JPS6244735Y2 - - Google Patents

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JPS6244735Y2
JPS6244735Y2 JP547183U JP547183U JPS6244735Y2 JP S6244735 Y2 JPS6244735 Y2 JP S6244735Y2 JP 547183 U JP547183 U JP 547183U JP 547183 U JP547183 U JP 547183U JP S6244735 Y2 JPS6244735 Y2 JP S6244735Y2
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liquid
treatment
exhaust gas
tower
concentration
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  • Treating Waste Gases (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は脱じん塔や吸収塔などを備える湿式排
ガス処理装置に係り、特に処理液中のCl濃度に
応じて処理液の排出量を制限するようにし、もつ
て使用水量を低減し、水資源の有効利用を図るこ
とができる湿式排ガス処理装置に関する。
[Detailed description of the invention] The present invention relates to a wet exhaust gas treatment equipment equipped with a dust removal tower, an absorption tower, etc., and in particular, the amount of discharge of the treatment liquid is limited according to the Cl concentration in the treatment liquid. The present invention relates to a wet exhaust gas treatment device that can reduce water consumption and effectively utilize water resources.

一般に、ボイラ等の燃焼機器から排出される排
ガス中にはフライアツシユや硫黄酸化物などが含
まれていることから、これらを除去すべく排ガス
の処理をしてからこれを大気中に排出している。
Generally, the exhaust gas emitted from combustion equipment such as boilers contains fly ash and sulfur oxides, so the exhaust gas is treated to remove these before it is released into the atmosphere. .

この排ガス処理方法には乾式処理方法と水を使
用する湿式処理方法とがあり、その処理効率が良
好なことから特に後者である湿式処理方法が多く
採用されていたが、この方法にあつては、排ガス
中の微量成分である塩化水素ガスが処理液中に濃
縮して蓄積されると使用材料が塩素腐食を起こし
易くなつたり、脱硫性能が低下したりするため、
系内の処理液のCl濃度を常に許容濃度以下に維
持すべく装置内の循環処理液を適宜系外へ排出し
ている。
There are two types of exhaust gas treatment methods: a dry treatment method and a wet treatment method that uses water.The latter, the wet treatment method, has been particularly popular due to its high treatment efficiency. If hydrogen chloride gas, which is a trace component in exhaust gas, concentrates and accumulates in the processing liquid, the materials used will be more susceptible to chlorine corrosion and the desulfurization performance will decrease.
In order to always maintain the Cl concentration of the processing liquid within the system below the allowable concentration, the circulating processing liquid within the apparatus is appropriately discharged to the outside of the system.

この湿式排ガス処理装置の従来例を第1図に基
づいて説明すると、まず、ボイラ等の燃焼機器か
ら排出された排ガス1は処理塔としての脱じん塔
2内へ導入され、この塔内に噴霧循環されている
処理液3と接触してこれに含まれるばいじん、塩
化水素ガス(HCl)及びフツ化水素ガス(HF)
などが除去される。
A conventional example of this wet-type exhaust gas treatment device will be explained based on FIG. Dust, hydrogen chloride gas (HCl), and hydrogen fluoride gas (HF) that come into contact with the circulating treatment liquid 3 and are contained therein
etc. are removed.

このようにしてばいじんや塩素化合物などが除
去された排ガスは更に吸収塔4内へ導入され、こ
の塔内で例えば石灰石を水に溶解せしめた吸収液
5と接触して脱硫処理され、そのまま大気中へ放
出される。
The exhaust gas from which dust, chlorine compounds, etc. have been removed in this way is further introduced into the absorption tower 4, where it is desulfurized by contacting with an absorption liquid 5 made by dissolving limestone in water, for example, and released into the atmosphere as it is. released to.

一方、脱じん塔2内の処理液3中には吸着除去
したばいじんや塩化水素(HCl)が濃縮されるこ
とから、この液の一部は脱じん塔ブローポンプ6
により処理液排出通路7を介して例えば排水処理
装置(図示せず)へ向けて排出される。この処理
液の排出量は上記通路7の途中に介設される流量
制御計8でもつて自動的に流量制御弁9を調節す
ることにより制御されており、所定流量排出され
ている。そして、塔内処理液3中には、排出によ
り或いは塔内蒸発により不足した量だけ給水通路
10を介して給水がなされており、系内の処理液
量を一定に維持している。
On the other hand, since the soot and dust and hydrogen chloride (HCl) that have been adsorbed and removed are concentrated in the treated liquid 3 in the dust removal tower 2, a part of this liquid is transferred to the dust removal tower blow pump 6.
The treated liquid is discharged through the treatment liquid discharge passage 7 toward, for example, a wastewater treatment device (not shown). The discharge amount of the processing liquid is controlled by a flow rate controller 8 interposed in the passage 7 and automatically adjusting a flow rate control valve 9, so that a predetermined flow rate is discharged. Water is supplied to the treated liquid 3 in the column via the water supply passage 10 in an amount corresponding to the amount insufficient due to discharge or evaporation in the column, and the amount of treated liquid in the system is maintained constant.

