JPS6226658A - Photomagnetic recording medium - Google Patents

Photomagnetic recording medium

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JPS6226658A
JPS6226658A JP16413285A JP16413285A JPS6226658A JP S6226658 A JPS6226658 A JP S6226658A JP 16413285 A JP16413285 A JP 16413285A JP 16413285 A JP16413285 A JP 16413285A JP S6226658 A JPS6226658 A JP S6226658A
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JP
Japan
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substrate
layer
recording
film
magneto
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Pending
Application number
JP16413285A
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Japanese (ja)
Inventor
Norio Oota
憲雄 太田
Ken Sugita
杉田 愃
Shinkichi Horigome
堀篭 信吉
Toshio Niihara
敏夫 新原
Katsuhiro Kaneko
金子 克弘
Shigenori Okamine
岡峯 成範
Masahiko Takahashi
正彦 高橋
Ryoichi Sudo
須藤 亮一
Hiroaki Miwa
広明 三輪
Tetsuo Tajima
田島 哲夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • G11B11/10Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
    • G11B11/105Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
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    • G11B11/10582Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form

Abstract

PURPOSE:To improve recording and reproducing characteristics by providing a protective film on both or one side of a magnetic film for magnetic recording having the axis of easy magnetization in the direction perpendicular to the film plane. CONSTITUTION:A mold plate 2 inscribed with rugged information patterns 1 is formed to a pan-shape into which liquid can be poured. A liquid photosetting resin 3 is poured into such mold plate. A releasable transparent plate 4 as a top cap is put on the photosetting resin 3 and thereafter an energy beam such a UV rays is irradiated from at least either direction of the plate 2 or the cap 4 to cure the resin 3, by which the substrate having the information patterns is obtd. The 1st transparent dielectric film 6 consisting of, for example, SiO2, ZnS, etc. is formed on the substrate 5 for a photomagnetic disk obtd. in such a manner and further an amorphous rate earth transition metallic layer 7 as a photomagnetic recording layer is formed on the layer 6; finally a dielectric layer prepd. by a sputtering or vapor deposition method as a layer 8 to protect the magnetic layer 7 from the outside is deposited thereon. The recording and reproducing characteristics of the photomagnetic recording are thereby improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、光磁気記録用ディスクの媒体溝造に係り、特
に、ディスク全体の耐熱性が良好で、光を加熱源とした
光を加熱源とした光ビーム記録に適し、しかも、再生時
には、磁気光学再生信号を光学的に乱されることなく、
良好な再生を可能とするに足る光磁気記録媒体に係る。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Application of the Invention] The present invention relates to the formation of media grooves in a magneto-optical recording disk, and in particular, the present invention relates to a structure in which the entire disk has good heat resistance and uses light as a heating source. Suitable for optical beam recording, and during playback, the magneto-optic playback signal is not optically disturbed.
The present invention relates to a magneto-optical recording medium that is sufficient to enable good reproduction.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

光磁気記録ディスクあるいはテープ媒体は、光記録の中
でも、特に消去可能な媒体であり、磁気記録と同様に何
回でも書換えができる新しい媒体である。しかも、従来
の磁気記録に比べて、2〜3桁、記録密度が高く、かつ
媒体交換が容易という著しい特長を合せ持っている。こ
の光磁気媒体を安価に生産し、社会の需要に応えうるよ
うにするために:よ、まず第1に光ヘッドのトラック案
内溝や、ヘッダー信号用のピット(情報用のピット穴)
等を、膜厚0.5〜3m程度のプラスチック基板の表面
に直接形成する、いわゆる情報パターン直接転写法を実
現し、それによって作製した情報ピット付基板を用いる
ことが重要である。また、第2の要請としては、光磁気
記録の再生原理であるところの、磁性媒体からの反射直
線偏光々のわずかな偏光角回転(カー回転)を乱さない
基板を用いて記録媒体を構成することが挙げられる。こ
のためには基板自身の持つ複屈折がきわめて小さく、リ
ターデーション(光の位相遅れ)が実用的な範囲内(約
10nm以内)におさえられている必要がある。さらに
第3の要請としては、数十ガロ以上の光ビーム加熱(記
録時に膜面で5〜10mWが通常の値である)後も、熱
変形を起さない基板を用いた記録媒体の構成とし、長期
の使用に十分耐える媒体とすることが挙げられる。
Magneto-optical recording disks or tape media are especially erasable media among optical recording, and are new media that can be rewritten any number of times like magnetic recording. Moreover, compared to conventional magnetic recording, it has two to three orders of magnitude higher recording density and has the remarkable advantages of easy medium exchange. In order to produce this magneto-optical medium at a low cost and meet the demands of society: First of all, the track guide groove of the optical head and the pit for the header signal (pit hole for information)
It is important to realize a so-called information pattern direct transfer method, in which information patterns are directly formed on the surface of a plastic substrate with a film thickness of about 0.5 to 3 m, and to use a substrate with information pits produced by this method. The second requirement is to construct a recording medium using a substrate that does not disturb the slight polarization angle rotation (Kerr rotation) of linearly polarized light reflected from a magnetic medium, which is the reproduction principle of magneto-optical recording. This can be mentioned. For this purpose, the birefringence of the substrate itself must be extremely small, and the retardation (phase delay of light) must be kept within a practical range (within about 10 nm). Furthermore, the third requirement is that the recording medium be constructed using a substrate that does not undergo thermal deformation even after being heated by a light beam of several tens of gallons or more (the normal value is 5 to 10 mW at the film surface during recording). , to make the medium sufficiently durable for long-term use.

