JPS6235435A - Color picture tube - Google Patents

Color picture tube

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Publication number
JPS6235435A
JPS6235435A JP17325285A JP17325285A JPS6235435A JP S6235435 A JPS6235435 A JP S6235435A JP 17325285 A JP17325285 A JP 17325285A JP 17325285 A JP17325285 A JP 17325285A JP S6235435 A JPS6235435 A JP S6235435A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
ceramic layer
picture tube
color picture
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP17325285A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tokushiro Tanaka
田中 徳四郎
Kiyoshi Okumura
奥村 清
Kenji Matsuzaka
松坂 憲司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP17325285A priority Critical patent/JPS6235435A/en
Publication of JPS6235435A publication Critical patent/JPS6235435A/en
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  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a color picture tube with a superior emission life by coating the inner surface of a shadow mask with a ceramic layer baked at low temperature and forming a thin conductive layer on the ceramic layer so as to prevent any deformation of the shadow mask and to improve its purity drift. CONSTITUTION:A shadow mask 15 is made by forming a penetrating hole in a soft steel plate by usual photoetching and then curving the plate into a given shape by pressing. Next, after a liquid suspension such as an aqueous silicon oxide suspension is applied to the electron-gun-16-side surface of the shadow mask 15 by spraying, the shadow mask 15 is baked at low temperature to form a baked ceramic layer 22. After that, a thin conductive film 23 is formed on the layer 22.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はカラー受像管に係り、特にそのシャドウマスク
に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a color picture tube, and particularly to a shadow mask thereof.

〔発明の技術的背景と問題点〕[Technical background and problems of the invention]

一般のシャドウマスク形カラー受像管は管内に3本の電
子ビームを発生する電子銃と、この電子ビームを色別に
選択し多数の透孔を有するシャドウマスクと、電子ビー
ムの励起により赤、IL青3色に発光する蛍光体スクリ
ーンを有しており、スクリーンに映出される画像を外囲
器のパネルを通して観察できる構造となっている。シャ
ドウマスクの透孔とスクリーンの各色蛍光体パターンは
、精密に対応している。しかして、透孔を通過する有効
電子ビーム量は受像管の動作上173以下で残りの電子
ビームはシャドウマスクに射突し熱エネルギーに変換さ
れシャドウマスクを80℃以上に加熱させる。シャドウ
マスクは熱膨張係数が約1.2xlo−5/’Cの軟鋼
の冷間圧延鋼からなる厚さ0.1mm〜0.3#の薄板
から形成されており、このシャドウマスクを支持するマ
スクフレームが厚さ1s前後の強固な断面り型の黒化処
理を施された同じく冷間圧延鋼から形成されている。従
って加熱されたシャドウマスクは容易に熱膨張を生ずる
が、その周辺部は黒化処理を施された熱容量の大きなマ
スクフレームに接合しているため輻射や伝導によりシャ
ドウマスク周辺からマスクフレームに熱が移動し、シャ
ドウマスク周辺の温度がマスク中央部より低くなる。こ
のためシャドウマスクの中央部と周辺部に温度差を生じ
相対的に中央部を主体として加熱膨張されたいわゆるド
ーミング現象となりピユリティドリフトを生ずる。この
結果シャドウマスクと蛍光体スクリーンとの距離が変化
し電子ビームの正確なランディングが乱され色純度の劣
化を生ずる。このような現象は特にカラー受像管の動作
初期において顕著である。また局部的に高輝度の画像を
映出する場合も同じくシャドウマスクに局部的なドーミ
ング現象を生ずる。
A general shadow mask type color picture tube has an electron gun that generates three electron beams inside the tube, a shadow mask that selects the electron beams according to color and has a large number of holes, and excites the electron beams to produce red and IL blue. It has a phosphor screen that emits light in three colors, and is structured so that the image projected on the screen can be observed through the panel of the envelope. The holes in the shadow mask and the phosphor patterns of each color on the screen correspond precisely. Therefore, the effective amount of electron beams passing through the through hole is less than 173°C due to the operation of the picture tube, and the remaining electron beams impinge on the shadow mask and are converted into thermal energy, heating the shadow mask to 80° C. or more. The shadow mask is formed from a thin plate with a thickness of 0.1 mm to 0.3 # made of cold-rolled mild steel with a coefficient of thermal expansion of about 1.2xlo-5/'C, and a mask that supports this shadow mask. The frame is also made of cold-rolled steel with a thickness of about 1 s and a strong cross-sectional blackening treatment. Therefore, a heated shadow mask easily undergoes thermal expansion, but since its periphery is joined to a mask frame with a large heat capacity that has been subjected to a blackening process, heat is transferred from the periphery of the shadow mask to the mask frame due to radiation and conduction. The temperature around the shadow mask becomes lower than that at the center of the mask. For this reason, a temperature difference occurs between the central portion and the peripheral portion of the shadow mask, resulting in a so-called doming phenomenon in which the central portion is heated and expanded relatively, resulting in a purity drift. As a result, the distance between the shadow mask and the phosphor screen changes, disturbing the accurate landing of the electron beam and causing deterioration of color purity. This phenomenon is particularly noticeable in the early stages of operation of a color picture tube. Furthermore, when a locally high-luminance image is projected, a local doming phenomenon also occurs in the shadow mask.

