ低級アルカノイル基,低級アルコキシカルボニル低級アルカノイル基,置換 又は非置換フェニル低級アルコキシカルボニル低級アルカノイル基,カルバモイ ル基,低級アルコキサリル基又はモノ又はジ低級アルキルアミノカルボニル基) ,R3:水素原子,水酸基又は低級アルコキシ基〕で示される基,X2:−CH =CH−,−Y3−Y4−(式中Y3:単結合,−O−,−S−又は−NH−; Y4:途中硫黄原子で中断されていてもよい炭素数が1〜6個のアルキレン基) で示される基, D:カルボキシ基,低級アルコキシカルボニル基又は▲数式、化学式、表等があ ります▼で示される基、 但し、一般式(VI)でAが水素原子の時,(B)は▲数式、化学式、表等があ ります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼或はDは▲数式、化学式、表等 があります▼で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般式(Ic) ▲数式、化学式、表等があります▼(Ic)〔式中A,n,R1,Y1,Y5, (B),X2及びDは前記に同じ。〕で示される化合物の製造法。 15.一般式(VIII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII)〔式中の記号は以下の意味を表 わす。 A:水素原子,フェニル基又はフェノキシ基,n:3〜10の整数, R1:水素原子又は低級アルコキシ基,Y6:メチレン基又はカルボニルメチレ ン基(−COCH2−),Z1:ハロゲン原子又はスルホネート残基〕で示され る化合物と 一般式(IX) ▲数式、化学式、表等があります▼(IX){式中の記号は以下の意味を表わす 。 M1:Y1が酸素原子又は硫黄原子であるときは水素原子又はアルカリ金属原子 ,Y1がイミノ基であるときは水素原子,Y1:−O−,−S−又は−XH−, (B):▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります ▼又は▲数式、化学式、表等があります▼〔式中R2:水素原子,ハロゲン原子 ,ニトロ基,水酸基,低級アルコキシ基,カルボキシ基,シアノ基,オキサロア ミド基(−NHCOCOOH),低級アルコキシカルボニル基,低級アルキル基 ,ヒドロキシ低級アルキル基,低級アルコキシ低級アルキル基,カルボキシ低級 アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキル基,カルボキシ低級アルキ ルチオ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキルチオ低級アルキ ル基,ハロ低級アルキル基,カルボキシ低級アルコキシ基,低級アルコキシカル ボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル低級アルコキシ基,低級アルコキシ カルボニル低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル基又 は式▲数式、化学式、表等があります▼(式中R4とR5とは同一又は異って水 素原子,低級アルキル基,カルボキシ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニ ル低級アルキル基,低級アルカノイル基,カルボキシ低級アルカノイル基,低級 アルコキシカルボニル低級アルカノイル基,置換又は非置換フェニル低級アルコ キシカルボニル低級アルカノイル基,カルバモイル基,低級アルコキサリル基又 はモノ又はジ低級アルキルァミノカルボニル基),R3:水素原子,水酸基又は 低級アルコキシ基〕で示される基,X2:−CH=CH−,−Y3−Y4−(式 中Y3:単結合,−O−,−S−又は−NH−;Y4:途中硫黄原子で中断され ていてもよい炭素数が1〜6個のアルキレン基)で示される基, D:カルボキシ基,低級アルコキシカルボニル基又は▲数式、化学式、表等があ ります▼で示される基、 但し、一般式(VIII)でAが水素原子の時、(B)は▲数式、化学式、表等 があります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼,或はDは▲数式、化学式 、表等があります▼で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般式( Id)▲数式、化学式、表等があります▼(Id)〔式中A,n,R1,Y6, Y1,(B)X2及びDは前記に同じ。〕で示される化合物の製造法。 16.一般式(X) ▲数式、化学式、表等があります▼(X)〔式中の記号は以下の意味を表わす。 A:水素原子,フェニル基又はフェノキシ基,n:3〜10の整数, R1:水素原子又は低級アルコキシ基,Z2:ハロゲン原子。〕 で示される化合物にトリフェニルホスフィン或はトリブチルホスフィンを反応さ せて一般式(XI) ▲数式、化学式、表等があります▼(XI)〔式中A,n,R1及びZ3は前記 に同じ。R6はフェニル基又はブチル基〕で示される化合物とし,次いで塩基に より置換ベンジルトリフェニル(又はトリブチル)ホスホランとなし,これに一 般式(XII) ▲数式、化学式、表等があります▼(XII)〔式中の記号は以下の意味を表わ す。 (B):▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります ▼又は▲数式、化学式、表等があります▼〔式中R2:水素原子,ハロゲン原子 ,ニトロ基,水酸基,低級アルコキシ基,カルボキシ基,シアノ基,オキサロア ミド基(−NHCOCOOH),低級アルコキシカルボニル基,低級アルキル基 ,ヒドロキシ低級アルキル基,低級アルコキシ低級アルキル基,カルボキシ低級 アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキル基,カルボキシ低級アルキ ルチオ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキルチオ低級アルキ ル基,ハロ低級アルキル基,カルボキシ低級アルコキシ基,低級アルコキシカル ボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル低級アルコキシ基,低級アルコキシ カルボニル低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル基又 は式▲数式、化学式、表等があります▼(式中R4とR5とは同一又は異って水 素原子,低級アルキル基,カルボキシ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニ ル低級アルキル基,低級アルカノイル基,カルボキシ低級アルカノイル基,低級 アルコキシカルボニル低級アルカノイル基,置換又は非置換フェニル低級アルコ キシカルボニル低級アルカノイル基,カルバモイル基,低級アルコキサリル基又 はモノ又はジ低級アルキルアミノカルボニル基),R3:水素原子、水酸基又は 低級アルコキシ基〕で示される基,X2:−CH=CH−,−Y3−Y4−(式 中Y3:単結合,−O−,−S−又は−NH−:Y4:途中硫黄原子で中断され ていてもよい炭素数が1〜6個のアルキレン基)で示される基, D:カルボキシ基,低級アルコキシカルボニル基又は▲数式、化学式、表等があ ります▼で示される基、 但し、一般式(X)でAが水素原子の時、(B)は▲数式、化学式、表等があり ます▼又は▲数式、化学式、表等があります▼或はDは▲数式、化学式、表等が あります▼で示される化合物を作用させることを特徴とする一般式(Ie)▲数 式、化学式、表等があります▼(Ie)〔式中A,n,R1,(B),X2及び Dは前記に同じ。〕で示される化合物の製造方法。 17.一般式(If) ▲数式、化学式、表等があります▼(If){式中の記号は以下の意味を表わす 。 A:水素原子,フェニル基又はフェノキシ基,n:3〜10の整数, R1:水素原子又は低級アルコキシ基,X1:−CH2CH2−,−CH=CH −,−CH2−Y1−(式中Y1:−O−,−S−又は−NH−),−Y1−C H2−,−CO−Y2−(式中Y2:−NH−,−CH2−Y1−又は−Y1− CH2−)又は−Y2−CO−で示される基, (B):▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります ▼又は▲数式、化学式、表等があります▼〔式中R2:水素原子,ハロゲン原子 ,ニトロ基,水酸基,低級アルコキシ基,カルボキシ基,シアノ基,オキサロア ミド基(−NHCOCOOH),低級アルコキシカルボニル基,低級アルキル基 ,ヒドロキシ低級アルキル基,低級アルコキシ低級アルキル基,カルボキシ低級 アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキル基,カルボキシ低級アルキ ルチオ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキルチオ低級アルキ ル基,ハロ低級アルキル基,カルボキシ低級アルコキシ基,低級アルコキシカル ボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル低級アルコキシ基,低級アルコキシ カルボニル低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル基又 は式▲数式、化学式、表等があります▼(式中R4とR5とは同一又は異って水 素原子,低級アルキル基,カルボキシ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニ ル低級アルキル基,低級アルカノイル基,カルボキシ低級アルカノイル基,低級 アルコキシカルボニル低級アルカノイル基,置換又は非置換フェニル低級アルコ キシカルボニル低級アルカノイル基,カルバモイル基,低級アルコキサリル基又 はモノ又はジ低級アルキルアミノカルボニル基),R3:水素原子,水酸基又は 低級アルコキシ基〕で示される基,X2:−CH=CH−,−Y3−Y4−(式 中Y3:単結合,−O−,−S−又は−NH−;Y4:途中硫黄原子で中断され ていてもよい炭素数が1〜6個のアルキレン基)で示される基, R7:低級アルキル基又は低級アルコキシフェニル低級アルキル基}で示される エステルよりエステル残基を除去することを特徴とする一般式(Ig) ▲数式、化学式、表等があります▼(Ig)(式中A,n,R1,X1,(B) 及びX2は前記に同じ。〕で示される化合物又はその塩の製造法。 18.一般式(XIII) ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII){式中の記号は以下の意味を表 わす。 A:水素原子,フェニル基又はフェノキシ基,n:3〜10の整数, R1:水素原子又は低級アルコキシ基,X1:−CH2CH2−,−CH=CH −,−CH2−Y1−(式中Y1:−O−,−S−又は−NH−−Y1−CH2 −,−CO−Y2−(式中Y2:−NH−,−CH2−Y1−又は−Y1−CH 2−)又は−Y2−CO−で示される基, (B):▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります ▼又は▲数式、化学式、表等があります▼〔式中R2:水素原子,ハロゲン原子 ,ニトロ基,水酸基,低級アルコキシ基,カルボキシ基,シアノ基,オキサロア ミド基(−NHCOCOOH),低級アルコキシカルボニル基,低級アルキル基 ,ヒドロキシ低級アルキル基,低級アルコキシ低級アルキル基,カルボキシ低級 アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキル基,カルボキシ低級アルキ ルチオ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキルチオ低級アルキ ル基,ハロ低級アルキル基,カルボキシ低級アルコキシ基,低級アルコキシカル ボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル低級アルコキシ基,低級アルコキシ カルボニル低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル基又 は式▲数式、化学式、表等があります▼とは同一又は異って水素原子,低級アル キル基,カルボキシ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキル基 ,低級アルカノイル基,カルボキシ低級アルカノイル基,低級アルコキシカルボ ニル低級アルカノイル基,置換又は非置換フェニル低級アルコキシカルボニル低 級アルカノイル基,カルパモイル基,低級アルコキサリル基又はモノ又はジ低級 アルキルアミノカルボニル基),R3:水素原子,水酸基又は低級アルコキシ基 〕で示される基,Y7:酸素原子又は硫黄原子, M2:水素原子又はアルカリ金属原子}で示される化合物と一般式(XIV) Z2−Y4−D(XIV) {式中の記号は以下の意味を表わす。 Z2:ハロゲン原子, Y4:途中硫黄原子で中断されていてもよい炭素数が1〜6個のアルキレン基, D:カルボキシ基,低級アルコキシカルボニル基又は▲数式、化学式、表等があ ります▼で示される基、 但し、一般式(XIII)でAが水素原子の時、(B)は▲数式、化学式、表等 があります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼或はDは▲数式、化学式、 表等があります▼で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般式(I h)▲数式、化学式、表等があります▼(Ih)〔式中A,n,R1,X1,( B)Y7,Y4及びDは前記に同じ。