ところで、上記処理液の排出量は装置の材質保
護のために所定のCl濃度以下になるように決定
されるが、従来は考えられる最大塩素量に適合さ
せてその排出量を決定し、常時その一定排出量で
もつて処理液の排出がなされていた。そのため、
例えばボイラの負荷が低下して燃焼される燃料が
減少した場合や、或いは燃料の品質が良好になつ
て排ガス中の塩素分が減少し、処理液中のCl濃
度が許容Cl濃度よりかなり低い値になつても多
量の処理液が排出され、水資源が無駄に使用され
ていた。
By the way, the discharge amount of the above-mentioned processing liquid is determined to be below a predetermined Cl concentration in order to protect the material of the equipment, but in the past, the discharge amount was determined in accordance with the maximum possible amount of chlorine, and the discharge amount was constantly maintained. Processing liquid was being discharged even at a constant discharge rate. Therefore,
For example, if the load on the boiler decreases and the amount of fuel being combusted decreases, or if the quality of the fuel improves and the chlorine content in the exhaust gas decreases, the Cl concentration in the treated liquid becomes much lower than the allowable Cl concentration. However, a large amount of treatment liquid was discharged, and water resources were wasted.

このため、排ガス中のHCl濃度を検出して、こ
の検出値に基づいて処理液の排出量を制御するこ
とも考えられるが、この場合にあつてはガス中の
HCl濃度が極めて低いときには検出精度が劣つて
制御性が悪くなり、実用的でない。
Therefore, it is possible to detect the HCl concentration in the exhaust gas and control the discharge amount of the processing liquid based on this detected value, but in this case, the HCl concentration in the gas
When the HCl concentration is extremely low, detection accuracy is poor and controllability is poor, making it impractical.

本考案は以上の如き問題点に着目し、これを有
効に解決すべく創案されたものであり、その目的
とするところは脱じん塔や吸収塔にて使用される
処理液中のCl濃度を検出して、これが常にほぼ
一定値を維持するように処理液の排出量を制限す
るようにし、もつて使用水量を低減し、水資源の
有効利用を図ることができる湿式排ガス処理装置
を提供するにある。
This invention was devised to effectively solve the above-mentioned problems, and its purpose is to reduce the Cl concentration in the processing liquid used in dust removal towers and absorption towers. To provide a wet exhaust gas treatment device capable of detecting and limiting the discharge amount of a treatment liquid so as to always maintain a substantially constant value, thereby reducing the amount of water used and effectively utilizing water resources. It is in.

以下に、本考案の好適一実施例を添付図面に基
づいて詳述する。
Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

まず、第2図は本考案に係る排ガス処理装置の
第1実施例を示す概略系統図である。
First, FIG. 2 is a schematic system diagram showing a first embodiment of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention.

図示する如く2は排ガス処理塔としての脱じん
塔であり、この塔内下部には処理液槽11が設け
られ、この中に貯留する処理液3を処理液循環通
路12を介して塔内上部へ移送すると共に、上部
に設けたスプレ13から槽内に貯留する処理液面
3a上に噴霧するようになつている。また、この
脱じん塔2の下部側壁には排ガス導入口14が設
けられ、塔の上部には処理後の排ガスを排出する
ための排ガス排出口15が設けられており、導入
した排ガスをこの塔内で上記噴霧処理液と接触さ
せることにより脱じん処理及びHClガス、HFガ
ス等の吸着除去を成し得るようになつている。
As shown in the figure, reference numeral 2 denotes a dust removal tower as an exhaust gas treatment tower. A treatment liquid tank 11 is provided in the lower part of the tower, and the treatment liquid 3 stored in this tank is transferred to the upper part of the tower through a treatment liquid circulation passage 12. At the same time, the spray 13 provided at the top sprays onto the surface 3a of the processing liquid stored in the tank. Further, a flue gas inlet 14 is provided in the lower side wall of the dust removing tower 2, and a flue gas outlet 15 is provided in the upper part of the tower for discharging the treated flue gas. By contacting the above-mentioned spray treatment liquid within the chamber, dust removal treatment and adsorption removal of HCl gas, HF gas, etc. can be accomplished.

