JPH01147679A - Pattern measuring instrument - Google Patents

Pattern measuring instrument

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JPH01147679A
JPH01147679A JP30674587A JP30674587A JPH01147679A JP H01147679 A JPH01147679 A JP H01147679A JP 30674587 A JP30674587 A JP 30674587A JP 30674587 A JP30674587 A JP 30674587A JP H01147679 A JPH01147679 A JP H01147679A
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JP
Japan
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pattern image
output
slice level
luminance distribution
projected
Prior art date
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Pending
Application number
JP30674587A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasufumi Fukuma
康文 福間
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Topcon Corp
Original Assignee
Topcon Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To accurately obtain a luminance distribution in the width direction of a projected pattern image by changing a slice level in response to the peak value of data outputs of said pattern image. CONSTITUTION:A projected pattern image is formed at an eyeground Er to be examined by a projection system 1. While another projected pattern image is formed at a CCD 3 by an image forming optical system 2. Then the pattern image of the CCD 3 is stored in a frame memory 24 after A/D conversion and then sent to a RAM 28 via a transfer processing means 27. Based on data stored temporarily in the RAM 28, a microprocessor 25 increases the slice level with a high peak level and vice versa to obtain the position of the luminance centroid in the width direction. Thus the luminance distribution is accurately obtained regardless of the variance of light quantity of the projected pattern.

Description

【発明の詳細な説明】 且里勿l煎 (産業上の利用分野) 本発明は、オートレフラクトメータ等に用いられるパタ
ーン測定装置の改良に関する。
Detailed Description of the Invention Field of the Invention The present invention relates to an improvement in a pattern measuring device used in an autorefractometer or the like.

(発明の背景) 近年、パターン測定装置として、被検眼を経由して投影
された既知形状のパターンに基づき形成された帯状の投
影パターン像(リング像)を多数の画素を有する光電変
換素子(たとえば、COD等の2次元画像センサ)によ
って光電変換し、この光電変換素子を走査して各画素毎
に光電情報を取り出し、各画素に対応するフレームメモ
リーの各アドレスに、その各画素の光電情報をデータと
して記憶させ、中央処理装置を用いて、投影パターン像
のその帯幅方向の輝度分布に対応する一群のデータを出
力として取り出し、この出力を所定のスライスレベルで
処理して、その輝度分布の重心位置を求めると共に、求
められた重心位置に基づき所定の演算処理を行なって投
影パターン像の形状を決定するようにしたものがある(
特願昭61−102800号、特願昭61−19371
6号参照)。
(Background of the Invention) In recent years, as a pattern measuring device, a photoelectric conversion element having a large number of pixels (e.g. , two-dimensional image sensor such as COD), scans this photoelectric conversion element to extract photoelectric information for each pixel, and stores the photoelectric information of each pixel in each address of the frame memory corresponding to each pixel. A central processing unit is used to extract a group of data corresponding to the brightness distribution in the band width direction of the projected pattern image as output, and this output is processed at a predetermined slice level to determine the brightness distribution. There is a method in which the position of the center of gravity is determined and the shape of the projected pattern image is determined by performing predetermined arithmetic processing based on the determined position of the center of gravity (
Patent Application No. 1988-102800, Patent Application No. 1983-19371
(See No. 6).

このパターン測定装置は、投影パターン像の形状を決定
するに際し、スライスレベルを固定して投影パターン像
のその帯幅方向の輝度分布の重心位置を求める構成とな
っている。
This pattern measuring device is configured to fix the slice level and determine the center of gravity position of the luminance distribution in the band width direction of the projected pattern image when determining the shape of the projected pattern image.