従来、情報パターンを樹脂基板表面に直接形成する方法
としては射出成形法(インジェクション法)が知られて
いる。たとえば、通称コンパクトディスク等のディジタ
ル音声再生専用光ディスクにはポリ・カーボネート製の
基板(以下PC基板と称す)がまた、画像再生用の光デ
ィスクには、アクリル樹脂基板(以下PMMA基板と称
す)が射出成形法によって作製され、安価に供給されて
いる。光磁気ディスクにおいても、これらの基板を用い
た媒体構成が検討されている。たとえば、PC基板を用
いた例としては、第8回2日本応用磁気学会学術講演概
要集、223頁(1984)に記載の例がある。また、
PMMA基板を用いた例としては、日本応用磁気学会誌
第8巻5号。
Conventionally, an injection molding method (injection method) is known as a method for directly forming an information pattern on the surface of a resin substrate. For example, optical discs dedicated to digital audio playback, such as compact discs, are made of polycarbonate substrates (hereinafter referred to as PC boards), and optical discs for image playback are made of acrylic resin substrates (hereinafter referred to as PMMA boards). It is manufactured using a molding method and is supplied at low cost. Media configurations using these substrates are also being considered for magneto-optical disks. For example, as an example using a PC board, there is an example described in the 8th 2nd Japanese Society of Applied Magnetics Academic Lecture Abstracts, p. 223 (1984). Also,
An example using a PMMA substrate is the Journal of the Japanese Society of Applied Magnetics, Vol. 8, No. 5.

355頁(198/1年)に記載の報告がある。しかし
ながら、上記2者を用いた光磁気ディスクでは、実用上
の観点からそれぞれ以下の点について配慮されていなか
った。まず、PC基板を用いた光磁気ディスクでは、基
板の複屈折によるリターデーションが30〜150nm
ときわめて大きく、通常の光磁気信号再生係では、再生
信号が乱されて、信号レベルが10〜20デシベル以上
も低下し、再生が不可能になる致命的な難点がある。ま
た、仮に、光磁気信号再生係に、リターデーションの大
きさを相殺するような光学系を組入れたとしても、pc
基板の複屈折の変動が5〜10μm長ごとにおきること
から、これに高速で追随しうる光学ヘッド素とすること
は至難であり、実用上の要請を満足させることが不可能
である。いずれにしてもPC基板を用いた場合、光磁気
記録の再生を十分に行うことはできない。次に、P M
MA基板の場合には、複屈折が小さく、リターデーショ
ンは4〜IOnmと小さくなり、光磁気信号の再生には
支障が無い。しかしながら、耐熱性がPC基板にくらべ
て著しく劣っている。たとえばPC基板では100〜1
40℃の加熱においても、そりや変形等の現象は見られ
ず、きわめて熱的に安定している。ところがPMMA基
板では、60°C程度ですでに、そり等の熱変形があら
れれる。
There is a report on page 355 (January 198). However, in magneto-optical disks using the above two methods, the following points have not been considered from a practical standpoint. First, in a magneto-optical disk using a PC board, the retardation due to the birefringence of the board is 30 to 150 nm.
This is extremely large, and a normal magneto-optical signal reproducing system has a fatal problem in that the reproduced signal is disturbed and the signal level drops by 10 to 20 decibels or more, making reproduction impossible. Furthermore, even if an optical system that cancels out the magnitude of retardation is incorporated into the magneto-optical signal reproducing section, the PC
Since the birefringence of the substrate varies every 5 to 10 μm in length, it is extremely difficult to create an optical head element that can follow this variation at high speed, and it is impossible to satisfy practical requirements. In any case, if a PC board is used, magneto-optical recording cannot be reproduced satisfactorily. Next, P.M.
In the case of the MA substrate, the birefringence is small, the retardation is as small as 4 to 100 nm, and there is no problem in reproducing magneto-optical signals. However, its heat resistance is significantly inferior to that of a PC board. For example, on a PC board, it is 100 to 1.
Even when heated at 40° C., no phenomena such as warping or deformation were observed, and the material was extremely thermally stable. However, PMMA substrates already undergo thermal deformation such as warping at about 60°C.

