JPS6247143A - Wafer supplying apparatus - Google Patents

Wafer supplying apparatus

Info

Publication number
JPS6247143A
JPS6247143A JP60186566A JP18656685A JPS6247143A JP S6247143 A JPS6247143 A JP S6247143A JP 60186566 A JP60186566 A JP 60186566A JP 18656685 A JP18656685 A JP 18656685A JP S6247143 A JPS6247143 A JP S6247143A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
wafers
arm
tray
driver
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60186566A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Arai
浩 新井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nippon Kogaku KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kogaku KK filed Critical Nippon Kogaku KK
Priority to JP60186566A priority Critical patent/JPS6247143A/en
Publication of JPS6247143A publication Critical patent/JPS6247143A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)
  • Separation, Sorting, Adjustment, Or Bending Of Sheets To Be Conveyed (AREA)

Abstract

PURPOSE:To preferably manage wafers at every lot by reading out information during feeding, sorting and feeding the wafers to corresponding wafer processors on the basis of the information. CONSTITUTION:A wafer W is removed by an arm 10 from a carrier 24, threads 20 are rotatably driven by a driver 22 to move in a direction of an arrow A. The wafer is emitted by an LED 46 during feeding, and the reflected light is focused through a lens 48 on an image sensor 50. Its output is input to a controller 52 to obtain the outer diameter, OF position and managing code of the wafer. When the arm 10 is rotatably driven by a driver 12 to shift to a tray 26, the tray 26 is rotatably driven by a driver 28 to match the OF position with the prescribed position. The controller 52 completes to select the outer diameter, and probe inspecting trays f30, 32 from the code until the matching is finished, and the arm 10 is fed from the tray 26 to suitable tray.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、半導体ウエノ・に対し、そのチップの検査や
加工など必要な操作、処理を行うウェハ処理装置に対し
、半導体ウェハを供給するウェハ供給装置に関するもの
である。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a wafer supply method for supplying semiconductor wafers to a wafer processing apparatus that performs necessary operations and processing such as inspection and processing of semiconductor wafers. It is related to the device.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

例えば、半導体ウェハ上に形成された半導チップに探針
を接触させてその検査全行うウエノ・ブローバ装置が複
数台設けられており、各プローバ装置によって検査され
る半導体クエ・・の種類が異なる場合がある。このよう
な場合には、半導体ウェハの種類毎に相当するブローバ
装置を選択し供給する必要がある。
For example, there are multiple Ueno-Blowbar devices that perform all inspections by bringing a probe into contact with a semiconductor chip formed on a semiconductor wafer, and each prober device inspects a different type of semiconductor query. There are cases. In such a case, it is necessary to select and supply a blower device corresponding to each type of semiconductor wafer.

従って、種類の異なる半導体ウェハがランダムにブロー
バ装置に送られてくる場合には、指定されたブローバ装
置に正確に半導体ウエノ・全供給するため、半導体ウェ
ハの種類を良好に読み取る必要がある。
Therefore, when semiconductor wafers of different types are randomly sent to the blower device, it is necessary to accurately read the type of semiconductor wafer in order to accurately supply all the semiconductor wafers to the specified blower device.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、多種類
の半導体ウェハ會良好にウェハ処理g装置に対して振り
分は供給しあるいは管理することができるウェハ供給装
置を提供することをその目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a wafer supply device that can efficiently supply and manage the distribution of wafers to a wafer processing device for a wide variety of semiconductor wafers. That is.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、多種類のウェハ會、各々核種類に対応して設
けられたウェハ処理装置に供給する場合に、ウェハ移送
手段によるウェハ移送中においてウェハ情報読取手段に
より該ウェハのウェハfj[を読み取るようにし、かか
るウェハ情報に基づいて対応するウェハ処理装置にその
ウェハを振り分は移送するようにしたことを技術的要点
とするものである。
The present invention provides a means for reading the wafer fj[of a wafer by a wafer information reading means while the wafer is being transferred by the wafer transfer means, when the wafers are supplied to a wafer processing apparatus provided for each type of wafer in a large number of wafers. The technical point is that the wafers are distributed and transferred to the corresponding wafer processing apparatus based on the wafer information.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を、添付図面を参照しながら説明
する。第1図には、本発明の一実施例が示されており、
第2図には主要部分の側面が示されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. An embodiment of the present invention is shown in FIG.
FIG. 2 shows a side view of the main parts.