(発明が解決しようとする問題点) ところで、眼底、あるいは、角膜を経由して投影された
既知形状のパターンに基づく投影パターン像には、眼底
の反射ムラ、あるいは、水晶体の濁り、あるいは、まつ
毛の影響を受けてこれらに基づく光量ムラが部分的にあ
る。この光量ムラがあると、中央処理装置を用いて、光
量むらの存在する投影パターン像部分における一群のデ
ータであってかつ投影パターン像のその帯幅方向の輝度
分布に対応する一群のデータを呼び出したとき、この一
群のデータの出力が他の投影パターン像部分の一群のデ
ータの出力と較べて全体として低く、あるいは、全体と
して高くなる。たとえば、第5図は光量ムラがある投影
パターン像部分の一群のデータMの出力Vと他の投影パ
ターン像部分の一群のデータNの出力Vとを示している
が、この一群のデータM、Nの出力Vを、スライスレベ
ルLを固定して処理するものとすると、一群のデータN
についてはピーク出力αに対して適正レベルでスライス
することができるが、一群のデータMについてはピーク
出力βに対して適正レベルでスライスすることができず
、得られた重心位置が実際の輝度分布の重心位置からか
け離れたものとなり、結果として正確に投影パターン像
の形状を決定できないという不都合がある。なお、その
第5図において、横軸はデータが記憶されている各アド
レス、a□′、a、/、a3′、84′はスライスレベ
ルLによってスライスされるアドレスに対応し、(X工
、Y工)、(x t −Y 2 )は投影パターン像の
その帯幅方向の輝度分布の重心位置に相当するアドレス
である。
(Problems to be Solved by the Invention) By the way, a projected pattern image based on a pattern of a known shape projected through the fundus or cornea may contain uneven reflection of the fundus, clouding of the crystalline lens, or eyelashes. There is some unevenness in the amount of light due to the influence of these factors. When this light intensity unevenness exists, a central processing unit is used to call a group of data in the projection pattern image portion where the light intensity unevenness exists and that corresponds to the luminance distribution in the band width direction of the projection pattern image. In this case, the output of this group of data becomes lower or higher as a whole compared to the output of the group of data of other projection pattern image parts. For example, FIG. 5 shows the output V of a group of data M in a projection pattern image portion with uneven light intensity and the output V of a group of data N in another projection pattern image portion. If the output V of N is processed with a fixed slice level L, a group of data N
can be sliced at an appropriate level for the peak output α, but a group of data M cannot be sliced at an appropriate level for the peak output β, and the obtained center of gravity position is not the actual brightness distribution. As a result, the shape of the projected pattern image cannot be determined accurately. In FIG. 5, the horizontal axis corresponds to each address where data is stored, a□', a, /, a3', and 84' correspond to the addresses sliced by the slice level L. Y), (xt-Y2) is an address corresponding to the center of gravity of the luminance distribution in the band width direction of the projected pattern image.

そこで1本発明の目的は、投影パターン像の光量ムラの
存在に拘らず、投影パターン像のその帯幅方向の輝度分
布の重心位置を極力適正に求めることのできるパターン
測定装置を提供することにある。
Therefore, one object of the present invention is to provide a pattern measuring device that can determine the center of gravity of the luminance distribution in the band width direction of a projected pattern image as appropriately as possible, regardless of the presence of unevenness in the amount of light in the projected pattern image. be.

套墨(7)4創波 (問題点を解決するための手段) 本発明に係るパターン測定装置の特徴は、中央処理装置
が一群のデータの出力のピーク出力に応じてこのピーク
出力が大きいときには、その出力をスライスするための
スライスレベルが大きくなるようにかつそのピーク出力
が小さいときにはそのスライスレベルが低くなるように
このスライスレベルを変更する構成としたところにある
Mantle (7) 4 Waves (Means for Solving the Problems) The feature of the pattern measuring device according to the present invention is that when the central processing unit responds to the peak output of the output of a group of data, when this peak output is large, , the slicing level is changed so that the slicing level for slicing the output becomes large and the slicing level becomes low when the peak output is small.

(実施例) 以下に、本発明に係るパターン測定装置をオートレフラ
クトメータに適用した実施例について図面を参照しつつ
説明する。
(Example) Hereinafter, an example in which a pattern measuring device according to the present invention is applied to an autorefractometer will be described with reference to the drawings.

