JPS62234538A - Control method for granular particle treatment - Google Patents

Control method for granular particle treatment

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Publication number
JPS62234538A
JPS62234538A JP61077591A JP7759186A JPS62234538A JP S62234538 A JPS62234538 A JP S62234538A JP 61077591 A JP61077591 A JP 61077591A JP 7759186 A JP7759186 A JP 7759186A JP S62234538 A JPS62234538 A JP S62234538A
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JP
Japan
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powder
granular material
gas
processing
controlling
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Pending
Application number
JP61077591A
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Japanese (ja)
Inventor
Seisuke Yanagawa
柳川 誠介
Yoshihiro Abo
阿保 善弘
Shigemichi Takei
成通 武井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Okawara Mfg Co Ltd
Freund Corp
Original Assignee
Okawara Mfg Co Ltd
Freund Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Okawara Mfg Co Ltd, Freund Corp filed Critical Okawara Mfg Co Ltd
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Publication of JPS62234538A publication Critical patent/JPS62234538A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2/00Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic
    • B01J2/16Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic by suspending the powder material in a gas, e.g. in fluidised beds or as a falling curtain

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To control the volatile matter such as moisture of a material to be treated with good accuracy by calculating the drying capacity of a title device from >=1 of the inlet temp., inlet humidity and supply gas volume of the gas to be supplied. CONSTITUTION:An inlet humidity sensor 33 and inlet temp. sensor 34 for the supply gas are provided to an air feed unit 2 and further, a slit gas volume sensor 35 and a flowing gas volume sensor 36 are provided to said unit. The drying capacity of the device is, therefore, calculated by a control device 9 from the inlet humidity, inlet temp. and gas volume detected by the sensors 33, 34, 35, 36 and the measured values thereof are used for the individual process controls if the supply gas is a drying gas. For example, the process ends and the next process is started when the calculated value of the moisture of the material to be treated satisfies the preset target value.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〕 本発明は粉粒体処理技術、特に、医薬品や食品などの造
粒、乾燥、コーチング、混合などを行うにあたって、そ
の工程の制御を自動的に行うことのできる技術に関する
ものである。
[Detailed Description of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to powder and granule processing technology, in particular, automatic process control for granulation, drying, coating, mixing, etc. of pharmaceuticals and foods. It relates to techniques that can be applied to

〔従来の技術〕[Conventional technology]

粉粒体の造粒、乾燥、コーチング、混合などの処理を行
う場合、被処理物である粉粒体の水分などが製品の物性
や粒径、粒度分布などに大きな影響を及ぼす、そのため
、処理中の粉粒体の水分を所要の星に制御することが重
要なものとなる。
When processing powder or granules such as granulation, drying, coating, or mixing, moisture in the powder or granules to be processed has a large effect on the physical properties, particle size, particle size distribution, etc. of the product. It is important to control the moisture content of the powder inside to the required level.

このような粉粒体の水分の制御方式としては、まず第1
に、作業員が処理状況を観察しながらその主観により工
程を管理したり、あるいは各工程をタイマにより時間制
御する方式が考えられる。
As a method for controlling the moisture content of such powder and granular materials, the first method is
Another possible method is to have a worker manage the process subjectively while observing the processing status, or to control the time of each process using a timer.

また、第2の制御方式としては、何らかの湿度センサを
系内に設け、被処理物の水分を直接測定し、その測定値
により操作条件を決定して処理を行うことも考えられる
Furthermore, as a second control method, it is conceivable to provide some kind of humidity sensor in the system to directly measure the moisture content of the object to be treated, and to determine the operating conditions based on the measured value to perform the treatment.

さらに、第3の制御方式として、排気側に湿度センサを
設けて排気湿度を測定し、その測定値により操作条件を
決定して処理を行うことが考えられる。
Furthermore, as a third control method, it is conceivable to provide a humidity sensor on the exhaust side to measure the exhaust humidity, determine operating conditions based on the measured value, and perform processing.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、前記した制御方式はいずれも次のような
問題点があることが本発明者によって見い出された。
However, the inventors have discovered that all of the above control methods have the following problems.

まず、前記第1の制御方式では、製品の物性が不安定と
なり、しかも熟練度の高い特殊技能者を必要とするとい
う問題点がある。
First, the first control method has the problem that the physical properties of the product become unstable and, moreover, requires highly skilled special technicians.

次に、前記第2の制御方式においては、lW度センサが
系内である処理容器内に設置されるので、運転や洗浄の
際の作業性が良くない上に、使用できるセンサの種類が
限定され、被処理物や処理液、粉末などがセンサに付着
して測定値が不正確になるという重大な問題がある。
Next, in the second control method, the 1W degree sensor is installed inside the processing vessel within the system, which not only does not have good workability during operation and cleaning, but also limits the types of sensors that can be used. However, there is a serious problem in that objects to be processed, processing liquid, powder, etc. adhere to the sensor, resulting in inaccurate measured values.

さらに、前記第3の制御方式の場合、排気側ではセンサ
を清浄に保つことが難しく、長時間使用すると誤動作す
るといった欠点や、単にスプレー量を増減するといった
簡単な制御しかできず、被処理物の水分を精度良く把握
し、それに基づいて工程管理を行うことは困難であると
いう問題点がある。
Furthermore, in the case of the third control method, it is difficult to keep the sensor clean on the exhaust side, it malfunctions when used for a long time, and it is only possible to perform simple control such as increasing or decreasing the amount of spray, and it is difficult to keep the sensor clean on the exhaust side. There is a problem in that it is difficult to accurately grasp the moisture content of the process and control the process based on this.

