JPS62298089A - Charge accumulating type semiconductor memory - Google Patents

Charge accumulating type semiconductor memory

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Publication number
JPS62298089A
JPS62298089A JP61140034A JP14003486A JPS62298089A JP S62298089 A JPS62298089 A JP S62298089A JP 61140034 A JP61140034 A JP 61140034A JP 14003486 A JP14003486 A JP 14003486A JP S62298089 A JPS62298089 A JP S62298089A
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JP
Japan
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data line
sub
main data
sub data
main
Prior art date
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Pending
Application number
JP61140034A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshinobu Nakagome
儀延 中込
Masakazu Aoki
正和 青木
Shinji Horiguchi
真志 堀口
Shinichi Ikenaga
伸一 池永
Katsuhiro Shimohigashi
下東 勝博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To minimize greatly the noise of a capacity bonding due to an inter- layer parasitic capacity between a data line and a plate electrode by fixing the electric potential of a sub-data line of non-selection. CONSTITUTION:When sub-data lines 2A and 3A are connected to main data liens 2 and 3, switches 5A and 6B are closed and 6A and 5B are closed. Thus, only the sub-data liens 2A and 3A dependent on a main data line are respectively connected to the main data lines 2 and 3 and other sub-data line is connected to a fixing electric potential VD. When a sub-data line is divided, a sub-data line changed by the same electric potential as the main data line is only one and the electric potential of a remaining n-1 number of the sub-data line is fixed. Since the line to capacity-bond mainly with a plate is the sub-data line, the noise of the capacity bonding can be made into about 1/n.

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体中の電荷キャリアを情報源として記憶
するセルを多数有し、このセルに記憶された情報を指定
されたアドレス情報に従って読出し、またセルへ情報を
書込む機構を有する、いわゆるランダム・アクセス・メ
モリ(’RA M :Ra n d otn A c 
c e SSM e m o r y )に係り、特に
少ない信号電荷はを精度よく記憶・蓄積するセル・アレ
ー構成を有する超高集積のRAMに関する。
Detailed Description of the Invention 3. Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention has a large number of cells that store information using charge carriers in a semiconductor, and the information stored in the cells is Random access memory (RAM) has a mechanism for reading and writing information to cells according to specified address information.
In particular, the present invention relates to an ultra-highly integrated RAM having a cell array configuration that accurately stores and accumulates a small amount of signal charge.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体中の電荷キャリアを情報源とするRAMとしてよ
く知られているトランジスタおよび容量各々1つずつを
記憶要素とする、いわゆる1トランジスタ形ダイナミッ
クRA M (] T r  r)RAM)の1対のデ
ータ線に着口して示したメモリセルアレーの構成の従来
例を第2図に示す。
A pair of data in so-called one-transistor type dynamic RAM (T r r) RAM, which is well known as a RAM that uses charge carriers in a semiconductor as an information source, and uses one transistor and one capacitor as storage elements. FIG. 2 shows a conventional example of the structure of a memory cell array shown by lines.

第2図において、10はワードゲートとなるMISトラ
ンジスタ(MIST)、11は情報源となる信号電荷キ
ャリアを蓄積する容量、21はこれら1つの容量と1つ
のM工Sトランジスタよりなるメモリセル、22,23
は電荷キャリアを伝送するデータ線、24は入方向のア
ドレス指定によりワードゲートの開閉を行うワード線、
28は信号電荷の検出と、メモリセルへの書込みを行う
周辺回路、29は蓄積容量の一端の電極を構成するプレ
ート、15はデータ線とプレート間に寄生的に発生する
層間寄生容量である。
In FIG. 2, 10 is an MIS transistor (MIST) that becomes a word gate, 11 is a capacitor that stores signal charge carriers that is an information source, 21 is a memory cell consisting of one of these capacitors and one M/S transistor, and 22 ,23
24 is a data line that transmits charge carriers, and 24 is a word line that opens and closes the word gate by addressing in the incoming direction.
Reference numeral 28 indicates a peripheral circuit that detects signal charges and writes data into the memory cells, 29 indicates a plate forming an electrode at one end of the storage capacitor, and 15 indicates an interlayer parasitic capacitance that is generated parasitically between the data line and the plate.

このメモリセル部のレイアウト図と構造断面図をそれぞ
れ第4図と第3図に示す。
A layout diagram and a structural sectional view of this memory cell section are shown in FIGS. 4 and 3, respectively.