第1図において、1は被検眼Eの眼底Erに投影パター
ン像としてのリング状像を形成するための投影光学系、
2は眼底Erに形成されたリング状像を光電変換素子と
してのCCD 3に形成するための結像光学系、4は被
検眼Eを雲霧視状態で固視させるための固視標光学系、
5は被検眼Eの前眼部Hat−観察する11察光学系で
ある。
In FIG. 1, 1 is a projection optical system for forming a ring-shaped image as a projection pattern image on the fundus Er of the eye E to be examined;
2 is an imaging optical system for forming a ring-shaped image formed on the fundus Er on a CCD 3 as a photoelectric conversion element; 4 is a fixation target optical system for fixating the eye E in a foggy vision state;
Reference numeral 5 denotes an optical system 11 for observing the anterior segment of the eye E to be examined.

投影光学系1は、孔あきミラー6、赤外光LED光源7
、リレーレンズ8、円錐状プリズム9、リング状開口絞
り10、リレーレンズ11、対物レンズ21からなる。
The projection optical system 1 includes a perforated mirror 6 and an infrared LED light source 7.
, a relay lens 8, a conical prism 9, a ring-shaped aperture stop 10, a relay lens 11, and an objective lens 21.

結像光学系2は投影光学系1と共用の対物レンズ21、
孔あきミラー6、リレーレンズ13、CCD 3からな
る。固視標光学系4は投影光学系1と共用の対物レンズ
21、赤外透過可視反射ミラー14、リレーレンズ15
、固視標16からなり、前眼部at察先光学系は対物レ
ンズ21、ハーフミラ−20、リレーレンズ17、撮像
管18、モニターテレビ19からなる。リング状開口絞
り10と眼底Er、 CCD3と眼底Er、赤外光LE
D光源7と孔あきミラー6と被検眼![!lEpは共役
関係にある等、各光学系1〜5の配置関係、その各構成
要素の配置関係は特開昭60−164829号に記載の
通りであるのでその詳細な説明は省略する。
The imaging optical system 2 includes an objective lens 21 shared with the projection optical system 1,
It consists of a perforated mirror 6, a relay lens 13, and a CCD 3. The fixation target optical system 4 includes an objective lens 21 shared with the projection optical system 1, an infrared transmission visible reflection mirror 14, and a relay lens 15.
, a fixation target 16, and the optical system for viewing the anterior eye segment consists of an objective lens 21, a half mirror 20, a relay lens 17, an image pickup tube 18, and a monitor television 19. Ring-shaped aperture diaphragm 10 and fundus Er, CCD 3 and fundus Er, infrared light LE
D light source 7, perforated mirror 6, and eye to be examined! [! The arrangement of the optical systems 1 to 5 and the arrangement of their constituent elements, such as lEp being in a conjugate relationship, are as described in Japanese Patent Application Laid-open No. 164829/1983, so a detailed explanation thereof will be omitted.

測定中、前眼部Haの像は、常時、モニターテレビ19
の画面に映されており、検者は、適宜前眼部Haが所定
の位置にあるか否かを監視する。被検者は固視標16を
雲霧視し、被検眼Eは固定され、この状態で、円錐プリ
ズム12によって屈折された赤外光がリング状開口絞り
10を通過して、孔あきミラー6で反射され1対物レン
ズ21を通って眼底Erに達し、その眼底Erに第1次
リング状像R1が形成される。この第1次リング状像R
1を形成した赤外光は眼底Erで反射され、孔あきミラ
ー6の孔部6aを通過してCCD 3に達し、帯状の投
影パターン像としての第2次リング状像R3がそのCC
D 3に形成される。
During the measurement, the image of the anterior segment Ha is always displayed on the monitor TV 19.
The examiner appropriately monitors whether the anterior segment Ha is in a predetermined position. The subject sees the fixation target 16 as a blur, and the subject's eye E is fixed. In this state, the infrared light refracted by the conical prism 12 passes through the ring-shaped aperture diaphragm 10 and is reflected by the perforated mirror 6. It is reflected and reaches the fundus Er through the first objective lens 21, and a primary ring-shaped image R1 is formed on the fundus Er. This first ring-shaped image R
The infrared light that formed the image 1 is reflected by the fundus Er, passes through the hole 6a of the perforated mirror 6, and reaches the CCD 3, and a secondary ring-shaped image R3 as a band-shaped projection pattern image is formed on the CCD 3.
Formed in D3.

