JPS6226484A - Hot isotropic pressure press device - Google Patents

Hot isotropic pressure press device

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JPS6226484A
JPS6226484A JP60165042A JP16504285A JPS6226484A JP S6226484 A JPS6226484 A JP S6226484A JP 60165042 A JP60165042 A JP 60165042A JP 16504285 A JP16504285 A JP 16504285A JP S6226484 A JPS6226484 A JP S6226484A
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pressure vessel
chamber
processed
cooling
charging
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角田 啓二
多田 正
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B30PRESSES
    • B30BPRESSES IN GENERAL
    • B30B11/00Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses
    • B30B11/001Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses using a flexible element, e.g. diaphragm, urged by fluid pressure; Isostatic presses
    • B30B11/002Isostatic press chambers; Press stands therefor

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、熱間等方圧プレス(HoL l5ostat
icP ress0以下、略称rHrPjという。)装
置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention is directed to a hot isostatic press (HoL l5ostat).
Below icP ress0, it is abbreviated as rHrPj. ) device.

本発明の装置は、 (a)粉末冶金やファインセラミックスにおける粉末の
圧密や加圧焼結、 (b)金属粉末やファインセラミックスの焼結晶や金属
の鋳造品、鍛造品などの欠陥除去、(c)同種、異種材
料の拡散接合、 (d)複合材料における含浸処理、 などを行う分野で利用される。
The apparatus of the present invention is capable of: (a) consolidation and pressure sintering of powder in powder metallurgy and fine ceramics, (b) defect removal of sintered crystals of metal powders and fine ceramics, metal castings, forged products, etc., (c) ) Diffusion bonding of similar or dissimilar materials, (d) Impregnation treatment of composite materials, etc.

[従来の技術] 第6図及び第7図に、従来の最も一般的なHIP装置の
例を示す。
[Prior Art] FIGS. 6 and 7 show examples of the most common conventional HIP devices.

図中1は圧力容器であり、この中には、断熱フードによ
り覆われた加熱炉(図示せず)が設けられている。圧力
容器lは、円筒状の容器本体2、上蓋3、円筒状の容器
本体2の下端内周に固定されたホト2″ノング4・ボト
ム1ノング41こ(よまる下蓋5とからなり、被処理材
は、圧力容器lの下端開口部を開閉する前記下蓋5の・
上に乗せて装入シリンダ6により出し入れされる。圧力
容器1は、密閉した際、口字状の枠であるヨーク7によ
り、上蓋3及び下蓋5が押さえられ、高圧に耐えるよう
に保持される。このため、ヨーク7は図示の位置から矢
印(イ)の如く前進できるようになっている。
In the figure, reference numeral 1 denotes a pressure vessel, in which a heating furnace (not shown) covered by a heat insulating hood is provided. The pressure vessel 1 consists of a cylindrical container body 2, an upper lid 3, a photo 2″ nongrum 4, a bottom 1 nong 41 (yomaru lower lid 5) fixed to the inner periphery of the lower end of the cylindrical container main body 2, The material to be treated is the lower lid 5 that opens and closes the lower end opening of the pressure vessel l.
It is loaded and unloaded with the charging cylinder 6 on top. When the pressure vessel 1 is sealed, the upper cover 3 and the lower cover 5 are held down by the yoke 7, which is a mouth-shaped frame, and the pressure vessel 1 is held so as to withstand high pressure. Therefore, the yoke 7 can move forward as shown by the arrow (A) from the illustrated position.

このHIP装置では、被処理材の準備−圧力容器lへの
材料の装入−圧力容器1内の真空用−ガス置換−昇圧→
加熱昇温一温度圧力の保持−冷却−ガス回収−減圧→圧
力容器lの大気開放→被処理材の取り出し、をlサイク
ルとして操業が行なわれ、不活性ガス雰囲気下で行う必
要のある冷却工程は、圧力容器l内の加熱炉の中で行わ
れる。
In this HIP apparatus, preparation of the material to be processed - charging of the material into the pressure vessel 1 - vacuum in the pressure vessel 1 - gas replacement - pressure increase →
The operation is carried out in a cycle consisting of heating, temperature increase, temperature and pressure maintenance, cooling, gas recovery, depressurization, opening of the pressure vessel to the atmosphere, and removal of the material to be treated.The cooling process must be carried out under an inert gas atmosphere. is carried out in a heating furnace inside a pressure vessel l.

第9図に、この装置におけるサイクルタイムを示す。FIG. 9 shows the cycle time in this device.

また、第8図に、別のHIP装置の例を示す。Further, FIG. 8 shows an example of another HIP device.

