JPS6237986A - Wrought conducting circuit board and reinforcement thereof - Google Patents

Wrought conducting circuit board and reinforcement thereof

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JPS6237986A
JPS6237986A JP17824685A JP17824685A JPS6237986A JP S6237986 A JPS6237986 A JP S6237986A JP 17824685 A JP17824685 A JP 17824685A JP 17824685 A JP17824685 A JP 17824685A JP S6237986 A JPS6237986 A JP S6237986A
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circuit board
mixture
conductive
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一洋 橘
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は新規なる加工導電性回路基板とその新しい補強
法に関するものであって、その目的とするところはプリ
ント基板、フィルムコネクタ、配線板あるいはシートス
イッチ用などの精密な導電性回路図柄を有する基板を生
産し、産業用、工業用、日用品等の素材として市場に提
供せんとするものである。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention relates to a novel processed conductive circuit board and a new reinforcing method thereof. The aim is to produce substrates with precise conductive circuit patterns, such as those for sheet switches, and to provide them to the market as materials for industrial use, industrial use, daily necessities, etc.

〈発明の構成の詳細〉 導電性回路基板は従来、印刷法、フォトレジストエツチ
ング法、マスキング蒸着法、レーザーエツチング法ある
いは化学的溶解法等により作成されているのであるが、
精度、生産性、経済性あるいは技術面等における種々の
困難性がその各々について常に発現し、特に複雑な図柄
とか微細な図柄とかに至ってはいずれの公知の製造法を
とってみても精密、美麗な品質の良い製品を定常的に製
造し難いという欠点を有しているのである。ここにおい
て本発明者はこの欠点を一挙に解決するための新方法に
ついて永年にわたり研究を続行してきたが今般遂に割目
すべき本発明を完成するに至ったものである。
<Details of the structure of the invention> Conventionally, conductive circuit boards have been produced by printing methods, photoresist etching methods, masking vapor deposition methods, laser etching methods, chemical dissolution methods, etc.
Various difficulties arise in terms of accuracy, productivity, economic efficiency, and technical aspects, and when it comes to particularly complex or minute designs, no matter which known manufacturing method is used, it is difficult to achieve precision and beauty. The disadvantage is that it is difficult to consistently produce high-quality products. The present inventor has continued research for many years on a new method to solve these drawbacks all at once, and has now finally completed the present invention.

すなわち本発明者は、ヘテロ原子を含む導電性高分子に
よる回路図柄が電解重合法によってプラスチックス成形
物の面上に形成された導電性基板に無電解鍍金用混合物
を接触させ、該回路図柄の一部または全部を鍍金して得
ることを特徴とする加工導電性基板とかくして得られた
加工導電性基板を密着するフィルムで被覆することを特
徴とする加工導電性回路基板の補強法を発明したもので
ある。
That is, the present inventor brought an electroless plating mixture into contact with a conductive substrate on which a circuit pattern made of a conductive polymer containing a heteroatom was formed on the surface of a plastic molded product by electrolytic polymerization, The present invention has invented a method for reinforcing a processed conductive circuit board, characterized in that it is obtained by plating a part or all of it, and a method for reinforcing a processed conductive circuit board, which is characterized in that the processed conductive circuit board thus obtained is covered with an adhesive film. It is something.

ヘテロ原子を含む導電性高分子とはポリアニリン、核置
換ポアニリン、ポリナフチルアミン、核置換ポリナフチ
ルアミン、ポリアミノアンスラセン、核置換ポリアミノ
アンスラセン、ポリチオフェン、核置換ポリチオフェン
、ポリピロール、置換ポリピロール、ポリピラゾール、
置換ポリピラゾール、ポリイミダゾール、置換ポリイミ
ダゾール、ポリトリアゾール、置換ポリトリアゾール、
ポリピリジン、核置換ポリピリジン、ポリジアジン、置
換ポリジアジン、ポリトリアジン、置換ポリトリアジン
、ポリオキサジン、置換ポリオキサジン、ポリベンゾチ
オフェン、置換ポリベンゾチオフェン、ポリベンゾピロ
ール、置換ポリベンゾピロール、ポリベンズピラゾール
、置換ポリベンズピラゾール、ポリベンズイミダゾール
、置換ポリベンズイミダゾール、ポリオキサジアゾール
、ポリチアジアゾール、ポリアゾベンゼン、置換ポリア
ゾベンゼン、ポリフタロシアニン、核置換ポリフタロシ
アニン、ポリカルバゾール、置換ポリカルバゾール、ポ
リキノリン、核置換ポリキノリン、ポリベンズオキサゾ
ール、置換ポリベンズオキサゾール、ポリテトラ(ナフ
チロ)テトラアザポルフィリンおよびポリテトラ(フェ
ナンスロ)テトラアザポルフィリンよりなる群より選ば
れた少なくとも一つの高分子化合物である。
Conductive polymers containing heteroatoms include polyaniline, nuclear-substituted polyaniline, polynaphthylamine, polyaminoanthracene, nuclear-substituted polyaminoanthracene, polythiophene, nuclear-substituted polythiophene, polypyrrole, substituted polypyrrole, polypyrazole,
substituted polypyrazole, polyimidazole, substituted polyimidazole, polytriazole, substituted polytriazole,
Polypyridine, nuclear substituted polypyridine, polydiazine, substituted polydiazine, polytriazine, substituted polytriazine, polyoxazine, substituted polyoxazine, polybenzothiophene, substituted polybenzothiophene, polybenzopyrrole, substituted polybenzopyrrole, polybenzpyrazole, substituted polybenz Pyrazole, polybenzimidazole, substituted polybenzimidazole, polyoxadiazole, polythiadiazole, polyazobenzene, substituted polyazobenzene, polyphthalocyanine, nuclear-substituted polyphthalocyanine, polycarbazole, substituted polycarbazole, polyquinoline, nuclear-substituted polyquinoline, polybenzoxazole , substituted polybenzoxazole, polytetra(naphthylo)tetraazaporphyrin, and polytetra(phenanthro)tetraazaporphyrin.

プラスチックス成形物がポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、塩化ビニル系共重合体、ポリフッ化ビニル、ポ
リフッ化ビニリデン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ
ビニルカルバゾール、ポリエーテル、ポリエーテルエス
テル、塩素化ポリオレフィン、ポリアミドイミド、ポリ
エーテルスルホン、ポリイミド、ポリアミノビスマレイ
ミド、ポリスルホン、ポリスチレンよりなる群より選ば
れた少なくとも一つの高分子を基体とする膜、フィルム
、シートもしくは板である。
Plastic molded products include polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, vinyl chloride copolymers, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polyester, polyamide, polyvinyl carbazole, polyether, polyether ester, chlorinated polyolefin, polyamideimide, poly A membrane, film, sheet, or plate based on at least one polymer selected from the group consisting of ether sulfone, polyimide, polyamino bismaleimide, polysulfone, and polystyrene.