第2図はそのCCD 3に形成された第2次リング状像
R7を示すもので、第1次リング状像R1、第2次リン
グ状像R3は被検眼Eの屈折度に対応してその大きさが
変化すること、また、被検眼Eに乱視があると楕円形と
なることは従来から知られている。そのCCD 3の各
画素GLj(i=1〜m、j=1〜n)にはそのリング
状像R3の各画素の輝度に対応する信号電荷がそれぞれ
蓄積される。そのCCD 3は、第1図に示すパターン
測定装置の駆動回路22によっ・て駆動され、そのCC
D 3の各画素に蓄積された信号電荷は順次A/D変換
W23によってデータとして取り出され、フレームメモ
リ24の各アドレスに転送され、第2次リング状像R3
の各画素のデータはフレームメモリ24の各画素に対応
する各アドレスに一時的に記憶される。
FIG. 2 shows the secondary ring-shaped image R7 formed on the CCD 3, and the primary ring-shaped image R1 and the secondary ring-shaped image R3 correspond to the refractive power of the eye E to be examined. It has been known that the size changes, and that if the eye E has astigmatism, it becomes elliptical. In each pixel GLj (i=1-m, j=1-n) of the CCD 3, signal charges corresponding to the luminance of each pixel of the ring-shaped image R3 are accumulated. The CCD 3 is driven by a drive circuit 22 of the pattern measuring device shown in FIG.
The signal charge accumulated in each pixel of D3 is sequentially extracted as data by A/D conversion W23, transferred to each address of frame memory 24, and is converted into a second ring-shaped image R3.
The data of each pixel is temporarily stored in each address corresponding to each pixel in the frame memory 24.

パターン測定装置は1、中央処理装置としてのマイクロ
プロセッサ25と、リードオンリーメモリ(ROM) 
26と、転送処理手段27と、ランダムアクセスメモリ
(RAM) 28とを有している。リードオンリーメモ
リ(ROM)26は、フレームメモリ24のうち第2次
リング状像R7の形状決定に必要なアドレス情報を記憶
している。ここでは、第2図、第3図に示すように被検
眼Eの各経線方向A′〜F′の線上に存在する画素GL
jのアドレスに対応するアドレス情報をリードオンリー
メモリ(ROM)26に記憶させておくものとなってい
る。なお、このリードオンリーメモリ(ROM)26に
は、アドレス情報以外の情報も記憶されている。
The pattern measuring device includes 1, a microprocessor 25 as a central processing unit, and a read-only memory (ROM).
26, transfer processing means 27, and random access memory (RAM) 28. A read-only memory (ROM) 26 stores address information necessary for determining the shape of the second ring-shaped image R7 in the frame memory 24. Here, as shown in FIGS. 2 and 3, pixels GL existing on lines of meridian directions A' to F' of the eye E to be examined are
Address information corresponding to the address of j is stored in a read-only memory (ROM) 26. Note that this read-only memory (ROM) 26 also stores information other than address information.