このようなカラー受像管のドーミング現象に対しては、
シャドウマスクの中央部からの熱の放射の促進やシャド
ウマスクへの熱伝導の阻止という観点より多数の提案が
なされている。例えば、米国特許第2826538号で
はシャドウマスクの熱放射を促進すべくシVドウマスク
の表面に黒鉛または炭素被膜よりなる黒色層を設ける提
案がなされて、いる。このようなカラー受像管ではこの
黒鉛層が良好な放熱器として作用するのでシャドウマス
クために、例えば特開昭60−54139号公報のよう
に、シャドウマスク面に鉄より低熱膨張係数の鉛硼酸塩
ガラスを塗布することが提案されている。
Regarding the doming phenomenon of color picture tubes,
Many proposals have been made from the viewpoint of promoting heat radiation from the center of the shadow mask and preventing heat conduction to the shadow mask. For example, US Pat. No. 2,826,538 proposes providing a black layer made of graphite or carbon coating on the surface of a shadow mask to promote heat radiation from the shadow mask. In such a color picture tube, this graphite layer acts as a good heat sink, so for the shadow mask, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-54139, lead borate, which has a lower coefficient of thermal expansion than iron, is used on the shadow mask surface. It is proposed to apply glass.

この技術によってざらに鉄シートのシVドウマスクやア
ンバー材のシャドウマスクのピユリティドリフト特性お
よび耐娠動性をも向上させることができたが、ガラス層
の厚みのばらつきや製造条件例えば温度等のばらつき(
−曇、すなわら残留応力のばらつきにより、ガラス層の
塗布部と非塗布部の境界部にしわ状の変形が生ずるとい
う問題があった。このようなシャドウマスクは鉄シート
とガラス層との間に応力を残す構造であるため、ガラス
層の厚さは最低でも10p、実質的には平均で20−以
上塗布する必要があるとされている。このような従来の
マスクは、第6図に示すように鉄シート(25)の表面
に塗布されたガラス層(32)は中央部が厚くなるよう
な不均一な厚さとなり、しかも塗N後、高温加熱処理し
ていたので塗布部の残留応力が大きくなり、塗布部と非
塗布部の残留応力差が大きくなるという問題がある。
Using this technology, we were able to improve the purity drift characteristics and anti-stretching properties of iron sheet shadow masks and amber shadow masks. variation (
- There was a problem in that clouding, ie, variations in residual stress, caused wrinkle-like deformation at the boundary between the coated and non-coated areas of the glass layer. Since this kind of shadow mask has a structure that leaves stress between the iron sheet and the glass layer, it is said that the thickness of the glass layer must be at least 10p, and in fact it is necessary to coat it on average at least 20p. There is. In such a conventional mask, as shown in Fig. 6, the glass layer (32) applied to the surface of the iron sheet (25) has an uneven thickness such that it is thicker in the center, and furthermore, the thickness is uneven after coating. , there is a problem in that the residual stress in the coated part becomes large because of the high-temperature heat treatment, and the difference in residual stress between the coated part and the non-coated part becomes large.