プラスチック成形物の面上に導電性高分子による回路図
柄を電解重合法によって形成する方法としては、例えば
、金属等の導電性物質で回路図柄が形成された積層物、
フィルムまたは基体を用いて、該金属等の回路図柄面に
プラスチックス薄板を密着させ、該プラスチック薄板に
対向する電極を設置して該薄板と該電極との間にヘテロ
原子を有する芳香族化合物、強電解質および活性水素原
子不含の極性有機溶剤よりなる電解液を充満させて、該
金属等の回路図柄と該電極との間に通電して電解し該薄
板上に回路図柄を形成せしめる方法がある。
Examples of methods for forming circuit patterns using conductive polymers on the surface of plastic moldings by electrolytic polymerization include laminates in which circuit patterns are formed using conductive substances such as metals,
An aromatic compound having a hetero atom between the thin plate and the electrode by placing a thin plastic plate in close contact with the circuit pattern surface of the metal or the like using a film or a substrate, and installing an electrode opposite to the thin plastic plate; A method is to form a circuit pattern on the thin plate by filling it with an electrolytic solution consisting of a strong electrolyte and a polar organic solvent containing no active hydrogen atoms, and applying electricity between the metal circuit pattern and the electrode to cause electrolysis. be.

このようにして形成された導電性基板に無電解鍍金用混
合物を接触させ、該回路図柄の一部または全部を鍍金す
る。
A mixture for electroless plating is brought into contact with the conductive substrate thus formed, and part or all of the circuit pattern is plated.

無電解鍍金用混合物とは例えば金、銀、銅、白金、ハラ
ジウム、クロム、鉄、コバルト、ニッケルおよびバナジ
ウムよりなる群から選ばれた少なくとも一つの金属の化
合物および還元剤等よりなる溶液もしくは混合物である
A mixture for electroless plating is a solution or mixture consisting of a compound of at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, copper, platinum, haladium, chromium, iron, cobalt, nickel, and vanadium, and a reducing agent. be.

そもそも電解を要しない鍍金には溶解鍍金、浸透鍍金、
金属溶射、陰極スパッタリング、真空蒸着、化学鍍金お
よび浸漬鍍金という種類があるが、本発明において用い
られるものは化学鍍金を主としたものであり、その目的
を達成するために次のような無電解鍍金用混合物が用い
られる。例えばニッケル鍍金またはコバルト鍍金には酸
性浴とアンモニア性浴とがあり、その組成により以下の
如く各種の名称が付されている。
In the first place, plating that does not require electrolysis includes solution plating, penetrating plating,
There are metal spraying, cathode sputtering, vacuum evaporation, chemical plating, and immersion plating, but the one used in the present invention is mainly chemical plating, and to achieve the purpose, the following electroless plating is used. A plating mixture is used. For example, there are acid baths and ammonia baths for nickel plating and cobalt plating, and they are given various names depending on their compositions, as shown below.

■ヒドロキシアセテート・ニッケル酸性浴NiCl□・
6H2030g/I、 NaHzPOz・HzO10g/l、 HOCH2COOH35g/I。
■Hydroxyacetate・nickel acid bathNiCl□・
6H2030g/I, NaHzPOz・HzO10g/l, HOCH2COOH35g/I.

NaOH中和量(pH4〜6)。NaOH neutralization amount (pH 4-6).

■チトレート・アセテート・ニッケル酸性浴NiCl2
・6Hz0 30g/l。
■Titrate/acetate/nickel acid bath NiCl2
・6Hz0 30g/l.

NaHzPOz・HzOLog/I、 N a zcbHso7・5.5 H2015g/ I
 。
NaHzPOz・HzOLog/I, Na zcbHso7・5.5 H2015g/I
.

CH3COON a  5 g / + 1NaOH中
和!(pH4〜6)。
CH3COON a 5 g / + 1 NaOH neutralization! (pH 4-6).

■ラクテート・プロピオネート・ニッケル酸性浴NiC
l2.6H2026g/11 NaH2PO2・H2024g/L CH3CHOHCOOH27g / I、C2H3CO
OH2,2g/l、 Pb”  0.002g/I、 NaOH中和量(pH4〜6)。
■Lactate/propionate/nickel acid bathNiC
l2.6H2026g/11 NaH2PO2・H2024g/L CH3CHOHCOOH27g/I, C2H3CO
OH2.2g/l, Pb'' 0.002g/I, NaOH neutralization amount (pH 4-6).

■フルオライド・ニッケル酸性浴 NiSO4・6H2030g/I。■Fluoride/nickel acid bath NiSO4・6H2030g/I.

NaH2PO2・H2030g/l、 NH4F  15g/l、 NaOH適量(pH6〜7)。NaH2PO2・H2030g/l, NH4F 15g/l, Appropriate amount of NaOH (pH 6-7).

■チトレート・ニッケルアンモニア性浴N1CIz・6
H,030g/l。
■Titrate nickel ammonia bath N1CIz・6
H, 030g/l.

Na H2POz・Hzo  10 g/]、N a 
3 Cb Hs○t・5.5 H20100g/ 11
NHaCI  50 g / 1、 NH4OH中和量(pH8〜10)。
Na H2POz・Hzo 10 g/], Na
3 Cb Hs○t・5.5 H20100g/ 11
NHaCI 50 g/1, NH4OH neutralization amount (pH 8-10).

■ピロホスフェート・ニッケルアンモニア性浴NaSO
4・6Hz0 25g/l、    1NaHzPOz
−H2025g/I、 NaaPzO750g/11 NH,OH中和1L(pH10〜11)。
■Pyrophosphate/nickel ammonia bath NaSO
4.6Hz0 25g/l, 1NaHzPOz
-H2025g/I, NaaPzO750g/11 NH,OH neutralization 1L (pH 10-11).

■チトレート・コバルトアンモニア性浴COCl2・6
H2030g/l。
■Titrate/cobalt ammonia bath COCl2/6
H2030g/l.

NaHzPOz−H2020g/l。NaHzPOz-H2020g/l.

Na5CbH50,・5.5Hz0 35g/l、NH
4C150g/I、 NH,OH中和量(pH9〜10)。
Na5CbH50, 5.5Hz0 35g/l, NH
4C150g/I, NH,OH neutralization amount (pH 9-10).

■ロッセル塩・コバルト・ニッケルアンモニア性浴 N i C12・6Lgo   30g/LCoC1□
・6H2030g/l、 N a HgP O□・HzO20g/ l 。
■Rossel salt/cobalt/nickel ammonia bath N i C12/6Lgo 30g/LCoC1□
・6H2030g/l, N a HgP O□・HzO20g/l.

NH4Cl   50g/l。NH4Cl   50g/l.

CaH4KNaO,、・4Hz0  200g/l、N
H4OH中和!(pH8〜10)。
CaH4KNaO,, 4Hz0 200g/l, N
H4OH neutralization! (pH 8-10).

上側に示した如く無電解鍍金用混合物というのは主成分
として金属化合物と還元剤を含み、補助成分としてpH
調整剤、緩衝剤、錯化剤、促進剤、安定剤、改良剤等を
含むものである。
As shown above, the mixture for electroless plating contains a metal compound and a reducing agent as main components, and a pH value as an auxiliary component.
It includes regulators, buffers, complexing agents, accelerators, stabilizers, improving agents, and the like.

