JPS6228515B2 - - Google Patents

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JPS6228515B2
JPS6228515B2 JP57050097A JP5009782A JPS6228515B2 JP S6228515 B2 JPS6228515 B2 JP S6228515B2 JP 57050097 A JP57050097 A JP 57050097A JP 5009782 A JP5009782 A JP 5009782A JP S6228515 B2 JPS6228515 B2 JP S6228515B2
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JP
Japan
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word line
potential
current
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unselected
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Application number
JP57050097A
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Japanese (ja)
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JPS58169391A (en
Inventor
Kazuhiro Toyoda
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPS6228515B2 publication Critical patent/JPS6228515B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/10Decoders

Description

【発明の詳細な説明】 (1) 発明の技術分野 本発明は半導体記憶装置に関し、特に、PNPN
トランジスタにより構成されたスタテイツクメモ
リセルを有するスタテイツク形半導体記憶装置に
関する。
[Detailed Description of the Invention] (1) Technical Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and in particular, to a semiconductor memory device.
The present invention relates to a static semiconductor memory device having a static memory cell made up of transistors.

(2) 技術の背景 一般に、上述のスタテイツク形半導体記憶装置
においては、1行のメモリセルが1つのワード線
と1つのホールド線との間に接続され、各メモリ
セルの記憶状態すなわちフリツプフロツプ状態を
保持するために、ワード線からメモリセルを経て
ホールド線へ、ホールド(保持)電流が流れてい
る。このようなワード線の選択はワードドライバ
によつてワード線電位を押上げることによつて行
われており、この場合、ワードドライバはエミツ
タホロワであるので、ワード線の非選択状態から
選択状態への変化時間、すなわちワード線の立上
り時間は短かい。これに対し、ワード線の選択状
態から非選択状態への変化時間、すなわちワード
線の立下り時間はワード線の寄生容量に蓄積され
た電荷量とホールド電流の大きさとに依存する。
特に、PNPトランジスタを負荷としてNPNトラ
ンジスタを交差結合したPNPNメモリセルにおい
ては、ホールド電流を小さくでき、従つて、大容
量化に役立つものである。しかしながら、最近の
半導体記憶装置は大容量化および低消費電力化が
進み、ホールド電流の大きさもさらに小さくなつ
ており、従つて、ワード線の立下り時間は長くな
る傾向にある。従つて、高速のスイツチングスピ
ードを得るために、ワード線の立下り時間すなわ
ちリカバリ時間を短縮することが重要な課題であ
る。
(2) Background of the Technology Generally, in the above-mentioned static type semiconductor memory device, one row of memory cells is connected between one word line and one hold line, and the memory state of each memory cell, that is, the flip-flop state is determined. To hold, a hold current flows from the word line through the memory cell to the hold line. Such word line selection is performed by pushing up the word line potential using a word driver. In this case, since the word driver is an emitter follower, it is possible to change the word line from a non-selected state to a selected state. The transition time, ie, the rise time of the word line, is short. On the other hand, the change time of the word line from the selected state to the non-selected state, that is, the fall time of the word line, depends on the amount of charge accumulated in the parasitic capacitance of the word line and the magnitude of the hold current.
In particular, in a PNPN memory cell in which NPN transistors are cross-coupled with a PNP transistor as a load, the hold current can be reduced, which is useful for increasing capacity. However, recent semiconductor memory devices have become larger in capacity and have lower power consumption, and the magnitude of the hold current has also become smaller, so the fall time of a word line tends to become longer. Therefore, in order to obtain high switching speed, it is important to shorten the fall time of the word line, that is, the recovery time.