転送処理手段27は、リードライト制御レジスタ29と
制御レジスタ30とを有している。この転送処理手段2
7は、フレームメモリ24の各アドレスに記憶されてい
るデータをリードオンリーメモリ(RO阿)26に記憶
されているアドレス情報に基づいてマイクロプロセッサ
25を介さずに呼び出す機能を有する。マイクロプロセ
ッサ25からコントロールバスを介してリードライト制
御レジスタ29に転送開始指令信号TRIが入力される
と、リードライト制御レジスタ29はアドレスバスを介
してリードオンリーメモリ(ROM) 26に記憶され
ているアドレス情報を呼び出し、そのアドレス情報に基
づいてフレームメモリ24の各アドレスに記憶されてい
るデータのうちそのリードオンリーメモリ(ROM) 
26のアドレス情報に対応するアドレスのデータが制御
レジスタ30に順次呼び出され、この制御レジスタ30
によってランダムアクセスメモリ(RAM)28に転送
処理される。
The transfer processing means 27 has a read/write control register 29 and a control register 30. This transfer processing means 2
7 has a function of calling data stored at each address of the frame memory 24 without going through the microprocessor 25 based on the address information stored in the read-only memory (ROA) 26. When the transfer start command signal TRI is input from the microprocessor 25 to the read/write control register 29 via the control bus, the read/write control register 29 transfers the address stored in the read-only memory (ROM) 26 via the address bus. The read-only memory (ROM) of the data stored in each address of the frame memory 24 is called based on the address information.
26 address information is sequentially called to the control register 30, and this control register 30
The data is transferred to random access memory (RAM) 28 by .

この転送処理の間、マイクロプロセッサ25は、他のプ
ログラム処理を実行しており、リードオンリーメモリ(
ROM)26に記憶されているアドレス情報に基づいて
のフレームメモリ24の各アドレスに記憶されているデ
ータのランダムアクセスメモリ(RAM)28への転送
処理が終了すると、リードライト制御レジスタ29が転
送終了信号Teをマイクロプロセッサ25に向かって出
力する。その後、マイクロプロセッサ25は、そのラン
ダムアクセスメモリ(RAM)28に一時的に記憶され
たデータに基づいて第2次リング状像R3の形状を決定
するための演算処理を行なうものである。
During this transfer process, the microprocessor 25 is executing other program processes, and the read-only memory (
When the transfer processing of the data stored at each address of the frame memory 24 to the random access memory (RAM) 28 based on the address information stored in the ROM 26 is completed, the read/write control register 29 indicates the end of the transfer. A signal Te is output to the microprocessor 25. Thereafter, the microprocessor 25 performs arithmetic processing to determine the shape of the second ring-shaped image R3 based on the data temporarily stored in the random access memory (RAM) 28.

そのランダムアクセスメモリ(RAM)2gには、この
ようにして、第2次リング状像R3の形状決定に最小限
必要とするデータが一時的に記憶保持される。たとえば
、第3図に示すように、被検眼Eの経線方向A’、D’
の線上に存在する各画素GLJに対応するアドレスのデ
ータであって投影パターン像のその帯幅方向の輝度分布
に対応する一群のデータM、Nを取り出したとすると、
その出力分布は、第4図に示すようなものとなる。この
第4図において、横軸はデータが記憶されている各アド
レスに対応し、また、Lはスライスレベルである。
In this way, the random access memory (RAM) 2g temporarily stores and holds the minimum data required for determining the shape of the second ring-shaped image R3. For example, as shown in FIG. 3, meridian directions A', D' of the eye E to be examined
Suppose that we take out a group of data M and N, which are address data corresponding to each pixel GLJ existing on the line of , and which correspond to the luminance distribution in the band width direction of the projected pattern image.
The output distribution will be as shown in FIG. In FIG. 4, the horizontal axis corresponds to each address where data is stored, and L is the slice level.

マイクロプロセッサ25は、カウンタ(図示を略す)に
よって、まず、投影パターン像のその帯幅方向の輝度分
布の重心位置を求める際の処理として、一群のデータM
、Nによる仮想ピーク出力がどのアドレス位置にあるか
を決定する処理を行なう、この一群のデータM、Nによ
るピーク出力のアドレスの決定は、スライスレベルLを
用いて一群のデータM、Nの出力Vをスライスし、その
スライスレベルLの境界に存在するアドレスを求めるこ
とによって行なう、ここで、マイクロプロセッサ25は
、一群のデータM、Nのピーク出力α、βに応じてこの
ピーク出力α、βが大きいときには、スライスレベルL
が大きくなるように、かつ。
The microprocessor 25 first calculates a group of data M using a counter (not shown) as a process for determining the center of gravity position of the luminance distribution in the band width direction of the projected pattern image.
, N. Determining the address of the peak output of this group of data M, N is performed by determining the address position of the virtual peak output of the group of data M, N using the slice level L. This is done by slicing V and finding the address existing at the boundary of the slice level L. Here, the microprocessor 25 calculates the peak outputs α, β according to the peak outputs α, β of the group of data M, N. When is large, the slice level L
So that it gets bigger, and.