無電解鍍金浴が酸性かアルカリ性かにかかわらず、還元
剤として広く用いられているものは次亜硫酸ナトリウム
、亜硫酸ナトリウム、次亜リン酸ナトリウム、亜リン酸
、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジン、ヒドラジン塩
、酒石酸、酒石酸塩、ブドウ糖、アミノボラン、グリセ
リン、N、N−ジエチルグリシンナトリウム、ホルマリ
ン等である。補助成分のうち、pH調整剤としては水酸
化ナトリウム、水酸化アンモニウム、無機酸、有機酸が
よく用いられており、緩衝剤としてはクエン酸ナトリウ
ム、酢酸ナトリウム、ホウ酸アルカリ、炭酸アルカリ、
リン酸アルカリ等が一般に用いられている。
Regardless of whether the electroless plating bath is acidic or alkaline, the commonly used reducing agents are sodium hyposulfite, sodium sulfite, sodium hypophosphite, phosphorous acid, sodium borohydride, hydrazine, hydrazine salts, These include tartaric acid, tartrate, glucose, aminoborane, glycerin, sodium N,N-diethylglycine, and formalin. Among the auxiliary ingredients, sodium hydroxide, ammonium hydroxide, inorganic acids, and organic acids are often used as pH adjusting agents, and as buffering agents, sodium citrate, sodium acetate, alkali borate, alkali carbonate,
Alkali phosphate and the like are commonly used.

錯化剤というのは鍍金浴から金属化合物が沈澱するのを
防止するために加えられるもので、好都合な金属錯体イ
オンを形成する試薬としてはクエン酸アルカリ、酢酸ア
ルカリ、グリコール酸アルカリ、シアン化アルカリ、酒
石酸アルカリ、チオグリコール酸、チオ尿素、アンモニ
ア、ヒドラジン、トリエタノールアミン、エチレンジア
ミン、グリシン、0−アミノフェノール、ピリジン、エ
チレンジアミンテトラ酢酸等がある。
Complexing agents are added to prevent metal compounds from precipitating out of the plating bath; preferred reagents that form metal complex ions include alkali citrate, alkali acetate, alkali glycolate, and alkali cyanide. , alkali tartrate, thioglycolic acid, thiourea, ammonia, hydrazine, triethanolamine, ethylenediamine, glycine, 0-aminophenol, pyridine, ethylenediaminetetraacetic acid, and the like.

促進剤というのは鍍金を促進すると共にガスの発生を抑
えて金属の析出効率をよくするもので、硫化物とかフッ
化物が微量添加される。安定剤と言うのは鍍金浴の自然
分解(老化と不必要な還元)を抑えるもので鉛の塩化物
、硫化物、硝酸塩が微量用いられる。改良剤というのは
鍍金皮膜の状態を良好ならしめるもので、例えば光沢を
良くするために微量の界面活性剤が用いられている。
Accelerators promote plating and suppress gas generation to improve metal deposition efficiency, and small amounts of sulfides and fluorides are added. Stabilizers are used to suppress the natural decomposition (aging and unnecessary reduction) of the plating bath, and lead chlorides, sulfides, and nitrates are used in small amounts. A modifier is something that improves the condition of a plating film; for example, a small amount of a surfactant is used to improve gloss.

クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、コハク酸ナトリ
ウム、リンゴ酸、グリシン等は上記の緩衝剤、促進剤、
錯化剤の能力を兼ね備えた補助剤であり非常によく使用
される。
Sodium citrate, sodium acetate, sodium succinate, malic acid, glycine, etc. are the above buffers, accelerators,
It is an adjuvant that has the ability of a complexing agent and is very commonly used.

このような無電解鍍金用混合物を接触させることは導電
性基板を鍍金浴へ浸漬するか、導電性基板に鍍金浴を塗
布するか散布するかあるいは印刷するか等の操作により
達成される。この場合鍍金浴と接触する部分は多くても
少なくてもよくその適用範囲は用途に応じ決定されるべ
きである。
Contacting with such an electroless plating mixture is accomplished by immersing the conductive substrate in a plating bath, applying, spraying, or printing the plating bath onto the conductive substrate. In this case, the number of parts that come into contact with the plating bath may be large or small, and the range of application should be determined depending on the application.

ヘテロ原子を含む導電性高分子による回路図柄が形成さ
れている導電性基板に以上の無電解鍍金用混合物を接触
させた場合にはプラスチックス成形物の表面が前処理に
よって活性化されていない限り鍍金化は回路図柄の部分
に通常集中して起こり、回路図柄以外の部分は洗浄等に
より鍍金が脱落してしまうのが常である。この効果はプ
ラスチックス成形物の表面が撥水性または撥液性である
場合に著しい。従ってプリント配線基板のスルーホール
上に鍍金するためにはこの部分に不必要なIΩ水性とか
撥液性が生じないようこの部分のみ活性化前処理を行っ
ておく必要がある。
When the above electroless plating mixture is brought into contact with a conductive substrate on which a circuit pattern made of a conductive polymer containing heteroatoms is formed, unless the surface of the plastic molded product has been activated by pretreatment. Plating usually occurs concentrated on the circuit pattern area, and the plating usually falls off from areas other than the circuit pattern due to washing or the like. This effect is remarkable when the surface of the plastic molded product is water repellent or liquid repellent. Therefore, in order to plate the through holes of a printed wiring board, it is necessary to pre-activate only this part so that unnecessary IΩ water resistance or liquid repellency does not occur in this part.

この活性化前処理は例えばトリクレン洗浄、アルカリ脱
脂、水洗、酸洗、塩化パラジウム液含浸、塩化第一スズ
液含浸等を常法の如く行うのが好まれる。
This pre-activation treatment is preferably carried out in the usual manner, such as trichlene cleaning, alkaline degreasing, water washing, pickling, palladium chloride liquid impregnation, stannous chloride liquid impregnation, etc.

以上の方法を通じて得られた加工導電性回路基板は所定
の部分のみ鍍金されてはいるが、無電解鍍金よって得ら
れた鍍金膜は一般に非常に薄いものでありその厚さは1
0μm以下であるため物理的に、機械的に充分な強度を
有しているとは言い難い場合もあるのである。
Although the processed conductive circuit board obtained through the above method is plated only in a predetermined portion, the plated film obtained by electroless plating is generally very thin, with a thickness of 1
Since it is 0 μm or less, it may be difficult to say that it has sufficient physical and mechanical strength.

このため本発明者は加工導電性基板を密着するフィルム
で被覆して補強することにより実用的に充分な強度を有
せしめるよう工夫したのである。
Therefore, the inventor of the present invention devised a method to provide sufficient strength for practical use by covering and reinforcing the processed conductive substrate with an adhesive film.

この密着するフィルムで被覆することは基板にブラスチ
ソクスフィルムをラミネートするか、プラスチックスを
含む塗料またはインキを塗布或いは印刷するか等の方法
によって達成し得るものである。勿論この際、基板との
密着を強化するために適当な接着剤を起用するのもよい
し又加圧、加熱等を用いてやっても良いのである。更に
この密着を完全ならしめるため基板に用いたプラスチッ
クスと相溶性の良いプラスチックスとか反応するプラス
チックスを用いて基板と一体化してしまうことは極めて
有効である。
Covering with this adhesive film can be achieved by laminating a Blastisox film on the substrate, or by coating or printing with a paint or ink containing plastics, or the like. Of course, at this time, an appropriate adhesive may be used to strengthen the adhesion to the substrate, or pressure, heating, etc. may be used. Furthermore, in order to achieve perfect adhesion, it is extremely effective to use plastics that are compatible with or react with the plastics used for the substrate and to integrate them with the substrate.