一方、この脱じん塔2の後流側には排ガスの脱
硫処理を行うための吸収塔4が設けられており、
上記脱じん処理後の排ガスを、例えば石灰石16
を水に溶解せしめてなる吸収液5と接触させるこ
とによりこれを脱硫処理し得るようになつてい
る。
On the other hand, an absorption tower 4 for desulfurizing the exhaust gas is provided on the downstream side of the dust removal tower 2.
The exhaust gas after the dust removal treatment is treated with limestone 16, for example.
This can be desulfurized by contacting it with an absorption liquid 5 made by dissolving it in water.

一方、前記脱じん塔2の処理液槽11にはこの
中の処理液3を適宜塔外へ排出するための処理液
排出通路7が連結されており、この通路途中に介
設されるブローポンプ6により処理液3を塔外へ
移送し得るようになつている。
On the other hand, the treated liquid tank 11 of the dust removal tower 2 is connected with a treated liquid discharge passage 7 for appropriately discharging the treated liquid 3 therein to the outside of the tower, and a blow pump is interposed in the middle of this passage. 6 allows the processing liquid 3 to be transferred to the outside of the tower.

また、上記処理液槽11にはこの中の貯留され
る処理液のCl濃度を検出するためのCl濃度検出
器17が設けられており、ここで得られる検出値
を本考案の特長とする第1の流量制御手段18に
伝達し得るようになつている。この流量制御手段
18は主に演算処理を行う演算部19と、この演
算結果に基づいて処理液の排出量を制御すべく上
記排出通路7に設けられた流量調節弁20とによ
り構成されている。具体的には、この演算部19
には予め所望するCl濃度に設定された設定値が
記憶されており、この設定値と上記検出器17よ
り伝達されてくる検出値とを比較演算処理して検
出値が設定値よりも超えたことに応答して上記調
節弁20を開いて、またはこの開度を大きくして
処理液の排出を開始したり、またはこの液の排出
量を増大するように構成され、逆に、検出値が設
定値よりも小さくなつた場合にはこれに応答して
上記調節弁20を閉じて、またはこの開度を小さ
くして処理液の排出を停止したり、またはこの液
の排出量を減少させるように構成されている。こ
こで、設定値に一定の巾を持たせて上限値と下限
値を設定しておき、検出値が上限値を超えて大き
くなつたときに処理液の排出を開始し、逆に検出
値が下限値を超えて小さくなつたときに処理液の
排出を停止するようにしてもよい。この際、設定
値の巾内に検出値が位置しても調節弁20は何ら
作動せず、この設定値の巾はいわゆる不感応帯を
構成することになる。
Further, the processing liquid tank 11 is provided with a Cl concentration detector 17 for detecting the Cl concentration of the processing liquid stored therein, and the detected value obtained here is used as a feature of the present invention. 1 flow rate control means 18. The flow rate control means 18 mainly includes a calculation unit 19 that performs calculation processing, and a flow rate control valve 20 provided in the discharge passage 7 to control the discharge amount of the processing liquid based on the calculation results. . Specifically, this calculation unit 19
The set value set to the desired Cl concentration is stored in advance, and this set value and the detected value transmitted from the detector 17 are compared and processed to determine if the detected value exceeds the set value. In response to this, the control valve 20 is opened or its opening degree is increased to start discharging the processing liquid or to increase the discharge amount of the liquid. If the value becomes smaller than the set value, in response, the control valve 20 is closed or its opening degree is reduced to stop discharging the processing liquid or to reduce the amount of discharged liquid. It is composed of Here, set an upper limit value and a lower limit value with a certain width for the set value, and when the detected value exceeds the upper limit value, discharge of the processing liquid is started, and conversely, when the detected value increases The discharge of the processing liquid may be stopped when the value becomes smaller than the lower limit value. At this time, even if the detected value is located within the width of the set value, the control valve 20 does not operate at all, and this width of the set value constitutes a so-called insensitive zone.