光磁気記録では再生専用の光ディスクと異なり、消去な
らびに再書込みが可能であることから、5〜10mW程
度の消去および再記録用加熱が常時行なわれており、再
生専用のディスクに比べて、耐熱性に対する要請はきわ
めてきびしい。
Unlike read-only optical discs, magneto-optical recording can be erased and rewritten, so heating for erasing and re-recording of about 5 to 10 mW is constantly performed, making it more heat resistant than read-only discs. The requirements for this are extremely strict.

PMMA基板゛基板−た光磁気記録では、たった1回の
光ビーム照射(5mW以上)でも1〜3μm程度の長さ
にわたって微小な熱変形が生じ、この結果、反射光量が
減って、光磁気信号量が減じられる。従ってPMMA基
板を光磁気用の基板とした場合、数十ガロ以上の書換え
が要請される実用的なディスクとはとうてい成りえない
致命的な欠点を有している。以上のように、これまで、
光磁気記録媒体としては、上記第1から第3の要請まで
をすべて満足するような基板および媒体構成は存在して
いなかった。
In magneto-optical recording using a PMMA substrate, even a single light beam irradiation (5 mW or more) causes minute thermal deformation over a length of about 1 to 3 μm.As a result, the amount of reflected light decreases and the magneto-optical signal quantity is reduced. Therefore, when a PMMA substrate is used as a magneto-optical substrate, it has a fatal drawback that it cannot be used as a practical disk that requires rewriting of several tens of gal or more. As mentioned above, until now,
As a magneto-optical recording medium, there has not existed a substrate and a medium configuration that satisfies all of the first to third requirements described above.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、前記第1から第3までの要請を満足す
る光磁気記録用の基板およびそれを用いた記録媒体を提
供することにある。すなわち、情報パターンを基板表面
上に直接、容易に形成しうる形成法を用いた基板とし、
しかも、複屈折によるリターデーションが10nm以下
と小さく、かつ、熱変形が小さい基板とし、さらに、こ
の基板を用いた光磁気記録媒体を提供することである。
An object of the present invention is to provide a magneto-optical recording substrate that satisfies the first to third requirements and a recording medium using the same. That is, the substrate uses a formation method that allows the information pattern to be easily formed directly on the substrate surface,
Moreover, it is an object of the present invention to provide a substrate having a small retardation due to birefringence of 10 nm or less and a small thermal deformation, and further to provide a magneto-optical recording medium using this substrate.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明では、基板材料は液体状態のまま、情報パターン
を刻みこんだ型板上に滴下する。その後、紫外線等の光
を照射して光硬化せしめ、0.5〜31m程度の厚さの
板とし、離型して、基板として用いる。この方法では次
のような利点が生ずる。
In the present invention, the substrate material is dropped while in a liquid state onto a template in which an information pattern is engraved. Thereafter, it is photocured by irradiation with light such as ultraviolet rays to form a plate with a thickness of about 0.5 to 31 m, which is then released from the mold and used as a substrate. This method has the following advantages:

まず第1に、液体状態で型板に接するので、接触圧によ
る内部歪が生じない。また、硬化の為の光も均等に照射
されるので硬化過程でも内部歪が生ぜす、結果として、
内部歪による光弾性効果の生しない、従って複屈折やり
タープ−ジョンのきわめて小さい光磁気媒体に好適な基
板が得られる。
First of all, since it contacts the template in a liquid state, no internal distortion occurs due to contact pressure. In addition, since the light for curing is evenly irradiated, internal distortion occurs during the curing process, as a result,
A substrate suitable for a magneto-optical medium, which does not produce a photoelastic effect due to internal strain and therefore has extremely small birefringence or turbulence, can be obtained.