この装置は、被処理材を、熱いうちに圧力容器I外に出
し、冷却を圧力容器lの外部で行って、圧力容器Iの利
用回数を上げるようにした点に特徴を有する。すなわち
、この装置は、HIP処理後、直ちにガス回収、減圧操
作を行い、大気圧まで下がったら直ちに断熱フードで覆
われた加熱炉ごと被処理材を圧力容器1外に取り出し、
冷却室8に移送後、その内部で冷却を行わせるものであ
り、圧力容器lから被処理材を取り出した後、引き続き
HIPの操業を行っていけるよう複数の加熱炉が備えら
れている。
This apparatus is characterized in that the material to be treated is taken out of the pressure vessel I while it is hot, and cooling is performed outside the pressure vessel I, thereby increasing the number of times the pressure vessel I is used. That is, this device performs gas recovery and depressurization immediately after HIP processing, and as soon as the pressure drops to atmospheric pressure, the material to be treated is taken out of the pressure vessel 1 together with the heating furnace covered with an insulating hood.
After being transferred to the cooling chamber 8, the material is cooled therein, and a plurality of heating furnaces are provided so that the HIP operation can be continued after the material to be processed is taken out from the pressure vessel 1.

第1O図に、この装置におけるサイクルタイムを示す。Figure 1O shows the cycle time in this device.

この図かられかるように、圧力容器の利用時間が短縮さ
れ、被処理材取り出し後は、直ちに次のサイクルに移る
ことができる。
As can be seen from this figure, the usage time of the pressure vessel is shortened, and the next cycle can be started immediately after the material to be treated is taken out.

[発明が解決しようとする問題点] 上記のHIP装置のうち前者の装置においては、次のよ
うな問題がある。
[Problems to be Solved by the Invention] Among the above HIP devices, the former device has the following problems.

圧力容器が水冷され熱を外部に放散しやすい構成になっ
ているが、圧力容器内で加熱炉及び断熱フードを介して
被処理材を冷却するので、非常に冷えにくく、第9図に
示すように冷却に長時間を要する。したがって、この装
置によれば、1サイクルが短くて8時間、長い場合二昼
夜にも及ぶことがあり、操業コストが高い。
The pressure vessel is water-cooled, making it easy to dissipate heat to the outside, but since the material to be treated is cooled inside the pressure vessel via a heating furnace and an insulating hood, it is extremely difficult to cool down, as shown in Figure 9. It takes a long time to cool down. Therefore, according to this device, one cycle can be as short as 8 hours, or as long as two days and nights, resulting in high operating costs.

また、後者の装置においては、次のような問題がある。Furthermore, the latter device has the following problems.

加熱炉を複数用意しなくてはならないから、設備費が高
くつく。また、加熱炉ごと冷却室に人りることから、断
熱フード内で冷却される点で、前者の装置と冷却時間そ
のものはあまり短くならない。加熱炉の構成材料並びに
被処理材の酸化による品質劣化、機能低下を来すので、
これを防止する工夫を要する。
Equipment costs are high because multiple heating furnaces must be prepared. Furthermore, since the heating furnace is occupied by a person in the cooling room, the former device and the cooling time itself are not very short because the heating furnace is cooled in an insulated hood. Oxidation of the constituent materials of the heating furnace and the materials to be treated will result in quality deterioration and functional decline.
It is necessary to devise ways to prevent this.

本発明は、以上の事情に鑑み、被処理材を、高温のまま
裸で圧力容器外に取り出して直接冷却できるようにし、
それによりlサイクル当たりの圧力容器の利用時間を短
縮して、HIP装置本体の一日当たりの操業回数を増加
させ、操業コストを引き下げることができるようにする
ことを目的と。
In view of the above circumstances, the present invention enables the material to be treated to be directly cooled by taking it out of the pressure vessel naked while still at high temperature.
The purpose of this is to shorten the usage time of the pressure vessel per cycle, increase the number of times the HIP equipment is operated per day, and reduce operating costs.

する。do.

[凹題占ル鯨連ナスナーめの壬陪] 本発明は、上記の問題点を解決するものであって、圧力
容器の開口部に設けられた蓋を開いて被処理材の出し入
れを行い、圧力容器内で被処理材を熱間等方圧プレス処
理する装置本体と、この装置本体に関連づけて配置され
た直列接続の3つの室A、B、Cと、これらの室間及び
端部の室A1Cと外部との間に設けられ各室A、B、C
を気密に保つシール扉と、中央の室Bと前記圧力容器と
(D B l: a Rl= !に! W * h x
B h E 7′g ”75°1°″:気密に連絡する
シール筒と、前記各室間及び外部     1との間に
おいて被処理材を移送する搬送装置とを有し、前記室A
を、装置本体に装入する被処理材を準備するための準備
室、前記室Bを、被処理材を装置本体内に装入する機構
を備えた装入室、室Cを、装置本体で処理した後の被処
理材を冷却する冷却室としたことを特徴としている。
The present invention solves the above-mentioned problems by opening the lid provided at the opening of the pressure vessel to take in and take out the material to be treated, A main body of a device for hot isostatic pressing processing of materials to be processed in a pressure vessel, three chambers A, B, and C connected in series arranged in relation to the main body of the device, and a space between these chambers and an end portion. Each room A, B, C is provided between room A1C and the outside.
A seal door that keeps the central chamber B airtight and the pressure vessel (D B l: a Rl= ! W * h x
B h E 7'g "75°1°": It has a seal cylinder that communicates airtightly and a conveyance device that transfers the material to be processed between each of the chambers and the outside 1, and the chamber A
A preparation room for preparing the material to be processed to be charged into the apparatus main body, a charging chamber equipped with a mechanism for charging the material to be processed into the apparatus main body, and a chamber C in the apparatus main body. It is characterized by a cooling chamber that cools the processed material after processing.