ピーク出力α、βが小さいときにはスライスレベルが低
くなるようにスライスレベルを変更制御する。ここでは
、マイクロプロセッサ25は、被検眼Erの互いに異な
る経線方向A′〜F′について、投影パターン像のその
帯幅方向の輝度分布の重心位置を求める際、ピーク出力
α、βに対するスライスレベルLの比Kが一定となるよ
うに制御する。
When the peak outputs α and β are small, the slice level is changed and controlled so that the slice level becomes low. Here, the microprocessor 25 calculates the slice level L for the peak outputs α and β when determining the barycenter position of the luminance distribution in the band width direction of the projected pattern image in the different meridian directions A′ to F′ of the eye Er. The ratio K is controlled to be constant.

すなわち、K=α/L=β/Lである。That is, K=α/L=β/L.

カウンタは、このスライスレベルLに基づいて。The counter is based on this slice level L.

その境界に存在するアドレスをカウントし、アドレス情
報としてマイクロプロセッサ25に出力する。
The addresses existing on the boundary are counted and output to the microprocessor 25 as address information.

そのアドレス情報をal、a7、al、a4とする。The address information is assumed to be al, a7, al, and a4.

このアドレス情報a1、at、a3.a4は、第3図に
示す第2次リング状像R2の境界線Q1、塁、と経線方
向A′、D′との交点a16*a26、as。、al0
に対応している。そこで、そのアドレス情報a1、a2
を平均すると共にアドレス情報a1、a。
This address information a1, at, a3. a4 is the intersection point a16*a26, as between the boundary line Q1, base, of the secondary ring-shaped image R2 shown in FIG. 3, and the meridian directions A', D'. , al0
It corresponds to Therefore, the address information a1, a2
and address information a1, a.

を平均することによって、投影パターン像のその帯幅方
向の輝度分布のピークに対応するアドレス情報が得られ
ることになる。その輝度分布のピークに対応するアドレ
ス情報を (x x −y z )、(Xi−Yz)と
する、ここで、符号又はX軸方向を示し、符号YはY軸
方向を示すもので、その輝度分布のピークに対応するア
ドレス情報は、原点0からの位置として決められる。経
線方向B′。
By averaging these, address information corresponding to the peak of the luminance distribution in the band width direction of the projected pattern image can be obtained. Let the address information corresponding to the peak of the luminance distribution be (x x - y z ), (Xi - Yz), where the sign or X-axis direction is indicated, and the symbol Y indicates the Y-axis direction; The address information corresponding to the peak of the luminance distribution is determined as the position from the origin 0. Meridian direction B'.

C’、E’、F’についても同様にして輝度分布のピー
クに対応するアドレス情報を求める。このようにして、
ここでは、原点0の回りに6箇所の輝度のピークに対応
するアドレス情報Cxx= y−)、(Xs、Yz)、
(Xi、Y3)、(x、、Y、)。
Similarly, address information corresponding to the peak of the luminance distribution is obtained for C', E', and F'. In this way,
Here, address information corresponding to six brightness peaks around the origin 0, Cxx=y-), (Xs, Yz),
(Xi, Y3), (x,,Y,).

Cxs、 yi) 、  (xst y、)を求め、コ
ノアドレス情報に基づいて公知の処理方法により、投影
パターン像の形状決定する。
Cxs, yi) and (xst y,) are determined, and the shape of the projected pattern image is determined by a known processing method based on the address information.