(3) 従来技術と問題点 選択ワード線の立下り時間を早めるために、選
択ワード線から集中的に放電電流を引込み、従つ
て、正規のホールド電流に加えて上述の放電電流
を引込み、しかも、この放電電流をある時間持続
させ、これにより選択ワード線の電荷を急激に引
抜くことは既に公知である(参照:特願昭54−
110720号)。他方、選択ワード線に接続され且つ
非選択のビツト線に接続された半選択メモリセル
においては、検出トランジスタのエミツタすなわ
ち非選択のビツト線の電位を押上げて該半選択メ
モリセルへの誤書込みを防止している。この結
果、半選択メモリセルの検出トランジスタのエミ
ツタはコレクタとして作用し、従つて、上述の放
電電流の一部は非選択ビツト線から半選択メモリ
セルを介して分流する現象が発生する。なお、こ
の電流はシンク電流と呼ばれる。しかも、ワード
線に接続された半選択メモリ数も多いために、結
局、上述の放電電流を採用したにもかかわらず、
シンク電流の存在から高速のスイツチングスピー
ドは余り期待できない。
(3) Prior art and problems In order to speed up the fall time of the selected word line, a discharge current is intensively drawn from the selected word line, and therefore the above-mentioned discharge current is drawn in addition to the normal hold current. It is already known that this discharge current is maintained for a certain period of time, thereby rapidly drawing out the charge from the selected word line (see: Japanese Patent Application No. 1973-
No. 110720). On the other hand, in a half-selected memory cell connected to a selected word line and an unselected bit line, the potential of the emitter of the detection transistor, that is, the unselected bit line, is raised to prevent erroneous writing to the half-selected memory cell. is prevented. As a result, the emitter of the detection transistor of the half-selected memory cell acts as a collector, and a phenomenon occurs in which part of the discharge current described above is shunted from the unselected bit line through the half-selected memory cell. Note that this current is called a sink current. Moreover, since there are many half-selected memories connected to the word line, in the end, even though the above-mentioned discharge current was adopted,
Due to the presence of sink current, high switching speed cannot be expected.

上述のシンク電流の大きさはトランジスタの逆
β(電流増幅率)に依存する。すなわち、逆βが
大きいと、シンク電流が増加してワード線電流が
減少し、結局、スイツチングスピードが低下して
使用上廃棄されることになる。逆に、逆βが小さ
いと、シンク電流が減少してワード線電流が増加
し、スイツチングスピードが改善される方向にあ
るが、その分ワード線負荷が過大となり選択ワー
ド線レベルが低下する。つまり、逆βは大きくて
も小さくても不都合となる。なお、ここで逆βと
はトランジスタのエミツタがコレクタとして作用
した場合のβであつて、βにほぼ比例するもので
ある。
The magnitude of the sink current described above depends on the inverse β (current amplification factor) of the transistor. That is, if the inverse β is large, the sink current increases and the word line current decreases, resulting in a decrease in switching speed and the result that the circuit is wasted. Conversely, if the inverse β is small, the sink current decreases and the word line current increases, which tends to improve the switching speed, but the word line load becomes excessive and the selected word line level decreases accordingly. In other words, inverse β is inconvenient whether it is large or small. Note that the inverse β here refers to β when the emitter of the transistor acts as a collector, and is approximately proportional to β.

上述のシンク電流の大小が逆βの大小に依存に
着目して、逆βに応じて上述の放電電流値を変化
させることはすでに提案されている(参照:特願
昭56−155100号)。
Focusing on the dependence of the magnitude of the sink current on the magnitude of the inverse .beta., it has already been proposed to change the above-mentioned discharge current value in accordance with the inverse .beta. (see Japanese Patent Application No. 155100/1982).

しかしながら、上述のごとく逆βに応じて放電
電流値を変化させてワード線電位振幅が小さくな
ると、高速読出は可能となるが、高速書込に必要
な書込電流は非選択メモリセルに分流するという
問題点がある。
However, as mentioned above, if the word line potential amplitude is reduced by changing the discharge current value according to the inverse β, high-speed reading becomes possible, but the write current required for high-speed writing is shunted to non-selected memory cells. There is a problem.

(4) 発明の目的 本発明の目的は、選択行における半選択メモリ
セルによるシンク電流に応じて非選択ワード線の
電位を変化させ、つまり非選択ワード線電位を選
択ワード線電位に追従させるという構想にもとづ
き、最小ワード線電位振幅を確保して書込電流の
非選択メモリセルへの分流を防止し、上述の従来
形における問題点を解決することにある。
(4) Purpose of the Invention The purpose of the present invention is to change the potential of an unselected word line in accordance with the sink current by a half-selected memory cell in a selected row, that is, to make the unselected word line potential follow the selected word line potential. Based on the concept, the purpose is to ensure a minimum word line potential amplitude to prevent the write current from being shunted to unselected memory cells, thereby solving the problems in the conventional type described above.