尚、この設定値は通常、処理液Cl濃度の許容
濃度に設定されることになる。
Note that this set value is normally set to an allowable concentration of the treatment liquid Cl concentration.

一方、脱じん塔2には、不足気味になる処理液
槽11内の処理液3を一定量に維持するために給
水を行う第2の流量制御手段21が設けられてい
る。この制御手段21は処理液槽11内の液面の
位置を検出する水位計22と、不足水を供給する
給水通路23とにより主に構成されており、水位
計22からの検出値が一定水位を超えて減少した
ときに応答して、給水通路23に介設した開閉弁
24を開いて処理液槽11内へ給水を施すように
構成されている。
On the other hand, the dust removal tower 2 is provided with a second flow rate control means 21 that supplies water in order to maintain a constant amount of the processing liquid 3 in the processing liquid tank 11, which tends to be insufficient. This control means 21 is mainly composed of a water level gauge 22 that detects the position of the liquid level in the processing liquid tank 11, and a water supply passage 23 that supplies insufficient water. When the amount of water decreases by more than 1, the opening/closing valve 24 provided in the water supply passage 23 is opened to supply water into the processing liquid tank 11.

以上のように構成された本考案の作用について
述べる。
The operation of the present invention configured as above will be described.

燃焼機器(図示せず)から排出された排ガス1
は排ガス導入口14を介して脱じん塔2内へ導入
され、この塔内を循環噴霧されている処理液3と
接触して脱じん処理がなされると共に同時にこの
ガスに含まれるHClガス、HFガス等の不純物が
除去される。ここで脱じん処理された排ガスは排
ガス排出口15を介して排出され、その後吸収塔
4内へ導入されて脱硫処理され、クリーガスとし
て大気中へ放出されることになる。
Exhaust gas 1 discharged from combustion equipment (not shown)
is introduced into the dust removal tower 2 through the exhaust gas inlet 14, and is brought into contact with the treatment liquid 3 that is being circulated and sprayed in this tower to perform dust removal treatment, and at the same time, the HCl gas and HF contained in this gas are removed. Impurities such as gas are removed. The dust-removed exhaust gas is discharged through the exhaust gas outlet 15, and then introduced into the absorption tower 4, where it is desulfurized and discharged into the atmosphere as cree gas.

一方、上記脱じん塔2内にて、脱じん処理が進
行するに従つて処理液槽11内の処理液のCl濃
度が上昇し、所定の値よりも超えることになる。
このCl濃度はCl濃度検出器17により検知され
て、検出値として演算部19へ伝達されることに
なる。この演算部19では、予め所望するCl濃
度に設定された設定値と上記検出値とが比較演算
処理されることになる。例えばこの設定値は一定
の巾を有しており、上記検出値が上昇して設定値
の上限を超えたことに応答して処理液排出通路7
に介設した流量調節弁20が開かれて、処理液3
が塔外へ排出されることになる。この処理液の排
出にともなつて処理液槽11内の水位が低下して
ゆき、この水位は水位計22により常時検出され
ている。ここで、この水位が一定値を超えて減少
したときに給水通路23に介設された開閉弁24
が開かれて、処理液槽11内への給水が開始され
ることになる。この給水にともなつて処理液槽1
1内のClイオンは希釈されて次第にCl濃度が低
下してゆくことになり、この濃度が設定値の下限
を超えて小さくなつたときに上記流量調節弁20
が閉じられて処理液の排出が停止されることにな
り、これにより処理液3のCl濃度をほぼ一定の
許容濃度に保つことができる。従つて、捕集Cl
量が増大すればそれに対応して排水量が増大し、
また捕集Cl量が減少すればそれに対応して排水
量が減少することになり、処理液の排水量を捕集
Cl量に対応させて増減させることができる。
On the other hand, as the dust removal process progresses in the dust removal tower 2, the Cl concentration of the treatment liquid in the treatment liquid tank 11 increases and exceeds a predetermined value.
This Cl concentration is detected by the Cl concentration detector 17 and transmitted to the calculation section 19 as a detected value. In this calculation section 19, a comparison calculation process is performed between a set value set in advance to a desired Cl concentration and the above-mentioned detected value. For example, this set value has a certain width, and in response to the detected value rising to exceed the upper limit of the set value, the processing liquid discharge passage 7
The flow control valve 20 provided in the is opened, and the processing liquid 3
will be discharged outside the tower. As the treatment liquid is discharged, the water level in the treatment liquid tank 11 decreases, and this water level is constantly detected by the water level gauge 22. Here, when this water level decreases beyond a certain value, an on-off valve 24 installed in the water supply passage 23
is opened, and water supply into the processing liquid tank 11 is started. Along with this water supply, the processing liquid tank 1
The Cl ions in 1 are diluted and the Cl concentration gradually decreases, and when this concentration decreases beyond the lower limit of the set value, the flow control valve 20
is closed and the discharge of the processing liquid is stopped, thereby making it possible to maintain the Cl concentration of the processing liquid 3 at a substantially constant allowable concentration. Therefore, the collected Cl
As the volume increases, the amount of wastewater increases accordingly,
In addition, if the amount of collected Cl decreases, the amount of wastewater will decrease correspondingly, and the amount of wastewater collected will be reduced.
It can be increased or decreased depending on the amount of Cl.

