JPS62261195A - Formation of conductive circuit by lithography - Google Patents

Formation of conductive circuit by lithography

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JPS62261195A
JPS62261195A JP10527786A JP10527786A JPS62261195A JP S62261195 A JPS62261195 A JP S62261195A JP 10527786 A JP10527786 A JP 10527786A JP 10527786 A JP10527786 A JP 10527786A JP S62261195 A JPS62261195 A JP S62261195A
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JP
Japan
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electroless plating
circuit pattern
circuit
palladium
substrate
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泰三郎 酒井
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、描画法により絶縁基板上に導電回路を形成さ
せる方法に関するものであり、更に詳しくは、金、銀、
゛白金および/またはパラジウムの有機化合物錯体を含
む描画インクを用いて絶縁基板上に描画して、回路パタ
ーンの潜像をつくり、該インクを乾燥させた後、該絶縁
基板を金属イオン(例えば、銅イオン)と還元剤(例え
ば、ホルマリン)を含む無電解メッキ浴に浸漬し、浴中
の還元剤が該有機金属錯化合物を還元して生じた金、銀
、白金および/またはパラジウムの金属微粒子を触媒核
として、無電解メッキを進行させ、基板上に金属(例え
ば、銅)を析出させることにより回路パターンを現像し
、更に引き続き、無電解メッキ法または電気メツキ法に
より金属(例えば、銅)を厚付けして、該基板上に導電
回路を形成させることからなる、描画法による導電回路
の形成に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method of forming a conductive circuit on an insulating substrate by a drawing method.
``A latent image of a circuit pattern is created by drawing on an insulating substrate using a drawing ink containing an organic compound complex of platinum and/or palladium, and after drying the ink, the insulating substrate is coated with metal ions (e.g. Fine metal particles of gold, silver, platinum and/or palladium produced by immersion in an electroless plating bath containing copper ions) and a reducing agent (e.g. formalin), and the reducing agent in the bath reduces the organometallic complex compound. is used as a catalyst nucleus to advance electroless plating to develop a circuit pattern by depositing metal (e.g., copper) on the substrate, and then to deposit metal (e.g., copper) on the substrate by electroless plating or electroplating. The present invention relates to the formation of a conductive circuit by a drawing method, which involves forming a conductive circuit on the substrate by thickening the substrate.

従来、電気機械や電子機器の導電回路をつくるには、印
刷配線板の名前が示すとおり、印刷またはそれに類似し
た方法が主流であった。例えば、サブストラッテイブ法
においては、銅張り積層板の上に印刷またはフォトリソ
グラフィーにより回路パターンのレジスト模を形成し、
その後、銅エツチング液に浸漬して銅箔の露出している
部分をエッヂング除去して、回路を形成ずろのか括本的
手法であった。
Conventionally, as the name of printed wiring boards suggests, printing or similar methods have been the mainstream for creating conductive circuits for electrical machines and electronic devices. For example, in the substrative method, a resist pattern of a circuit pattern is formed on a copper-clad laminate by printing or photolithography,
After that, the exposed portion of the copper foil was etched away by dipping it in a copper etching solution to form a circuit, which was a basic method.

またアディティブ法には、いろいろな方法があるが、こ
こでも基本的には、まず最初に回路パタ−ンの版をつく
り、この版から絶縁基板上に回路パターンを転写して導
電回路を形成するのが普通である(例えば、特開昭59
−88891および特開昭59−136988参照)。
There are various additive methods, but the basic method here is to first create a circuit pattern plate, and then transfer the circuit pattern from this plate onto an insulating substrate to form a conductive circuit. (For example, JP-A-59
-88891 and JP-A-59-136988).

いずれにしても、従来の印刷配線版の作りかたは大量生
産に適した方法であり、少数の印刷配線版を作るには不
適であった。例えば、一枚だけ印刷配線版を試作する場
合にも、やはり最初に回路パターンの版を起こさねばな
らない。
In any case, the conventional method of making printed wiring plates is suitable for mass production, and is not suitable for making a small number of printed wiring plates. For example, even if a single printed wiring board is to be prototyped, the circuit pattern board must first be made up.