さらに、このガラス層は高温加熱されるため溶融、軟化
して第6図すのように凸形になっているので、この上に
ゲッター膜(33)を形成するとゲッターの飛散方向に
よりゲッター膜厚に″“むら″ができる。ゲッターr!
(33)を形成するのは、ガラス層(32)に導電性を
持たせるためであり、このゲッター膜に“むら″がある
と部分的に絶縁部分ができて電子ビームが偏向され、ミ
スランディングの原因となる。
Furthermore, since this glass layer is heated to a high temperature, it melts and softens and becomes convex as shown in Figure 6. When a getter film (33) is formed on this glass layer, the thickness of the getter film varies depending on the direction in which the getter is scattered. Getter r!
(33) is formed to make the glass layer (32) conductive, and if there is any "unevenness" in this getter film, an insulating part will be formed in some parts and the electron beam will be deflected, leading to mis-landing. It causes

このような″むら″をなくすには、ゲッター膜を厚くす
れば良いが抵抗層(ゲッター膜を薄く形成して抵抗層と
する)の形成によるマスクの発熱防止効果がなくなって
しまう。すなわち、抵抗層は、その電位をシャドウマス
クより下げてシャドウマスクに射突する電子ビームの射
突速度を小さくすることにより、シャドウマスクの発熱
を抑える効果があるが、この効果を得るためには必要か
つ十分な抵抗が必要となる。しかし、むらがあるとその
効果は小さくなるという問題がある。
In order to eliminate such "unevenness", it is possible to make the getter film thicker, but the effect of preventing heat generation in the mask due to the formation of a resistive layer (a resistive layer formed by forming a thin getter film) is lost. In other words, the resistive layer has the effect of suppressing the heat generation of the shadow mask by lowering the potential of the resistor layer than that of the shadow mask and reducing the impingement speed of the electron beam that impinges on the shadow mask. Necessary and sufficient resistance is required. However, there is a problem in that the effect becomes smaller if there is unevenness.

(発明の目的〕 本発明はシVドウマスクの残留応力による変形を防止し
、かつ電子ビーム射突によるシャドウマスクの発熱にと
もなう膨張を抑えて、ビユリティドリフト特性を改善し
たカラー受像管を得るものである。
(Objective of the Invention) The present invention provides a color picture tube that prevents deformation of the shadow mask due to residual stress and suppresses expansion caused by heat generation of the shadow mask due to electron beam impingement, thereby improving utility drift characteristics. It is.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は蛍光体スクリーンと、このスクリーンに近接し
て設Cプた多数の透孔を有するシャドウマスクと、この
シャドウマスクの前記蛍光体スクリ−ンと反対側に設C
ノだ電子銃とを備え、電子銃から発射された電子ビーム
をシャドウマスクの多数の透孔を介してスクリーンに射
突させるカラー受像管にあり、シャドウマスクの表面の
少くとも一部に低温焼成セラミック層と、このセラミッ
ク層上に形成される導電薄膜層とを有するものである。
The present invention includes a phosphor screen, a shadow mask having a large number of through holes provided close to the screen, and a hole provided on the side of the shadow mask opposite to the phosphor screen.
The color picture tube is equipped with an electron gun, and the electron beam emitted from the electron gun hits the screen through a large number of holes in the shadow mask. It has a ceramic layer and a conductive thin film layer formed on the ceramic layer.

低温焼成セラミック層は、絶縁層とするのが特に効果が
ある。
It is particularly effective to use the low-temperature fired ceramic layer as an insulating layer.

