JPS623644A - 溶液試料のatr分光のための真空乾燥加圧密着測定装置 - Google Patents
溶液試料のatr分光のための真空乾燥加圧密着測定装置Info
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- JPS623644A JPS623644A JP60143638A JP14363885A JPS623644A JP S623644 A JPS623644 A JP S623644A JP 60143638 A JP60143638 A JP 60143638A JP 14363885 A JP14363885 A JP 14363885A JP S623644 A JPS623644 A JP S623644A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/55—Specular reflectivity
- G01N21/552—Attenuated total reflection
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、/8液中の’7g’H,の赤外吸収スペクト
ルを測定するに際して2溶液をプリズム面に塗り真空乾
燥さ仕て酸プリズム面上に溶質の固体薄膜を形成し、該
固体薄膜をプリズム面上に密着保持し、ATR(八tt
enuated Total Rcflec−tion
)分光法を用いて成分測定を行う溶液試料のATR分光
のための真空乾燥加圧密着測定装置に関し、特に微量成
分溶液の成分測定を正確に行うのに適している。
ルを測定するに際して2溶液をプリズム面に塗り真空乾
燥さ仕て酸プリズム面上に溶質の固体薄膜を形成し、該
固体薄膜をプリズム面上に密着保持し、ATR(八tt
enuated Total Rcflec−tion
)分光法を用いて成分測定を行う溶液試料のATR分光
のための真空乾燥加圧密着測定装置に関し、特に微量成
分溶液の成分測定を正確に行うのに適している。
ここに、ATR分光法とは、入射光を試料よりも高屈折
率のプリズムから入射させて、試料とプリズノ、との境
界面で反射する反射光を観測する方法であって、入射角
度を臨界角より大きく保ち、前記境界面で全反射が生ず
るようにし。
率のプリズムから入射させて、試料とプリズノ、との境
界面で反射する反射光を観測する方法であって、入射角
度を臨界角より大きく保ち、前記境界面で全反射が生ず
るようにし。
試料に光吸収がある場合には完全な反射は起こらず、入
射光のエネルギーの一部が試料側に漏出して反射率がそ
の分だけ減少する減衰全反射と呼ばれる状態となり、こ
の状態における反射測定を利用する方法である。
射光のエネルギーの一部が試料側に漏出して反射率がそ
の分だけ減少する減衰全反射と呼ばれる状態となり、こ
の状態における反射測定を利用する方法である。
溶液中の溶質の濃度を赤外吸収スペクトルによって測定
する場合、従来は溶液の赤外吸収スペクトルと溶媒のみ
の赤外吸収スペクトルとを測定し、コンピュータを用い
た演算処理によって、該溶液の赤外吸収スペクトルと溶
媒の赤外吸収スペクトルとの差を算出して得られる差ス
ペクトルを利用していた。
する場合、従来は溶液の赤外吸収スペクトルと溶媒のみ
の赤外吸収スペクトルとを測定し、コンピュータを用い
た演算処理によって、該溶液の赤外吸収スペクトルと溶
媒の赤外吸収スペクトルとの差を算出して得られる差ス
ペクトルを利用していた。
前記従来の技術の場合2溶液の赤外吸収スペクトルと溶
媒のみの赤外吸収スペクトルとの差によって得られる差
スペクトルを利用するので。
媒のみの赤外吸収スペクトルとの差によって得られる差
スペクトルを利用するので。
溶液中の/8質による赤外吸収は極めて微小であって分
光装置のノイズレベルに近く、測定の誤差が大きくて感
度も鈍く、精度の良い測定をすることができないという
問題点があった。
光装置のノイズレベルに近く、測定の誤差が大きくて感
度も鈍く、精度の良い測定をすることができないという
問題点があった。
そこで、ATR分光法によって、直接的に溶質の成分測
定を行うために、プリズム面に直接溶液を塗ってプリズ
ム上で乾燥させ、プリズム面に溶質の固体薄膜状試料を
形成することが考えられるが、これには次のような問題
点があった。
