JPS62259187A - Pattern measuring instrument - Google Patents

Pattern measuring instrument

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Publication number
JPS62259187A
JPS62259187A JP10280086A JP10280086A JPS62259187A JP S62259187 A JPS62259187 A JP S62259187A JP 10280086 A JP10280086 A JP 10280086A JP 10280086 A JP10280086 A JP 10280086A JP S62259187 A JPS62259187 A JP S62259187A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
address
address information
pattern
photoelectric conversion
random access
Prior art date
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Pending
Application number
JP10280086A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasufumi Fukuma
康文 福間
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Optical Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Optical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Optical Co Ltd filed Critical Tokyo Optical Co Ltd
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Publication of JPS62259187A publication Critical patent/JPS62259187A/en
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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

PURPOSE:To speed up the data transfer processing without an expensive computer and to shorten time required for deciding a pattern by providing a ROM storing address information used for deciding a projection pattern image and a transfer processing means. CONSTITUTION:The ROM 16 stores the address information necessary for deciding the projection pattern image in a RAM 14. The transfer processing means 17 has a function to call photoelectric transfer information in the RAM 14 not through a microprocessor 15 based on the address information in the ROM 16. When a processor 15 inputs a transfer start command signal Ts to a read/ write control register 19, said register 19 calls the address information in the ROM 16. A control register 20 sequentially calls photoelectrical transfer information at an address corresponding to the address information in the ROM 16 based on the called address information, and transfers said transfer information to the RAM 18. Thus data transfer processing can be speed up without an expensive computer, and the time required for deciding the pattern can be shortened.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、被検対象を介して投影された既知の形状のパ
ターンに基づく投影パターン像を多数の画素を有する光
電変換素子によって光電変換し、この光電変換素子を走
査して各画素毎の光電変換情報を取り出し、ランダムア
クセスメモリの各番地に記憶させ、中央処理装置にその
ランダムアクセスメモリの各番地に記憶されている光電
変換情報に基づく演算を行なわせてその投影パターン像
の形状を決定するようにしたパターン測定装置の改良に
関する。
Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention is a method for photoelectrically converting a projected pattern image based on a pattern of a known shape projected through an object to be inspected using a photoelectric conversion element having a large number of pixels. , this photoelectric conversion element is scanned to extract photoelectric conversion information for each pixel, and the photoelectric conversion information is stored in each address of the random access memory, and the central processing unit calculates the photoelectric conversion information based on the photoelectric conversion information stored in each address of the random access memory. The present invention relates to an improvement in a pattern measuring device that determines the shape of a projected pattern image by performing calculations.

(従来の技術) 従来から、パターン測定装置として、被検対象を介して
投影された既知の形状のパターンに基づく投影パターン
像を多数の画素を有する光電変換素子としてのエリアC
CDの画素面に形成させ、このエリアCODを走査して
各画素毎の光電変換情報を取り出し、ランダムアクセス
メモリの各番地に記憶させ、その後、中央処理装置によ
ってそのうンダムアクセスメモリの各番地に記憶されで
いる光電変換情報を所定のプログラムに従って呼び出す
と共に所定の演算を行なってその投影パターン像の形状
を決定するようにしたものが知られている。
(Prior Art) Conventionally, as a pattern measuring device, a projected pattern image based on a pattern of a known shape projected through an object to be inspected is transferred to an area C as a photoelectric conversion element having a large number of pixels.
This area COD is formed on the pixel surface of the CD, and this area COD is scanned to take out photoelectric conversion information for each pixel and stored in each address of the random access memory.Then, the central processing unit stores the photoelectric conversion information in each address of the random access memory. It is known that the shape of the projected pattern image is determined by calling out stored photoelectric conversion information according to a predetermined program and performing predetermined calculations.