第2に、光硬化の感度の良い材料を用いれば、約1分程
度で固化プロセスが完了するので、効率よく情報バタン
付基板を得ることができ注型法と同等以上の量産性を発
揮することができる。さらに第3としては、PMMA基
板よりも耐熱性に優れた、光硬化型樹脂を基板材料とし
て選ぶことが可能となり、耐熱性の点での難点を越える
ことができる。
Second, if a material with good photo-curing sensitivity is used, the curing process can be completed in about one minute, making it possible to efficiently obtain a board with an information button and achieving mass productivity equivalent to or better than the casting method. be able to. Furthermore, thirdly, it becomes possible to select a photocurable resin, which has better heat resistance than a PMMA substrate, as the substrate material, thereby overcoming the drawback in terms of heat resistance.

さて、上記の方法によって基板を作製し、ひき続いてカ
ー効果をエンハンスするための多重反射膜層としての高
屈折率誘電体層、記憶層としての希土類・遷移金属磁性
層、保護層としての誘電体層等を順次形成して、ディス
クを作製すれば、量産性に優れ、しかも再生効率が良く
、さらに、耐候性に優れた良好な光磁気記録媒体を得る
ことが初めて可能となる。
Now, a substrate is manufactured by the above method, and then a high refractive index dielectric layer is used as a multi-reflection film layer to enhance the Kerr effect, a rare earth/transition metal magnetic layer is used as a storage layer, and a dielectric layer is used as a protective layer. If a disk is manufactured by sequentially forming the body layers, etc., it becomes possible for the first time to obtain a good magneto-optical recording medium that is excellent in mass productivity, has good reproduction efficiency, and has excellent weather resistance.

本発明に適合する光硬化型樹脂の一例として、液状のア
クリル系または/およびメタクリル系光硬化性樹脂があ
る。該光硬化型樹脂は、分子中に1個またはそれ以上の
アクリル基またはメタクリル基を有し、光照射時にラジ
カル重合開始剤などによって速やかに架橋反応を起し、
光学的に透明な硬化物となるものならば、特に限定はな
いが、例えば、次のものが有用である。
An example of a photocurable resin suitable for the present invention is a liquid acrylic and/or methacrylic photocurable resin. The photocurable resin has one or more acrylic or methacrylic groups in the molecule, and rapidly undergoes a crosslinking reaction with a radical polymerization initiator when irradiated with light.
There are no particular limitations as long as they result in an optically transparent cured product, but for example, the following are useful.

一官能モツマ n−へキシルアクリレート。Monosensual Motsuma n-hexyl acrylate.

n−へキシルメタクリレート、 2−エチルへキシルアクリレート、 ′2−エチルへキシルメタクリレート、n−オクチルア
クリレート、 n−オクチルメタクリレート、 デシルアクリレート、 デシルメタクリレート、 ラウリルアクリレート。
n-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, '2-ethylhexyl methacrylate, n-octyl acrylate, n-octyl methacrylate, decyl acrylate, decyl methacrylate, lauryl acrylate.

ラウリルメタクリレート、 トリデシルアクリレート、 トリデシルメタクリレート、 ジシクロペンテニルアクリレート、 ジシクロペンテニルメタクリレート、 ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジシク
ロペンテニルオキシエチルメタクリレート、 シクロへキシルアクリレート、 シクロへキシルメタクリレート、 テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、 イソボルニルメタクリレート、 多官能モノマ ネオペンチルグリコールジアクリレート。
Lauryl methacrylate, tridecyl acrylate, tridecyl methacrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyl methacrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, Tetrahydrofurfuryl methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, polyfunctional monomaneopentyl glycol diacrylate.