電子機器や電気機械を開発するにあたっては、その装置
に組み込むプリント配線板は、何度も回路の設計と試作
を繰り返さなくてはならないが、その試作の度に回路パ
ターンの版を作る必要があり、時間がかかりすぎる欠点
があった。
When developing electronic devices and electrical machines, the circuit design and prototype production of printed wiring boards to be incorporated into the equipment must be repeated many times, and each time a prototype circuit pattern needs to be created. However, it had the disadvantage that it took too much time.

この発明の目的は、CAD (コンピューターを用いた
設計)システムなどで設計した回路パターンをプロッタ
ーで出力する際に、例えば、ペンブロック−を利用して
、無電解メッキ触媒を含む描画インクを使って、絶縁基
板上に回路パターンを直接描画することにより、導電回
路を形成しようとする乙のである。
The purpose of this invention is to use a pen block to output a circuit pattern designed using a CAD (computer-aided design) system or the like using a drawing ink containing an electroless plating catalyst. This is an attempt to form a conductive circuit by directly drawing a circuit pattern on an insulating substrate.

本発明の直接描画法によれば、従来の印刷手法と較べて
、導電回路の試作に要する時間を著しく短縮できる利点
がある。
The direct writing method of the present invention has the advantage that the time required for prototyping a conductive circuit can be significantly shortened compared to conventional printing methods.

次に、ごの発明の具体化を、例として描画手段にペンプ
ロッタ−を利用した場合について、詳しく説明する。
Next, an embodiment of the invention will be described in detail, using a pen plotter as a drawing means, as an example.

この発明では、次の三段階の工程で絶縁基板上に導電回
路を形成する。
In this invention, a conductive circuit is formed on an insulating substrate in the following three steps.

(イ)金、銀、白金および/またはパラジウムの有機化
合物錯体を含むプロッタインクを用いて、絶縁基板上に
回路パターンを描画する。
(a) A circuit pattern is drawn on an insulating substrate using a plotter ink containing an organic compound complex of gold, silver, platinum, and/or palladium.

(ここでは、回路パターンの潜像のみ得られる。) (ロ)次に、該基板を無電解メッキ浴に浸漬ずろ。(Here, only the latent image of the circuit pattern is obtained.) (b) Next, the substrate is immersed in an electroless plating bath.

基板(回路パターン)上に描画された有機金属錯化合物
は無電解メッキ液の還元剤により直ちに還元分解されて
、成分元素の金属単体微粒子を生成し、触媒作用を有す
る核を生ずる。この核がζリガー(引き金)となって無
電解メッキが進行する。回路パターンが現像され、更に
引き続き、メッキの厚付けが行われて導電回路を形成す
る。
The organometallic complex drawn on the substrate (circuit pattern) is immediately reductively decomposed by the reducing agent of the electroless plating solution, producing fine particles of elemental metals of the component elements, and producing nuclei with catalytic action. This nucleus acts as a ζ rigger and electroless plating progresses. The circuit pattern is developed and subsequent plating is applied to form a conductive circuit.

(ハ)該基板を無電解メッキ浴から取り出し、水洗して
乾燥する。
(c) The substrate is taken out of the electroless plating bath, washed with water, and dried.

無電解メッキは別名化学メッキとも呼ばれ、銅、ニッケ
ル、コバルト等の金属塩の水溶液に還元剤を加えて、金
属イオンを還元析出させる方法であるが、その際、トリ
ガー(引き金)となる、表面が化学的に活性な金属微粒
子、所謂、触媒核となるものが必要といわれている。発
生したばかりの金属微粒子の表面は化学的に活性であり
、次ぎの金属イオンの還元析出を誘発し、連続的に金属
の還元析出を起こすわけである。
Electroless plating, also known as chemical plating, is a method in which a reducing agent is added to an aqueous solution of metal salts such as copper, nickel, and cobalt to reduce and precipitate metal ions. It is said that fine metal particles whose surfaces are chemically active, which serve as the so-called catalytic core, are required. The surface of the newly generated metal fine particles is chemically active and induces the subsequent reduction and precipitation of metal ions, resulting in continuous reduction and precipitation of metal.