定を行うために、プリズム面に直接溶液を塗ってプリズ
ム上で乾燥させ、プリズム面に溶質の固体薄膜状試料を
形成することが考えられるが、これには次のような問題
点があった。
(1)溶液をプリズム面上で効率良くかつ溶質を変質さ
せることなく乾燥させる手段が必要である。
せることなく乾燥させる手段が必要である。
(2)ATR分光法ではプリズム面と溶質の固体薄膜状
試料面との密着が不可欠であり、少くとも数μm以内の
密着状態を保持するための手段を開発しなければならな
い。
試料面との密着が不可欠であり、少くとも数μm以内の
密着状態を保持するための手段を開発しなければならな
い。
本発明は、前記従来の技術が有している問題点に鑑み、
溶液中の溶質の濃度を赤外吸収スペクトルによって測定
するに際して、測定誤差を掻く小さなものとし感度を上
げて、精度を良くすることを目的とし、剛性中空体と、
該剛性中空体を弾性薄板で仕切って第1気密室と第2気
密室とを形成する手段と、プリズムを外部及び前記第1
気密室内に露出する手段と、前記第1気密室を1友気す
る手段と、前記第2気密室を加圧する手段とから成るこ
とを特徴とるす溶液試料のATR分光のための真空乾燥
加圧密着測定装置として構成したものである。
溶液中の溶質の濃度を赤外吸収スペクトルによって測定
するに際して、測定誤差を掻く小さなものとし感度を上
げて、精度を良くすることを目的とし、剛性中空体と、
該剛性中空体を弾性薄板で仕切って第1気密室と第2気
密室とを形成する手段と、プリズムを外部及び前記第1
気密室内に露出する手段と、前記第1気密室を1友気す
る手段と、前記第2気密室を加圧する手段とから成るこ
とを特徴とるす溶液試料のATR分光のための真空乾燥
加圧密着測定装置として構成したものである。
本発明によれば、 Ml]性中空中空体内性薄板で仕切
って第1気密室と第2気密室とを形成し5プリズムを外
部及び前記第1気密室内に露出させ2咳プリズムの第1
気密室に露出した面に溶液試料を塗り、前記第1気密室
企抜気する手段によって抜気し必要なら同時に第2気密
室も抜気して弾性薄板が溶液試料に触れるのを防止しつ
つ前記溶液試料を真空乾燥させ、前記プリズム面上に溶
質の固体薄膜を形成した後、前記第2気密室を加圧手段
によって加圧して前記弾性薄板で前記溶質の固体薄膜を
プリズム面に押し付けて、該プリズム面と溶質の固体薄
膜との密着を少(とも数μm以内の密着状態に保持し。
って第1気密室と第2気密室とを形成し5プリズムを外
部及び前記第1気密室内に露出させ2咳プリズムの第1
気密室に露出した面に溶液試料を塗り、前記第1気密室
企抜気する手段によって抜気し必要なら同時に第2気密
室も抜気して弾性薄板が溶液試料に触れるのを防止しつ
つ前記溶液試料を真空乾燥させ、前記プリズム面上に溶
質の固体薄膜を形成した後、前記第2気密室を加圧手段
によって加圧して前記弾性薄板で前記溶質の固体薄膜を
プリズム面に押し付けて、該プリズム面と溶質の固体薄
膜との密着を少(とも数μm以内の密着状態に保持し。
この状態にて外部に露出したプリズム面に入射光束を一
定角度で入射させ、ATR分光法によって溶質の成分測
定を精度良く行い得るものである。
定角度で入射させ、ATR分光法によって溶質の成分測
定を精度良く行い得るものである。
本発明の実施例を図面に叩して説明する。第1図又は第
3図に示すように本発明は、正面に設けたATR分光用
のプリズム1を水平にして用いた場合に、粘性が低い溶
液にも適用ができて通用範囲が広くなる。
3図に示すように本発明は、正面に設けたATR分光用
のプリズム1を水平にして用いた場合に、粘性が低い溶
液にも適用ができて通用範囲が広くなる。
第1盤体2は受皿状であって、中央の凹部2aは截頭逆
円錐形を成し、正面(第1皿体2を受皿として見たとき
の該受皿の底面)の中央には、前記プリズム1の形状と
大きさに適合した開口部2bを有し、側面には外部と前
記凹部2aとを連絡する貫通孔2cか穿設され、該貫通
孔2cに抜気管2dが嵌合している。第1盤体2の截頭
逆円錐形の凹部2aの上面外周に平坦部2eを形成し、
更に第1盤体2の上部の側面外周に雄ねじ2fを設ける
。
円錐形を成し、正面(第1皿体2を受皿として見たとき
の該受皿の底面)の中央には、前記プリズム1の形状と
大きさに適合した開口部2bを有し、側面には外部と前
記凹部2aとを連絡する貫通孔2cか穿設され、該貫通