低温焼成セラミック層は、シャドウマスクの電子銃側表
面に付着させるが、スクリーン側の表面にも付着させる
ことかできる。
The low temperature fired ceramic layer is deposited on the electron gun side surface of the shadow mask, but it can also be deposited on the screen side surface.

(発明の実施例) 以下、図面により本発明の実施例について説明する。第
2図に示すように、本実施例のシャドウマスク型カラー
受像管はガラスで形成された外囲器θΦが、実質的に矩
形状のパネル01)と漏斗状のファンネル02)とネッ
ク03)とから構成される。そしてパネル(11)の内
面には赤、緑及び青に夫々発光するストライプ状蛍光体
スクリーンO0が設りられ、一方ネツク03)にはパネ
ル(11)の水平軸線に沿って一列に配列され赤、縁及
び青に対応する3本の電子ビーム(30)を射出するイ
ンライン型電子銃OΦが設けられている。また、スクリ
ーンθ優に近接対向して多数の透孔の穿設された主面を
有するシャドウマスクCΦか配設される。シャドウマス
ク(IGの周辺部は、パネル外形に対応して折曲げられ
たスカート部θのを有し、このスカート部C)は断面り
字型の枠からなるマスクフレーム(ロ)によって支持固
定され、ざらにマスクフレーム(I7)は、スプリング
(!lを介してパネル01)内側壁に埋め込まれたピン
CΦで係止めされている。なお、符号(20はインナー
シールドを示す。このようなカラー受像管において、電
子銃Oeから射出された3本の電子ビーム(30)はフ
ァンネル02)近傍の外部に配置された偏向装置(図示
せず)によって偏向され、実質的に矩形状のパネル(6
)に対応する矩形状の範囲を走査するように且つシャド
ウマスク(1Gの透孔(10aを介して色選別され、各
色発光ストライプ状蛍光体に正しく対応射突せしめてカ
ラー映像を現出させる。
(Embodiments of the invention) Examples of the invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIG. 2, the shadow mask type color picture tube of this embodiment has an envelope θΦ made of glass, which has a substantially rectangular panel 01), a funnel-shaped funnel 02), and a neck 03). It consists of The inner surface of the panel (11) is provided with striped phosphor screens O0 that emit light in red, green, and blue, respectively, while the net 03) is provided with striped phosphor screens O0 that emit light in red, green, and blue. An in-line electron gun OΦ that emits three electron beams (30) corresponding to , edge, and blue is provided. Further, a shadow mask CΦ having a main surface with a large number of through holes is disposed in close opposition to the screen θ. The shadow mask (the peripheral part of the IG has a skirt part θ which is bent in accordance with the outer shape of the panel, and this skirt part C) is supported and fixed by a mask frame (b) consisting of a cross-sectional cross-sectional shape. , the mask frame (I7) is locked by a pin CΦ embedded in the inner wall of the panel 01 via a spring (!l). Note that the symbol (20) indicates an inner shield. In such a color picture tube, the three electron beams (30) emitted from the electron gun Oe are deflected by a deflection device (not shown) disposed outside near the funnel 02. a substantially rectangular panel (6) deflected by a substantially rectangular panel (6
), and colors are sorted through a shadow mask (1G through-hole (10a)), and each color light-emitting striped phosphor is projected correctly to reveal a color image.

シャドウマスク00は、0.1#から0,3#例えば0
.12mの軟鋼板でできており、常法の〕tトエッチン
グにより透孔が穿設された後、プレスにより所定曲面に
成形される。この成形されたシャドウマスクOSの電子
銃Oe側の表面に、第1図(2)に示すように低温焼成
セラミック層@を塗布被着する。
Shadow mask 00 is 0.1# to 0.3# e.g. 0
.. It is made of a 12 m long mild steel plate, and after holes are bored through it by conventional etching, it is pressed into a predetermined curved surface. On the surface of the formed shadow mask OS on the electron gun Oe side, a low temperature firing ceramic layer @ is applied and adhered as shown in FIG. 1(2).