尚、処理液槽11内の水位が所定の水位に達し
たならば、この水位は水位計22に検知されて給
水通路23に介設した開閉弁24を閉じることに
より給水を停止し、これをほぼ一定水位に維持す
ることになる。
Note that when the water level in the treatment liquid tank 11 reaches a predetermined level, this water level is detected by the water level gauge 22 and the water supply is stopped by closing the on-off valve 24 interposed in the water supply passage 23. The water level will be maintained at a nearly constant level.

次に、本考案の第2実施例について説明する。Next, a second embodiment of the present invention will be described.

第3図は本考案に係る排ガス処理装置の第2実
施例を示す概略系統図である。
FIG. 3 is a schematic system diagram showing a second embodiment of the exhaust gas treatment device according to the present invention.

図示する如くこの処理装置は脱じん塔を設けな
い脱硫方式を採用するものであり、排ガス処理塔
として設けられた吸収塔4内で脱じん処理と脱硫
処理とを同時に行うことになる。この吸収塔4の
下部側壁には排ガス導入口25が設けられ、上部
には脱じん及び脱硫処理がなされた排ガスを排出
するための排ガス排出口26が設けられている。
また、塔内の下部には処理液としての吸収液を貯
留するための吸収液槽27が設けられており、こ
れに貯留される吸収液28を処理液循環通路29
を介して塔内上部へ移送すると共に、上部に設け
たスプレ30から槽内に貯留する吸収液面28a
上に噴霧するようになつている。この吸収液28
は例えば石灰石CaCo3を水に溶解せしめて製造さ
れ、排ガスと接触することにより下記式に示す如
くイオウ酸化物SOxを吸収除去すると共に、排ガ
ス中に含まれるばいじん、HClガス、HFガス等
の不純物をも同時に除去し得るようになつてい
る。
As shown in the figure, this processing apparatus employs a desulfurization method without a dust removal tower, and dust removal processing and desulfurization processing are performed simultaneously in an absorption tower 4 provided as an exhaust gas treatment tower. A flue gas inlet 25 is provided in the lower side wall of the absorption tower 4, and a flue gas outlet 26 is provided in the upper portion for discharging the flue gas that has been subjected to dust removal and desulfurization treatment.
Further, an absorption liquid tank 27 for storing an absorption liquid as a processing liquid is provided at the lower part of the tower, and the absorption liquid 28 stored in this tank is transferred to a processing liquid circulation passage 29.
The absorbent liquid surface 28a is transferred to the upper part of the column through the tank, and is stored in the tank from the spray 30 provided at the upper part.
It is designed to be sprayed on top. This absorption liquid 28
For example, it is produced by dissolving limestone CaCo 3 in water, and when it comes into contact with exhaust gas, it absorbs and removes sulfur oxide SOx as shown in the formula below, and also removes impurities such as soot, dust, HCl gas, HF gas, etc. contained in exhaust gas. can be removed at the same time.

CaCO3+SO2+1/2H2O →CaSO3・1/2H2O+CO2↑ この吸収塔4の下流には酸化塔31が設けられ
ており、吸収塔内の吸収液槽27より通路32を
介して移送供給される亜硫酸カルシユウム
(CaSO3・1/2H2O)を下記式に示す如く空気33と 反応させて石膏を生成し得るようになつている。
CaCO 3 + SO 2 + 1/2H 2 O → CaSO 3 1/2H 2 O + CO 2 ↑ An oxidation tower 31 is provided downstream of this absorption tower 4, and an oxidation tower 31 is provided from the absorption liquid tank 27 in the absorption tower through a passage 32. Calcium sulfite (CaSO 3 .1/2H 2 O), which is transferred and supplied by the pump, is reacted with air 33 as shown in the following formula to produce gypsum.