(発明が解決しようとする問題点) ところが、そのランダムアクセスメモリから各番地毎に
1個ずつつデータとしての光電変換情報を呼び出して中
央処理装置i!(マイクロプロセッサ)に転送するのは
、画素個数が多いこと、1語を構成する単位が、たとえ
ば、16ビツト、32ビツトであること等のために、そ
の転送に多くの時間を要し、その転送処理の間、中央処
理装置がそのデータの転送という入出力の仕事に占有さ
れ、パターンの決定に多大の時間を要する不具合がある
。この不具合は、処理のスピードの早い計算機を用いれ
ば解消することができるが、その場合には、パターン測
定装置が高価となるという別の不具合を生じる。
(Problem to be Solved by the Invention) However, the central processing unit i! retrieves the photoelectric conversion information as data from the random access memory one by one for each address. Because the number of pixels is large and the units that make up one word are, for example, 16 bits or 32 bits, it takes a lot of time to transfer the data to the microprocessor. During the transfer process, the central processing unit is occupied with the input/output task of transferring the data, and there is a problem in that it takes a lot of time to determine the pattern. Although this problem can be solved by using a computer with high processing speed, another problem arises in that the pattern measuring device becomes expensive.

(発明の目的) そこで、本発明は、処理スピードの早い高価な計算機を
用いなくともデータの転送処理を迅速に行なうことがで
きてかつ従来よりもそのパターンの決定に要する時間の
短縮化を図ることのできるパターン測定装置を提供する
ことにある。−(問題点を解決するための手段) 本発明は、既知の形状のパターンを投影して投影パター
ン像を光電変換素子の画素面に形成させる場合、その投
影パターン像に多少の歪、大きさの変化があったとして
も、既知の形状のパターンと一定の関係があり、光電変
換素子の各画素が有する全データとしての光電変換情報
の全てを用いて演算処理をしなくとも投影パターン像を
正確に決定できることに着目して為されたもので、本発
明の特徴とするところは、ランダムアクセスメモリの各
番地のうち投影パターン像の決定に必要な番地情報を記
憶するメモリと、そのランダムアクセスメモリの各番地
に記憶されている光電変換情報をこのメモリに記憶され
ている番地情報に基づいて中央処理装置を介さずに呼び
出す転送処理手段とを設けたところにある。
(Purpose of the Invention) Therefore, the present invention aims to quickly perform data transfer processing without using an expensive computer with high processing speed, and to shorten the time required to determine the pattern compared to the conventional method. The object of the present invention is to provide a pattern measuring device that can measure the pattern. - (Means for Solving the Problems) The present invention provides that when a pattern of a known shape is projected to form a projected pattern image on a pixel surface of a photoelectric conversion element, the projected pattern image may have some distortion and size. Even if there is a change in the pattern, there is a certain relationship with the pattern of the known shape, and the projected pattern image can be created without performing calculation processing using all of the photoelectric conversion information as all data possessed by each pixel of the photoelectric conversion element. This invention was developed with a focus on accurate determination, and features of the present invention include a memory for storing address information necessary for determining a projection pattern image among each address of a random access memory, and a random access memory for storing address information necessary for determining a projection pattern image. A transfer processing means is provided for calling out the photoelectric conversion information stored at each address of the memory based on the address information stored in the memory without going through the central processing unit.

(実施例) 以下に、本発明に係るパターン測定装置の実施例を図面
を参照しつつ説明する。
(Example) Hereinafter, an example of a pattern measuring device according to the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図〜第5図は本発明に係るパターン測定装置を被検
眼の角膜の曲率半径測定装置に適用した実施例を示す図
であって、第1図において、1は被検眼の角膜、2は既
知のリング状のパターンをパターン投影光として角膜1
に向かって投影するパターン投影光学系、3は投影パタ
ーン像結像光学系、Ωはその投影パターン結像光学系3
の主光軸である。パターン投影光学系2は光源4とパタ
ーン形成板5とから概略構成されている。そのパターン
形成板5には、第2図に示すようにリング状のパターン
6が形成されている。
1 to 5 are diagrams showing an embodiment in which a pattern measuring device according to the present invention is applied to a curvature radius measuring device for the cornea of an eye to be examined, and in FIG. 1, 1 is the cornea of the eye to be examined; is the cornea 1 using a known ring-shaped pattern as pattern projection light.
3 is a projected pattern image forming optical system, and Ω is the projected pattern image forming optical system 3.
is the main optical axis of The pattern projection optical system 2 is roughly composed of a light source 4 and a pattern forming plate 5. A ring-shaped pattern 6 is formed on the pattern forming plate 5, as shown in FIG.