孔2cに抜気管2dが嵌合している。第1盤体2の截頭
逆円錐形の凹部2aの上面外周に平坦部2eを形成し、
更に第1盤体2の上部の側面外周に雄ねじ2fを設ける
。
第2盤体3は、やはり受皿状であって、中央の凹部3a
は正面側が大径となっている段状に形成され、正面側の
平坦部3bに環状の溝3Cが設けである。第2皿体3の
背面には、外部と前記凹部3aとを連絡する貫通孔3d
を穿設し。
は正面側が大径となっている段状に形成され、正面側の
平坦部3bに環状の溝3Cが設けである。第2皿体3の
背面には、外部と前記凹部3aとを連絡する貫通孔3d
を穿設し。
該貫通孔3dに抜気兼給気用管3eを嵌込んであり、更
に第2盤体3の背面中央に開口部3rを設け、該開口部
3fに透明板3gを気密に取付ける。第2皿体3の正面
側の側面内周には。
に第2盤体3の背面中央に開口部3rを設け、該開口部
3fに透明板3gを気密に取付ける。第2皿体3の正面
側の側面内周には。
前記第1皿体2の雄ねじ2「と螺合すべき雌ねじ3hを
設けである。
設けである。
前記第1盤体2と第2盤体3とを対向させて形成される
剛性中空体内を気密に仕切る例えばシリコンゴムシート
の弾性薄板4は、第15体2の平坦部2eに周辺を当接
させ、その背後に弾性環状バッキング5.シールリング
6及び弾性環状バンキング7を正面側からこの順序で第
1皿体2の平坦部2eと第2盤体3の平坦部3bとの間
に同心的に組込む。第1盤体2の雄ねじ2fに第2S体
3の雌ねじ3hを螺合させて締結し、第1盤体2と第2
盤体3とを一体化する。このとき第3図に示すように、
シールリング6に設りた環状溝6aにバッキング5が嵌
り込むと同時に、第2皿体3の平坦部3bの溝3cにバ
ンキング7が嵌り込み、この部分の気密を保持する。第
1盤体2の閉口部2bにシール機能を有する接着剤等に
よってプリズム1を固着して開口部2bを気密に塞ぎ、
プリズム1よりも幅の狭い当て板8を正面側からボルト
9によって第1盤体2に取付け、プリズム1を第1盤体
2に確実に固定する。
剛性中空体内を気密に仕切る例えばシリコンゴムシート
の弾性薄板4は、第15体2の平坦部2eに周辺を当接
させ、その背後に弾性環状バッキング5.シールリング
6及び弾性環状バンキング7を正面側からこの順序で第
1皿体2の平坦部2eと第2盤体3の平坦部3bとの間
に同心的に組込む。第1盤体2の雄ねじ2fに第2S体
3の雌ねじ3hを螺合させて締結し、第1盤体2と第2
盤体3とを一体化する。このとき第3図に示すように、
シールリング6に設りた環状溝6aにバッキング5が嵌
り込むと同時に、第2皿体3の平坦部3bの溝3cにバ
ンキング7が嵌り込み、この部分の気密を保持する。第
1盤体2の閉口部2bにシール機能を有する接着剤等に
よってプリズム1を固着して開口部2bを気密に塞ぎ、
プリズム1よりも幅の狭い当て板8を正面側からボルト
9によって第1盤体2に取付け、プリズム1を第1盤体
2に確実に固定する。
かくして第1盤体2と第2盤体3とを対向させて形成し
た中空体は9弾性薄板4によって第1皿体2の凹部2a
で形成される第1気密室10と第2盤体3の凹部3aで
形成される第2気密室11とに気密に仕切られる。そし
て第3図に示すように、垂直に立設した支持台12で当
て板8より上に有る全体を支持し、プリズム1を水平に
保持する。
た中空体は9弾性薄板4によって第1皿体2の凹部2a
で形成される第1気密室10と第2盤体3の凹部3aで
形成される第2気密室11とに気密に仕切られる。そし
て第3図に示すように、垂直に立設した支持台12で当
て板8より上に有る全体を支持し、プリズム1を水平に
保持する。
第1皿体2の抜気管2dに配管及び弁を介して図示しな
い真空ポンプ等の吸引装置を接続してこれを第1気密室
10の抜気手段とする。又。
い真空ポンプ等の吸引装置を接続してこれを第1気密室
10の抜気手段とする。又。
第2盤体3の抜気兼給気用管3eには、配管及び分岐管
とそれぞれ弁を介して図示しない真空ポンプ等の吸引装
置及び圧縮機等の加圧装置を接続して3 これらをそれ
ぞれ第2気密室11の[友気手段及び加圧手段とする。
とそれぞれ弁を介して図示しない真空ポンプ等の吸引装
置及び圧縮機等の加圧装置を接続して3 これらをそれ
ぞれ第2気密室11の[友気手段及び加圧手段とする。
次に本発明に係る装置の使用方法について説明する。雄