[作用] 上記構成の装置で操業を行う場合について説明する。[Effect] A case in which the apparatus having the above configuration is operated will be explained.

圧力容器中で被処理材のHIP処理が終わったら、圧力
容器の開口部と装入室Bとの間にシール筒を配置して両
者を気密に連絡するとともに、装入室Bとその両わきの
室A、Cとの間のシール扉を閉め、装入室B及びシール
筒内をガス置換する。
After HIPing the material to be processed in the pressure vessel, a seal cylinder is placed between the opening of the pressure vessel and charging chamber B to airtightly communicate the two, and a seal cylinder is placed between the opening of the pressure vessel and charging chamber B, and Close the seal door between chambers A and C, and replace the gas inside charging chamber B and the seal cylinder.

その状態で、圧力容器の蓋をあけて被処理材を課のまま
装入室B内に取り出す。ここで、冷却室Cは、予めシー
ル扉を閉じた状態で気密を保ちガス置換を行っておく。
In this state, the lid of the pressure vessel is opened and the material to be treated is taken out into the charging chamber B as it is. Here, the cooling chamber C is kept airtight with the seal door closed in advance and gas replacement is performed.

そして、装入室Bと冷却室C間のシール扉をあけて、装
入室B内に取り出された被処理材を冷却室Cに入れ、同
シール扉を閉めて、冷却室C内で被処理材を裸のまま直
接冷却する。この時点で、圧力容器は次のサイクルの操
業のために解放される。
Then, the seal door between charging chamber B and cooling chamber C is opened, the material to be processed taken out into charging chamber B is put into cooling chamber C, the seal door is closed, and the material to be processed is placed in cooling chamber C. The treated material is directly cooled in its bare state. At this point, the pressure vessel is released for the next cycle of operation.

次のサイクルは、上記の工程と並行−て、予め準備室A
の入口出口のシール扉を閉じて、準備室A内で装入のた
めの準備を行うことから始まる。
The next cycle is carried out in advance in the preparation room A in parallel with the above process.
The process starts with closing the seal door at the inlet and outlet of the chamber A and making preparations for charging in the preparation room A.

準備室Aで準備した被処理材は、装入室B及びシール筒
内がガス置換されている状態で、準備室Aと装入室8間
のシール扉をあけて、装入室B内に入れる。そして、同
シール扉を閉じて、装入機構により圧力容器内に被処理
材を装入し、圧力、容器の蓋を閉じてシール筒を外しH
IP処理を開始する。
The material to be processed prepared in the preparation room A is transferred into the charging chamber B by opening the seal door between the preparation room A and the charging chamber 8, with gas being replaced in the charging chamber B and the seal cylinder. put in. Then, close the seal door, load the material to be treated into the pressure vessel using the loading mechanism, and then close the lid of the vessel and remove the seal tube.
Start IP processing.

このようにして、操業を行うことにより、1サイクル当
たりの圧力容器の利用時間が短縮され、圧力容器の利用
回数が増加する。
By operating in this way, the usage time of the pressure vessel per cycle is shortened and the number of times the pressure vessel is used is increased.

[実施例] 以下、本発明の一実施例を第1図〜第5図を参照して説
明する。
[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5.

第1図は、実施例のHIP装置の側断面図、第2図は同
平面図、第3図は圧力容器の詳細を示す側断面図である
FIG. 1 is a side sectional view of the HIP apparatus of the embodiment, FIG. 2 is a plan view thereof, and FIG. 3 is a side sectional view showing details of the pressure vessel.

図中10で示すものはHIF装置本体であり、これは、
従来のものと同様に、圧力容器lと、ヨーク7及びヨー
ク移動台車!■と、架台12とから構成されている。
What is indicated by 10 in the figure is the main body of the HIF device, which is
Like the conventional one, the pressure vessel l, the yoke 7, and the yoke moving trolley! (2) and a pedestal 12.