(5) 発明の構成 上述の目的を達成するために本発明によればマ
トリクス状に配置された複数のメモリセルと、該
メモリセルの各行に接続されたワード線と、該ワ
ード線を選択するためのワードドライバと、前記
選択されたワード線から放電電流を引込む定放電
電流源とを具備した半導体記憶装置において、所
定のバイアス電圧が印加される前記メモリセフレ
と類似構造のダミーセルと、該ダミーセルへのシ
ンク電流の大きさに応じて前記各ワードドライバ
のドライブ能力を変化させる手段と、を設け、そ
れにより非選択のワード線電位の変化特性を選択
のワード線電位の変化特性に追従させるようにし
たことを特徴とする半導体記憶装置が提供され
る。
(5) Structure of the Invention In order to achieve the above-mentioned object, the present invention includes a plurality of memory cells arranged in a matrix, a word line connected to each row of the memory cells, and selecting the word line. and a constant discharge current source that draws a discharge current from the selected word line, a dummy cell having a structure similar to that of the memory cell to which a predetermined bias voltage is applied, and the dummy cell and means for changing the drive capability of each of the word drivers according to the magnitude of the sink current to the word driver, thereby causing the change characteristics of the unselected word line potential to follow the change characteristics of the selected word line potential. A semiconductor memory device is provided.

(6) 発明の実施例 以下、図面により本発明を従来形と比較して説
明する。
(6) Embodiments of the Invention The present invention will be explained below with reference to the drawings in comparison with a conventional type.

第1図は従来のスタテイツク形半導体記憶装置
のブロツク回路図である。第1図において、メモ
リセルMC00,MC01,………,MCo-1o-1はマト
リクス状に配置され、第1行目、………、第n行
目のメモリセルアレイには各ワード線W0,……
…,Wo-1と各ホールド線H0,………,Ho-1とが
接続されている。また、第1列目、第2列目、…
……、第n列目のメモリセルアレイには、各ビツ
ト線対B0;B1;………;Bo-1o
−1が接続されている。各メモリセルには、メモリ
セルの記憶状態(フリツプフロツプ状態)を保持
するために、各ホールド線H0,………,Ho-1
ホールド電流源IH0,………,IHo-1が接続さ
れている。
FIG. 1 is a block circuit diagram of a conventional static type semiconductor memory device. In FIG. 1, memory cells MC 00 , MC 01 , ......, MC o-1 , o-1 are arranged in a matrix, and the memory cell arrays in the 1st row, . Each word line W 0 ,...
..., W o-1 and each hold line H 0 , ......, H o-1 are connected. Also, the first column, the second column,...
..., in the memory cell array of the n-th column, each bit line pair B 0 , 0 ; B 1 , 1 ; ......; B o-1 , o
-1 is connected. In each memory cell, in order to hold the memory state (flip-flop state) of the memory cell, a hold current source I H0 , ......, I H , o is connected to each hold line H 0 , ......, H o-1 . -1 is connected.