CaSO3・1/2H2O+1/2O2+3/2H2O →CaSO4・2H2O この酸化塔31の下流側にはシツクナ34が設
けられており、通路35を介して酸化塔31側よ
り導入されるスラリ状石膏を固液分離し得るよう
になつている。そして、このシツクナ34の更に
下流側には脱水機36が設けられており、上記シ
ツクナ34より通路37を介して移送されてくる
石膏から更に水分を除去して石膏38を回収する
と共に、分離した水分を通路39を介して再びシ
ツクナ34へ戻すようになつている。
CaSO 3・1/2H 2 O + 1/2O 2 + 3/2H 2 O →CaSO 4・2H 2 O The slurry gypsum introduced can be separated into solid and liquid. A dehydrator 36 is provided further downstream of the thickener 34, and further removes moisture from the gypsum transferred from the thickener 34 through a passage 37 to recover gypsum 38, and also separates the gypsum. The moisture is returned to the strainer 34 via the passage 39.

一方、上記シツクナ34からは前記吸収塔4の
処理液槽27に連結されるシツクナオーバーフロ
ー水通路40が設けられており、固形分が除去さ
れたオーバーフロー水を吸収塔4内へ戻しこれを
循環使用し得るようになつている。
On the other hand, a stiffener overflow water passage 40 is provided from the stiffener 34 to the treated liquid tank 27 of the absorption tower 4, and the overflow water from which solids have been removed is returned to the absorption tower 4 and circulated. It is ready for use.

そして、このシツクナオーバーフロー水通路4
0の途中にはこの中を流れるシツクナオーバーフ
ロー水(処理液)のCl濃度を検知するためのCl
濃度検出器17が設けられており、また、この通
路途中にはこの中を流れるシツクナオーバーフロ
ー水(処理液)の一部を系外へ排出するための処
理液排出通路7が分岐させて設けられている。
And this Shitsukuna overflow water passage 4
In the middle of 0, there is a Cl to detect the Cl concentration of the overflow water (processing liquid) flowing through this.
A concentration detector 17 is provided, and a processing liquid discharge passage 7 is provided in a branched manner in the middle of this passage for discharging a portion of the overflow water (processing liquid) flowing therein to the outside of the system. It is being

また、上記Cl濃度検出器17で得られる検出
値は本考案の特長とする第1の流量制御手段18
に伝達し得るようになつている。この流量制御手
段18は前記第1実施例と同様に主に演算処理を
行う演算部19と、この演算結果に基づいて処理
液(シツクナオーバーフロー水)の排出量を制御
すべく上記排出通路7に設けられた流量調節弁2
0とにより構成されている。
Furthermore, the detected value obtained by the Cl concentration detector 17 is determined by the first flow rate control means 18 which is a feature of the present invention.
It has become possible to transmit information to This flow rate control means 18 includes a calculation unit 19 that mainly performs calculation processing as in the first embodiment, and the discharge passage 7 that controls the discharge amount of the processing liquid (stiffener overflow water) based on the calculation result. Flow control valve 2 installed in
0.

また、吸収塔4には不足気味になる吸収液28
を一定量に維持すべく給水を行うための前記第1
実施例と同様な第2の流量制御手段21が設けら
れている。
In addition, the absorption liquid 28 which is becoming insufficient in the absorption tower 4
The first step is to supply water to maintain a constant amount of water.
A second flow rate control means 21 similar to the embodiment is provided.

次に、以上のように構成された第2実施例の作
用について述べる。
Next, the operation of the second embodiment configured as above will be described.

まず、燃焼機器(図示せず)から排出された排
ガス1は排ガス導入口25を介して吸収塔4内へ
導入されて、この塔内に循環噴霧されている吸収
液28と接触して脱硫処理がなされると共に、こ
れと同時にHClガス、HFガス等の不純物も除去
される。ここで生成された亜硫酸カルシウムのス
ラリ液は通路32を介して酸化塔31内へ導入さ
れ、ここで酸化処理がなされて石膏を生成する。
生成された石膏のスラリ液は更に通路35を介し
てシツクナ34へ導入され、この中で濃縮される
ことになる。
First, the exhaust gas 1 discharged from the combustion equipment (not shown) is introduced into the absorption tower 4 through the exhaust gas inlet 25, and is desulfurized by contacting with the absorption liquid 28 that is circulated and sprayed into the tower. At the same time, impurities such as HCl gas and HF gas are also removed. The calcium sulfite slurry produced here is introduced into the oxidation tower 31 through the passage 32, where it is oxidized to produce gypsum.
The produced gypsum slurry is further introduced into a thickener 34 via a passage 35, where it is concentrated.