第4回中、40は電気的活性領域層、43はプレート電
極を構成する第1のゲート層、44はメモリセルトセン
ジスタのワードゲートを構成する第2のゲート層、46
はデータ線を構成する第1の配線層、47は電気的活性
領賊と第1の配線層の電気的接続を行うコンタクト層で
ある。40と43の2つの層が重複する48が、1つの
メモリセルの蓄積容量部分を、40と44の2つの層が
重複する49がワードゲート部分にそれぞれ対応してい
る。
In the fourth time, 40 is an electrically active region layer, 43 is a first gate layer forming a plate electrode, 44 is a second gate layer forming a word gate of a memory cell sensor, 46
4 is a first wiring layer constituting a data line, and 47 is a contact layer for electrically connecting the electrically active region to the first wiring layer. 48, where the two layers 40 and 43 overlap, corresponds to a storage capacitance portion of one memory cell, and 49, where the two layers 40 and 44 overlap, corresponds to a word gate portion, respectively.

また、これに対応するa −a ’部の構造断面図を第
3図に示す0図中30は半導体基板、31は酸化物など
の絶縁体、33は第1のゲート、34は第2のゲート、
35は絶縁体、36は第1の配線層である。
In addition, a structural cross-sectional view of the a-a' portion corresponding to this is shown in FIG. Gate,
35 is an insulator, and 36 is a first wiring layer.

このような従来型のダイナミック・メモリのセルにおい
ては、第1のゲート部と第】の配線層の重複部分50が
プレートとデータ線間の寄生容量を生ぜしめる。
In such a conventional dynamic memory cell, the overlapping portion 50 between the first gate portion and the second wiring layer creates a parasitic capacitance between the plate and the data line.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記従来技術においては、メモリセルからの情報の読み
出しや、情報の書込み時にデータ線の電位が振れる際に
、先の層間寄生容量が原因となって、プレートに大きな
容量結合性の雑音が重畳するという問題があった。
In the above conventional technology, when the potential of the data line fluctuates when reading or writing information from a memory cell, large capacitive coupling noise is superimposed on the plate due to the interlayer parasitic capacitance. There was a problem.

従来のダイナミックメモリにおいては、安定な読み出し
動作を行うための信号対雑音比(S/N比)を確保する
ために、信号電荷蓄積部の容量Cgをなるべく大きな値
に設計していた。
In conventional dynamic memories, the capacitance Cg of the signal charge storage section is designed to be as large as possible in order to ensure a signal-to-noise ratio (S/N ratio) for stable read operations.

ところが、メモリの高集積化に伴い、1つのメモリセル
当りの蓄積容量は減少傾向をたどっており、十分な信号
量を確保することが難しくなってきている。また、例え
ば、半導体多値記憶装置く特開昭60−13398や特
願昭58−242021に記載)のように蓄積電荷を分
割して読み出し、書込みを行い、1つのメモリセル当り
:3値以上の記憶T!積を行わしめるような超高集積の
メモリ装置においては、特に、小さな信号量を精度良く
検出することが要求されている。
However, as memories become more highly integrated, the storage capacity per memory cell tends to decrease, making it difficult to secure a sufficient signal amount. In addition, for example, as in a semiconductor multilevel memory device (described in Japanese Patent Laid-Open No. 60-13398 and Japanese Patent Application No. 58-242021), the accumulated charge is divided and read and written, and each memory cell has three or more values. Memories of T! In ultra-highly integrated memory devices that perform multiplication, it is particularly required to accurately detect small signal amounts.

このように、より高集積のダイナミックメモリ装置の実
現には、雑音量そのものを少なくする技術が必須となる
As described above, in order to realize a highly integrated dynamic memory device, a technique for reducing the amount of noise itself is essential.

本発明は、メモリセルアレーで発生する雑音、特に、デ
ータ線とプレート電極間の層間寄生容量に起因する容量
結合性の雑音を極めて小さくするメモリアレー構成を提
供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a memory array configuration that minimizes noise generated in a memory cell array, particularly capacitive coupling noise caused by interlayer parasitic capacitance between a data line and a plate electrode.

