JPS62291510A - 距離測定装置 - Google Patents
距離測定装置Info
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- JPS62291510A JPS62291510A JP13676286A JP13676286A JPS62291510A JP S62291510 A JPS62291510 A JP S62291510A JP 13676286 A JP13676286 A JP 13676286A JP 13676286 A JP13676286 A JP 13676286A JP S62291510 A JPS62291510 A JP S62291510A
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Landscapes
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
- Focusing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
く技術分野〉
本発明は距離測定装置に関し、特にアクティブ方式によ
り対象物の任意の位置までの距離が測定出来、対象物の
3次元形状の測定等にも適用可能な距離測定装置に関す
る。
り対象物の任意の位置までの距離が測定出来、対象物の
3次元形状の測定等にも適用可能な距離測定装置に関す
る。
〈従来技術〉
従来より、画像センサなどを用いて距離情報や3次元形
状に関する情報を取得する方法として、光切断法(スリ
ット法)、ステレオ法などが知られている。
状に関する情報を取得する方法として、光切断法(スリ
ット法)、ステレオ法などが知られている。
光切断法は、対象物表面にスリット光を投射し、対象物
面上の投射線を投射方向と別の方向から観測し、対象物
の断面形状、距離などの情報を得るものである。この方
法では、撮像側は固定され、スリット投射方向を少しず
つ換えながた複数枚の画像をスリット1本ごとに撮像し
て3次元情報を取得する。
面上の投射線を投射方向と別の方向から観測し、対象物
の断面形状、距離などの情報を得るものである。この方
法では、撮像側は固定され、スリット投射方向を少しず
つ換えながた複数枚の画像をスリット1本ごとに撮像し
て3次元情報を取得する。
また、出願人が提案した特願昭59−44920号など
におけるステレオ法は、像倍率の等しい光学系と組み合
わされた2次元の撮像素子を所定基線長だけ離して配置
し、異なる方向からみた2次元画像を得、2枚の画情報
のずれから対象物の各位置の高さく撮像系までの距離)
を算出するものである。
におけるステレオ法は、像倍率の等しい光学系と組み合
わされた2次元の撮像素子を所定基線長だけ離して配置
し、異なる方向からみた2次元画像を得、2枚の画情報
のずれから対象物の各位置の高さく撮像系までの距離)
を算出するものである。
ところが、光切断法では、撮像時のスリット投射方向の
制御が面倒で、撮像に時間がかかる問題がある。また、
複数枚のスリット画像から3次元情報を得るため、処理
する情報量が多く、最終的な情報取得までに多大な時間
を要する欠点があった。
制御が面倒で、撮像に時間がかかる問題がある。また、
複数枚のスリット画像から3次元情報を得るため、処理
する情報量が多く、最終的な情報取得までに多大な時間
を要する欠点があった。
また、ステレオ法ではスリット走査などの制御は必要な
いが1、一般に従来方式はパッシブ方式であるため、対
象物表面が滑らかで、一様な輝度を有している場合には
2つの撮像素子で得られる像のコントラストが低下し、
2枚の画像の比較による距離測定が不可能になる問題が
ある。このような測定が不可能になってしまうケースは
像倍率が大きくなる近距離において出現頻度が多く、し
たがって、対象物の形状、色、サイズ、距離などが限定
されてしまうという欠点を有していた。
いが1、一般に従来方式はパッシブ方式であるため、対
象物表面が滑らかで、一様な輝度を有している場合には
2つの撮像素子で得られる像のコントラストが低下し、
2枚の画像の比較による距離測定が不可能になる問題が
ある。このような測定が不可能になってしまうケースは
像倍率が大きくなる近距離において出現頻度が多く、し