従来の無電解メッキ法では、塩化パラジウムと第一錫塩
から生成させたコロイド状パラジウムを触媒核として利
用した。しかしながら、この組み合わせは水系において
適用するので、披メッキ体表面に付着させた触媒核(コ
ロイド状パラジウム)は、後続の水系の無電解メッキに
おいて浴中へ再び離脱し易く、付着力の弱いのが欠点で
あった。
Conventional electroless plating methods utilize colloidal palladium produced from palladium chloride and stannous salts as catalyst nuclei. However, since this combination is applied in an aqueous system, the catalyst nuclei (colloidal palladium) attached to the surface of the plated body are likely to separate back into the bath during the subsequent aqueous electroless plating, and the weak adhesion force It was a drawback.

被メツキ体表面から脱落した触媒核は所謂、メッキ液老
化の原因となるもので、またフルアディティブ法による
導電回路の形成においては回路ショートの原因をつくる
ものであるから、被メツキ体表面からの触媒核の脱落は
絶対に避けねばならない現象である。この点で、従来技
術の触媒核(コロイド状パラジウム)は大きな欠点を有
しており、本発明の方法には側底採用できないものであ
る。
Catalytic nuclei that fall off from the surface of the plated object cause so-called aging of the plating solution, and also cause short circuits in the formation of conductive circuits using the fully additive method. Falling off of catalyst nuclei is a phenomenon that must be absolutely avoided. In this respect, the prior art catalyst core (colloidal palladium) has major drawbacks and cannot be used in the method of the present invention.

従来より周知のことであるが、上記のコロイド状パラジ
ウム以外にも、いろいろな金属が無電解メッキにおいて
触媒作用を有する(表面活性な)金属微粒子を生成する
。例えば、金、銀、白金または銅やニッケルなども適当
な化学的賦活により触媒作用を有することが知られてい
る。
As is well known in the art, in addition to the colloidal palladium mentioned above, various metals produce fine metal particles having a catalytic action (surface active) in electroless plating. For example, gold, silver, platinum, copper, nickel, etc. are known to have catalytic activity by appropriate chemical activation.

また、最近の技術知識によれば、上記の塩化パラジウム
以外にも、いろいろなパラジウム化合物を利用して触媒
作用を何するパラジウl、微粒子を生成させることが出
来る。例えば、仔機金属錯化合物の中には不安定なもの
が多く、熱や水あるLlは空気中の酸素に対して敏感で
あり、比較的温和な賦活法により、分解して成分元素、
即ち金属単体を遊離するものがある。このような金属単
体は表面が化学的に活性な金属微粒子であり、無電解メ
ッキの触媒核として極めて有効である。また、一般に有
機金属錯化合物は水に不溶または難溶であり、フルアデ
ィティブ法による導電回路の形成には好都合である。
Furthermore, according to recent technical knowledge, in addition to the above-mentioned palladium chloride, various palladium compounds can be used to generate palladium fine particles that have a catalytic effect. For example, many child metal complex compounds are unstable, and Ll is sensitive to heat and water, and is sensitive to oxygen in the air, so it can be decomposed into component elements by a relatively mild activation method.
That is, there are some that liberate simple metals. Such simple metals are fine metal particles whose surfaces are chemically active, and are extremely effective as catalyst nuclei for electroless plating. Furthermore, organometallic complex compounds are generally insoluble or poorly soluble in water, which is advantageous for forming a conductive circuit by a fully additive method.

金、銀、白金、パラジウム等、所謂、遷移金属の有機化
合物錯体については今日では多くの化合物が知られてお
り、いろいろな出版物にその合成法が報告されている(
例えば、日本化学会編、新実験化学講座、第12巻、有
機金属化学(1972)、J、Am、Chem、Soc
、60 882(+938)、  Inorz、5yn
th、。
Many compounds are known today regarding so-called organic compound complexes of transition metals such as gold, silver, platinum, palladium, etc., and their synthesis methods have been reported in various publications (
For example, edited by the Chemical Society of Japan, New Experimental Chemistry Course, Volume 12, Organometallic Chemistry (1972), J, Am, Chem, Soc.
, 60 882 (+938), Inorz, 5yn
Th.

+3 52(+972)およびJ、Chem、S。。、
、1976  A、423参照)。
+3 52 (+972) and J, Chem, S. . ,
, 1976 A, 423).

