JPS62288849A - Original plate for waterless lithographic printing plate - Google Patents
Original plate for waterless lithographic printing plateInfo
- Publication number
- JPS62288849A JPS62288849A JP2971187A JP2971187A JPS62288849A JP S62288849 A JPS62288849 A JP S62288849A JP 2971187 A JP2971187 A JP 2971187A JP 2971187 A JP2971187 A JP 2971187A JP S62288849 A JPS62288849 A JP S62288849A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicone rubber
- group
- rubber layer
- silane
- siloxane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 52
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims abstract description 57
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims abstract description 57
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 17
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 5
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 35
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 32
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract description 10
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 abstract description 5
- 238000006748 scratching Methods 0.000 abstract 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 69
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- -1 quinonediazide compound Chemical class 0.000 description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical group [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920003261 Durez Polymers 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 description 1
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N anhydrous guanidine Natural products NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 1
- RWYFURDDADFSHT-RBBHPAOJSA-N diane Chemical compound OC1=CC=C2[C@H]3CC[C@](C)([C@](CC4)(O)C#C)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1.C1=C(Cl)C2=CC(=O)[C@@H]3CC3[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@](C(C)=O)(OC(=O)C)[C@@]1(C)CC2 RWYFURDDADFSHT-RBBHPAOJSA-N 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
本発明は湿し水を用いずに印刷可能な水なし平版印刷用
の原板に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application 1] The present invention relates to an original plate for waterless planographic printing that can be printed without using dampening water.
[従来の技術1
シリコーンゴム層をインキ反発層として湿し水を用いず
に印刷可能な水なし平版が数多く提案されている。[Prior Art 1] Many waterless lithographic plates have been proposed that use a silicone rubber layer as an ink repellent layer and are capable of printing without using dampening water.
なかでも、基板、感光性層、シリコーンゴム層の順にし
て構成される水なし平版は、製版の容易さ、インキ反発
性が良好であるなどの特徴を有している。特に、持聞昭
55−110249に示されるJこうに、感光性層にキ
ノンジアジド化合物を含有する水なし平版印刷川原板は
、通常露光に対してネガ型として作用するものとして有
用なものである。Among these, waterless planographic plates, which are composed of a substrate, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer in this order, are characterized by ease of plate making and good ink repellency. In particular, a waterless lithographic printing Kawahara plate containing a quinonediazide compound in the photosensitive layer, as shown in Jiko No. 55-110249, is useful as a negative-type plate for normal exposure.
しかしながら、このような印刷用原板は感光性層とシリ
コーンゴム層との接着力が充分には1qにくく、その結
果、非画像部に傷がイ」きやすい、網点の画像再現性が
悪いなどの問題点を生じていた。However, in such printing plates, the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone rubber layer is less than 1q, and as a result, there are problems such as easy scratches in non-image areas and poor image reproducibility of halftone dots. It was causing problems.
[発明が解決しようとする問題点コ
感光性層とシリコーンゴム層との接着力を補完するもの
として以下のようなものが提案されている。特開昭57
−158169には、感光性層とシリコーンゴム層との
間に接着層を設けることが提案されている。また特開昭
55−110249 、特開昭49−73202にはシ
ランカップリング剤をシリコーンゴム層に添加すること
が提案されているが、(アミノアルキル) (アルコキ
シ)シラン以外、生母にして効果のあるものはない。ま
た特開昭58−60744には有はチタン化合物をシリ
コーンゴム層に添加することが提案されている。これら
(アミノアルキル)(アルコキシ)シラン、有機チタン
化合物などの添加は、原版の製造後、初期は接着力が高
いものの、経時的にゴム物性か低下していき、版面イン
キ洗浄などの操作によりシリコーンゴム層が傷つきやす
くなるという問題がめった。[Problems to be Solved by the Invention] The following have been proposed to supplement the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone rubber layer. Japanese Unexamined Patent Publication No. 1983
-158169 proposes providing an adhesive layer between the photosensitive layer and the silicone rubber layer. In addition, JP-A-55-110249 and JP-A-49-73202 propose adding a silane coupling agent to the silicone rubber layer, but other than (aminoalkyl) (alkoxy) silane, it is not effective as a raw material. There is nothing. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 58-60744 proposes adding a titanium compound to a silicone rubber layer. Additions of these (aminoalkyl)(alkoxy)silanes, organic titanium compounds, etc. have high adhesive strength initially after the original plate is manufactured, but the physical properties of the rubber deteriorate over time, and when operations such as plate ink cleaning are performed, silicone The problem was that the rubber layer was easily damaged.
本発明は、かかる従来技術の諸欠点に鑑み創案されたも
ので、接着付与性能の検討から、経時的に高い引掻き強
度を保持する水なし平版印刷用原板を得ることを目的と
したものである。The present invention was devised in view of the various shortcomings of the prior art, and the purpose of the present invention is to obtain a waterless lithographic printing original plate that maintains high scratch strength over time based on a study of adhesion imparting performance. .
[問題点を解決するための手段]
本発明は、基板、感光性層、シリコーンゴム層の順に積
層して構成される水なし平版印刷用原板において、シリ
コーンゴム層が下記(I>、(II>、(■)のうち少
なくとも一種類の化合物を含有して硬化して1qられる
シリコーンゴムを主成分とすることを特徴とする水なし
平版印刷川原板に関するものであり、特にシリコーンゴ
ム層の新しい接着イ」与剤に関1−るものである。[Means for Solving the Problems] The present invention provides a waterless lithographic printing original plate that is constructed by laminating a substrate, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer in this order, in which the silicone rubber layer has the following (I>, (II) >, (■) Contains at least one type of compound and cures to 1q silicone rubber as a main component. This relates to adhesion agents.
(I>ウレタン結合を有する炭化水素基、おJ:び加水
分解性基がケイ素原子に直結したシランもしくはシロキ
サン、
(II)尿素結合を有する炭化水素基、および加水分解
性基がケイ素原子に直結したシランもしくはシロキサン
、
(III)一般式(A)で示される一価の有機基、およ
び加水分解性基もしくは水酸基がケイ素原子に直結した
シランもしくはシロキサン、
式(A>
(式中、R1、R2、R3、R4は水素原子もしくは1
価の炭化水素基、R5は2価の炭化水素基)。(I> Hydrocarbon group having a urethane bond, J: Silane or siloxane with a hydrolyzable group directly bonded to a silicon atom, (II) Hydrocarbon group having a urea bond and a hydrolyzable group directly bonded to a silicon atom (III) A silane or siloxane in which a monovalent organic group represented by the general formula (A) and a hydrolyzable group or a hydroxyl group are directly bonded to a silicon atom, a silane or siloxane having the formula (A> (where R1, R2 , R3, R4 are hydrogen atoms or 1
R5 is a divalent hydrocarbon group).
本発明における基板は、特に限定されず、公知の水なし
平版印刷用原板で用いられているものであればいずれで
もよい。The substrate in the present invention is not particularly limited, and any substrate used in known waterless lithographic printing original plates may be used.
例えば、アルミ、鉄、亜鉛のような金属板、およびポリ
エステル、ポリアミド、ポリオレフィンなどの有償高分
子フィルム、あるいはこれらの複合体などがあげられる
。これらの基板上にハレーション防止などの目的でさら
にコーティングを施して基板とすることも可能である。Examples include metal plates such as aluminum, iron, and zinc, paid polymer films such as polyester, polyamide, and polyolefin, and composites thereof. It is also possible to further coat these substrates for purposes such as preventing halation.
本発明の感光性層としては公知の基板、感光性層、シリ
コーンゴム層がこの順に積層されて(j4成される水な
し平版印刷用原板に用いられる各種の感光性層が使用可
能である。感光性層において特に有効な成分としては、
(1)特開昭60−21050に示されるような、露光
により2足化しうる基(例えばシンナミリデン基)を有
するもの、
(2)特公昭5B−23150に示されるような、露光
により徂合しうる不飽和結合基(例えばアクリロキシ基
〉を有するもの、
(3)特開昭55−59466に示されるようなキノン
ジアジドもルを有するしの、
である。そのうちでざらに有用なものはキノンジアジド
化合物を右1−るものである。As the photosensitive layer of the present invention, various photosensitive layers used in waterless lithographic printing original plates, which are formed by laminating a known substrate, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer in this order, can be used. Particularly effective components in the photosensitive layer include (1) those having a group that can be converted into two groups by exposure (for example, a cinnamylidene group) as shown in JP-A No. 60-21050; (2) JP-B No. 5B-23150; (3) Those having a quinonediazide group as shown in JP-A No. 55-59466. Among the most useful are the quinonediazide compounds.
