JPS62286948A - ６−ヒドロキシ−２−ナフトンの製造法 - Google Patents
６−ヒドロキシ−２−ナフトンの製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
- C07C45/54—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition of compounds containing doubly bound oxygen atoms, e.g. esters
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明］
本発明は６−ヒドロキシ−２−アセトナフトン等の６−
ヒドロキシ−２−ナフトンの製造法に関する。
ヒドロキシ−２−ナフトンの製造法に関する。
（発明の背景）
６−ヒドロキシ−２−アセトナフトン（６，２−ＨＡ
Ｎ ）等の６−ヒドロキシ−２−ナフトンは多くの最終
用途を有する種々の製品用の中間体として知られている
。１９８５年６月１８日発行の米国特許第４．５２４．
２１７号には芳香族基が２，６−ナフチレンでありうる
ヒドロキシ芳香族ケトンをＮ−アシル−アシロキシ芳香
族アミン（これは異方性溶融木目を形成できて成形品、
繊維、フィルム等に成形するに適するポリ（エステル−
アミトンの製造に用いうる）の製造用中間体として用い
ることが開示されている。１９８４年７月２４日出願の
米国特許出願第０８７６３３．８３２号には、６．２−
ＨＡ Ｎ等のヒドロキシ芳香族ケトンを用いて６−アセ
トキシ−２−ナフトエ酸（６，２−ＡＮＡ）（これは成
形品製造に適する異方性溶融体になしうろポリマーをつ
くるために直接用いうろ）等の１セトキシ芳香族カルボ
ン酸を製造する方法が開示きれている。１９８４年１０
月１７日出願の米国特許出願第０６７６６１、５５２号
及び１９８５年１月７日出願の米国特許出願第０６７６
８９．５３３号には、８．２−ＨＡ Ｎ等のにドロキシ
芳香族ケトンを２，６−シヒドロキシナフタレン及びそ
れらのエステル及びエーテル等の芳香族ジオール（これ
らは重合モノマー、写真現像剤、重合禁止剤、染料中間
体及び抗酸化剤としての有用性を持っている）の製造用
中間体として用いる方法が開示されている。
Ｎ ）等の６−ヒドロキシ−２−ナフトンは多くの最終
用途を有する種々の製品用の中間体として知られている
。１９８５年６月１８日発行の米国特許第４．５２４．
２１７号には芳香族基が２，６−ナフチレンでありうる
ヒドロキシ芳香族ケトンをＮ−アシル−アシロキシ芳香
族アミン（これは異方性溶融木目を形成できて成形品、
繊維、フィルム等に成形するに適するポリ（エステル−
アミトンの製造に用いうる）の製造用中間体として用い
ることが開示されている。１９８４年７月２４日出願の
米国特許出願第０８７６３３．８３２号には、６．２−
ＨＡ Ｎ等のヒドロキシ芳香族ケトンを用いて６−アセ
トキシ−２−ナフトエ酸（６，２−ＡＮＡ）（これは成
形品製造に適する異方性溶融体になしうろポリマーをつ
くるために直接用いうろ）等の１セトキシ芳香族カルボ
ン酸を製造する方法が開示きれている。１９８４年１０
月１７日出願の米国特許出願第０６７６６１、５５２号
及び１９８５年１月７日出願の米国特許出願第０６７６
８９．５３３号には、８．２−ＨＡ Ｎ等のにドロキシ
芳香族ケトンを２，６−シヒドロキシナフタレン及びそ
れらのエステル及びエーテル等の芳香族ジオール（これ
らは重合モノマー、写真現像剤、重合禁止剤、染料中間
体及び抗酸化剤としての有用性を持っている）の製造用
中間体として用いる方法が開示されている。
ダベンポート及びリンスチットの米国特許第４．５９３
、１２５号には、２−ナフトール等の２〜置換ナフタレ
ンを触媒として無水フッ化水素を用いてアシル化して６
−とドロキシ−２−アセトナフトン等の６−置換−２−
ナフトンを製造する方法が開示されている。
、１２５号には、２−ナフトール等の２〜置換ナフタレ
ンを触媒として無水フッ化水素を用いてアシル化して６
