JPS6234125A - Optical waveguide type device - Google Patents

Optical waveguide type device

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Publication number
JPS6234125A
JPS6234125A JP17315985A JP17315985A JPS6234125A JP S6234125 A JPS6234125 A JP S6234125A JP 17315985 A JP17315985 A JP 17315985A JP 17315985 A JP17315985 A JP 17315985A JP S6234125 A JPS6234125 A JP S6234125A
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JP
Japan
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optical waveguide
optical
light
lens
waveguide
Prior art date
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Pending
Application number
JP17315985A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naohisa Inoue
直久 井上
Maki Yamashita
山下 牧
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Omron Corp
Original Assignee
Omron Tateisi Electronics Co
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Filing date
Publication date
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  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To connect both waveguides with each other and to facilitate the manufacture of a device which has good light convergence efficiency by forming the 1st optical waveguide at a specific part of a substrate made of an optical material having optical function effect and forming the 2nd glass optical waveguide at another part of the same substrate across a buffer layer. CONSTITUTION:The 1st optical waveguide 2 is formed on the center part of the substrate 1 which has piezoelectric effect and SiO2 which has a specific refractive index is sputtered at both sides of the substrate 1 where the waveguide 2 is not formed to form the buffer layer 6. Further, coning with a specific refractive index is sputtered on the buffer layer 6 to form the 2nd glass optical waveguide 7. An inter-digital transducer LDT which generates a surface acoustic wave SAW and a light absorbing member 10 are provided on the waveguide 2. Lenses 8 and 9 are provided to the waveguides 7 respectively and both waveguides 2 and 7 are coupled to tapered film thickness. Light from a light source 4 is collimated by the lens 8 and diffracted light or undiffracted light passed through the waveguide 2 is converted by the lens 9 and made incident on a photodetector array 5.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の要約 光機能効果をもつ光学材料からなる基板上の所定部分に
第1の光導波路が形成され、同基板上の他の部分上にバ
ッファ層を介して第2のガラス光導波路が形成され、こ
れら両光導波路が互いに接続され、第1の光導波路には
光機能素子が、第2のガラス光導波路にはレンズがそれ
ぞれ作成されている。光導波型ディバイス。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Summary of the Invention A first optical waveguide is formed on a predetermined portion of a substrate made of an optical material having an optical functional effect, and a second optical waveguide is formed on another portion of the same substrate via a buffer layer. glass optical waveguides are formed, both optical waveguides are connected to each other, and an optical functional element is formed in the first optical waveguide, and a lens is formed in the second glass optical waveguide. Optical waveguide device.

[発明の背景] この発明は、光集積回路のための光導波型ディバイスに
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to optical waveguide devices for optical integrated circuits.

光集積回路は光を基板上の光導波路中に閉じ込め2種々
の効果を用いて光の制御を行い、光信号の処理をするも
のである。具体的な光ディバイスとして光スペクトル・
アナライザ、光コンボルバ、光ブラッグ・シフタ、光フ
ーリエ変換器などがある。これらの光集積回路は光のコ
リメート。
An optical integrated circuit confines light in an optical waveguide on a substrate, controls the light using various effects, and processes optical signals. Optical spectrum and spectra as specific optical devices
These include analyzers, optical convolvers, optical Bragg shifters, and optical Fourier transformers. These optical integrated circuits collimate light.

収束その他の目的のために用いるレンズを必ず備えてい
る。
It is always equipped with a lens used for convergence and other purposes.

第5図および第6図は、光集積回路の一例として光スペ
クトル・アナライザを示すものである。
5 and 6 show an optical spectrum analyzer as an example of an optical integrated circuit.

L iN b 03基板31上にTiを熱拡散すること
により2次元光導波路(先導波層)32が形成され。
A two-dimensional optical waveguide (leading wave layer) 32 is formed by thermally diffusing Ti on the L iN b 03 substrate 31 .