圧力容器lは、第3図に示すように、円筒状の容器本体
2、上M3、円筒状の容器本体2の下端内周に固定され
フランジ4aを有するボトムリング4、ボトムリング4
にはまる下M5とからなり、圧力容器lの中には、断熱
フード13により覆われた加熱炉14が設けられ、加熱
炉14の中にはヒータ15が設けられている。
As shown in FIG. 3, the pressure vessel l includes a cylindrical vessel body 2, an upper M3, a bottom ring 4 fixed to the inner periphery of the lower end of the cylindrical vessel body 2 and having a flange 4a, and a bottom ring 4.
A heating furnace 14 covered by a heat insulating hood 13 is provided in the pressure vessel l, and a heater 15 is provided in the heating furnace 14.

そして、このHIP装置本体lOでは、下蓋5を開いて
被処理材Wの出し入れが行われ、また圧力容器lを閉じ
てHIP処理を行う際、ヨーク7を圧力容器1の位置ま
で前進させ、ヨーク7により上蓋3及び下蓋5を押さえ
ることによって、圧力容器1が高圧に耐えるように保持
される。
In this HIP apparatus main body lO, when the lower lid 5 is opened to take in and take out the material W to be processed, and when the pressure vessel l is closed and the HIP process is performed, the yoke 7 is advanced to the position of the pressure vessel 1, By pressing the upper lid 3 and lower lid 5 with the yoke 7, the pressure vessel 1 is held so as to withstand high pressure.

このような構成の装置本体IOの下方には、3つの気密
の室A、B、Cが直列に連結されて配置されている。室
Aは装置本体IOに装入する被処理材を準備するための
準備室、室Bは被処理材を装置本体10内に装入するた
めの装入室、室Cは装置本体lOで処理した後の被処理
材を冷却する冷却室としての機能を持つようそれぞれ構
成されている。
Three airtight chambers A, B, and C are connected in series and arranged below the apparatus main body IO having such a configuration. Chamber A is a preparation room for preparing the material to be processed to be charged into the main body IO of the apparatus, chamber B is a charging chamber for charging the material to be processed into the main body 10 of the apparatus, and chamber C is a chamber for processing in the main body IO of the apparatus. Each chamber is configured to function as a cooling chamber to cool down the processed material.

中央の装入室Bはちょうど圧力容器lの真下に位置して
おり、装入室Bの下部には、被処理材をきるより装入シ
リンダ16が備えられている。
The central charging chamber B is located just below the pressure vessel 1, and the lower part of the charging chamber B is equipped with a charging cylinder 16 for cutting the material to be treated.

これらの室A−B間、また室B−C間、端部の室A、C
と外部との各間には、それぞれ各室A1B、Cを気密に
保つための横スライド式のシール扉17.18.19.
20が設けられている。
Between these chambers A and B, between chambers B and C, and between chambers A and C at the ends.
and the outside, there are side sliding seal doors 17, 18, 19. to keep each chamber A1B and C airtight, respectively.
20 are provided.

また、中央の室Bの上部に形成された開口部21には、
上下に昇降可能にシール筒22が気密的に取り付けられ
ている。このシール筒22は、上昇させられた際、図示
のようにその上端が圧力容器1のボトムリング4のフラ
ンジ4a下面にシール部材23を介して当接し、それに
より圧力容器lの開口部と装入室Bを気密に連絡し、そ
の状態で下M5を開いて下降させることができるように
する。また、シール筒22を下降させた状態で、ヨーク
7を圧力容器lの位置に前進させることを妨げないもの
である。図において、シール筒22の昇降駆動装置は省
略しである。
In addition, in the opening 21 formed at the top of the central chamber B,
A seal cylinder 22 is airtightly attached so as to be able to move up and down. When this seal cylinder 22 is raised, its upper end contacts the lower surface of the flange 4a of the bottom ring 4 of the pressure vessel 1 via the seal member 23, as shown in the figure, and thereby the opening of the pressure vessel l and the The entrance B is airtightly connected, and in that state, the lower M5 can be opened and lowered. Further, it does not prevent the yoke 7 from being advanced to the position of the pressure vessel 1 with the seal cylinder 22 being lowered. In the figure, the lifting device for the seal cylinder 22 is omitted.

また、準備室A1冷却室Cの各内部、及び準備室Aの外
部、冷却室Cの外部には、それぞれ彼処27が設けられ
、室A−B間、室B−C間、及び室Aと外部間、室Cと
外部間においてそれぞれ被処理材を移送できるようにな
っている。
In addition, there are space 27 provided inside each of the preparation room A1 and the cooling room C, and outside of the preparation room A and the cooling room C. Materials to be processed can be transferred between the outside and between chamber C and the outside.

次に、上記構成のHIP装置で操業を行う場合について
、第4図のフロー図を参照しながら説明する。
Next, the operation of the HIP apparatus having the above configuration will be described with reference to the flowchart shown in FIG. 4.

連続運転中における一つの被処理材の流れにしたがって
説明する。
The flow of one material to be treated during continuous operation will be explained.