−とドロキシ−２−アセトナフトン等の６−置換−２−
ナフトンを製造する方法が開示されている。
ルイスの米国特許第２．８３３．８２５号は、ベーター
ナフトール等のフェノール性化合物のヒドロキシアリー
ルアルキルケトンへの転位に触媒として無水フッ化水素
を用いる方法を開示している。この特許の実施例は高級
脂肪酸エステルの転位に限られておりその収率は５５〜
９５％の範囲である。
ナフトール等のフェノール性化合物のヒドロキシアリー
ルアルキルケトンへの転位に触媒として無水フッ化水素
を用いる方法を開示している。この特許の実施例は高級
脂肪酸エステルの転位に限られておりその収率は５５〜
９５％の範囲である。
シモンズ等はジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミ
カル・ソサエティ （１人Ｃ５） 、 ６２．４８５及
び４８８ （１９４０）で種々の転位反応用の縮合剤と
してのフッ化水素の使用を開示しており、その４８６頁
には酢酸フェニルの７リ一ス転位によるｐ−ヒドロキシ
アセトフェノンの製造が開示されている。
カル・ソサエティ （１人Ｃ５） 、 ６２．４８５及
び４８８ （１９４０）で種々の転位反応用の縮合剤と
してのフッ化水素の使用を開示しており、その４８６頁
には酢酸フェニルの７リ一ス転位によるｐ−ヒドロキシ
アセトフェノンの製造が開示されている。
アーランゲン大学の応用化学部門の一連の報告の１部に
含まれ、１９５４年１月７日に受は付けられＡｎ−ｎａ
ｌｅｎ ｄｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ ５８７ Ｂａｎｄ、
１〜１５頁で公告された学位論文でダン及びミリアス
はフッ化水素中で酢酸フェニルを転位して２４時間の反
応後に８１％の最高収率で４−ヒドロキシアセトフェノ
ンを得ている。彼らはまたケー・ウェイチャートがＡｎ
ｇｅ−＊ａｎｄｔｅ ＣｈｅｔａＩｅ ５Ｂ、 ３３８
（１９４３）でこの反応で９２％の収率を得たことを
報告しているが、収率の相違はウェイチャートが同伴す
る２−ヒドロキシアセトフェノンを無視したことが原因
の一つではないかということを示唆している。ダンとミ
リアスはまた酢酸ｍ−クレジル、酢酸ｐ−クレジル及び
酢酸グアヤコールのフッ化水素中での転位で幾分低い収
率でとドロキシ芳香族ケトンが得られることを報告して
いる。
含まれ、１９５４年１月７日に受は付けられＡｎ−ｎａ
ｌｅｎ ｄｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ ５８７ Ｂａｎｄ、
１〜１５頁で公告された学位論文でダン及びミリアス
はフッ化水素中で酢酸フェニルを転位して２４時間の反
応後に８１％の最高収率で４−ヒドロキシアセトフェノ
ンを得ている。彼らはまたケー・ウェイチャートがＡｎ
ｇｅ−＊ａｎｄｔｅ ＣｈｅｔａＩｅ ５Ｂ、 ３３８
（１９４３）でこの反応で９２％の収率を得たことを
報告しているが、収率の相違はウェイチャートが同伴す
る２−ヒドロキシアセトフェノンを無視したことが原因
の一つではないかということを示唆している。ダンとミ
リアスはまた酢酸ｍ−クレジル、酢酸ｐ−クレジル及び
酢酸グアヤコールのフッ化水素中での転位で幾分低い収
率でとドロキシ芳香族ケトンが得られることを報告して
いる。
１９７７年１０月２７日公開のミニ−ストールファーと
ニーデルプラムのドイツ特開２．６１８．９８６号には
、フッ化水素の存在下にフェノールと置換フェノールを
１シルクロリドでアシル化して高収率、高選択率で４−
アシル誘導体を製造する方法が開示されている。彼らは
２−ナフトールと７−クロロ−２−ナフトールが彼らの
方法でアシル化できろことを開示しているがナフトール
誘導体のアシル化法については何も示唆していずまたか
かるナフトール誘導体からどのような異性体が生成する
かも示唆していない。
ニーデルプラムのドイツ特開２．６１８．９８６号には
、フッ化水素の存在下にフェノールと置換フェノールを
１シルクロリドでアシル化して高収率、高選択率で４−