基板に用いるプラスチックスがポリエステルフィルムで
ある場合にはこれに同種又は他のプラスチックスを密着
させる場合、ポリビニル系、ポリアクリル系又はポリウ
レタン系等の接着剤を必要とするが、ポリ塩化ビニルフ
ィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィ
ルム、ポリアミドフィルム或いはポリアクリル系フィル
ムである場合にはこれと同種又は他のプラスチックスを
密着させることが容易であるので比較的少量の接着剤と
か可塑剤の存在下で或いは何物も存在させずに所望のプ
ラスチックス溶液を塗布したり、プラスチックスフィル
ムを単に熱圧着するだけで目的が達せられる。いずれに
せよ、以上のような補強性を採用することにより導電性
回路が必要部分だけ外気と遮断されて安定化することは
勿論、折り曲げとか撓み曲げに対して強くなりフィルム
コネクタとかプリント基板として過酷な使用に耐えるこ
とになるのである。勿論このようにして導電性が改善さ
れた基板に対して更に三次加工、四次加工が施され商品
価値の高い製品に仕上げることができる。
If the plastic used for the substrate is a polyester film, and if the same or other plastics are to be adhered to it, a polyvinyl-based, polyacrylic-based, or polyurethane-based adhesive is required; however, polyvinyl chloride film, In the case of polystyrene film, polycarbonate film, polyamide film, or polyacrylic film, it is easy to adhere the same type of plastic or other plastics to it, so it may be used in the presence of a relatively small amount of adhesive or plasticizer, or in the presence of a relatively small amount of adhesive or plasticizer. The purpose can be achieved by applying the desired plastics solution in the absence of any material or simply by hot-pressing the plastics film. In any case, by adopting the above-mentioned reinforcing properties, the conductive circuit is not only stabilized by being isolated from the outside air only in the necessary parts, but also becomes strong against bending and bending, making it difficult to use as a film connector or printed circuit board. It will withstand heavy use. Of course, the substrate whose conductivity has been improved in this manner can be further subjected to tertiary processing and quaternary processing to produce a product with high commercial value.

本発明者は以上に述べてきた本発明に関して多数の実施
を行い本発明の新規性と優秀性を確認したのであるが、
更に本発明の技術的内容を明確にするために多数の実施
例より代表的な二三例を抽出して以下に実施例として示
すことにする。従って本発明は単に以下に示された実施
例のみに限定して解釈されるべきではなく、本発明の趣
旨と精神とを逸脱せざる限り任意にその実施態様を変更
して実施しうろことは当然である。
The present inventor has carried out numerous implementations of the present invention described above and has confirmed the novelty and superiority of the present invention.
Furthermore, in order to clarify the technical content of the present invention, a few representative examples will be extracted from a large number of examples and will be shown below as examples. Therefore, the present invention should not be construed as being limited only to the embodiments shown below, and the embodiments may be arbitrarily modified and implemented without departing from the spirit and spirit of the present invention. Of course.

〈実施例〉 実施例1 厚さIRのポリプロピレンシーI・と厚さ0.5mlの
ニッケル板とを交互に50層ずつ積層し、この積層物の
上下を厚手の不飽和ポリエステル樹脂系FRP板ではさ
みボルトおよびナンドを用いて正味の積層部分の厚さが
68〜72℃mになるように同圧して固着物にする。そ
してこの積層固着物を積層方向に対して垂直(90°)
または垂直に近い角度(80°)に切断する。切断面は
サンドペーパ一ついでパフ掛けして研磨し、アセトン洗
浄して乾燥し完全に清潔にする。この切断面に高重合度
の精製ポリ塩化ビニルを溶剤(テトラヒト0フラン90
%+シクロヘキサノン10%)に溶かした7%溶液を清
浄室内で塗布し、乾燥空気を送って溶剤を除去し、厚さ
0.31111のポリ塩化ビニルのフィルムを形成させ
る。この積層物のニッケル板を陽極とし、一方切断面積
よりやや広い面積を有するニッケル板を陰極として陽極
より約2cmの間隙をあけて対向設置する。これを電解
液を満たしたデシケータ−中に沈め減圧脱気したのち通
電する。電解液はテトラプロピルアンモニウムバークロ
レート0.2モル、ビロール0.1モルをプロピレンカ
ーボネートーアセトニリル混液(1:1)In!に溶解
した組成を有し温度は−15〜−5℃に保たれている。
<Example> Example 1 50 layers of polypropylene sheet I with a thickness of IR and nickel plates with a thickness of 0.5 ml were laminated alternately, and the top and bottom of this laminate were covered with thick unsaturated polyester resin FRP plates. Using a scissor bolt and a Nando, the same pressure is applied so that the net thickness of the laminated portion is 68 to 72° C.m to form a solid product. Then, move this laminated material perpendicularly (90°) to the laminating direction.
Or cut at a nearly vertical angle (80°). The cut surface is buffed and polished with sandpaper, washed with acetone, and dried to make it completely clean. Apply purified polyvinyl chloride with a high degree of polymerization to this cut surface using a solvent (tetrahydrofuran 90%
% + 10% cyclohexanone) is applied in a clean room and the solvent is removed by blowing dry air to form a film of polyvinyl chloride with a thickness of 0.31111. The nickel plate of this laminate was used as an anode, and the nickel plate having an area slightly larger than the cut area was used as a cathode, which was placed facing the anode with a gap of about 2 cm between them. This is submerged in a desiccator filled with an electrolytic solution, degassed under reduced pressure, and then energized. The electrolyte is a mixture of 0.2 mol of tetrapropylammonium verchlorate and 0.1 mol of virol in a mixture of propylene carbonate and acetonyl (1:1) In! The temperature is maintained at -15 to -5°C.

通電は2■、0.6mA/ ctで数時間行なう。この
操作時間中においてポリ塩化ビニルフィルムの切断面に
接した側にニッケル陽極の線状面の図形と同じ図柄の回
路が形成され、この回路が次第に強化されてくるのが観
察されるので、通電を終了したのち電極等を引き上げて
アセトン中に浸漬して充分に洗浄し乾燥したのち、切断
面からポリ塩化ビニルのフィルムを剥離する。剥離した
フィルムには切断面にあられれたニッケル線状面と垂直
切断したものは同じような太さの回路図柄が形成されて
おり、また垂直に近い角度で切断したものはやや太めの
回路図柄が形成されている。いずれにせよここに得られ
たポリピロールよりなる回路図柄はσ−15〜20S/
cmであるが、このフィルムをKPF6を飽和したアセ
トニトリル溶液中で加湿して(20%)延伸したのち、
アセトンで洗浄して乾燥するとドーピングと延伸の効果
によりσ−25〜30S/e11に変化することが認め
られた。
Electricity was applied for several hours at 2 mm and 0.6 mA/ct. During this operation time, a circuit with the same pattern as the linear surface of the nickel anode is formed on the side of the polyvinyl chloride film in contact with the cut surface, and it is observed that this circuit gradually becomes stronger, so that the current is applied. After completing this process, the electrodes are pulled up, immersed in acetone, thoroughly washed and dried, and then the polyvinyl chloride film is peeled off from the cut surface. The peeled film has a circuit pattern of the same thickness when cut perpendicular to the nickel linear surface on the cut surface, and a slightly thicker circuit pattern when cut at an angle close to perpendicular. is formed. In any case, the circuit pattern made of polypyrrole obtained here is σ-15~20S/
cm, but after humidifying and stretching this film in an acetonitrile solution saturated with KPF6 (20%),
When washed with acetone and dried, it was observed that the value changed to σ-25 to 30 S/e11 due to the effects of doping and stretching.