本発明の目的は、前記した問題点に鑑み、被処理物の水
分などの揮発分を精度良く管理することのできる技(ネ
iを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned problems, an object of the present invention is to provide a technique for accurately controlling volatile components such as moisture in a workpiece.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、装置に供給されるガスの入口温度、入口温度
、供給風量の少なくとも1つから装置の乾燥能力を計算
し、その計算値に基づいて工程制御を行うものである。
The present invention calculates the drying capacity of the apparatus from at least one of the inlet temperature, inlet temperature, and supply air volume of gas supplied to the apparatus, and performs process control based on the calculated value.

〔作用〕[Effect]

前記した手段によれば、造粒、乾燥、コーチングなどに
おいて、その終点を決定するための重要なファクターで
ある被処理物の水分あるいはアルコール溶剤などの揮発
分の測定が装置の人口側におけるガスの入口温度、入口
湿度、供給風量に基づいて行われるので、その測定は精
度良く安定して行われる。それにより、被処理物の揮発
分の管理が自動で適正に行われ、粉粒体処理工程の自動
制御を実現することができる。
According to the above-mentioned means, measurement of moisture in the processed material or volatile content such as alcohol solvent, which is an important factor for determining the end point in granulation, drying, coating, etc., can be carried out by measuring the gas content on the artificial side of the device. Since the measurements are performed based on the inlet temperature, inlet humidity, and supply air volume, the measurements are accurate and stable. As a result, the volatile content of the material to be processed can be automatically and appropriately managed, and automatic control of the powder and granular material processing process can be realized.

〔実施例〕〔Example〕

図は本発明の制御方法を実施できる粉粒体処理装置の一
実施例の概略説明図である。
The figure is a schematic explanatory diagram of an embodiment of a powder processing apparatus that can implement the control method of the present invention.

本実施例の粉粒体処理装置は医薬品や食品などの各種被
処理物の造粒、乾燥、コーチング、混合などに用いるこ
とができるものであり、予熱、混合、造粒、乾燥、休止
、コーチング、冷却、排出のうちの少なくとも2つ以上
の工程を任意の順序で任意の回数操作可能に構成されて
いる。
The powder processing equipment of this example can be used for granulation, drying, coating, mixing, etc. of various processed materials such as pharmaceuticals and foods. , cooling, and discharge can be performed in any order and any number of times.

この粉粒体処理装置は、造粒、乾燥、コーチング、混合
などの所要の処理を行う処理’AM本体ユニットすなわ
ち処理ユニッLlと、この処理ユニット1に加熱または
冷却ガスなどの所要のガスを供給する給気ユニット2と
、処理ユニットlから使用済みのガスを排出する排気ユ
ニット3と、処理ユニット1に粉粒体原料を(j4給す
る原料供給ユニット4と、所要の処理を終了した製品を
処理ユニットlから取り出すための製品排出ユニット5
と、処理中の粉粒体にバインダ液またはコーチンダ液な
どの処理液などの液体を供給する液体スプレーユニット
6と、処理中の粉粒体に造粒コーチング用の粉末を供給
する粉末スプレーユニ・7ト7と、処理ユニット1内の
粉粒体の水分を測定する水分測定ユニット8と、前記ユ
ニット1〜8を自動制御するよう各ユニットに電気的に
接続され、粉粒体処理過程で行われる予熱、混合、造粒
、乾燥、休止、コーチング、冷却、排出などの工程を自
動制御する中央処理ユニ7ト(CPU)などを含む制御
装置9とからなる。
This powder/granular material processing apparatus includes a processing AM main unit, that is, a processing unit Ll, which performs required processing such as granulation, drying, coating, and mixing, and supplies necessary gases such as heating or cooling gas to this processing unit 1. an air supply unit 2 for discharging used gas from the processing unit 1, a raw material supply unit 4 for supplying powdered raw materials to the processing unit 1, and a raw material supply unit 4 for discharging used gas from the processing unit 1; Product discharge unit 5 for taking out from the processing unit 1
, a liquid spray unit 6 that supplies a liquid such as a binder liquid or a processing liquid such as a cochindar liquid to the powder and granules being processed, and a powder spray unit 6 that supplies powder for granulation and coating to the powder and granules that are being processed. 7, a moisture measuring unit 8 that measures the moisture content of the powder and granular material in the processing unit 1, and a moisture measuring unit 8 that is electrically connected to each unit to automatically control the units 1 to 8, and is The control device 9 includes a central processing unit (CPU) and the like that automatically controls processes such as preheating, mixing, granulation, drying, resting, coating, cooling, and discharging.

