JPS6227928B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、例えば火花侵食のような電気的な
侵食による金属加工機械即ち放電加工機で使用さ
れるパルス発生器に関する。

火花侵食による金属加工においては、作用（加
工）パルスの持続期間、パルス衝撃係数、繰返し
周波数および振幅が制御可能であることのみなら
ず、作用パルスの形状の調整が可能であることが
要件とされている。正方向立上がりおよび負方向
立下がりの時間を含め作用パルスの形状の重要性
は既に認められているところであり、この見地か
ら種々な型のパルス発生器が開発されてきた。

旧式の弛張発生器（LC／RLC発生器）により
発生される作用パルスの形状の制御は、構成素子
による制限をまぬがれずそして侵食加工は正弦波
その他それに類似の形状の作用パルスによつての
み実施されていた。電力トランジスタを利用した
パルス発生器が導入された結果、侵食加工は矩形
波作用パルスを用いた新規な機械で実施されるよ
うになつたが、この場合においても作用パルスの
形状の制御には限界がある。また、前記のような
新、旧の発生器を組合せたパルス発生器も実際に
提案されている。例えば、ドイツ国特許公開公報
第2320702号に開示されているのがこれであり、
このパルス発生器は、電気侵食回路に加えて、作
用パルスの形状制御のためのインダクタンスを有
している。しかしながら、形状制御もしくは形状
整形はインダクタンスの時定数によつて左右され
るので、異なつた侵食加工のためにパルス形状を
変えることの可能性には限界があつた。

さらにまた複数のトランジスタ化された発生器
を逐次的に接続して、複数の発生器からのパルス
から構成される作用パルスを形成することも提案
されている。しかしながら、例えば米国特許第
3655937号明細書に開示されているこのような多
数のパルス発生器を含む装置は、異なつた種類の
侵食加工に対し所望のパルス整形を行なう上でや
はりその制御範囲が極く限定されている。

よつて、この発明の目的は、特定の侵食過程の
ための作用パルスの任意の整形を許容する発生器
を設計することにある。

この発明の他の目的は、非常に短時間、即ち作
用パルスの持続時間の大きさ程度の時間内で作用
パルスの形状を変えることができる発生器を提供
することにある。このことは、例えば米国特許第
3859186号明細書、米国特許願連番第401185号明
細書およびスイス国特許願第2110／75号明細書に
開示されている制御方式のような現在開発されて
いる最適化制御装置と関連して重要なことであ
る。この発明は、このような新式の制御方式に発
生器を有利に適応させて、これにより作用パルス
の形状ばかりでなく、振幅、周波数およびパルス
衝撃係数のような他のパラメータをパルスの周期
内、即ち１つのパルスの持続期間とそれに続く次
のパルスが現われるまでの休止期間を合せた時間
内で変えることができるようにすることを企図す
るものである。

前記の目的を達成するための本発明の技術的手
段足る構成は、広義に言うと、侵食することによ
り工作物を加工するために放電加工機の加工電極
及び工作物間の加工ギヤツプに印加される電気パ
ルスを形成するためのパルス発生器において、火
花加工回路８ａ，９１，９，９２，８ｂと相互接
続されるとともに電流源５及びスイツチ４を含む
電流供給回路であつて、前記スイツチが前記加工
ギヤツプへの供給電流をオン／オフするものであ
り、前記スイツチ及び電流源と並列にダイオード
６が接続されており前記供給電流が前記スイツチ
によつて切断されたとき前記ダイオードを介して
残留電流を流すもの、前記加工ギヤツプを流れる
加工ギヤツプ電流を示す信号を形成し前記火花加
工回路と相互接続された検出手段７、前記加工ギ
ヤツプの状態に応じて該加工ギヤツプに送られる
べきパルスの形状を有する上限及び下限の二つの
包絡線１６，，１７を発生する回路１及び前記発
生する回路１の出力と前記検出手段の出力とを比
較して前記加工ギヤツプ電流が前記二つの包絡線
間に収まるように制御信号を前記スイツチの制御
端子に出力する比較制御手段２，３、を備えたこ
とを特徴とするパルス発生器、に在る。

本発明の１つの態様によれば、侵食することに
より工作物を加工するために電気侵食工作機械の
加工電極および工作物間の加工ギヤツプに印加さ
れる電気パルスを発生するためのパルス発生器に
おいて、発生しようとするパルスの包絡線形状に
対応する形状を有する上限および下限の包絡線を
規定する波形を有する各信号を形成するための包
絡線信号発生手段と、加工ギヤツプに電流を供給
するための電流供給手段にして供給電流を「オ
ン」および「オフ」するためのスイツチを備えた
電流供給手段と、ギヤツプを通るギヤツプ電流を
表わす信号を発生するギヤツプ電流表示信号形成
手段と、包絡線信号発生手段およびギヤツプ電流
表示信号発生手段に接続されて、両信号を比較す
るための比較手段と、比較手段の出力に応答し比
較結果によつて供給電流を「ターン・オン」また
は「ターン・オフ」するべく上記スイツチを制御
する制御手段と、前記電流供給手段に接続されて
前記発生器が使用されている時に加工ギヤツプを
含む回路で電流供給が前記スイツチにより遮断さ
れた時に、残留電流が流れることができる回路を
形成するダイオード手段とを備えているパルス発
生器が提案される。

本発明の他の特徴によれば、侵食することによ
り工作物を加工するために工作物と加工電極間に
電気パルスが通される電気侵食工作機械におい
て、該ギヤツプに電気パルスを供給するように接
続されたパルス発生器を有する工作機械が提供さ
れる。

本発明によれば、発生器全体のための供給電圧
および加工ギヤツプにおける動作電圧の変動に左
右されない加工ギヤツプにおける作用パルスの電
圧および電流を形成することができる。そしてこ
れによりエネルギの定常性が維持される。このよ
うに作用パルスに左右されないため加工ギヤツプ
に短絡が存在する場合でも電流が上昇することは
ない。例えばトランジスタのような制御可能な半
導体とすることができる電力スイツチにおける電
力消費は短絡時にも大きくはならない。この電力
スイツチは火花侵食回路において作用パルスのタ
ーン・オンおよびターン・オフ制御に用いられる
ものである。したがつて発生器により消費される
電力は短絡時減少される。斯くして、電力スイツ
チの定格も適当に小さくすることができるという
利点も得られる。