この光導波路32上に2個のジオデシック・レンズ38
、39が配置されている。半導体レーザ等の光源34か
ら光導波路32に入射した光(鎖線で示す)は、レンズ
38によってフリメートされ、レンズ39によって集束
される。レンズ39の焦点面上に光検知器アレイ(イメ
ージ・センサ)35が配置されている。
Two geodesic lenses 38 are placed on this optical waveguide 32.
, 39 are arranged. Light (indicated by a chain line) entering the optical waveguide 32 from a light source 34 such as a semiconductor laser is frimated by a lens 38 and focused by a lens 39 . A photodetector array (image sensor) 35 is arranged on the focal plane of the lens 39.

レンズ38によってコリメートされた光とブラッグ回折
の条件を満足する方向に伝播する弾性表面波(SAW)
を発生するインターディジタル・トランスデユーサ(I
DT) 33が光導波路32上に配置されている。スペ
クトルを分析されるべき高周波(RP)信号がIDT 
33に印加され、これに対応したSAWが発生して光と
相互作用する。SAWによって回折される光(その−例
を破線で示す)の回折角は上記RP倍信号周波数にほぼ
比例し1回折効率は小信号領域ではRFパワーにほぼ比
例する。したがって、検知器アレイ35からは、 RF
倍信号周波数およびパワーを表わすスペクトル信号が得
られる。
Light collimated by the lens 38 and surface acoustic waves (SAW) propagating in a direction that satisfies the conditions of Bragg diffraction.
An interdigital transducer (I
DT) 33 is arranged on the optical waveguide 32. The radio frequency (RP) signal whose spectrum is to be analyzed is the IDT
33, a corresponding SAW is generated and interacts with the light. The diffraction angle of light diffracted by the SAW (an example of which is shown by a broken line) is approximately proportional to the RP multiplied signal frequency, and the single diffraction efficiency is approximately proportional to the RF power in the small signal region. Therefore, from the detector array 35, RF
A spectral signal representing the doubled signal frequency and power is obtained.

このような光導波型ディバイスでは、ジオデシック・レ
ンズやルネブルグ◆レンズがよく使用されるが、これら
のレンズの作製のためには切削加工やドーム部の形成が
必要であり1作製が困難であり1歩留りも良くなく2作
製精度も高くない。
Geodesic lenses and Luneburg ◆ lenses are often used in such optical waveguide devices, but these lenses require cutting and dome formation, making them difficult to manufacture. The yield is not good and the manufacturing accuracy is not high either.

また、レンズが大型化するという問題点もある。Another problem is that the lens becomes larger.

他の導波路レンズ、たとえばフレネル・レンズやグレー
ティング・レンズは小型化が可能であるが、Ti拡散L
iNbO3光導波路では大きな屈折率変化を得ることが
できないために、集光効率が低く、開口数NAも小さい
Although other waveguide lenses, such as Fresnel lenses and grating lenses, can be made smaller, Ti-diffused L
Since it is not possible to obtain a large refractive index change in the iNbO3 optical waveguide, the light collection efficiency is low and the numerical aperture NA is also small.

[発明の目的] この発明は、小型で1作製が容易で2作製精度が高く、
集光効率が高<、NAが大きいレンズの作製が可能な光
導波型ディバイスを提供することを目的とする。
[Object of the invention] This invention is small, easy to manufacture, and highly accurate in manufacturing.
It is an object of the present invention to provide an optical waveguide device that can produce a lens with high light collection efficiency and large NA.

[発明の構成と効果] この発明による先導波型ディバイスは、光機能効果をも
つ光学材料からなる基板上の所定部分に第1の光導波路
が形成され、同基板上の他の部分上にバッファ層を介し
て第2のガラス光導波路が形成され、これら画光導波路
が互いに接続され。
[Structure and Effects of the Invention] In the guided wave type device according to the present invention, a first optical waveguide is formed on a predetermined part of a substrate made of an optical material having an optical function effect, and a buffer is formed on another part of the same substrate. A second glass optical waveguide is formed through the layer, and these image optical waveguides are connected to each other.

第1の光導波路には光機能素子が、第2のガラス光導波
路にはレンズがそれぞれ作成されていることを特徴とす
る。
A feature is that an optical functional element is formed in the first optical waveguide, and a lens is formed in the second glass optical waveguide.