たがって、対象物の形状、色、サイズ、距離などが限定
されてしまうという欠点を有していた。
〈発明の概要〉
本発明の目的は、上記従来の問題点に鑑み、対象物の種
類によらず常に精度良い測定が出来、且つ比較的短時間
で対象物の任意の位置までの距離や対象物の3次元情報
を得ることが可能な距離測定装置を提供することにある
。
類によらず常に精度良い測定が出来、且つ比較的短時間
で対象物の任意の位置までの距離や対象物の3次元情報
を得ることが可能な距離測定装置を提供することにある
。
本発明の更なる目的は、上記目的を満足し、且つ測定範
囲が広い距離測定装置を提供することにある。
囲が広い距離測定装置を提供することにある。
上記目的を達成する為に、本発明に係る距離測定装置は
、光軸を平行に、かつ、基線距離隔てて配置された複数
の光学系と、前記の光学系の1つを通して複数のパター
ン光束を対象物に照射する光源手段と、対象物上の前記
パターン光束による像を前記と異なる光学系を通して受
像する画像センサとを設け、この画像センサにより検出
された前記対象物上のパターン光束による光像の位置か
ら、対象物の所定の位置までの距離を測定する装置であ
って、前記光源手段が光源と光源からの光を受けてパタ
ーン光束を形成する為の複数枚の透光部を備えたマスク
と光源からの光の少なくとも一部を反射しマスクに指向
する反射鏡と複数の透光部の夫々に所定の方向からの光
線のみを入射させる為に光源からの一部の光を遮光する
遮光部材とを有することを特徴としている。
、光軸を平行に、かつ、基線距離隔てて配置された複数
の光学系と、前記の光学系の1つを通して複数のパター
ン光束を対象物に照射する光源手段と、対象物上の前記
パターン光束による像を前記と異なる光学系を通して受
像する画像センサとを設け、この画像センサにより検出
された前記対象物上のパターン光束による光像の位置か
ら、対象物の所定の位置までの距離を測定する装置であ
って、前記光源手段が光源と光源からの光を受けてパタ
ーン光束を形成する為の複数枚の透光部を備えたマスク
と光源からの光の少なくとも一部を反射しマスクに指向
する反射鏡と複数の透光部の夫々に所定の方向からの光
線のみを入射させる為に光源からの一部の光を遮光する
遮光部材とを有することを特徴としている。
尚、本発明の更なる特徴は以下に示す実施例に記載され
ている。
ている。
〈実施例〉
第1図は本発明に係る距離測定装置の一実施例を示す光
学系概略図である。図中、1及び2は基線距離隔てて配
されたレンズで、互いの光軸は平行であり且つ又夫々の
レンズ1,2の物体側主平面は同一平面上に存している
。又、本実施例に於てはレンズ1,2は互いに焦点距離
が等しいものを使用している。3は光源で、比較的発光
部3′ が小さなものが好ましい。4はCCD等から成
る画像センサ、5は測距の対象物、6はパターン投射用
のマスクで遮光性部材に複数の透光部61,6□・・・
・・・65から成る開ロバターンが設けてあり、レンズ
1の焦点近傍に配置されている。又、7は反射鏡で光源
3からの光の一部を反射する。8の遮光部材で光源3か
らの光の一部を遮光する為にマスク6のほぼ中央部に設
置され、光源3からの直接の光と反射鏡7を介してマス
ク6に指向される光とが同一透光部6□。
学系概略図である。図中、1及び2は基線距離隔てて配
されたレンズで、互いの光軸は平行であり且つ又夫々の
レンズ1,2の物体側主平面は同一平面上に存している
。又、本実施例に於てはレンズ1,2は互いに焦点距離
が等しいものを使用している。3は光源で、比較的発光
部3′ が小さなものが好ましい。4はCCD等から成
る画像センサ、5は測距の対象物、6はパターン投射用
のマスクで遮光性部材に複数の透光部61,6□・・・
・・・65から成る開ロバターンが設けてあり、レンズ
1の焦点近傍に配置されている。又、7は反射鏡で光源
3からの光の一部を反射する。8の遮光部材で光源3か
らの光の一部を遮光する為にマスク6のほぼ中央部に設
置され、光源3からの直接の光と反射鏡7を介してマス
ク6に指向される光とが同一透光部6□。
6゜、63に入射しない様に構成している。
第2図はマスク6の開ロバターンの一例を示したもので
、前述したように、マスク6には細い長方形のスリット
状の透光部6I、6゜、63・・・・・が複数個配列さ
れている。図において、透光部6.。