アシル誘導体を製造する方法が開示されている。彼らは
２−ナフトールと７−クロロ−２−ナフトールが彼らの
方法でアシル化できろことを開示しているがナフトール
誘導体のアシル化法については何も示唆していずまたか
かるナフトール誘導体からどのような異性体が生成する
かも示唆していない。
（発明の概要）
本発明によれば、触媒としてフッ化水素を用い、予期せ
ざる高転化率と６，２−異性体への高選択率をもって、
２−ナフチルカルボキシレートエステルの７リース（Ｆ
ｒｉｅｓ）転位により、６−ヒドロキシ−２−ナフトン
を得ることができろ。特に本発明方法は６．２−異性体
への高いレギオ選択率をもたらす。ここでレギオ選択率
は２−ナフチルカルボキシレートエステルの全ヒドロキ
シナフトン異性体への転化量に対する６、２−異性体へ
の転化量の比をモル％で示したものである。
ざる高転化率と６，２−異性体への高選択率をもって、
２−ナフチルカルボキシレートエステルの７リース（Ｆ
ｒｉｅｓ）転位により、６−ヒドロキシ−２−ナフトン
を得ることができろ。特に本発明方法は６．２−異性体
への高いレギオ選択率をもたらす。ここでレギオ選択率
は２−ナフチルカルボキシレートエステルの全ヒドロキ
シナフトン異性体への転化量に対する６、２−異性体へ
の転化量の比をモル％で示したものである。
触媒としてフッ化水素を用いる２−ナフチルカルボキシ
レートエステルのフリース転位にょる６−ヒドロキシ−
２−ナフトンの製造は次式に従って進行する： ここでＡｒとＡｒ’はそれぞれ２−ナフチルと２．６−
ナフチレンを示し、未置換体でも、１，３，４゜５．７
又は８位の少なくとも１の核水素が反応を妨害しない基
で置換されていてもよい。かがる置換基の例としては、
炭素原子１〜１８、好ましくは１〜４のアルギル、アル
ケニル、アルキニル、アルコキシ又はアルキルチオ、炭
素原子７〜１８、好ましくは７〜１ｏのアラルキル、ハ
ロゲン、たとえば塩素、臭素又１才沃素があり；旧よ、
たとえば炭素原子１〜１８、好ましくは１〜４の１価の
有機基である。Ｒの例としては炭素原子１〜１８、好ま
しくは１〜４のフルキル、アルケニル、アルキニル、ア
ルコキシアルキル、アシルアルキル又はアシロキシアル
キル（これらは未置換体でも塩素、臭素、沃素等のハロ
ゲンの如き置換基を有していてもよい）；又はフェニル
又は１−１又は２−ナフチルの如きアリール基（これら
は未置換体でも１又は２以上の核水素が、前記Ａｒ、Ａ
ｒ’でのべたと同様な炭素原子１〜１２をもつ適宜のｌ
ｌ置換基置換していてもよい）がある。最も好ましくは
、Ａｒが未置換２−ナフチルで、Ａｒ’が未置換２．６
−ナフチレンで、Ｒがメチルであり、この場合この方法
は酢酸２−ナフチルのフリース転位にょる６−ヒドロキ
シ−２−アセトナフトン （６，２−ＨＡＮ）の製造法
に相当し、次式に従って進行する：本発明により特異的
に高収率で６〜ヒドロキシ−２−ナフトンを得るには、
２−ナフチル又はＭ換２−ナフチルカルボキシレートエ
ステルを、２−ナフチルカルホキシレー５１モル当たり
少な（とも約２゜モル、好ましくは約２０〜６０モルの
フッ化水素と、好ましくは約Ｏ〜１００℃、より好まし
くは約５０〜７５℃で、好ましくは約３０分〜８時間、
より好ましくは約２〜４時間、接触させる必要がある。
レートエステルのフリース転位にょる６−ヒドロキシ−
２−ナフトンの製造は次式に従って進行する： ここでＡｒとＡｒ’はそれぞれ２−ナフチルと２．６−
ナフチレンを示し、未置換体でも、１，３，４゜５．７
又は８位の少なくとも１の核水素が反応を妨害しない基
で置換されていてもよい。かがる置換基の例としては、
炭素原子１〜１８、好ましくは１〜４のアルギル、アル
ケニル、アルキニル、アルコキシ又はアルキルチオ、炭
素原子７〜１８、好ましくは７〜１ｏのアラルキル、ハ
ロゲン、たとえば塩素、臭素又１才沃素があり；旧よ、
たとえば炭素原子１〜１８、好ましくは１〜４の１価の
有機基である。Ｒの例としては炭素原子１〜１８、好ま
しくは１〜４のフルキル、アルケニル、アルキニル、ア