ネオペンチルグリコールジメタクリレート、1.6ヘキ
サンジオールジアクリレート、1.6ヘキサンジオール
ジメタクリレート、トリメチロールエタントリアクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、エポキシ化合物のアクリ
レートおよびメタクリレート ビスフェノールAジグリシジルエーテルのジアクリレー
ト ビスフェノールAジグリシジルエーテルのジメタクリレ
ート、 水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテルのジア
クリレート、 水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテルのジメ
タクリレート、 ビスフェノールFジグリシジルエーテルのジアクリレー
ト、 ビスフェノールFジグリシジルエーテルのジメタクリレ
ート、 水素添加ビスフェノールFジグリシジルエーテルのジア
クリレート、 水素添加ビスフェノールFジグリシジルエーテルのジメ
タクリレート、 エステル化合物のアクリレートおよびメタクリレ−ト ヒドロキシヒバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、 ヒドロキシヒバリン酸ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、 フタル酸ジエチレングリコールジアクリレート、フタル
酸ジエチレングリコールジメタクリレート エーテル化合物のアクリレートおよびメタクリレート、 ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、ジペンタ
エリスリトールへキサメタクリレート、トリプロピレン
グリコールジアクリレート、トリプロピレングリコール
ジメタクリレート、ウレタン化合物のアクリレートおよ
びメタクリレート イソホロンジイソシアネート1モルと2−ヒドロキシエ
チルアクリレート2モルとの反応生成物、イソホロンジ
イソシアネート1モルと2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート2モルとの反応生成物、 1.3−ビス(インシアナトメチル)シクロヘキサン1
モルと2−ヒドロキシエチルアクリレート2モルとの反
応生成物、 1.3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン1
モルと2−ヒドロキシエチルメタクリレート2モルとの
反応生成物、 両末端に水酸基を有するポリ1,2−ブタジェンの1モ
ルにトリレンジイソシアネートを2モル反応させ、過剰
のイソシアネート基に2モルのアクリル酸を反応させた
もので、分子量が約1000〜2000のもの、 両末端に水酸基を有するポリ1,2−ブタジェンの1モ
ルにトリレンジイソシアネートを2モル反応させ、過剰
のイソシアネート基に2モルのメタクリル酸を反応させ
たもので1分子量が約1000〜2000のもの。
Neopentyl glycol dimethacrylate, 1.6 hexanediol diacrylate, 1.6 hexanediol dimethacrylate, trimethylolethane triacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, acrylate of epoxy compounds and diacrylate of bisphenol A diglycidyl ether, dimethacrylate of hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, dimethacrylate of hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, diacrylate of bisphenol F diglycidyl ether, Dimethacrylate of bisphenol F diglycidyl ether, diacrylate of hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, dimethacrylate of hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, acrylate and methacrylate of ester compounds, hydroxyhybalic acid neopentyl glycol diacrylate, hydroxyhybalin Neopentyl glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate phthalate, diethylene glycol dimethacrylate phthalate ether compound acrylates and methacrylates, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate , acrylate and methacrylate of urethane compounds; reaction product of 1 mol of isophorone diisocyanate and 2 mol of 2-hydroxyethyl acrylate; reaction product of 1 mol of isophorone diisocyanate and 2 mol of 2-hydroxyethyl methacrylate; Anatomethyl) cyclohexane 1
reaction product of 2 moles of 2-hydroxyethyl acrylate, 1.3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane 1
A reaction product of 2 moles of 2-hydroxyethyl methacrylate, 2 moles of tolylene diisocyanate is reacted with 1 mole of poly-1,2-butadiene having hydroxyl groups at both ends, and 2 moles of acrylic acid is added to the excess isocyanate group. 2 moles of tolylene diisocyanate are reacted with 1 mole of poly-1,2-butadiene having a molecular weight of about 1,000 to 2000 and has hydroxyl groups at both ends, and 2 moles of methacrylate is added to the excess isocyanate group. It is made by reacting with an acid and has a molecular weight of about 1000 to 2000.

本発明に用いる液状のアクリル基または/およびにメタ
クリル系光硬化性樹脂は、上記1官能および多官能モノ
マの混合物に光照射によりラジカルを生成する光重合開
始剤をO、−5〜10重量%添加して作る。光重合開始
剤の添加量が0.5重量%以下になると、光硬化が不十
分となり、10重量%以上になると樹脂硬化物の機械的
強度を底下させる傾向があり好ましくない。
The liquid acrylic group and/or methacrylic photocurable resin used in the present invention contains O, -5 to 10% by weight of a photopolymerization initiator that generates radicals when irradiated with light to the mixture of monofunctional and polyfunctional monomers. Add and make. When the amount of photopolymerization initiator added is less than 0.5% by weight, photocuring becomes insufficient, and when it is more than 10% by weight, the mechanical strength of the cured resin product tends to decrease, which is not preferable.

本発明に係る光硬化性樹脂に用いる光重合開始剤として
は、ベンジル類、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテルなどのベンゾイン類、ベンゾフェノン、
4−メトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、
アセトフェノン、2,2−ジェトキシアセトフェノンな
どのアセトフェノン類、2−クロロチオキサントン、2
−メチルチオキサントンなどのチオキサントン類、2−
エチルアントラキノン、2−メチルアントラキノンなど
のアントラキノン類、ベンジルジメチルケタール、1−
ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトンなどがあり、
これらは単独もしくは二種類以上混合して用いられる。
Examples of the photopolymerization initiator used in the photocurable resin of the present invention include benzyls, benzoin, benzoins such as benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether, benzophenone,
Benzophenones such as 4-methoxybenzophenone,
Acetophenone, acetophenones such as 2,2-jethoxyacetophenone, 2-chlorothioxanthone, 2
-thioxanthone such as methylthioxanthone, 2-
Anthraquinones such as ethyl anthraquinone and 2-methyl anthraquinone, benzyl dimethyl ketal, 1-
Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, etc.
These may be used alone or in combination of two or more.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下1本発明を実施例により、詳細に説明する。 The present invention will be explained in detail below using examples.