、前述したように、マスク6には細い長方形のスリット
状の透光部6I、6゜、63・・・・・が複数個配列さ
れている。図において、透光部6.。
6□・・・・・nはその横方向の中心を細線AXで示す
ように、水平方向に疎、垂直方向に比較的密な配列パタ
ーンとなっており、結果として斜め方向に延びるスリッ
ト列を形成している。透光部63,6゜・・・・・・の
密度、配列は必要な測定精度、使用する画像センサの縦
横の解像力に応じて定めればよいので、上記のような構
成に限定されるものではなく、種々のパターンを使用可
能である。マスク6の透光部6□、62.・・・・・・
の水平方向の密度を第2図のように比較的低くしたのは
、後述のように対象物5の距離により画像センサ4上で
の光像の位置が水平方向に移動するため、検出を行なえ
る距離範囲を太き(とるためである。
ように、水平方向に疎、垂直方向に比較的密な配列パタ
ーンとなっており、結果として斜め方向に延びるスリッ
ト列を形成している。透光部63,6゜・・・・・・の
密度、配列は必要な測定精度、使用する画像センサの縦
横の解像力に応じて定めればよいので、上記のような構
成に限定されるものではなく、種々のパターンを使用可
能である。マスク6の透光部6□、62.・・・・・・
の水平方向の密度を第2図のように比較的低くしたのは
、後述のように対象物5の距離により画像センサ4上で
の光像の位置が水平方向に移動するため、検出を行なえ
る距離範囲を太き(とるためである。
第1図、第2図の構成において、光源3で照明され、透
光部61+65を通過した光束はレンズ1を通って、対
象物5の位置に応じてそれぞれ対象物5上の符号PI+
P2に示す位置に光像を結ぶ。そしてPI T P
Z上の光像はそれぞれレンズ2を通って画像センサ4
上の位置D I + D 2に光像を結ぶ。
光部61+65を通過した光束はレンズ1を通って、対
象物5の位置に応じてそれぞれ対象物5上の符号PI+
P2に示す位置に光像を結ぶ。そしてPI T P
Z上の光像はそれぞれレンズ2を通って画像センサ4
上の位置D I + D 2に光像を結ぶ。
ステレオ法の原理から分かるように、光像Dn (n=
1.2・・・・・・)の位置は反射点の距離、すなわち
対象物5の位置P 1 + P 2の距離により、レ
ンズ1、 2の配置方向に平行な直線上(基線方向)を
移動することになる。したがって、対象物5表面の測定
装置からの距離分布を光像Dn(n=1.2・・・・・
・)の水平方向の密度の分布として検出することが可能
となる。すなわち、画像センサ4の出力波形をコンピュ
ータシステムなどを用いた画像処理装置により観測する
ことにより対象物5の表面の光像位置(光束投射点)ま
での距離を3角測量の原理により容易に求めることがで
きる。
1.2・・・・・・)の位置は反射点の距離、すなわち
対象物5の位置P 1 + P 2の距離により、レ
ンズ1、 2の配置方向に平行な直線上(基線方向)を
移動することになる。したがって、対象物5表面の測定
装置からの距離分布を光像Dn(n=1.2・・・・・
・)の水平方向の密度の分布として検出することが可能
となる。すなわち、画像センサ4の出力波形をコンピュ
ータシステムなどを用いた画像処理装置により観測する
ことにより対象物5の表面の光像位置(光束投射点)ま
での距離を3角測量の原理により容易に求めることがで
きる。
さて、本実施例に於ては、測距可能な距離範囲を拡げる
為に、レンズ1.2の被写界深度を太き(するだけでな
く、対象物5に照射するパターン光束に工夫を施してい
る。即ち、第1図に於て、マスク6の透光部68,6□
+ 63+ 64+ e、は点光源と見なすことが出来
、通常の照明法によりマスク6の開ロバターンを照明す
る際、夫々の透゛光部61゜6□・・・・・・65から
出射した光は拡散し、レンズlの瞳全体を通過してレン
ズlを介して対象物5に指向される。この様な方法で対
象物5にパターン光束を照射すると、たとえレンズlに
被写界深度の大きいものを使用したとしても得られる測
距範囲には限界があり、画像センサ4上には開ロバター
ンの光像のぼけた像が結像されることになって、光像位
置の検出を困難にする。
為に、レンズ1.2の被写界深度を太き(するだけでな
く、対象物5に照射するパターン光束に工夫を施してい
る。即ち、第1図に於て、マスク6の透光部68,6□