ここで光機能効果とは、圧電効果、f@磁気光学効果磁
気光学効果等の外部から何らかの物理量が与えられたと
きに材料の性質、とくに光機能素子を実現するための性
質が変化する現象をいう。また、光導波路とは、3次元
光導波路のみならず。
Here, the optical functional effect refers to a phenomenon in which the properties of a material, especially the properties for realizing an optical functional element, change when some physical quantity is applied from the outside, such as piezoelectric effect, f @ magneto-optic effect, magneto-optic effect, etc. say. Furthermore, optical waveguides include not only three-dimensional optical waveguides.

2次元光導波路いわゆる先導波層を含む概念である。The concept includes a two-dimensional optical waveguide, a so-called leading wave layer.

第1の光導波路は光機能効果をもつ光学材料上に形成さ
れているから、ここに各種の光機能素子をつくることが
できるので、所望の光制御が実現できる。この光集積回
路に必要なレンズは第2のガラス光導波路上に作製する
ことができる。ガラス光導波路上にレンズを作製できる
ため、大きな屈折率変化を得ることができ、フレネル・
レンズやグレーティング・レンズの作製が可能であり。
Since the first optical waveguide is formed on an optical material having an optical function effect, various optical function elements can be formed there, so that desired optical control can be realized. The lenses necessary for this optical integrated circuit can be fabricated on the second glass optical waveguide. Since lenses can be fabricated on glass optical waveguides, large refractive index changes can be obtained, making Fresnel
It is possible to create lenses, gratings, and lenses.

レンズが小型化され7作製が容易であり1作製精度も窩
く2歩留りも良く、集光効率も高<、NAも大きくする
ことができる。
The lens is miniaturized, 7 it is easy to manufacture, 1 the manufacturing accuracy is good, 2 the yield is good, the light collection efficiency is high, and the NA can be increased.

[実施例の説明] 第1図および第2図は、この発明の実施例を示しており
、光スペクトル・アナライザが実現されている。圧電効
果を持つYカットL iN b O3を基板1とし、こ
の基板1の中央部分上に光導波路2が、チタン(Ti)
200+をスパッタとリフトオフ法で形成し、これを温
度970℃1時間5時間、雰囲気ウェット02中で熱拡
散することにより作製されている。基板1の光導波路2
を作製した部分以外の部分上、すなわち光導波路2の両
側に屈折率1.40のSiO2をスパッタすることによ
りバッファ層6が装荷されている。さらに、バッファ層
6上に屈折率1.53のコーニング7059をスパッタ
することによりガラス光導波路7が作製されている。ガ
ラス光導波路7の光導波路2との結合端部は、スパッタ
時のマスクをアンダーカットすることによりまたはマス
クを基板1から若干前して設はガラスの廻り込み効果を
起こすことにより、テーバ状の膜厚に形成される。これ
によりガラス光導波路7の光が効率よくチタン拡散光導
波路2に結合される。また、その逆も同じである。
[Description of the Embodiment] FIGS. 1 and 2 show an embodiment of the invention, in which an optical spectrum analyzer is realized. The substrate 1 is Y-cut L iN b O3 having a piezoelectric effect, and the optical waveguide 2 is formed on the center part of the substrate 1 using titanium (Ti).
200+ was formed by sputtering and a lift-off method, and then thermally diffused in a wet 02 atmosphere at a temperature of 970° C. for 1 hour and 5 hours. Optical waveguide 2 on substrate 1
A buffer layer 6 is loaded by sputtering SiO2 having a refractive index of 1.40 on the parts other than the parts where the optical waveguide 2 was fabricated, that is, on both sides of the optical waveguide 2. Further, a glass optical waveguide 7 is fabricated by sputtering Corning 7059 having a refractive index of 1.53 onto the buffer layer 6. The coupling end of the glass optical waveguide 7 with the optical waveguide 2 is formed into a tapered shape by undercutting the mask during sputtering or by setting the mask slightly in front of the substrate 1 to cause a wrapping effect of the glass. Formed into a thick film. Thereby, the light in the glass optical waveguide 7 is efficiently coupled to the titanium diffused optical waveguide 2. The same is true vice versa.

光導波路2上にはSAWを発生するIDT 3と。On the optical waveguide 2 is an IDT 3 that generates a SAW.