前記処理ユニット1は、全体として筒形の処理容器10
と、この処理容器10内に粉粒体原料を投入する原料投
入口11と、処理された製品を処理容器10の内部から
排出して製品排出ユニット5に回収する製品排出口12
とを備えている。処理容器10内の下部には、一部に通
気部を有し、その上で粉粒体を遠心転勤させる回転Fi
13と、この回転板13の上側において該回転板13と
は独立に回転して該回転板13上の粉粒体を攪拌する撹
拌部材14と、モータ(図示せず)により駆動されて粉
粒体の団塊を解砕する解砕部材15と、前記回転板13
および攪拌部材14をそれぞれ回転駆動するモータ16
および17と、前記回転板13と前記処理容器10との
間の環状スリットにガスを供給するスリットガス導管1
8と、111記回転板13の通気部に流動ガスを供給す
る流動ガス導管19とが設けられている。また、回転板
13のやや上方における処理界110の側面外部には、
前記粉末スプレーユニット7から粉末を処理容器10内
に供給する粉末スプレーガン20と、前記液体スプレー
ユニット6からバインダ液またはコーチンダ液などの処
理液を処理容器10内に供給する下部液体スプレーガン
21とが配設されている。
The processing unit 1 includes a processing container 10 having a generally cylindrical shape.
, a raw material input port 11 for inputting granular raw materials into the processing container 10, and a product discharge port 12 for discharging the processed product from the inside of the processing container 10 and collecting it in the product discharge unit 5.
It is equipped with A part of the lower part of the processing container 10 has a ventilation section, and there is a rotating Fi for centrifugally transferring the powder and granules.
13, a stirring member 14 that rotates independently of the rotary plate 13 above the rotary plate 13 to agitate the powder and granules on the rotary plate 13, and a stirring member 14 that is driven by a motor (not shown) to stir the powder and granules. a crushing member 15 for crushing body lumps, and the rotating plate 13
and a motor 16 that rotationally drives the stirring member 14, respectively.
and 17, and a slit gas conduit 1 that supplies gas to the annular slit between the rotating plate 13 and the processing container 10.
8 and a fluidizing gas conduit 19 for supplying fluidizing gas to the ventilation portion of the rotary plate 13 111 are provided. Also, on the outside of the side surface of the processing field 110 slightly above the rotary plate 13,
a powder spray gun 20 that supplies powder from the powder spray unit 7 into the processing container 10; and a lower liquid spray gun 21 that supplies a processing liquid such as a binder liquid or a cochindar liquid into the processing container 10 from the liquid spray unit 6. is installed.

一方、処理容器10の上部には、前記液体スプレーユニ
ット6からバインダ液またはコーチンダ液などの処理液
を処理容器10内に供給する上部液体スプレーガン22
と、洗浄ノズル23と、バグフィルタ24と、パルスジ
ェット機構25と、エアノッカ26とが配設されている
On the other hand, an upper liquid spray gun 22 is provided at the upper part of the processing container 10 for supplying a processing liquid such as a binder liquid or a cochindar liquid from the liquid spray unit 6 into the processing container 10.
A cleaning nozzle 23, a bag filter 24, a pulse jet mechanism 25, and an air knocker 26 are provided.

前記給気ユニット2は、給気フィルタ27と、給気ファ
ン28と、除湿機29と、高性能のフィルタ30と、熱
交換器31と、バイパス回路32と、フィルタ30と熱
交換器31との間における給気路内に設けられ、給気の
入口湿度を検出する入口温度センサ33と、バイパス回
路32の分岐部の下流側に設けられ、給気の入口温度を
検出する人口温度センサ34と、前記スリットガス導管
18へのスリットガスの供給量を検出するスリ・7トガ
ス風量センサ35と、前記流動ガス導管19への流動ガ
スの供給量を検出する流動ガス風量センサ36と、前記
スリットガス風量センサ35の検出値に基づいてスリッ
トガスの供給量を増減するスリットガス調整弁37と、
前記流動ガス風量センサ36の検出値に基づいて流動ガ
スの供給量を増減する流動ガス調整弁38とを備えてい
る。
The air supply unit 2 includes an air supply filter 27, an air supply fan 28, a dehumidifier 29, a high-performance filter 30, a heat exchanger 31, a bypass circuit 32, a filter 30 and a heat exchanger 31. An inlet temperature sensor 33 is provided in the air supply path between the two and detects the inlet humidity of the air supply, and a population temperature sensor 34 is provided downstream of the branch of the bypass circuit 32 and detects the inlet temperature of the air supply. , a slit gas airflow sensor 35 that detects the amount of slit gas supplied to the slit gas conduit 18, a fluidized gas airflow sensor 36 that detects the amount of fluidized gas supplied to the fluidized gas conduit 19, and a slit gas adjustment valve 37 that increases or decreases the supply amount of slit gas based on the detected value of the gas air flow sensor 35;
A fluidizing gas adjustment valve 38 is provided that increases or decreases the supply amount of fluidizing gas based on the detected value of the fluidizing gas flow rate sensor 36.

前記排気ユニット3は、前記処理容器10からの排気路
に設けられた集塵機39と、前記処理容器10から排気
を吸引する排気ファン40とを存している。
The exhaust unit 3 includes a dust collector 39 provided in an exhaust path from the processing container 10 and an exhaust fan 40 that sucks exhaust gas from the processing container 10.

さらに、前記原料供給ユニット4は、原料計量機41と
、粉粒体原料を原料投入口11に供給する原料輸送機4
2とからなる。
Further, the raw material supply unit 4 includes a raw material measuring machine 41 and a raw material transporting machine 4 that supplies powder and granular raw materials to the raw material input port 11.
It consists of 2.