これら第1図ないし第2図において、中心にウェハ移動
手段、その左方にウェハ収納手段、右方に回転プリアラ
イメント手段、手前及び後方にプローバ手段が配置され
た構成と々つている。t+、ウェハ移動手段の上方には
、読み取り光学系が配置されている。
1 and 2, there is a wafer moving means in the center, a wafer storage means on the left, a rotary pre-alignment means on the right, and a prober means in front and behind. t+, a reading optical system is arranged above the wafer moving means.

まず、ウェハ移動手段から説明すると、ウェハ供給アー
ム10には、アーム回転用モー・り12が設けられてお
り、このアーム回転用モータ121ま移動ステージ14
に固定されている。すなわち、ウェハ供給アーム10は
、アーム回転用モータ12により移動ステージ14に対
して回転可能となっている。
First, to explain the wafer moving means, the wafer supply arm 10 is provided with an arm rotation motor 12.
Fixed. That is, the wafer supply arm 10 is rotatable with respect to the moving stage 14 by the arm rotation motor 12.

移動ステージ14は、枠体16に支持されているガイド
18及び送りネジ20によって支持されており、送りネ
ジ20が枠体16外部に設けられたスライド用モータ2
2によって回転すると図の矢印Aの方向に移動ステージ
14がスライドするようになっている。
The moving stage 14 is supported by a guide 18 supported by a frame 16 and a feed screw 20, and the feed screw 20 is connected to a slide motor 2 provided outside the frame 16.
2, the moving stage 14 slides in the direction of arrow A in the figure.

次に、ウェハ収納手段について説明すると、ウェハキャ
リア24内に種類例えば大きさの異なるウェハWが複数
収納された4i1 改と々っている。このウェハキャリ
ア24は、ウェハ供給アーム10の移動方向である矢印
入方向に配置されている。
Next, the wafer storage means will be described. A wafer carrier 24 stores a plurality of wafers W of different types, for example, different sizes. This wafer carrier 24 is arranged in the direction of the arrow, which is the moving direction of the wafer supply arm 10.

次に、回転プリアライメント手段について説明するト、
7’l+アライメントステ一ジ26uθ回転用モータ2
8に対し、回転可能に取付けられている。
Next, the rotational prealignment means will be explained.
7'l + alignment stage 26uθ rotation motor 2
8, it is rotatably attached.

次ニ、ブローパ手段について説明すると、ブローバステ
ージ30.32は1− )Fステージ34゜36上に各
々設けられている。X7ステージ34.36は、各々駆
動モータ38,40によって1方向に移動するとともに
、駆動モータ42゜44によってy方向に移動するよう
に構l532されている。
Second, regarding the blower means, blower stages 30, 32 are provided on 1-)F stages 34 and 36, respectively. The X7 stages 34, 36 are configured to move in one direction by drive motors 38 and 40, respectively, and in the y direction by drive motors 42 and 44, respectively.

次に、読み取り光学系について説明する。固体発光素子
46ij、ウェハ供給アーム10がウェハキャリア24
からウェハwt取り出して矢印入方向に移送される部位
の上方に配置されており、これの光の移送中のウェハW
による反射光に、レンズ48を介して一次元の撮像素子
50に入射結1象するように構成されている。撮像素子
50の出力は、コンピュータなどによってm成されてい
る制御装@52に人力されるように々つている。制御装
置52は、入力信号を処理し、ブローバステージ30.
32のいずれにウェハwt−移送すべきか全判断する。
Next, the reading optical system will be explained. The solid-state light emitting device 46ij and the wafer supply arm 10 are the wafer carrier 24
It is placed above the part where the wafer W is taken out and transferred in the direction of the arrow, and the wafer W is being transferred by light.
The structure is such that the reflected light is incident on the one-dimensional image sensor 50 via the lens 48. The output of the image sensor 50 is manually controlled by a control device 52 which is formed by a computer or the like. A controller 52 processes the input signals and controls the blower stages 30 .
32 to which the wafer should be transferred.