〕で示される化合物の製造法。 .一般式(XV) ▲数式、化学式、表等があります▼(XV){式中の記号は以下の意味を表わす 。 A:水素原子,フェニル基又はフェノキシ基,n:3〜10の整数, R1:水素原子又は低級アルコキシ基,X1:−CH2CH2−,−CH=CH −,−CH2−Y1−(式中Y1:−O−,−S−又は−NH−−Y1−CH2 −,−CO−Y2−(式中Y2:−NH−,−CH2−Y1−又は−Y1−CH 2−)又は−Y2−CO−で示される基, (B):▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります ▼又は▲数式、化学式、表等があります▼〔式中R2:水素原子,ハロゲン原子 ,ニトロ基,水酸基,低級アルコキシ基,カルボキシ基,シアノ基,オキサロア ミド基(−NHCOCOOH),低級アルコキシカルボニル基,低級アルキル基 ,ヒドロキシ低級アルキル基,低級アルコキシ低級アルキル基,カルボキシ低級 アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキル基,カルボキシ低級アルキ ルチオ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキルチオ低級アルキ ル基,ハロ低級アルキル基,カルボキシ低級アルコキシ基,低級アルコキシカル ボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル低級アルコキシ基,低級アルコキシ カルボエル低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル基又 は式▲数式、化学式、表等があります▼(式中R4とR5とは同一又は異って水 系原子,低級アルキル基,カルボキシ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニ ル低級アルキル基,低級アルカノイル基,カルボキシ低級アルカノイル基,低級 アルコキシカルボニル低級アルカノイル基,置換又は非置換フェニル低級アルコ キシカルボニル低級アルカノイル基,カルバモイル基,低級アルコキサリル基又 はモノ又はジ低級アルキルアミノカルボニル基),R3:水素原子,水酸基又は 低級アルコキシ基〕で示される基,X2:−CH=CH−,−Y3−Y4−(式 中Y3:単結合,−O−,−S−又は−NH−:Y4:途中硫黄原子で中断され ていてもよい炭素数が1〜6個のアルキレン基)で示される基}で示される化合 物にアジ化ナトリウムを作用させることを特徴とする 一般式(Ii) ▲数式、化学式、表等があります▼(Ii)〔式中A,n,R1,X1,(B) 及びX2は前記に同じ。〕で示される化合物の製造法。 20.一般式(XVII) ▲数式、化学式、表等があります▼(XVII){式中の記号は以下の意味を表 わす。 M2:水素原子又はアルカリ金属原子,R1:水素原子又は低級アルコキシ基, X1:−CH2CH2−,−CH=CH−,−CH2−Y1−(式中Y1:−O −,−S−又は−NH−),−Y1−CH2−,−CO−Y2−(式中Y2:− NH−,−CH2−Y1−又は−Y1−CH2−)又は−Y2−CO−で示され る基, (B):▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります ▼又は▲数式、化学式、表等があります▼〔式中R2:水素原子,ハロゲン原子 ,ニトロ基,水酸基,低級アルコキシ基,カルボキシ基,シアノ基,オキサロア ミド基(−NHCOCOOH),低級アルコキシカルボニル基,低級アルキル基 ,ヒドロキシ低級アルキル基,低級アルコキシ低級アルキル基,カルボキシ低級 アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキル基,カルボキシ低級アルキ ルチオ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニル低級アルキルチオ低級アルキ ル基,ハロ低級アルキル基,カルボキシ低級アルコキシ基,低級アルコキシカル ボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル低級アルコキシ基,低級アルコキシ カルボニル低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基,低級アルカノイル基又 は式▲数式、化学式、表等があります▼(式中R4とR5とは同一又は異って水 素原子,低級アルキル基.カルボキシ低級アルキル基,低級アルコキシカルボニ ル低級アルキル基,低級アルカノイル基,カルボキシ低級アルカノイル基,低級 アルコキシカルボニル低級アルカノイル基,置換又は非置換フェニル低級アルコ キシカルボニル低級アルカノイル基,カルバそイル基,低級アルコキサリル基又 はそノ又はジ低級アルキルアミノカルボニル基),R3:水素原子,水酸基又は 低級アルコキシ基〕で示される基,X2:−CH=CH−,−Y3−Y4−(式 中Y3:単結合,−O−,−S−又は−NH−;Y4:途中硫黄原子で中断され ていてもよい炭素数が1〜6個のアルキレン基)で示される基, D:カルボキシ基,低級アルコキシカルボニル基又は▲数式、化学式、表等があ ります▼で示される基、 但し、下記一般式(XVIII)でAが水素原子の時,(B)は▲数式、化学式 、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼化合物と或はDは▲ 数式、化学式、表等があります▼で示される一般式(XVIII) A−(CH2)n−Z2(XVIII)〔式中の記号は以下の意味を表わす。 A:水素原子,フェニル基又はフェノキシ基,n:3〜10の整数, Z2:ハロゲン原子〕で示される置換アルキルハライドとを反応させることを特 徴とする一般式(I)▲数式、化学式、表等があります▼(I)〔式中A,n, R1,X1,(B),X2及びDは前記に同じ。〕で示される化合物の製造方法 。 21.Aが水素原子又はフェニル基,nが4〜7,R1が水素原子,X1が−C O−Y2−(式中Y2は−NH−(B)が▲数式、化学式、表等があります▼( 式中R2は水素原子,ハロゲン原子,ニトロ基,低級アルキル基又はカルボキシ 低級アルキル基)又は▲数式、化学式、表等があります▼,X2が−CH=CH −又は−Y3−Y4−(式中Y3は単結合,−O−又は−S−,Y4は途中硫黄 原子で中断されていてもよい炭素数が1〜6個のアルキレン基),R7が低級ア ルキル基である請求の範囲第8項記載の製造方法。 22.Aが水素原子又はフェニル基,nが4〜7,R1が水素原子,が−CO− Y2−(式中Y2は−NH−),(B)▲数式、化学式、表等があります▼(式 中R2は水素原子.ハロゲン原子.ニトロ基又は低級アルキル基)で示される基 ,X2が−Y3−Y4−(式中Y3は単結合,−O−又は−S−,Y4は途中硫 黄原子で中断されていてもよい炭素数1〜6個のアルキレン基)である請求の範 囲第10項記載の製造方法。 23.請求の範囲第8項において,式(If)の化合物がエチル4−クロロ−2 −〔p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシアセテートである 請求の範囲第8項記載の製造方法。 24.請求の範囲第8項において,式(If)の化合物がエチル3−〔o−〔p −(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェニル〕プロピオネートである請 求の範囲第8項記載の製造方法。 25.請求の範囲第8項において式(If)の化合物がエチルo−〔p−(4− フェニルブトキシ)ベンズアミド〕シンナメートである請求の範囲第8項記載の 製造方法。 26.請求の範囲第8項において式(If)の化合物がエチルo−〔p−(4− フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシアセテートである請求の範囲第8 項記載の製造方法。 27.請求の範囲第8項において式(If)の化合物がエチル4−ニトロ −2 −〔p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシアセテートである 請求の範囲第8項記載の製造方法。 28.請求の範囲第8項において式(If)の化合物がエチル4−メチル−2− 〔p−(4−フェニルブトキシ)ベンズアミド〕フェノキシアセテートである請 求の範囲第8項記載の製造方法。 29.請求の範囲第10項において式(XV)の化合物がp−ヘブチルオキシ− N−(o−シアノメトキシフェニル)ベンズアミドである請求の範囲第10項記 載の製造方法。 [Claims] 1. General formula ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ {The symbols in the formula represent the following meanings. A: hydrogen atom, phenyl group or phenoxy group n: integer from 3 to 10 R1: hydrogen atom or lower alkoxy group X1: -CH2CH2-, -CH=CH-, -CH2-Y1- (in the formula Y1: -O - , -S- or -NH-), -Y1-CH2-, -CO-Y2- (in the formula Y2: -NH-, -CH2-Y1- or -Y1-CH2-) or -Y2-CO- Been ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R2: hydrogen atom, halogen atom, nitro group, hydroxyl group, lower alkoxy group, carboxy group, cyano group, oxalamide group (-NHCOCOOH), lower alkyl Koxycarbonyl group, lower alkyl group, hydroxy lower alkyl group, lower alkyl group xy-lower alkyl group, carboxy-lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl group alkyl group, carboxy lower alkylthio lower alkyl group, lower alkoxy group Rubonyl lower alkylthio lower alkyl group, halo lower alkyl group, carboxy lower alkoxy group, lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl lower alkoxy group, lower alkoxycarbonyl lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl group or formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R4 and R are the same or different, hydrogen atom, lower alkyl group, carboxy Lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, lower alkanoyl group, carboxy lower alkanoyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group, substituted or unsubstituted phenyl lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group, Bamoyl group, lower alkoxalyl group or mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group -CH=CH-, -Y3-Y4- (in the formula, Y3: single bond, -O-, -S- or -NH-; Y4: A group represented by an alkylene group with 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted by a sulfur atom, a carboxyl group, a lower alkoxycarbonyl group, or a ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. A group represented by ▼ However, when A is a hydrogen atom, (B) is ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ Or D is ▲ Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. Compounds indicated by ▼ or pharmaceutically acceptable salts thereof. 