角膜1には、パターン投影光が投影されるとリング状の
パターン6の虚像11が形成される。この虚像11は、
角膜1に乱視があることなどによって歪んだものとなる
。投影パターン結像光学系3は、対物レンズ7、絞り8
、リレーレンズ9とから概略構成され、リング状の投影
パターン像としての虚像11を形成する反射光は、投影
パターン光として対物レンズ7、絞り8、リレーレンズ
9を介して光電変換素子としてのエリアC0DIOに導
かれ、その画素面10aに結像される。なお、絞り8は
、テレセン絞りとして機能する。
When the pattern projection light is projected onto the cornea 1, a virtual image 11 of the ring-shaped pattern 6 is formed. This virtual image 11 is
The image is distorted due to astigmatism in the cornea 1. The projection pattern imaging optical system 3 includes an objective lens 7 and an aperture 8
, and a relay lens 9, and the reflected light forming the virtual image 11 as a ring-shaped projection pattern image is transmitted as projection pattern light to an area as a photoelectric conversion element via an objective lens 7, an aperture 8, and a relay lens 9. The light is guided to C0DIO, and an image is formed on the pixel surface 10a. Note that the aperture 8 functions as a telecentric aperture.

エリアCCDl0は、第3図に示すように多数の画素G
LJ(i=1,2.・・・1m、j=1.2. ・・・
、n)を有しており、この画素面10aには、第4図に
実線で示すように投影パターン像として楕円像11が形
成される。エリアCCDl0は、公知の駆動手段12に
よって走査されるもので、このエリアCCDl0に蓄積
されている各画素GLj(1=1.2、・・・、m、 
j=1.2、・・・、n)の光電変換情報は、その駆動
手段12によって取り出され、 A/D変換器13によ
りアナログデジタル変換され、デジタル化されてランダ
ムアクセスメモリ(RAM)14に転送され、一時的に
このランダムアクセスメモリ(RAM) 14の各番地
にそれぞれ記憶される。なお、このランダムアクセスメ
モリ(RAM)14には、公知のビデオ装置に用いられ
ているものを用いている。
Area CCDl0 has a large number of pixels G as shown in FIG.
LJ (i=1,2....1m, j=1.2....
, n), and an elliptical image 11 is formed as a projected pattern image on this pixel surface 10a, as shown by the solid line in FIG. The area CCDl0 is scanned by a known driving means 12, and each pixel GLj (1=1.2, . . . , m,
The photoelectric conversion information of j=1.2, . The data is transferred and temporarily stored at each address of this random access memory (RAM) 14. Note that this random access memory (RAM) 14 is one that is used in known video devices.

パターン測定装置は、ここでは、中央処理装置としての
マイクロプロセッサ15と、リードオンリーメモリ(R
Oに)16と、転送処理手段17と、ランダムアクセス
メモリ(RAM)−18とを有している。リードオンリ
ーメモリ(ROM) 16は、ランダムアクセスメモリ
(RAM)14のうち投影パターン像の決定に必要な番
地情報を記憶している。ここでは、第3図、第4図に示
す矢印線A、B、C方向の線上に存在する画素GLJの
番地に対応する番地情報をリードオンリーメモリ(RO
M)16に記憶させておくものとなっている。このリー
ドオンリーメモリ(ROM)16には1番地情報以外の
情報も記憶されているが、ここでは1本発明には、直接
関係しないのでその説明は省略する。
The pattern measuring device here includes a microprocessor 15 as a central processing unit and a read-only memory (R
16, a transfer processing means 17, and a random access memory (RAM) 18. A read-only memory (ROM) 16 stores address information necessary for determining a projection pattern image in the random access memory (RAM) 14. Here, the address information corresponding to the address of the pixel GLJ existing on the arrow lines A, B, and C shown in FIGS. 3 and 4 is stored in the read-only memory (RO).
M) 16. This read-only memory (ROM) 16 also stores information other than address 1 information, but since it is not directly related to the present invention, its explanation will be omitted here.