また、前記製品排出ユニット5は、処理済みの製品を前
記処理容器10から製品排出口12を経て取り出して回
収、収納する製品回収容器43と、この製品回収容器4
3への製品収納量を計量する計量機44とを有している
The product discharge unit 5 also includes a product collection container 43 for taking out, collecting and storing processed products from the processing container 10 through the product discharge port 12, and the product collection container 4.
It has a weighing machine 44 for measuring the amount of products stored in the container.

前記液体スプレーユニット6は、前記上部液体スプレー
ガン22へのスプレーガスの供給量を検出する上部スプ
レーガス流量センサ45と、前記下部液体スプレーガン
21へのスプレーガスの供給量を検出する下部スプレー
ガス流量センサ46と、前記上部液体スプレーガン22
へのバインダ液またはコーチンダ液などの処理液の供給
を行う上部液体スプレーポンプ47と、前記下部液体ス
プレーガン21へのバインダ液またはコーチンダ液など
の処理液の供給を行う下部液体スプレーポンプ48と、
液タンク49と、計ff14150と、攪拌機51とを
備えている。
The liquid spray unit 6 includes an upper spray gas flow rate sensor 45 that detects the amount of spray gas supplied to the upper liquid spray gun 22 and a lower spray gas flow sensor that detects the amount of spray gas supplied to the lower liquid spray gun 21. flow sensor 46 and the upper liquid spray gun 22
an upper liquid spray pump 47 that supplies a processing liquid such as a binder liquid or a cochindal liquid to the lower liquid spray gun 21; a lower liquid spray pump 48 that supplies a processing liquid such as a binder liquid or a cochindar liquid to the lower liquid spray gun 21;
It includes a liquid tank 49, a total of ff14150, and a stirrer 51.

また、前記粉末スプレーユニット7は、粉末計量機52
と、粉末スプレーガス流量センサ53とを有している。
Further, the powder spray unit 7 includes a powder measuring machine 52.
and a powder spray gas flow rate sensor 53.

さらに、前記水分測定ユニット8は、処理容器10内で
処理されている粉粒体をサンプリングのために系外に取
り出すためのサンプリング筒54と、このサンプリング
筒54内に設けられ、該サンプリング筒54内に取り出
された粉粒体の水分を非接触で測定する水分センサ55
と、たとえばエジェクタ方式の真空発生方式で発生され
た真空吸引力により処理容器lO内に粉粒体をサンプリ
ング筒54内に取り出す真空発生器56と、水分測定を
終了した粉粒体を加圧力でサンプリング筒54から処理
容器IO内に戻す圧力発生源(図示せず)と、真空発生
器56への真空吸引管58を開閉する弁59と、圧力発
生源(図示せず)への加圧管60を開閉する弁61とを
備えている。圧力発生源は図示しないが、他の生産ライ
ンの圧力配管に接続されたものを利用することができる
Furthermore, the moisture measuring unit 8 is provided with a sampling cylinder 54 for taking out the powder and granular material being processed in the processing container 10 outside the system for sampling, and is provided within this sampling cylinder 54. Moisture sensor 55 that non-contactly measures the moisture content of the powder and granules taken out
For example, a vacuum generator 56 extracts the powder and granules from the processing container 10 into the sampling cylinder 54 using a vacuum suction force generated by an ejector-type vacuum generation system, and a vacuum generator 56 extracts the powder and granules from the processing vessel IO into the sampling cylinder 54, and the powder and granules after moisture measurement are removed by applying pressure. A pressure generation source (not shown) that returns from the sampling cylinder 54 into the processing vessel IO, a valve 59 that opens and closes the vacuum suction pipe 58 to the vacuum generator 56, and a pressurization pipe 60 to the pressure generation source (not shown). It is equipped with a valve 61 that opens and closes. Although the pressure generation source is not shown, one connected to pressure piping of another production line can be used.

なお、図示しないが、前記サンプリング筒54は、該サ
ンプリング筒54と処理容器10とを連絡または遮断す
るスライドゲートと、サンプリング筒54内の粉粒体が
真空吸引管58内に漏れるのを防止する金網や多孔体の
如き通気性の漏れ防止部材を有している。
Although not shown, the sampling tube 54 includes a slide gate that connects or blocks the sampling tube 54 and the processing container 10, and a slide gate that prevents the powder inside the sampling tube 54 from leaking into the vacuum suction tube 58. It has a breathable leak-preventing member such as a wire mesh or a porous body.

前記制御装置9は、人口湿・度センサ33からの入口湿
度の測定値、入口温度センサ34からの入口温度の測定
値、さらにはスリットガス風量センサ35および流動ガ
ス風量センサ36からのガス風量の測定値に基づいて粉
粒体処理装置の乾燥能力を計算し、その計算値に基づい
て粉粒体処理装置の工程制御を行うものである。
The control device 9 controls the measured value of the inlet humidity from the artificial humidity/temperature sensor 33, the measured value of the inlet temperature from the inlet temperature sensor 34, and the gas flow rate from the slit gas air volume sensor 35 and the flowing gas air volume sensor 36. The drying capacity of the granular material processing apparatus is calculated based on the measured value, and the process of the granular material processing apparatus is controlled based on the calculated value.

次に、本実施例の作用について説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.