しかしながら、−概に遷移金属の有機化合物錯体が不安
定であると言っても、その不安定性の程度は各錯化合物
によって異なっている。例えば、特に熱に対して弱く分
解しやすいものや、水と反応して加水分解しやすいしの
、あるいは空気中の酸素に対して特に敏感なものなど各
錯体によっているいろ異なる。例えば、特開昭59−8
8891に開示されている有機金属錯化合物(ビスベン
ゾニトリルバラノウ14ジクロライド)では、触媒作用
を有するパラジウム微粒子を生成させるためには、10
0℃に加熱した後、ヒドラジン硫酸塩と水酸化ナトリウ
ム水溶液により賦活し、その後、更にイソプロピルアル
コール−水酸化カリウム溶液に浸漬して完全に賦活する
ことが必要であると説明されている。
However, even though organic compound complexes of transition metals are generally unstable, the degree of instability varies depending on each complex compound. For example, complexes vary, such as those that are particularly sensitive to heat and easily decompose, those that react with water and are easily hydrolyzed, and those that are particularly sensitive to oxygen in the air. For example, JP-A-59-8
In the organometallic complex compound (bisbenzonitrile balano-14 dichloride) disclosed in No. 8891, in order to generate palladium fine particles having catalytic action,
It is explained that after heating to 0°C, it is necessary to activate with hydrazine sulfate and an aqueous sodium hydroxide solution, and then further immerse in an isopropyl alcohol-potassium hydroxide solution for complete activation.

本発明者は、無電解メッキに使用される還元剤、特に銅
メッキ浴のホルマリンによって分解されて金属微粒子を
遊離する一群の有機金属錯化合物を発見し、またそれら
がメッキ触媒作用を有することを確認した。これらの有
機金属錯化合物を用いると、特開昭59−88891に
主張されているような特別の賦活法は必要でなく、銅メ
ッキ浴の中でメッキ触媒核の生成と銅メッキの進行を同
時に行うことができる。この特徴を利用して、本発明の
描画法による導電回路の形成を考案するに至った。本発
明に利用できる有機金属錯化合物として次のものか挙げ
られる。即ち、ブタジェンパラジウムジクロライド、1
.5−シクロオクタジエンパラジウムジクロライド、ジ
アセトニトリルパラジウムジクロライド、ジ−μmクロ
ロ−ビス(η−アリル)ニパラジウム(■)、ジアセト
ニトリルプラチニウムジクロライド、ジシクロペンタジ
ェン金(1)クロライド等である。
The present inventor has discovered a group of organometallic complex compounds that are decomposed by reducing agents used in electroless plating, particularly formalin in copper plating baths, to liberate fine metal particles, and has also shown that they have a plating catalytic effect. confirmed. When these organometallic complex compounds are used, there is no need for a special activation method as claimed in JP-A-59-88891, and the generation of plating catalyst nuclei and the progress of copper plating can be simultaneously performed in a copper plating bath. It can be carried out. Taking advantage of this feature, we have devised the formation of a conductive circuit by the drawing method of the present invention. Examples of organometallic complex compounds that can be used in the present invention include the following. That is, butadiene palladium dichloride, 1
.. These include 5-cyclooctadiene palladium dichloride, diacetonitrile palladium dichloride, di-μm chloro-bis(η-allyl)nipalladium (■), diacetonitrile platinium dichloride, dicyclopentadiene gold(1) chloride, and the like.

上記の有機金属錯化合物は無電解銅メッキの条件下(例
えば、0.1−0.5モル/1 ホルマリン(37%)
、  ptl 12.0−12. 5、温度23−70
℃)で、速やかに分解して、表面活性な金属微粒子を遊
離するので、無電解銅メッキの触媒として極めて有効で
ある。
The above organometallic complex compound is used under the conditions of electroless copper plating (for example, 0.1-0.5 mol/1 formalin (37%)).
, ptl 12.0-12. 5. Temperature 23-70
C), it rapidly decomposes and liberates surface-active metal particles, making it extremely effective as a catalyst for electroless copper plating.

これらの有機金属錯化合物を用いると、特開昭59−8
8891に主張されているような特別の賦活工程は必要
でなく、回路パターンを描画した基板は、溶剤を揮発さ
せた後、直ちに無電解メッキ浴中に投入してメッキを開
始できる利点がある。
When these organometallic complex compounds are used, JP-A-59-8
There is no need for a special activation process as claimed in 8891, and the board on which the circuit pattern has been drawn has the advantage that after the solvent has been volatilized, it can be immediately placed in an electroless plating bath and plating can be started.