ねじ2fと雌ねじ3)1との螺合を解いて第11!i体
2から第2皿体3を取外し、内部を洗滌して乾燥させた
後、プリズム1の第1気密室10内に露出する水平面上
に溶液を塗り。
ねじ2fと雌ねじ3)1との螺合を解いて第11!i体
2から第2皿体3を取外し、内部を洗滌して乾燥させた
後、プリズム1の第1気密室10内に露出する水平面上
に溶液を塗り。
第3図に示す如く装置を組立てた後1図示しない圧力計
で圧力を確認しつつ第1気密室10内から抜気管2dを
通じて図示しない真空ポンプによって抜気すると共に第
2気密室11内からも管3cを通じて第1気密室10と
等圧真空を保持して抜気し、前記溶液中の溶媒を蒸発さ
せ。
で圧力を確認しつつ第1気密室10内から抜気管2dを
通じて図示しない真空ポンプによって抜気すると共に第
2気密室11内からも管3cを通じて第1気密室10と
等圧真空を保持して抜気し、前記溶液中の溶媒を蒸発さ
せ。
真空乾燥によって、プリズム1面に該プリズム1への入
射光束の波長程度以上の厚さを有する溶質の固体薄膜を
形成する。この場合完全乾燥されたことは抜気される気
体中の溶媒量が無視し1−7る口辺下になって安定状態
に達したことにより確認できる。次いで、弁の切換え操
作を行って、管3eを通じて第2気密室内へ図示しない
ボンベ等の加圧装置から例えば圧縮N2ガスを供給して
5第2気密室11内の圧力をプリズム1が破損しない範
囲で上げることによって弾性Fj板4を膨張変形させて
プリズム1の面に押し付け、前記溶質の固体薄膜をプリ
ズム1面に密着させた状態とする。この状態を保持しつ
つ第3図に示すように、入射光束13を反射鏡14a、
14b等で案内して所定の入射角度にて、外部に露出し
たプリズム1の面から入射させる。入射した光束は、溶
質の固体薄膜とプリズム1との境界面と、プリズム1と
当て板8との境界面の間で複数回の反射を繰返し、この
間に溶質の固体薄膜によって部分的光吸収が起り反射率
がその分だけ減少する減衰全反射と呼ばれる状態となり
、この状態における反射によって得られる出射光束15
を適当な反射G’fi 16 a 。
射光束の波長程度以上の厚さを有する溶質の固体薄膜を
形成する。この場合完全乾燥されたことは抜気される気
体中の溶媒量が無視し1−7る口辺下になって安定状態
に達したことにより確認できる。次いで、弁の切換え操
作を行って、管3eを通じて第2気密室内へ図示しない
ボンベ等の加圧装置から例えば圧縮N2ガスを供給して
5第2気密室11内の圧力をプリズム1が破損しない範
囲で上げることによって弾性Fj板4を膨張変形させて
プリズム1の面に押し付け、前記溶質の固体薄膜をプリ
ズム1面に密着させた状態とする。この状態を保持しつ
つ第3図に示すように、入射光束13を反射鏡14a、
14b等で案内して所定の入射角度にて、外部に露出し
たプリズム1の面から入射させる。入射した光束は、溶
質の固体薄膜とプリズム1との境界面と、プリズム1と
当て板8との境界面の間で複数回の反射を繰返し、この
間に溶質の固体薄膜によって部分的光吸収が起り反射率
がその分だけ減少する減衰全反射と呼ばれる状態となり
、この状態における反射によって得られる出射光束15
を適当な反射G’fi 16 a 。
16b等で案内して測光装置へ送り込む。
第4図は本発明に係る装置を例えばダブルビーム型分光
光度計に組合わせた場合のブロック図である。光源Aか
ら出た光束は、第1チヨツパーBによって2系統の光束
ρ1と12とに分けられる。一方の光束11は本発明に
係る真空乾燥油圧密M測定装置Cへの入射光束とし、他
方の光束j22は参照光束として利用される。真空乾燥
加圧密着測定装置Cからの出射光束は。
光度計に組合わせた場合のブロック図である。光源Aか
ら出た光束は、第1チヨツパーBによって2系統の光束
ρ1と12とに分けられる。一方の光束11は本発明に
係る真空乾燥油圧密M測定装置Cへの入射光束とし、他
方の光束j22は参照光束として利用される。真空乾燥
加圧密着測定装置Cからの出射光束は。
測定精度を上げるために第2チヨツパーDを通った後、
検出器已に入力される。この検出器Eは2例えば熱電対
を用いて光束を電気的信号に変換すると共に光束の検出
を行う。検出器Eからの電気的信号はデータプロセッサ
Fに入力され、ここで同期増幅及び比率計算が行われて
データが出力され2次の記録装置Gで表示・記録が成さ