実施例2 実施例1で得られた回路図柄の形成された導電性基板面
に次に示すA液を塗布して冷暗所に1時間保存した後余
分のA液を拭き取り、次いでこの面に次に示すB液を含
浸させたポリビニルホルマールスポンジシートを重ねて
2枚のガラス板ではさんで15〜20℃で20分間保っ
た後スポンジシートを除去して基板面を充分水洗し乾燥
すると最初の回路図柄の部分のみ美しい銀鍍金が完成さ
れた加工導電性回路基板が得られた。
Example 2 The following liquid A was applied to the conductive substrate surface on which the circuit pattern obtained in Example 1 was formed, and after storing it in a cool and dark place for 1 hour, the excess liquid A was wiped off. After stacking polyvinyl formal sponge sheets impregnated with liquid B as shown and holding them between two glass plates for 20 minutes at 15 to 20°C, remove the sponge sheets, wash the board thoroughly with water, and dry it to form the first circuit pattern. A processed conductive circuit board was obtained with beautiful silver plating only on the .

A液:硝酸銀3.5gを水60m1に溶解し、これにア
ンモニア水を加えて沈澱を作り、更にこの沈澱が溶解す
るに足るアンモニア水を添加した後水酸化ナトリウム水
溶液(NaOH2,5g含有)60mlを混合したもの
Solution A: Dissolve 3.5 g of silver nitrate in 60 ml of water, add aqueous ammonia to this to form a precipitate, add enough aqueous ammonia to dissolve the precipitate, and then add 60 ml of aqueous sodium hydroxide solution (containing 2.5 g of NaOH). A mixture of.

B液ニブドウ糖45g1酒石酸4g1アルコール100
m1を水10100Oに溶解したもの。
B liquid niglucose 45g 1 tartaric acid 4g 1 alcohol 100
ml dissolved in 10100O of water.

実施例3 実施例2で得られた加工導電性回路基板面に実施例1に
示したポリ塩化ビニル溶液を塗布して乾燥空気を送って
乾燥後、70℃において加圧して成形してやると銀鍍金
された導電性回路がサンドインチ状にはさまれた補強さ
れた加工導電性回路基板になる。このものを所定の形に
切断し回路の導電性を測定したところρ=1.6X10
−6ΩGであった。
Example 3 The polyvinyl chloride solution shown in Example 1 was applied to the surface of the processed conductive circuit board obtained in Example 2, dried by blowing dry air, and then molded under pressure at 70°C, resulting in silver plating. The processed conductive circuits are sandwiched together into a reinforced processed conductive circuit board. When this was cut into a predetermined shape and the conductivity of the circuit was measured, ρ = 1.6X10
-6ΩG.

実施例4 ポリエチレンテレフタレートに金を真空蒸着したフィル
ムを何枚も重ね合わせたのち、硬質塩化ビニル樹脂板で
両端面をはさんでボルトおよびナツトを用いて締めつけ
て固着させる。この積層フィルムの垂直切断面に旋盤バ
イトを用いて切削を行い、その面を曲面状にしてパフ掛
けを行って滑らかにした上、メタノール洗浄して乾燥す
る。ついでこの曲面切断面に高重合度のポリアクリロニ
トリルの20%ジメチルホルムアミド溶液を塗布し清浄
室内で乾燥し厚さがQ、5mmのポリアクリロニトリル
のフィルムを形成させる。この半球状のフィルムから3
cm離して球状の黒鉛電極を対向させたのち電解液中に
つけて金を陽極、黒鉛を陰極として20 V、  20
mA/crl+の通電を0℃で6時間行なう。電解液は
チオフェン0.1モルおよび過塩素酸リチウム1モルを
アセトニトリル−メチル−1,3−ジオキソラン混液(
2:1)1ρに溶解した組成を有している。電解終了後
、電極等を電解槽より引き上げ、さらにメチル−1,3
−ジオキソラン中に浸漬して充分洗浄したのち、乾燥す
ることなく注意してポリアクリロニトリルのフィルムを
曲面切断面より剥離し、曲面状のゴムスポンジ上に載置
して減圧乾燥する。ここに得られた曲面状のポリアクリ
ロニトリルの曲面切断面側つまり凸面上にポリエチレン
テレフタレートに埋めこまれた金線と同型、同数の回路
図柄が導電性のポリチオフェン(ρ−5OS /cm)
で細かく再現されている。この方法は球面回路基板を得
る例であるが、金蒸着したポリエチンテレフタレート・
フィルムを別の積層形式、例えば渦巻状、指紋状あるい
は波状に変えた積層物を用いて切断面をつくってやり上
記と同様に操作すれば、その積層の形と切断面の形に応
する各種の回路図柄を有する基板が得られる。
Example 4 A number of films made of vacuum-deposited gold on polyethylene terephthalate are stacked one on top of the other, and then both ends are sandwiched between hard vinyl chloride resin plates and fixed by tightening with bolts and nuts. The vertical cut surface of this laminated film is cut using a lathe cutting tool, the surface is curved and smoothed by puffing, and then washed with methanol and dried. Next, a 20% dimethylformamide solution of polyacrylonitrile with a high degree of polymerization is applied to this curved cut surface and dried in a clean room to form a polyacrylonitrile film having a thickness of Q and 5 mm. From this hemispherical film 3
After spherical graphite electrodes were placed facing each other at a distance of cm, they were immersed in an electrolytic solution, and the voltage was set at 20 V with gold as the anode and graphite as the cathode.
A current of mA/crl+ is applied at 0° C. for 6 hours. The electrolyte was a mixture of 0.1 mole of thiophene and 1 mole of lithium perchlorate in acetonitrile-methyl-1,3-dioxolane (
2:1) has a composition dissolved in 1ρ. After electrolysis, the electrodes are pulled out of the electrolytic tank, and methyl-1,3
- After immersing in dioxolane and thoroughly washing, the polyacrylonitrile film is carefully peeled off from the curved cut surface without drying, placed on a curved rubber sponge, and dried under reduced pressure. On the curved cut side, that is, the convex surface, of the curved polyacrylonitrile obtained here, the circuit pattern of the same type and number as the gold wire embedded in polyethylene terephthalate is conductive polythiophene (ρ-5OS/cm).
is reproduced in detail. This method is an example of obtaining a spherical circuit board.
If a cut surface is made using a laminate in which the film is laminated in another form, such as a spiral, a fingerprint, or a wavy form, and the same procedure as described above is performed, various shapes will be created depending on the shape of the laminate and the shape of the cut surface. A board having a circuit pattern is obtained.

実施例5 実施例4で得られた回路図柄の形成された導電性基板を
次に示すA液とB液との1:3混液に浸漬すると最初の
回路図柄の部分のみ銅鍍金されるのでこれを水洗乾燥す
ると美しい加工導電性回路基板が得られた。
Example 5 When the conductive substrate on which the circuit pattern obtained in Example 4 is formed is immersed in the following 1:3 mixture of liquid A and liquid B, only the first circuit pattern is plated with copper. After washing and drying, a beautifully processed conductive circuit board was obtained.

A液:水11に硫酸銅14g及び塩化二・シケル4gf
i:溶解しこれに37%ホルマリン53m1を添加した
もの。
Solution A: 11 g of water, 14 g of copper sulfate, and 4 gf of di-SiCl chloride
i: Dissolved and to which 53 ml of 37% formalin was added.

B液:酒石酸カリウムナトリウム45.5g、水酸化ナ
トリウム9.0g、及び炭酸ナトリウム4.2gを水I
βに溶解したもの。
Solution B: 45.5 g of potassium sodium tartrate, 9.0 g of sodium hydroxide, and 4.2 g of sodium carbonate in water I
Dissolved in β.