2. In the general formula described in claim 1, A is a hydrogen atom or a phenyl group, n is 4 to 7, R1 is a hydrogen atom, and X1 is -CO-Y2- (in the formula, Y2 is -XH-) (B) is ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R2 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a nitrogen atom. thoro group, lower alkyl group, or carboxy lower alkyl group) or ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ X2 is -CH=CH- or -Y3-Y4- (in the formula, Y3 is a single bond, -O- or -S -, Y4 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted by a sulfur atom), D is a carboxy group, or ▲ has a numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ described in claim 1 compound. 3.4-chloro-2-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide]phenoki The compound according to claim 1, which is cyacetic acid. 4.3-[o-[p-(4-phenylbutoxy)benzamido]phenyl]pro The compound according to claim 1, which is pionic acid. 5. The compound according to claim 1, which is o-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide]cinnamic acid. 6. The compound according to claim I, which is o-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide]phenoxyacetic acid. 7.4-Nitro-2-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide]phenoki The compound according to claim 1, which is cyacetic acid. 8.4-Methyl-2-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide]phenoki The compound according to claim 1, which is cyacetic acid. 9. The compound according to claim 1, which is 4-hebutyloxy-2'-(5-tetrazolylmethoxy)benzanilide. 10. (a) General formula (II) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) [The symbols in the formula represent the following meanings. A: hydrogen atom, phenyl group or phenoxy group, n: integer from 3 to 10, R1: hydrogen atom or lower alkoxy group. ] Carboxylic acids or their reactive derivatives represented by general formula (III) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available ▼ (III) {The symbols in the formula represent the following meanings. vinegar. (B): ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. [R2 in the formula: hydrogen atom, halogen atom, nitro group, hydroxyl group, lower alkoxy group, carboxy group, cyano group, oxaloamide group (-NHCOCOOH), lower alkoxycarbonyl group, lower alkyl group, hydroxy lower alkyl group, lower class a Rukoxy lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl group lower alkyl group, carboxy lower alkylthio lower alkyl group, lower alkyl group cyclocarbonyl lower alkylthio lower alkyl group, halo lower alkyl group, carboxy lower alkoxy group, lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower alkyl Noyl lower alkoxy group, lower alkoxycarbonyl lower alkoxycarbonyl Lower alkoxy group, lower alkanoyl group or formula ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available ▼ (In the formula, R4 and R5 are the same or different, hydrogen atom, lower alkyl group, Carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, lower alkanoyl group, carboxy lower alkanoyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group substituted or unsubstituted phenyl lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group, carbamoyl group, lower alkoxalyl group or mono- or di-lower alkylaminocarboxylic group; (Y3: single bond, -O-, -S- or -NH-;Y4: Aluminum having 1 to 6 carbon atoms, which may be interrupted by a sulfur atom kylene group), D: carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, or A group represented by ▼ However, when A is a hydrogen atom in general formula (II), ▲ there are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ there are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, or D is ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. (b) General formula (IV) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (IV) [In the formula, A, n and R1 are the same as above] Amino compounds and general formula (V) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(V) [In the formula, (B), X2 and D are the same as above. (c) General formula (VI) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (VI) [In the formula, A, n and R1 are the above-mentioned Same as . Y1 is -O-, -S- or -NH-, M1 is a hydrogen atom or an alkali metal atom when Y1 is an oxygen atom or a sulfur atom, and a hydrogen atom when Y1 is an imino group. means child. ] Compounds represented by general formula (VII) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(VII) [In the formula, (B), X2 and D are the same as above. Z1 means a halogen atom or a sulfonate residue, and Y5 means a methylene group or a methylene carbonyl group (-CH2CO-). ] or (d) General formula (VIII) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (VIII) [In the formula, A, n, R1 and Z1 are the same as above. Y6 means a methylene group or a carbonylmethylene group (-COCH2-). ] Compounds represented by general formula (IX) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(IX) [In the formula, M1, Y1, (B)X2 and D are the same as above. ] or (e) General formula (X) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (X) [In the formula, A, n and R1 are the same as above. Z2 means a halogen atom. ] in the halogen compound shown in By reacting sphine or tributylphosphine, the general formula (XI) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (XI) [In the formula, A, n, R1 and Z2 are the same as above. R6 means a phenyl group or a butyl group. ] and then with a base. The general formula (XII) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (XII) [In the formula, B, X2 and D are the same as above. character. ] or (f) General formula (If) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (If) [In the formula, A, n, R1 (B) and X2 are the same as above. X1 is -CH2CH2-, -CH=CH-, -CH2-Y1- (in the formula, Y1 is the same as above) -Y1-CH2-, CO-Y2- (in the formula, Y2 is -NH -, -CH2-Y1 - or -Y1-CH2-) or -Y2-CO-, and R7 means a lower alkyl group or a lower alkoxyphenyl lower alkyl group. ] or (g) General formula (XIII) ▲ There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, A, n, R1, X1 and (B) are as shown above. same. Y7 is an oxygen atom or a sulfur source The child M2 means a hydrogen atom or an alkali metal atom. ] and the compound represented by the general formula (XIV) Z2-Y4-D (XIV) [wherein Z2, Y4 and D are the same as above. ] or (h) a carbonyl lower alkanoyl group, a carbamoyl group, a lower alkoxalyl group, or a compound represented by the general formula (XV). or di-lower alkylaminocarbonyl group), R3: hydrogen atom, hydroxyl group, or lower alkoxy group], -, -S- or -NH-; Y4: a group represented by an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted by a sulfur atom, D: a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, or ▲ formula , chemical formulas, tables, etc. A group represented by ▼ However, when A is a hydrogen atom in general formula (II), ▲ there are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ there are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or D is ▲ mathematical formula , chemical formulas, tables, etc. (b) General formula (IV) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (IV) [In the formula, A, n and R1 are the same as above] Amino compounds and general formula (V) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(V) [In the formula, (B), X2 and D are the same as above. (C) General formula (VI) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (VI) [In the formula, A, n and R1 are the above-mentioned Same as . Y1 is -O-, -S- or -NH-, M1 is a hydrogen atom or an alkali metal atom when Y1 is an oxygen atom or a sulfur atom, and a hydrogen atom when Y1 is an imino group. means child. ] Compounds represented by general formula (VII) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(VII) [In the formula, (B), X2 and D are the same as above. Z1 means a halogen atom or a sulfonate residue, and Y5 means a methylene group or a methylene carbonyl group (-CH2CO-). ] or (d) General formula (VIII) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (VIII) [In the formula, A, n, R1 and Z1 are the same as above. Y6 means a methylene group or a carbonylmethylene group (-COCH2-). ] and the general formula (IX) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (IX) [In the formula, MI, Y1, (B), X2, and and D are the same as above. ] or (e) General formula (X) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (X) [In the formula, A, n and R1 are the same as above. Z2 means a halogen atom. ] in the halogen compound shown in By reacting sphine or tributylphosphine, the general formula (XI) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (XI) [In the formula, A, n, R1 and Z2 are the same as above. R8 means a phenyl group or a butyl group. ] and then with a base. The general formula (XII) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (XII) [In the formula, B, X2 and D are the same as above. character. ] Or (f) General formula (If) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (If) [In the formula, A, n, R1, (B) and X 2 are the above Same as . X1 is -CH2CH2-, -CH=CH-, -CH2-Y1- (in the formula, Y1 is the same as above) -Y1-CH2-], -CO-Y2- (in the formula, Y2 is -NH-, -CH2 -Y1- or -Y1-CH2-) or -Y2-C O-, R7 is a lower alkyl group or a lower alkoxyphenyl lower alkyl group. means alkyl group. ] or (g) General formula (XIII) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (XIII) [In the formula, A, n, R1, X1 and (B) is the same as above. Y7 is oxygen atom or sulfur atom, M2 is hydrogen atom or alkali means a metal atom. ] A compound represented by the general formula (XIV) Z2-Y4-D (XIV) [wherein Z2, Y4 and D are the same as above. ] or (h) General formula (XV) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (XV) [In the formula, A, n, R1, X1, (B) and X2 are Same as above. ] or (i) General formula (XVII) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (XVII) [In the formula, M2, R1, X1, (B ) X2 and D is the same as above. ] and the general formula (XVIII) A-(CH2)n-Z2(XVIII) [wherein A, n and Z2 are the same as above. [In the formula, A, n, R1, X1, (B) Same as . ] is obtained, and then, if desired, (j) if compound (I) has a vinylene group, it is reduced by a conventional method to convert it into the corresponding compound (I) having an ethylene group. , (k) In compound (I), R2 is a If it is a mino group, it can be alkylated or acylated by a conventional method to convert it into the corresponding alkyl amino group or acylamino group, or (1) Compound (I) in which R2 is a hydroxy lower alkyl group. In some cases, halogenation by conventional methods (m) When R2 in compound (I) is a formyl group, it is converted to the corresponding halo-lower alkyl group by reduction by a conventional method. (n) When R2 in compound (I) is a halo-lower alkyl group, converting the compound (I) into a corresponding hydroxymethyl group, or (n) converting the compound (I) into a lower alkyl group by a conventional method. (o) When R2 in compound (I) is a halo-lower alkyl group, convert it into lower alkoxycarbonyl-lower alkylthio by a conventional method. low-level software that responds by A method for producing a phenylene derivative represented by the general formula (I) or a salt thereof, which comprises converting the compound into a compound (I) which is an alkoxycarbonyl lower alkylthio lower alkyl group. 