上記の有機金属錯化合物を0.5−5重量%の範囲で有
機溶剤に溶解して、描画用インクを調製する。勿論、有
機金属錯化合物の含有量は、これより多くても少なくて
も良いが、一般的には、0゜5重量%以下では無電解メ
ッキの発生が不十分であり、5重量%以上では溶剤の種
類によっては溶解度を超える場合があり、又これ以上の
高濃度は無電解メッキ用触媒として不必要である。
A drawing ink is prepared by dissolving the above organometallic complex compound in an organic solvent in a range of 0.5-5% by weight. Of course, the content of the organometallic complex compound may be more or less than this, but generally, if it is less than 0.5% by weight, electroless plating will not occur sufficiently, and if it is more than 5% by weight, Depending on the type of solvent, the solubility may be exceeded, and higher concentrations are unnecessary as a catalyst for electroless plating.

本状に適する有機溶剤としては、二塩化メチレン、1.
1.1−トリクロロエタン、メチルエチルケトン、アセ
トン、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等がある。
Organic solvents suitable for this purpose include methylene dichloride, 1.
Examples include 1.1-trichloroethane, methyl ethyl ketone, acetone, benzene, toluene, xylene, tetrahydrofuran, and dioxane.

室温における蒸気圧が大きいほど蒸発速度が大きいので
、インクの速乾性を上げろためには二種以上の溶剤を混
合した方が好ましい。こうして、描画した際の回路線幅
の滲みを最小限に抑えることができる。
Since the higher the vapor pressure at room temperature, the higher the evaporation rate, it is preferable to mix two or more types of solvents in order to improve the quick drying properties of the ink. In this way, blurring of the circuit line width during drawing can be minimized.

また、本発明に使用する溶剤は完全に脱水しておく必要
がある。さもないと有機金属錯化合物が加水分解して沈
澱を生じ、描画インクの寿命が短くなる。一般に、溶剤
の脱水は無水塩化カルシウムを加えて放置した後、ろ過
するだけでもある程度目的は達せられる。しかし、アセ
トンを脱水するには無水硫酸カルシウムの方が好ましい
Further, the solvent used in the present invention must be completely dehydrated. Otherwise, the organometallic complex will hydrolyze and form a precipitate, which will shorten the life of the drawing ink. Generally, dehydration of the solvent can be accomplished to some extent by simply adding anhydrous calcium chloride, allowing it to stand, and then filtering it. However, anhydrous calcium sulfate is preferred for dehydrating acetone.

描画する対象の絶縁基板には通常の紙フェノール基板(
銅張りしてないもの)や、もし基板の耐熱性を問わない
時にはABS樹脂板などを使用できる。しかし、フルア
ディティブ法用基板として基板中に既にパラジウム粒子
を含んだ絶縁基板は本性には適さない。ABS樹脂板を
重クロム酸−硫酸混液で表面エツチングしたものは、優
れた回路剥離強度を示す。
The insulating substrate to be drawn is a normal paper phenolic substrate (
If the heat resistance of the board is not a concern, you can use an ABS resin board. However, an insulating substrate that already contains palladium particles is not suitable as a substrate for the fully additive method. An ABS resin plate surface-etched with a dichromic acid-sulfuric acid mixture exhibits excellent circuit peel strength.

描画する前に、基板をクリーニングしなければならない
が、これは従来の無電解メッキ法の脱脂工程と同じでよ
く、即ち界面活性剤を含む酸性水溶液に浸漬してよく洗
浄した後、水洗、乾燥する。
Before drawing, the substrate must be cleaned, but this can be done in the same way as the degreasing process of conventional electroless plating, i.e., thoroughly cleaned by immersing it in an acidic aqueous solution containing a surfactant, then rinsing with water, and drying. do.

本発明の方法ではスルーホールメッキも導電回路の形成
と同時に得られる。即ち、ルータ−で穴あけした後、ス
ルーホール内壁にマイクロシリンジを”使って描画イン
クを0.05〜0.2ミリリットル付着させるだけでよ
い。
With the method of the present invention, through-hole plating can also be obtained simultaneously with the formation of conductive circuits. That is, after drilling a hole with a router, it is sufficient to apply 0.05 to 0.2 milliliters of drawing ink to the inner wall of the through hole using a microsyringe.

描画インクの組成を要約すると次の通りである。The composition of the drawing ink is summarized as follows.