転送処理手段1フは、リードライト制御レジスタ19と
制御レジスタ20とを有している。この転送処理手段1
7は、ランダムアクセスメモリ(RAM) 14の各番
地に記憶されている光電変換情報をリードオンリーメモ
リ(ROM)16に記憶されている番地情報に基づいて
マイクロプロセッサ15を介さずに呼び出す機能を有す
るもので、マイクロプロセッサ15からコントロールバ
スを介してリードライト制御レジスタ19に転送開始指
令信号Tsが入力されると、リードライト制御レジスタ
19がアドレスバスを介してリードオンリーメモリ(R
OM)16に記憶されている番地情報を呼び出し、その
番地情報に基づいてランダムアクセスメモリ(RAM)
14の各番地に記憶されている光電変換情報のうちその
リードオンリーメモリ(ROM)16の番地情報に対応
する番地の光電変換情報が制御レジスタ20に順次呼び
出され、この制御レジスタ20によってランダムアクセ
スメモリ(RAM) 18に転送処理される。
The transfer processing means 1f has a read/write control register 19 and a control register 20. This transfer processing means 1
7 has a function of calling up the photoelectric conversion information stored at each address of the random access memory (RAM) 14 without going through the microprocessor 15 based on the address information stored in the read only memory (ROM) 16. When the transfer start command signal Ts is input from the microprocessor 15 to the read/write control register 19 via the control bus, the read/write control register 19 transfers to the read-only memory (R) via the address bus.
OM) 16, and based on the address information, the address information stored in the random access memory (RAM) is called.
Among the photoelectric conversion information stored in each address of the read-only memory (ROM) 16, the photoelectric conversion information of the address corresponding to the address information of the read-only memory (ROM) 16 is sequentially called into the control register 20. (RAM) Transfer processing is performed to 18.

この転送処理の間、マイクロプロセッサ15は、他のプ
ログラム処理を実行しており、リードオンリーメモリ(
ROM) 16に記憶されている番地情報に基づいての
ランダムアクセスメモリ(RAM)14の各番地に記憶
されている光電変換情報のランダムアクセスメモリ(R
AM) 18への転送処理が終了すると、リードライト
制御レジスタ19が転送終了信号Teをマイクロプロセ
ッサ15に向がって出力する・その後、マイクロプロセ
ッサ15は、そのランダムアクセスメモリ(RAM)1
11に一時的に記憶された光電変換情報に基づいて楕円
像11を決定するための演算処理を行なうものであるが
、その詳細は後述する。
During this transfer process, the microprocessor 15 is executing other program processes and the read-only memory (
A random access memory (RAM) of photoelectric conversion information stored at each address of the random access memory (RAM) 14 based on the address information stored in the ROM 16.
AM) When the transfer process to 18 is completed, the read/write control register 19 outputs a transfer end signal Te to the microprocessor 15.Then, the microprocessor 15 transfers the random access memory (RAM) 1 to the microprocessor 15.
The arithmetic processing for determining the elliptical image 11 is performed based on the photoelectric conversion information temporarily stored in the elliptical image 11, the details of which will be described later.