〔間頂点を解決するための手段〕[Means for solving intervening vertices]

上記問題点を解決するために、本発明では、データ線を
1つの主データ線と、それに従属する複数の副データ線
をもって構成し、読み出しや書き込みに伴う電位変化が
生じろデータ線を1つの主データ線と1つの副データ線
のみに限定した。また、副データ線を主データ線とプレ
ートの間に配置し、非選択の副データ線の電位を固定す
ることにより、主データ線とプレートの結合容量をほぼ
なくすことのできる構造(シールド構造)とした。
In order to solve the above problems, in the present invention, the data line is configured with one main data line and a plurality of subordinate data lines, and the data line is configured to have one main data line and a plurality of sub data lines subordinate to it. It is limited to only the main data line and one sub data line. In addition, by arranging the sub data line between the main data line and the plate and fixing the potential of the unselected sub data line, the structure (shield structure) can almost eliminate the coupling capacitance between the main data line and the plate. And so.

なお、データ線を小さく分割することによりダイナミッ
クメモリの高性能化を図る例は、(])インターナショ
ナル ソリッド ステートサーキツツ コンファレンス
(アイ・ニス・ニス・シー・シー)、ダイジェスト オ
ブ テクニカル ペーパーズ(1984年)第282頁
から第283頁(’ 84 TSSCCI)jgesシ
ofTechnical Paperq、 pp 28
2−283 )や、同じく (2)アイ・ニス・ニス・シー・シー、ダイジェスト 
オブ テクニカル ペーパーズ(1985年)第242
頁から第243頁(’ 85 ISSCCDigeSt
 of Technical Papers、 pp 
242−243)などに記されている。
An example of improving the performance of dynamic memory by dividing data lines into smaller pieces is given in (]) International Solid State Circuits Conference (I.N.S.C.C.), Digest of Technical Papers (1984). ) pages 282 to 283 ('84 TSSCCI) of Technical Paperq, pp 28
2-283) and also (2) I Nis Nis C C, Digest
of Technical Papers (1985) No. 242
From page 243 ('85 ISSCCDigeSt
of Technical Papers, pp.
242-243), etc.

(1)は、データ線を多分割し、データ線容量を低減す
ることにより、信号電圧の増大を図ったものであるが、
本発明のような雑音の低減構造はとられていない。した
がって、データ線間のカップリングや、データ線とワー
ド線のカップリングなどにより発生する雑音に対しては
大きな効果を有するものの、前記のようなプレート電位
の変動による雑音については、S/N比の向上を期待す
ることはできない。
In (1), the signal voltage is increased by dividing the data line into multiple parts and reducing the data line capacitance.
No noise reduction structure as in the present invention is adopted. Therefore, although it has a great effect on noise caused by coupling between data lines and coupling between data lines and word lines, it is difficult to suppress noise caused by fluctuations in plate potential as described above. cannot be expected to improve.

また、(2)はN)開放データ線構造を等価的に折り返
しデータa構造に変換し、低雑音化を図る、(ji)デ
ータ線容量の低減により、回路の高速化と低消費電力化
を図る、という2つの目的を有しているが、本発明で意
図するような容量結合性の雑音に関しては配慮されてお
らず、開放データ線構造特有の雑音からのがれることも
できない。
In addition, (2) is N) equivalently converting the open data line structure into a folded data a structure to reduce noise, and (ji) reducing the data line capacity to speed up the circuit and reduce power consumption. However, it does not take into consideration capacitively coupled noise as intended by the present invention, and it is not possible to escape from the noise peculiar to an open data line structure.

上述のように、これら2つの例におけるデータ線の分割
構造は、本発明とは構造上も、またその目ざすところも
異なるものであることは自明である。
As mentioned above, it is obvious that the data line division structure in these two examples is different from the present invention both in structure and in its aims.

〔作用〕[Effect]

上記構造によれば、データ線とプレートの間の結合容量
は、選択された副データ線とプレートの間でのみ発生す
る。したがって1、例えば、主データ線に従属する副デ
ータ線の本数(分割数)をnとすると、雑音の発生量を
17 nに低減することができる。
According to the above structure, the coupling capacitance between the data line and the plate occurs only between the selected sub-data line and the plate. Therefore, for example, if the number (number of divisions) of sub data lines subordinate to the main data line is n, the amount of noise generated can be reduced to 17n.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面を参照して、この発明の詳細な説明する。な
お、以下の実施例では、メモリセルにnチャネルのMI
S)−ランジスタを用いる場合につき説明するが、チャ
ネルがnであるかpであるか、また、ワードゲートがM
IS型であるか、その他の、例えば接合型であるかには
依存せず、ダイナミック型のメモリであれば全く同様に
適用できる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that in the following embodiments, an n-channel MI is used in the memory cell.
S) - The case where a transistor is used will be explained, but it does not matter whether the channel is n or p, and whether the word gate is M
It does not depend on whether it is an IS type or another type, such as a junction type, and can be applied in exactly the same way as long as it is a dynamic type memory.