キノンジアジド化合物としては、例えば通常ポジ型PS
版、ワイボン版、フ、tl−レジメ1〜などに用いられ
ているキノンジアジド類をさず。具体的な化合物として
は、たとえばベンゾキノン−1,2−ジアジド−4−ま
たは5−スルホン酸とポリヒドロキシフェニルとのエス
テル、ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−または−
5−スルホン酸とピロガロールアセトン樹脂とのエステ
ル、デフ1〜キノンー1,2−ジアジド−4−または−
5−スルホン酸とフェノールホルムアルデヒドノボラッ
ク樹脂とのエステル、ナフトキノン−1,2−ジアジド
−4−または−5−スルホン酸とポリヒドロキシスチレ
ンとのエステル、持間昭56−80046で提案されて
いるようなキノンジアジド化合物と多官能化合物との反
応物などがあげられる。As the quinonediazide compound, for example, normally positive PS
The quinonediazides used in the printing plates, Waibon printing plates, Fu, TL-Regime 1~, etc. are not used. Specific compounds include, for example, esters of benzoquinone-1,2-diazide-4- or 5-sulfonic acid and polyhydroxyphenyl, naphthoquinone-1,2-diazide-4- or -
Esters of 5-sulfonic acid and pyrogallol acetone resin, def 1-quinone-1,2-diazide-4- or -
Esters of 5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolac resin, esters of naphthoquinone-1,2-diazide-4- or -5-sulfonic acid and polyhydroxystyrene, such as those proposed in Mochima 1980-80046. Examples include reaction products of quinonediazide compounds and polyfunctional compounds.
本発明にあけるキノンジアジド化合物として特に好まし
いものは、ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸とフ
ェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂もしくはポリ
ヒドロキシスチレンとの部分エステル化物である。また
感光性層中には本発明の効果を損わない範囲で塗膜形成
性の向上、基板との接着性向上、着色などの目的で種々
の成分を加えることも可能である。Particularly preferable quinonediazide compounds in the present invention are partially esterified products of naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolak resin or polyhydroxystyrene. It is also possible to add various components to the photosensitive layer for the purpose of improving coating film formation, improving adhesion to a substrate, coloring, etc., within a range that does not impair the effects of the present invention.
感光性層の厚さは0.1〜100ミクロン、より好まし
くは0.5〜30ミクロンが選ばれる。The thickness of the photosensitive layer is selected to be 0.1 to 100 microns, more preferably 0.5 to 30 microns.
薄すぎると感光性層中にピンホールが生じやすくなり、
一方厚すぎると経済的に不利であるので上記の範囲が好
ましい。If it is too thin, pinholes will easily form in the photosensitive layer.
On the other hand, if it is too thick, it is economically disadvantageous, so the above range is preferable.
本発明で用いられるシリコーンゴム層は、次式のような
繰り返し単位を有するオルガノポリシロキサンを架橋し
得られたシリコーンゴムを主成分とするものである。The silicone rubber layer used in the present invention is mainly composed of silicone rubber obtained by crosslinking organopolysiloxane having repeating units as shown in the following formula.
ここでnは2以上の整数、R6、R7は水素原子もしく
は非置換もしくは置換(例えばハロゲン原子、シアノ基
、アミノ基による)の炭素数1〜10の炭化水素基、ざ
らにこの炭化水素基として望ましくは、アルキル基、ア
ルケニル基、フェニル基でおり、とくにR6、R7の総
和の60%以上がメチル基であることが望ましい。Here, n is an integer of 2 or more, and R6 and R7 are hydrogen atoms or unsubstituted or substituted (e.g., halogen atoms, cyano groups, amino groups) hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms; Desirably, it is an alkyl group, an alkenyl group, or a phenyl group, and it is particularly desirable that 60% or more of the sum of R6 and R7 is a methyl group.
本発明の構成として、オルガノポリシロキサンからシリ
コーンゴムとする架橋方法としては、版面上で、−分子
中に二個以上のシラノール基を有するオルガノポリシロ
キサンと、加水分解性基(例えばアシルオキシ基、アル
コキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミノオキシ
基、ハロゲン原子)がケイ素原子に二個以上(さらに望
ましくは三個以上)結合したシランもしくはシロキサン
とを縮合反応させるものである。この場合オルガノポリ
シロキサンのシラノール基数と加水分解性基数とをほぼ
同じにすることによって架橋することも、また加水分解
性基数を過剰な状態として、加水分解縮合させて架橋す
ること=し可能である。As a structure of the present invention, the crosslinking method for producing a silicone rubber from an organopolysiloxane is as follows. A condensation reaction is carried out with a silane or siloxane in which two or more (more preferably three or more) groups (such as silane, ketoximate group, amino group, aminooxy group, or halogen atom) are bonded to a silicon atom. In this case, it is possible to crosslink by making the number of silanol groups and the number of hydrolyzable groups in the organopolysiloxane almost the same, or by setting the number of hydrolyzable groups in excess and performing hydrolytic condensation to effect crosslinking. .
このシリコーンゴムの硬化前の組成として望ましいもの
としては、
(イ〉 平均して1.5個以上のシラノール基を有する
オルガノポリシロキサン 100重母重重口) 加水
分解性基を有する架橋剤
0.5〜20手ω部
であり、その他に塗膜「用溶媒、補強用充填剤、硬化用
触媒、公知の接着イq!:5剤を添加することも可能で
ある。The desirable composition of this silicone rubber before curing is as follows: (a) Organopolysiloxane having an average of 1.5 or more silanol groups, 100% by mass) A crosslinking agent having a hydrolyzable group: 0.5% ~20 hand ω parts, and it is also possible to add a coating film solvent, a reinforcing filler, a curing catalyst, and a known adhesive agent.
本発明の特徴である接着付与性能を持つ化合物(I)、
(II>、(DI)の詳細な説明を以下に行なう。これ
らのウレタン結合を有する炭化水素基、尿素結合を有す
る炭化水素基、式(A)で示される有機基は水なし平版
印刷用原板の接着性能を持たけるものとして新規なもの
である。Compound (I) having adhesion imparting performance, which is a feature of the present invention,
A detailed explanation of (II> and (DI)) is provided below.These hydrocarbon groups having a urethane bond, hydrocarbon groups having a urea bond, and organic groups represented by the formula (A) are used as a waterless lithographic printing original plate. This is a new product that has the adhesive performance of
(i>ウレタン結合を有する炭化水素基、おにび加水分
解性基がケイ素原子に結合したシランもしくはシロキサ
ン。(i> Hydrocarbon group having a urethane bond, silane or siloxane in which a hydrolyzable group is bonded to a silicon atom.
ここで加水分解性基としては前述のものが例示されるが
、合成の容易さから、望ましくは炭素数1〜10の置換
もしくは非置換の炭化水素基のアルコキシ基、さらに望
ましくは炭素数1〜6のアルキルオキシ基もしくはアル
ケニルオキシ基である。Here, the hydrolyzable group is exemplified by the above-mentioned groups, but from the viewpoint of ease of synthesis, an alkoxy group of a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and more preferably an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. 6, an alkyloxy group or an alkenyloxy group.
またここでいう「ウレタン結合を右する炭化水素基は、
一般式
(式中R8は炭素数1〜40の置換もしくは非置換の1
価の炭化水素基、ただし、O,N、Sなどのへテロ原子
を含んでいてもよい。式中 R9は炭素数2〜10の置
換もしくは非置換の2価炭化水素基、望ましくは炭素数
2〜5の置換もしくは非置換のアルキレン基)
で示される1価の基、もしくは一般式
(式中 R10、R11はR9と同様に定義され、Rは
2価の炭化水素基、望ましくは炭素数2〜40の置換も
しくは非買換の炭化水素基、ただし、0、へ、Sなどの
へテロ原子を含んでいてもよい)で示される2価の塁が
例示される。これらの基のうちで合成の容易さから(B
)、(E)の構造を有するものが有効である。Also, the hydrocarbon group that forms the urethane bond is
General formula (in the formula, R8 is a substituted or unsubstituted 1 having 1 to 40 carbon atoms)
a valent hydrocarbon group, which may contain heteroatoms such as O, N, S, etc. In the formula, R9 is a monovalent group represented by a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, preferably a substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, or a monovalent group represented by the general formula (formula R10 and R11 are defined in the same way as R9, and R is a divalent hydrocarbon group, preferably a substituted or non-replaceable hydrocarbon group having 2 to 40 carbon atoms, provided that heterogeneous groups such as 0, A divalent base (which may contain an atom) is exemplified. Among these groups, (B
), (E) are effective.