そのランダムアクセスメモリ(RAM)14には、この
ようにして、楕円像11の決定に最小限必要とする光電
変換情報が一時的に記憶保持される。たとえば、矢印線
A方向の線上に存在する各画素GLJに対応する番地の
光電変換情報を取り出したとすると、光電変換情報は、
第5図に示すようなものとなる。この第5図において、
横軸は光電変換情報が記憶されている各番地に対応して
おり、縦軸は輝度レベル情報Vに対応している。また、
Lはスライスレベルである。マイクロプロセッサ15は
、カウンタ(図示を略す)によって、まず、楕円を決定
するための処理−として、輝度のピークがどの番地位置
にあるかを決定するための処理を行なう。
In this way, the random access memory (RAM) 14 temporarily stores and holds the minimum photoelectric conversion information necessary for determining the elliptical image 11. For example, if we extract the photoelectric conversion information of the address corresponding to each pixel GLJ existing on the line in the direction of arrow line A, the photoelectric conversion information will be
The result will be as shown in FIG. In this Figure 5,
The horizontal axis corresponds to each address where photoelectric conversion information is stored, and the vertical axis corresponds to brightness level information V. Also,
L is the slice level. The microprocessor 15 uses a counter (not shown) to first perform processing to determine at which address position the peak of luminance is located, as processing for determining an ellipse.

この輝度のピークの番地位置の決定は、スライスレベル
LによってそのスライスレベルLの境界に存在する番地
を求めることによって行なう。すなわち、スライスレベ
ルLに基づいて、カウンタがその境界に存在する番地を
カウントし、仮想番地情報としてマイクロプロセッサ1
5に出力する。
The address position of the brightness peak is determined by determining the address existing at the boundary of the slice level L based on the slice level L. That is, based on the slice level L, a counter counts the addresses existing on the boundary, and the microprocessor 1 counts the addresses existing on the boundary as virtual address information.
Output to 5.

その仮想番地情報をaいbl、C1m d 1とする。Let the virtual address information be abl, C1md1.

この仮想番地情報aいbl、C□、d□は、第4図に示
す投影パターン像11の境界線Qい Q2と矢印線Aと
の交点a2、bl、C工、d□に対応している。
This virtual address information abl, C□, d□ corresponds to the intersection points a2, bl, C, d□ between the boundary line Q2 of the projected pattern image 11 shown in FIG. 4 and the arrow line A. There is.

そこで、その仮想番地情報a1.b、平均すると共にC
いd、を平均することによって、輝度のピークに対応す
る仮想番地情報が得られることになる。
Therefore, the virtual address information a1. b, average and C
By averaging the values d and d, virtual address information corresponding to the peak brightness can be obtained.

その輝度のピークに対応する仮想番地情報を (X−=
 Yl) −CX2= Yl)とする。ココで、符号又
はX軸方向を示し、符号YはY軸方向を示すもので、そ
の輝度のピークに対応する仮想番地情報は、原点0から
の位置として決められる。矢印線B、Cの方向について
も同様にして輝度のピークに対応する仮想番地情報を求
める。このようにして、原点0の回りに6箇所の輝度の
ピークに対応する仮想番地情報(x 1.Yz )、(
x z −y z )、(X 3 、Y 3 )  、
 (x、、y、)、  (x、、ys)。
The virtual address information corresponding to the peak of brightness (X-=
Yl) −CX2= Yl). Here, the code or the X-axis direction is shown, and the code Y is the Y-axis direction, and the virtual address information corresponding to the peak of the brightness is determined as the position from the origin 0. Virtual address information corresponding to the peak of luminance is obtained in the same manner for the directions of arrow lines B and C. In this way, virtual address information (x 1.Yz ), (
x z −y z ), (X 3 , Y 3 ),
(x,,y,), (x,,ys).

(XieYi)を求め、この仮想番地情報に基づいて公
知の処理方法により、投影パターン像としての楕円11
を決定する。マイクロプロセッサ15は、その処理結果
をテレビモニター等の表示部21にアウトプットする。
(XieYi), and based on this virtual address information, the ellipse 11 as a projected pattern image is
Determine. The microprocessor 15 outputs the processing results to a display section 21 such as a television monitor.