各ワード線W0,………,Wo-1の選択はワード
デコーダWD0,………,WDoにより選択される
ワードドライバD0,………,Do-1によつてワー
ド線W0,………,Wo-1の電位を押上げることに
よつて行われるが、ワードドライバD0,……
…,Do-1はエミツタホロワであるので、ワード
線電位の立上りは早い。他方、ワード線電位の立
下り時間、すなわちワード線の選択状態から非選
択状態への変化時間を早めるために、素子T10
………,T1o-1;R10,………,R1o-1;C0
………,Co-1;T20,………,T2o-1;R20,…
……,R2o-1がワード線終端に接続されてい
る。詳細には、T10,………,T1o-1はワード
線W0,………,Wo-1の電位によつてスイツチン
グされるエミツタホロワのトランジスタであり、
抵抗R10,………,R1o-1とキヤパシタC10,…
……,C1o-1とはトランジスタT10,………,
1o-1の出力を遅延させるための時定数回路を
形成する。トランジスタT20,………,T2o-1
は各時定数回路によつてスイツチングされるが、
共通のホールド電流源△IHに接続されている。
すなわち、トランジスタT20,………,T2o-1
はホールド電流源△IHに対してカレントスイツ
チを構成しており、従つて、いずれか1つのトラ
ンジスタT20,………,T2o-1がオンとなる。
言い換えると、選択ワード行には、正規のホール
ド電流IH0,………,IHo-1に加えて放電電流
△IHが集中的流れることになり、選択ワード線
の電位の立下りは早くなる。
Each word line W 0 , ......, W o-1 is selected by the word driver D 0 , ......, D o-1 selected by the word decoder WD 0 , ......, WD o . This is done by increasing the potential of W 0 , ......, W o-1 , but the word drivers D 0 , ...
..., D o-1 is an emitter follower, so the word line potential rises quickly. On the other hand, in order to speed up the fall time of the word line potential, that is, the time when the word line changes from a selected state to a non-selected state, the elements T 10 ,
......, T 1 , o-1 ; R 10 , ......, R 1 , o-1 ; C 0 ,
………, C o-1 ; T 20 , ………, T 2 , o-1 ; R 20 ,…
..., R 2 , o-1 are connected to the word line terminations. In detail, T 10 , ......, T 1 , o-1 are emitter follower transistors that are switched by the potentials of the word lines W 0 , ......, W o-1 ;
Resistor R 10 ,......, R 1 , o-1 and capacitor C 10 ,...
..., C 1 , o-1 is the transistor T 10 , ......,
A time constant circuit is formed to delay the output of T 1 and o-1 . Transistor T 20 , ......, T 2 , o-1
is switched by each time constant circuit,
Connected to common hold current source △I H.
That is, the transistors T 20 , ......, T 2 , o-1
constitutes a current switch for the hold current source ΔI H , and therefore any one of the transistors T 20 , . . . , T 2 , o-1 is turned on.
In other words, in addition to the normal hold currents I H0 , . becomes faster.

このような構成においては、たとえば、ワード
線W0が選択状態から非選択状態に変化するとき
には、ワード線W0の電位はトランジスタT10、お
よび遅延回路を構成する抵抗R10、キヤパシタC0
を介してトランジスタT20に伝達されるので、放
電電流△IHはホールド電流IH0に所定時間持続
して加わることになり、従つて、ワード線W0
電位の立下りがさらに早くなる。
In such a configuration, for example, when the word line W 0 changes from the selected state to the non-selected state, the potential of the word line W 0 is changed to the transistor T 10 , the resistor R 10 that constitutes the delay circuit, and the capacitor C 0
Since the discharge current ΔI H is applied to the hold current I H0 for a predetermined period of time, the potential of the word line W 0 falls more quickly.

なお、第1図において、バイアス電流源IBS
抵抗R10,………,R1o-1とR20,………,R2
o−1と共にトランジスタT20,………,T2o-1
ベース電位を決定するものである。
In FIG. 1, the bias current source I BS has resistors R 10 , . . . , R 1 , o-1 and R 20 , . . . , R 2 ,
Together with o-1 , this determines the base potential of the transistors T 20 , . . . , T 2 , o-1 .

他方、ビツト線クランプ回路BCL0,BCL1,…
……,BCLo-1は、その内部のトランジスタ対が
オンとなると、非選択ビツト線の電位を高電位に
押上げ、これにより選択メモリセルへの書込み動
作に伴う非選択メモリセル、特に、半選択メモリ
セルの誤書込みを防止している。なお、Y0
Y1,………,Yo-1は列選択信号、D,は書込
データである。
On the other hand, the bit line clamp circuits BCL 0 , BCL 1 ,...
..., when the internal transistor pair turns on, BCL o-1 pushes the potential of the unselected bit line to a high potential, thereby causing the unselected memory cell, especially, Erroneous writing to half-selected memory cells is prevented. Note that Y 0 ,
Y 1 , . . . , Y o-1 are column selection signals, and D is write data.