化合物(I)の一般的な構造式としては、以下のもの、
もしくはそれらの加水分解縮合物が1911示される。The general structural formula of compound (I) is as follows:
or their hydrolyzed condensates are shown in 1911.
(式中、R13はウレタン結合を有する1価の炭化水素
基、R18はウレタン結合を有する2価の炭化水素基、
R14、R16は水素原子もしくは炭素数1〜10の置
換もしくは非置換の1価の炭化水素基、R15、R17
は前述と同じに定義される加水分解性基、0は0以上3
以下の整数、m、nは1以上3以下の整数、2≦m+n
≦4の関係をもつ)。(In the formula, R13 is a monovalent hydrocarbon group having a urethane bond, R18 is a divalent hydrocarbon group having a urethane bond,
R14 and R16 are hydrogen atoms or substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, R15 and R17
is a hydrolyzable group defined as above, 0 is 0 or more and 3
The following integers, m and n are integers from 1 to 3, 2≦m+n
≦4).
かような化合物の具体的な例として以下のようなもの、
もしくはその加水分解縮合物があげられる。Specific examples of such compounds include the following:
Or its hydrolyzed condensate can be mentioned.
なお式中nは2以上の整数で、繰り返し構造を有するこ
とを意味する。In the formula, n is an integer of 2 or more, meaning that it has a repeating structure.
H
U+−+
:2日
+3′
+3
S)3 、
:2)−15>3 、
ii (0C2Hs ) 3 、
Si (OC2H5) 3 、
これらの合成の一例としては、(イソシアネートアルキ
ル〉 (アルコキシ)シランと、アルコール化合物もし
くはフェノール化合物とを、イソシアネート基と水酸基
とが同数となる条件で反応させ、ウレタン結合を生成さ
せることで得られる。H U+-+ :2 days +3' +3 S)3, :2)-15>3, ii (0C2Hs)3, Si(OC2H5)3, An example of their synthesis is (isocyanatoalkyl) (alkoxy)silane and an alcohol compound or a phenol compound under conditions such that the number of isocyanate groups and hydroxyl groups is the same to form a urethane bond.
(II)尿素結合を有する炭化水素基、および加水分解
性基がケイ素原子に直結したシランもしくはシロキサン
ここで加水分解性基としては、前述のものが例示される
が、合成の容易さから望ましくは炭素数1〜10の置換
もしくは非置換の炭化水素基のアルコキシ基、さらに望
ましくは炭素数1〜6のアルキルオキシ基もしくはアル
ケニルオキシ基である。(II) A hydrocarbon group having a urea bond, and a silane or siloxane in which a hydrolyzable group is directly bonded to a silicon atom Examples of the hydrolyzable group include those mentioned above, but preferred are An alkoxy group of a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyloxy group or alkenyloxy group having 1 to 6 carbon atoms.
またここで言う尿素結合を有する炭化水素基としては、
(式中R:L1は炭素数1〜40の置換もしくは非置換
の1価炭化水素基、R38は炭素数2〜40の置換もし
くは非置換の2価炭化水素基、ただし、R21、R38
は0.N、Sなどのへテロ原子を含んでいてもよい。R
22は炭素数2〜10の置換もしくは非置換の2価炭化
水素基、望ましくは炭素数2〜5の置換もしくは非置換
の2価炭化水素基である。R23、R24は水素原子も
しくは炭素数1〜40の置換もしくは非置換の1価炭化
水素基であり、ここでR23、R24のうち少なくとも
どちらかが水素原子であることが望ましい〉
で示される1価の基、もしくは一般式
(式中、R25、R26は上記R22と同様に定義され
る。R27、R2呉R29、R30,よ上δ己R23、
R24と同様に定義される。R27、R28のうち少な
くともどららかが水素原子であることが好ましく、また
R29、R30のうらどららかが水素原子であることが
好ましい。R31は2価の炭化水素基、望ましくは炭素
数2〜40の置換もしくは非置換の炭化水素基、ただし
、0、N、Sなどのへテロ原子を含んでいてもよい)
で示される2価の基が例示される。In addition, the hydrocarbon group having a urea bond mentioned here is as follows: divalent hydrocarbon group, provided that R21, R38
is 0. It may also contain heteroatoms such as N and S. R
22 is a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, preferably a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group having 2 to 5 carbon atoms. R23 and R24 are a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, and it is preferable that at least one of R23 and R24 is a hydrogen atom. or the general formula (wherein R25 and R26 are defined in the same manner as R22 above.
Defined similarly to R24. It is preferable that at least one of R27 and R28 is a hydrogen atom, and it is preferable that at least one of R29 and R30 is a hydrogen atom. R31 is a divalent hydrocarbon group, preferably a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 2 to 40 carbon atoms, but may contain a heteroatom such as 0, N, or S. The following groups are exemplified.
化合物(II>の一般的な構造式としては、以下のもの
、もしくはその加水分解縮合物が例示される。The general structural formula of compound (II>) is exemplified by the following or a hydrolyzed condensate thereof.
(式中、R32は尿素結合を有する1価の炭化水素基、
R37は尿素結合を有する2価の炭化水素基、R34、
R36は加水分解性基、R33、R35は水素原子もし
くは炭素数1〜10の置換もしくは非置換≦m+n≦4
の関係をもつ)。(In the formula, R32 is a monovalent hydrocarbon group having a urea bond,
R37 is a divalent hydrocarbon group having a urea bond, R34,
R36 is a hydrolyzable group, R33 and R35 are a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted group having 1 to 10 carbon atoms≦m+n≦4
).
かような化合物の具体的な例として以下のようなもの、
もしくはその加水分解縮合物があげられる。Specific examples of such compounds include the following:
Or its hydrolyzed condensate can be mentioned.
Hυ H
OCH3)s
Si (OC2H5) 3
(し田り)3≧1+シl″12す3N−(ニーN
へ−し−I I \ / II
HOCIIコC1120
(CHz+3Si (OCI(+> 3QCH3)3
+C)lコ+33i(OCt(s)3
0Hゴ)3
(CH2> 33i (OCH3> 3Cth)3
N−4Cll−3si(OCH+)3
1」
(式中nは2以上の整数で、繰り返し構造を有すること
を意味する)
これらの化合物を合成する方法としては、例えば(−級
もしくは二級のアミノアルキル) (アルコキシ)シラ
ンと1価もしくは2価のイソシアネート化合物とを反応
させるか、もしくは(イソシアネートアルキル)(アル
コキシ)シランと、−級もしくは二級のアミン基を一個
もしくは二個もつ化合物を反応させることにより得られ
る。Hυ H OCH3)s Si (OC2H5) 3 (Shidari)3≧1+Sil″12s3N-
He-shi-I I\ / II HOCIIkoC1120 (CHz+3Si (OCI(+>3QCH3)3 +C)lko+33i (OCt(s)3 0Hgo)3 (CH2> 33i (OCH3> 3Cth)3 N-4Cll -3si(OCH+)3 1'' (in the formula, n is an integer of 2 or more and means having a repeating structure) As a method for synthesizing these compounds, for example, (- or secondary aminoalkyl) ( It can be obtained by reacting an (isocyanatoalkyl)(alkoxy)silane with a monovalent or divalent isocyanate compound, or by reacting an (isocyanatoalkyl)(alkoxy)silane with a compound having one or two -grade or secondary amine groups. It will be done.
次に化合物(■)、すなわち一般式(A)で示される]
価の有機基、および加水分解性基もしくは水酸基がケイ
素原子に直結したシランもしくはシロキサンについて詳
細な説明を行なう。Next, the compound (■), that is, represented by the general formula (A)]
A detailed explanation will be given of silanes or siloxanes in which a valent organic group and a hydrolyzable group or a hydroxyl group are directly bonded to a silicon atom.