れ、必要ならば転送Hされる。なお本発明に係る装置は
分光光度計の種類を問わず、あらゆる分光光度針と組合
わせて使用することができる。
検出器已に入力される。この検出器Eは2例えば熱電対
を用いて光束を電気的信号に変換すると共に光束の検出
を行う。検出器Eからの電気的信号はデータプロセッサ
Fに入力され、ここで同期増幅及び比率計算が行われて
データが出力され2次の記録装置Gで表示・記録が成さ
れ、必要ならば転送Hされる。なお本発明に係る装置は
分光光度計の種類を問わず、あらゆる分光光度針と組合
わせて使用することができる。
次に2本発明に係る装置を用いて行った溶液の成分測定
の場合と従来技術を用いて行った溶液の成分測定の場合
とを比較した実験例について、第5図乃至第8図を参照
しつつ説明する。
の場合と従来技術を用いて行った溶液の成分測定の場合
とを比較した実験例について、第5図乃至第8図を参照
しつつ説明する。
試料はいずれも濃度20+■/iのヒアルロン酸水溶液
である。プリズム材質として水にほとんど不溶であるZ
n5eを選定した。第5図は本発明に係る装置を使用し
てプリズム面に真空乾燥時間5分間にて形成したヒアル
ロン酸の固体薄膜を試料として第2気密室の加圧力0.
5・kg / aΔで。
である。プリズム材質として水にほとんど不溶であるZ
n5eを選定した。第5図は本発明に係る装置を使用し
てプリズム面に真空乾燥時間5分間にて形成したヒアル
ロン酸の固体薄膜を試料として第2気密室の加圧力0.
5・kg / aΔで。
ΔTR分光法によって得られた赤外吸収スペクトルを示
すチャー1・であり、第6図乃至第8図は従来技術を用
いた場合を示し、第6図はヒアルロン酸水溶液をプリズ
ム面に接触させ、液体を試料としてATR分光法によっ
て得られた赤外吸収スペクトルを示すチャート、第7図
は純水をプリズム面に接触させ、液体を試料としてΔT
R分光法によって得られた赤外吸収スペクトルを示すチ
ャート第8図は第6図に示す赤外吸収スベクI−ルと第
7図に示す赤外吸収スペクトルとの差をコンピュータの
演算処理によって算定して得られた差スペクトルを示す
チャートであって、これがン容質であるヒアルロン酸の
赤外吸収スペクトルである。いずれも共通の同一分光計
を用いて測定した結果であって、横軸目盛は第5図乃至
第8図共に同一で、単位は波数/ cmである。又、縦
軸目盛は第5図乃至第7図が同一であるが、第8図のみ
は目盛を20倍に拡大したもので、吸光度を示している
。
すチャー1・であり、第6図乃至第8図は従来技術を用
いた場合を示し、第6図はヒアルロン酸水溶液をプリズ
ム面に接触させ、液体を試料としてATR分光法によっ
て得られた赤外吸収スペクトルを示すチャート、第7図
は純水をプリズム面に接触させ、液体を試料としてΔT
R分光法によって得られた赤外吸収スペクトルを示すチ
ャート第8図は第6図に示す赤外吸収スベクI−ルと第
7図に示す赤外吸収スペクトルとの差をコンピュータの
演算処理によって算定して得られた差スペクトルを示す
チャートであって、これがン容質であるヒアルロン酸の
赤外吸収スペクトルである。いずれも共通の同一分光計
を用いて測定した結果であって、横軸目盛は第5図乃至
第8図共に同一で、単位は波数/ cmである。又、縦
軸目盛は第5図乃至第7図が同一であるが、第8図のみ
は目盛を20倍に拡大したもので、吸光度を示している
。
この実験結果により、第5図に示す本発明を適用して得
られる赤外吸収スペクトルは、第8図に示す従来技術に
より得られる赤外吸収スペクトルに比較して20倍以上
の感度を有していることが確認された。しかも従来技術
の場合は第8図に示すように吸光度が負の値いとなるこ
とがあって誤差が大きいが1本発明によれば、吸光度が
負となることは全く無く、精度良く溶液の成分測定がで
きる。本発明は、プリズムを水平に保持した状態におい
ては、粘度の低い溶液であっても、プリズム面上に塗っ
た溶液をそのまま保持して真空乾燥し、溶質の均一な固
体薄膜を形成することにより、鋭敏な感度と高い精度で
溶液の成分測定ができるので、特に顕著な効果を発揮す
る。本装置では形成した固体薄膜(すなわち溶質)のス
ペクトルを感度良く測定する。したがって多成分(2種
類以上)の溶質が熔けており、かつその溶質の和と溶媒
との比が一定である溶液には、検量線の作成により直ち
に各成分の絶対濃度分析が可能である。溶質が1種類又