塗布はスプレー法で行ない、低温焼成セラミックの成分
としては例えば酸化ケイ素(S!Oz)を分散させた溶
液として次のものを用い、塗(fi膜の厚さは約20−
とした。
The coating is carried out by a spray method, and the following is used as a component of the low-temperature fired ceramic, for example, a solution in which silicon oxide (S!Oz) is dispersed.
And so.

5iOz           500grイソプロピ
ルアルコール  400 !llrllレスプレー後5
0℃の温度で約10乃至20分間強制加熱し、この加熱
により約4−の厚さの低温焼成セラミック層@を1qた
。このセラミックl15(221上に第1図0に示すよ
うな導電薄膜層(23)を形成する。例えばゲッター剤
を飛散させてセラミックE(221上にゲッター膜を形
成する。
5iOz 500gr isopropyl alcohol 400! llrll after replay 5
Forced heating was performed at a temperature of 0° C. for about 10 to 20 minutes, and by this heating, 1 q of a low temperature fired ceramic layer with a thickness of about 4 mm was formed. A conductive thin film layer (23) as shown in FIG. 1 is formed on this ceramic 115 (221). For example, a getter film is formed on the ceramic E (221) by scattering a getter agent.

セラミック層@の一部はスプレー塗布時にシャドウマス
ク透孔θΦa内壁にまわり込み、スクリーン側の裏面に
も一部被着しても良い。まわり込み程度はセラミック層
厚の設定により異なるが、孔の目詰まりを生じない限り
問題にはならず、孔内壁での電子散乱防止に効果がある
A portion of the ceramic layer @ may wrap around the inner wall of the shadow mask through hole θΦa during spray coating, and may also partially adhere to the back surface on the screen side. The degree of wrap-around varies depending on the setting of the ceramic layer thickness, but it does not pose a problem as long as the holes are not clogged, and is effective in preventing electron scattering on the inner walls of the holes.

本実施例の作用効果を確認するために、セラミック層の
ない従来構造の軟鋼シャドウマスクを比較量として、2
0型カラー受像管に適用した試験を行なった。
In order to confirm the effect of this example, a mild steel shadow mask with a conventional structure without a ceramic layer was used as a comparison amount.
A test was conducted on a type 0 color picture tube.

まず、本実施例のピユリティドリフト特性を調べるため
に、比較量とのビームの移動量の差を測定した。再生画
面パターンとして、第3図(八)の全面白色と、第3図
(B)の部分白色パターンを用いた。CB)では水平方
向幅75mの帯状体(51)を左右に2箇所に中心から
各140mm離して位置するようにスクリーンに再生す
る。残部は黒色すなわち非発光部である。X印が測定点
を示す。ビーム移動量の測定結果を第1表に示す。測定
条件はEb=26.5kV11kはパターン(八)で1
500μA、パターン(8)で1100μAとした。
First, in order to examine the utility drift characteristics of this example, the difference in the amount of beam movement from the comparative amount was measured. As reproduction screen patterns, the full white pattern shown in FIG. 3 (8) and the partially white pattern shown in FIG. 3 (B) were used. In CB), a strip (51) with a width of 75 m in the horizontal direction is reproduced on the screen so that it is positioned in two places on the left and right, each spaced 140 mm apart from the center. The remaining part is black, that is, a non-light-emitting part. X marks indicate measurement points. Table 1 shows the measurement results of the amount of beam movement. The measurement conditions are Eb=26.5kV11k is pattern (8) and 1
500 μA, and 1100 μA in pattern (8).

(工′(下年凸9 第1表 同表から本実施例においてビーム変化量を低減できるこ
とがわかる。
It can be seen from Table 1 that the amount of beam change can be reduced in this example.