(式(A>中、R1、R2、R3、R4は水素原子もし
くは1価の炭化水素基であるが、望ましくは炭素数1〜
10の炭化水素基、ざらに望ましはメチル基、エチル基
、プロピル基、フェニル基である。(In the formula (A>, R1, R2, R3, and R4 are hydrogen atoms or monovalent hydrocarbon groups, but preferably have 1 to 1 carbon atoms.
10 hydrocarbon groups, most preferably methyl, ethyl, propyl, and phenyl groups.
R5は2価の炭化水素基であるが、望ましくは炭素数2
〜10の炭化水素基、さらに望ましくは、エチレン基、
トリメチレン基、テトラメチレン基である。R5 is a divalent hydrocarbon group, preferably having 2 carbon atoms.
~10 hydrocarbon groups, more preferably ethylene groups,
These are trimethylene group and tetramethylene group.
化合物(I[I)の一般的な構造式としては以下の構造
のものが例示される。The following structures are exemplified as general structural formulas of compound (I[I).
一般式
(式中R39は(A>の構造を有する有機基、R41は
前記と同じ加水分解性基であり、合成の容易さから望ま
しくは炭素数1〜10の置換もしくは非置換の炭化水素
基のアルコキシ基、さらに望ましくは炭素数1〜6のア
ルキルオキシ基もしくはアルケニルオキシ基である。R
40は水素原子もしくは炭素数1〜10の置換もしくは
非置換の炭化水素基、mは1以上3以下の整数、nは1
以上3以下の整数、2≦m+n≦4)で示されるシラン
もしくはその加水分解縮合物。General formula (wherein R39 is an organic group having the structure (A>), R41 is the same hydrolyzable group as above, and is preferably a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms for ease of synthesis. R is an alkoxy group, more preferably an alkyloxy group or alkenyloxy group having 1 to 6 carbon atoms.
40 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, m is an integer of 1 to 3, and n is 1
A silane or a hydrolyzed condensate thereof represented by an integer of 3 or less, 2≦m+n≦4.
また一般式
(式中、R39は(A)の@造を有する有機基、R42
、R44、R45、R46は水素原子もしくは炭素数1
〜10の置換もしくは非置換の1価の炭化水素基、より
望ましくはメチル基、エチル基、ビニル基、プロピル基
、ハロゲン化プロピル基、フェニル基、水素原子でおる
。R43は水酸基もしくは加水分解性基。R47、R4
8、R49、R50,R51、R52は(A)の構造を
有する有機基、もしくはR42、R43の定義と同じも
ののうち任意に選ばれる1価の塁。各構造単位はランダ
ムでもブロックでもよく、l、m、nは0以上の整数。In addition, the general formula (wherein R39 is an organic group having the @ structure of (A), R42
, R44, R45, R46 are hydrogen atoms or have 1 carbon number
-10 substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups, more preferably a methyl group, ethyl group, vinyl group, propyl group, halogenated propyl group, phenyl group, or hydrogen atom. R43 is a hydroxyl group or a hydrolyzable group. R47, R4
8, R49, R50, R51, and R52 are monovalent groups arbitrarily selected from organic groups having the structure of (A) or the same groups as defined for R42 and R43. Each structural unit may be random or block, and l, m, and n are integers of 0 or more.
ただし構造において水酸基もしくは加水分解性基を1個
以上有すること、また(A)の構造を有する有機基を1
個以上有することが必要である)。However, the structure must have one or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups, and one organic group having the structure (A) must be present.
(It is necessary to have at least 1)
(III)の化合物として具体的には以下のものが例示
される。Specific examples of the compound (III) include the following.
R39−3i (0C3H? > 3 。R39-3i (0C3H? > 3.
R39−3i (0C3Hs ) 3 。R39-3i (0C3Hs) 3.
(R39± 2 si+oc ト13>2゜(R39
±2Si+0C2t〜I5>3゜R39−Si+OCR
3) 2
CR2CR2CR2Cα。(R39± 2 si+oc t13>2゜(R39
±2Si+0C2t~I5>3゜R39-Si+OCR
3) 2CR2CR2CR2Cα.
R39−Si+OC2Hs ) 2 番 CR2CR2C1−12CD、 。R39-Si+OC2Hs) 2 number CR2CR2C1-12CD,.
(式中、R39は(A>の構造を有する布間基、ひ、m
、nは1以上の整数で、構造はランダムでもブロックで
もよい
ここでR39すなわち(A>の構造を有する有機基の具
体的な例としては、
これらのうち、チッ素原子に結合する基がメチル塁もし
くはエチル基であることか好ましい。(In the formula, R39 is a fumama group having the structure of (A>, h, m
, n is an integer of 1 or more, and the structure may be random or block. Specific examples of R39, that is, an organic group having the structure (A>), are as follows: Among these, the group bonding to the nitrogen atom is methyl. It is preferable that it is a base or an ethyl group.
この化合物(III)の合成方法としては、ハロゲン化
アルキル基がケイ素原子に結合した化合物と、活性水素
がチッ素原子に結合したグアニジン系化合物との脱塩酸
反応でjケることができる。その例として下式のような
反応がおる。Compound (III) can be synthesized by a dehydrochlorination reaction between a compound in which a halogenated alkyl group is bonded to a silicon atom and a guanidine compound in which an active hydrogen is bonded to a nitrogen atom. An example of this is the reaction shown below.
以上のような化合物をシリコーンゴムに含有させるには
、次の方法が例示される。The following method is exemplified for incorporating the above compounds into silicone rubber.
(1) 基板上に感光性層を塗布した後、本発明の特
徴である化合物(I>、(II)、(III)の少なく
とも一種を含有する組成物を塗布し、次いで未硬化のシ
リコーンゴム組成物を塗布して、硬化させてシリコーン
ゴム層とする方法。(1) After coating the photosensitive layer on the substrate, a composition containing at least one of the compounds (I>, (II), and (III), which is a feature of the present invention, is coated, and then uncured silicone rubber is coated. A method of applying a composition and curing it to form a silicone rubber layer.
(2) 基板上に感光性層を塗布した復、本発明の特
徴である化合物(I>、(II>、(I[l)の少なく
とも一種を含有する未硬化のシリコーンゴム組成物を塗
布して硬化させてシリコーンゴム層とする方法。(2) After coating the photosensitive layer on the substrate, an uncured silicone rubber composition containing at least one of the compounds (I>, (II>, and (I[l)) that is a feature of the present invention is applied. A method of curing to form a silicone rubber layer.
(1)の方法において、本発明の特徴である化合物を含
有する組成物の塗布厚みとしては、乾燥、硬化した状態
で、1分子膜あれば接着付与性能が十分得られるが、薄
すぎるとピンホールなどによりシリコーンゴム層が接着
しない部分が発生する問題があり、また厚すぎると現像
液の浸透を抑制する問題があるので、0.01ミクロン
から0.5ミクロン、より好ましくは0.05ミクロン
から0.2ミクロンであることが望ましい。ざらに、そ
の上に塗工するシリコーンゴム層の膜厚は任意であるが
、簿すぎると傷が入りやすい問題があり、厚すぎると現
像時シリコーンゴム層を剥離しにくく、画像再現性が悪
くなることから、厚みは0゜5ミクロンから10ミクロ
ンであることが望ましい。In the method (1), as for the coating thickness of the composition containing the compound which is a feature of the present invention, a monomolecular film in a dry and hardened state is enough to obtain adhesion imparting performance, but if it is too thin, it will cause problems. There is a problem of areas where the silicone rubber layer does not adhere due to holes etc., and if it is too thick, there is a problem of suppressing the penetration of the developer, so the thickness is 0.01 to 0.5 micron, more preferably 0.05 micron. It is desirable that the diameter is from 0.2 microns. In general, the thickness of the silicone rubber layer coated on top of the silicone rubber layer can be set arbitrarily, but if it is too thick, it will be prone to scratches, and if it is too thick, it will be difficult to peel off the silicone rubber layer during development, resulting in poor image reproducibility. Therefore, the thickness is preferably from 0.5 microns to 10 microns.
(1)の方法における本発明の特徴である化合物を含有
する組成において、以下のような物質を添加することも
有用である。例えば、塗工用溶媒、加水分解性基の縮合
反応を促進する触媒、公知の接着付与剤、オルガノポリ
シロキ督ナン、補強用充填剤、シリコーンff14n剤
などがあげられる。In the composition containing the compound that is a feature of the present invention in method (1), it is also useful to add the following substances. Examples include a coating solvent, a catalyst that promotes the condensation reaction of hydrolyzable groups, a known adhesion promoter, an organopolysiloxane, a reinforcing filler, and a silicone ff14n agent.