次に、本発明の一層明確な理解を得るために、
且つまた本発明の実施の態様を説明するために、
単なる例として本発明の具体例を図解する図面を
参照し詳述する。

第１図のパルス発生器は、第２図の上限および
下限の波形１６および１７のような波形を有する
上限および下限の包絡線信号を発生する装置を備
えている。これら２つの包絡線即ち制限曲線は、
パルス発生器の出力パルスの瞬時レベルが存在し
得る範囲を制限し、したがつてまた加工ギヤツプ
１９における所望の作用パルスの振幅、繰返し周
波数、パルス衝撃係数およびパルス波形を決定す
る。装置１は１つもしくは２つ以上の信号発生器
もしくは計算機から構成することができる。信号
発生器によつて、しばしば火花侵食に使用される
型の複数の異なつた所定の曲線形状を発生するこ
とができ、したがつて、一対の包絡線１６，１７
が発生される。このような信号発生器として適当
なものは、例えば、ナシヨナル社（National）発
行の1973年第２版のハンド・ブツク「リニア・ア
プリケーシヨン（Linear Applications）」
AN7218ないしAN7224頁に詳述されているものが
ある。また、計算機によれば、考え得るあらゆる
型の曲線を組合せ設定することができ、したがつ
てあらゆる双対の包絡線を発生することができ
る。計算機を用いる場合には、曲線は通常各型も
しくは種類に対応して最小の標準化された曲線部
から構成される。同一の原理に依れば、曲線はデ
イジタル形態で１つもしくは２つ以上のメモリに
記憶しておき必要に応じて読出すことができる。
メモリは、プログラム可能な読出専用メモリ
PROM、ダイオード・マトリクス、コア・メモリ
等から構成できる。

第２ａ図、第２ｂ図および第２ｃ図には、有用
な曲線の３つの種類もしくは型が例示されてい
る。これらの波形の形状は、従来公知であつて、
いろいろな種類の侵食加工に対して役立つのでな
くて、侵食加工過程での加工電極９の摩耗を減少
するために役立つものである。加工電極９および
工作物９２によつて形成される加工ギヤツプ９に
おける作用パルスの振幅、繰返し周波数、衝撃係
数および形状のような選ばれる電気パラメータ
は、遂行しようとする加工と関連する条件に基ず
いて決定される。所望の作用パルスに関するこれ
等のデータで、装置１は、２つの包絡線間の距離
が固定されている場合、したがつてまた加工ギヤ
ツプ９に印加される作用パルスが存在し得る領域
が確定されている場合に２つの包絡線１６および
１７を発生することができる。包絡線１６は上限
即ち最大レベルであり、そして他の包絡線１７は
下限即ち最小レベルである。加工ギヤツプ９にお
ける作用パルスの現在値が上限包絡線１６を越え
るかまたは下限包絡線より低くなつた時には、本
発明に従い、火花侵食回路４，５，６，７，８
ａ，８ｂ，９において操作が実行される。後ほど
詳述するこれらの操作によつて、作用パルスが上
記のような包絡線１６，１７間の範囲内に留まる
ことが保証される。また、第２ａ図及び第２ｂ図
はワイヤ電極によつて処理される工作物の処理の
ために使用されるパルスの形状を示す。

第２ａ図は、例えば０ボルト電圧から２ボルト
電圧に立上るような急峻な立上りを有する一対の
包絡線１６，１７を示している。この立上がり電
圧は例えば２ボルトから10ボルトに「サツギン
グ・ロープ（sagging rope）」のような形状で緩
るく立上る。しかる後に、垂直な降下が生ずる。
加工電極９１および工作物９２によつて形成され
る加工ギヤツプ９における作用パルスは、前記一
対の包絡線と同じ形状を有する。第２ａ図に示す
ようなパルス形状によれば、加工ギヤツプ９にお
ける加工電極９１および工作物９２間においてパ
ルスが通過する間中、電流密度（即ち、単位面積
当りの電流の強さ）は一定にとどまるという利点
が得られる。これは、パルスが通過する通路の面
積がパルスの通過中増大し、しかも面積増加がパ
ルスの「サツギング・ロープ」様部分に類似する
曲線に相応するためである。パルスの後縁は、ほ
ぼ垂直に最大振幅から零まで急激に立下る。この
ようなパルス形状によれば、工作物９２の侵食さ
れた表面の粗雑性は改良される。

第２ｂ図の一対の包絡線１６，１７の形状も第
２ａ図に示すものに類似の正の立上がりを有しそ
して特殊な侵食処理の場合に加工ギヤツプ９の物
理的状態を改良する負方向の立下がりを有してい
る。