次に、上記実施例の全体的動作について説明する。まず
、ウェハWは、ウェハキャリア24から、ウェハ供給ア
ーム10により吸着されて取り出され、平面状tl保つ
7?1マブリアライメントステージ26の方に移送され
る。すなわち、スライド用モータ22が駆動されると、
送りネジ20が回転1−5移動用ステージ14が第1図
の矢印入方向に移動する。この移動ステージ14の移動
に1やってウェハ供給アーム10も移動する。
Next, the overall operation of the above embodiment will be explained. First, the wafer W is taken out from the wafer carrier 24 by suction by the wafer supply arm 10, and is transferred to the 7-1 Mabria alignment stage 26 which maintains a planar shape tl. That is, when the slide motor 22 is driven,
The feed screw 20 rotates 1-5 and the moving stage 14 moves in the direction indicated by the arrow in FIG. As the moving stage 14 moves, the wafer supply arm 10 also moves.

この移動中に、固体発光素子46によ0ウエハWが照明
される。固体発光素子46は、−次元状であるが、ウェ
ハWが移動するため、ウェハWは二次元状に照明される
。ウェハWによる反射光は、レンズ48を介して撮像素
子50に入射結像し、ウェハW上の画家が読み取られる
0撮像素子50の出力は、制御装置52に入力され、こ
の入力情報によりウェハWの外径、オリフラの位置、管
理コードなどが求められる。
During this movement, the 0 wafer W is illuminated by the solid state light emitting device 46. Although the solid-state light emitting device 46 is in a -dimensional form, since the wafer W moves, the wafer W is illuminated in a two-dimensional form. The light reflected by the wafer W forms an incident image on the image sensor 50 via the lens 48, and the output of the image sensor 50, where the artist on the wafer W is read, is input to the control device 52, and this input information causes the wafer W to be imaged. The outer diameter of the material, the position of the orientation flat, the management code, etc. are required.

他方、ウェハWのオリフラの位1tk所定の位置に合わ
せるため、プリアライメントステージ26上にウェハW
を乗せる。すなわち、アーム回転用モータ12が駆動さ
れてウェハ11(給r−ム10が回転シ、ウェハWがブ
リアライメントステージ26上に移送される〇 次に、θ回転用モータ28が駆動され、ステージ26が
回転して、ウェハWのオリフラ位置が所定位WtKアラ
イメントされる。
On the other hand, in order to align the orientation flat of the wafer W to a predetermined position, the wafer W is placed on the pre-alignment stage 26.
put on. That is, the arm rotation motor 12 is driven to rotate the wafer 11 (feed r-arm 10, and the wafer W is transferred onto the rear alignment stage 26.Next, the θ rotation motor 28 is driven to transfer the wafer W onto the stage 26. rotates, and the orientation flat position of the wafer W is aligned at a predetermined position WtK.