ルコキシアルキル、アシルアルキル又はアシロキシアル
キル（これらは未置換体でも塩素、臭素、沃素等のハロ
ゲンの如き置換基を有していてもよい）；又はフェニル
又は１−１又は２−ナフチルの如きアリール基（これら
は未置換体でも１又は２以上の核水素が、前記Ａｒ、Ａ
ｒ’でのべたと同様な炭素原子１〜１２をもつ適宜のｌ
ｌ置換基置換していてもよい）がある。最も好ましくは
、Ａｒが未置換２−ナフチルで、Ａｒ’が未置換２．６
−ナフチレンで、Ｒがメチルであり、この場合この方法
は酢酸２−ナフチルのフリース転位にょる６−ヒドロキ
シ−２−アセトナフトン （６，２−ＨＡＮ）の製造法
に相当し、次式に従って進行する：本発明により特異的
に高収率で６〜ヒドロキシ−２−ナフトンを得るには、
２−ナフチル又はＭ換２−ナフチルカルボキシレートエ
ステルを、２−ナフチルカルホキシレー５１モル当たり
少な（とも約２゜モル、好ましくは約２０〜６０モルの
フッ化水素と、好ましくは約Ｏ〜１００℃、より好まし
くは約５０〜７５℃で、好ましくは約３０分〜８時間、
より好ましくは約２〜４時間、接触させる必要がある。
６．２−異性体へのレギオ選択率は、添加剤として、ア
ルカン酸（たとえば炭素原子１〜４を有する）又はかか
る酸の無水物を用いろことによって更に改善されうる。
ルカン酸（たとえば炭素原子１〜４を有する）又はかか
る酸の無水物を用いろことによって更に改善されうる。
添加剤を用いる場合には２−ナフチルカルボキシレート
のエステル化用酸と同じ酸、たとえば酢酸２−ナフチル
が出発物質である場合は酢酸又は無水酢酸、を用いろこ
とが好ましい。この添加剤は、２−ナフチルカルボキシ
レートエステルのモル当たりたと丸ば０１〜２０モル、
好ましくは０．７〜１３モル用いうる。
のエステル化用酸と同じ酸、たとえば酢酸２−ナフチル
が出発物質である場合は酢酸又は無水酢酸、を用いろこ
とが好ましい。この添加剤は、２−ナフチルカルボキシ
レートエステルのモル当たりたと丸ば０１〜２０モル、
好ましくは０．７〜１３モル用いうる。
反応は、２−ナフチルカルボキシレートエステルと、用
いろ場合には反応用添加剤（酢酸、無水酢酸等）と、フ
ッ化水素触媒とを耐食性反応器中で所望の反応温度で所
望の反応時間接触させることによって開始されろ。たと
えば２−ナフチルエステルと添加剤（用いる場合）とを
まず反応器に入れ、次いでフッ化水素を反応温度より低
い温度で加え、反応温度を所望の温度に調節し所望の時
間反応させる。フッ化水素は当業者に周知の取り扱い技
術に従って液状でもガス状でも加えうる。反応を行うに
際して（ま、窒素等の不活性ガスを用いて反応空間を所
望の圧力、約２５〜約５００ｐｓｉｇ （約０．１７５
〜約３５ｋｇ／ｅｉ）に保持し、ＨＦを反応液と十分接
触させろことが好ましい。
いろ場合には反応用添加剤（酢酸、無水酢酸等）と、フ
ッ化水素触媒とを耐食性反応器中で所望の反応温度で所
望の反応時間接触させることによって開始されろ。たと
えば２−ナフチルエステルと添加剤（用いる場合）とを
まず反応器に入れ、次いでフッ化水素を反応温度より低
い温度で加え、反応温度を所望の温度に調節し所望の時
間反応させる。フッ化水素は当業者に周知の取り扱い技
術に従って液状でもガス状でも加えうる。反応を行うに
際して（ま、窒素等の不活性ガスを用いて反応空間を所
望の圧力、約２５〜約５００ｐｓｉｇ （約０．１７５
〜約３５ｋｇ／ｅｉ）に保持し、ＨＦを反応液と十分接
触させろことが好ましい。
一般的にいって本発明方法により、２−ナフチルエステ
ル、たと丸ば酢酸２−ナフチル、の転化率が少なくとも
約９０％、好ましく：よ少なくとも約９５％、６−ヒド
ロキシ−２−ナフトン、たと又は６．２−ＨＡＮへの選
択率が少なくとも約４０％、好ましくは少なくとも約６
０％、６−ヒドロキシ−２−ナフトンへのレギオ選択率
が少なくとも約９０％、好ましくは少なくとも約９５％
の結果が得られろ。
ル、たと丸ば酢酸２−ナフチル、の転化率が少なくとも
約９０％、好ましく：よ少なくとも約９５％、６−ヒド