は2種類以上の場合でも溶質の和と溶媒との比が既知で
ないときは、測定する溶質のピーク測定に影響を及ぼさ
ないある溶質をある濃度でマーカーとして予め試料に入
れ、マーカーとの比をとることで各溶質の絶対’bM度
を求めることが出来る。
られる赤外吸収スペクトルは、第8図に示す従来技術に
より得られる赤外吸収スペクトルに比較して20倍以上
の感度を有していることが確認された。しかも従来技術
の場合は第8図に示すように吸光度が負の値いとなるこ
とがあって誤差が大きいが1本発明によれば、吸光度が
負となることは全く無く、精度良く溶液の成分測定がで
きる。本発明は、プリズムを水平に保持した状態におい
ては、粘度の低い溶液であっても、プリズム面上に塗っ
た溶液をそのまま保持して真空乾燥し、溶質の均一な固
体薄膜を形成することにより、鋭敏な感度と高い精度で
溶液の成分測定ができるので、特に顕著な効果を発揮す
る。本装置では形成した固体薄膜(すなわち溶質)のス
ペクトルを感度良く測定する。したがって多成分(2種
類以上)の溶質が熔けており、かつその溶質の和と溶媒
との比が一定である溶液には、検量線の作成により直ち
に各成分の絶対濃度分析が可能である。溶質が1種類又
は2種類以上の場合でも溶質の和と溶媒との比が既知で
ないときは、測定する溶質のピーク測定に影響を及ぼさ
ないある溶質をある濃度でマーカーとして予め試料に入
れ、マーカーとの比をとることで各溶質の絶対’bM度
を求めることが出来る。
前記本発明の実施例によれば、第1盤体2の底面に設け
た開口部2bをプリズム1自体で気密に塞ぎ、プリズム
1よりも幅の狭い当て板8でプリズム1を第11体2に
固定することにより、プリズム1を第1気密室10内及
び外部に露出させるので、構造が簡単で取扱いが容易で
あり、第1盤体2の凹部2aが截頭円錐形を成している
ので2弾性薄板4が第2気密室を加圧操作したときに円
滑に無理がなく変形してプリズム1の面に試料を密着さ
せることができ、第2盤体3の開口部3fに透明板3g
を気密に取付けであるので、該透明板3gを通じて中空
体の中を監視し5弾性薄板4の状態を確認することがで
きて非常に便利である。
た開口部2bをプリズム1自体で気密に塞ぎ、プリズム
1よりも幅の狭い当て板8でプリズム1を第11体2に
固定することにより、プリズム1を第1気密室10内及
び外部に露出させるので、構造が簡単で取扱いが容易で
あり、第1盤体2の凹部2aが截頭円錐形を成している
ので2弾性薄板4が第2気密室を加圧操作したときに円
滑に無理がなく変形してプリズム1の面に試料を密着さ
せることができ、第2盤体3の開口部3fに透明板3g
を気密に取付けであるので、該透明板3gを通じて中空
体の中を監視し5弾性薄板4の状態を確認することがで
きて非常に便利である。
更に、第2気密室11を抜気する手段を有し。
第1気密室10と第2気密室11を等正真空状態にして
プリズム1面上の溶液を真空乾燥するので効果的に急速
に乾燥操作ができるという利点もあり、また分解可能な
ので内部を洗滌するのにも便利である。
プリズム1面上の溶液を真空乾燥するので効果的に急速
に乾燥操作ができるという利点もあり、また分解可能な
ので内部を洗滌するのにも便利である。
本発明によれば、剛性中空体と、該剛性中空体内を弾性
薄板で仕切って第1気密室と第2気密室とを形成する手
段と、プリズムを外部及び前記第1気宇室内に露出する
手段と、前記第1気密室を抜気する手段と、前記第2気
密室を加圧する手段とで構成したので、プリズムの第1
気密室に露出している面に溶液を塗り、第1気密室を抜
気して該溶液を、効率よく溶質を変質させることなく真
空乾燥させることができ9該プリズム面上に溶質の固体
薄膜を形成した後。
薄板で仕切って第1気密室と第2気密室とを形成する手
段と、プリズムを外部及び前記第1気宇室内に露出する
手段と、前記第1気密室を抜気する手段と、前記第2気
密室を加圧する手段とで構成したので、プリズムの第1
気密室に露出している面に溶液を塗り、第1気密室を抜
気して該溶液を、効率よく溶質を変質させることなく真
空乾燥させることができ9該プリズム面上に溶質の固体
薄膜を形成した後。
第2気密室を加圧して弾性薄板を膨張変形させ。
該弾性薄板でプリズム面上に溶質の固体薄膜を密着させ
てプリズム面と該固体薄膜との密着状態を数μrn以内
に確実に保持することができ。