+ 63+ 64+ e、は点光源と見なすことが出来
、通常の照明法によりマスク6の開ロバターンを照明す
る際、夫々の透゛光部61゜6□・・・・・・65から
出射した光は拡散し、レンズlの瞳全体を通過してレン
ズlを介して対象物5に指向される。この様な方法で対
象物5にパターン光束を照射すると、たとえレンズlに
被写界深度の大きいものを使用したとしても得られる測
距範囲には限界があり、画像センサ4上には開ロバター
ンの光像のぼけた像が結像されることになって、光像位
置の検出を困難にする。
しかしながら、本実施例では光源3をマスク6から離れ
た位置に配し、且つ遮光部材8をマスク6のほぼ中央に
配して遮光部材8の右側に存する透光部64.65は光
源3から直射光で照明し、遮光部材8の左側に存する遮
光部6m、6□、63は反射鏡7を介して照明して、左
側に存する透光部6□。
た位置に配し、且つ遮光部材8をマスク6のほぼ中央に
配して遮光部材8の右側に存する透光部64.65は光
源3から直射光で照明し、遮光部材8の左側に存する遮
光部6m、6□、63は反射鏡7を介して照明して、左
側に存する透光部6□。
6□、63には光源3からの直射光が入射せず、右側に
存する透光部64+615には反射鏡7からの光が入射
しない様に構成されており、マスク6の各透光部61,
6□* 63+ 64+ 65は一定の方向から入
射する光線のみが通過し、細い光ビームとしてレンズl
に入射して複数のパターン光束が対象物5に指向される
。本実施例では光源3の発光部3′ として比較的小さ
なものを用いており、直射光であっても反射鏡7で反射
された光であっても、その広がり角が小さく対象物5を
照射するパターン光束はマスク6を介して細い光ビーム
となり、対象物5までの距離が太き(変化しても画像セ
ンサ4上に投影されるマスク6の透光部61+62+・
・・・・・の光像のぼけは小さい。従って、光源手段に
簡便な工夫を施しただけで距離測定の範囲を大きく広げ
ることが出来た。
存する透光部64+615には反射鏡7からの光が入射
しない様に構成されており、マスク6の各透光部61,
6□* 63+ 64+ 65は一定の方向から入
射する光線のみが通過し、細い光ビームとしてレンズl
に入射して複数のパターン光束が対象物5に指向される
。本実施例では光源3の発光部3′ として比較的小さ
なものを用いており、直射光であっても反射鏡7で反射
された光であっても、その広がり角が小さく対象物5を
照射するパターン光束はマスク6を介して細い光ビーム
となり、対象物5までの距離が太き(変化しても画像セ
ンサ4上に投影されるマスク6の透光部61+62+・
・・・・・の光像のぼけは小さい。従って、光源手段に
簡便な工夫を施しただけで距離測定の範囲を大きく広げ
ることが出来た。
第3図は画像センサ4としてTVカメラ用の2次元CC
Dセンサを用いた場合の1本の走査線(第2図の細線A
Xに対応)の出力波形Oを示したものである。ここでは
図の左右方向を画像センサ4の水平方向の距離に対応さ
せである。上記から明らかなように、この走査線と同一
直線上にあるマスク板6の透光部6n (n=1.2・
・・・)に対応して出力値が極大値Mを示す。1つの透
光部6n (n=1゜2・・・・・・)に対応して出現
する出力波形の極大値の左右位置はその位置が限定され
ており、他の透光部による極大値出現範囲と分離されて
いるので、透光部6n (n=1.2・・・・・・)と
そこを通過した光束の画像センサ4への入射位置は容易
に対応づけることができる。したがって、従来のステレ
オ法におけるように近距離におけるコントラスト低下に
よる測定不能などの不都合を生じることなく、確実に対
象物5の任意の位置までの距離や3次元情報を取得する
ことができる。また、従来のステレオ方式と異なり、光
源を用いて照明を行なうアクティブ方式を採用している
ので、近距離の対象物の測定では光源の光量が小さくて
済む利点がある。
Dセンサを用いた場合の1本の走査線(第2図の細線A
Xに対応)の出力波形Oを示したものである。ここでは
図の左右方向を画像センサ4の水平方向の距離に対応さ
せである。上記から明らかなように、この走査線と同一
直線上にあるマスク板6の透光部6n (n=1.2・
・・・)に対応して出力値が極大値Mを示す。1つの透