まず、原料供給ユニット4から原料投入口11を経て被
処理物である粉粒体原料が処理容器10内に投入される
。この粉粒体原料は給気ユニット2からのガスにより流
動化され、また処理容器lO内の回転板13の回転によ
り該回転板13上で遠心転動作用を受けながら造粒、コ
ーチング、乾燥などの収容の処理を受け、さらに必要に
応じて攪拌部材14および解砕部材15によって粉粒体
原料の流動化状態が制御される。
First, a powdered raw material to be processed is charged into the processing container 10 from the raw material supply unit 4 through the raw material input port 11 . This granular raw material is fluidized by gas from the air supply unit 2, and subjected to centrifugal rotation on the rotary plate 13 by the rotation of the rotary plate 13 in the processing container 10, and undergoes granulation, coating, drying, etc. The fluidization state of the powder raw material is further controlled by the stirring member 14 and the crushing member 15 as necessary.

一方、処理容器10の処理室内には、下部液体スプレー
ガン21および上部液体スプレーガン22からバインダ
液またはコーチンダ液などの処理液が供給される一方、
粉末スプレーガン20から所望の粉末が供給され、造粒
、コーチング、乾燥、冷却などの所望の処理が行われ、
処理完了後の製品は製品排出口12から製品回収容器4
3内に回収される。
On the other hand, a processing liquid such as a binder liquid or a cochindar liquid is supplied into the processing chamber of the processing container 10 from a lower liquid spray gun 21 and an upper liquid spray gun 22.
A desired powder is supplied from the powder spray gun 20, and desired processing such as granulation, coating, drying, and cooling is performed.
After the processing is completed, the product is transferred from the product discharge port 12 to the product collection container 4.
It will be collected within 3 days.

本実施例においては、給気ユニット2に供給ガスの入口
湿度センサ33および入口温度センサ34、さらにはス
リットガス風量センサ35および流動ガス風量センサ3
6が設けられているので、たとえば供給ガスが乾燥用ガ
スである場合には、前記センサ33,34.35.36
によって検出された入口湿度、人口温度、ガス風量の測
定値から装置の乾燥能力を制御装置9により計算し、そ
の計算(aを種々の工程制御に利用することができる。
In this embodiment, the air supply unit 2 includes a supply gas inlet humidity sensor 33 and an inlet temperature sensor 34, as well as a slit gas flow rate sensor 35 and a flowing gas flow rate sensor 3.
For example, if the supplied gas is a drying gas, the sensors 33, 34, 35, 36
The drying capacity of the apparatus is calculated by the control device 9 from the measured values of the inlet humidity, population temperature, and gas flow rate detected by the controller 9, and the calculation (a) can be used for various process control.

たとえば、前記のようにして得られた乾燥能力の計算値
と水分供給速度とから被処理物の水分を制御装置9で演
算により求め、その演算値が予め設定された目標値を満
足した時にその工程が終了し、次の工程が開始されるよ
うにすることができる。
For example, the moisture content of the material to be treated is calculated by the control device 9 from the calculated value of the drying capacity and the water supply rate obtained as described above, and when the calculated value satisfies a preset target value, the water content is calculated. A process can be completed and the next process can be started.

また、装置の乾燥能力の計算値と、所望の処理時間、所
望の処理水分の設定値とから適正な水分供給速度を演算
し、供給液速度が演算結果と同じ値になるように制御装
置9によって工程を自動制御しながら工程の終点を時間
で制御することができる。
In addition, the control device 9 calculates an appropriate water supply rate from the calculated value of the drying capacity of the device, the desired processing time, and the desired treatment moisture setting value, and controls the supply liquid speed to the same value as the calculation result. The end point of the process can be controlled by time while automatically controlling the process.

さらに、本実施例においては、処理容器10の処理室付
近の外部に水分測定ユニット8を設けたことにより、処
理中の粉粒体の水分を処理室から系外に取り出し、オフ
ラインで水分測定を行うことができる。その場合、スラ
イドゲート(図示せず)を開いて真空発生器56による
真空吸引力で処理容器lO内の粉粒体の一部を測定試料
としてサンプリング筒54内にすなわら系外に取り出す
Furthermore, in this embodiment, by providing the moisture measuring unit 8 outside the processing chamber 10 near the processing chamber, the moisture of the powder or granular material being processed can be extracted from the processing chamber to the outside of the system, and the moisture can be measured off-line. It can be carried out. In that case, a slide gate (not shown) is opened and a part of the powder in the processing container IO is taken out as a measurement sample into the sampling cylinder 54, ie, out of the system, by the vacuum suction force of the vacuum generator 56.

その後、スライドゲートおよび弁59を閉じてサンプリ
ング筒54内を密封し、粉粒体試料からの水分を水分セ
ンサ55により、たとえば非接触で測定する。
Thereafter, the slide gate and valve 59 are closed to seal the inside of the sampling cylinder 54, and the moisture from the powder sample is measured by the moisture sensor 55, for example, in a non-contact manner.

水分センサ55による測定値は制御袋T!、9に信号と
して伝送され、制御装置9はその測定値に基づいて液体
スプレーガン21.22からの液体供給速度などを最適
値に自動制御し、また造粒工程や乾燥工程の終点の自動
制御を行うことができる。
The value measured by the moisture sensor 55 is the control bag T! . It can be performed.