次に、半選択メモリセルにおけるシンク電流に
ついて第2図を参照して説明する。第2図におい
て、メモリセルC00は他のメモリセルと同一であ
るが、負荷としてのPNPトランジスタT1,T2
およびフリツプフロツプを構成する検出NPNト
ランジスタT3,T4より構成されている。このト
ランジスタT3,T4はマルチエミツタトランジス
タにより組込まれており、たとえばトランジスタ
T3のマルチエミツタのうち、ビツト線B0に接続
されているエミツタをESとし、ホールド線H0
接続されているエミツタをEHとする。なお、円
により囲まれたトランジスタはオン状態にあるこ
とを示す。このようなメモリセルC00において
は、エミツタESの電位がエミツタEHの電位より
高くなると、エミツタESがコレクタとして作用
し、従つて、点線に示すごとく、電位iがビツト
線B0からエミツタEHを介してホールド線H0に流
込むことになる。このようなエミツタESの電位
がエミツタEHの電位より高くなる現象は非選択
ビツト線電位が第1図に示したビツト線クランプ
回路BCL0,BCL1,………,BCLo-1によつて押
上げられたときに発生する。すなわち、ワード線
W0およびビツト線B0が選択されたとき、
選択ワード線W0に接続されたメモリセルすなわ
ち半選択メモリセルC01,………,C0o-1にお
いて、上述の現象が発生する。このような電流i
はシンク電流と呼ばれ、選択ワード線について選
択された1つのメモリセル以外はすべて半選択メ
モリセルであり、第1図の放電電流△IHを加え
たホールド電流IH0+△IHは非選択ビツト線へ
シンク電流として分流することになり、高速のス
イツチングスピードが期待できない。
Next, the sink current in the half-selected memory cell will be explained with reference to FIG. In FIG. 2, memory cell C 00 is the same as the other memory cells, but with PNP transistors T 1 , T 2 , and PNP transistors as loads.
and detection NPN transistors T 3 and T 4 forming a flip-flop. These transistors T 3 and T 4 are incorporated as multi-emitter transistors, such as transistors
Among the multi-emitters of T3 , the emitter connected to the bit line B0 is designated as E S , and the emitter connected to the hold line H0 is designated as EH . Note that transistors surrounded by circles are in an on state. In such a memory cell C00 , when the potential of the emitter E S becomes higher than the potential of the emitter E H , the emitter E S acts as a collector, and therefore, as shown by the dotted line, the potential i changes from the bit line B0 . It flows into the hold line H0 via the emitter EH . This phenomenon in which the potential of the emitter E S becomes higher than the potential of the emitter E H occurs when the unselected bit line potential is applied to the bit line clamp circuits BCL 0 , BCL 1 , ..., BCL o-1 shown in Figure 1. Occurs when it is pushed up. i.e. word line
When W 0 and bit line B 0 , 0 are selected,
The above phenomenon occurs in the memory cells connected to the selected word line W 0 , that is, the half-selected memory cells C 01 , . . . , C 0 , o-1 . Such a current i
is called a sink current, and all but one memory cell selected for the selected word line are half-selected memory cells, and the hold current I H0 +△I H added to the discharge current △I H in Fig. 1 is a non-selected memory cell. Since the current is shunted to the selected bit line as a sink current, high switching speed cannot be expected.

ところで、上述のシンク電流の大きさはトラン
ジスタの逆βに依存することに着目し、逆βに応
じて放電電流△IHを変化させることが提案され
ている(参照:特願56−155100号)。たとえば、
逆βが大きく、従つてシンク電流が大きいときに
放電電流△IHを大きくし、他方、逆βが小さ
く、従つて、シンク電流が小さいときに放電電流
△IHを小さくする。
By the way, focusing on the fact that the magnitude of the sink current mentioned above depends on the inverse β of the transistor, it has been proposed to change the discharge current ΔI H according to the inverse β (reference: Japanese Patent Application No. 56-155100) ). for example,
The discharge current ΔI H is increased when the inverse β is large and therefore the sink current is large, while the discharge current ΔI H is decreased when the inverse β is small and the sink current is small .