すなわち、第3図において、水平走査方向をX軸とみな
して、楕円R7の長径をa(経線方向Aの径)、短径を
b(経線方向Cの径)とし、長径aのX軸に対する角度
φをとすると、角度φが乱視軸に相当し、長径aが乱視
の強主経線の屈折度、楕円の大きさが球面度数に対応す
るから、下記の−′般式に基づいて係数A、B、Cを求
めれば、屈折力S、C,Aが得られる。
That is, in Fig. 3, assuming that the horizontal scanning direction is the X-axis, the major axis of the ellipse R7 is a (the diameter in the meridian direction A), the minor axis is b (the diameter in the meridian direction C), and the major axis a is relative to the X-axis. Assuming the angle φ, the angle φ corresponds to the astigmatic axis, the major axis a corresponds to the refractive power of the strong principal meridian of astigmatism, and the size of the ellipse corresponds to the spherical power, so the coefficient A is calculated based on the following -' general formula. , B, and C, the refractive powers S, C, and A can be obtained.

Ax”+By”+Cxy=1       −■以上、
実施例について説明したが、たとえば、被検眼の互いに
異なる経線方向A’、B’について、投影パターン像の
その帯幅方向の輝度分布の重心位1! (x、、 Y、
) 、  (Xse ya)を求める際。
Ax"+By"+Cxy=1 -■ or more,
Although the embodiment has been described, for example, for different meridian directions A' and B' of the eye to be examined, the center of gravity of the luminance distribution in the band width direction of the projected pattern image is 1! (x,, Y,
), when finding (Xse ya).

前回測定した経線方向A′についての輝度分布の重心位
置に相当するアドレス(x −= y z )のデータ
に基づく出力が今回測定する経線方向Bについてのピー
ク出力であると予測してスライスレベルを変更するよう
にすることもできる。このようにすると、ピーク出力の
検出に要する時間を短縮でき、全体としての測定時間の
短縮を図ることができる。
The slice level is set by predicting that the output based on the data at the address (x - = y z ) corresponding to the center of gravity of the luminance distribution in the meridian direction A' measured last time is the peak output in the meridian direction B measured this time. You can also change it. In this way, the time required to detect the peak output can be shortened, and the overall measurement time can be shortened.

また、この実施例では、パターン測定装置をオートレフ
今りトメータに適用した実施例について説明したが、本
発明に係るパターン測定装置は、ケラトメータにも適用
できる。
Further, in this embodiment, an example in which the pattern measuring device is applied to an auto-reflex aritometer has been described, but the pattern measuring device according to the present invention can also be applied to a keratometer.

見豆亘羞釆 本発明に係るパターン測定装置は1以上説明したように
構成したので、投影パターン像の光量ムラの存在に拘ら
ず、投影パターン像のその帯幅方向の輝度分布の重心位
置を極力適正に求めることができるという効果を奏−す
る。
Since the pattern measuring device according to the present invention is constructed as described above, it is possible to determine the center of gravity of the luminance distribution in the band width direction of the projected pattern image, regardless of the presence of unevenness in the amount of light in the projected pattern image. This has the effect that it can be determined as appropriately as possible.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係るパターン測定装置をオートレフラ
クトメータに適用した場合の要部構成を示す図、第2図
はそのCCDに結像された投影パターン像を示す図、第
3図はその投影パターン像の拡大図、第4図、第5図は
その投影パターンの形状を決定するための処理を説明す
るための説明図である。 1・・・投影光学系      3・・・エリアCCD
、25・・・マイクロプロセッサ  24・・・フレー
ムメモリE・・・被検眼        Er・・・眼
底R6・・・第2次リング像(投影パターン像)M、N
・・・データ      α、β・・・ピーク出力第2
図 第3図 第4図 第5図
Fig. 1 is a diagram showing the main part configuration when the pattern measuring device according to the present invention is applied to an autorefractometer, Fig. 2 is a diagram showing a projected pattern image formed on the CCD, and Fig. 3 is a diagram showing the projected pattern image. The enlarged views of the projected pattern images, FIGS. 4 and 5, are explanatory diagrams for explaining the process for determining the shape of the projected pattern. 1... Projection optical system 3... Area CCD
, 25...Microprocessor 24...Frame memory E...Eye to be examined Er...Fundus R6...Second ring image (projection pattern image) M, N
...Data α, β...Peak output 2nd
Figure 3 Figure 4 Figure 5