SAWの吸収部材lOとが設けられ、この光導波路2上
で上述したようなSAνによる光のブラッグ回折作用が
行なわれる。
A SAW absorption member IO is provided, and the Bragg diffraction effect of light by SAν as described above is performed on this optical waveguide 2.

L iN b O3は圧電効果、音響光学効果、電気光
学効果、熱光学効果を持ち、光波の制御には最適である
。このL iN b Oa上の光導波路2に光機能素子
が設けられる。
L iN b O3 has a piezoelectric effect, an acousto-optic effect, an electro-optic effect, and a thermo-optic effect, and is optimal for controlling light waves. An optical functional element is provided in the optical waveguide 2 on this L iN b Oa.

しかしながら、  L i N b O3の屈折率は2
.2゜Tiが拡散された光導波路2の屈折率は2.20
4で、その差は0.004である。L iN b O3
上に何らかの物質を装荷してレンズを作製する場合、装
荷した部分としなかった部分を伝搬する光の等離層折率
の差は0.004以下である。このため、レンズとして
作用させるために、物質を装荷した部分としなかった部
分を伝搬する光の位相差をπにするには、大きなレンズ
膜厚が必要となり、視野角も小さくなる。L iN b
 Oa上には良好なレンズが必ずしも作製できない。
However, the refractive index of L i N b O3 is 2
.. The refractive index of the optical waveguide 2 in which 2°Ti is diffused is 2.20.
4, the difference is 0.004. L iN b O3
When a lens is manufactured by loading some substance on top, the difference in isotropic refractive index of light propagating between the loaded part and the unloaded part is 0.004 or less. Therefore, in order to make the phase difference between the light propagating between the part loaded with a material and the part not loaded with a substance be π in order to function as a lens, a large lens film thickness is required, and the viewing angle becomes small. L iNb
A good lens cannot necessarily be produced on Oa.

そこで、  L IN b Oaの基板上にガラス光導
波路7が設けられ、ここにレンズ8.9が設けられる。
Therefore, a glass optical waveguide 7 is provided on the substrate of LIN b Oa, and a lens 8.9 is provided here.

ここでは、レンズとしてグレーティング・レンズが示さ
れている。これらのレンズ8,9としてはr  S t
 O2をスパッタとリフトオフ法で装荷タイプのものを
形成しても、フォトレジストAZかネガタイプの電子線
レジストをマスクとし。
Here, a grating lens is shown as the lens. These lenses 8 and 9 are r S t
Even if a loaded type is formed using O2 sputtering and a lift-off method, a photoresist AZ or a negative type electron beam resist is used as a mask.

C2F eをガスに用いてイオンビーム・エツチングに
よりグループ(溝)タイプのものを形成してもどちらで
もよい。第1図および第2図には装荷タイプのものが示
されている。レンズ8は光源4から出射した光をコリメ
ートするためのものであり、レンズ9は光導波路2を通
過した回折光または非回折光を光検出器アレイ5に集光
するためのものである。
A group (groove) type structure may be formed by ion beam etching using C2Fe as a gas. A loading type is shown in FIGS. 1 and 2. The lens 8 is for collimating the light emitted from the light source 4, and the lens 9 is for condensing the diffracted light or undiffracted light that has passed through the optical waveguide 2 onto the photodetector array 5.

ガラスの屈折率は約 1.5でL i N b Oaの
屈折率が2.2であるために、ガラスを直接LiNbO
3上にスパッタしてもそれは光導波路にはならない。こ
のため、屈折率1.46のS iO2をL t N b
 03上にバッファ層6として十分厚くスパッタし、さ
らにその上に屈折率1.53のコーニング7059を光
導波路7としてスパッタする。バッファ層6と光導波路
7との屈折率の差は0.07となり、上述のLiNbO
3の場合の0.004と比較して10倍以上大きく、レ
ンズ厚の小さいレンズが作製できる。また、集光効率も
良くなる。
Since the refractive index of glass is approximately 1.5 and the refractive index of LiNbOa is 2.2, glass can be directly coated with LiNbO.
Even if it is sputtered onto 3, it will not become an optical waveguide. For this reason, S iO2 with a refractive index of 1.46 is L t N b
A sufficiently thick buffer layer 6 is sputtered on the buffer layer 6, and Corning 7059 having a refractive index of 1.53 is sputtered thereon as the optical waveguide 7. The difference in refractive index between the buffer layer 6 and the optical waveguide 7 is 0.07, and the difference in refractive index between the buffer layer 6 and the optical waveguide 7 is 0.07.
A lens that is 10 times larger than 0.004 in the case of No. 3 and has a small lens thickness can be manufactured. Moreover, the light collection efficiency is also improved.