光部6n (n=1゜2・・・・・・)に対応して出現
する出力波形の極大値の左右位置はその位置が限定され
ており、他の透光部による極大値出現範囲と分離されて
いるので、透光部6n (n=1.2・・・・・・)と
そこを通過した光束の画像センサ4への入射位置は容易
に対応づけることができる。したがって、従来のステレ
オ法におけるように近距離におけるコントラスト低下に
よる測定不能などの不都合を生じることなく、確実に対
象物5の任意の位置までの距離や3次元情報を取得する
ことができる。また、従来のステレオ方式と異なり、光
源を用いて照明を行なうアクティブ方式を採用している
ので、近距離の対象物の測定では光源の光量が小さくて
済む利点がある。
以上のようにして、対象物5表面の測定系から距離を2
次元の画像センサ4を介して測定することができる。以
上の構成によれば、光切断法のように機械的な走査を行
なう必要な(、対象物5全面の3次元情報を1回の画像
読み取りで抽出することができる。
次元の画像センサ4を介して測定することができる。以
上の構成によれば、光切断法のように機械的な走査を行
なう必要な(、対象物5全面の3次元情報を1回の画像
読み取りで抽出することができる。
また、後の画像処理も光像の左右方向の分布のみに関し
て行なえばよいので、簡単かつ高速な処理が可能である
。さらに、本実施例によれば、画像センサ4上の構造の
画像をそのまま2値化するなどしてCRTディスプレイ
や、ハードコピー装置に出力して視覚的な3次元表現を
行なうことができる。
て行なえばよいので、簡単かつ高速な処理が可能である
。さらに、本実施例によれば、画像センサ4上の構造の
画像をそのまま2値化するなどしてCRTディスプレイ
や、ハードコピー装置に出力して視覚的な3次元表現を
行なうことができる。
本実施例による距離測定方式もしくは3次元情報処理力
式は、いわば多数の触針を物体に押し付けて触針の基準
面からの突出量の変化により物体形状を知覚する方法を
光学的に非接触で行なうものであり、高速かつ正確な処
理が可能なため、実時間処理が必要とされるロボットな
どの視覚センサとして用いることが可能である。特に比
較的近距離に配置された対象物の形状、姿勢などを知覚
し、対象物の把握、回避などの動作を行なわせる場合に
有効である。
式は、いわば多数の触針を物体に押し付けて触針の基準
面からの突出量の変化により物体形状を知覚する方法を
光学的に非接触で行なうものであり、高速かつ正確な処
理が可能なため、実時間処理が必要とされるロボットな
どの視覚センサとして用いることが可能である。特に比
較的近距離に配置された対象物の形状、姿勢などを知覚
し、対象物の把握、回避などの動作を行なわせる場合に
有効である。
第4図は第1図に示す距離測定装置の光源手段の変形例
を示す図で、光源3の発光部3′ をレンズlの光軸の
延長線上に配し、2枚の反射鏡7,7′ を用いて光
源3からの光束をマスク6に指向しパターン光束を得る
ものである。本実施例の光源手段に於てもマスク6と光
源3との間に遮光部材8を配しており、マスク6の複数
の透光部には夫々反射鏡7゜7′ を反射・して所定の
方向より指向された単一の光線だけが入射する様に構成
され、マスク6を介して細い光ビームとなった複数のパ
ターン光束がレンズlの瞳に入射する。従って、第1図
に示した距離測定装置の光源手段として用いれば、前記
実施例同様の効果を得ることが可能である。
を示す図で、光源3の発光部3′ をレンズlの光軸の
延長線上に配し、2枚の反射鏡7,7′ を用いて光
源3からの光束をマスク6に指向しパターン光束を得る
ものである。本実施例の光源手段に於てもマスク6と光
源3との間に遮光部材8を配しており、マスク6の複数
の透光部には夫々反射鏡7゜7′ を反射・して所定の
方向より指向された単一の光線だけが入射する様に構成
され、マスク6を介して細い光ビームとなった複数のパ
ターン光束がレンズlの瞳に入射する。従って、第1図
に示した距離測定装置の光源手段として用いれば、前記
実施例同様の効果を得ることが可能である。
また、以上の説明では、簡略化のために、装置の主要部
のみを図示し、信号処理系や連間のための筐体等の図示
を省略したが、これらの部材は必要に応じて当業者にお
いて従来どおり適当なものを設ければよい。また光学系
は単レンズのみを図示したが、複数エレメントから成る