第5図はSiQ 2セラミック層の厚みとピユリティド
リフト特性試験にあける電子ビームの移動量との関係を
示す。同図からセラミック層の厚みを1−以上、好まし
くは5JiI11以上とするのがよいことがわかる。あ
まり厚くすると、シャドウマスク透孔の目詰りが生じる
ので、動作に支障の範囲できめればよい。発明者の実験
によればマスク孔ピッチ0.65M、孔径175淵で5
0朗厚程度までっけても目詰りを生じなかった。
FIG. 5 shows the relationship between the thickness of the SiQ 2 ceramic layer and the amount of movement of the electron beam used in the purity drift characteristic test. It can be seen from the figure that the thickness of the ceramic layer is preferably 1- or more, preferably 5JiI11 or more. If it is made too thick, the shadow mask through-holes will be clogged, so it is only necessary to make it as thick as possible so as not to interfere with operation. According to the inventor's experiments, the mask hole pitch is 0.65M and the hole diameter is 175 deep.
No clogging occurred even when the temperature reached 0.

ビームの移動■の低減すなわちピユリティドリフトの低
減効果は5iQ2セラミツク層の熱膨張係数が0.55
 xlo−5と、軟鋼1.2X10−5の約半分である
ため、シードウマスクの熱膨張が抑制されること、また
、S!02の熱伝導度が約1.0cal/ cm −s
ec ℃と、軟鋼板の0.144 Cal/ cm ・
sec ’Cよりも大きくシャドウマスクで発生した熱
を逃がしやすいことにある。
The effect of reducing beam movement (i.e., reduction of utility drift) is due to the thermal expansion coefficient of the 5iQ2 ceramic layer of 0.55.
xlo-5 and about half that of mild steel 1.2X10-5, the thermal expansion of the seed mask is suppressed, and S! The thermal conductivity of 02 is approximately 1.0 cal/cm-s
ec °C and 0.144 Cal/cm of mild steel plate.
The reason is that it is larger than sec 'C and allows the heat generated by the shadow mask to escape easily.

なお、5iQ2の熱伝導度は、従来技術として述べた鉛
(IIIIM塩ガラス(通称フリットガラス)の熱伝導
度0.002 Cat/cm−3eC’Cに比べてもか
なり大きい。
The thermal conductivity of 5iQ2 is considerably higher than the thermal conductivity of 0.002 Cat/cm-3eC'C of lead (IIIM salt glass (commonly known as frit glass) described as the prior art).

次に、本実施例のカラー受像管を連続して3000時間
作動させた後、残存エミッション率を測定したところ、
初期動作時に対して80%と向上していることが判明し
た。従来一般に70%が標準とされているから、−割以
上の改善がはかられたことになる。本実施例のセラミッ
ク層がガス吸収をしたためと推定されるが、酸化ケイ素
(S!Oz)が有効に作用したと考えられる。
Next, after continuously operating the color picture tube of this example for 3000 hours, the residual emission rate was measured.
It was found that the improvement was 80% compared to the initial operation. Conventionally, 70% has been considered the standard, so this represents an improvement of more than -00%. This is presumed to be because the ceramic layer of this example absorbed gas, but it is thought that silicon oxide (S!Oz) acted effectively.

また、シャドウマスク表面に緻密なセラミック層が形成
されるため、ガス発生が抑えられたためとも考えられる
It is also thought that gas generation was suppressed because a dense ceramic layer was formed on the surface of the shadow mask.

以上実施例につき述べたが、SiQ 2セラミック層を
電子散乱を生じるインナーシールドに適用しても、暗部
輝度の低減ヤニミッション特性の改善が期待される。
Although the embodiments have been described above, even if the SiQ 2 ceramic layer is applied to the inner shield that causes electron scattering, it is expected that the dark area luminance will be reduced and the transmission characteristics will be improved.

また、SiQ 2セラミック層に黒鉛や酸化マンガンな
どの黒色物質を混入することによって、体色を暗部とし
、輻射効果をあげることもできる。
Furthermore, by mixing a black substance such as graphite or manganese oxide into the SiQ 2 ceramic layer, the body color can be made into a dark part and a radiation effect can be achieved.