く準備室A〉 (りまず、準備室Aの人口側のシール扉!9を開放する
。このとき、準備室Aの出口側のシール扉17は閉鎖し
ている。
Preparation Room A> (First, open the seal door 9 on the population side of Preparation Room A. At this time, the seal door 17 on the exit side of Preparation Room A is closed.

(2)準備室Aの外部にある搬送装置26により、被処
理材を準備室A内に移送する。
(2) The material to be processed is transferred into the preparation room A by the transport device 26 located outside the preparation room A.

(3)準備室Aの入口側′のシール扉19を閉鎖し、準
備室A内を気密の状態に保つ。
(3) Close the seal door 19 on the entrance side of the preparation room A to keep the inside of the preparation room A airtight.

(4)準備室A内を真空に引き、ガス置換する。(4) The inside of the preparation chamber A is evacuated and replaced with gas.

そして、準備室A内で予め定められた所定の準備作業(
たとえば予熱)を行う。
Then, predetermined preparation work (
For example, preheating).

(5)準備室Aの出口側のシール肺17を開放する。こ
のとき、HIP装置本体IO及び装入室13は後述する
(20)の段階にある。
(5) Open the seal lung 17 on the exit side of the preparation chamber A. At this time, the HIP apparatus main body IO and the charging chamber 13 are in the stage (20) described later.

(6)準備室A内の搬送装置24により、準備室A内の
被処理材を装入室Bに移送し、装入室B内の装入シリン
ダ16上に乗っている下蓋5の上に被処理材を乗せる。
(6) The transfer device 24 in the preparation room A transfers the material to be processed in the preparation room A to the charging chamber B, and places the material on the lower lid 5 on the charging cylinder 16 in the charging room B. Place the material to be treated on.

(7)準備室Aの出口側のシール扉17を閉鎖する。(7) Close the seal door 17 on the exit side of the preparation room A.

く装入室B −Hr’ P装置本体10>(8)装入、
シリンダ16を動作させることにより、下蓋5を上昇さ
せ、下蓋5上の被処理材をHIP装置本体10の圧力容
器1内に装入し、下蓋5を閉じる。
Charging chamber B-Hr'P device main body 10>(8) Charging,
By operating the cylinder 16, the lower lid 5 is raised, the material to be treated on the lower lid 5 is loaded into the pressure vessel 1 of the HIP apparatus main body 10, and the lower lid 5 is closed.

(9)装入シリンダI6のロッド、及びシール筒22を
下降させ、ヨーク7が前進できるような状態にする。
(9) The rod of the charging cylinder I6 and the seal cylinder 22 are lowered so that the yoke 7 can move forward.

(10)ヨーク7を圧力容器lの位置まで前進させ、上
蓋3及び下M5を高圧に耐えるように押さえる。
(10) Move the yoke 7 forward to the position of the pressure vessel 1, and press the upper lid 3 and lower M5 so as to withstand high pressure.

(11)圧力容器1内を真空に引き、ガス置換する。(11) The inside of the pressure vessel 1 is evacuated and replaced with gas.

(12)圧力容器I内を昇圧・昇温させて、圧力容器l
内のガスを高圧・高温状態に保持し、HIP処理を行う
(12) Increase the pressure and temperature inside the pressure vessel I, and
The gas inside is maintained at high pressure and high temperature to perform HIP processing.

(I3)圧力容器l内でのHIF処理が終わったら、圧
力容器1内のガス圧を減じ、ガス回収を行う。
(I3) After the HIF treatment within the pressure vessel 1 is completed, the gas pressure within the pressure vessel 1 is reduced and gas recovery is performed.

(I4)その後、ヨーク7を図示の待機位置まで後退さ
せる。
(I4) After that, the yoke 7 is retreated to the standby position shown in the figure.

(15)シール筒22を上昇させ、圧力容器lの開口部
と装入室Bを気密的に連絡するとともに、装入シリンダ
16を動作してロッドを上昇させる。
(15) The seal cylinder 22 is raised to airtightly communicate the opening of the pressure vessel I and the charging chamber B, and the charging cylinder 16 is operated to raise the rod.

(16)装入室B1シール筒22内を真空に引き、ガス
置換する。
(16) The inside of the charging chamber B1 seal cylinder 22 is evacuated and replaced with gas.

(17)下蓋5を開き、装入シリンダ16により下蓋5
に乗せた状態でHIP処理さ屁た被処理材を下降させ、
被処理材を裸のまま圧力容器lから装入室B内に取り出
す。このとき、冷却室ρ l−+?ノ −I+、  −
IQ’)11?(l!日 1゛ ご−jl    力 
顛 h<−trス置換された状態にある。
(17) Open the lower lid 5 and use the charging cylinder 16 to
The HIP treated material is lowered while placed on the
The raw material to be treated is taken out from the pressure vessel I into the charging chamber B. At this time, the cooling chamber ρ l−+? -I+, -
IQ') 11? (l! day 1゛ go-jl force
顛 h<-tr is in a replaced state.