ここで濃縮された石膏は次に通路37を介して
脱水機36へ導入されて、ここで脱水処理がなさ
れて乾燥した石膏38を得られると同時に、除去
された分離液は通路39を介して再びシツクナ3
4内へ導入されることになる。
The concentrated gypsum is then introduced into a dehydrator 36 via a passage 37, where it is dehydrated to obtain dry gypsum 38, and at the same time, the removed separated liquid is passed through a passage 39. Shitsukuna 3 again
It will be introduced into 4.

一方、シツクナ34内のオーバーフロー水は固
形分が除去された上澄液であり、この上澄液はオ
ーバーフロー水通路40を介して再び吸収塔4内
へ循環導入されることになり、脱硫処理が進行す
るに従つてこのオーバーフロー水中のCl濃度が
上昇してゆく。このCl濃度は通路40に介設さ
れたCl濃度検出器17により検知されて、演算
部19に伝達されることになる。この検出値は前
記実施例と同様に予め設定された一定の巾を有す
る設定値と比較演算処理されて、検出値が設定値
の上限を超えたことに応答して処理液排出通路7
に介設した流量調節弁20を開いて、またはこの
開度を大きくして処理液(オーバーフロー水)の
排出を開始したり、またはこの排出量を増大す
る。また、逆に上記検出値が設定値の下限を超え
て小さくなつたときに応答して流量調節弁20を
閉じて、またはこの開度を小さくして処理液の排
出を停止したり、またはこの排出量を減少させ
る。
On the other hand, the overflow water in the water tanker 34 is a supernatant liquid from which the solid content has been removed. As the process progresses, the Cl concentration in this overflow water increases. This Cl concentration is detected by the Cl concentration detector 17 provided in the passage 40 and transmitted to the calculation unit 19. This detected value is compared with a set value having a preset constant width as in the previous embodiment, and in response to the detected value exceeding the upper limit of the set value, the processing liquid discharge passage 7
The flow control valve 20 provided in the flow control valve 20 is opened or the degree of opening thereof is increased to start discharging the processing liquid (overflow water) or to increase the discharge amount. Conversely, when the detected value becomes smaller than the lower limit of the set value, the flow control valve 20 is closed or its opening degree is reduced to stop discharging the processing liquid, or Reduce emissions.

ここで、処理液の排出に伴つて吸収液槽27内
の水位が低下することになるが、この水位の変動
は水位計22により検知されて、一定水位以下に
なつた場合には給水通路23に介設した開閉弁2
4を開いて吸収液槽27内に給水が施される。こ
の結果、Clイオン分が希釈されると共に排出量
に見合つた量だけ給水がなされ、吸収液の量は常
にほぼ一定量に維持されることになる。
Here, the water level in the absorption liquid tank 27 will decrease as the treatment liquid is discharged, but this fluctuation in the water level is detected by the water level gauge 22, and if the water level falls below a certain level, the water level in the water supply passage 27 will decrease. On-off valve 2 installed in
4 is opened to supply water into the absorption liquid tank 27. As a result, the Cl ion content is diluted and water is supplied in an amount commensurate with the amount of discharge, and the amount of absorption liquid is always maintained at a substantially constant amount.

このように、処理液中のCl濃度を検出して、
この検出値が常にほぼ一定値(設定値)を維持す
るように処理液の排出量を制御することとしたの
で排ガスからのCl分回収量が多くなればそれに
相応して処理液の排出量が増大し、またCl分回
収量が少なくなればそれに相応して処理液の排出
量が減少し、無駄な給水を行うことがない。
In this way, by detecting the Cl concentration in the processing solution,
We decided to control the amount of processing liquid discharged so that this detected value always maintains a nearly constant value (set value), so as the amount of Cl recovered from the exhaust gas increases, the amount of treatment liquid discharged increases accordingly. If the amount of recovered Cl increases and the amount of Cl recovered decreases, the amount of treated liquid discharged will decrease accordingly, and there will be no need for wasted water supply.