第6図〜第8図は、本発明に係るパターン測定装置をオ
ートレンズメータに適用した実施例を示すもので、第6
図において、25は測定光学系であり、この測定光学系
25は、測定用光源26と、コリメータレンズ27と、
パターン形成板28と、エリアCCD29とから概略構
成されており、非結像光学系である。30は被検対象と
しての被検レンズであり、パターン形成板28には、第
7図に示すように、正方形状のパターン31を構成する
ためのスリット32が形成されている。このパターン3
1を被検レンズ30を介してエリアCCD29に投影す
ると、そのエリアCCD29の画素面に第8図に示すよ
うなパターン像33が形成されるものである。オートレ
ンズメータは、このパターン像33に基づいて被検レン
ズの屈折特性を測定するものである。その被検レンズ3
0の屈折力は、公知の方法によって測定されるものであ
り、第7図に示す仮想直線P工〜P4の交点P、Q、V
、Wの移動量を得ることによって求められる。この交点
P、Q、V、Wの移動量は、投影パターン像33の仮想
直線P /1〜24′の交点P′、Q’、V’、W′を
求めることによって得ることができ、この交点P’、Q
’、v’、w’は、仮想直線P′□〜P、′が求められ
ると、求めることができる。
6 to 8 show embodiments in which the pattern measuring device according to the present invention is applied to an autolensmeter.
In the figure, 25 is a measurement optical system, and this measurement optical system 25 includes a measurement light source 26, a collimator lens 27,
It is roughly composed of a pattern forming plate 28 and an area CCD 29, and is a non-imaging optical system. Reference numeral 30 denotes a lens to be tested, and a slit 32 for forming a square pattern 31 is formed in the pattern forming plate 28, as shown in FIG. This pattern 3
1 is projected onto the area CCD 29 through the test lens 30, a pattern image 33 as shown in FIG. 8 is formed on the pixel surface of the area CCD 29. The autolensmeter measures the refractive characteristics of the lens to be tested based on this pattern image 33. The lens to be tested 3
The refractive power of 0 is measured by a known method, and is measured at the intersections P, Q, and V of the virtual straight lines P-P4 shown in FIG.
, W by obtaining the movement amount. The amount of movement of these intersection points P, Q, V, and W can be obtained by finding the intersection points P', Q', V', and W' of the virtual straight lines P/1 to 24' of the projected pattern image 33. Intersection P', Q
', v', and w' can be found when the virtual straight lines P'□ to P,' are found.

この仮想直、mp ’z〜p、に’は、少なくとも二点
を知れば、決定できるので、リードオンリーメモ嘗月6
には、その直線を決定するのに必要な番地情報をあらか
じめ記憶させである。ここでは、リードオンリーメモリ
16には、矢印線に□〜に9の線上に存在する画素GL
Jの番地に対応する番地情報が記憶されている。この矢
印線にユ〜に、の線上に存在する画素GLJの光電変換
情報を転送処理手段17によってマイクロプロセッサ1
5を介さずにランダムアクセスメモリ18に呼び出すこ
とは前記の実施例と同様であるのでその説明は省略する
This virtual direct, mp 'z~p, ni' can be determined by knowing at least two points, so read only memo
The address information necessary to determine the straight line is stored in advance. Here, in the read-only memory 16, the pixels GL existing on the arrow line □ to 9 are
Address information corresponding to address J is stored. The photoelectric conversion information of the pixel GLJ existing on the arrow line is transferred to the microprocessor 1 by the processing means 17.
Since the calling to the random access memory 18 without going through 5 is the same as in the previous embodiment, the explanation thereof will be omitted.