(I8)冷却室Cの入口側のシール扉18を開放する。(I8) Open the seal door 18 on the inlet side of the cooling chamber C.

(19)冷却室C内の搬送装置25により、装入室B内
に取り出された被処理材を、冷却室C内に移送する。
(19) The material to be processed taken out into the charging chamber B is transferred into the cooling chamber C by the transfer device 25 in the cooling chamber C.

(20)冷却室Cの入口側のシール扉18を閉鎖する。(20) Close the seal door 18 on the inlet side of the cooling chamber C.

く冷却室C〉 (21)冷却室C内で、裸のままの被処理材を直接冷却
する。この時点で、圧力容器!及び装入室Bは、次のサ
イクルの操業のために解放される。
Cooling Chamber C> (21) In the cooling chamber C, the bare material to be treated is directly cooled. At this point, the pressure vessel! and charging chamber B is released for the next cycle of operation.

(22)冷却室Cで冷却し終わったら、冷却室Cの出口
側のシール扉20を開放する。
(22) When cooling is completed in the cooling chamber C, the seal door 20 on the exit side of the cooling chamber C is opened.

(23)冷却室Cの外部の搬送装置27により、被処理
材を外部に移送する。
(23) The material to be processed is transferred to the outside by the transfer device 27 outside the cooling chamber C.

(24)冷却室Cの出口側のシール扉20を閉鎖する。(24) Close the seal door 20 on the exit side of the cooling chamber C.

以上で一つの被処理材の操業サイクルを終了するが、こ
のHI P装置では、複数の被処理材を、前後に工程的
なずれを保ちながら順次連続的に処理することができる
This completes the operation cycle for one material to be processed, but this HIP apparatus can sequentially and continuously process a plurality of materials to be processed while maintaining a step shift back and forth.

たとえば、冷却室Cで前の被処理材を冷却しているとき
、次の被処理材を圧力容器l中でHIP処理することが
でき、準備室Aでは、さらにその次の被処理材の準備作
業を行うことができる。このため、HT P装置本体l
Oの1サイクル当たりの利用時間が短縮され、きわめて
効率のよい操業が実現される。
For example, when the previous processed material is being cooled in the cooling chamber C, the next processed material can be subjected to HIP processing in the pressure vessel l, and in the preparation room A, the next processed material is further prepared. Able to perform work. For this reason, the main body of the HTP device
The usage time of O per cycle is shortened, and extremely efficient operation is achieved.

また、上のHIP装置においては、冷却室Cで、裸のま
まの被処理材を直接冷却するので、冷却速度がきわめて
早くなり、一つの被処理材の処理時間が短くなるという
利点も得られる。このことは、第5図に示すサイクルタ
イムからあきらかに理解される。
In addition, in the above HIP apparatus, since the bare material to be processed is directly cooled in the cooling chamber C, the cooling rate is extremely fast, and the processing time for one material to be processed is shortened. . This can be clearly understood from the cycle time shown in FIG.

次に、上記の説明では触れなかった細かい点について述
べる。
Next, we will discuss some details that were not mentioned in the above explanation.

上記のHIP装置において、被処理材を、断熱材28a
を上層に配した断熱パレット28 (第3図参照)上に
乗せて移動するようにすれば、搬送が簡便に行えるよう
になるとともに、被処理材の熱で下蓋5や搬送装置を傷
めるおそれがなくなるという利点が得られる。
In the above HIP apparatus, the material to be processed is
If it is moved by placing it on an insulated pallet 28 (see Figure 3) arranged on the upper layer, it will be easier to transport, and there is a risk that the lower cover 5 and the transport device may be damaged by the heat of the material to be processed. This has the advantage of eliminating

また、シール筒22の内部に水冷ジャケットを設けて、
シール筒22を水冷するようにすれば、シール筒22自
体の傷みを軽減することができる。
In addition, a water cooling jacket is provided inside the seal cylinder 22,
By cooling the seal tube 22 with water, damage to the seal tube 22 itself can be reduced.

また、シール筒22を伸縮自在の蛇腹状のもので構成す
ることもできるが、そのようにした場合、内部に断熱材
を配すれば、シール筒の温度上昇を抑えることができる
Further, the seal cylinder 22 can be configured as a bellows-like member that is expandable and retractable, but in such a case, if a heat insulating material is provided inside, the temperature rise of the seal cylinder can be suppressed.