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)被検眼を経由して投影された既知形状のパターン
に基づき形成された帯状の投影パターン像を多数の画素
を有する光電変換素子によって光電変換し、該光電変換
素子を走査して、各画素に対応するフレームメモリーの
各アドレスに、前記各画素の光電情報をデータとして記
憶させ、中央処理装置を用いて、投影パターン像のその
帯幅方向の輝度分布に対応する一群のデータを出力とし
て取り出し、該出力を所定のスライスレベルで処理して
、前記輝度分布の重心位置を求めると共に、求められた
重心位置に基づき所定の演算を行なって前記投影パター
ン像の形状を決定するパターン測定装置であって、 前記中央処理装置が前記一群のデータの出力のピーク出
力に応じて、該ピーク出力が大きいときには前記スライ
スレベルが大きくなるように、かつ、前記ピーク出力が
小さいときには前記スライスレベルが低くなるように該
スライスレベルを変更することを特徴とするパターン測
定装置。
(1) A band-shaped projected pattern image formed based on a pattern of a known shape projected via the eye to be examined is photoelectrically converted by a photoelectric conversion element having a large number of pixels, and the photoelectric conversion element is scanned. The photoelectric information of each pixel is stored as data in each address of the frame memory corresponding to the pixel, and a group of data corresponding to the luminance distribution in the band width direction of the projected pattern image is output using the central processing unit. A pattern measuring device that extracts the output and processes the output at a predetermined slice level to obtain the center of gravity position of the luminance distribution, and performs a predetermined calculation based on the obtained center of gravity position to determine the shape of the projected pattern image. According to the peak output of the output of the group of data, the central processing unit increases the slice level when the peak output is large, and decreases the slice level when the peak output is small. A pattern measuring device characterized in that the slice level is changed as follows.
(2)前記中央処理装置は、前記投影パターン像のその
帯幅方向の輝度分布の重心位置を求める際、前記ピーク
出力に対する前記スライスレベルの比が一定となるよう
に制御することを特徴とする特許請求の範囲第1項に記
載のパターン測定装置。
(2) The central processing unit controls the ratio of the slice level to the peak output to be constant when determining the center of gravity of the luminance distribution in the band width direction of the projection pattern image. A pattern measuring device according to claim 1.
(3)前記中央処理装置は、前記被検眼の互いに異なる
経線方向について、前記投影パターン像のその帯幅方向
の輝度分布の重心位置を求める際、前回測定された経線
方向についての帯幅方向の輝度分布の重心位置に相当す
るアドレスのデータに基づく出力が今回測定する経線方
向についてのピーク出力であると予測して前記スライス
レベルを変更することを特徴とする特許請求の範囲第1
項に記載のパターン測定装置。
(3) When determining the centroid position of the luminance distribution in the band width direction of the projected pattern image in different meridian directions of the eye to be examined, the central processing unit may Claim 1: The slice level is changed by predicting that the output based on the data of the address corresponding to the gravity center position of the luminance distribution is the peak output in the meridian direction currently measured.
The pattern measuring device described in Section.
(4)前記既知形状のパターンは、眼底に投影され、前
記中央処理装置は、前記投影パターン像に基づいて屈折
力を演算することを特徴とする特許請求の範囲第1項に
記載のパターン測定装置。
(4) Pattern measurement according to claim 1, wherein the pattern of the known shape is projected onto the fundus, and the central processing unit calculates the refractive power based on the projected pattern image. Device.
JP30674587A 1987-12-03 1987-12-03 Pattern measuring instrument Pending JPH01147679A (en)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60232777A (en) * 1984-05-01 1985-11-19 Nec Corp Quantizing device of picture signal
JPS62259187A (en) * 1986-05-02 1987-11-11 Tokyo Optical Co Ltd Pattern measuring instrument

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60232777A (en) * 1984-05-01 1985-11-19 Nec Corp Quantizing device of picture signal
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