レンズとして上述の装荷型のものを作製する場合には、
光導波路7上にさらにリフトオフ法によりパターン化し
たSiO3膜を装荷する。
When manufacturing the above-mentioned loaded type lens,
A SiO3 film patterned by a lift-off method is further loaded onto the optical waveguide 7.

S iO2を装荷しなかった部分を伝搬する光の等離層
折率n  と比較して、  S io 2を装荷しef
’[’ま た部分を伝搬する光の等離層折率n  は太きef’l
’2 くなる。装荷する膜厚が大きくなるほどnerl’2は
大きくなる。レンズの厚さをλ/ [2(nef’f’
2−nef’f’l)コとなるようにし、これにより先
の位相差πを生じさせることができる。
Compared to the equidistant refractive index n of the light propagating in the part not loaded with S iO2, when loaded with S io 2 ef
'['Also, the equidistant refractive index n of light propagating through the part is thick ef'l
'It's going to be 2. The larger the thickness of the loaded film, the larger nerl'2 becomes. The thickness of the lens is λ/ [2(nef'f'
2-nef'f'l), thereby producing the previous phase difference π.

上述した屈折率の差0.07や0.004は、上記の(
neff2   crfl)にほぼ対応するので、ガラ
ス光導波路上にレンズを作製すると、そのレンズの厚さ
を充分に小さくとることができることが容易に理解でき
よう。
The above-mentioned difference in refractive index of 0.07 and 0.004 is due to the above-mentioned (
neff2 crfl), it is easy to understand that if a lens is fabricated on a glass optical waveguide, the thickness of the lens can be made sufficiently small.

第3図はこの発明を光パラレル/シリアル変換器に適用
した実施例を示している。L iN b 03の基板1
上の光導波路2は中央部分と基板1のやや左寄りの部分
とに形成されている。そして、左側の光導波路2から基
板1の左端に向って、いくつかの3次元光導波路12が
同じ(Tiの熱拡散により形成されている。2つの光導
波路2の間および基板1の右側部分に、バッファ層6を
介してガラス光導波路7が形成され、ここにレンズ8,
9がそれぞれ設けられている。中央の光導波路2上には
IDT 3が作製されている。
FIG. 3 shows an embodiment in which the present invention is applied to an optical parallel/serial converter. Substrate 1 of L iN b 03
The upper optical waveguide 2 is formed in the center portion and a portion slightly to the left of the substrate 1. Then, from the left optical waveguide 2 toward the left end of the substrate 1, several three-dimensional optical waveguides 12 are the same (formed by thermal diffusion of Ti). A glass optical waveguide 7 is formed through a buffer layer 6, and a lens 8,
9 are provided respectively. An IDT 3 is fabricated on the central optical waveguide 2.

光導波路12に入射された光は、光導波路2に出射し、
さらに光導波路7に向い、ここでレンズ8によりそれぞ
れコリメートされる。IDT 3からはパルス状のSA
νが発生する。このパルス状SAWによってまず第1番
目の光がブラッグ回折される。
The light incident on the optical waveguide 12 is output to the optical waveguide 2,
Further, they are directed into optical waveguides 7, where they are each collimated by lenses 8. Pulsed SA from IDT 3
ν occurs. First, the first light is Bragg diffracted by this pulsed SAW.

SAνはパルス状であるから、このとき他の光はSAW
と相互作用しない。回折された光は光導波路2から光導
波路7に向い、ここでレンズ9により集光される。中央
の光導波路2を伝播する複数の光はSAWによって次々
と回折されていく。このようにして、空1慴的にパラレ
ルに光導波路12に入射した光は2時間的にシリアルな
信号に変換される。
Since SAν is pulsed, other light at this time is SAW
does not interact with The diffracted light is directed from the optical waveguide 2 to the optical waveguide 7, where it is focused by a lens 9. A plurality of lights propagating through the central optical waveguide 2 are successively diffracted by the SAW. In this way, the light incident on the optical waveguide 12 in parallel over time is converted into a serial signal over two hours.