12. General formula (II) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) [The symbols in the formula represent the following meanings. A: hydrogen atom, phenyl group or phenoxy group, n: integer from 3 to 10, R1: hydrogen atom or lower alkoxy group. ] Carboxylic acids or their reactive derivatives represented by general formula (III) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available ▼ (III) {The symbols in the formula represent the following meanings. vinegar. (B): ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [R2 in the formula: hydrogen atom, halogen atom, nitro group, Hydroxyl group, lower alkoxy group, carboxy group, cyano group, oxaroa Mido group (-NHCOCOOH), lower alkoxycarbonyl group, lower alkyl group, hydroxy lower alkyl group, lower alkoxy lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, carboxy lower alkyl group ruthio lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkylthio lower alkyl group group, halo-lower alkyl group, carboxy-lower alkoxy group, lower alkoxyl group Bonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl lower alkoxy group, lower alkoxy carbonyl lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl group or is a formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R4 and R5 are the same or different and are water Elementary atoms, lower alkyl groups. carboxy lower alkyl group, lower alkoxy carboni lower alkyl group, lower alkanoyl group, carboxy lower alkanoyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group, substituted or unsubstituted phenyl lower alkanoyl group oxycarbonyl lower alkanoyl group, carbamoyl group, lower alkoxalyl gomata R3: hydrogen atom, hydroxyl group or lower alkoxy group], X2: -CH=CH-, -Y3-Y4- (in the formula Y3: single bond, - O-, -S- or -NH-; Y4: a group represented by an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted with a sulfur atom; D: a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, or ▲ Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. A group represented by ▼ However, when A is a hydrogen atom in general formula (II), (B) is a group represented by ▲ ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, or D is ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ A general formula characterized by reacting with the amino compound shown in (Ia) ▲ Formula , chemical formulas, tables, etc. ▼ (Ia) [In the formula, A, n, R1, (B ), X2 and D are the same as above. ] A method for producing the compound shown in 13. General formula (IV) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (IV) [The symbols in the formula represent the following meanings. A: hydrogen atom, phenyl group or phenoxy group, n: integer from 3 to 10, R1: hydrogen atom or lower alkoxy group. ] and the general formula (V) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (V) {The symbols in the formula represent the following meanings. (B): ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [R2 in the formula: hydrogen atom, halogen atom, nitro group, Hydroxyl group, lower alkoxy group, carboxy group, cyano group, oxaroa Mido group (-NHCOCOOH), lower alkoxycarbonyl group, lower alkyl group, hydroxy lower alkyl group, lower alkoxy lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, carboxy lower alkyl group ruthio lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkylthio lower alkyl group group, halo-lower alkyl group, carboxy-lower alkoxy group, lower alkoxyl group Bonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl lower alkoxy group, lower alkoxy carbonyl lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl group or is a formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R4 and R5 are the same or different and are water Elementary atom, lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl group lower alkyl group, lower alkanoyl group, carboxy lower alkanoyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group, substituted or unsubstituted phenyl lower alkanoyl group xycarbonyl lower alkanoyl group, carbamoyl group, lower alkoxalyl group or is a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group), R3: a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a lower alkoxy group], X2: -CH=CH-, -Y3-Y4- (in the formula Y3: single bond, -O -, -S- or -NH-; Y4: a group represented by an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted with a sulfur atom), D: a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, or ▲ formula , chemical formulas, tables, etc. A group represented by ▼ However, when A is a hydrogen atom in general formula (IV), (B) is a group represented by ▲ ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or D is ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ A general formula characterized by reacting with a carboxylic acid or its reactive derivative ( Ib) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, A, n, R1, (B), X2 and D are the same as above. ] (Ib) A method for producing a compound represented by: 14. General formula (VI) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (VI) {The symbols in the formula represent the following meanings. A: hydrogen atom, phenyl group or phenoxy group, n: integer from 3 to 10, R1: hydrogen atom or lower alkoxy group, Y1: -O-, -S- or -NH-, M1: Y1 is an oxygen atom or sulfur When it is an atom, it is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and when Y1 is an imino group, it is a hydrogen atom. ] and general formula (VII) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (VII) {The symbols in the formula represent the following meanings. vinegar. Z1: halogen atom or sulfonate residue, Y5: methylene group or methylene carb Bonyl group (-CH2CO-), (B): ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula R2: Hydrogen atom, halogen atom, nitro group, hydroxyl group, lower alkoxy group, carbo Oxy group, cyano group, oxalamide group (-NHCOCOOH), lower alkoxy carbonyl group, lower alkyl group, hydroxy lower alkyl group, lower alkoxy group alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group Kyl group, carboxy lower alkylthio lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl group halo-lower alkyl group, halo-lower alkyl group, carboxy-lower alkyl group, Koxy group, lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl lower alkoxy group, lower alkoxycarbonyl lower alkoxycarbonyl lower alkoxy xy group, lower alkanoyl group, or formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. lower alkoxycarbonyl group, lower alkyl group, lower alkanoyl group, xy lower alkanoyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group, substituted or unsubstituted phenyl lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group, carbamoy group, lower alkoxalyl group, or mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group), R3: hydrogen atom, hydroxyl group, or lower alkoxy group], : single bond, -O-, -S- or -NH-; Y4: group represented by (alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted by a sulfur atom), D: carboxy group, lower Alkoxycarbonyl group or ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc. A group represented by ▼. However, when A is a hydrogen atom in general formula (VI), (B) is a group represented by ▲. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ Or D is ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ General formula (Ic) characterized by reacting with the compound shown in ▲ Mathematical formula, chemical formula , tables, etc. ▼ (Ic) [In the formula, A, n, R1, Y1, Y5, (B), X2 and D are the same as above. ] A method for producing the compound shown in 15. General formula (VIII) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (VIII) [The symbols in the formula represent the following meanings. Was. A: hydrogen atom, phenyl group or phenoxy group, n: integer from 3 to 10, R1: hydrogen atom or lower alkoxy group, Y6: methylene group or carbonyl methylene (-COCH2-), Z1: halogen atom or sulfonate residue] Compounds and general formula (IX) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (IX) {The symbols in the formula represent the following meanings. M1: When Y1 is an oxygen atom or a sulfur atom, a hydrogen atom or an alkali metal atom, When Y1 is an imino group, a hydrogen atom, Y1: -O-, -S- or -XH-, (B):▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R2: hydrogen atom, halogen atom, nitro group, hydroxyl group, lower alkoxy group , carboxy group, cyano group, oxaroa Mido group (-NHCOCOOH), lower alkoxycarbonyl group, lower alkyl group, hydroxy lower alkyl group, lower alkoxy lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, carboxy lower alkyl group ruthio lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkylthio lower alkyl group group, halo-lower alkyl group, carboxy-lower alkoxy group, lower alkoxyl group Bonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl lower alkoxy group, lower alkoxy carbonyl lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl group or is a formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R4 and R5 are the same or different and are water Elementary atom, lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl group lower alkyl group, lower alkanoyl group, carboxy lower alkanoyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group, substituted or unsubstituted phenyl lower alkanoyl group xycarbonyl lower alkanoyl group, carbamoyl group, lower alkoxalyl group or is a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group), R3: a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a lower alkoxy group], X2: -CH=CH-, -Y3-Y4- (in the formula Y3: single bond, - O-, -S- or -NH-; Y4: a group represented by an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted with a sulfur atom; D: a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, or ▲ Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. A group represented by ▼ However, when A is a hydrogen atom in the general formula (VIII), (B) is ▲ has a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ or ▲ has a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼, or D is ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼General formula (Id) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(Id) , R1, Y6, Y1, (B) X2 and D are the same as above. ] A method for producing the compound shown in 16. General formula (X) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(X) [The symbols in the formula represent the following meanings. A: hydrogen atom, phenyl group or phenoxy group, n: integer from 3 to 10, R1: hydrogen atom or lower alkoxy group, Z2: halogen atom. ) is reacted with triphenylphosphine or tributylphosphine. General formula (XI) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(XI) [In the formula, A, n, R1 and Z3 are the same as above. R6 is a phenyl group or butyl group], and then a base is added. to substituted benzyltriphenyl (or tributyl) phosphorane, and to this General formula (XII) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(XII) [The symbols in the formula represent the following meanings. vinegar. (B): ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [R2 in the formula: hydrogen atom, halogen atom, nitro group, Hydroxyl group, lower alkoxy group, carboxy group, cyano group, oxaroa Mido group (-NHCOCOOH), lower alkoxycarbonyl group, lower alkyl group, hydroxy lower alkyl group, lower alkoxy lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, carboxy lower alkyl group ruthio lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkylthio lower alkyl group group, halo-lower alkyl group, carboxy-lower alkoxy group, lower alkoxyl group Bonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl lower alkoxy group, lower alkoxy carbonyl lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl group or is a formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R4 and R5 are the same or different and are water Elementary atom, lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl group lower alkyl group, lower alkanoyl group, carboxy lower alkanoyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group, substituted or unsubstituted phenyl lower alkanoyl group xycarbonyl lower alkanoyl group, carbamoyl group, lower alkoxalyl group or is a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group), R3: a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a lower alkoxy group], X2: -CH=CH-, -Y3-Y4- (in the formula Y3: single bond, -O -, -S- or -NH-: Y4: a group represented by an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted with a sulfur atom), D: a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, or ▲ formula , chemical formulas, tables, etc. A group represented by ▼ However, when A is a hydrogen atom in general formula (X), (B) has a ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or