JPS62281237A - 液体金属イオン源 - Google Patents
液体金属イオン源Info
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- JPS62281237A JPS62281237A JP61125322A JP12532286A JPS62281237A JP S62281237 A JPS62281237 A JP S62281237A JP 61125322 A JP61125322 A JP 61125322A JP 12532286 A JP12532286 A JP 12532286A JP S62281237 A JPS62281237 A JP S62281237A
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- Japan
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- ion source
- liquid metal
- metal ion
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- Pending
Links
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
［産業上の利用分野］
本発明は、組立／分解および軸合わせ容易な抵抗加熱式
液体金属イオン源に関する。
液体金属イオン源に関する。
［従来技術］
集束イオンビーム装置の開発は、現在、日本国内外で活
発に進められている。集束イオンビーム装置を稼動させ
る場合、その構成要素であるイオン源における液体金属
イオン源部とイオン光学系部との軸合せは重要な問題で
ある。しかし、現在の装置では、イオン源を組立てろ毎
に、電気信号を用いて微細な軸合わせを行っているが、
それに先立ってイオン源部とイオン光学系部（特に、ア
パーチャー）との軸合せが必要であり、更に、引出し電
極とエミッタの軸合せも必要である。軸合イつせを、機
械的な例えば直線導入機を用いて行っているが、従来の
イオン源は軸合せに手間を取るうえ、軸合わ仕の精度も
悪い。
発に進められている。集束イオンビーム装置を稼動させ
る場合、その構成要素であるイオン源における液体金属
イオン源部とイオン光学系部との軸合せは重要な問題で
ある。しかし、現在の装置では、イオン源を組立てろ毎
に、電気信号を用いて微細な軸合わせを行っているが、
それに先立ってイオン源部とイオン光学系部（特に、ア
パーチャー）との軸合せが必要であり、更に、引出し電
極とエミッタの軸合せも必要である。軸合イつせを、機
械的な例えば直線導入機を用いて行っているが、従来の
イオン源は軸合せに手間を取るうえ、軸合わ仕の精度も
悪い。
［発明の目的］
本発明の目的は、以上の不都合を解消し、更に使い易い
イオン源を提供することにある。
イオン源を提供することにある。
［発明の構成］
本発明の要旨は、
イオン化すべき溶融した金属を入れるるつぼと、るつぼ
底面に設けた中心孔を貫通しイオンビームのエミッタと
して働く針状チップと、イオンを引出すための引出し電
極とを有する液体金属イオン源において、 （１）引出し電極、アパーチャー、イオンビーム加速電
圧および抵抗加熱電流導入用板バネを真空容器内に設置
し、 （２）イオン源金属を抵抗加熱方式により溶融すること
を特徴とする液体金属イオン源に存する。
底面に設けた中心孔を貫通しイオンビームのエミッタと
して働く針状チップと、イオンを引出すための引出し電
極とを有する液体金属イオン源において、 （１）引出し電極、アパーチャー、イオンビーム加速電
圧および抵抗加熱電流導入用板バネを真空容器内に設置
し、 （２）イオン源金属を抵抗加熱方式により溶融すること
を特徴とする液体金属イオン源に存する。
以下に、添付図面を参照して本発明の詳細な説明する。
尚、本発明のイオン源は以下の態様に限定される乙ので
はない。
はない。
第１図は、本発明の液体金属イオン源を示す概略断面図
である。エミッタチップｌ、るっぽ２、るつぼホルダー
１０および抵抗加熱用電極４以外のイオン源構成部品は
真空容器部に設置されており、真空容器部は引出し電極