有機溶剤     99.5−15重量%有機金属錯化
合物  0.5−5重量%油溶性着色染料      
   若干量回路線幅の滲み出しは基板の表面状態(表
面粗化の状態)によって、大きく影響されるので、滲み
出しが多い時には樹脂コンパウンドまたはロジン誘導体
を少量加えてもよい。しかし、この場合はプロッタポイ
ントの目づまりを起こしやすいので注意が必要である。
Organic solvent: 99.5-15% by weight Organometallic complex compound: 0.5-5% by weight Oil-soluble colored dye
Since the bleeding of the circuit line width is greatly influenced by the surface condition of the substrate (state of surface roughening), a small amount of resin compound or rosin derivative may be added when there is a large amount of bleeding. However, in this case, care must be taken as plotter points are likely to become clogged.

油溶性着色染料は、ここでは描画した回路パターンの潜
像を肉眼で識別しやすいようにするためであり、必ずし
も必要ではない。
The oil-soluble colored dye is used here to make the latent image of the drawn circuit pattern easier to identify with the naked eye, and is not necessarily necessary.

上記組成の描画インクをプロッタポイントに充填して、
ペンプロッタ−により絶縁基板上に回路パターンを描画
する。インクの乾燥は室温で放置するだけでよ<(2−
10分間)、その後、基板をそのまま無電解メッキ浴に
浸漬する。空気中の湿度が高い時には、有機金属錯化合
物が湿気を吸収して加水分解すると考えられるが、後続
の無電解メッキには影響しない。例えば、描画した基板
を一週間空気中に放置した後、無電解メッキ浴へ投入し
てら同じように回路メッキは形成されるからである。
Fill the plotter point with the drawing ink of the above composition,
A circuit pattern is drawn on the insulating substrate using a pen plotter. To dry the ink, just leave it at room temperature.
10 minutes), and then the substrate is directly immersed in the electroless plating bath. When the humidity in the air is high, it is thought that the organometallic complex absorbs moisture and is hydrolyzed, but this does not affect the subsequent electroless plating. For example, if a printed board is left in the air for a week and then placed in an electroless plating bath, circuit plating will be formed in the same way.

無電解メッキ浴の組成は従来のフルアディティブ法に使
用されるものと同じでよい。例えば、次のような組成の
ものが使用できる。
The composition of the electroless plating bath may be the same as that used in conventional fully additive methods. For example, the following composition can be used.

硫酸銅(Cu S O4・51−1 t O) 0 、
04モル/lホルマリン(37%)    0.3 モ
ル/I水酸化ナトリウム(Na01−1)  pl−1
= 12.2EDTA−4Na       O,1モ
ル/1非イオン系界面活性剤    250  mg/
lα、α“−ジピリジル     20rng/l無電
解メッキにより基板上の回路パターン潜像を発現させた
後、そのまま無電解メッキを継続して銅の厚付けをおこ
なってらよいし、またコストを安くするために電気メッ
キを利用してもよい。
Copper sulfate (CuSO4・51-1tO) 0,
04 mol/l Formalin (37%) 0.3 mol/I Sodium hydroxide (Na01-1) pl-1
= 12.2EDTA-4NaO, 1 mol/1 nonionic surfactant 250 mg/
lα,α“-Dipyridyl 20 rng/l After developing the circuit pattern latent image on the board by electroless plating, it is better to continue electroless plating to thicken the copper, and also to reduce costs. Electroplating may also be used.

この場合には、回路パターンにバスバーを付けておく必
要がある。
In this case, it is necessary to attach a bus bar to the circuit pattern.

このようにして形成した導電回路は、もし基板表面のア
ンカー効果が十分でない時には、その剥離強度は余り強
くない。しかし、試作用回路としては、これで十分であ
る。
The conductive circuit thus formed will not have very strong peel strength if the anchoring effect on the substrate surface is not sufficient. However, as a prototype circuit, this is sufficient.

以上はペンプロッタ−を利用した時の描画法に−よる導
電回路の形成について述べた。しかし、描画手段として
は他のものら利用出来る。例えば、インクジェットプリ
ンターを使用して回路パターン潜像を描くときにも、上
記の描画インクをそのまま利用できる。
The above has described the formation of a conductive circuit by a drawing method using a pen plotter. However, other drawing means can also be used. For example, when drawing a circuit pattern latent image using an inkjet printer, the above drawing ink can be used as is.