光学系、ミラーなどを含む光学系を用いることができる
。
のみを図示し、信号処理系や連間のための筐体等の図示
を省略したが、これらの部材は必要に応じて当業者にお
いて従来どおり適当なものを設ければよい。また光学系
は単レンズのみを図示したが、複数エレメントから成る
光学系、ミラーなどを含む光学系を用いることができる
。
更に、上記の各実施例では、2つの同一焦点距離の光学
系を用いる構成を示したが、必要に応じて異なる焦点距
離の光学系を3系統以上を用いることも考えられる。た
だし、諸収差のそろった同一焦点距離の同一の光学系を
用いるのが最も簡単である。
系を用いる構成を示したが、必要に応じて異なる焦点距
離の光学系を3系統以上を用いることも考えられる。た
だし、諸収差のそろった同一焦点距離の同一の光学系を
用いるのが最も簡単である。
又、以上説明した実施例に於ては、2次元に配列された
複数の透光部を有する開ロバターンの光像をCOD等の
2次元画像センサで検出して測定を行なう方法を示した
が、例えば、複数の透光部を一次元に所定間隔毎に配し
た開ロバターンを対象物に投射し、該開ロバターンの光
像を長手方向にセンサ列を有する画像センサで受像して
特定の方向に沿った対象物の形状を検知しても良い。
複数の透光部を有する開ロバターンの光像をCOD等の
2次元画像センサで検出して測定を行なう方法を示した
が、例えば、複数の透光部を一次元に所定間隔毎に配し
た開ロバターンを対象物に投射し、該開ロバターンの光
像を長手方向にセンサ列を有する画像センサで受像して
特定の方向に沿った対象物の形状を検知しても良い。
又、対象物からのパターン光束を受ける第2の光学系を
2つ以上とし、測距の視野を広げることも可能であり、
更に第2の光学系を所定の駆動装置を用いて平行移動さ
せることによっても測距の視野を広げることが可能であ
る。又、逆に複数のパターン光束を対象物に照射する第
1の光学系と光源手段とを所定の駆動装置を用いて平行
移動させても同様の機能を得ることが出来る。
2つ以上とし、測距の視野を広げることも可能であり、
更に第2の光学系を所定の駆動装置を用いて平行移動さ
せることによっても測距の視野を広げることが可能であ
る。又、逆に複数のパターン光束を対象物に照射する第
1の光学系と光源手段とを所定の駆動装置を用いて平行
移動させても同様の機能を得ることが出来る。
本発明によれば、対象物に照射されるパターン光束は出
来る限り広がり角が小さい細い光ビームであることが好
ましいがその限界は主として画像センサの感度に依存す
る為、使用可能なセンサの感度や光源出力、要求される
測定精度、仕様に併せて決定される。
来る限り広がり角が小さい細い光ビームであることが好
ましいがその限界は主として画像センサの感度に依存す
る為、使用可能なセンサの感度や光源出力、要求される
測定精度、仕様に併せて決定される。
又、光学系の倍率や基線長の長さ、即ち第1図の第1の
光学系を第2の光学系との間の距離、マスクの透光部の
ピッチ等は測定すべき測距範囲を考慮して決定すれば良
い。
光学系を第2の光学系との間の距離、マスクの透光部の
ピッチ等は測定すべき測距範囲を考慮して決定すれば良
い。
又、本発明で言う画像センサは、フォトダイオードやC
OD等に代表される全ての光電変換素子を含んでおり、
−次元アレイ、2次元アレイ等配列状態にも限定はない
。
OD等に代表される全ての光電変換素子を含んでおり、
−次元アレイ、2次元アレイ等配列状態にも限定はない
。
又、反射鏡としては上記実施例で示した平面境の他にも
、楕円鏡やコーナ↓ユーブ等の特殊形状に入射しない様
に所定の位置に遮光板等を設ける。
、楕円鏡やコーナ↓ユーブ等の特殊形状に入射しない様
に所定の位置に遮光板等を設ける。
〈発明の効果〉
以上、本発明に係る距離測定装置は、アクティブ方式を
採用することで対象物の種類や位置によらず短時間且つ
高精度の測距を達成し、又、マスクや微小発光源やミラ
ー等を用い対象物に照射せしめるパターン光束径を細い
光ビームとすることにより、広い測定範囲を備えたもの
である。
採用することで対象物の種類や位置によらず短時間且つ
高精度の測距を達成し、又、マスクや微小発光源やミラ
ー等を用い対象物に照射せしめるパターン光束径を細い
光ビームとすることにより、広い測定範囲を備えたもの
である。