８、アパーチャー１３ならびにイオンビーム加速電圧お
よび抵抗加熱電流導入用板バネ３を有する。真空容器部
において引出し電極８、アパーチャー１３、仮バネ３は
かいし６により機械的に固定されている。かいし６は例
えばマコールガラスから出来ており、導電化防止用キャ
ップ７がかぶせられている。アパーチャー１３は静電レ
ンズ１２に嵌め込む様になっている。
である。エミッタチップｌ、るっぽ２、るつぼホルダー
１０および抵抗加熱用電極４以外のイオン源構成部品は
真空容器部に設置されており、真空容器部は引出し電極
８、アパーチャー１３ならびにイオンビーム加速電圧お
よび抵抗加熱電流導入用板バネ３を有する。真空容器部
において引出し電極８、アパーチャー１３、仮バネ３は
かいし６により機械的に固定されている。かいし６は例
えばマコールガラスから出来ており、導電化防止用キャ
ップ７がかぶせられている。アパーチャー１３は静電レ
ンズ１２に嵌め込む様になっている。
イオン源本体１１は、エミッタチップ１、ろつぼ２、る
つぼホルダー１０および抵抗加熱用電極４を有する。イ
オン源本体はがいし６′、６”および導電化防止用キャ
ップ７゛、７”をら有ずろ。本体Ｉｔを真空容器部に取
り付けろことによりイオン源が組立てられ、微細な軸合
わ仕が電気信号などにより行なイつれる。真空状態は、
全て銅等のガスケット（図示せず。）により保たれる。
つぼホルダー１０および抵抗加熱用電極４を有する。イ
オン源本体はがいし６′、６”および導電化防止用キャ
ップ７゛、７”をら有ずろ。本体Ｉｔを真空容器部に取
り付けろことによりイオン源が組立てられ、微細な軸合
わ仕が電気信号などにより行なイつれる。真空状態は、
全て銅等のガスケット（図示せず。）により保たれる。
エミッタデツプ１、ろっぽ２の加熱およびイオン源金属
５の溶融は、抵抗加熱方式により行われる。抵抗加熱用
電極４は、高融点金属（例えば、タングステン、タンタ
ル、モリブデンなど）から出来ており、るつぼ２に密着
されている。イオンビーム加速電圧は、外部から電圧導
入端子（通常の市販品）９によって導入され、仮バネ３
、抵抗加熱用電極４およびるつぼホルダー【Ｏを通して
、るっぽ２およびエミッタチップｌに印加される。エミ
ッタチップ１は、直線運動導入、１！（通常の市販品）
１４によりるつぼ２に対して上下運動可能な機構になっ
ており、最適なイオン発生条件か容易に得られる。
５の溶融は、抵抗加熱方式により行われる。抵抗加熱用
電極４は、高融点金属（例えば、タングステン、タンタ
ル、モリブデンなど）から出来ており、るつぼ２に密着
されている。イオンビーム加速電圧は、外部から電圧導
入端子（通常の市販品）９によって導入され、仮バネ３
、抵抗加熱用電極４およびるつぼホルダー【Ｏを通して
、るっぽ２およびエミッタチップｌに印加される。エミ
ッタチップ１は、直線運動導入、１！（通常の市販品）
１４によりるつぼ２に対して上下運動可能な機構になっ
ており、最適なイオン発生条件か容易に得られる。
このイオン源において、エミッタデツプｌするつぼ２、
ろつはホルダー１０および抵抗加熱用電極４以外を真空
容器部に設置しであることにより、液体金属イオン源本
体ＩＩの部品が少なく構造が簡単であり、よってイオン
源の組立および分解が容易である。又、真空容器部にお
いて引出し電極８およびアパーチャー１３を最初に軸合
イっせして設置しておけば、イオン源本体１１の装着／
脱着に伴う軸合イっ仕の手間か省ける。
ろつはホルダー１０および抵抗加熱用電極４以外を真空
容器部に設置しであることにより、液体金属イオン源本
体ＩＩの部品が少なく構造が簡単であり、よってイオン
源の組立および分解が容易である。又、真空容器部にお
いて引出し電極８およびアパーチャー１３を最初に軸合
イっせして設置しておけば、イオン源本体１１の装着／
脱着に伴う軸合イっ仕の手間か省ける。
第２図は仮バネ３の切り欠き概略図である。仮バネ３は
、加熱用電極（第１図参照）を保持ずろ中空の円錐台部
分３１、および円筒部分３２を有する。円錐台部分３１
には、切り込みが設けられている。板バネ３は、融点お
よび弾性が高い金属、例えばステンレス５Ｏ５３０４な
どから出来ていることか好ましい。
、加熱用電極（第１図参照）を保持ずろ中空の円錐台部