第２ｃ図に示す対の包絡線１６，１７は、加工
ギヤツプ９における作用パルスの放電エネルギを
改善するような特殊の正方向立上がりを有してい
る。

発生されるパルスの所望の形状ならびに持続期
間、繰返し周波数等の種々なパラメータは、操作
者により手動でか、または例えば米国特許第
3731043号、第3731044号、第3731045号明細書な
どに開示されているような数値制御装置によるか
して装置１の入力接続部で設定される。この入力
接続部１１１には米国特許第3869186号明細書、
米国特許願連番第401185号明細書およびスイス国
特許願第2110／75号明細書に開示されているよう
な既述の最適化制御装置をも接続することができ
る。それゆえに、装置１は包絡線１６および１７
を発生する。装置１の出力線路１１２には上限包
絡線１６として上限レベル信号が現われ、そして
出力線路１１３には下限包絡線１７として下限レ
ベル信号が現われる。これら２つのレベル信号は
比較器２に供給される。この比較器２はまた線路
２１を介して、火花侵食回路４，５，６，７，８
ａ，８ｂ，９の電流を表わす信号を受ける。この
信号は、侵食回路に直列に接続された抵抗器を有
するセンサー７によつて発生されるものである。
通常は比較器である装置２は、レベル信号１６，
１７と火花侵食回路４，５，６，７，８ａ，８
ｂ，９の電流条件とを比較する。侵食過程の開始
に当つて、火花侵食回路における電流は零である
と仮定している。この場合、装置２はその出力線
路２２に、制御回路３をして線路３１を介し電力
スイツチ４を閉成せしめる出力信号を発生する。
なお、ここで述べている例においては単一の電力
スイツチで充分であるので、第１図には唯１つの
スイツチ４しか示されていない。しかしながら、
例えばトランジスタのような制御可能な半導体と
して構成される多数のこの種の電力スイツチを使
用して、複数の加工電極９１に給電するための多
チヤンネル発生器としても差支えないことは勿論
である。半導体スイツチ４のベース回路は図示を
簡潔にするため省略してある。半導体スイツチ４
が閉じる即ちオンになると、電流源５が火花侵食
回路に接続され、その結果、火花侵食回路には線
路８ａおよび８ｂの特性（例えばインダクタンス
および容量）によつて制限される変化率を有する
電流が流れる。構成要素１〜７を備えている発生
器間の接続線路８ａ，８ｂは電力スイツチ４によ
つて発生される矩形電流パルスを波し、これら
のパルスを所望のパルス波形に整形するために使
用される。第１図に示す実施例において、線路８
ａおよび８ｂは、0.5μＨないし３μＨの固有イ
ンダクタンスおよび0.2nFないし10nFの固有容量
を有する。勿論、他の値は類似の実施例に対して
有用である。電流レベルを表わす信号が上限レベ
ル信号１６以下にある時には、線路２２における
装置２の出力信号は変化することなく、したがつ
て電力スイツチ４は閉じた状態、即ち「オン」状
態に維持される。線路２１の信号が上限包絡線１
６を表わす線路１１２の上限レベル信号よりも高
く上昇する時には、線路２２および３１の信号は
消えて、電力スイツチ４は開かれる。即ちター
ン・オフされ、その結果、電流源５は火花侵食回
路から分離される。スイツチ４が開くと、線路８
ａおよび８ｂの固有インダクタンスで起電力が生
じ、この起電力で電流は維持される傾向となり、
そしてスイツチ４に並列にダイオード６が接続さ
れているために誘導もしくは残留電流が流れる。
この残留電流は零に向つて漸次減少する大きさを
有し、そして仮りにスイツチ４が作動されなかつ
たとした場合には、この電流は、線路８ａおよび
８ｂのインダクタンス値によつて定める時間経過
後に零に達するものである。実際、線路２１にお
ける電流を表わす信号が、下限包絡線１７を表わ
す線路１１３の下限レベル信号よりも低くなると
直ちに、装置２は再び出力信号を線路２２に印加
し、これにより装置３は線路３１を介してスイツ
チ４にターン・オン信号を印加する。このように
して、電流源５は再び火花侵食回路に接続される
ことになる。前記の過程のために、火花侵食回路
５，７，８ａ，８ｂ，９に流れる電流は２つの包
絡線１６，１７によつて表わされる値の間の所望
の範囲内にとどまる。装置２による比較は連続的
に行なわれ、そして侵食回路電流が下限包絡線レ
ベル以下になると常にスイツチ４はターン・オン
し、また侵食回路電流が上限包絡線レベルよりも
大きくなると、常にスイツチ４はターン・オフす
る。この結果、加工ギヤツプ９には作用パルスが
発生し、このパルスは平均的に、包絡線１６，１
７の形状に正確に対応し、したがつて、作用パル
スの振幅、繰返し周波数、パルス衝撃係数および
形状のような電気的パラメータは装置１に存在す
るパラメータに正確に対応する。既に述べたよう
に、自動数値制御装置ばかりでなく、最適化装置
を第１の回路装置１の入力１１１に接続すること
ができる。特に、最近の最適化方式を用いれば、
加工ギヤツプ９における物理的状態の劣化傾向が
検出された時には、非常に迅速に、例えば１パル
ス周期中に作用パルスの電気的パラメータを変え
ることができる。第１図に示す発生器を用いるこ
とによつて、一対の包絡線１６，１７を１パルス
の短周期中に例えば第２ａ図の形状から第２ｂ図
または第２ｃ図の形状に変えることができ、その
場合次の出力パルスは、新しい包絡線に相応する
ようにその形状を自動的に変える。

第３図に示す実施例においては、比較的高い電
圧の点弧パルスが作用パルスに重畳されそれによ
り加工ギヤツプ９を介して比較的容易に放電を開
始することができる。第１図の実施例は、原理的
に任意所望形状のパルスを発生することができる
ので、このような高電圧放電開始ピーク又はそこ
に形成されるパルスを提供できることが理解され
よう。それはそうでも、第３図の実施例は次の理
由のため有用である。即ち、例えば何等かの理由
で電流源５が容易に放電を開始するように充分に
高い電圧を供給しない場合、例えば侵食を通常の
加工ギヤツプよりもかなり幅の広いギヤツプで実
施しようとする場合などに容易に放電を開始でき
る点で有用である。

点弧パルスは一般に、各作用パルスの初期の部
分もしくは前縁部分に重畳される。点弧パルス
は、電圧源１２および端子接続部材１１４におい
て分路ダイオード１０と共に侵食回路に接続され
ているトランジスタ・スイツチ１１（そのベース
回路は図示を簡略化するため第３図から省略され
ている）により供給される。前記分路ダイオード
１０は、トランジスタ・スイツチ１１がターン・
オフした時に実際の作用パルスが回路に流れるこ
とを保証する働きをなす。前記のように、ダイオ
ード６が設けられ、このダイオード６はダイオー
ド１０と共に、２つのトランジスタ・スイツチ４
および１１がオフの時に残留もしくは誘導電流を
流すことができる。スイツチ１１は、トリガー装
置１３によつて制御され、そして該トリガー装置
１３は、上限包絡線信号１６の所定の正レベルを
検出し、所定の時間の場合、即ち、正の上限信号
１６の全期間の場合電力スイツチ１１をターンオ
ンする。第１の場合、装置１３はレベル検出器ト
リガー形モノステーブルマルチバイブレータであ
り且つ第２の場合簡単なレベル検出器である。し
たがつて、スイツチ１１は包絡線の発生と同期し
てターンオンされ、点弧パルスがそのそれぞれの
作用パルスの所望の部分に重畳される。これらの
点を除けば、第３図の実施例は構成及び動作にお
いて、第１図の実施例と同一である。

第４図の実施例も第３図の実施例と同じ機能を
果すが、この実施例においては、点弧パルス形成
のための電圧源１２およびトランジスタ１１は、
端子１１４において火花侵食回路５，６，７，８
ａ，８ｂ，９に並列に接続されている。ダイオー
ド１０は第３図に示されるのと同じ位置にとどま
るが、しかしながら作用パルス発生素子、即ち電
流源５、スイツチ４等を比較的高い電圧の点弧パ
ルスから隔離する機能を備えている。