次に本発明の実施例をしめす。Next, examples of the present invention will be shown.

塩化パラジウノ、P d Cl 2 (純度99.75
%。
Palladium chloride, P d Cl 2 (purity 99.75
%.

日進化成相欠)4.0gとベンゾニトリル(試薬−級を
P t Osと共に蒸留したもの、沸点190℃)約2
00 m lを500m1のフラスコに入れ、オイルバ
ス上で100℃に加熱、撹拌した。約30分間撹拌した
後、熱濾過し、濾液を冷却すると黄色の沈澱が生じた。
4.0 g of Nippon Steel (Nippon Chemical) and benzonitrile (reagent-grade distilled with PtOs, boiling point 190°C) approx. 2
00 ml was placed in a 500 ml flask, heated to 100°C on an oil bath, and stirred. After stirring for about 30 minutes, it was filtered hot and a yellow precipitate formed when the filtrate was cooled.

これをブフナー漏斗により濾別して、更に濾液へ石油エ
ーテルを加え希釈すると、再び沈澱が生じた。これらの
ふたつの沈澱を合わせて、石油エーテルで洗浄してビス
ベンゾニトリルパラジウムジクロライド(PhCN)、
PdcIzの錯体8.04gを得た(収量92.8%)
This was filtered using a Buchner funnel, and when the filtrate was further diluted with petroleum ether, a precipitate was formed again. These two precipitates were combined and washed with petroleum ether to give bisbenzonitrile palladium dichloride (PhCN).
Obtained 8.04 g of PdcIz complex (yield 92.8%)
.

上記で得たビスベンゾニトリルパラジウムジクロライド
8.0gをドライベンゼン(試薬−級をP、0.と共に
蒸留したもの、沸点80℃)約500m1に溶解させ、
窒素気流下5〜8℃でブタジェンガスを該溶液内に導入
、その後室温に上げ、約30分間ブタジェンガスを導入
すると、きれいな淡黄色の沈澱が析出してくる。もはや
沈澱が増加しない時点でブタジェンガスの導入をやめ、
直ちに吸引濾過した。残渣を石油エーテルで洗浄して乾
燥した(収fif1.8g)。石油エーテルを濃縮して
更に残渣2,5gを得た。こうして合計的4.3gのブ
タジェンパラジウムジクロライドの錯体を得た(収率的
90%)。この錯体をデシケータ−の中で冷暗所にて保
存し、描画インク調製用とした。
8.0 g of bisbenzonitrile palladium dichloride obtained above was dissolved in about 500 ml of dry benzene (reagent-grade distilled with P, 0., boiling point 80 ° C.),
Butadiene gas is introduced into the solution at 5-8° C. under a nitrogen stream, and then the temperature is raised to room temperature, and when butadiene gas is introduced for about 30 minutes, a clean pale yellow precipitate is deposited. Stop introducing butadiene gas when the precipitation no longer increases,
It was immediately filtered with suction. The residue was washed with petroleum ether and dried (yield: 1.8 g). The petroleum ether was concentrated to obtain an additional 2.5 g of residue. A total of 4.3 g of butadiene palladium dichloride complex was thus obtained (90% yield). This complex was stored in a desiccator in a cool, dark place and used for preparing a drawing ink.

Dユ描画インクのり、1製 」二足で合成したブタジェンパラジウムジクロライド1
.OKをメヂルエチルケトンとアセトンの等Ji1混合
物60 m lに室温で溶解した。メチルエヂルケトン
は試薬−級に無水硫酸ナトリウムと無水炭酸カリウムを
加えて一夜間放置し、脱水したもの、またアセトンは試
薬−級に無水硫酸カルシウムを加えて一夜間放置し、脱
水したものをそれぞれ使用した。このブタジェンパラジ
ウムジクロライド溶液にベンゼンを加えて全体を100
m1に調製した。ベンゼンは上記合成に使用したドライ
ベンゼンを使用した。
Butadiene palladium dichloride 1 synthesized with D-yu drawing ink glue, 1
.. OK was dissolved in 60 ml of an equal Ji1 mixture of methyl ethyl ketone and acetone at room temperature. Methyl edyl ketone is made by adding anhydrous sodium sulfate and anhydrous potassium carbonate to reagent grade, left overnight to dehydrate it, and acetone is made by adding anhydrous calcium sulfate to reagent grade, left overnight to dehydrate it. Each was used. Add benzene to this butadiene palladium dichloride solution and make the whole solution 100%
It was prepared in m1. The dry benzene used in the above synthesis was used as benzene.