更に、本発明によれば短時間且つ高精度で対象物からの
3次元情報を取得することが出来、ロボット等の視覚セ
ンサとして好適である。
3次元情報を取得することが出来、ロボット等の視覚セ
ンサとして好適である。
第1図は本発明に係る距離測定装置の一実施例を示す光
学系概略図。 第2図はマスクの開ロバターンの一例を示す図。 第3図は画像センサとしてCODを用いた際の1本の走
査線の出力波形を示す図。 第4図は本発明に係る距離測定装置に用いる光源手段の
他の例を示す図。
学系概略図。 第2図はマスクの開ロバターンの一例を示す図。 第3図は画像センサとしてCODを用いた際の1本の走
査線の出力波形を示す図。 第4図は本発明に係る距離測定装置に用いる光源手段の
他の例を示す図。
Claims (1)
- 光軸を平行に、かつ、基線距離隔てて配置された複数の
光学系、前記の光学系の1つを通して複数のパターン光
束を対象物に照射する光源手段と、対象物上の前記パタ
ーン光束による像を前記と異なる光学系を通して受像す
る画像センサとを設け、この画像センサにより検出され
た前記対象物上のパターン光束による光像の位置から、
対象物の所定の位置までの距離を測定する装置であって
、前記光源手段が光源と光源からの光を受けてパターン
光束を形成するマスクと光源からの光の少なくとも一部
を反射しマスクに指向する反射鏡とマスクの複数の透光
部の夫々に所定の方向からの光線のみを入射させる為に
光源からの一部の光を遮光する遮光部材とを有すること
を特徴とする距離測定装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13676286A JPS62291510A (ja) | 1986-06-11 | 1986-06-11 | 距離測定装置 |
FR868617220A FR2591329B1 (fr) | 1985-12-10 | 1986-12-09 | Appareil et procede de traitement d'informations tridimensionnelles |
DE19863642051 DE3642051A1 (de) | 1985-12-10 | 1986-12-09 | Verfahren zur dreidimensionalen informationsverarbeitung und vorrichtung zum erhalten einer dreidimensionalen information ueber ein objekt |
US07/289,456 US4867570A (en) | 1985-12-10 | 1988-12-22 | Three-dimensional information processing method and apparatus for obtaining three-dimensional information of object by projecting a plurality of pattern beams onto object |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13676286A JPS62291510A (ja) | 1986-06-11 | 1986-06-11 | 距離測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62291510A true JPS62291510A (ja) | 1987-12-18 |
Family
ID=15182911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13676286A Pending JPS62291510A (ja) | 1985-12-10 | 1986-06-11 | 距離測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62291510A (ja) |
-
1986
- 1986-06-11 JP JP13676286A patent/JPS62291510A/ja active Pending
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