前記のように、線路８ａおよび８ｂのインダク
タンスによつて、スイツチ４のターン・オフ後に
もギヤツプ電流は維持される傾向にある。即ち、
これらのインダクタンスはスイツチ４のターン・
オフ後に電流降下を緩慢にする作用をする。しか
しながら、例えば第２ａ図および第２ｂ図のパル
スによつて示されるように、急峻な実質的に垂直
とも言える負の立下がりを有するパルスを発生す
ることが要求される。この場合、電流の変化率は
火花侵食回路の線路８ａおよび８ｂのインダクタ
ンスによつて通常許容されるものよりも大きい。
このような迅速な電流変化を可能にするために、
パルス発生器は第５図に示すように適合すること
ができる。この場合、スイツチング素子１６０が
設けられる。この素子１６０はトランジスタであ
り、制御装置３からの線路１６１を介し制御装置
３の付加回路部分３ａの制御下で電力スイツチ４
の状態に同期させることができる。上記付加回路
部分３ａは、包絡線信号発生装置１から出る線路
１１６を介して制御される。もし、信号の包絡線
が急峻な縁を有するならば、付加回路部分３ａは
付加制御効果を提供するので、付加回路部分３ａ
は急峻な縁付加制御回路と称する。作用パルスに
急峻な縁が信号発生器１によつて決定されるよう
に要求されるとき、適当な制御信号が線路１１６
を介して装置１によつて制御装置３を応動し、制
御する制御装置の付加回路部３ａに伝えられる。
制御装置はスイツチ４及び１６０（簡潔にするた
めベース回路は省略）を同期して制御する。即
ち、適当な時点で各スイツチはターンオフされ
る。比較回路２は線路２１で上限レベル信号１６
より高い信号を検出する（信号１６の急峻な縁の
ため）、それで直ちにスイツチング素子４をター
ンオフにする。この状態の下で、侵食回路７，８
ｂ，９，８ａの電流はダイオード６及び１４によ
つてのみ電池１５に流すことができる。このよう
に、侵食回路に蓄積されたエネルギーは、非常に
短時間に回復される。

スイツチ１６０がターン・オフすると、線路８
ａ，８ｂに蓄積されているエネルギーは迅速にダ
イオード１４を介してエネルギー蓄積部１５に転
送される。ダイオード１４およびエネルギー蓄積
部１５はスイツチ１６０と直列に接続されてい
る。この結果、所望の急峻な縁が形成される。エ
ネルギー蓄積部１５は、図示のように、電流原５
の極性に対して反対の極性を有するように接続さ
れた電圧源を備えている。第５図の実施例の残り
の動作方法は第１図の実施例と同一である。

第６図に示されるように、比較装置２は、２つ
の比較器２３および２４を備え、これら比較器は
線路１１２および１１３を介して装置１（図示せ
ず）から各々上限および下限包絡線信号１６およ
び１７を受信する。検出器７（図示せず）からの
信号を表わすギヤツプ電流信号も線路２１を介し
て２つの比較器に供給され、ここでそれぞれの包
絡線信号と比較される。ギヤツプ電流信号が線路
１１３の下限包絡線信号１７のレベルまで降下す
ると、比較器２４はその出力線路２４１を介して
次段の双安定トリガ段２５に信号を供給し、それ
によりこのトリガ段は１つの状態にセツトされ
る。この結果出力線路２２には信号が現われてこ
の信号は２つの直列接続されたダイオードD₁，
D₂を介し制御回路３のトランジスタTr１に印加
される。このトランジスタは信号を増幅して、次
段のトランジスタTr２，Tr３を制御するのに適
した電圧レベルにする。これら２つのトランジス
タは、相補型の電流源を形成するように接続され
ている。相補型電源Tr２，Tr３は回路動作に影
響を及ぼすことなく、端子３２，３３に印加され
る供給電圧の広範な変化を可能にする。この電源
電圧の変動範囲は、抵抗器R₆により加えられる
電流が、トランジスタTr４の抵抗器R₅，R₈，R₁₀
およびコンデンサC₁から成るベース回路に印加
され、そしてR₆からの電流がトランジスタTr５
の抵抗器R₄，R₇，R₉およびコンデンサC₂のベー
ス回路にまた印加されているため達成される。こ
の特定の装置のため、トランジスタTr４および
Tr５に印加されるベース信号は、端子３２，３
３における電源電圧に実質的に左右されない。図
示された２つのトランジスタTr４，Tr５の相補
型式のエミツタ接続は、高電流のこれらのトラン
ジスタにおける損失を減少する目的で、回路設計
を容易にするため好ましい。図示の制御回路３の
構成全体は、回路設計を容易にし、そして高いス
イツチング速度および良好な効率を似つて出力線
路３１に高電流出力信号が印加されることを可能
にする。線路２２を介してトランジスタTr１に
印加された信号は増幅された後に、電力スイツチ
４（第１図）に到る線路３１に印加され、その結
果、この電力スイツチ４はこの信号によつて導通
状態になつて電流源５を火花侵食回路に接続す
る。このようにして、ギヤツプ電流の大きさした
がつてまた線路２１の信号の大きさは増大し、そ
のレベルは、最小の下限包絡線１７の瞬時レベル
以下に落ちることはない。比較器２４はその出力
線路２４１に他の信号を印加することはない。し
かしながら、双安定トリガ段２５はそのセツト状
態に留まり、それで電力スイツチ４もまた導通状
態にとどまる。この状態は、線路２１における状
態信号が２つの包絡線１６，１７（線路１１２，
１１３）間の所望の範囲内にとどまる限り維持さ
れる。線路２１の電流信号が線路１１２の最大の
上限包絡線１６のレベルまで上昇すると、比較器
２３はその出力線路２３１から双安定トリガ段２
５に信号を発生し、該トリガ段は他の状態に戻さ
れる。このようにして、線路２２における信号は
ターン・オフされる。トランジスタTr１，Tr
２，Tr３，Tr４，Tr５は非導通状態に切換り、
線路３１における信号はターン・オフされる。斯
くして電力スイツチ４は電流源５を火花侵食回路
から分離する。こゝで注目されるのは、火花侵食
回路における電力スイツチ４による電流源５の接
続および断路は１つの加工パルスの周期中多数回
実施される点である。第６図の回路は、非常に高
いスイツチング速度が可能なように設計されてい
る。それに加えて、線路３１からの信号は比較的
高い電流レベルで電力スイツチ４に印加され、そ
れによりこれらのスイツチの満足な動作が保証さ
れる。