まず、本発明による光磁気記憶媒体に好適な情報パター
ン付基板の作文法を以下のようにして行う。
First, a method of constructing an information patterned substrate suitable for a magneto-optical storage medium according to the present invention is performed as follows.

第1図に示すように、凹凸の情報パターン1が刻まれた
型板2を、液体を注入できるような鍋形の形状とし、そ
の内部に液状の光硬化性樹脂3を注入する。この光硬化
性樹脂としては、アクリル基またはメタクリル基を有す
る化合物を主体とし。
As shown in FIG. 1, a template 2 on which a concavo-convex information pattern 1 is carved is shaped like a pot into which liquid can be injected, and a liquid photocurable resin 3 is injected into the template. This photocurable resin is mainly composed of a compound having an acrylic group or a methacrylic group.

光重合開始剤その他の適切な配合になる紫外線硬化型有
機樹脂を用いる。
An ultraviolet curable organic resin with a photopolymerization initiator and other appropriate ingredients is used.

ここでは、ジペンタエリストール誘導体のへキサアクリ
レート(日本化薬社製商品名DPCA30)40重量%
、イソホロンジイソシアネート1モルと2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート2モルとの反応生成物30重量%
、イソボルニルメタクリレート28重量%、光重合開始
剤ベンゾインイソプロピルエーテル2重量%から成る光
硬化性樹脂を準備した。この光硬化性樹脂3の上部には
、上ぶたとして離形性透明板4をかぶせておく。
Here, 40% by weight of dipentaerythol derivative hexaacrylate (trade name DPCA30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
, 30% by weight of the reaction product of 1 mol of isophorone diisocyanate and 2 mol of 2-hydroxyethyl methacrylate
, 28% by weight of isobornyl methacrylate, and 2% by weight of benzoin isopropyl ether as a photopolymerization initiator. The top of this photocurable resin 3 is covered with a releasable transparent plate 4 as an upper lid.

その後、図に示すように、型板あるいは上ぶたの少なく
ともいずれかの方向から紫外線等のエネルギービーム1
1を照射しく型板、上ぶたの少なくとも1方は透明材か
らなる)、樹脂を硬化させて、情報パターン付基板を得
る。型板から離形させて′−基、板を分離することは言
うまでもない。
Then, as shown in the figure, an energy beam 1 of ultraviolet light or the like is applied from at least one of the directions of the template or the upper lid.
1 (at least one of the template and the upper lid is made of a transparent material) and the resin is cured to obtain a substrate with an information pattern. Needless to say, the substrate and the plate are separated by releasing the mold from the template.

)−さて・このようにして得た光磁気ディ8り用基板5
の上に、第2図の様に、スパッタあるいは蒸着法等によ
りSiO2,Si○、 A Q N、Si3 N 4 
) - Now, the magneto-optical disc substrate 5 obtained in this way
As shown in Fig. 2, SiO2, Si○, A Q N, Si3 N 4 are deposited on the film by sputtering or vapor deposition.
.

ZnS等の透明な第1の誘電体膜6を形成する。A transparent first dielectric film 6 made of ZnS or the like is formed.

この層の厚さは、50〜200nmが通常の値である。The thickness of this layer is typically between 50 and 200 nm.

さらに、この層の上部には、光磁気記録層としての希土
類・遷移金属非晶質層7(たとえば、T b F e 
、 T b F e Co 、 G d T b F 
e 、 Ho G d F e膜など)を蒸着法、スパ
ッタ法等により形成する。この磁性層としては、磁気光
学効果を有する垂直磁化膜であれば、一般的に上記材料
にこだわらないことは言うまでもない。この磁性層の膜
厚としては、5〜200nmの範囲にあればよい。最後
に、磁性層7を外部から保護するための層として、スパ
ッタや蒸着法によって作製されるS io z +Si
○、AIIIN等を始めとした誘電体層が被着される。
Further, on top of this layer, a rare earth/transition metal amorphous layer 7 (for example, T b Fe
, T b F e Co , G d T b F
e, HoGdFe film, etc.) is formed by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like. It goes without saying that the material for this magnetic layer is generally not limited to the above materials as long as it is a perpendicularly magnetized film having a magneto-optic effect. The thickness of this magnetic layer may be in the range of 5 to 200 nm. Finally, as a layer for protecting the magnetic layer 7 from the outside, S io z +Si manufactured by sputtering or vapor deposition is used.
○ A dielectric layer, including AIIIN, etc., is deposited.