D is ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ General formula (Ie) ▲ Number There are formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(Ie) [In the formula, A, n, R1, (B), X2 and D are the same as above. ] A method for producing a compound represented by. 17. General formula (If) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (If) {The symbols in the formula represent the following meanings. A: hydrogen atom, phenyl group or phenoxy group, n: integer from 3 to 10, R1: hydrogen atom or lower alkoxy group, X1: -CH2CH2-, -CH=CH -, -CH2-Y1- (in the formula Y1: -O-, -S- or -NH-), -Y1-C H2-, -CO-Y2- (in the formula Y2: -NH-, -CH2-Y1- or -Y1- CH2-) or -Y2- Group represented by CO-, (B): ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [R2 in the formula: hydrogen atom , halogen atom, nitro group, hydroxyl group, lower alkoxy group, carboxy group, cyano group, oxaroa Mido group (-NHCOCOOH), lower alkoxycarbonyl group, lower alkyl group, hydroxy lower alkyl group, lower alkoxy lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, carboxy lower alkyl group ruthio lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkylthio lower alkyl group group, halo-lower alkyl group, carboxy-lower alkoxy group, lower alkoxyl group Bonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl lower alkoxy group, lower alkoxy carbonyl lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl group or is a formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R4 and R5 are the same or different and are water Elementary atom, lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl group lower alkyl group, lower alkanoyl group, carboxy lower alkanoyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group, substituted or unsubstituted phenyl lower alkanoyl group xycarbonyl lower alkanoyl group, carbamoyl group, lower alkoxalyl group or is a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group), R3: a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a lower alkoxy group], X2: -CH=CH-, -Y3-Y4- (in the formula Y3: single bond, -O -, -S- or -NH-; Y4: a group represented by an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted with a sulfur atom, R7: a lower alkyl group or a lower alkoxyphenyl lower alkyl group } General formula (Ig) characterized by removing ester residue from ester ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(Ig) X2 is the same as above.] 18. General formula (XIII) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (XIII) {Symbols in the formula represent the following meanings. Was. A: hydrogen atom, phenyl group or phenoxy group, n: integer from 3 to 10, R1: hydrogen atom or lower alkoxy group, X1: -CH2CH2-, -CH=CH -, -CH2-Y1- (in the formula Y1: -O-, -S- or -NH- -Y1-CH2 -, -CO-Y2- (in the formula Y2: -NH-, -CH2-Y1- or -Y1-CH 2-) or -Y2-CO- A group represented by (B): ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [R2 in the formula: hydrogen atom, halogen Atom , nitro group, hydroxyl group, lower alkoxy group, carboxy group, cyano group, oxaloa Mido group (-NHCOCOOH), lower alkoxycarbonyl group, lower alkyl group, hydroxy lower alkyl group, lower alkoxy lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, carboxy lower alkyl group ruthio lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkylthio lower alkyl group group, halo-lower alkyl group, carboxy-lower alkoxy group, lower alkoxyl group Bonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl lower alkoxy group, lower alkoxy carbonyl lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl group or is the same or different from the formula ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ Kyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, lower alkanoyl group, carboxy lower alkanoyl group, lower alkoxycarbo lower alkanoyl group, substituted or unsubstituted phenyl lower alkoxycarbonyl group alkanoyl group, carpamoyl group, lower alkoxalyl group, or mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group), R3: hydrogen atom, hydroxyl group, or lower alkoxy group], Y7: oxygen atom or sulfur atom, M2: hydrogen atom or alkali metal atom} and the compound represented by the general formula (XIV) Z2-Y4-D(XIV) {The symbols in the formula represent the following meanings. Z2: Halogen atom, Y4: Alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted by a sulfur atom, D: Carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, or ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. A group represented by ▼ However, when A is a hydrogen atom in general formula (XIII), (B) has ▲ a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ or ▲ has a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ or D is a general formula (I h) that is characterized by reacting with the compound shown in ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. , R1, X1, (B) Y7, Y4 and D are the same as above. ] A method for producing the compound shown in .. General formula (XV) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (XV) {The symbols in the formula represent the following meanings. A: hydrogen atom, phenyl group or phenoxy group, n: integer from 3 to 10, R1: hydrogen atom or lower alkoxy group, X1: -CH2CH2-, -CH=CH -, -CH2-Y1- (in the formula Y1: -O-, -S- or -NH- -Y1-CH2 -, -CO-Y2- (in the formula Y2: -NH-, -CH2-Y1- or -Y1-CH 2-) or -Y2-CO- A group represented by (B): ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [R2 in the formula: hydrogen atom, halogen Atom , nitro group, hydroxyl group, lower alkoxy group, carboxy group, cyano group, oxaloa Mido group (-NHCOCOOH), lower alkoxycarbonyl group, lower alkyl group, hydroxy lower alkyl group, lower alkoxy lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, carboxy lower alkyl group ruthio lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkylthio lower alkyl group group, halo-lower alkyl group, carboxy-lower alkoxy group, lower alkoxyl group Bonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl lower alkoxy group, lower