第７図には、電力トランジスタ・スイツチ４が
オン状態にある期間中、即ち火花侵食回路の電流
源５が回路に接続され、使用されている期間中電
流の立上り速度を測定することができる調整装置
１７０が示されており、この調整装置１７０は第
１図、第３図、第４図および第５図を参照し既に
記載した最適化装置の代りに用いられて作用パル
スを調整し制御する役割を果すものである。装置
の入力１７１は線路２１に接続されている。この
線路には、火花侵食回路における電流を表わす信
号が存在する。装置１７０の１つの出力１７２
は、最適化装置の代りに、装置１の制御入力１１
１に接続されている。装置１７０の第２の出力１
７３は、工作機械の加工送りおよび戻し駆動部の
サーボ装置９０に用いられる。第８図を参照して
十分後述するように、装置１７０は線路２１，１
１１の信号から火花侵食回路における電流立上り
速度即ち各作用パルスの電流上昇を検出し且つ測
定して、加工ギヤツプ９における状態により、例
えば短絡化傾向の状態により作用パルスの劣化が
発生し始めているかもしくは既に劣化が生じてい
るかを判断する。このような劣化が検出される
と、装置１７０はその出力１７２を介して装置１
の入力１１１に包絡線レベル信号を変えるための
信号を加える。これにより、作用パルスの電気的
パラメータも、短絡傾向を阻止するような仕方で
変えられる。装置１７０の他の出力１７３は、線
路１７３を介してサーボ装置９０のためのアナロ
グ平均値信号を供給する。このホーボ装置９０は
加工ギヤツプにおける作用パルスの劣化が検出さ
れた時に通常、加工電極９１および工作物９２相
互間に対向相対運動を生ぜしめて最適な加工ギヤ
ツプ９を維持するため工作物９２に関して加工電
極９１を低くしたり、高くしたりする。調整装置
１７０は、第７図の場合と同様の方法で、第１
図、第３図、第４図および第５図の実施例に設け
ることができる。

さて、第８図を参照して説明するに、まず線路
２１に、特定の作用パルス中該線路の下方に描い
たような時間変化をする電流信号２１′が存在す
るものと仮定する。信号を形成するために抵抗回
路７を設けることにより、信号の極性は実際の作
用パルスの極性に対して反転される。即ち、信号
の形状は、作用パルスの形状と同じであるが反転
されて負の極性を有する。図示のように、信号に
したがつてまた作用パルスの大きさは最初徐々に
増大し次いで少し減少ししかる後に急激に増大し
ており、これは加工ギヤツプ９に短絡傾向が在る
ことを表わす。しかる後に、レベルは漸次零まで
降下する。ギヤツプ電流信号は増幅器１７４に印
加される。この増幅器は微分素子を有しており、
状態信号は増幅され且つ微分される。このように
して、接続点１７６には、この点１７６の近くに
示したように、入力電流信号の初期電流上昇に対
応して、正の矩形パルスと、次いで入力電流信号
の電流降下に対応して負の矩形パルスとを有する
信号が得られる。入力電流信号の極めて急峻な電
流立上りから、接続点１７６の信号には大きな正
振幅の矩形パルスが生じる。最後に、入力信号の
緩慢な勾配の後縁部に対応して、接続点１７６の
信号には別の矩形の負パルスが生じる。この信号
は、比較器１７７の１入力に印加されてこゝで基
準電圧Vrefと比較される。この基準信号電圧
は、例えば加工ギヤツプ９における短絡傾向を表
わす急峻な電流上昇に対応する高レベルのパルス
だけが比較器１７７の出力１７２に通されるよう
に設定される。基準電圧は、火花侵食回路におけ
る真の状態を考慮して、発生器が最初に実施され
る時に設定される。加工ギヤツプ９における短絡
傾向を表わす大振幅の正の矩形パルスだけを含む
線路１７２の出力信号は、線路１１１を介して装
置１に印加され、その結果、例えば、線路１１２
における上限包絡線１６により表わされる上限信
号が若干減少されて、これら２つの包絡線１６お
よび１７間の範囲も、勿論一時的ではあるが若干
狭くされ、それにより火花侵食回路の電流のリツ
プルは減少される。装置１７０の出力線路１７２
における信号はデイジタル信号であつて、装置１
で適応制御に用いられる。出力線路１７２のデイ
ジタル信号は、火花ギヤツプの動作電圧Vfs即ち
ギヤツプ９の幅によつて左右される。このことに
ついて次に詳細に説明する。

接続点１７６に現われる微分ギヤツプ電流信号
はさらに整流装置１７８の１つの入力に供給され
る。この回路の他の入力は接地されており、した
がつて信号の正の部分だけが通されて反転され、
接続点１８０に２つの離間された負パルスとして
現われる。第２番目のパルスは、大きな振幅を有
し短絡傾向を表示するパルスである。この整流反
転信号は積分器１７９に供給される。積分器１７
９においてこの信号は積分され、そして線路１７
３を介しアナログ平均値信号として、工作機械の
送り機構に用いられているサーボ装置９０に供給
される。その波形が出力線路１７３の近くに示さ
れているアナログ平均値信号は、サーボ装置、即
ち工作物９２に対し加工もしくは工具電極９１を
前送りしたり戻したりするためのサーボ装置９０
を制御するのに用いられる。第１図、第３図、第
４図、第５図および第７図の火花侵食回路におけ
る真の電流立上りは、次式に従つて装置１７０に
より測定される。即ち、 ｄｉ／ｄｔ＝Ｅ／Ｌ＝Ｖｓｐ−Ｖｆｓ／Ｌ 上式中 Vsp＝電源電圧（一定） Ｌ ＝線路インダクタンス（一定） Vfs＝火花ギヤツプの動作電圧 上式から 電流上昇ｄｉ／ｄｔ＝ｆ（Vfs） となる。

このようにして、装置１７０は、作用パルスの
電気パラメータの迅速な適応を可能にし且つ加工
ギヤツプ９における不安定な放電に対するサーボ
機構９０の非常に迅速な反応を可能にするのであ
る。