このオリフラ位置のアライメントが終rするまでにσ、
制御装置52によりウェハWの外径など必安な情報が求
めらハ、特に管理コードから当該ウェハWを倹査すべき
プローバの位置も決菫される。すなわち、プローバは、
種類の異なるものが各ブローバスデージ30.32に用
意されており、ウェハキャリア24から取り出したウエ
ノ″−Wがいずれのブローバに適するものかが制#i[
52により判断される〇 そして、この判断VC基づいてウエノ・供給アーム10
によ0ウエハWがプリアライメントステージ26から適
応するブローバスデージ3F1.32のいイれD)に4
送される。更に、制側;装fi52によって優らt″L
、fcウエノ1Nに関する情報は、図示I7ない手段に
より統計処4され、ウニ・・Wの′4埋に利用さiする
By the time the alignment of this orientation flat position is completed r, σ,
The control device 52 obtains essential information such as the outer diameter of the wafer W, and in particular determines the position of the prober that should inspect the wafer W from the management code. In other words, the prober is
Different types of blowers are prepared for each blower stage 30, 32, and it is possible to control which blower the wafer ''-W taken out from the wafer carrier 24 is suitable for.
52 〇 Then, based on this judgment VC, the ueno supply arm 10
The 0 wafer W is applied from the pre-alignment stage 26 to the blow bus stage 3F1.32 (D) 4
sent. Furthermore, the dominant side;
, fc Ueno 1N is subjected to statistical processing 4 by a means not shown in the figure, and is used to fill in Uni...W'4.

以上説1i L/ frようVC,本実施例Vこよれば
、2つのゾローバ装置で24粛類の半導体チップの横汁
會行う場合、ウェハがいかなるj@序で流れてきたとし
ても、これ金艮好VC対応するプローン:6 @ vc
振り分けることかでき、チップの検fを行うことかでき
る0 なお、X発明に11ら上記実施例に限定されるものでは
なく、例えば更に多くのプローン(ステージを用、蝋す
るようにして多くの種類のウニ・・全自動的に目的のブ
ローバスデージに偏り分けるようにしてもよい。また、
上記実施例でal ウエノ1処理装置としてプローバ装
置を用いた例を示したが、その曲例えはウエノ1加工装
置など倉出いてもよい。
According to the above theory 1i L/fr, VC, and this embodiment V, when a horizontal assembly of 24 types of semiconductor chips is carried out using two Zorova devices, no matter what order the wafers flow, it is possible to Prone compatible with Aiko VC: 6 @ VC
Note that the X invention is not limited to the above embodiments such as 11, and for example, more probes (using stages, waxing, etc.) can be used. Types of sea urchins... It may be possible to automatically sort them into the desired blowfish.Also,
In the above embodiment, an example is shown in which a prober device is used as the al waeno 1 processing apparatus, but the example may be a waeno 1 processing apparatus or the like.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、多種類のウェハ
かランダムに供給されても、対応する必要A姐埋手段に
良好にウエノ・全振り分は移送することができ、ブた、
ウエノ1をロットご店に良好に管理することができると
いう効果がある。
As explained above, according to the present invention, even if many types of wafers are supplied at random, all the wafers can be transferred to the corresponding necessary A/2 wafer burying means, and
This has the effect that Ueno 1 can be well managed in lots at each store.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図に本発明の一実施例を示す斜視図、第2図に第1
図の装置の正装部分tホす仰11図でめるO〔主要部分
の符号の説明〕 10・・・ウエノ)供給アーム、12・・・アーム回転
用モータ、14・・・1多動ステージ、20・・・送r
)ネジ、22・・・スライド用モータ、30.52・・
・プローンくステージ、46・・・固体発光素子、50
・・・撮像素子、52 ・・・ 由11#−−置、  
W−・・ ウ エ ノS。
FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view showing one embodiment of the present invention.
Formal parts of the device in the figure t Hoses and elevations 11 Shown in the figure O [Explanation of symbols of main parts] 10... Ueno) supply arm, 12... Arm rotation motor, 14... 1 Hyper-movement stage , 20... send r
) Screw, 22... Slide motor, 30.52...
・Prone stage, 46...Solid light emitting device, 50
...Image sensor, 52...Yu 11#--placement,
W-... Ueno S.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)多種類のウエハを、該種類に対応して設けられた
複数のウエハ処理装置に供給するウエハ供給装置におい
て、 該装置は、ウエハ情報読取り手段と、ウェハ移送手段を
含み、 前記ウエハ情報読取り手段は、前記ウエハ移送手段によ
るウエハ移送中にそのウエハのウエハ情報を読取り、 前記ウエハ移送手段は、ウエハ情報読取り手段によるウ
エハ情報に基づいて選択されたウエハ処理装置にそのウ
エハを振り分け移送することを特徴とするウエハ供給装
置。
(1) A wafer supply device that supplies many types of wafers to a plurality of wafer processing devices provided corresponding to the types, the device including a wafer information reading means and a wafer transfer means, and the wafer information The reading means reads wafer information of the wafer during the wafer transfer by the wafer transfer means, and the wafer transfer means distributes and transfers the wafer to a selected wafer processing apparatus based on the wafer information by the wafer information reading means. A wafer supply device characterized by:
(2)前記ウエハ情報読取手段は、ラインセンサである
特許請求の範囲第1項記載のウェハ供給装置。
(2) The wafer supply apparatus according to claim 1, wherein the wafer information reading means is a line sensor.
JP60186566A 1985-08-27 1985-08-27 Wafer supplying apparatus Pending JPS6247143A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60186566A JPS6247143A (en) 1985-08-27 1985-08-27 Wafer supplying apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60186566A JPS6247143A (en) 1985-08-27 1985-08-27 Wafer supplying apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6247143A true JPS6247143A (en) 1987-02-28