以上、要するに本考案によれば次のような優れ
た効果を発揮することができる。
In short, according to the present invention, the following excellent effects can be achieved.

(1) 処理液中のCl濃度を検出して、この検出値
がほぼ一定の許容濃度を維持するように処理液
の排出量を制御することとしたので、処理液の
排出量を捕集Cl量に見合つて増減させること
ができる。
(1) We decided to detect the Cl concentration in the processing solution and control the discharge amount of the processing solution so that this detected value maintains an approximately constant allowable concentration. It can be increased or decreased depending on the amount.

(2) 従つて、従来例の如くCl濃度が許容濃度を
大きく下回つた場合に多量の処理液が排出され
ることがなく、水資源を有効に利用することが
できる。
(2) Therefore, a large amount of treatment liquid is not discharged even if the Cl concentration falls significantly below the permissible concentration as in the conventional example, and water resources can be used effectively.

(3) 燃焼量が変化したり或いは燃料中のCl分の
相違により排ガス中のCl分が変動しても、こ
れに対応して処理液の排出量が自動的に変動
し、メンテナンスも容易である。
(3) Even if the Cl content in the exhaust gas fluctuates due to a change in the combustion amount or a difference in the Cl content in the fuel, the amount of processing liquid discharged will automatically change accordingly, making maintenance easy. be.

(4) 構造が簡単なので既存の装置に容易に採用す
ることができる。
(4) Since the structure is simple, it can be easily adopted into existing equipment.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の湿式排ガス処理装置を示す概略
系統図、第2図は本考案の第1実施例を示す概略
系統図、第3図は本考案の第2実施例を示す概略
系統図である。 尚、図中2……脱じん塔、4……吸収塔、3…
…処理液、28……吸収液、7……処理液排出通
路、11……処理液槽、27……吸収液槽、17
……Cl濃度検出器、18……第1の流量制御手
段、19……演算部、20……流量調節弁、21
……第2の流量制御手段、22……水位計、23
……給水通路、40……シツクナオーバーフロー
水通路である。
Fig. 1 is a schematic system diagram showing a conventional wet exhaust gas treatment device, Fig. 2 is a schematic system diagram showing a first embodiment of the present invention, and Fig. 3 is a schematic system diagram showing a second embodiment of the present invention. be. In addition, in the figure 2...dust removal tower, 4...absorption tower, 3...
...Processing liquid, 28...Absorbing liquid, 7...Processing liquid discharge passage, 11...Processing liquid tank, 27...Absorbing liquid tank, 17
...Cl concentration detector, 18...First flow rate control means, 19...Calculation unit, 20...Flow rate control valve, 21
...Second flow rate control means, 22...Water level gauge, 23
...Water supply passage, 40...Shitsukuna overflow water passage.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 排ガス処理塔の下部に設けた処理液槽に貯留さ
れる処理液を、処理塔の上部へ移送すると共に上
記処理液面上に噴霧循環させて、この噴霧処理液
と塩素化合物を含む排ガスとを接触させて排ガス
の処理を行う湿式排ガス処理装置において、上記
処理液を塔外へ排出するための処理液排出通路
と、上記処理液中のCl濃度を検出するCl濃度検
出器と、該検出器から得られる検出値と予め設定
された設定値とを比較し、上記検出値が設定値を
超えたことに応答して上記排出通路から処理液を
排出させる第1の流量制御手段と、上記処理液槽
内の処理液を一定量に維持すべく給水を行う第2
の流量制御手段とを備えたことを特徴とする湿式
排ガス処理装置。
The treatment liquid stored in the treatment liquid tank provided at the bottom of the flue gas treatment tower is transferred to the upper part of the treatment tower and is sprayed and circulated on the surface of the treatment liquid, so that this sprayed treatment liquid and exhaust gas containing chlorine compounds are transferred. In a wet exhaust gas treatment device that processes exhaust gas by bringing it into contact, a treatment liquid discharge passage for discharging the treatment liquid to the outside of the tower, a Cl concentration detector for detecting the Cl concentration in the treatment liquid, and the detector a first flow rate control means that compares a detected value obtained from the above with a preset set value and discharges the processing liquid from the discharge passage in response to the detected value exceeding the set value; A second system that supplies water to maintain a constant amount of processing liquid in the liquid tank.
A wet exhaust gas treatment device comprising a flow rate control means.
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