これらの組成物を感光性層上に塗工した際に、加熱して
溶剤を揮発させることが一般的であり、その際に不揮発
分を架橋させるか否かは任意である。When these compositions are applied onto a photosensitive layer, it is common to volatilize the solvent by heating, and it is optional whether or not to crosslink the nonvolatile components at that time.
(2)の方法において、未硬化のシリコーンゴム組成物
中において、本発明の特徴である化合物(I)、(■)
、(III)の添加量は任意であるが、望ましくは、前
述のウレタン結合を有する有機基、もしくは尿素結合を
有する有機基、もしくは(A)の構造を有する有la基
が、硬化後のシリコーンゴム層に対して、0.005〜
10重量%含有するようになる添加量とすること、ざら
に望ましくは0゜05〜5重量%であることが有効であ
る。なぜならば、少ない場合には接着力が不足する問題
があり、多い場合は不経済であるばかりでなくインキ反
発性の低下をまねくという問題があるからである。In the method (2), compounds (I), (■), which are the characteristics of the present invention, are added to the uncured silicone rubber composition.
, (III) can be added in an arbitrary amount, but desirably, the organic group having a urethane bond, the organic group having a urea bond, or the la group having the structure (A) is added to the silicone after curing. 0.005 to rubber layer
It is effective to set the addition amount to 10% by weight, more preferably 0.05 to 5% by weight. This is because when the amount is too small, there is a problem of insufficient adhesive strength, and when it is too large, there is a problem that it is not only uneconomical but also reduces the ink repellency.
(2)の方法において、シリコーンゴム層の膜厚は任意
であるが、前述と同じ理由から0.5ミクロンから10
ミクロンであることが望ましい。In method (2), the thickness of the silicone rubber layer can be set arbitrarily, but for the same reason as mentioned above, it is from 0.5 microns to 10 microns.
Preferably microns.
(1)、<2)の方法において、シリコーンゴムの硬化
後、化合物(I)、(n)、(I[I)は加水分解性基
が架橋点となって、オルガノポリシロキナンの架橋構造
中に反応して存在することになる。In methods (1) and <2), after the silicone rubber is cured, the hydrolyzable groups of compounds (I), (n), and (I[I) become crosslinking points to form a crosslinked structure of organopolysilokinane. It will react and exist inside.
本発明にもとづく水なし平版印刷用原板は例えば次のよ
うにして製造される。まず支持体の上に、リバースロー
ルコータ、エアナイフコータ、メーヤバーコータなどの
通常のコータ、あるいはホエラのような回転塗布装置を
用い感光性層を偶成すべき組成物溶液を塗布、乾燥およ
び必要に応じて熱キユア後、必要ならば該感光性層の上
に化合物(I>、(II>、(III)の少なくとも一
種を含有する組成物を塗布、乾燥後、その上にシリコー
ンゴムの硬化前組成物溶液を同様の方法で塗布し、通常
50″C以上の温度で数分間加熱処理して、十分に硬化
せしめてシリコーンゴム層を形成する。The waterless lithographic printing original plate according to the present invention is manufactured, for example, as follows. First, a composition solution to form a photosensitive layer is applied onto the support using a conventional coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, a Meyer bar coater, or a rotary coating device such as a Whaler, and then dried and coated as necessary. After heat curing, if necessary, a composition containing at least one of the compounds (I>, (II>, and III) is applied onto the photosensitive layer, and after drying, a silicone rubber is applied thereon before curing. The composition solution is applied in a similar manner and heat treated for several minutes, usually at a temperature of 50''C or higher, to fully cure and form a silicone rubber layer.
必要ならば、ポリエステル、ポリオレフィンの如きポリ
マーの保護フィルムを該シリコーンゴム層上にラミネー
タ等を用いてカバーする。If necessary, a protective film of a polymer such as polyester or polyolefin is covered over the silicone rubber layer using a laminator or the like.
このようにして製造された本発明の水なし平版印刷用原
板は、例えば真空密着されたネガフィルムもしくはポジ
フィルムを通して活性光線で露光される。この露光工程
で用いられる光源は、紫外線を豊富に発生するものであ
り、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタ
ルハライドランプ、タングステンランプ、蛍光灯などを
使うことができる。The waterless lithographic printing original plate of the present invention thus produced is exposed to actinic rays through, for example, a vacuum-adhesive negative film or positive film. The light source used in this exposure process is one that generates abundant ultraviolet light, and can be a mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp, a fluorescent lamp, or the like.
次いで版面を現aI液を含んだ現像用パッドでこすると
画像部の少なくともシリコーンゴム層が除去され、露出
した感光性層または基板の表面がインキ受容面となる印
刷版が得られる。The printing plate is then rubbed with a developing pad containing a developer al solution to remove at least the silicone rubber layer in the image area, yielding a printing plate in which the exposed surface of the photosensitive layer or substrate serves as an ink-receiving surface.
本発明において用いられる現像液としては、特開昭60
−28656に示された現像液A′)脂肪族炭化水素類
(ヘキサン、ヘプクン必るいはカッリン、灯油など)、
芳香族炭化水素類(トルエン、キシレンなど)あるいは
ハロゲン化炭化水素YI(t’リクレンなど)に下記の
極性溶媒または極性溶媒と水を°添加したものが好適で
ある。As the developer used in the present invention, JP-A-60
-Developer shown in 28656 A') Aliphatic hydrocarbons (hexane, hebukun, kallin, kerosene, etc.),
The following polar solvents or polar solvents and water added to aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.) or halogenated hydrocarbons YI (t'ricrene, etc.) are suitable.
アルコール類(メタノール、エタノールなど)エーテル
類(ジオキサンなど)
セロソルブ類(エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、
ブチルセロソルブなと)
カルピトール
ルピトール
エステル類(酢酸エチル、■デルセロソルブアセテート
、メチルセロソルブアセテートトールアセテートなど)
である。Alcohols (methanol, ethanol, etc.) Ethers (dioxane, etc.) Cellosolves (ethyl cellosolve, methyl cellosolve,
butyl cellosolve) carpitol lupitor esters (ethyl acetate, del cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate, tol acetate, etc.)
It is.
このようにして1すられた印刷版を、オフセット印刷別
に取り付け、湿し水を与えずに印刷すると優れた画像再
現性を有する印刷物を得る。When the printing plate smoothed in this manner is mounted separately for offset printing and printed without applying dampening water, a printed matter with excellent image reproducibility is obtained.
[実施例] 以下に実施例を示す。例中の部数は重量部である。[Example] Examples are shown below. Parts in the examples are parts by weight.
なお、本文中の引っ掻き強度試験方法は以下のとおりで
ある。すなわち連続加重式引掻き強度試験機(TYPE
−HE ICON−18>を用い、R=0.5mmのサ
ファイア針を60crn/分の速度で走査し、印刷版の
非画像部を、エッソ(株)製有機溶剤“アイソパーE
Hに浸漬した状態で、連続加重しながら傷をつける。傷
をつけた印刷版を、湿し水を使わない平台校正機で印刷
してインキ着肉性となる部分の加重を測定するものであ
る。In addition, the scratch strength test method in the text is as follows. In other words, continuous loading type scratch strength tester (TYPE
-HE ICON-18>, a sapphire needle with R = 0.5 mm was scanned at a speed of 60 crn/min, and the non-image area of the printing plate was treated with an organic solvent "Isopar E" manufactured by Esso Corporation.
While immersed in H, scratches are made while applying continuous load. The scratched printing plate is printed using a flatbed proofing machine that does not use dampening water, and the load on the areas where ink is receptive is measured.
傷によりインキ着肉性となるところの加重が大きい印刷
版はど、引掻き強度が優れていることを意味する。This means that a printing plate with a large load that causes ink adhesion due to scratches has excellent scratch strength.
表1には、実施した本発明の特徴である化合物の化学(
111造式が示しである。市販品、もしくは前)ホの方
法で合成した未反応物を減圧蒸溜によって除去したもの
を用いた。Table 1 shows the chemistry (
The 111 model is shown. A commercially available product or a product synthesized by the method of (e) above from which unreacted substances were removed by distillation under reduced pressure was used.