この場合鋼はニッケルに比べて標準単極電位が+0.3
34Vであり、還元力の弱いホルマリンでも容易に銅が
析出し回路を形成するのである。
In this case, the standard unipolar potential of steel is +0.3 compared to nickel.
34V, and even formalin, which has a weak reducing power, easily precipitates copper to form a circuit.

実施例6 実施例5で得られた加工導電性回路基板面に実施例4で
示したポリアクリロニトリル溶液を塗布し乾燥したもの
は曲面状の銅鍍金された導電性回路がサンドインチ状に
はさまれた補強された加工導電性回路基板であり、この
ものは回路部分の導電性がρ−1.5xlO−6Ωcm
で耐候性が非常に良かった。
Example 6 The surface of the processed conductive circuit board obtained in Example 5 was coated with the polyacrylonitrile solution shown in Example 4 and dried, resulting in curved copper-plated conductive circuits sandwiched in a sandwich shape. This is a reinforced processed conductive circuit board, and the conductivity of the circuit part is ρ-1.5xlO-6Ωcm.
It had very good weather resistance.

実施例7 実施例4においてチオフェンの半量をピロールに置き換
え、同じように操作するとポリチオフェンのかわりにポ
リ (チオフェン・ピロール)の導電性回路(σ−25
S/(至))が得られた。また実施例4のチオフェンを
各種のモノマーに置き換え電解反応を用いてそれぞれに
相当するポリマーにより図柄の描かれた回路基板を得る
ことができる。
Example 7 If half of the thiophene in Example 4 was replaced with pyrrole and the same operation was performed, a conductive circuit (σ-25
S/(to)) was obtained. Furthermore, by replacing thiophene in Example 4 with various monomers and using electrolytic reactions, circuit boards with patterns drawn on them can be obtained using polymers corresponding to the respective monomers.

モノマーの種類と得られた回路図柄部分の導電性は次表
のとおりであった。
The type of monomer and the conductivity of the obtained circuit pattern portion are shown in the following table.

実施例8 実施例7の表に示したβ、β′ −ジメチルピロールか
ら得られた図柄を有する導電性回路基板を次表の3種の
ニッケル鍍金浴■〜■に2〜3時間浸漬してニッケル鍍
金する。
Example 8 A conductive circuit board having a pattern obtained from β,β'-dimethylpyrrole shown in the table of Example 7 was immersed for 2 to 3 hours in three types of nickel plating baths ■ to ■ shown in the table below. Nickel plated.

■〜■のいずれのニッケル鍍金浴を用いても回路図柄が
美しくニッケル鍍金された加工導電性回路基板が得られ
た。
Using any of the nickel plating baths ① to ②, processed conductive circuit boards with beautiful circuit patterns and nickel plating were obtained.

実施例9 実施例7の表に示したアニリンから得られた図柄を有す
る導電性回路基板を次表の2種のニッケル鍍金浴■、■
に1時間浸漬してニッケル鍍金する。
Example 9 A conductive circuit board having a pattern obtained from aniline shown in the table of Example 7 was subjected to two types of nickel plating baths (■, ■) shown in the following table.
Soak for 1 hour and nickel plate.

■、■のいずれのニッケル鍍金浴を用いても回路図柄が
美しくニッケル鍍金された加工導電性回路基板が得られ
た。
Using either of the nickel plating baths (1) and (2), processed conductive circuit boards with beautiful circuit patterns and nickel plating were obtained.

実施例10 実施例9で得られた加工導電性回路基板面にポリビニル
エチルエーテル系接着剤溶液を薄く塗布して乾燥したの
ちセルローズトリアセテートフィルムを圧着してラミネ
ート化して補強したものは、その回路部分の導電性がρ
−7X10−6Ω(2)でフィルムコネクタとして非常
に使い易いものである。
Example 10 A thin layer of polyvinylethyl ether adhesive solution was applied to the surface of the processed conductive circuit board obtained in Example 9, and after drying, a cellulose triacetate film was pressed and laminated to reinforce the circuit portion. The conductivity of ρ
-7x10-6Ω (2), making it very easy to use as a film connector.

実施例11 実施例7で得られたフタロシアニン、1−メチルイミダ
ゾール及びビニルピリジンから得られたそれぞれのポリ
マーによる図柄を有する導電性回路基板を次表の非電解
鍍金液に浸漬して加工導電性回路基板とした。
Example 11 A conductive circuit board having a pattern made of the respective polymers obtained from phthalocyanine, 1-methylimidazole, and vinylpyridine obtained in Example 7 was immersed in the non-electrolytic plating solution shown in the following table to fabricate a conductive circuit. It was used as a substrate.

実施例12 厚さ10tmのポリエチレン板と厚さO,ltmの白金
板とを交互に重層したのち、実施例1と同様に固着して
ブロックにし、この積層物を垂直切断してこの面に次表
に示すプラスチ・ノクスを溶剤(クロロヘンゼン、イソ
ホロン、フェノールまたはジメチルホルムアミド)に溶
解したものを塗布し乾燥して厚さ10μmのフィルムを
均一に形成させ、この上に糊状の電解液を塗布する。こ
の電解液はアセトニトリル60%、プロピレンカーボネ
ート20%およびジメトキシエタン20%の混液にLi
PF6を1規定液となるよう溶解し、さらにビロールを
0.5規定になるよう溶解した後エアロゾルシリカを加
えてペースト状にしたものである。塗布量は3fiの厚
さであり、その上に対極となる厚さ111のアルミニウ
ム板を置き、電解液部分が空気に触れないよう厚手のプ
ラスチックス・テープで目張りをしたのち3V、1mA
/aflの通電を行なう。この実験では電解液部分に空
気が入ったり空間ができたりさせないことで、また吸湿
しないよう乾燥室内でセントすることが必要である。2
0分間通電すると10μmのフィルム上に積層物の切断
面の白金板に接した部分にのみポリピロールが析出して
くる。極く薄いポリピロールは無色であるが厚くなると
共に着色し最終的には暗色〜黒色を呈するようになる。
Example 12 After alternately layering polyethylene plates with a thickness of 10 tm and platinum plates with a thickness of O, ltm, they were fixed to form a block in the same manner as in Example 1. This laminate was cut vertically and the next layer was cut on this surface. Apply Plasti-Nox shown in the table dissolved in a solvent (chlorohenzene, isophorone, phenol or dimethylformamide), dry to form a uniform film with a thickness of 10 μm, and apply a paste-like electrolyte on top of this. . This electrolyte was made of a mixture of 60% acetonitrile, 20% propylene carbonate, and 20% dimethoxyethane.
After dissolving PF6 to a 1N solution and further dissolving virol to a 0.5N solution, aerosol silica was added to form a paste. The amount of coating was 3fi, and on top of that, an aluminum plate with a thickness of 111 was placed as a counter electrode, and after covering it with thick plastic tape to prevent the electrolyte part from coming into contact with air, it was applied at 3V and 1mA.
/afl is energized. In this experiment, it was necessary to store the electrolyte in a drying room to prevent air from entering or creating spaces in the electrolyte, and to prevent moisture absorption. 2
When electricity is applied for 0 minutes, polypyrrole is deposited on the 10 μm film only on the cut surface of the laminate in contact with the platinum plate. Very thin polypyrrole is colorless, but as it becomes thicker it becomes colored and eventually takes on a dark to black color.