また、上記のH,IP装置では、高温の被処理材を裸の
まま圧力容器から取り出すようにしているので、ボトム
リングまたは圧力容器のガス導入孔、排出孔の周辺が高
温にさらされる。したがって、ボトムリングや圧力容器
のガス導入孔、排出孔を水冷することが望ましい。
Furthermore, in the above-mentioned H,IP apparatus, since the high-temperature processed material is taken out from the pressure vessel in its naked state, the bottom ring or the vicinity of the gas introduction hole and the discharge hole of the pressure vessel are exposed to high temperature. Therefore, it is desirable to water-cool the bottom ring, the gas introduction hole, and the discharge hole of the pressure vessel.

さらに、前記のシール扉に断熱材を施したり、シール扉
を水冷したり、あるいは冷却室に冷却用熱交換機または
冷却用ファンをつけたりする、というような付加的な構
成は任意に行うことが望ましい。
Furthermore, it is desirable to optionally perform additional configurations such as applying a heat insulating material to the seal door, cooling the seal door with water, or installing a cooling heat exchanger or a cooling fan in the cooling chamber. .

また、上記の実施例の説明゛では、冷却室Cや準備室A
内では、各1個ずつ被処理材を処理する場合を述べたが
、複数個を同時に処理するようにしてもよい。
In addition, in the explanation of the above embodiment, the cooling room C and the preparation room A
In the above, a case has been described in which each material to be processed is processed one by one, but a plurality of materials may be processed at the same time.

また、上記実施例では、冷却室Cや準備室Aをそれぞれ
1室ずつしか設けていないが、必要に応じて、複数室ず
つ設けてもよい。特に、冷却については、時間がかかる
ので、複数設けるのがよい。
Further, in the above embodiment, only one cooling chamber C and one preparation chamber A are provided, but a plurality of cooling chambers may be provided as necessary. In particular, since cooling takes time, it is better to provide a plurality of them.

その場合、冷却室を直列に配置して、前段の室から段階
的に冷却するようにすれば、冷却効率ばかりでなく、設
備費の点でも有利になる。
In that case, arranging the cooling chambers in series so that cooling is performed in stages starting from the previous chamber is advantageous not only in terms of cooling efficiency but also in terms of equipment costs.

また、上記実施例では、圧力容器の下蓋を開いて被処理
材を出し入れする形式のものについて説明したが、本発
明は、それに限られるものではなく、上方から被処理材
を出し入れする形式のもの、側方から出し入れする形式
のもの等、任意の形式のものに適用できる。
Furthermore, in the above embodiments, the lower cover of the pressure vessel is opened to take in and take out the material to be treated, but the present invention is not limited to this, and the present invention is also applicable to a type of pressure vessel in which the material to be treated is taken in and taken out from above. It can be applied to any type of item, such as items that can be put in and taken out from the side.

また− F記寥施例では、ヨークを備えたI(IP装置
の場合を示したが、本発明はヨーク式でないものにも適
用できる。
Furthermore, in the -F recording embodiment, an I (IP device) equipped with a yoke is shown, but the present invention can also be applied to devices without a yoke type.

[発明の効果] 以上の説明のように、本発明によれば、次の効果を得る
ことができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained.

■シール筒を所定の場所にセットし、シール筒内及び装
入室内をガス置換することにより、外部と気密的に遮断
された状態で、圧力容器の益をあけて、被処理材を高温
のまま裸で圧力容器外に取り出すことができる。
■Set the seal cylinder in the designated place and replace the inside of the seal cylinder and charging chamber with gas to keep the material to be treated at high temperature while airtightly isolated from the outside. It can be taken out of the pressure vessel naked.

そして、その裸のままの被処理材を、ガス置換した冷却
室に入れることにより、被処理材を直接冷却することが
できる。また、一方で空いた圧力容器に、準備室側から
次の被処理材を装入することができる。このため、圧力
容器をフルに活用できる。
Then, by placing the bare material to be processed into a cooling chamber in which gas has been replaced, the material to be processed can be directly cooled. Furthermore, the next material to be treated can be charged into the empty pressure vessel from the preparation chamber side. Therefore, the pressure vessel can be fully utilized.

■■で述べたように、被処理材を裸のまま冷却できるこ
とから、冷却時間を短縮することができ、lサイクル当
たりの圧力容器の利用時間を短縮することができる。し
たがって、HIP装置本体の−日当たりの操業回数を福
加させることができ、操業コストを引き下げることが可
能となる。
As described in 2), since the material to be treated can be cooled in its naked state, the cooling time can be shortened, and the usage time of the pressure vessel per cycle can be shortened. Therefore, it is possible to increase the number of times the HIP device is operated per day, and it is possible to reduce operating costs.

■■で述べたように、裸のまま外部に取り出して冷却で
きることから、加熱炉は圧力容器に備えた1個あれば足
りる。したがって、従来の外部冷却式に比して、加熱炉
の数が少なくてすみ、設備費の低減が図れる。
As mentioned in ``■■'', since it can be taken outside naked and cooled, only one heating furnace installed in the pressure vessel is sufficient. Therefore, compared to the conventional external cooling type, the number of heating furnaces is reduced, and equipment costs can be reduced.