ロキシ−２−ナフトン、たと又は６．２−ＨＡＮへの選
択率が少なくとも約４０％、好ましくは少なくとも約６
０％、６−ヒドロキシ−２−ナフトンへのレギオ選択率
が少なくとも約９０％、好ましくは少なくとも約９５％
の結果が得られろ。
この方法は相対的に低いフッ化水素／ナフチルエステル
比と低い反応ｍｆを用いて相対的に高収率で６−ヒドロ
キシ−２−ナフトン、を二とえば６．２−ＨＡＮを生成
しうろ。その結果よりｍ済的な生成物の′ｔｅＩ！ｌ！
とフッ化水素のリサイクルと、低温使用に由来する省エ
ネルギーをもたらす。
比と低い反応ｍｆを用いて相対的に高収率で６−ヒドロ
キシ−２−ナフトン、を二とえば６．２−ＨＡＮを生成
しうろ。その結果よりｍ済的な生成物の′ｔｅＩ！ｌ！
とフッ化水素のリサイクルと、低温使用に由来する省エ
ネルギーをもたらす。
（実施態様の記載）
例１〜９
これらの例は本発明方法をさらに例証するものである。
各側では３００ ｃｃのへステロイＣオートクレーブに
所定量の酢酸２−ナフチルを入れた。例７．８及び９で
は、酢酸２−ナフチル１モル当たり１モルの無水酢酸を
酢酸２−ナフチルと共に用いた。
所定量の酢酸２−ナフチルを入れた。例７．８及び９で
は、酢酸２−ナフチル１モル当たり１モルの無水酢酸を
酢酸２−ナフチルと共に用いた。
オートクレーブを一５０℃に冷却し１５０鴫［［ｇに減
圧した。この圧力で温度が０℃をこえない速度で無水フ
ッ化水素がシリング−からオートクレーブに移行した。
圧した。この圧力で温度が０℃をこえない速度で無水フ
ッ化水素がシリング−からオートクレーブに移行した。
内容物を反応温度に加温し、予め定めた反応時間曵拌し
た。そ・の間約４０ｐｓｉ（の圧力に保たれた。実験の
終わりにフッ化水素を苛性スクラバーを通して除き、オ
ートクレーブの内容物を約３０ｇの氷上に注いだ。５０
％水酸化カリウム溶液を用いて混合物のｐＨを６５に調
節し、次に７５ｍ１の酢酸エチル（３ｘ）を用いて抽出
した。
た。そ・の間約４０ｐｓｉ（の圧力に保たれた。実験の
終わりにフッ化水素を苛性スクラバーを通して除き、オ
ートクレーブの内容物を約３０ｇの氷上に注いだ。５０
％水酸化カリウム溶液を用いて混合物のｐＨを６５に調
節し、次に７５ｍ１の酢酸エチル（３ｘ）を用いて抽出
した。
有機溶液を無水ＭｇＳＯ４上で乾燥し、濾過し、回転蒸
発器を用いて溶媒を除去して６−ヒドロキシ−２−ナフ
トンを得た。
発器を用いて溶媒を除去して６−ヒドロキシ−２−ナフ
トンを得た。
各側の反応条件と生成物の分析結果を表１に示す。表片
の略号は、温度（Ｔ）、反応時間（１）、酢酸２−ナフ
チル１モル当たりのＨＦのモル（ＨＦ）、酢酸２−ナフ
チルの全生成物への転化率（転化率）、酢酸２−ナフチ
ルの２−ナフトールへの転化率％（２−０１）、６−ヒ
ドロキシ−２−アセトナフトン（６，２−ＨＡＮ）、６
−アセドキンー２−アセトナフトン（６，２−ＡＡＮ）
、３−ヒドロキシ−２−アセトナフトン（３，２−ＨＡ
Ｎ）、２−ヒドロキシ−１−アセトナフトン（２，１−
ＨＡＮ）、及び他のヒドロキシアセトナフトン（ＨＡＮ
）、６．２−Ａ Ａ Ｎを含む６．２−ＨＡＮの収率（
６，２−ＨＡＮ収率）（これは酢酸２−ナフチル（モル
）の転化率を６．２−ＨＡ Ｎ＋６．２−Ａ Ａ Ｎ
（モル）の選択率をｔ卦けて得られろＧＣ又はＨＰＬＣ
収率である）、６．２−ＨＡＮへのレギオ選択率（８，
２−ＨＡ Ｎレギオ選）（これは生成したヒドロキシア
セトナフトンの全異性体のモル数の合計で生成した６、
２−ＨＡ Ｎのモル数を割り、１００を掛けることに
よって計算される）、炭素アカウンタビリテイ（炭素ア
カウント）（これはガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又
は高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）によって検
出された生成物の総計である）である。またｒＮ／Ｊは
入手できないことを、ｒＮＤＪは測定しなかったことを
示す。
の略号は、温度（Ｔ）、反応時間（１）、酢酸２−ナフ