第９図には多数の作用パルスが示されている。
これらの作用パルスは相応に予め設定された包絡
線対１６，１７によつて形成される。第９ａ図に
は、そのピーク部分に小さな三角形のパルスがあ
る２つのパルスが示されている。このような作用
パルスは材料が液相にある間工作物９２の表面か
ら侵食された材料を除去するのに用いて好適であ
る。第９ａ図の作用パルスは、短時間内にできる
だけ多くの材料を除去しなければならないように
粗侵食加工に用いられる。

第９ｂ図は、三角形のリツプルを有する作用パ
ルスを示す。これらパルスもまた粗侵食加工に用
いられる。

第９ｃ図は、大きなパルス間隔を有する小さな
三角形パルスを示す。これらパルスは材料の除去
速度が問題とならず、表面品質および寸法精度が
本質的な基準となるような繊細な侵食加工に用い
られる。

第１０図は、包絡線信号発生装置１の構成の１
例を示す。この装置は、タイミング、パルス発生
器１２０、単安定マルチバイブレータ１２１、ゲ
ート１２２、アドレス計数器１２３、４つのプロ
グラム可能な読出専用メモリ即ちPROM１２４，
１２５，１２６および１２７、２つのデイジタル
ーアナログ変換器即ちＤ−Ａ変換器１２８および
１２９、ならびに２つの増幅器１３０および１３
１から構成されている。アドレス計数器１２３は
従来公知の２進リツプルカウンタで構成される５
ビツトカウンタである。このアドレスカウンタ１
２３の値によつて読出専用メモリ１２４〜１２７
のアドレスが選択され、その中の１つの読出専用
メモリに記憶されている包絡線が出力される。読
出専用メモリの各々には、特定の侵食動作に望ま
しいと判つた複数の異なつた波形の各々を有する
上限および下限包絡線信号１６および１７が記憶
されている。各メモリにおいて２つの包絡線信号
１６および１７は各々横座標に沿い順次抽出され
た波形のサンプルの大きさを表わす一連のデイジ
タル値なる形態で記憶されている。このようにし
て、適正なシーケンスでデイジタル値を直列にメ
モリから読出すと、特定の波形が再構成される。
なお、４個以外の数の読出専用メモリを用いるこ
ともできる。例えば、鎖線で表示するように、４
個よりもかなり大きな数の読出専用メモリを用い
ることができる。形成することができる包絡線信
号の形状の例を示す第１１図をさらに説明する。
入力線路１１１は侵食機械の加工ギヤツプに印加
される侵食パルスの形状Ｆ、持続時間tp、パルス
間隔時間Ｐおよび電流の大きさＡを制御する信号
を供給するための手段（図示せず）に接続されて
いる。これらの信号を供給するための手段は、既
述の特許および特許願明細書に開示されている調
整装置および適応化装置、または、例えばパン
チ・カードまたは磁気テープ記憶装置のようなデ
ータ記憶装置の読出装置または、例えばキー、選
択スイツチまたはポテンシヨメータのような手動
操作される入力要素を有する手動制御装置から構
成することができる。侵食パルスの形状を選択す
る信号Ｆは第８図に示されるような比較器１７７
の出力波形であつて、この波形の振幅が所定のレ
ベルを越えるとき、この信号Ｆが線路１３２を介
して読出専用メモリに供給されて所望の波形の信
号を記憶しているメモリの１つを動作可能にす
る。こゝで所望の形状は第１１図に示す一対の包
絡線１６および１７の形状であり、そして読出専
用メモリ１２４がこれらの包絡線を記憶してお
り、したがつて信号Ｆが線路１３２に加えられる
ことより選択されているものと仮定する。第１１
図に示されているようにパルス幅制御信号tpは制
御線路１１１から線路１３３を介してタイミン
グ・パルス発生器１２０に印加され、このパルス
幅に対応したタイミング・パルスが得られる。タ
イミング・パルス発生器１２０からのタイミン
グ・パルスはゲート１２２の１つの入力に印加さ
れる。ゲート１２２は、単安定マルチバイブレー
タ１２１により他の入力に信号が印加されていな
い場合これらのタイミング・パルスを通しそして
単安定マルチバイブレータ１２１が上記他の入力
信号を印加している場合には阻止する。タイミン
グ・パルスはゲート１２２からアドレス計数器１
２３に印加され、この計数器１２３は第１０図に
示す例の場合５ビツト計数器として構成されてい
る。アドレス計数器１２３はアドレス０〜３１を
循環的に計数するもので、５段即ち５ビツトを有
し、したがつて０から最大３１まで計数すること
ができる。ゲート１２２から各パルスを受信する
毎に、計数器の内容は３１になるまで１づつ増分
し、そして３１になつた時には次のパルスでその
内容は再び０になる。計数器１２３からの５ビツ
ト出力は線路１３７を介して選ばれた読出専用メ
モリ１２４に印加される。ここには、包絡線１６
および１７の各々が時間軸ｔに沿つて順次抽出さ
れた曲線のサンプルの大きさを表わす32個のデイ
ジタル信号列なる形態で記憶されている。例とし
て、各デイジタル信号は１６の異なつた２進値の
うちの任意の値を取ることができる。即ち、波形
の大きさＩは１６の増分に分割され、そしてこの
場合には１つのデイジタル信号を記憶する各記憶
場所は４ビツトを有さねばならない。アドレス計
数器１２３の内容の各値に対して、メモリ１２４
の別の対の記憶場所が読出される。このようにし
て、計数器１２３がゲート１２２から受信するパ
ルスを計数するにつれて、２つの包絡線１６およ
び１７のサンプルの大きさを表わすデイジタル信
号がパルスの繰返し速度に左右される速度で逐次
読出されて包絡線が再構成される。メモリ１２４
における最後の対の記憶場所（例えばアドレス３
１を有するもの）の各々は常にデイジタル信号
「0000」を記憶している。この信号は、各包絡線
の端を表わし、したがつて相続く各パルス対間の
期間中装置１の出力の振幅は零であることを表わ
す。この状態は単安定マルチバイブレータ１２１
に終了信号を印加する終了検出器１３６により検
出される。この終了信号が受信されると、動作休
止期間であるパルス間隔信号Ｐのパルスが、この
単安定マルチバイブレータ１２１に入力線路１３
４を介して加えられ、これに対応する出力パルス
を発生する。このパルスはゲート１２２に印加さ
れ、この結果ゲートは閉じて、期間Ｐ中、タイミ
ング・パルス発生器１２０からアドレス計数器１
２３には最早やパルスは供給されなくなる。単安
定マルチバイブレータ１２１が安定状態に戻る
と、ゲート１２２は再び開いて、その結果、パル
スは発生器１２０からアドレス計数器１２３に通
ることができる。読出専用メモリ１２４の記憶場
所は斯くして再び最初（アドレス「０」）から順
次質問され、それにより包絡線１６および１７が
再び得られる。読出専用メモリ１２４は、上限包
絡線１６が１つの出力線路１３９を介して次段の
Ｄ−Ａ変換器１２９に通されるように構成されて
いる。下限包絡線１７は他の出力線路１３８を介
して他のＤ−Ａ変換器１２８に印加される。２つ
の変換器１２８および１２９はデイジタル曲線値
をアナログ値に変換し、その結果、第１１図に示
すアナログ形態の上限包絡線１６は次段の増幅器
１３１に印加され、他方第１１図にやはり示され
ている形態の下限包絡線１７は他の次段の増幅器
１３０に供給される。２つの増幅器１３０および
１３１において、２つの包絡線の所望の大きさま
たは電流の強さは、線路１３５を介して制御線路
１１１により発生される信号Ａ（第７，８図の信
号線路１７２に相当）に基ずいて設定される。上
限包絡線１６は線路１１２を通り、そして下限包
絡線１７は線路１１３を通つて第１図および第３
図ないし第７図に示される次段の比較装置２に供
給される。