もちろん、これらの材料以外に、スピンコード法による
有機保護膜、無機材料保護膜等が用いられることは言う
までもない。
Of course, in addition to these materials, it goes without saying that an organic protective film formed by a spin code method, an inorganic material protective film, etc. may be used.

さて、上記の様にして形成されたディスクのりタープ−
ジョンの大きさを、ディスク内半径の関数として第3図
に示す。図に見るように、ポリカーボネート基板の場合
(31)は内部歪が半径方向に、著しく異なっており、
半径251mのところでは、マイナス60nmであるの
に対し、半径125nwnのところではプラス60nm
に達している。これに対し、複屈折の小さいPMMA樹
脂(32)あるいは、本発明の紫外線硬化樹脂基板(3
3)では、リターデーションは、ディスクの外側近くで
それぞれ最大値10nmあるいは、4nmにしかすぎず
、光磁気記録用基板として再生信号を乱すおそれが全く
無い。しかしながら、第4図に示すように、熱変形によ
る基板のそりは、PMMA基板(42)できわめて、大
きなもの(約0.2m以上)となり、装置、実用に耐え
るものとはなっていない。従って、量産性に優れ、リタ
ーデーションが小さく、シかも耐熱性も良好な基板とし
ては、本発明の光硬化型基板以外には無いと言える。さ
て第5図は、各基板を用いて作製したディスクの信号対
雑音比C/Nを膜面記録パワー P wの関数として示
したものである。ポリカーボネート基板を用いたディス
ク51では、基板の複屈折により、信号レベルが著しく
劣化し、25dB程度のC/Nにしか過ぎず、列置実用
に酎えうるものでは無い。一方、PMMA基板を用いた
ディスクで(52)は、Pwが5mW以上で、膜面の熱
変形による反射率変化が生じ、この結果信号レベルはP
wとともに減少していく。これらに対し、紫外線硬化樹
脂基板を用いたディスクで(53)は、複屈折が小さい
ために信号レベレが52dBまで上がる。しかも記録パ
ワーPwを大きくしても熱変形等による、信号レベルの
低下は全く見られなかった。
Now, the disc glue tarp formed as described above.
The size of the john is shown in FIG. 3 as a function of the disk inner radius. As shown in the figure, in the case of polycarbonate substrate (31), the internal strain differs significantly in the radial direction.
At a radius of 251m, it is -60nm, while at a radius of 125nwn, it is +60nm.
has reached. On the other hand, PMMA resin with low birefringence (32) or the ultraviolet curable resin substrate of the present invention (3
In 3), the retardation has a maximum value of only 10 nm or 4 nm near the outside of the disk, respectively, and there is no risk of disturbing the reproduced signal as a magneto-optical recording substrate. However, as shown in FIG. 4, the warpage of the substrate due to thermal deformation is extremely large (approximately 0.2 m or more) in the PMMA substrate (42), and the device is not suitable for practical use. Therefore, it can be said that there is no other substrate other than the photocurable substrate of the present invention that has excellent mass productivity, low retardation, and good heat resistance. Now, FIG. 5 shows the signal-to-noise ratio C/N of disks manufactured using each substrate as a function of the film surface recording power Pw. In the disk 51 using a polycarbonate substrate, the signal level is significantly degraded due to the birefringence of the substrate, and the C/N is only about 25 dB, making it impossible to put it into practical use. On the other hand, in the case of disk (52) using a PMMA substrate, when Pw is 5 mW or more, reflectance changes occur due to thermal deformation of the film surface, and as a result, the signal level decreases to P
It decreases with w. On the other hand, in the disk (53) using an ultraviolet curable resin substrate, the signal level increases to 52 dB due to small birefringence. Moreover, even when the recording power Pw was increased, no reduction in signal level due to thermal deformation or the like was observed.

本発明の他の実施例としては、第6図に示すごとく、光
硬化型樹脂基板5上に直接磁性膜7を被着し、さらに、
保護膜8を設けたものがある。さらに他の実施例として
は、第7図に示すように磁性層7を5〜10nm程度の
、光の透過できる薄い層とし、AQ、Pt、Au等の反
射層9をその背後に設けて、ファラデー効果あるいはカ
ー効果との重複効果により、光磁気信号の増大を図った
例が挙げられる。この場合も、本発明の媒体構成では基
板のりタープ−ジョンが小さく50dB以上のきわめて
良好な信号再生が可能となる。
As another embodiment of the present invention, as shown in FIG. 6, a magnetic film 7 is directly deposited on a photocurable resin substrate 5, and further,
Some are provided with a protective film 8. As another example, as shown in FIG. 7, the magnetic layer 7 is made of a thin layer of about 5 to 10 nm that allows light to pass through, and a reflective layer 9 of AQ, Pt, Au, etc. is provided behind it. Examples include attempts to increase the magneto-optical signal by the Faraday effect or the overlap effect with the Kerr effect. In this case as well, with the medium configuration of the present invention, very good signal reproduction of 50 dB or more is possible with small board distortion.