実施例1〜18、比較例1〜5
厚み0.24mmのアルミ板上に、住友デュレズ(株)
製フェノールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライ
1〜レジンPC−1>を1ミクロンの厚みに塗布し、2
0 0 ’C、3分間硬化さt!基板とした。Examples 1 to 18, Comparative Examples 1 to 5 Sumitomo Durez Co., Ltd. was placed on an aluminum plate with a thickness of 0.24 mm.
Coat phenol formaldehyde resol resin (Sumirai 1 to Resin PC-1) to a thickness of 1 micron,
Cure for 3 minutes at 0 0'C! It was used as a substrate.
この上に下記の組成のテトラヒドロフラン溶液を塗布し
、125°C、35秒間加熱処理して厚さ2ミクロンの
感光性層を設けた。A tetrahydrofuran solution having the following composition was applied thereon and heat treated at 125°C for 35 seconds to form a photosensitive layer with a thickness of 2 microns.
(1)数平均重合度5.6のフェノールホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂とナフトキノン−1。(1) Phenol formaldehyde novolak resin with a number average degree of polymerization of 5.6 and naphthoquinone-1.
2−ジアジド−5−スルホン酸クロリドとの部分エステ
ル化物(エステ化率49%)
100部
(2) 4.4−ジフェニルメタンジイアネー1〜30
部
(3)ジブチル錫ジアセテ−1〜 0.2部続C
ブでその上に下記の組成のシリコーンゴム絹酸物(溶媒
n−ヘプタン/メチルイソブチルケトン=85/15重
便比)を塗工し、120’Cで4分間乾燥、硬化さUた
。厚さ2ミクロン。Partial esterification product with 2-diazide-5-sulfonic acid chloride (esterification rate 49%) 100 parts (2) 4.4-diphenylmethane diane 1 to 30
Part (3) Dibutyltin diacetate-1 to 0.2 part C
A silicone rubber silicate having the following composition (solvent n-heptane/methyl isobutyl ketone = 85/15 weight ratio) was coated thereon with a vacuum cleaner, and dried and cured at 120'C for 4 minutes. 2 microns thick.
(1)α、ω−ジヒドロキシポリジメヂルシロキリーン
(数平均重合度20,000> 100部(2)
ビニルトリス(メチルエチルヶj−オキシム)シラン
10部(3)ジブチルスズ
ジアセテ−1−0,01部(4)表2に記載されている
添加物、添加♀ざらにその上に東しく株)r!Aポリプ
ロピレンフィルムを“トレファン″(厚さ10ミクロン
)をラミネートして、印刷用原版を作成した。(1) α,ω-dihydroxypolydimethylsiloxylene (number average degree of polymerization 20,000> 100 parts (2)
Vinyltris(methylethyl-oxime)silane
10 parts (3) Dibutyltin diacetate - 1-0.01 parts (4) Additives listed in Table 2, added ♀ Zara ni Toshishiku Co., Ltd.) r! A printing original plate was prepared by laminating the polypropylene film with "Trephan" (thickness: 10 microns).
iqられた印刷用原版に、ネガフィルムを真空密着し、
オーク製作所′@JUVメタ−rUV402AJにおけ
る照度11 mW/−で、右輪電気(株)製メタルハラ
イドランプ「アイドルフィン2000Jで60秒間露光
を行なった。次いでフィルムをはがしてn−へブタン/
エタノール(50150重迅比)からなる現像液を含む
現像パッドを用いて現像したところ、露光部のシリコー
ンゴムが除去されて感光性層が露出し、非露光部はシリ
コーンゴム層が残っている画像再現性良好な印刷版、も
しくは露光部、非露光部共にシリコーンゴム層が剥離し
てしまっている画像再現性の不良な印刷版が1qられた
。その画像再現性の結果は表2に示しである。実施例1
〜18と比較例1とを比較してみると、本発明の特徴で
ある化合物が接着付与性能を有しており、良好な画像再
現性を与えることがわかる。Negative film is vacuum-adhered to the iqed original printing plate,
Exposure was carried out for 60 seconds using a metal halide lamp "Idol Fin 2000J" manufactured by Uwa Denki Co., Ltd. at an illuminance of 11 mW/- in Oak Seisakusho'@JUV Meta-rUV402AJ.Then, the film was peeled off and n-hebutane/
When developed using a developing pad containing a developer made of ethanol (50150 weight/distance ratio), the silicone rubber in the exposed areas was removed and the photosensitive layer was exposed, while the silicone rubber layer remained in the non-exposed areas. A printing plate with good reproducibility or a printing plate with poor image reproducibility in which the silicone rubber layer had peeled off in both the exposed and non-exposed areas was prepared. The image reproducibility results are shown in Table 2. Example 1
Comparing Comparative Example 1 with Comparative Example 1, it can be seen that the compound, which is a feature of the present invention, has adhesive properties and provides good image reproducibility.
画像再現性が良好な印刷版をオフセット印刷機に取り付
け、東洋インキ(株)製氷なし平版用インキを用いて、
湿し水を使用せずに印刷したところ、優れた画像再現性
を有する印刷物が1qられた。A printing plate with good image reproducibility was attached to an offset printing machine, and using Toyo Ink Co., Ltd.'s iceless lithographic ink,
When printed without using dampening water, 1q of printed matter was obtained with excellent image reproducibility.
また画像再現性の良好な印刷版が得られた印刷用原板に
関して、原板の製作から室温で3日間、保存した印刷用
原板およびそれから30日間、40℃、70%RHの条
件で保存した印刷用原板から1qられる印刷版の引掻き
強度をそれぞれ測定した。その測定結果は表2に示しで
ある。以後、前者の条件のものは初期印刷版とし、後者
を保存印刷版と称する。Regarding printing plates from which printing plates with good image reproducibility were obtained, printing plates were stored at room temperature for 3 days after the production of the plate, and printing plates were stored at 40°C and 70% RH for 30 days thereafter. The scratch strength of each printing plate was measured by 1q from the original plate. The measurement results are shown in Table 2. Hereinafter, those meeting the former condition will be referred to as initial printing plates, and the latter will be referred to as archival printing plates.
表2から明らかなごとく、実施例1〜18の印刷版用原
板の引掻き強度は、保存後もほとんど変らないのに対し
、比較例2〜5の引掻き強度が保存によって低下しいる
ことがわかる。As is clear from Table 2, the scratch strengths of the printing plate blanks of Examples 1 to 18 hardly change after storage, whereas the scratch strengths of Comparative Examples 2 to 5 decrease with storage.
実施例19〜27、比較例6〜10
実施例1と同様の基板上に、実施例1と同様の感光性層
を52けた。Examples 19 to 27, Comparative Examples 6 to 10 On the same substrate as in Example 1, 52 digits of the same photosensitive layer as in Example 1 were formed.
次いで各側とも、表3に記載の化合物をn−ヘプタン/
メチルイソブチルケトン(85/15m最比)に溶解し
た組成物を塗布し、100’Cで2分間加熱して中間層
を設けた。各中間層の膜厚は表3に記載しておる。Then on each side, the compounds listed in Table 3 were added to n-heptane/
A composition dissolved in methyl isobutyl ketone (85/15 m maximum ratio) was applied and heated at 100'C for 2 minutes to form an intermediate layer. The thickness of each intermediate layer is listed in Table 3.
次に、該中間層上に次の組成を有するシリコーンゴム組
成物(n−へブタン溶液)を塗膜5し、120’Cで4
分間1ノ0然してシリコーンゴム1εjを設けた。Next, a silicone rubber composition (n-hebutane solution) having the following composition was coated 5 on the intermediate layer and heated at 120'C for 4
A silicone rubber 1εj was applied for 1 minute.
(1)α、ω−ジヒドロギシポリジメヂルシロキ1ノ゛
ン(数平均重合度20,000> 100部(2
)ビニル1〜リス(メチルエチルヶ1〜オキシム)シラ
ン 10部(3)ジブチル
スズジアセテート 0.01部さらにその上に実施例
1と同様に″トレファンパをラミネー1−t、て、印刷
用原板どした。(1) α,ω-dihydroxypolydimethylsiloxane 1 unit (number average degree of polymerization 20,000> 100 parts (2
) 10 parts of vinyl 1 to lith(1 to methyl ethyl to oxime) silane (3) 0.01 part of dibutyltin diacetate Further, in the same manner as in Example 1, "Trefampa" was laminated thereon to form a printing original plate.