チル１モル当たりのＨＦのモル（ＨＦ）、酢酸２−ナフ
チルの全生成物への転化率（転化率）、酢酸２−ナフチ
ルの２−ナフトールへの転化率％（２−０１）、６−ヒ
ドロキシ−２−アセトナフトン（６，２−ＨＡＮ）、６
−アセドキンー２−アセトナフトン（６，２−ＡＡＮ）
、３−ヒドロキシ−２−アセトナフトン（３，２−ＨＡ
Ｎ）、２−ヒドロキシ−１−アセトナフトン（２，１−
ＨＡＮ）、及び他のヒドロキシアセトナフトン（ＨＡＮ
）、６．２−Ａ Ａ Ｎを含む６．２−ＨＡＮの収率（
６，２−ＨＡＮ収率）（これは酢酸２−ナフチル（モル
）の転化率を６．２−ＨＡ Ｎ＋６．２−Ａ Ａ Ｎ
（モル）の選択率をｔ卦けて得られろＧＣ又はＨＰＬＣ
収率である）、６．２−ＨＡＮへのレギオ選択率（８，
２−ＨＡ Ｎレギオ選）（これは生成したヒドロキシア
セトナフトンの全異性体のモル数の合計で生成した６、
２−ＨＡ Ｎのモル数を割り、１００を掛けることに
よって計算される）、炭素アカウンタビリテイ（炭素ア
カウント）（これはガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又
は高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）によって検
出された生成物の総計である）である。またｒＮ／Ｊは
入手できないことを、ｒＮＤＪは測定しなかったことを
示す。
例１０〜１３
反応時間を２時間に一定したことを除き例１〜９の方法
をくりかえした。反応条件と生成物の分析結果を表■に
示す。表Ｉと異なり、ここでは６．２−ＨＡ Ｎと６．
２−Ａ Ａ Ｎの収率を分けて記載しである。
をくりかえした。反応条件と生成物の分析結果を表■に
示す。表Ｉと異なり、ここでは６．２−ＨＡ Ｎと６．
２−Ａ Ａ Ｎの収率を分けて記載しである。
例１４〜１８
反応器に酢酸エステルの代わりにプロピオン酸２−ナフ
チルを入れた以外は前記例の方法をくりかえした。反応
条件と生成物の分析結果を表■に示す。ここでは前記表
で示したいくつかの値以外にプロピオ′Ｊ酸２−ナフチ
ルの６−ヒドロキシ−２−プロピオナフトンへの転化の
選択率％（６，２−ＨＰ Ｎ ）と後者の収率（６，２
−ＨＰ Ｎ収率）も示す。
チルを入れた以外は前記例の方法をくりかえした。反応
条件と生成物の分析結果を表■に示す。ここでは前記表
で示したいくつかの値以外にプロピオ′Ｊ酸２−ナフチ
ルの６−ヒドロキシ−２−プロピオナフトンへの転化の
選択率％（６，２−ＨＰ Ｎ ）と後者の収率（６，２
−ＨＰ Ｎ収率）も示す。
例１９〜２３
反応器に１−酪＠２−ナフチルを入れ、反応温度を７５
℃で一定にした以外前記例の方法をく秒かえした。反応
条件と生成物の分析結果を表■に示す。ここでは前記表
で示したいくつかの値以外に、６−ヒドロキシ−２−ｎ
−プチロナフトンへの選択率％（８，２−ＨＢ Ｎ ）
、６−プトキシー２−ｎ−プチロナフトンへの選択率％
（６，２−Ｂ Ｂ Ｎ ）及びそれらの収率（ソｆｉソ
ｆｉ ｒ６．２−ＨＢ Ｎ収率」、ｒＧ、２−ＢＢＮｌ
１５１ｐ率」）を示す。
℃で一定にした以外前記例の方法をく秒かえした。反応
条件と生成物の分析結果を表■に示す。ここでは前記表
で示したいくつかの値以外に、６−ヒドロキシ−２−ｎ
−プチロナフトンへの選択率％（８，２−ＨＢ Ｎ ）
、６−プトキシー２−ｎ−プチロナフトンへの選択率％
（６，２−Ｂ Ｂ Ｎ ）及びそれらの収率（ソｆｉソ
ｆｉ ｒ６．２−ＨＢ Ｎ収率」、ｒＧ、２−ＢＢＮｌ
１５１ｐ率」）を示す。
例１４〜２３では、ガス／液体クロマトグラフィー及び
質量分光測定により６−ヒドロキシ−２−ナフトンが他
のすべてのヒドロキシナフトン異性体の合計量よりもか
なり多量に生成したことが確認された。
質量分光測定により６−ヒドロキシ−２−ナフトンが他
のすべてのヒドロキシナフトン異性体の合計量よりもか
なり多量に生成したことが確認された。
これらの例の結果は本発明方法が２−ナフチルカルボキ
シレートエステルからの６−ヒド四キシ−２−ナフトン