(実施例1) 第1図は本発明の一実施例を示している。ここでは簡単
のために、複数に分割された副データ線のうち、2ブロ
ツクのみを代表して示している。
(Example 1) FIG. 1 shows an example of the present invention. For simplicity, only two blocks of the sub data lines divided into a plurality of lines are shown here as representatives.

また全メモリアレーの内、2つのデータ線対のみを代表
して示している。図中]はメモリセル、2と3は主デー
タ線の一対、2A、3Aと2B。
In addition, only two data line pairs of the entire memory array are shown as representatives. ] in the figure is a memory cell, 2 and 3 are a pair of main data lines 2A, 3A and 2B.

3Bはそれぞれ副データ線の対、4はワードゲートの開
閉を行うためのワード線、5A、5Bは副データ線と主
データ線の接続を制御する接続用スイッチ、7は非選択
のデータ線に固定電位を与えろために配された固定電位
配線、6A、6Bは副データ線と固定電位配線の接続を
制御する電位固定用スイッチ、8は信号電荷の検出と、
情報の書込みをつかさどる周辺回路をそれぞれ示してい
る。
3B is a pair of sub data lines, 4 is a word line for opening and closing the word gate, 5A and 5B are connection switches that control the connection between the sub data line and the main data line, and 7 is for an unselected data line. Fixed potential wiring arranged to give a fixed potential, 6A and 6B are potential fixing switches that control the connection between the sub data line and the fixed potential wiring, 8 is for detecting signal charges,
Peripheral circuits responsible for writing information are shown.

以下、本装置の動作を説明する。The operation of this device will be explained below.

いま、例えば、副データ線対2A、3Aが主データ線2
,3に接続される場合を考えると、スイッチ5Aと6B
が閉じられ、6Aと5Bが閉じられる。これにより主デ
ータ線に従属する副データ線2A、3Aのみが主データ
線2,3にそれぞれ接続され、その他の副データ線は固
定電位Vnに接続されろ。
Now, for example, the sub data line pair 2A, 3A is the main data line 2.
, 3, switches 5A and 6B
is closed, and 6A and 5B are closed. As a result, only the sub data lines 2A and 3A subordinate to the main data line are connected to the main data lines 2 and 3, respectively, and the other sub data lines are connected to the fixed potential Vn.

副データ線をn分割した場合、主データ線と同じ電位で
変化する副データ線は1つだけとなり、残りのn −1
本の副データ線の電位は固定されろ。
If the sub data line is divided into n parts, only one sub data line changes at the same potential as the main data line, and the remaining n -1
The potential of the book's sub data line should be fixed.

プレートと主に容量結合するのは副データ線であるため
、容量結合性の雑音を約1/nにすることができる。
Since it is the sub data line that is mainly capacitively coupled to the plate, the capacitively coupled noise can be reduced to about 1/n.

また、同時に、主データ線につながる電気的活性領域(
τ1+またはp十領域)の総面積も約1/Tlになる。
At the same time, the electrically active region (
The total area of the .tau.1+ or p.sup.1 region) is also approximately 1/Tl.

これにより、主データ線と基板間の容量も1. / n
に減らすことができ、データ線の電位変化による基板電
位の変づJ(雑音)も1 / nに減らすことができる
This reduces the capacitance between the main data line and the board to 1. / n
It is possible to reduce the change in substrate potential (J) (noise) due to a change in the potential of the data line to 1/n.

このように各種雑音の低減の他に、データ線容量の値C
Dも1/n近くまで減らせるため、データ線の充放電電
流を低減でき、メモリの動什マージンの向上、低消費電
力など諸特性の改善も期待できろ。
In addition to reducing various noises, the value of data line capacitance C
Since D can also be reduced to nearly 1/n, the charging and discharging current of the data line can be reduced, and improvements in various characteristics such as improved memory dynamic margin and lower power consumption can be expected.