てプリズム面と該固体薄膜との密着状態を数μrn以内
に確実に保持することができ。
溶液のATR分光法による成分測定を鋭敏な感度で精度
よく行うことができる。剛性中空体を互いに対向した受
皿状の第1盤体と受皿状の第2盤体とで形成し、該第1
盤体と第2冊体との間に弾性薄板を気密に介在させて第
1気密室と第2気密室とを形成することにより、第1気
密室を抜気し第2気密室を加圧したときに弾性薄板が円
滑に無理な(変形してプリズム面に溶質の固体薄膜を確
実に密着させることができ、溶液の成分測定の精度向上
が図れ、更にプリズJ・が反射面を水平にして設置され
ていれば、溶液の粘性が低くても何ら支障なく該溶液の
成分測定を精度よく行うことができる。
よく行うことができる。剛性中空体を互いに対向した受
皿状の第1盤体と受皿状の第2盤体とで形成し、該第1
盤体と第2冊体との間に弾性薄板を気密に介在させて第
1気密室と第2気密室とを形成することにより、第1気
密室を抜気し第2気密室を加圧したときに弾性薄板が円
滑に無理な(変形してプリズム面に溶質の固体薄膜を確
実に密着させることができ、溶液の成分測定の精度向上
が図れ、更にプリズJ・が反射面を水平にして設置され
ていれば、溶液の粘性が低くても何ら支障なく該溶液の
成分測定を精度よく行うことができる。
第1図は本発明の実施例に係る装置を分解した状態を示
す縦断側面図。 第2図は第1図におけるA−A線断面矢視図。 第3図は第1図における装置の組立状態のB−B線断面
矢視図とプリズムの水平指示構造及びプリズムへの入射
光束の経路の一例を示す縦断側面図。 第4図はダブルビーム型分光光度計に本発明に係る装置
を組合わせた場合の一例を示すブロック図。 第5図は本発明に係る装置を使って得られた赤外吸収ス
ペクトルの一例を示すチャート。 第6図乃至第8図は従来の技術により得られた赤外吸収
スペクトルの一例を示すチャートである。 図中の符号は次の各部分を示す。 1・・・プリズム。 2・・・第1皿体。 2a・・凹部。 2b・・開口部。 2c・・MJi孔。 2d・・抜気管。 2e・・平坦部。 2f・・雄ねじ。 2g・・ねし孔。 3・・・第2盤体。 3a・・四部。 3b・・平坦部。 3c・・溝。 3d・・貫通孔。 3e・・管。 3f・・開口部。 3g・・透明板。 3h・・雌ねじ。 4・・・弾性′R板。 5・・・バッキング。 6・・・シールリング。 7・・・バッキング。 8・・・当て板。 9・・・ボルト。 10・・・第1気密室1 11・・・第2気密室。 12・・・支持台。 13・・・入射光束。 14a、14b−反射鏡。 15・・・出射光束。 16a、16b・・’反射鏡。 特許 出願人 冨 1)端 音 間 上 荒井恒憲 同 上 菊 地 眞 同 上 土田美紀 集1図 第2 図・ 第3図 第4図 第5図
す縦断側面図。 第2図は第1図におけるA−A線断面矢視図。 第3図は第1図における装置の組立状態のB−B線断面
矢視図とプリズムの水平指示構造及びプリズムへの入射
光束の経路の一例を示す縦断側面図。 第4図はダブルビーム型分光光度計に本発明に係る装置
を組合わせた場合の一例を示すブロック図。 第5図は本発明に係る装置を使って得られた赤外吸収ス
ペクトルの一例を示すチャート。 第6図乃至第8図は従来の技術により得られた赤外吸収
スペクトルの一例を示すチャートである。 図中の符号は次の各部分を示す。 1・・・プリズム。 2・・・第1皿体。 2a・・凹部。 2b・・開口部。 2c・・MJi孔。 2d・・抜気管。 2e・・平坦部。 2f・・雄ねじ。 2g・・ねし孔。 3・・・第2盤体。 3a・・四部。 3b・・平坦部。 3c・・溝。 3d・・貫通孔。 3e・・管。 3f・・開口部。 3g・・透明板。 3h・・雌ねじ。 4・・・弾性′R板。 5・・・バッキング。 6・・・シールリング。 7・・・バッキング。 8・・・当て板。 9・・・ボルト。 10・・・第1気密室1 11・・・第2気密室。 12・・・支持台。 13・・・入射光束。 14a、14b−反射鏡。 15・・・出射光束。 16a、16b・・’反射鏡。 特許 出願人 冨 1)端 音 間 上 荒井恒憲 同 上 菊 地 眞 同 上 土田美紀 集1図 第2 図・ 第3図 第4図 第5図
Claims (4)
- (1)剛性中空体と、該剛性中空体内を弾性薄板で仕切
って第1気密室と第2気密室とを形成する手段と、プリ