alkoxy carboel lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl group or is a formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R4 and R5 are the same or different and are water system atoms, lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl group lower alkyl group, lower alkanoyl group, carboxy lower alkanoyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group, substituted or unsubstituted phenyl lower alkanoyl group xycarbonyl lower alkanoyl group, carbamoyl group, lower alkoxalyl group or is a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group), R3: a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a lower alkoxy group], X2: -CH=CH-, -Y3-Y4- (in the formula Y3: single bond, -O -, -S- or -NH-: Y4: a group represented by an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted with a sulfur atom) General formula (Ii) characterized by the action of sodium azide on a substance ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(Ii) [In the formula, A, n, R1, X1, (B) and X2 are as above. same. ] A method for producing the compound shown in 20. General formula (XVII) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (XVII) {The symbols in the formula represent the following meanings. Was. M2: hydrogen atom or alkali metal atom, R1: hydrogen atom or lower alkoxy group, X1: -CH2CH2-, -CH=CH-, -CH2-Y1- (in the formula Y1: -O -, -S- or -NH -), -Y1-CH2-, -CO-Y2- (in the formula Y2: -NH-, -CH2-Y1- or -Y1-CH2-) or -Y2-CO- (B): ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [R2 in the formula: hydrogen atom, halogen atom, Nitro group, hydroxyl group, lower alkoxy group, carboxy group, cyano group, oxaroa Mido group (-NHCOCOOH), lower alkoxycarbonyl group, lower alkyl group, hydroxy lower alkyl group, lower alkoxy lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, carboxy lower alkyl group ruthio lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkylthio lower alkyl group group, halo-lower alkyl group, carboxy-lower alkoxy group, lower alkoxyl group Bonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl lower alkoxy group, lower alkoxy carbonyl lower alkoxycarbonyl lower alkoxy group, lower alkanoyl group or is a formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R4 and R5 are the same or different and are water Elementary atoms, lower alkyl groups. carboxy lower alkyl group, lower alkoxy carboni lower alkyl group, lower alkanoyl group, carboxy lower alkanoyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkanoyl group, substituted or unsubstituted phenyl lower alkanoyl group xycarbonyl lower alkanoyl group, carbazoyl group, lower alkoxalyl group or R3: hydrogen atom, hydroxyl group or lower alkoxy group], X2: -CH=CH-, -Y3-Y4- (in the formula Y3: single bond, - O-, -S- or -NH-; Y4: a group represented by an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted with a sulfur atom; D: a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, or ▲ Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. A group represented by ▼ However, when A is a hydrogen atom in the following general formula (XVIII), (B) is ▲ has a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ or ▲ has a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ Compound and or D is ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. General formula (XVIII) shown by ▼ A-(CH2)n-Z2(XVIII) [Symbols in the formula represent the following meanings. A: hydrogen atom, phenyl group or phenoxy group, n: an integer of 3 to 10, Z2: halogen atom]. General formula (I) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (I) [In the formula, A, n, R1, X1, (B), X2 and D are the same as above. ] A method for producing a compound represented by. 21. A is a hydrogen atom or a phenyl group, n is 4 to 7, R1 is a hydrogen atom, X1 is -C O-Y2- (In the formula, Y2 is -NH-(B) In the formula, R2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a lower alkyl group, or a carboxy lower alkyl group) or ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼, X2 is -CH=CH - or -Y3-Y4- (in the formula Y3 is a single bond, -O- or -S-, Y4 is an alkylene group with 1 to 6 carbon atoms which may be interrupted by a sulfur atom), and R7 is a lower atom. 9. The manufacturing method according to claim 8, which is an alkyl group. 22. A is a hydrogen atom or a phenyl group, n is 4 to 7, R1 is a hydrogen atom, is -CO- Y2- (in the formula, Y2 is -NH-), (B) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (Formula R2 is a hydrogen atom, halogen atom, nitro group or lower alkyl group), X2 is -Y3-Y4- (in the formula, Y3 is a single bond, -O- or -S-, and Y4 is a sulfur group) (alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, which may be interrupted by a yellow atom) The manufacturing method according to item 10. 23. The manufacturing method according to claim 8, wherein the compound of formula (If) is ethyl 4-chloro-2-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide] phenoxy acetate. 24. Claim 8 provides that the compound of formula (If) is ethyl 3-[o-[p-(4-phenylbutoxy)benzamido]phenyl]propionate. Scope of Claim 8. The manufacturing method according to item 8. 25. The method according to claim 8, wherein the compound of formula (If) is ethyl o-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide]cinnamate. 26. The manufacturing method according to claim 8, wherein the compound of formula (If) is ethyl o-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide] phenoxy acetate. 27. The manufacturing method according to claim 8, wherein the compound of formula (If) is ethyl 4-nitro-2-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide] phenoxy acetate. 28. Claim 8 provides that the compound of formula (If) is ethyl 4-methyl-2-[p-(4-phenylbutoxy)benzamide] phenoxy acetate. Scope of Claim 8. The manufacturing method according to item 8. 29. Claim 10, wherein the compound of formula (XV) is p-hebutyloxy-N-(o-cyanomethoxyphenyl)benzamide. Manufacturing method described.
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