さらに、5iQ2セラミツクの塗布は実施例のように、
シャドウマスク全体でなく、第4図に示すように、マス
ク面(31)に対して、局部的な部分(32)に塗布し
ても効果を上げることができる。また、シャドウマスク
の電子銃側に付Cプ、さらに、スクリーン側の面に局部
的にmイ5して局部的に生じるピユリティトリットを補
償することもてきる。
Furthermore, the application of 5iQ2 ceramic is as shown in the example.
The effect can be improved even if the coating is applied not to the entire shadow mask but to a localized portion (32) of the mask surface (31), as shown in FIG. In addition, it is also possible to compensate for the locally occurring purity trit by attaching C to the electron gun side of the shadow mask, and by locally attaching M to the screen side.

このような低温焼成のセラミックは、その素材を主成分
とする溶液は軟化あるいは溶融することなしに加水分解
及び車台にて硬化すると同時に、稀釈剤が蒸発し塗イ[
厚が薄くなっていくので、第1図に)の塗イロ状態から
同(ハ)のように均一な厚さで薄いセラミック層とする
ことができる。また、上)小の如き加熱温度が150℃
と低く、作業性を無視すれば常温でも硬化するため、カ
ラー受像管動作時のシャドウマスク温度との差が小さく
でき、シャドウマスク材とセラミック層間の残留応力も
小さくできる。但し、この場合、シャドウマスクの熱膨
張によるドーミングを抑えるようにある程度の残留応力
は存在する。従って塗布部と非塗布部の残留応力の差も
小さくなり、シャドウマスクの変形も発生しなくなった
。また、このようにセラミック層を均一で薄く形成する
ことができるため、このセラミック層上に形成されるゲ
ッター膜もむらがなく一様になり、全体的に薄くするこ
とが容易となる。つまり、ゲッター膜の抵抗値が大きく
なるように薄く形成することが可能である。
In such low-temperature-fired ceramics, the solution containing the material as its main component hydrolyzes and hardens in the car chassis without softening or melting, and at the same time the diluent evaporates, making it difficult to apply.
Since the thickness becomes thinner, it is possible to form a thin ceramic layer with a uniform thickness from the painted state shown in Fig. 1 (c) to that shown in Fig. 1 (c). In addition, the heating temperature of the above) small is 150℃
The temperature difference between the shadow mask temperature and the shadow mask temperature during operation of a color picture tube can be reduced, and the residual stress between the shadow mask material and the ceramic layer can also be reduced. However, in this case, a certain amount of residual stress exists to suppress doming due to thermal expansion of the shadow mask. Therefore, the difference in residual stress between the coated area and the non-coated area became small, and deformation of the shadow mask no longer occurred. In addition, since the ceramic layer can be formed uniformly and thinly in this way, the getter film formed on the ceramic layer also becomes uniform and even, and it becomes easy to make it thin as a whole. In other words, it is possible to form the getter film thinly so that the resistance value of the getter film increases.

また、上記セラミック層を絶縁物とし、その上にむらが
なく薄いゲッター膜を形成することにより、電子の射突
によって絶縁層がチャージすることなく電子ビームのシ
ードウマスクへの射突速度を抑えてシャドウマスクの発
熱を抑えるという、シャドウマスクの表面が絶縁体ある
いは導電体であることの欠点を解潤した優れたシャドウ
マスクを得ることができる。
In addition, by using the above ceramic layer as an insulator and forming an even and thin getter film on it, the insulating layer is not charged due to the impact of electrons, and the speed of impact of the electron beam on the seed mask is suppressed. Thus, it is possible to obtain an excellent shadow mask that suppresses heat generation of the shadow mask, which eliminates the disadvantages of having the surface of the shadow mask be an insulator or a conductor.

従って、シャドウマスクの変形を防止するとともにピユ
リティドリフト特性を改善したカラー受像管を得ること
ができる。
Therefore, it is possible to obtain a color picture tube in which deformation of the shadow mask is prevented and the purity drift characteristics are improved.