■被処理材はもとより加熱炉も、高温の状態で外気にさ
らさなくてよいから、被処理材の酸化の問題は全く生じ
ず、また加熱炉を傷めることもな 、い。
■Since there is no need to expose the material to be treated, as well as the heating furnace, to the outside air at high temperatures, there is no problem of oxidation of the material to be treated, and there is no damage to the heating furnace.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第5図は本発明の一実施例を説明するためのも
ので、第1図はHIP装置の側断面図、第2図は同平面
図、第3図は同HIP装置における圧力容器の側断面図
、第4図は同HIP装置の操業フロー図、第5図は同H
IP装置の操業サイクルタイムを示す図である。 また、第6図〜第10図は従来のHIP装置を説明する
ためのもので、第6図はHIP装置の一例を示す側断面
図、第7図は同平面図、第8図は他のHIP装置を示す
側断面図、第9図は第6図及び第7図に示したHIP装
置における操業サイクルタイムを示す図、第10図は第
8図に示したHIP装置における操業サイクルタイムを
示す図である。 1・・・・・・圧力容器、5・・・・・・下蓋、7・・
・・・・ヨーク、10・・・・・・HIP装置本体、1
6・・・・・・装入シリンダ、17〜20・・・・・・
シール扉、22・・・・・・シール扉、24〜27・・
・・・・搬送装置、A・・・・・・準備室、B・・・・
・・装入室、C・・・・・・冷却室。  ′出願人  
石川島播磨重工業株式会社 第2図 第5図 時間(Hr)
Figures 1 to 5 are for explaining one embodiment of the present invention, in which Figure 1 is a side sectional view of the HIP device, Figure 2 is a plan view of the same, and Figure 3 is the pressure in the HIP device. A side sectional view of the container, Figure 4 is an operational flow diagram of the HIP device, and Figure 5 is the same HIP device.
It is a figure showing the operation cycle time of an IP device. Moreover, FIGS. 6 to 10 are for explaining the conventional HIP device. FIG. 6 is a side sectional view showing an example of the HIP device, FIG. 7 is a plan view of the same, and FIG. A side sectional view showing the HIP device, FIG. 9 is a diagram showing the operation cycle time in the HIP device shown in FIGS. 6 and 7, and FIG. 10 is a diagram showing the operation cycle time in the HIP device shown in FIG. 8. It is a diagram. 1...Pressure vessel, 5...Lower lid, 7...
... Yoke, 10 ... HIP device body, 1
6...Charging cylinder, 17-20...
Seal door, 22...Seal door, 24-27...
...transport device, A...preparation room, B...
...Charging room, C...Cooling room. 'applicant
Ishikawajima Harima Heavy Industries Co., Ltd. Figure 2 Figure 5 Time (Hr)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  圧力容器の開口部に設けられた蓋を開いて被処理材の
出し入れを行い、圧力容器内で被処理材を熱間等方圧プ
レス処理する装置本体と、この装置本体に関連づけて配
置された直列接続の3つの室A、B、Cと、各室間及び
端部の室A、Cと外部との間に設けられ各室A、B、C
を気密に保つシール扉と、中央の室Bと前記圧力容器と
の間に適宜に配置され室Bと圧力容器の開口部を気密に
連絡するシール筒と、前記各室間及び外部との間におい
て被処理材を移送する搬送装置とを有し、前記室Aは装
置本体に装入する被処理材を準備するための準備室、前
記室Bは被処理材を装置本体内に装入する機構を備えた
装入室、室Cは装置本体で処理した後の被処理材を冷却
する冷却室とされていることを特徴とする熱間等方・圧
プレス装置。
A device body for hot isostatic pressing the material to be processed in the pressure vessel by opening a lid provided at the opening of the pressure vessel to take in and take out the material to be processed; Three chambers A, B, and C connected in series, and each chamber A, B, and C provided between each chamber and between the end chambers A, C and the outside.
a seal door that keeps the airtight airtight; a seal cylinder that is appropriately placed between the central chamber B and the pressure vessel and that airtightly connects the opening of the chamber B and the pressure vessel; and between each of the chambers and the outside. and a conveying device for transporting the material to be processed, the chamber A is a preparation room for preparing the material to be processed to be loaded into the main body of the apparatus, and the chamber B is for charging the material to be processed into the main body of the apparatus. A hot isostatic press apparatus characterized in that a charging chamber equipped with a mechanism and a chamber C are used as cooling chambers for cooling the material to be processed after being processed in the main body of the apparatus.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56130404A (en) * 1980-03-17 1981-10-13 Kobe Steel Ltd Hot hydrostatic pressing method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS56130404A (en) * 1980-03-17 1981-10-13 Kobe Steel Ltd Hot hydrostatic pressing method

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