の製造を高い２−ナフチルエステル転化率と高い６−ヒ
ドロキシ−２−ナフトンレギオ選択率とをもって可能に
したことを裏付けている。
シレートエステルからの６−ヒド四キシ−２−ナフトン
の製造を高い２−ナフチルエステル転化率と高い６−ヒ
ドロキシ−２−ナフトンレギオ選択率とをもって可能に
したことを裏付けている。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、２−ナフチルカルボキシレートエステルと該２−ナ
フチルエステル１モル当たり少なくとも約２０モルのフ
ッ化水素とを接触させることを特徴とする６−ヒドロキ
シ−２−ナフトンの製造法。 ２、該反応が次式に従って起こる特許請求の範囲第１項
記載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しＡｒは２−ナフチルであり、Ａｒ′は２，６−ナフ
チレンであり、Ｒは炭素原子１〜４を有するアルキルで
ある。 ３、２−ナフチルエステル１モル当たりフッ化水素を約
２０〜６０モル用い、反応を約０〜１００℃の温度で約
３０分〜８時間行う特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４、該２−ナフチルカルボキシレートエステルが酢酸２
−ナフチルであり、該６−ヒドロキシ−２−ナフトンが
６−ヒドロキシ−２−アセトナフトンである特許請求の
範囲第３項記載の方法。 ５、約５０〜７５℃の温度で約２〜４時間反応を行う特
許請求の範囲第４項記載の方法。 ６、反応添加剤として、酢酸２−ナフチル１モル当たり
０．１〜２モルの酢酸又は無水酢酸の存在下に行う特許
請求の範囲第４項記載の方法。 ７、酢酸２−ナフチルの転化率が少なくとも９０％であ
り、６−ヒドロキシ−２−アセトナフトンへのレギオ選
択率が生成した全ヒドロキシアセトナフトン類の合計に
基づき少なくとも約９０モル％である特許請求の範囲第
４項記載の方法。 ８、用いる圧力が約２．５〜約５００Ｐｓｉｇ（約０．
１７５〜約３５ｋｇ／ｃｍ＾２）である特許請求の範囲
第３項記載の方法。 ９、用いる圧力が約２．５〜約５００ｐｓｉｇ（約０．
１７５〜約３５ｋｇ／ｃｍ＾２）である特許請求の範囲
第５項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/870,062 US4675449A (en) | 1986-06-03 | 1986-06-03 | Process for producing 6-hydroxy-2-naphthones |
| US870062 | 1992-04-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62286948A true JPS62286948A (ja) | 1987-12-12 |
| JPH0825952B2 JPH0825952B2 (ja) | 1996-03-13 |
Family
ID=25354724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62126074A Expired - Lifetime JPH0825952B2 (ja) | 1986-06-03 | 1987-05-25 | ６−ヒドロキシ−２−ナフトンの製造法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4675449A (ja) |
| EP (1) | EP0264168B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0825952B2 (ja) |
| AT (1) | ATE75715T1 (ja) |
| CA (1) | CA1271780A (ja) |
| DE (1) | DE3778821D1 (ja) |
| ES (1) | ES2032443T3 (ja) |