得られた印刷用原板を実施例1と同様に画像露光し、現
像したところ、前述の実施例、比較例と同様に画像再現
性の良好な印刷版、もしくはシリコーンゴム層がすべて
剥離した印刷版が得られた。When the obtained printing original plate was imagewise exposed and developed in the same manner as in Example 1, a printing plate with good image reproducibility or a printing plate in which the silicone rubber layer was completely peeled off was obtained as in the above-mentioned Example and Comparative Example. was gotten.
その各側における画像再現性を表3に示しである。The image reproducibility on each side is shown in Table 3.
その結果から、実施例19〜271こ示される中間層を
構成する化合物は、比較例6と比較して接着付与性能を
持ち、優れた画像再現性を有する印1:す版を与えるこ
とがわかる。The results show that the compounds constituting the intermediate layer shown in Examples 19 to 271 have adhesion imparting performance compared to Comparative Example 6, and give a mark 1: plate with excellent image reproducibility. .
また得られた印刷版の引掻き強度を表3に示しであるが
、実施例19〜27が保存印刷版においても強度を保持
しているのに対して、比較例7〜10では保存印刷版に
おいて強度が低下してしまついる。The scratch strength of the obtained printing plates is shown in Table 3. Examples 19 to 27 maintain their strength even in archival printing plates, while Comparative Examples 7 to 10 maintain their strength in archival printing plates. The strength will decrease.
実施例28〜35、比較例11〜12
実施例1に示された基板上に、数平均重合度5゜6のフ
ェノールホルムアルデヒドノホラツク樹脂とナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸クロリドとの4
9%エステル化物のテ1〜ラヒドロフラン溶液を塗工し
、80’Cで1分間乾燥させて感光性層とした。厚さ2
ミクロン。Examples 28-35, Comparative Examples 11-12 On the substrate shown in Example 1, phenol formaldehyde noholac resin with a number average degree of polymerization of 5.6 and naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid chloride were added. 4
A solution of 9% esterified product in Te1-lahydrofuran was applied and dried at 80'C for 1 minute to form a photosensitive layer. thickness 2
micron.
該感光性層上に、表4に示された添加物を表示した添加
量だけ含有する実施例1と同様のシリコーンゴム組成物
を塗工し、120’Cで4分間加熱し、厚さ2ミクロン
のシリコーンゴム層を設けた。A silicone rubber composition similar to that of Example 1 containing the additives shown in Table 4 in the indicated amounts was coated on the photosensitive layer, heated at 120'C for 4 minutes, and a thickness of 2. A micron silicone rubber layer was provided.
次いで実施例1と同様に、“トレファンパをラミネート
して、印刷川原板を19だ。Next, in the same manner as in Example 1, trefampane was laminated and a printed Kawahara board was made.
iWられた印刷用原板を、実施例1と同様の条件で画像
露光した後、仝而に4秒間の露光を行なった。次に゛ト
レファン″を剥離して、40″Cのジエチレングリコー
ル/モノエタノールアミン(95/ 5 ff1ffi
比)に浸漬した後、ナイロンブラシを用いて水で現像し
、印刷版を得た。各個における印刷版の画像再現性を表
4に示しである。表中、画像再現性が良好とあるのは、
露光部はシリコーンゴム層および感光性層が除去されて
基板が露出し、インキ着肉性となっており、非露光部は
シリコーンゴム層が残存してる状態である。表中、画像
再現性が不良とあるのは露光部、非露光部共にシリコー
ンゴム層が剥離し、感光性層もしくは基板が露出してい
る状態である。The iW-treated printing original plate was subjected to image exposure under the same conditions as in Example 1, and then exposed for 4 seconds. Next, peel off the "Trephan" and add 40"C diethylene glycol/monoethanolamine (95/5 ff1ffi
After immersing it in a solution (ratio), it was developed with water using a nylon brush to obtain a printing plate. Table 4 shows the image reproducibility of each printing plate. In the table, “good image reproducibility” means:
In the exposed areas, the silicone rubber layer and the photosensitive layer are removed, exposing the substrate and making it receptive to ink, while in the non-exposed areas, the silicone rubber layer remains. In the table, image reproducibility is poor when the silicone rubber layer is peeled off in both exposed and non-exposed areas, exposing the photosensitive layer or substrate.
実施例28〜35と比較例11とを比較すると、各実施
例に示した化合物が接着付与性能を有しており、画像再
現性の良好な印刷版を与えることがわかる。A comparison of Examples 28 to 35 and Comparative Example 11 shows that the compounds shown in each Example have adhesion-imparting properties and provide printing plates with good image reproducibility.
また表4に示したように、保存印刷版は引掻き強度を初
期印面り版の引掻き強度と比較した場合、実施例28〜
35のものが比較例12よりも強度を保持していること
がわかる
実施例36〜40、比較例13.14
実施例28と同様の基板、感光性層上に、表5の各個に
示した化合物を含有するn−へブタン/メチルイソブチ
ルケトン(’85 / 15 %m比)を塗布して、1
00℃で1分間加熱して、中間層を設けた。中間層の厚
みはそれぞれ表5に示しである。In addition, as shown in Table 4, when the scratch strength of the archival printing plates was compared with that of the initial stamp plate, Examples 28-
Examples 36 to 40, Comparative Examples 13 and 14 It can be seen that those of Comparative Example 35 retain strength better than Comparative Example 12. Applying n-hebutane/methyl isobutyl ketone ('85/15% m ratio) containing the compound, 1
An intermediate layer was formed by heating at 00° C. for 1 minute. The thickness of each intermediate layer is shown in Table 5.
次に該中間層上に実施例]9と同様にシリコーンゴム層
を設けて、その上に“トレファン″をラミネートして印
刷用原板を得た。Next, a silicone rubber layer was provided on the intermediate layer in the same manner as in Example 9, and "TOREFAN" was laminated thereon to obtain a printing original plate.
得られた印刷用原板を、実施例28と同様に露光、現像
したとろ、画像再現性の良好な印刷版もしくはシリコー
ンゴム層がすべて剥離した画像再現性不良な版がjqら
れた。各個それぞれの結果を表5に示しである。When the obtained printing original plate was exposed and developed in the same manner as in Example 28, a printing plate with good image reproducibility or a plate with poor image reproducibility in which the silicone rubber layer was completely peeled off was obtained. The results for each are shown in Table 5.
実施例36〜40と比較例13とを比較すると各実施例
に示した化合物が接着付与性能を有しており、画像再現
性の良好な印刷版を与えることか:t)かる。Comparing Examples 36 to 40 and Comparative Example 13, it can be seen that the compounds shown in each Example have adhesion-imparting properties and provide printing plates with good image reproducibility: t).
また表5に示したように、保存印9:す版の引掻き強度
を初期印刷版の引掻き強度と比較した場合、実施例36
〜40のものか比較例14よりも強度保持性か著しく優
れていることがわかる。Further, as shown in Table 5, when the scratch strength of the preservation mark 9: plate was compared with the scratch strength of the initial printing plate, Example 36
It can be seen that the strength retention is significantly superior to that of Comparative Example 14.
(発明の効果)
本発明は上述のこと< ’IV定の化合物をシリコーン
ゴム層に含有させることにより、シリコーンゴム層と感
光性層の接着力を高める効果をもち、又従来から知られ
ていた接着付与性能を44する化合物に比べて、経時的
にも高い引掻き強度、すなわら高い版面強度を保持する
効果を有する。(Effects of the Invention) The present invention has the effect of increasing the adhesion between the silicone rubber layer and the photosensitive layer by incorporating the above-mentioned compound with an IV constant into the silicone rubber layer. It has the effect of maintaining high scratch strength over time, that is, high plate surface strength, compared to compounds with an adhesion imparting performance of 44.