(発明の効果〕 以上のように本発明によれば、シャドウマスク表面に低
温焼成のセラミック層を形成し、さらにその上に導電薄
膜層を形成することにより、シャドウマスクの変形不良
を防止し、ピユリティドリフト特性を改善し、さらに、
エミッション寿命特性のよいカラー受像管を得ることが
できる。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, by forming a low-temperature fired ceramic layer on the surface of the shadow mask and further forming a conductive thin film layer thereon, defective deformation of the shadow mask can be prevented. improved the utility drift characteristics, and
A color picture tube with good emission life characteristics can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示すシャドウマスクの一部
断面図、第2図は本発明の一実施例を示すカラー受像管
の縦断面図、第3図(八) (B)は本発明の実施例の
ピユリティドリフト特性を説明する再生画像パターンの
略図、第4図は本発明の他の実施例を示すシャドウマス
クの平面略図、第5図は本発明を説明するSiQ 2セ
ラミック層の厚みとビーム移動量の関係を示す曲線図、
第6図は従来のシt トウマスクの一部拡大断面である
。 15・・・シャドウマスク、15a・・・透孔、22・
・・セラミック層、23.33・・・ゲッター膜、32
・・・カラス層。 代理人 弁理士 則 近 憲 1も 同  大胡典夫 第1図 第6図 第4図 (B) 第3図 セラミ=t7A1!J (Am) 第5図
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a shadow mask showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a vertical cross-sectional view of a color picture tube showing an embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 4 is a schematic plan view of a shadow mask showing another embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a schematic diagram of a reproduced image pattern explaining the utility drift characteristics of an embodiment of the present invention. A curve diagram showing the relationship between the thickness of the ceramic layer and the amount of beam movement,
FIG. 6 is a partially enlarged cross section of a conventional sit mask. 15...shadow mask, 15a...through hole, 22.
...Ceramic layer, 23.33...Getter film, 32
...Crow layer. Agent: Patent Attorney: Nori Chika 1: Norio Ogo Figure 1 Figure 6 Figure 4 (B) Figure 3 Cerami = t7A1! J (Am) Figure 5

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)蛍光体スクリーンと、この蛍光体スクリーンに近
接して設置されるシャドウマスクと、このシャドウマス
クを介して電子ビームを前記蛍光体スクリーンに射突さ
せて発光させる電子銃とを少なくとも具備したカラー受
像管において、前記シャドウマスクの表面に低温焼成セ
ラミック層を有し、この低温焼成セラミック層上に導電
薄膜層を形成したことを特徴とするカラー受像管。
(1) It comprises at least a phosphor screen, a shadow mask installed close to the phosphor screen, and an electron gun that causes an electron beam to strike the phosphor screen through the shadow mask to emit light. 1. A color picture tube, characterized in that the shadow mask has a low-temperature fired ceramic layer on the surface thereof, and a conductive thin film layer is formed on the low-temperature fired ceramic layer.
(2)低温焼成セラミック層が絶縁層である特許請求の
範囲第1項記載のカラー受像管。
(2) The color picture tube according to claim 1, wherein the low-temperature fired ceramic layer is an insulating layer.
(3)低温焼成セラミック層が酸化ケイ素を主成分とす
る特許請求の範囲第1項記載のカラー受像管。
(3) The color picture tube according to claim 1, wherein the low-temperature fired ceramic layer contains silicon oxide as a main component.
(4)低温焼成セラミック層がシャドウマスク表面の一
部に被着されてなる特許請求の範囲第1項記載のカラー
受像管。
(4) A color picture tube according to claim 1, wherein a low-temperature fired ceramic layer is adhered to a part of the surface of the shadow mask.
(5)導電薄膜層がゲッター膜である特許請求の範囲第
1項記載のカラー受像管。
(5) The color picture tube according to claim 1, wherein the conductive thin film layer is a getter film.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008045668A (en) * 2006-08-17 2008-02-28 Fuji Xerox Co Ltd Drive change-over mechanism and image formation equipment including the same

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