分３１、および円筒部分３２を有する。円錐台部分３１
には、切り込みが設けられている。板バネ３は、融点お
よび弾性が高い金属、例えばステンレス５Ｏ５３０４な
どから出来ていることか好ましい。
［発明の効果］
本発明のイオン源は組立／分解および軸合わせか容易で
ある。るつぼ部以外を真空容器部に設置していることに
より、装着／脱着する部品が少なく、また、イオン源本
体の構造か簡単なためである。
ある。るつぼ部以外を真空容器部に設置していることに
より、装着／脱着する部品が少なく、また、イオン源本
体の構造か簡単なためである。
本発明のイオン源は、集束イオノビーム装置（例えば、
イオンマイクロアナライザー、イオン注入装置など）に
おける液体金属イオン源として、特に有用である。
イオンマイクロアナライザー、イオン注入装置など）に
おける液体金属イオン源として、特に有用である。
第１図は本発明の抵抗加熱式液体金属イオン源の概略断
面図、および 第２図は仮バネの切り欠き概略図である。 １・・エミッタチップ、２・・るっは、３・・仮バネ、
４ ・抵抗加熱用電極、 ５・・・イオン源金属、６
．６’、６−・がいし、 ７．７’、７”・・キャッ
プ、８ ・引出し電極、 ９．９゛・・・電圧導
入端子、１０ るっぽホルダー、１１・・・本体、１
２・・静電レンズ、 １３・・アパーチャー、１４
・・・直線運動導入機、３１・・・円錐台部分、３２・
・・円筒部分。 特許出願人 住友電気工業株式会社 代 理 人 弁理士前出 葆 はが２名第１図 第２図
面図、および 第２図は仮バネの切り欠き概略図である。 １・・エミッタチップ、２・・るっは、３・・仮バネ、
４ ・抵抗加熱用電極、 ５・・・イオン源金属、６
．６’、６−・がいし、 ７．７’、７”・・キャッ
プ、８ ・引出し電極、 ９．９゛・・・電圧導
入端子、１０ るっぽホルダー、１１・・・本体、１
２・・静電レンズ、 １３・・アパーチャー、１４
・・・直線運動導入機、３１・・・円錐台部分、３２・
・・円筒部分。 特許出願人 住友電気工業株式会社 代 理 人 弁理士前出 葆 はが２名第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、イオン化すべき溶融した金属を入れるるつぼと、る
つぼ底面に設けた中心孔を貫通しイオンビームのエミッ
タとして働く針状チップと、イオンを引出すための引出
し電極とを有する液体金属イオン源において、 （１）引出し電極、アパーチャー、イオンビーム加速電
圧および抵抗加熱電流導入用板バネを真空容器内に設置
し、 （２）イオン源金属を抵抗加熱方式により溶融すること
を特徴とする液体金属イオン源。 ２、エミッタチップ可動式液体金属イオン源である特許
請求の範囲第１項記載の液体金属イオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61125322A JPS62281237A (ja) | 1986-05-29 | 1986-05-29 | 液体金属イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61125322A JPS62281237A (ja) | 1986-05-29 | 1986-05-29 | 液体金属イオン源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62281237A true JPS62281237A (ja) | 1987-12-07 |
Family
ID=14907244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61125322A Pending JPS62281237A (ja) | 1986-05-29 | 1986-05-29 | 液体金属イオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62281237A (ja) |
-
1986
- 1986-05-29 JP JP61125322A patent/JPS62281237A/ja active Pending
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