水分測定を終了した粉粒体原料は、スライドゲートと弁
61を開き、圧力発生源(図示せず)からの圧力によっ
てサンプリング筒54内から再び処理容器10内に戻す
ことができる。したがって、その返却された原料は処理
容器lO内の原料と共にされ、所要の処理を受け、製品
として有効利用され、原料の無駄を防止することができ
る。
After the moisture measurement has been completed, the powder raw material can be returned to the processing container 10 from the sampling cylinder 54 by opening the slide gate and the valve 61 and using pressure from a pressure source (not shown). Therefore, the returned raw material is combined with the raw material in the processing container IO, undergoes the necessary processing, and is effectively used as a product, thereby preventing waste of raw materials.

なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
他の様々な変形が可能である。
Note that the present invention is not limited to the above embodiments,
Various other variations are possible.

たとえば、前記実施例では、乾燥用ガスの人口温度、入
口湿度、ガス風量のすべてを測定する場合について説明
したが、これらのうちの2つまたはいずれか1つを測定
して工程の自動制御を行ってもよい。
For example, in the above embodiment, the case where all of the population temperature, inlet humidity, and gas airflow of the drying gas are measured, but it is possible to automatically control the process by measuring two or any one of these. You may go.

また、処理装置の構造も前記実施例以外の様々なものを
用いることができ、前記実施例の装置についても攪拌部
材14や解砕部材15の一方または両方を省略すること
なども可能である。
Moreover, various structures other than those in the above-mentioned embodiments can be used for the processing apparatus, and it is also possible to omit one or both of the stirring member 14 and the crushing member 15 in the apparatus of the above-mentioned embodiments.

さらに、被処理物の水分のみならず、アルコール溶剤な
どの揮発分を演算により求めることも本発明に含まれる
ものである。
Furthermore, the present invention includes calculating not only the water content of the object to be treated but also the volatile content of alcohol solvent and the like.

次に本発明による実験例を説明する。Next, an experimental example according to the present invention will be explained.

(標準操作) 図に示す粉粒体処理装置に乳糖3.5 kg、コーンス
ターチ]、 5 kgを仕込み、約70℃、約2.0m
/1linの空気流によって流動化させながら、8%H
PC−L (商品名、日本曹達株式会社製)水溶液を7
0 m j! /+minの速度で35分間スプレーし
た。
(Standard operation) Charge 3.5 kg of lactose and 5 kg of corn starch into the powder processing equipment shown in the figure, and heat the powder at approximately 70°C for approximately 2.0 m.
8% H while being fluidized by an air flow of /1 liter.
PC-L (trade name, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) aqueous solution
0 m j! Sprayed for 35 minutes at a speed of /+min.

その時の水分は17.0%だった。乾燥後得られた顆粒
は平均粒径220μm、かさ密度0.60g/−であっ
た。
The moisture content at that time was 17.0%. The granules obtained after drying had an average particle size of 220 μm and a bulk density of 0.60 g/−.

(実験例1) 図に示す粉粒体処理装置に乳糖3.5 kg、コーンス
ターチ1.5 kgを仕込み、約70℃、約2.0イ/
winの空気流によって流動化させながら、8%I]P
C−L水溶液を80 m l! /n+inの速度でス
プレーを開始した。スプレー終了条件として処理物質水
分17.0%を設定したところ、計算によって得られた
スプレ一時間27分が実行された。乾燥後得られた顆粒
は平均粒径215μm、かさ密度0゜59g/cdであ
った。
(Experiment Example 1) 3.5 kg of lactose and 1.5 kg of cornstarch were charged into the powder processing equipment shown in the figure, and heated at approximately 70°C for approximately 2.0 i/min.
8% I]P while fluidized by a win air flow.
80 ml of C-L aqueous solution! Spraying was started at a rate of /n+in. When the water content of the treated material was set at 17.0% as the spray termination condition, the calculated spray time was 1 hour and 27 minutes. The granules obtained after drying had an average particle size of 215 μm and a bulk density of 0.59 g/cd.

(実験例2) 図に示す粉粒体処理装置に乳糖3.5 kg、コーンス
ターチ1.5 kgを仕込み、約70℃、約2.0i/
n+inの空気流によって流動化させながら、8%■(
P C−L 水溶液をスプレーするように設定した。
(Experiment Example 2) 3.5 kg of lactose and 1.5 kg of corn starch were charged into the powder processing equipment shown in the figure, and the mixture was heated at approximately 70°C and heated at approximately 2.0 i/h.
8%■(
The setting was such that the PCL aqueous solution was sprayed.

スプレ一時間25分間、処理物質水分17.0%を設定
したところ、計算によって得られたスプレー速度83 
m 17w1nが実行された。乾燥後得られた顆粒は平
均粒径217μrn、かさ密度0.60 B/ cnf
であった。
When spraying was performed for 1 hour and 25 minutes, and the moisture content of the treated material was set to 17.0%, the spray rate obtained by calculation was 83.
m17w1n was executed. The granules obtained after drying had an average particle size of 217 μrn and a bulk density of 0.60 B/cnf.
Met.