しかしながら、上述のごとく、放電電流△IH
を変化させてワード線電位振幅、すなわち選択ワ
ード線電位と非選択ワード線電位との差が小さく
なると、高速読出は可能であるが、高速書込に必
要な書込電流は非選択メモリセルに分流する。
However, as mentioned above, the discharge current △I H
If the word line potential amplitude, that is, the difference between the selected word line potential and the unselected word line potential, becomes smaller by changing the Divert.

本発明においては、選択ワード線電位が放電電
流△IHの変化により変化したときには、非選択
ワード線電位も変化させる。たとえば、選択ワー
ド線電位が低下したときには、非選択ワード線電
位も低下させ、これにより、ワード線電位振幅の
最小値が確保され、書込電流の非選択メモリセル
への分流を防止している。
In the present invention, when the selected word line potential changes due to a change in discharge current ΔI H , the non-selected word line potential is also changed. For example, when the selected word line potential decreases, the unselected word line potential also decreases, thereby ensuring the minimum value of the word line potential amplitude and preventing the write current from being shunted to unselected memory cells. .

第3図は本発明の一実施例としての半導体記憶
装置を示す回路図である。ただし、必要な部分の
みを抽出して図示してある。第3図において、ワ
ードデコーダたとえばWD0はアドレス信号A0
A1,………,Al-1(2l=n)がゲートに供給さ
れるトランジスタT30,T31,………,T3l-1
基準電圧VRがゲートに印加されるトランジスタ
R、抵抗R31,R32、およびトランジスタTCより
構成される。こゝで、トランジスタTCおよび抵
抗R32は定電流源ICとして作用し、従つて、各ト
ランジスタT30,T31,………,T3l-1,TR
定電流源ICに対してカレントスイツチを構成し
ている。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device as an embodiment of the present invention. However, only necessary parts are extracted and illustrated. In FIG. 3, a word decoder, for example WD 0 , receives address signals A 0 ,
A 1 , ......, A l-1 (2 l = n) are supplied to the gates of the transistors T 30 , T 31 , ......, T 3 , l-1 ,
It is composed of a transistor TR to which a reference voltage V R is applied to its gate, resistors R 31 and R 32 , and a transistor TC . Here, the transistor T C and the resistor R 32 act as a constant current source I C , and therefore each transistor T 30 , T 31 , ......, T 3 , l-1 , T R acts as a constant current source I A current switch is configured for C.

たとえば、ワード線W0の選択状態はアドレス
信号A0,A1,………,Al-1の電位がすべてVR
り小さいときに相当する。この場合、トランジス
タT30,T31,………,T3o-1はオフ状態であ
り、トランジスタTRがオン状態であり、従つ
て、電流ICはトランジスタTRを介して流れる。
この結果、ワードドライバD0のベース電位VX0
ハイとなり、ワード線W0が選択されることにな
る。他方、ワード線W0の非選択状態はアドレス
信号A0,A1,………,Al-1の少なくとも1つが
R以上であるときに相当する。この場合、トラ
ンジスタT30,T31,………,T3l-1のいずれか
がオン状態とり、該オン状態のトランジスタを介
して電流ICは流れる。従つて、ワードドライバ
D0のベース電位VX0は抵抗R31による電圧降下に
よりローとなり、ワード線W0は選択されないこ
とになる。
For example, the selected state of word line W 0 corresponds to when the potentials of address signals A 0 , A 1 , . . . , A l-1 are all lower than VR . In this case, the transistors T 30 , T 31 , .
As a result, the base potential V X0 of the word driver D 0 becomes high, and the word line W 0 is selected. On the other hand, the non-selected state of the word line W 0 corresponds to when at least one of the address signals A 0 , A 1 , . . . , A l-1 is equal to or higher than VR . In this case, one of the transistors T 30 , T 31 , . Therefore, word driver
The base potential V X0 of D 0 becomes low due to the voltage drop caused by the resistor R 31 , and the word line W 0 is not selected.