次表にプラスチックス・フィルム面にできた回路図柄の
導電性を示そう。
The following table shows the conductivity of circuit patterns formed on plastic film surfaces.

実施例13 実施例12において得られたポリ塩化ビニリデン基板上
に画かれた回路図柄面上に合液(塩化金10g、食塩5
g、水800m1)を塗布して、充分含浸させたのち余
分の合液を回収する。次いで還元液(酒石酸22.5g
、水酸化ナトリウム300g、xタノール380m1、
水600m1)を基板上にスプレーし室温で放置してお
くと回路図柄部分に金が鍍金されるので基板を充分水洗
し乾燥する。このように一般に貴金属である白金、金、
パラジウム等はその塩の溶液から弱還元剤によって所望
の金属を容易に析出し、これが導電性回路図柄に良く付
着する。弱還元剤としては酒石酸の他に、ホルマリン、
ブドウ糖、グリセリン等も用いられるが、勿論次亜リン
酸ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジン等
の種水溶液でも使用できる。
Example 13 A mixed solution (gold chloride 10g, salt 5g
g, 800 ml of water) is applied, and after sufficient impregnation, the excess mixture is collected. Next, reducing solution (tartaric acid 22.5g
, sodium hydroxide 300g, xtanol 380ml,
Spray 600ml of water onto the board and leave it at room temperature to plate the circuit pattern with gold. Wash the board thoroughly with water and dry it. In this way, platinum, gold, which is generally a precious metal,
A desired metal such as palladium is easily precipitated from a solution of its salt by a weak reducing agent, and this metal adheres well to the conductive circuit pattern. In addition to tartaric acid, formalin,
Glucose, glycerin, etc. are also used, but of course, aqueous solutions of seeds such as sodium hypophosphite, sodium borohydride, hydrazine, etc. can also be used.

実施例14 実施例12で得られた導電性基板を実施例13の如き方
法で金もしくは白金を部分鍍金した後に水洗、乾燥する
。この面上に酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体をシンナ
ーに溶かしたインキを薄く塗布、乾燥して鍍金部を補強
したものは、いずれも耐水性、耐屈折性に冨んでいる。
Example 14 The conductive substrate obtained in Example 12 is partially plated with gold or platinum in the same manner as in Example 13, and then washed with water and dried. A thin layer of ink made by dissolving vinyl acetate/vinyl chloride copolymer in thinner is applied onto this surface, and the plated area is reinforced by drying, resulting in excellent water resistance and refraction resistance.

鍍金部分の導電性は比抵抗ρ=2〜llXl0−6Ωω
であり、得られた製品はプリント基板として用いられた
The conductivity of the plated part is the specific resistance ρ = 2~llXl0-6Ωω
The resulting product was used as a printed circuit board.

〈発明の効果〉 本発明は導電性回路基板とその導電性改善法に関するも
のであり、産業部品から日用品にわたる電気材料、電子
材料として有用な導電性基板を容易に且つ大量に生産す
る方式を明らかにしたものである。本発明によって得ら
れる導電性基板はその形態によってプリント基板、フィ
ルムコネクタ、配線板、シートスイッチ、フユーズ、セ
ンサー、および高密度回路等として利用できるものであ
り、その産業利用性は極めて大きいものである。
<Effects of the Invention> The present invention relates to a conductive circuit board and a method for improving its conductivity, and clarifies a method for easily and mass producing conductive circuit boards useful as electrical and electronic materials ranging from industrial parts to daily necessities. This is what I did. The conductive substrate obtained by the present invention can be used as printed circuit boards, film connectors, wiring boards, sheet switches, fuses, sensors, high-density circuits, etc. depending on its form, and its industrial applicability is extremely large. .