(発明の効果) 本発明に係るパターン測定装置は、以上説明したように
、ランダムアクセスメモリ(RAM)の各番地のうち投
影パターン像の決定に必要な番地情報を記憶するメモリ
と、そのランダムアクセスメモリ(RAM)の各番地に
記憶されている光電変換情報をそのメモリに記憶されて
いるその番地情報に基づいて中央処理装置を介さずに呼
び出す転送処理手段とを設けたので、処理スピードの早
い高価な計算機を用いなくともデータの転送処理を迅速
に行なうことができてかつ従来よりもそのパターンの決
定に要する時間の短縮化を図ることができるという効果
を奏する。
(Effects of the Invention) As explained above, the pattern measuring device according to the present invention includes a memory for storing address information necessary for determining a projected pattern image among each address of a random access memory (RAM), and a random access memory for storing address information necessary for determining a projected pattern image. A transfer processing means is provided to call the photoelectric conversion information stored at each address of the memory (RAM) based on the address information stored in the memory without going through the central processing unit, so the processing speed is fast. The present invention has the advantage that data transfer processing can be performed quickly without using an expensive computer, and the time required to determine the pattern can be shortened compared to the conventional method.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図〜第5図は1本発明に係るパターン測定装置を被
検眼の測定装置に適用した実施例を説明するための図で
あって、第1図はその要部構成を示す図、第2図はその
リング状のパターンを示す図、第3図はそのエリアCO
Dの画素面を示す図、第4図、第5図はその投影パター
ンの形状を決定するための処理を説明するための説明図
、第6図〜第8図は1本発明、に係るパターン測定装置
を被検レンズを測定するためのオートレンズメータに適
用した実施例を説明するための図であって、第6図はそ
の要部構成を示す図、第7図はその正方形状のパターン
を示す図、第8図はその投影パターン像の一例を示す図
である。 10・・・エリアCCD 。 15・・・マイクロプロセッサ 14.18・・・ランダムアクセスメモリ16・・・リ
ードオンリーメモリ。 17・・・転送処理手段 19・・・リードライト制御レジスタ 20・・・制御レジスタ 第2図        第3図 第4図 第5図
1 to 5 are diagrams for explaining an embodiment in which a pattern measuring device according to the present invention is applied to a measuring device for an eye to be examined. Figure 2 shows the ring-shaped pattern, and Figure 3 shows the area CO.
4 and 5 are explanatory diagrams for explaining the process for determining the shape of the projection pattern, and FIGS. 6 to 8 are patterns according to the present invention. FIG. 6 is a diagram illustrating an embodiment in which the measuring device is applied to an autolensmeter for measuring a lens to be tested, and FIG. 6 is a diagram showing the configuration of its main parts, and FIG. 7 is a diagram showing its square pattern. FIG. 8 is a diagram showing an example of the projected pattern image. 10...Area CCD. 15...Microprocessor 14.18...Random access memory 16...Read only memory. 17...Transfer processing means 19...Read/write control register 20...Control register Fig. 2 Fig. 3 Fig. 4 Fig. 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)被検対象を介して投影された既知の形状のパター
ンに基づく投影パターン像を多数の画素を有する光電変
換素子によって光電変換し、該光電変換素子を走査して
各画素毎の光電変換情報を取り出し、ランダムアクセス
メモリの各番地に記憶させ、中央処理装置に前記ランダ
ムアクセスメモリの各番地に記憶されている光電変換情
報に基づく演算を行なわせて前記投影パターン像の形状
を決定するようにしたパターン測定装置において、前記
ランダムアクセスメモリの各番地のうち前記投影パター
ン像の決定に必要な番地情報を記憶するメモリと、前記
ランダムアクセスメモリの各番地に記憶されている光電
変換情報を該メモリに記憶されている前記番地情報に基
づいて中央処理装置を介さずに呼び出す転送処理手段と
を設けたことを特徴とするパターン測定装置。
(1) A projected pattern image based on a pattern of a known shape projected through a test object is photoelectrically converted by a photoelectric conversion element having a large number of pixels, and the photoelectric conversion element is scanned to perform photoelectric conversion for each pixel. The information is extracted and stored in each address of the random access memory, and the shape of the projected pattern image is determined by causing the central processing unit to perform calculations based on the photoelectric conversion information stored in each address of the random access memory. In the pattern measuring device, a memory stores address information necessary for determining the projected pattern image among the addresses of the random access memory, and a memory stores address information necessary for determining the projected pattern image among the addresses of the random access memory, and a memory stores the photoelectric conversion information stored at each address of the random access memory. A pattern measuring device comprising: a transfer processing means for calling without going through a central processing unit based on the address information stored in a memory.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01147679A (en) * 1987-12-03 1989-06-09 Topcon Corp Pattern measuring instrument

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5990172A (en) * 1982-11-15 1984-05-24 Fuji Electric Co Ltd Product inspector

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