第3図において、各ワードデコーダ(WD1
………,WDo-1は図示省略)の定電流源ICが一
定であれば、選択ワード線たとえばW0の電位が
第1図の放電電流△IHの増加により低下して
も、非選択ワード線W1,………,Wo-1の電位は
低下しない。従つて、選択ワード線電位と非選択
ワード線電位との差すなわちワード線電位振幅は
小さくなる。
In Fig. 3, each word decoder (WD 1 ,
If the constant current source I C of the selected word line W0 is constant, even if the potential of the selected word line W0 decreases due to an increase in the discharge current ΔI H shown in FIG. The potentials of the unselected word lines W 1 , . . . , W o-1 do not decrease. Therefore, the difference between the selected word line potential and the unselected word line potential, that is, the word line potential amplitude becomes small.

本発明においては、放電電流△IHの増加によ
り選択ワード線電位が低下した場合、各ワードデ
コーダの定電流源ICの電流値を大きくさせて非
選択ワード線電位も低下させ、従つて、ワード線
電位振幅の最小が確保される。このような定電流
源ICの制御は回路C1,C2,C3により行われる 回路C1はバイアス回路であつて、所定のバイ
アス電圧VBを発生する。なお、バイアス電圧VB
は、 VB=R34+R35/R35BE1 で表わされる。ただし、R34,R35は抵抗R34,R35
の抵抗値、VBE1はトランジスタT41のベース・エ
ミツタ間電圧である。トランジスタT43,T44
抵抗R36により構成されるダミーセル回路におい
ては、トランジスタT43,T44は常にオン状態で
ある。従つて、タミーセル回路C2は第2図の回
路の左半分に相当し、または、バイアス電圧VB
はほぼ選択ワード線電位に相当する。
In the present invention, when the selected word line potential decreases due to an increase in the discharge current ΔI H , the current value of the constant current source I C of each word decoder is increased to lower the unselected word line potential as well. A minimum word line potential amplitude is ensured. Such control of the constant current source I C is performed by circuits C 1 , C 2 , and C 3. The circuit C 1 is a bias circuit and generates a predetermined bias voltage V B. Note that the bias voltage V B
is expressed as V B =R 34 +R 35 /R 35 V BE1 . However, R 34 and R 35 are resistances R 34 and R 35
The resistance value of V BE1 is the base-emitter voltage of the transistor T41 . Transistors T 43 , T 44 ,
In the dummy cell circuit constituted by the resistor R 36 , the transistors T 43 and T 44 are always on. Therefore, the tummy cell circuit C 2 corresponds to the left half of the circuit in FIG. 2, or the bias voltage V B
approximately corresponds to the selected word line potential.

回路C3は、抵抗R37,R38,R39、トランジスタ
T45、ダイオードD1より構成され、ダミーセル回
路C2のシンク電流iに応じて電圧VRxを変化させ
るものである。たとえば、シンク電流iが減少し
選択ワード線に多くの放電々流が流れ、ワード線
振幅が減少しようとすると、ノードN1の電位は
上昇し、従つて、トランジスタT45はよりオン方
向に制御される。この結果、電位VRxは上昇し、
すべてワードデコーダWD0,………の定電流値
Cは増加する。この結果、非選択のドライバの
ベース電位は低下する。なお、このような定電流
源ICの電流値の変化は選択のドライバのベース
電位にほとんど影響しない。なぜなら、この場合
電流ICはトランジスタTRを介して流れるからで
ある。
Circuit C 3 consists of resistors R 37 , R 38 , R 39 and transistors
T 45 and a diode D 1 , and changes the voltage V Rx according to the sink current i of the dummy cell circuit C 2 . For example, when the sink current i decreases and more discharge current flows through the selected word line, causing the word line amplitude to decrease, the potential at node N 1 increases, and therefore, transistor T 45 is controlled more in the on direction. be done. As a result, the potential V Rx increases,
The constant current value I C of all word decoders WD 0 , . . . increases. As a result, the base potential of unselected drivers decreases. Note that such a change in the current value of the constant current source I C has almost no effect on the base potential of the selected driver. This is because in this case the current I C flows through the transistor T R .