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ヘテロ原子を含む導電性高分子による回路図柄が
電解重合法によってプラスチックス成形物の面上に形成
された導電性基板に無電解鍍金用混合物を接触させ、該
回路図柄の一部または全部を鍍金して得ることを特徴と
する加工導電性基板。
(1) A mixture for electroless plating is brought into contact with a conductive substrate on which a circuit pattern made of a conductive polymer containing heteroatoms is formed on the surface of a plastic molded product by electrolytic polymerization, and a part of the circuit pattern or A processed conductive substrate characterized by being obtained entirely by plating.
(2)ヘテロ原子を含む導電性高分子がポリアニリン、
核置換ポアニリン、ポリナフチルアミン、核置換ポリナ
フチルアミン、ポリアミノアンスラセン、核置換ポリア
ミノアンスラセン、ポリチオフェン、核置換ポリチオフ
ェン、ポリピロール、置換ポリピロール、ポリピラゾー
ル、置換ポリピラゾール、ポリイミダゾール、置換ポリ
イミダゾール、ポリトリアゾール、置換ポリトリアゾー
ル、ポリピリジン、核置換ポリピリジン、ポリジアジン
、置換ポリジアジン、ポリトリアジン、置換ポリトリア
ジン、ポリオキサジン、置換ポリオキサジン、ポリベン
ゾチオフェン、置換ポリベンゾチオフェン、ポリベンゾ
ピロール、置換ポリベンゾピロール、ポリベンズピラゾ
ール、置換ポリベンズピラゾール、ポリベンズイミダゾ
ール、置換ポリベンズイミダゾール、ポリオキサジアゾ
ール、ポリチアジアゾール、ポリアゾベンゼン、置換ポ
リアゾベンゼン、ポリフタロシアニン、核置換ポリフタ
ロシアニン、ポリカルバゾール、置換ポリカルバゾール
、ポリキノリン、核置換ポリキノリン、ポリベンズオキ
サゾール、置換ポリベンズオキサゾール、ポリテトラ(
ナフチロ)テトラアザポルフィリンおよびポリテトラ(
フェナンスロ)テトラアザポルフィリンよりなる群より
選ばれた少なくとも一つの高分子化合物であることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の加工導電性回路基
板。
(2) The conductive polymer containing heteroatoms is polyaniline,
Nuclear substituted poaniline, polynaphthylamine, nuclear substituted polynaphthylamine, polyaminoanthracene, nuclear substituted polyaminoanthracene, polythiophene, nuclear substituted polythiophene, polypyrrole, substituted polypyrrole, polypyrazole, substituted polypyrazole, polyimidazole, substituted polyimidazole, polytriazole, Substituted polytriazole, polypyridine, nuclear substituted polypyridine, polydiazine, substituted polydiazine, polytriazine, substituted polytriazine, polyoxazine, substituted polyoxazine, polybenzothiophene, substituted polybenzothiophene, polybenzopyrrole, substituted polybenzopyrrole, polybenzpyrazole , substituted polybenzpyrazole, polybenzimidazole, substituted polybenzimidazole, polyoxadiazole, polythiadiazole, polyazobenzene, substituted polyazobenzene, polyphthalocyanine, nuclear substituted polyphthalocyanine, polycarbazole, substituted polycarbazole, polyquinoline, nuclear substituted polyquinoline , polybenzoxazole, substituted polybenzoxazole, polytetra (
naftylo) tetraazaporphyrin and polytetra(
The processed conductive circuit board according to claim 1, characterized in that the processed conductive circuit board is at least one polymer compound selected from the group consisting of phenanthro)tetraazaporphyrin.
(3)プラスチックス成形物がポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、塩化ビニル系共重合体、ポリフッ化ビニ
ル、ポリフッ化ビニリデン、ポリエステル、ポリアミド
、ポリビニルカルバゾール、ポリエーテル、ポリエーテ
ルエステル、塩素化ポリオレフィン、ポリアミドイミド
、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリアミノビス
マレイミド、ポリスルホン、ポリスチレンよりなる群か
ら選ばれた少なくとも一つの高分子を基体とする膜、フ
ィルム、シートもしくは板であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の加工導電性回路基板。
(3) Plastic molded products include polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, vinyl chloride copolymers, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polyester, polyamide, polyvinyl carbazole, polyether, polyether ester, chlorinated polyolefin, polyamide Claims No. 1, characterized in that it is a membrane, film, sheet, or plate based on at least one polymer selected from the group consisting of imide, polyethersulfone, polyimide, polyamino bismaleimide, polysulfone, and polystyrene. Processed conductive circuit board according to item 1.
(4)無電解鍍金用混合物が金、銀、銅、白金、パラジ
ウム、クロム、鉄、コバルト、ニッケルおよびバナジウ
ムよりなる群から選ばれた少なくとも一つの金属の化合
物および還元剤等よりなる溶液もしくは混合物であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の加工導電性
回路基板。
(4) The mixture for electroless plating is a solution or mixture consisting of a compound of at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, copper, platinum, palladium, chromium, iron, cobalt, nickel, and vanadium, a reducing agent, etc. A processed conductive circuit board according to claim 1, characterized in that:
(5)ヘテロ原子を含む導電性高分子による回路図柄が
電解重合法によってプラスチックス成形物の面上に形成
された導電性基板に無電解鍍金用混合物を接触させ、該
回路図柄の一部または全部を鍍金して得られる加工導電
性基板を密着するフィルムで被覆することを特徴とする
加工導電性回路基板の補強法
(5) A mixture for electroless plating is brought into contact with a conductive substrate on which a circuit pattern made of a conductive polymer containing heteroatoms is formed on the surface of a plastic molded product by electrolytic polymerization, and a part of the circuit pattern or A method for reinforcing a processed conductive circuit board, which is characterized by covering a processed conductive board obtained by completely plating with an adhesive film.
(6)ヘテロ原子を含む導電性高分子がポリアニリン、
核置換ポアニリン、ポリナフチルアミン、核置換ポリナ
フチルアミン、ポリアミノアンスラセン、核置換ポリア
ミノアンスラセン、ポリチオフェン、核置換ポリチオフ
ェン、ポリピロール、置換ポリピロール、ポリピラゾー
ル、置換ポリピラゾール、ポリイミダゾール、置換ポリ
イミダゾール、ポリトリアゾール、置換ポリトリアゾー
ル、ポリピリジン、核置換ポリピリジン、ポリジアジン
、置換ポリジアジン、ポリトリアジン、置換ポリトリア
ジン、ポリオキサジン、置換ポリオキサジン、ポリベン
ゾチオフェン、置換ポリベンゾチオフェン、ポリベンゾ
ピロール、置換ポリベンゾピロール、ポリベンズピラゾ
ール、置換ポリベンズピラゾール、ポリベンズイミダゾ
ール、置換ポリベンズイミダゾール、ポリオキサジアゾ
ール、ポリチアジアゾール、ポリアゾベンゼン、置換ポ
リアゾベンゼン、ポリフタロシアニン、核置換ポリフタ
ロシアニン、ポリカルバゾール、置換ポリカルバゾール
、ポリキノリン、核置換ポリキノリン、ポリベンズオキ
サゾール、置換ポリベンズオキサゾール、ポリテトラ(
ナフチロ)テトラアザポルフィリンおよびポリテトラ(
フェナンスロ)テトラアザポルフィリンよりなる群より
選ばれた少なくとも一つの高分子化合物であることを特
徴とする特許請求の範囲第5項記載の加工導電性回路基
板の補強法。
(6) The conductive polymer containing heteroatoms is polyaniline,
Nuclear substituted poaniline, polynaphthylamine, nuclear substituted polynaphthylamine, polyaminoanthracene, nuclear substituted polyaminoanthracene, polythiophene, nuclear substituted polythiophene, polypyrrole, substituted polypyrrole, polypyrazole, substituted polypyrazole, polyimidazole, substituted polyimidazole, polytriazole, Substituted polytriazole, polypyridine, nuclear substituted polypyridine, polydiazine, substituted polydiazine, polytriazine, substituted polytriazine, polyoxazine, substituted polyoxazine, polybenzothiophene, substituted polybenzothiophene, polybenzopyrrole, substituted polybenzopyrrole, polybenzpyrazole , substituted polybenzpyrazole, polybenzimidazole, substituted polybenzimidazole, polyoxadiazole, polythiadiazole, polyazobenzene, substituted polyazobenzene, polyphthalocyanine, nuclear substituted polyphthalocyanine, polycarbazole, substituted polycarbazole, polyquinoline, nuclear substituted polyquinoline , polybenzoxazole, substituted polybenzoxazole, polytetra (
naftylo) tetraazaporphyrin and polytetra(
6. The method of reinforcing a processed conductive circuit board according to claim 5, wherein the reinforcing method is at least one polymeric compound selected from the group consisting of phenanthro)tetraazaporphyrin.
(7)プラスチックス成形物がポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、塩化ビニル系共重合体、ポリフッ化ビニ
ル、ポリフッ化ビニリデン、ポリエステル、ポリアミド
、ポリビニルカルバゾール、ポリエーテル、ポリエーテ
ルエステル、塩素化ポリオレフィン、ポリアミドイミド
、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリアミノビス
マレイミド、ポリスルホン、ポリスチレンよりなる群よ
り選ばれた少なくとも一つの高分子を基体とする膜、フ
ィルム、シートもしくは板であることを特徴とする特許
請求の範囲第5項記載の加工導電性回路基板の補強法。
(7) Plastic molded products include polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, vinyl chloride copolymers, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polyester, polyamide, polyvinyl carbazole, polyether, polyether ester, chlorinated polyolefin, polyamide Claims No. 1, characterized in that it is a membrane, film, sheet, or plate based on at least one polymer selected from the group consisting of imide, polyethersulfone, polyimide, polyamino bismaleimide, polysulfone, and polystyrene. A method for reinforcing a processed conductive circuit board according to item 5.
(8)無電解鍍金用混合物が金、銀、銅、白金、パラジ
ウム、クロム、鉄、コバルト、ニッケルおよびバナジウ
ムよりなる群から選ばれた少なくとも一つの金属の化合
物および還元剤等よりなる溶液もしくは混合物であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の加工導電性
回路基板の補強法。
(8) The mixture for electroless plating is a solution or mixture consisting of a compound of at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, copper, platinum, palladium, chromium, iron, cobalt, nickel, and vanadium, a reducing agent, etc. A method for reinforcing a processed conductive circuit board according to claim 5, characterized in that:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2004524149A (en) * 2001-03-02 2004-08-12 コミツサリア タ レネルジー アトミーク Method for mask-free local grafting of organics onto conductive or semiconductive parts of composite surfaces

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2004524149A (en) * 2001-03-02 2004-08-12 コミツサリア タ レネルジー アトミーク Method for mask-free local grafting of organics onto conductive or semiconductive parts of composite surfaces
JP4667715B2 (en) * 2001-03-02 2011-04-13 コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ Method for locally grafting organic matter mask-free onto conductive or semiconductive portions of a composite surface

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