C1回路パターン社腹の描画 上記で調製した描画インクをプロッタポイントに充填し
て、ペンプロッタ−により回路パターンを紙フェノール
基板(銅張りしてないもの)上に描画した。プロッタポ
イントは線幅0.2mmのものを使用した。この描画イ
ンクは速乾性であり、乾燥は非常に速い。
C1 Drawing of circuit pattern The plotter point was filled with the drawing ink prepared above, and a circuit pattern was drawn on a paper phenol substrate (not coated with copper) using a pen plotter. A plotter point with a line width of 0.2 mm was used. This drawing ink is quick drying and dries very quickly.

pユ無電解メッキによる導電回路の発現上記のように回
路パターン潜像を描画した基板を次の組成の銅メッキ浴
に浸漬した。
Development of a conductive circuit by electroless plating The substrate on which the circuit pattern latent image was drawn as described above was immersed in a copper plating bath having the following composition.

硫酸銅(CuSO−・5HtO)   I 2  g/
lホルマリン(37%濃度)       6 m I
 / 1水酸化ナトリウム        12g/I
EDTA−2Na  、        30  g/
lポリエヂレングリコール誘導体 250 m g /
 1α、α°−ジピリジル      20 m g 
/ 1温度23℃で約30分間浸漬し、その間、基板を
ゆっくり浴中で揺動さUoた。数分後には水素ガスが発
生して無電解メッキが進行しているのを観察できる。そ
の後、メッキ浴より基板を取り出し、水洗した後、電気
メツキ法により回路上に銅を厚付けして基板上に導電回
路を得た。一般に、無電解メッキ浴の組成は微妙なR整
を要するところがあり、メッキ達度が余り速すぎる様な
場合にはメッキ皮膜中にボイドが生じたりして良好な導
電回路が得られないこともある。このような場合には、
専門業者が調合した市販のスルーホールメッキ用無電解
メッキ液を利用すると便利である。
Copper sulfate (CuSO-・5HtO) I 2 g/
l Formalin (37% concentration) 6 m I
/ Sodium monohydroxide 12g/I
EDTA-2Na, 30 g/
l Polyethylene glycol derivative 250 mg /
1α, α°-dipyridyl 20 mg
/1 temperature for about 30 minutes, during which time the substrate was gently rocked in the bath. After a few minutes, hydrogen gas is generated and the progress of electroless plating can be observed. Thereafter, the substrate was taken out from the plating bath, washed with water, and then copper was deposited thickly on the circuit by electroplating to obtain a conductive circuit on the substrate. Generally, the composition of an electroless plating bath requires delicate R adjustment, and if the plating is completed too quickly, voids may occur in the plating film and a good conductive circuit may not be obtained. be. In such a case,
It is convenient to use a commercially available electroless plating solution for through-hole plating prepared by a specialist.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  金、銀、白金および/またはパラジウムの有機化合物
錯体を含む描画インクを用いて、絶縁基板上に回路パタ
ーンの潜像を描画し、該インクを乾燥させた後、該絶縁
基板を無電解メッキ浴に浸漬することにより、回路パタ
ーンを現像して、導電回路を発現させることからなる、
描画法による導電回路の形成。
A latent image of a circuit pattern is drawn on an insulating substrate using a drawing ink containing an organic compound complex of gold, silver, platinum, and/or palladium, and after drying the ink, the insulating substrate is placed in an electroless plating bath. Developing the circuit pattern by immersing it in water to develop a conductive circuit.
Formation of conductive circuits by drawing method.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006229254A (en) * 2006-05-29 2006-08-31 Morimura Chemicals Ltd Method for manufacturing translucent body
JP2006270118A (en) * 2006-05-29 2006-10-05 Morimura Chemicals Ltd Manufacturing method for circuit board

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006229254A (en) * 2006-05-29 2006-08-31 Morimura Chemicals Ltd Method for manufacturing translucent body
JP2006270118A (en) * 2006-05-29 2006-10-05 Morimura Chemicals Ltd Manufacturing method for circuit board

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