第4図はさらに他の実施例を示し、これもまた光パラレ
ル/シリアル変換器である。ここでは。
FIG. 4 shows yet another embodiment, which is also an optical parallel/serial converter. here.

ガラス光導波路7が基板1の左端に向ってのび3次元光
導波路17を形成している点が、第3図の実施例と異な
っている。
This embodiment differs from the embodiment shown in FIG. 3 in that the glass optical waveguide 7 extends toward the left end of the substrate 1 to form a three-dimensional optical waveguide 17.

上記実施例では、基板材料としてL iN b O3が
、バッファ層としてS iO2が、ガラス光導波路とし
てコーニング7059がそれぞれ用いられているが、他
の材料を用いることができるのはいうまでもない。光導
波路等の作製方法も材料の種類に応じて適宜選択できる
。さらに、レンズとしてはグレーティング・レンズに限
られることはなく。
In the above embodiment, LiN b O3 is used as the substrate material, SiO2 is used as the buffer layer, and Corning 7059 is used as the glass optical waveguide, but it goes without saying that other materials can be used. The method for manufacturing the optical waveguide and the like can also be selected as appropriate depending on the type of material. Furthermore, the lenses are not limited to grating lenses.

その作製方法もレンズの種類に応じて決定することがで
きる。
The manufacturing method can also be determined depending on the type of lens.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図はこの発明の実施例を示すもので、
第1図は斜視図、第2図は断面図である。 第3図および第4図はこの発明の他の実施例をそれぞれ
示す斜視図である。 第5図および第6図は従来例を示すもので、第5図は斜
視図、第6図は断面図である。 1・・・基板、2・・・第1の光導波路、3・・・ID
T 。 6・・・バッファ層、7・・・第2のガラス光導波路。 8.9・・・レンズ。 以  上 特許出願人  立石電機株式会社 代 理 人   弁理士 牛 久 健 司(外1名) 第1図 第3図 第4図 第5図 手続ネ甫正書く自発) 昭和61年5り/2日
FIG. 1 and FIG. 2 show an embodiment of this invention.
FIG. 1 is a perspective view, and FIG. 2 is a sectional view. FIGS. 3 and 4 are perspective views showing other embodiments of the invention, respectively. 5 and 6 show a conventional example, with FIG. 5 being a perspective view and FIG. 6 being a sectional view. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Substrate, 2... First optical waveguide, 3... ID
T. 6... Buffer layer, 7... Second glass optical waveguide. 8.9...Lens. Patent applicant: Tateishi Electric Co., Ltd. Agent: Patent attorney: Kenji Ushiku (1 other person) Figure 1 Figure 3 Figure 4 Figure 5 Procedural report voluntarily written on May 2, 1986

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 光機能効果をもつ光学材料からなる基板上の所定部分に
第1の光導波路が形成され、同基板上の他の部分上にバ
ッファ層を介して第2のガラス光導波路が形成され、こ
れら両光導波路が互いに接続され、第1の光導波路には
光機能素子が、第2のガラス光導波路にはレンズがそれ
ぞれ作成されている、光導波型ディバイス。
A first optical waveguide is formed on a predetermined portion of a substrate made of an optical material having an optical function effect, and a second glass optical waveguide is formed on another portion of the same substrate with a buffer layer interposed therebetween. An optical waveguide device in which optical waveguides are connected to each other, an optical functional element is formed in a first optical waveguide, and a lens is formed in a second glass optical waveguide.
JP17315985A 1985-08-08 1985-08-08 Optical waveguide type device Pending JPS6234125A (en)

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JP17315985A JPS6234125A (en) 1985-08-08 1985-08-08 Optical waveguide type device

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0749032A1 (en) * 1995-06-15 1996-12-18 Murata Manufacturing Co., Ltd. Acousto-optic deflector device

Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0749032A1 (en) * 1995-06-15 1996-12-18 Murata Manufacturing Co., Ltd. Acousto-optic deflector device
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