第１０図に示される実施例においては、読出専
用メモリ１２４，１２５，１２６，１２７の各々
はそれぞれ特定の形状を有する上限および下限包
絡線を記憶している。別の方法として、１つの読
出専用メモリを各曲線に割当てて、形成しようと
する各パルス形状に対し２つのメモリを設け、１
つのメモリは該パルス形状に対する上限包絡線
を、そして他のメモリは下限包絡線を記憶するよ
うにすることもできる。さらにまた、単一のメモ
リを設け、１つ以上のパルス形状のための上、下
限包絡線を記憶するようにしても良い。どのよう
な記憶方式を採用するかは、用いられるメモリの
構成および容量によつて選択される。

なお、第１０図に示した制御線路１１１の数、
およびこれら線路を介して供給される信号で制御
されるパラメータは単なる例として述べたに過ぎ
ない。

同様にして、本発明の範囲から逸脱することな
く、上述した実施例に対し種々な変更が可能であ
ることを付記しておく。

【図面の簡単な説明】

第１図はパルス発生器の簡略回路図、第２ａ
図、第２ｂ図および第２ｃ図は包絡線の波形例を
示す波形図、第３図、第４図および第５図はパル
ス発生器の別の実施例をそれぞれ示す簡略図、第
６図は第１図および第３図ないし第５図のパルス
発生器で用いられる比較装置および制御手段の回
路図、第７図はパルス発生器の１部分およびパル
ス形状を調節する装置を示す簡略回路図、第８図
は第７図の調整装置を詳細に示す回路図、第９ａ
図ないし第９ｃ図は特定の型式の侵食過程のため
の作用パルスの形状を示す波形図、第１０図は第
１図および第３図ないし第７図のパルス発生器に
おいて使用することができる信号発生器の１実施
例を示す簡略回路図である。第１１図は第１０図
の動作を説明するに有用な包絡線を示す図であ
る。 ９１……加工電極、９２……工作物、、９……
加工ギヤツプ、１６，１７……包絡線信号、１…
…包絡線信号発生器、４，５，６，７，８ａ，８
ｂ，９……火花侵食回路、３……制御回路、２…
…比較装置、４……電力スイツチ、５……電流
源、６……ダイオード、１３……スイツチ同期制
御回路、１２４−１２７……デイジタル・メモ
リ、１３０，１３１……増幅器、１２０……クロ
ツク発生器、１２２……ゲート、１２８，１２９
……Ｄ−Ａ変換器、２３，２４……比較器、１７
０……調整回路、１７３……整流回路、１７４…
…微分回路、１７９……積分器、１７８……整流
装置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 侵食することにより工作物を加工するために
   放電加工機の加工電極及び工作物間の加工ギヤツ
   プに印加される電気パルスを形成するためのパル
   ス発生器において、 火花加工回路８ａ，９１，９，９２，８ｂと相
   互接続されるとともに電流源５及びスイツチ４を
   含む電流供給回路であつて、前記スイツチが前記
   加工ギヤツプへの供給電流をオン／オフするもの
   であり、前記スイツチ及び電流源と並列にダイオ
   ード６が接続されており前記供給電流が前記スイ
   ツチによつて切断されたとき前記ダイオードを介
   して残留電流を流すもの、 前記加工ギヤツプを流れる加工ギヤツプ電流を
   示す信号を形成し前記火花加工回路と相互接続さ
   れた検出手段７、 前記加工ギヤツプの状態に応じて該加工ギヤツ
   プに送られるべきパルスの形状を有する上限及び
   下限の二つの包絡線１６，１７を発生する回路
   １、及び 前記包絡線発生回路１の出力と前記検出手段の
   出力とを比較して前記加工ギヤツプ電流が前記二
   つの包絡線間に収まるように制御信号を前記スイ
   ツチの制御端子に出力する比較制御手段２，３、 を備えたことを特徴とするパルス発生器。 ２ 前記包絡線発生回路は、所望の包絡線波形１
   ６，１７を記憶したプログラム可能な読み出し専
   用メモリ１２４−１２７と、各包絡線波形を読み
   出す手段１２０−１２３，１３３，１３４，１３
   ６，１３７と、読み出した各包絡線波形を前記比
   較制御手段に送る手段１２８−１３１と、を含ん
   でいることを特徴とする特許請求の範囲第１項に
   記載のパルス発生器。 ３ 前記スイツチは、前記比較制御手段に接続さ
   れたベースを有するトランジスタであることを特
   徴とする特許請求の範囲第２項に記載のパルス発
   生器。 ４ 前記検出手段は、前記スイツチと前記加工ギ
   ヤツプ９との間に接続された抵抗器であり、該抵
   抗器の一端が接地され、他端が前記比較制御手段
   に接続されていることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項に記載のパルス発生器。 ５ 侵食することにより工作物を加工するために
   放電加工機の加工電極及び工作物間の加工ギヤツ
   プに印加される電気パルスを形成するためのパル
   ス発生器において、 火花加工回路８ａ，９１，９，９２，８ｂと相
   互接続されるとともに電流源５及びスイツチ４を
   含む電流供給回路であつて、前記スイツチが前記
   加工ギヤツプへの供給電流をオン／オフするもの
   であり、前記スイツチ及び電流源と並列にダイオ
   ード６が接続されており前記供給電流が前記スイ
   ツチによつて切断されたとき前記ダイオードを介
   して残留電流を流すもの、 前記加工ギヤツプを流れる加工ギヤツプ電流を
   示す信号を形成し前記火花加工回路と相互接続さ
   れた検出手段７、 前記加工ギヤツプの状態に応じて該加工ギヤツ
   プに送られるべきパルスの形状を有する上限及び