(比較例) 図に示す粉粒体処理装置に乳糖3.5 kir、コーン
スターチ1.5 kgを仕込み、約70℃、約2.0r
d/minの空気流によって流動化させながら、8%H
PC−L水溶液を7Qmll/minの速度で35分間
スプレーして再現性をテストシた。乾燥後得られた顆粒
は平均粒径195μm、かさ密度0.55g/cjであ
った。
(Comparative example) 3.5 kir of lactose and 1.5 kg of cornstarch were charged into the powder processing equipment shown in the figure, and heated at about 70°C for about 2.0 r.
8% H while fluidized by an air flow of d/min.
Reproducibility was tested by spraying the PC-L aqueous solution at a rate of 7 Qml/min for 35 minutes. The granules obtained after drying had an average particle size of 195 μm and a bulk density of 0.55 g/cj.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

(1)、予熱、混合、造粒、休止、コーチング、冷却、
排出のうちの少なくとも2つ以上の工程を任意の順序で
任意の回数操作可能に構成した粉粒体の処理装置の制御
方法であって、装置に供給されるガスの入口温度、人口
湿度、供給風量の少なくとも1つから装置の乾燥能力を
計算し、その計算値に基づいて工程制御を行うことによ
り、被処理物の水分あるいはアルコール溶剤などの揮発
分の推定が装置の人口側における乾燥用ガスの入口温度
、人口湿度、供給風量の少なくとも1つの測定に基づい
て行われるので、工程の制御を精度良く、安定して行う
ことができる。
(1), preheating, mixing, granulation, resting, coaching, cooling,
A method for controlling a powder and granular material processing device configured to enable at least two discharge steps to be performed in any order and any number of times, the method comprising controlling the inlet temperature, artificial humidity, and supply of gas supplied to the device. By calculating the drying capacity of the device from at least one of the airflow rates and performing process control based on the calculated value, the moisture content of the material to be treated or the volatile content such as alcohol solvent can be estimated using the drying gas on the drying side of the device. Since this is carried out based on at least one measurement of the inlet temperature, artificial humidity, and supply air volume, the process can be controlled accurately and stably.

(2)、前記fl+により、造粒、コーチングなどの終
点決定にとって極めて重要なファクターである被処理物
の水分などの揮発分の推定を精確に行うことができ、ま
た被処理物の水分などの揮発分の11定値に基づいて造
粒、コーチングなどの終点を決定したり、供給液速度を
自動制御できる。
(2) With the fl+, it is possible to accurately estimate the volatile content such as moisture of the processed material, which is an extremely important factor for determining the end point of granulation, coating, etc. The end point of granulation, coating, etc. can be determined based on the fixed value of the volatile content, and the feed rate can be automatically controlled.

(3)、前記(11,(21により、粉粒体処理装置の
制御を自動で行うことができ、製品の品質の向上、作業
能率の向上、コストの低減なども図ることができる。
(3) With the above-mentioned (11 and (21), it is possible to automatically control the powder or granular material processing apparatus, and it is also possible to improve product quality, work efficiency, and reduce costs.

(4)、前記(1)により、ガスの入口温度、入口湿度
、供給風量の検出が装置の入口側で行われるので、排出
側のようにセンサ類の汚染による誤動作が抑制され、使
用できるセンサの種類もより広範囲となり、精度の良い
測定が可能とt【る。
(4) According to (1) above, the gas inlet temperature, inlet humidity, and supply air volume are detected on the inlet side of the device, so malfunctions due to contamination of sensors are suppressed like on the exhaust side, and sensors can be used. The range of types is also wider, making it possible to measure with high precision.