Family

ID=16190767

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60186566A Pending JPS6247143A (en) 1985-08-27 1985-08-27 Wafer supplying apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6247143A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01192130A (en) * 1988-01-27 1989-08-02 Tokyo Electron Ltd Holding device
JPH0485203A (en) * 1990-07-25 1992-03-18 Noozeru Eng Kk Conveyor
US5626456A (en) * 1993-03-18 1997-05-06 Tokyo Electron Limited Transfer device
US6146077A (en) * 1998-01-13 2000-11-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Wafer transfer system of semiconductor fabricating equipment using a serial number detecting device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01192130A (en) * 1988-01-27 1989-08-02 Tokyo Electron Ltd Holding device
JPH0485203A (en) * 1990-07-25 1992-03-18 Noozeru Eng Kk Conveyor
US5626456A (en) * 1993-03-18 1997-05-06 Tokyo Electron Limited Transfer device
US6146077A (en) * 1998-01-13 2000-11-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Wafer transfer system of semiconductor fabricating equipment using a serial number detecting device
US6149379A (en) * 1998-01-13 2000-11-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Wafer transfer method using a serial number detecting device in semiconductor fabricating equipment

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100465249B1 (en) Installation for processing wafers
US11832026B2 (en) Substrate imaging apparatus
US4027246A (en) Automated integrated circuit manufacturing system
JP6880364B2 (en) Substrate processing equipment and substrate processing method
US10964567B2 (en) Processing apparatus
KR20190039269A (en) Substrate inspection apparatus, substrate processing apparatus, substrate inspection method, and substrate processing method
US8625076B2 (en) Wafer edge exposure module
US20190291239A1 (en) Grinding apparatus
JPS61123150A (en) Production apparatus
CN108327102A (en) The dressing method and cutting apparatus of finishing board, cutting tool
US20060119366A1 (en) System for inspection of a disk-shaped object
KR20140135639A (en) Machining apparatus
JPS6247143A (en) Wafer supplying apparatus
JP7102029B2 (en) Automatic sorting and sorting system
JPH07101706B2 (en) Wafer continuous processing apparatus and continuous processing method
JPH11274264A (en) Substrate carrier vehicle, manufacture of micro device, and substrate-retaining device
JP2001168010A (en) Method and device for inspecting wafer
US20020064954A1 (en) Configuration in which wafers are individually supplied to fabrication units and measuring units located in a fabrication cell
JPH11337499A (en) Product inspecting method and apparatus
JP3275299B2 (en) Dicing apparatus and dressing method for cutting blade
JP2000182996A (en) Dicing device
JPH06160286A (en) Visual inspection method for semiconductor package
CN1278188C (en) Exposure mechanism and exposure method
TWI816157B (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2503425B2 (en) Wafer inspection system