第4図は第3図のダミーセル回路C2の変更例
を示す回路図である。すなわち、第3図の抵抗
R36の代りに、抵抗R40、ダイオードD2およびト
ランジスタT46を用いている。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a modification of the dummy cell circuit C2 in FIG. 3. In other words, the resistance in Figure 3
Instead of R 36 , a resistor R 40 , a diode D 2 and a transistor T 46 are used.

(7) 発明の効果 以上説明したように本発明によれば、選択ワー
ド線の放電電流をシンク電流(逆β)に応じて変
化させて選択ワード線電位が変化したときには、
非選択ワード線電位も同一方向に変化させている
ので、ワード線電位振幅の最小を確保でき、従つ
て、書込電流の非選択メモリセルへの分流を防止
できる。
(7) Effects of the Invention As explained above, according to the present invention, when the selected word line potential changes by changing the discharge current of the selected word line according to the sink current (inverse β),
Since the unselected word line potentials are also changed in the same direction, the word line potential amplitude can be kept at a minimum, and therefore the write current can be prevented from being shunted to unselected memory cells.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のスタテイツク形半導体記憶装置
のブロツク回路図、第2図は第1図のメモリセル
の回路図、第3図は本発明の一実施例としての半
導体記憶装置を示す回路図、第4図は第3図のダ
ミーセル回路の変更例を示す回路図である。 C00,………,Co-1o-1:メモリセル、W0
………,Wo-1:ワード線、B0,………,
o-1o-1:ビツト線、D0,………,Do-1:ワ
ードドライバ、WD0,………,WDo-1:ワードデ
コーダ、△IH:定放電電流源、IC:ワードデコ
ーダの定電流源、C1:バイアス回路、C2,C2′:
ダミーセル回路、C3:ダミーセル回路のシンク
電流に応じて定電流源ICを制御する回路。
FIG. 1 is a block circuit diagram of a conventional static type semiconductor memory device, FIG. 2 is a circuit diagram of a memory cell shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device as an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a circuit diagram showing a modification of the dummy cell circuit shown in FIG. 3. C 00 , ......, C o-1 , o-1 : memory cell, W 0 ,
………, W o-1 : Word line, B 0 , 0 , ………,
B o-1 , o-1 : Bit line, D 0 , ......, D o-1 : Word driver, WD 0 , ......, WD o-1 : Word decoder, △I H : Constant discharge current source , I C : Constant current source of word decoder, C 1 : Bias circuit, C 2 , C 2 ':
Dummy cell circuit, C 3 : A circuit that controls the constant current source I C according to the sink current of the dummy cell circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 マトリクス状に配置された複数のメモリセル
と、該メモリセルの各行に接続されたワード線
と、該ワード線を選択するためのワードドライバ
と、前記選択されたワード線から放電電流を引込
む定放電電流源とを具備した半導体記憶装置にお
いて、所定のバイアス電圧が印加される前記メモ
リセルと類似構造のダミーセルと、該ダミーセル
へのシンク電流の大きさに応じて前記各ワードド
ライバのドライブ能力を変化させる手段とを設
け、それにより非選択のワード線電位の変化特性
を選択のワード線電位の変化特性に追従させるよ
うにしたことを特徴とする半導体記憶装置。
1 A plurality of memory cells arranged in a matrix, a word line connected to each row of the memory cells, a word driver for selecting the word line, and a regulator for drawing a discharge current from the selected word line. a dummy cell having a structure similar to the memory cell to which a predetermined bias voltage is applied; and a drive capacity of each word driver according to the magnitude of a sink current to the dummy cell. What is claimed is: 1. A semiconductor memory device comprising: means for changing the potential of an unselected word line, thereby causing a change characteristic of an unselected word line potential to follow a change characteristic of a selected word line potential.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0528543A (en) * 1991-07-22 1993-02-05 Sharp Corp Production of optical disk substrate

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