以上、本発明の実施例を述べたが、基板の硬化にあたっ
ては光の照射以外に電子線、X線等の照射によっても行
えることは言うまでもない。
Although the embodiments of the present invention have been described above, it goes without saying that the substrate can be cured by irradiation with electron beams, X-rays, etc. in addition to irradiation with light.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、量産性が高く、さらに複屈折等の光学
釣部れがきわめて小さく、しかも耐熱性が良好な基板を
用いて、光磁気記録の記録・再生特性に良好な、結果を
与える光磁気媒体を構成す−ることかできる。
According to the present invention, by using a substrate that is highly mass-producible, has extremely small optical deviations such as birefringence, and has good heat resistance, good results can be obtained in the recording and reproducing characteristics of magneto-optical recording. It is possible to construct a magneto-optical medium.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は光硬化型光磁気ディスク基板の作製方法を示し
た図、第2図は光磁気ディスク媒体の断面構成図(実施
例1)、第3図は各基板のりタープ−ジョンのディスク
半径方向の分布を示す図、第4図は各基板の熱変形そり
量の保持温度依存性を示す図、第5図は各基板を用いて
構成した光磁気ディスクの信号対雑音比の膜面記録パワ
ー依存性を示す図、第6図は光磁気媒体の断面構成図(
実施例2)、第7図は光磁気媒体の断面構成図(実施例
3)である。 ■・・・情報パターン溝、2・・・情報パターン付型板
、3・・光硬化型樹脂、4・・・透明離形板、5・・・
光硬化。 型樹脂基板、6・・・透明誘電体層、7・・・光磁気磁
性層、8・・・保護層、9・・・反射層。 代理人 弁理士 小 川 勝 男 躬/図 象外滌O1) 笥3磨 罫碕3jLユ(k) 」表面tで塵βパワーCx&り 菊2図 第7図
Fig. 1 is a diagram showing a method for manufacturing a photocurable magneto-optical disk substrate, Fig. 2 is a cross-sectional configuration diagram of a magneto-optical disk medium (Example 1), and Fig. 3 is a disk radius of each substrate adhesive tarpion. Figure 4 is a diagram showing the holding temperature dependence of the amount of thermal deformation warpage of each substrate, and Figure 5 is a film recording of the signal-to-noise ratio of a magneto-optical disk constructed using each substrate. Figure 6 shows the power dependence and is a cross-sectional diagram of the magneto-optical medium (
Embodiment 2), FIG. 7 is a cross-sectional configuration diagram of a magneto-optical medium (Embodiment 3). ■... Information pattern groove, 2... Template with information pattern, 3... Photo-curable resin, 4... Transparent release plate, 5...
Light curing. mold resin substrate, 6... transparent dielectric layer, 7... magneto-optical magnetic layer, 8... protective layer, 9... reflective layer. Agent Masaru Ogawa Patent Attorney Ogawa Masaru Otoko/Izuzo Gaikō O1)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する光磁気記録
用磁性膜の両側あるいはいずれか一方側にこれを保護す
るための保護層を設けた構造とし、しかも、この保護層
の少なくとも一方は透明な透電体膜あるいは透明な金属
薄膜もしくは光を反射する反射膜からなる層あるいはこ
れらを複合させた多層膜の層とし、これらを、光硬化型
樹脂よりなる一体形成の溝及び情報パターン付き型板の
上に形成することを特長とした光磁気記録媒体。
1. A structure in which a protective layer is provided on both sides or either side of a magnetic film for magneto-optical recording having an axis of easy magnetization in a direction perpendicular to the film surface, and at least one of the protective layers. is a layer made of a transparent conductive film, a transparent metal thin film, a reflective film that reflects light, or a multilayer film made of a combination of these, and these are combined with integrally formed grooves and information patterns made of photocurable resin. A magneto-optical recording medium characterized by being formed on a template.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6314343A (en) * 1986-07-04 1988-01-21 Konica Corp Information recording medium
JPS6314344A (en) * 1986-07-04 1988-01-21 Konica Corp Information recording medium

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