ズムを外部及び前記第1気密室内に露出する手段と、前
記第1気密室を抜気する手段と、前記第2気密室を加圧
する手段とから成ることを特徴とする溶液試料のATR
分光のための真空乾燥加圧密着測定装置。 - (2)前記剛性中空体が互いに対向した受皿状の第1盤
体と受皿状の第2盤体とで形成されている特許請求の範
囲第1項記載の溶液試料のATR分光のための真空乾燥
加圧密着測定装置。 - (3)前記剛性中空体内を弾性薄板で仕切り第1気密室
と第2気密室とを形成する手段が、前記第1盤体と第2
盤体との間に前記弾性薄板を気密に介在させて構成され
ている特許請求の範囲第2項記載の溶液試料のATR分
光のための真空乾燥加圧密着測定装置。 - (4)前記プリズムが反射面を水平にして設置されてい
る特許請求の範囲第1項、第2項又は第3項のいずれか
に記載の溶液試料のATR分光のための真空乾燥加圧密
着測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60143638A JPS623644A (ja) | 1985-06-29 | 1985-06-29 | 溶液試料のatr分光のための真空乾燥加圧密着測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60143638A JPS623644A (ja) | 1985-06-29 | 1985-06-29 | 溶液試料のatr分光のための真空乾燥加圧密着測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS623644A true JPS623644A (ja) | 1987-01-09 |
Family
ID=15343421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60143638A Pending JPS623644A (ja) | 1985-06-29 | 1985-06-29 | 溶液試料のatr分光のための真空乾燥加圧密着測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS623644A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0281449U (ja) * | 1988-12-10 | 1990-06-22 | ||
WO2005001447A1 (en) * | 2003-06-27 | 2005-01-06 | Bayer Healthcare Llc | Ir-atr-based process and apparatus for analysing very small amounts of sample in the nanoliter range |
JP2010117203A (ja) * | 2008-11-12 | 2010-05-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 赤外分光法で定量分析するための検量線の作成方法および赤外分光法による定量方法 |
-
1985
- 1985-06-29 JP JP60143638A patent/JPS623644A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0281449U (ja) * | 1988-12-10 | 1990-06-22 | ||
WO2005001447A1 (en) * | 2003-06-27 | 2005-01-06 | Bayer Healthcare Llc | Ir-atr-based process and apparatus for analysing very small amounts of sample in the nanoliter range |
JP2010117203A (ja) * | 2008-11-12 | 2010-05-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 赤外分光法で定量分析するための検量線の作成方法および赤外分光法による定量方法 |
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