さらには、高感度の信号検出機構として、電荷転送アン
プを用いたダイナミックメモリ装置(特願昭58−16
3216 、特願昭59−170417)に本発明を適
用することにより、信号電圧の増大と雑音の低減を同時
に図ることができる総合的なS / N比を飛躍的に増
大させることができる。
Furthermore, as a highly sensitive signal detection mechanism, a dynamic memory device using a charge transfer amplifier (Japanese Patent Application No. 58-16
By applying the present invention to No. 3216, Japanese Patent Application No. 59-170417), it is possible to dramatically increase the overall S/N ratio, which can increase the signal voltage and reduce noise at the same time.

また、固定電位Voの値としては、本例のようなnチャ
ネルのMTSトランジスタのメモリセルを用いる場合、
なるべく高い値にすることが望ましい。そうすることに
より非選択のワード線にスパイク雑音がのってワード・
ゲートが導通したときでも、蓄積情報が完全に消失する
ことを防ぐことができる。
Furthermore, when using an n-channel MTS transistor memory cell as in this example, the value of the fixed potential Vo is as follows:
It is desirable to set the value as high as possible. By doing so, spike noise is added to the unselected word lines and the word line
Even when the gate becomes conductive, the stored information can be prevented from being completely lost.

第5図は本発明の、より具体的な実施例を示す回路ブロ
ック図である。
FIG. 5 is a circuit block diagram showing a more specific embodiment of the present invention.

図中、50はメモリセルブロック、52はプレート電極
、53はブロック選択信号線、54は電位固定信号線、
55はインバータ、56は行アドレス選択回路、57は
ブロック選択回路をそれぞれ示qている。
In the figure, 50 is a memory cell block, 52 is a plate electrode, 53 is a block selection signal line, 54 is a potential fixing signal line,
55 is an inverter, 56 is a row address selection circuit, and 57 is a block selection circuit.

この例では、主データ線2,3と副データ線2A、3A
の間の接続用スイッチ5Aと、副データ線の電位固定用
スイッチ6Aとに、それぞれnチャネルのMTSトラン
ジスタを用いている。接続用スイッチ5Aは、行方向に
配されたブロック選択信号φSELで、また電位固定用
スイッチ6Aは、インバータ55によりつくられろφS
ELの反転信号7■πにより、それぞれ駆動されろ。こ
うすることにより、主データ線に従属する複数のブロッ
クのうち1つのブロックに印加されるφ3ELを選択状
S(ここではφg+=t、 = )−Iigh )にす
ることにより、選択ブロックの副データ線のみが主デー
タ線に接続され、他の非選択ブロックの副データ線には
固定電位Voが印加される。
In this example, main data lines 2, 3 and sub data lines 2A, 3A
An n-channel MTS transistor is used for the connection switch 5A between the terminals and the potential fixing switch 6A for the sub data line. The connection switch 5A is a block selection signal φSEL arranged in the row direction, and the potential fixing switch 6A is a block selection signal φS formed by an inverter 55.
Each is driven by the inverted signal 7■π of EL. By doing this, by setting φ3EL applied to one block among the plurality of blocks subordinate to the main data line to the selection state S (here, φg+=t, =)−Iigh, the sub data of the selected block is Only the line is connected to the main data line, and a fixed potential Vo is applied to the sub data lines of other non-selected blocks.

接続用スイッチや電位固定用スイッチは、ここに示した
ように1つの副データ線あたりに1個のMISトランジ
スタで構成でき、メモリセルアレ一部の面積の増大はほ
とんどなく、集積度の低下を招くおそれはない。また、
ブロック選択回路57としては、行アドレス選択回路に
、それと同様の行アドレスの上位の何ビットかの情報で
動作する回路を付加するだけでよく、周辺回路部の面積
が増大することもない。
The connection switch and potential fixing switch can be configured with one MIS transistor per sub-data line as shown here, and there is almost no increase in the area of a part of the memory cell array, which reduces the degree of integration. There is no risk of inviting it. Also,
As the block selection circuit 57, it is sufficient to simply add a circuit similar to the row address selection circuit that operates based on information on the upper bits of the row address, and the area of the peripheral circuit section does not increase.

このように、本発明によれば、従来のメモリセルアレー
と行アドレス選択回路にそれぞれ少しの付加回路を設け
るだけで、大きな雑音低減効果を期待することができる
As described above, according to the present invention, a large noise reduction effect can be expected by simply providing a small amount of additional circuitry to each of the conventional memory cell array and row address selection circuit.