表1−1 添加物の構造式と略記号C112
CH3−CH
(mは平均6)
表1−2
表1−3
6ト1゜
(ランダム共重合体、mは平均5、nは平均20)q
(比較例)
H2N(CH2)3si (OCH3)3r (比較例
)
トーμ・シリコーン製 ブライマーD
S (比較例)
(CH3CH2CH2CH20r*Ti表2
表3
表4
表5Table 1-1 Structural formula and abbreviation of additive C112 CH3-CH (m is average 6) Table 1-2 Table 1-3 6to1° (random copolymer, m is average 5, n is average 20) q
(Comparative example) H2N(CH2)3si (OCH3)3r (Comparative example) TOμ Silicone Braimer D S (Comparative example) (CH3CH2CH2CH20r*Ti Table 2 Table 3 Table 4 Table 5
Claims (1)
される水なし平版印刷用原板において、シリコーンゴム
層が下記( I )、(II)、(III)のうち少なくとも一
種類の化合物を含有して得られるシリコーンゴムを主成
分とすることを特徴とする水なし平版印刷用原板。 ( I )ウレタン結合を有する炭化水素基、および加水
分解性基がケイ素原子に直結したシランもしくはシロキ
サン、 (II)尿素結合を有する炭化水素基、および加水分解性
基がケイ素原子に直結したシランもしくはシロキサン、 (III)一般式(A)で示される一価の有機基、および
加水分解性基もしくは水酸基がケイ素原子に直結したシ
ランもしくはシロキサン、 式(A) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4は水素原子も
しくは1価の炭化水素基、R^5は2価の炭化水素基)
。[Scope of Claims] In a waterless lithographic original plate formed by laminating a substrate, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer in this order, the silicone rubber layer is at least one of the following (I), (II), and (III). A waterless lithographic printing original plate characterized in that its main component is a silicone rubber obtained by containing one type of compound. (I) A silane or siloxane in which a hydrocarbon group has a urethane bond and a hydrolyzable group is directly bonded to a silicon atom; (II) A silane or siloxane in which a hydrocarbon group has a urea bond and a hydrolyzable group is directly bonded to a silicon atom; Siloxane, (III) Monovalent organic group represented by general formula (A), and silane or siloxane in which a hydrolyzable group or hydroxyl group is directly bonded to a silicon atom, formula (A) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3, and R^4 are hydrogen atoms or monovalent hydrocarbon groups, and R^5 is a divalent hydrocarbon group)
.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61-29775 | 1986-02-13 | ||
JP2977586 | 1986-02-13 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62288849A true JPS62288849A (en) | 1987-12-15 |
JP2507386B2 JP2507386B2 (en) | 1996-06-12 |
Family
ID=12285397
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62029711A Expired - Lifetime JP2507386B2 (en) | 1986-02-13 | 1987-02-13 | Waterless lithographic printing plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2507386B2 (en) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03217463A (en) * | 1989-07-05 | 1991-09-25 | Basf Corp | Mica particle having modified surface, improved in dispersibility in aqueous medium |
GB2284818A (en) * | 1993-12-20 | 1995-06-21 | Gen Electric | Addition-curable silicone adhesive compositions |
GB2316946A (en) * | 1993-12-20 | 1998-03-11 | Gen Electric | Bis[(trialkoxy)silylalkylene]ureas as adhesion promoters |
EP1717240A1 (en) * | 2005-04-29 | 2006-11-02 | Sika Technology AG | Organoalkoxysilanes for use in moisture curable compositions |
US20100291487A1 (en) * | 2008-01-11 | 2010-11-18 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Silicon-containing resist underlayer film forming composition having urea group |
CN102329336A (en) * | 2010-06-02 | 2012-01-25 | 信越化学工业株式会社 | Ureido silane compound and room temperature curable organopolysiloxane composition |
JP2012056976A (en) * | 2010-09-03 | 2012-03-22 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | Moisture-curable resin composition |
JPWO2014104195A1 (en) * | 2012-12-28 | 2017-01-19 | 大阪有機化学工業株式会社 | Adhesion improver and silane compound |
CN109790324A (en) * | 2017-07-31 | 2019-05-21 | 株式会社Lg化学 | Modifying agent, preparation method and the modified conjugated diene quasi polymer comprising it |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4973202A (en) * | 1972-11-20 | 1974-07-15 | ||
JPS55110249A (en) * | 1979-02-19 | 1980-08-25 | Toray Ind Inc | Lithographic printing plate requiring no wetting water |
JPS6029609A (en) * | 1983-07-28 | 1985-02-15 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | Position detecting device of tunnel |
JPS6214156A (en) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Dry type photosensitive lithographic printing plate |
-
1987
- 1987-02-13 JP JP62029711A patent/JP2507386B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4973202A (en) * | 1972-11-20 | 1974-07-15 | ||
JPS55110249A (en) * | 1979-02-19 | 1980-08-25 | Toray Ind Inc | Lithographic printing plate requiring no wetting water |
JPS6029609A (en) * | 1983-07-28 | 1985-02-15 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | Position detecting device of tunnel |
JPS6214156A (en) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Dry type photosensitive lithographic printing plate |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03217463A (en) * | 1989-07-05 | 1991-09-25 | Basf Corp | Mica particle having modified surface, improved in dispersibility in aqueous medium |
GB2284818A (en) * | 1993-12-20 | 1995-06-21 | Gen Electric | Addition-curable silicone adhesive compositions |
GB2316946A (en) * | 1993-12-20 | 1998-03-11 | Gen Electric | Bis[(trialkoxy)silylalkylene]ureas as adhesion promoters |
GB2316946B (en) * | 1993-12-20 | 1998-05-20 | Gen Electric | Addition-curable silicone adhesive compositions |
GB2284818B (en) * | 1993-12-20 | 1998-05-20 | Gen Electric | Addition-curable silicone adhesive compositions |
EP1717240A1 (en) * | 2005-04-29 | 2006-11-02 | Sika Technology AG | Organoalkoxysilanes for use in moisture curable compositions |
US20100291487A1 (en) * | 2008-01-11 | 2010-11-18 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Silicon-containing resist underlayer film forming composition having urea group |
US9760006B2 (en) * | 2008-01-11 | 2017-09-12 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Silicon-containing resist underlayer film forming composition having urea group |
CN102329336A (en) * | 2010-06-02 | 2012-01-25 | 信越化学工业株式会社 | Ureido silane compound and room temperature curable organopolysiloxane composition |
JP2012056976A (en) * | 2010-09-03 | 2012-03-22 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | Moisture-curable resin composition |
JPWO2014104195A1 (en) * | 2012-12-28 | 2017-01-19 | 大阪有機化学工業株式会社 | Adhesion improver and silane compound |
CN109790324A (en) * | 2017-07-31 | 2019-05-21 | 株式会社Lg化学 | Modifying agent, preparation method and the modified conjugated diene quasi polymer comprising it |
EP3486279A4 (en) * | 2017-07-31 | 2019-11-06 | LG Chem, Ltd. | Modifier, method for preparing same, and modified conjugated diene-based polymer comprising same |
JP2020515675A (en) * | 2017-07-31 | 2020-05-28 | エルジー・ケム・リミテッド | Modifier, method for producing the same, and modified conjugated diene polymer containing the same |
US10913805B2 (en) | 2017-07-31 | 2021-02-09 | Lg Chem, Ltd. | Modifier, method for preparing the same, and modified conjugated diene-based polymer including the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2507386B2 (en) | 1996-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS62288849A (en) | Original plate for waterless lithographic printing plate | |
JPS62161154A (en) | Lithographic original plate with no dampening water | |
JPH0682213B2 (en) | Waterless planographic printing plate | |
JPH0565868B2 (en) | ||
JP2651687B2 (en) | Lithographic printing plate material that does not require dampening water | |
JPS63213849A (en) | Original plate for waterless planographic printing plate | |
JPH0882922A (en) | Original plate of waterless planographic printing plate | |
JPS6319866B2 (en) | ||
JP2507395B2 (en) | Waterless planographic printing plate | |
JPH0365539B2 (en) | ||
JPH04163195A (en) | Correction liquid for form plate of waterless lithographic printing | |
JPS5860744A (en) | Negative type lithographic plate requiring no dampening water | |
JPH0564790B2 (en) | ||
JPH0356626B2 (en) | ||
JPS59198460A (en) | Lithographic plate requiring no dampening water | |
JPS59135471A (en) | Lithographic printing plate requiring no dampening water | |
JPH0261730B2 (en) | ||
JPS62111254A (en) | Dry photosensitive lithographic plate | |
JPS61241759A (en) | Lithographic plate requiring no water | |
JPH07104598B2 (en) | Waterless planographic printing plate | |
JP2577616B2 (en) | Plate repair liquid for lithographic printing plates that does not require dampening water | |
JPS59148060A (en) | Lithographic plate requiring no damping water | |
JP2877054B2 (en) | Waterless lithographic printing plate | |
JP3414065B2 (en) | Waterless lithographic printing plate precursor | |
JPS62299854A (en) | Liquid for correcting lithographic printing plate requiring no dampening water |