| GR (1) | GR3004506T3 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009079024A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-16 | Air Water Inc | ２−ナフトール誘導体の製造方法 |
| JP2010116343A (ja) * | 2008-11-12 | 2010-05-27 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 新規ナフトール化合物とその製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5087769A (en) * | 1990-09-26 | 1992-02-11 | Hoechst Celanese Corporation | Preparation of 6-substituted-2-vinylnaphthalene |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2763691A (en) * | 1952-08-21 | 1956-09-18 | Eastman Kodak Co | Process for production of 2,4,5-trihydroxyacetophenone |
| US2833825A (en) * | 1954-03-22 | 1958-05-06 | California Research Corp | Preparation of acylphenols |
| US3403183A (en) * | 1966-12-16 | 1968-09-24 | Koppers Co Inc | Production of benzophenones |
| DE2616986A1 (de) * | 1976-04-17 | 1977-10-27 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von hydroxyketonen |
| GB8315612D0 (en) * | 1983-06-07 | 1983-07-13 | Ici Plc | Chemical process |
| GB8315610D0 (en) * | 1983-06-07 | 1983-07-13 | Ici Plc | Chemical process |
| US4607125A (en) * | 1985-04-08 | 1986-08-19 | Celanese Corporation | Process for producing hydroxy aromatic ketones |
| CA1257291A (en) * | 1984-10-17 | 1989-07-11 | Harold R. Gerberich | Process for producing aromatic diols and their ester and ether derivatives |
| US4593125A (en) * | 1985-03-13 | 1986-06-03 | Celanese Corporation | Acylation of naphthalenes |
-
1986
- 1986-06-03 US US06/870,062 patent/US4675449A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-05-25 JP JP62126074A patent/JPH0825952B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-27 CA CA000538124A patent/CA1271780A/en not_active Expired - Fee Related
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