なお、ここでは、接続用のスイッチと電位固定用のスイ
ッチとして、1つのnチャネルのMTSトランジスタを
用いた例を示したが、これの代りに、nチャネルとPチ
ャネルのMTSトランジスタを並列に接続した、いわゆ
るシー・モス(CMO3)スイッチを用いても同様に本
発明が適用できることは自明である。
Note that here we have shown an example in which one n-channel MTS transistor is used as the connection switch and the potential fixing switch, but instead of this, n-channel and P-channel MTS transistors may be connected in parallel. It is obvious that the present invention can be similarly applied even if a so-called Sea Moss (CMO3) switch is used.

第6図および第7図は本発明になるメモリの構造η1面
図および平面レイアウト図を示す図であって、第7図は
、メモリセル部の平面レイアウト図、第6図は第7図中
a−a’部の構造断面図である。
6 and 7 are diagrams showing the structure η of the present invention. It is a structural sectional view of the aa' part.

第7図中、48は副データ線を構成する第1の配線層、
49は主データ線を構成する第2の配線層である。
In FIG. 7, 48 is a first wiring layer constituting a sub data line;
Reference numeral 49 denotes a second wiring layer constituting the main data line.

また、第6図中、38は第1の配線層、39は第2の配
線層、37は配線層の眉間絶縁膜である。
Further, in FIG. 6, 38 is a first wiring layer, 39 is a second wiring layer, and 37 is an insulating film between the eyebrows of the wiring layer.

この例では、主データ線と副データ線とを、それぞれ別
の配線層で形成し、かつ主データ線が副データ線の一部
を覆うように平行配置している。
In this example, the main data line and the sub data line are formed in different wiring layers, and are arranged in parallel so that the main data line partially covers the sub data line.

こうすると、主データ線とプレートの間の重なり部分は
、第7図中70で示されるように非常に小さな面積とな
る。これにより、主データ線の電位が変化しても、副デ
ータ線のシールド効果によりプレートへの容量結合によ
る雑音を極めて小さなものにすることができる。
In this way, the area of overlap between the main data line and the plate becomes very small, as shown at 70 in FIG. Thereby, even if the potential of the main data line changes, noise due to capacitive coupling to the plate can be made extremely small due to the shielding effect of the sub data line.

なお、第1の配線層の輔をdx と第2の配線層の幅を
d2とすると、dz/dzの値が大きければ大きいほど
雑音低減効果が大きい。
Note that, assuming that the width of the first wiring layer is dx and the width of the second wiring layer is d2, the larger the value of dz/dz, the greater the noise reduction effect.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、超高集積のダイナミックメモリのセル
・アレーで発生する雑音を低減でき、動作安定性の優れ
たメモリ装置を提供することができる。
According to the present invention, noise generated in a cell array of an ultra-highly integrated dynamic memory can be reduced, and a memory device with excellent operational stability can be provided.