   下限の二つの包絡線１６，１７を発生する回路
   １、 前記包絡線発生回路１の出力と前記検出手段の
   出力とを比較して前記加工ギヤツプ電流が前記二
   つの包絡線間に収まるように制御信号を前記スイ
   ツチの制御端子に出力する比較制御手段２，３、
   及び 前記加工ギヤツプ間の放電開始を容易にするた
   めの付加加工パルスを発生する回路、 を備えたことを特徴とするパルス発生器。 ６ 前記付加加工パルス発生回路は、前記火花加
   工回路に挿入接続された別のダイオード１０と、
   別のスイツチ１１に直列接続された別の電流源１
   ２と、前記包絡線発生回路に接続され該包絡線発
   生と同期して前記別のスイツチを制御する同期回
   路１３と、で構成され、前記別のダイオードが前
   記別のスイツチ及び前記別の電流源と並列接続さ
   れていることを特徴とする特許請求の範囲第５項
   に記載のパルス発生器。 ７ 前記付加加工パルス発生回路は、前記火花加
   工回路に挿入接続された別のダイオード１０と、
   別のスイツチ１１に直列接続された別の電流源１
   ２と、前記包絡線発生回路に接続され該包絡線発
   生と同期して前記別のスイツチを制御する同期回
   路１３と、で構成され、前記別のスイツチと前記
   別の電流源との直列接続体が二つの前記ダイオー
   ドに並列接続され、これら二つのダイオードが直
   列接続されていることを特徴とする特許請求の範
   囲第５項に記載のパルス発生器。 ８ 侵食することにより工作物を加工するために
   放電加工機の加工電極及び工作物間の加工ギヤツ
   プに印加される電気パルスを形成するためのパル
   ス発生器において、 火花加工回路８ａ，９１，９，９２，８ｂと相
   互接続されるとともに電流源５及びスイツチ４を
   含む電流供給回路であつて、前記スイツチが前記
   加工ギヤツプへの供給電流をオン／オフするもの
   であり、前記スイツチ及び電流源と並列にダイオ
   ード６が接続されており前記供給電流が前記スイ
   ツチによつて切断されたとき前記ダイオードを介
   して残留電流を流すもの、 前記加工ギヤツプを流れる加工ギヤツプ電流を
   示す信号を形成し前記火花加工回路と相互接続さ
   れた検出手段７、 前記加工ギヤツプの状態に応じて該加工ギヤツ
   プに送られるべきパルスの形状を有する上限及び
   下限の二つの包絡線１６，１７を発生する回路
   １、及び 前記包絡線発生回路１の出力と前記検出手段の
   出力とを比較して前記加工ギヤツプ電流が前記二
   つの包絡線間に収まるように制御信号を前記スイ
   ツチの制御端子に出力する比較制御手段２，３、 を備え、更に、前記ダイオードに直列接続され
   た別のスイツチ１６０と、該別のスイツチに並列
   接続された別のダイオード１４と、該別のダイオ
   ードに直列接続された別の電流源１５と、前記別
   のスイツチの制御入力に接続された付加制御手段
   ３ａと、を備え、前記付加制御手段は前記スイツ
   チに同期して前記別のスイツチを駆動するもので
   あり、前記別の電流源は二つの前記ダイオードを
   介して前記残留電流を吸収し、以て電流変化率を
   増大させるものであることを特徴とするパルス発
   生器。 ９ 侵食することにより工作物を加工するために
   放電加工機の加工電極及び工作物間の加工ギヤツ
   プに印加される電気パルスを形成するためのパル
   ス発生器において、 火花加工回路８ａ，９１，９，９２，８ｂと相
   互接続されるとともに電流源５及びスイツチ４を
   含む電流供給回路であつて、前記スイツチが前記
   加工ギヤツプへの供給電流をオン／オフするもの
   であり、前記スイツチ及び電流源と並列にダイオ
   ード６が接続されており前記供給電流が前記スイ
   ツチによつて切断されたとき前記ダイオードを介
   して残留電流を流すもの、 前記加工ギヤツプを流れる加工ギヤツプ電流を
   示す信号を形成し前記火花加工回路と相互接続さ
   れた検出手段７、 前記加工ギヤツプの状態に応じて該加工ギヤツ
   プに送られるべきパルスの形状を有する上限及び
   下限の二つの包絡線１６，１７を発生する回路
   １、 前記包絡線発生回路１の出力と前記検出手段の
   出力とを比較して前記加工ギヤツプ電流が前記二
   つの包絡線間に収まるように制御信号を前記スイ
   ツチの制御端子に出力する比較制御手段２，３、
   及び 前記検出手段からの前記加工ギヤツプ電流を表
   す信号に応答してギヤツプ電流の増加率を決定
   し、これに依存して前記包絡線を制御する信号を
   前記包絡線発生回路に出力する調整手段１７０、 を備えたことを特徴とするパルス発生器。 １０ 前記調整手段は、前記検出手段に接続され
   た微分・増幅手段１７４と、該微分・増幅手段に
   接続された入力及び前記ギヤツプ電流増加率の最
   大所望値を表す基準信号Nrefを受ける他の入力
   を有し実際の増加率信号と前記基準信号とを比較
   してその結果に基づき前記包絡線を制御する信号
   を発生する比較手段１７７と、前記微分・増幅手
   段に接続されて前記実際の増加率信号を整流する
   ための整流器手段１７８と、該整流器手段に接続
   されて整流された増加率信号を積分し前記放電加
   工機の加工送り駆動部を制御するための制御信号
   を発生するための積分手段１７９と、を備えてい
   ることを特徴とする特許請求の範囲第９項に記載
   のパルス発生器。