また、従来雑音の大きさのために高集積のRAMには不
適当とされてきた。開放データ線(オープンビットB)
構造に本発明を適用することにより、その雑音を大幅に
低減できる。これにより、開放データ線構造を有する超
高集積のデイナミツクメモリ装置を実現することができ
る。
Furthermore, it has conventionally been considered unsuitable for highly integrated RAMs due to the amount of noise. Open data line (open bit B)
By applying the present invention to the structure, the noise can be significantly reduced. This makes it possible to realize an ultra-highly integrated dynamic memory device having an open data line structure.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例のセル・アレー構成図、第2
図は従来のダイナミック・メモリのセル・アレー構成図
、第3図と第4I$1はその構造断面図と平面レイアウ
ト図、第5図は本発明のより具体的な実施例の回路ブロ
ック図、第6図と第7図は本発明の実施例の構造断面図
と平面レイアウト図である。 1・・・メモリセル、2,3・・・主データ線、2A。 3A、211.3Fl・・・副データ線、4・・・ワー
ド線、5A、5B・・・接続用スイッチ、6A、6T3
・・・電位固定用スイッチ、7・・・固定電位配線、8
・・・周辺回路、50・・・メモリセルブロック、52
・・・プレート、53・・・ブロック選択信号線、54
・・・電位固定信号線、55・・・インバータ、56・
・・行アドレス選択回路、57・・・ブロック選択回路
、58・・・層間寄生容量、30・・・半導体基板、3
1.35・・・絶縁体、3;3・・・第1のゲート、3
4・・・第2のゲート、38゜48・・・第1の配線層
、37・・・層間絶縁膜、:39゜49・・・第2の配
線層。 Z z  口 +    :’   !    ! Z1 メモリヒル 2’1.23  チーが泉2 24  ワードζtミ Z3  用り回y1 Z9 アL−ト ■ 5 図 ら 5θ メtソむルフ゛o1り 52  フ・L−ト 53 ブC1,y7sダ【勾りくイ自号y3.54 ’
[イカ11]定L3号隨 554レバ゛−7 56イテアに1人企才X固¥名、 57  ブOヮ71L)1回fる、 5g 眉間寄υ色量 ガ、49不2つU」
FIG. 1 is a cell array configuration diagram of one embodiment of the present invention, and FIG.
The figure is a cell array configuration diagram of a conventional dynamic memory, FIGS. 3 and 4I$1 are its structural sectional view and plan layout diagram, and FIG. 5 is a circuit block diagram of a more specific embodiment of the present invention. 6 and 7 are a structural sectional view and a plan layout diagram of an embodiment of the present invention. 1...Memory cell, 2, 3...Main data line, 2A. 3A, 211.3Fl...Sub data line, 4...Word line, 5A, 5B...Connection switch, 6A, 6T3
...Potential fixing switch, 7...Fixed potential wiring, 8
...Peripheral circuit, 50...Memory cell block, 52
...Plate, 53...Block selection signal line, 54
...Potential fixed signal line, 55...Inverter, 56.
. . . Row address selection circuit, 57 . . . Block selection circuit, 58 . . . Interlayer parasitic capacitance, 30 . . . Semiconductor substrate, 3
1.35... Insulator, 3; 3... First gate, 3
4... Second gate, 38° 48... First wiring layer, 37... Interlayer insulating film, : 39° 49... Second wiring layer. Z z mouth + :' ! ! Z1 Memory Hill 2'1.23 Chi Ga Izumi 2 24 Word ζt Mi Z3 Usage y1 Z9 Al-To ■ 5 Figure et al. Rikui own name y3.54'
[Squid 11] Constant L3 No. 554 Reva-7 56 Itea has one person with talent

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.半導体中の電荷キャリアを情報源として記憶する複
数個のセルから成るアレーと、各セルの位置を指定する
アドレス指定機構と、情報源となる電荷キャリアを伝送
する主データ線と、やはり、電荷キャリアを伝送するべ
く1つの主データ線に従属して複数個設けられ上記アド
レス指定機構により指定されたメモリセルが接続される
副データ線と、主データ線と副データ線とを接続する複
数個の第1の接続手段と、副データ線を第2の直流電位
に接続する複数個の第2の接続手段と、主データ線毎に
設けられた情報の書込み機構と読み出し機構とをそれぞ
れ少なくとも備えた半導体メモリにおいて、主データ線
に接続されている副データ線以外の複数の副データ線は
第1の直流電位に接続されることを特徴とする電荷蓄積
型半導体メモリ。
1. An array of cells that stores charge carriers in the semiconductor as a source of information, an addressing mechanism that specifies the location of each cell, a main data line that carries the source of charge carriers, and also a charge carrier. A plurality of sub data lines are provided subordinate to one main data line to transmit data, and a memory cell specified by the addressing mechanism is connected to the sub data line, and a plurality of sub data lines are provided to connect the main data line and the sub data line. At least a first connecting means, a plurality of second connecting means for connecting the sub data line to the second DC potential, and an information writing mechanism and a reading mechanism provided for each main data line. A charge storage type semiconductor memory, wherein a plurality of sub data lines other than the sub data line connected to the main data line are connected to a first DC potential.
2.特許請求の範囲第1項記載の半導体メモリにおいて
、副データ線が第1の配線層、主データ線が第2の配線
層で各々形成され、かつ、主データ線が副データ線の上
部に、その一部を覆うように平行配置されてなることを
特徴とする電荷蓄積型半導体メモリ。
2. In the semiconductor memory according to claim 1, the sub data line is formed in a first wiring layer, the main data line is formed in a second wiring layer, and the main data line is formed above the sub data line, A charge storage type semiconductor memory characterized by being arranged in parallel so as to cover a part of the semiconductor memory.
JP61140034A 1986-06-18 1986-06-18 Charge accumulating type semiconductor memory Pending JPS62298089A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5495440A (en) * 1993-01-19 1996-02-27 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device having hierarchical bit line structure

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