(5)0本発明の方法は種々の粉粒体処理装置に適用で
きるが、特に、粉粒体の挙動を広範囲に制御できる回転
板組造式の流動層造粒コーチング装置に有効である。
(5)0 The method of the present invention can be applied to various powder and granule processing apparatuses, but is particularly effective in a rotating plate assembly type fluidized bed granulation and coaching apparatus that can control the behavior of powder and granules over a wide range.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図は本発明の粉粒体処理方法を実施できる粉粒体処理装
置の一実施例の概略説明図である。 l・・・処理ユニット、 2・・・給気ユニッ1−1 3・・・排気ユニット、 4・・・原料供給ユニット、 5・・・製品排出ユニット、 6・・・液体スプレーユニット、 7・・・粉末スプレーユニット、 8・・・水分測定ユニット、 9・・・制御装置、 lO・・・処理容器、 11・・・原料投入口、 12・・・製品排出口、 13・・・回転板、 14・・・攪拌部材、 15・・・解砕部材、 16.17・・・モータ、 18・・・スリットガス導管、 19・・・流動ガス導管、 20・・・粉末スプレーガン、 21・・・下部液体スプレーガン、 22、・・上部液体スプレーガン・ 23・・・洗浄ノズル、 24・ ・ ・バクフィルタ、 25・・・パルスジェット機構、 26・ ・ ・エアノッカ、 27・・・給気フィルタ、 28・・・給気ファン、 29・・・除湿機、 30・ ・ ・フィルタ、 31・・・熱交換器、 32・・・バイパス回路、 33・・・入口湿度センサ、 34・・・入口温度センサ、 35・・・スリットガス風堵センサ、 36・・・流動ガス風量センサ、 37・・・スリットガスIA整弁、 38・・・流動ガス調整弁、 39・・・集塵機、 40・・・排気ファン、 41・・・原料計量機、 42・・・原料輸送機、 43・・・製品回収容器、 44・・・計量機、 45・・・上部スプレーガス流量センサ、46・・・下
部スプレーガス流量センサ、47・・・上部液体スプレ
ーポンプ、 48・・・下部液体スプレーポンプ、 49・・・液タンク、 50・・・計量機、 51・・・攪拌機、 52・・・粉末計18. 53・・・粉末スプレーガス流量センサ、54・・・サ
ンプリング筒、 55・・・水分センサ、 56・・・真空発生器、 58・・・真空吸引管、 59・・・弁、 60・・・加圧管、 61・・・弁。 特許出願人  フロイント産業株式会社同     株
式会社 大川原製作所 代理人 弁理士  筒 井 大 相 同  弁理士  松 倉 秀 実 手続補正書(自発) 昭和61年lO月9日 特許庁長官 黒 1)明 t11r!1昭和61年特許
願第77591萼 2、発明の名称 粉粒体処理装置の制御方法 3、補正をする者 名 称  株式会社 大川原製作所 成和ビル4階 筒井国際特許事務所内(告366−0787)  、−
氏名 (8000)弁理士筒井大和1“′;、′5、補
正命令の日付 (自発) 2、特許請求の範囲 (1)、予熱、混合、造粒、休止、コーチング、冷却、
排出のうちの少なくとも2つ以上の工程を任意の順序で
任意の回数操作可能に構成した粉粒体処理装置の制御方
法であって、装置に供給されるガスの入口温度、入口湿
度、供給風量の少なくとも1つから装置の乾燥能力を計
算し、その計算値に基づいて工程制御を行うことを特徴
とする粉粒体処理装置の制御方法。 (2)、乾燥能力の計算値と工分供給速度とから被処理
物の水分を演算により求め、その計算値かあらかしめ設
定された目標値を満足した時にその工程が林了し、次の
工程が開始されることをvF@と、:1、する特許請求
の範囲第1項記載の粉粒体処理装置゛、1 )t・); (II) ill N7″・(3)、乾燥
能力の計算値と所要の処理時間、所望の処理工分の設定
値とから適正1j分供給速度を計算し、供給液速度が計
算結果と同じ筐になるように自動制御しながら工程の終
点を時間で制御することを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の粉粒体処理装置の制御方法。 (4)、粉粒体処理装置が少なくとも回転板と、その回
転板の周縁と装置内壁との間に形成されるスリットと、
該スリットを通して流入する空気流と、液体および/ま
たは粉体を供給するスプレーノズルとによって構成され
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の粉粒体
処理装置の制御方法。
The figure is a schematic explanatory diagram of an embodiment of a powder processing apparatus that can carry out the powder processing method of the present invention. 1... Processing unit, 2... Air supply unit 1-1 3... Exhaust unit, 4... Raw material supply unit, 5... Product discharge unit, 6... Liquid spray unit, 7. ...Powder spray unit, 8...Moisture measurement unit, 9...Control device, lO...Processing container, 11...Raw material input port, 12...Product discharge port, 13...Rotating plate , 14... Stirring member, 15... Crushing member, 16.17... Motor, 18... Slit gas conduit, 19... Fluid gas conduit, 20... Powder spray gun, 21. ...Lower liquid spray gun, 22, ...Upper liquid spray gun, 23...Cleaning nozzle, 24...Bac filter, 25...Pulse jet mechanism, 26...Air knocker, 27...Air supply Filter, 28... Air supply fan, 29... Dehumidifier, 30... Filter, 31... Heat exchanger, 32... Bypass circuit, 33... Inlet humidity sensor, 34... Inlet temperature sensor, 35... Slit gas airflow sensor, 36... Flowing gas flow rate sensor, 37... Slit gas IA regulating valve, 38... Flowing gas regulating valve, 39... Dust collector, 40. ... Exhaust fan, 41... Raw material measuring machine, 42... Raw material transporter, 43... Product collection container, 44... Weighing machine, 45... Upper spray gas flow rate sensor, 46... Lower spray gas flow rate sensor, 47... Upper liquid spray pump, 48... Lower liquid spray pump, 49... Liquid tank, 50... Measuring machine, 51... Stirrer, 52... Powder meter 18. 53... Powder spray gas flow rate sensor, 54... Sampling tube, 55... Moisture sensor, 56... Vacuum generator, 58... Vacuum suction pipe, 59... Valve, 60... Pressure pipe, 61...valve. Patent applicant Freund Sangyo Co., Ltd. Okawara Seisakusho Co., Ltd. Agent Patent attorney Dai Tsutsui Sodo Patent attorney Hide Matsukura Actual procedural amendment (voluntary) July 9, 1986 Commissioner of the Japan Patent Office Kuro 1) Ming t11r! 1 Patent Application No. 77591 of 1985 2 Name of the invention Control method for powder and granular material processing equipment 3 Name of person making the amendment Tsutsui International Patent Office, 4th floor, Seiwa Building, Ogawara Seisakusho Co., Ltd. (notification 366-0787) ,−
Name (8000) Yamato Tsutsui, Patent Attorney 1 "';, '5, Date of amendment order (voluntary) 2, Claims (1), Preheating, mixing, granulation, suspension, coating, cooling,
A control method for a powder and granular material processing equipment configured to enable at least two or more discharge steps to be performed in any order and any number of times, the method comprising controlling the inlet temperature, inlet humidity, and supply air volume of gas supplied to the equipment. 1. A method for controlling a powder or granular material processing apparatus, characterized in that the drying capacity of the apparatus is calculated from at least one of the above, and the process is controlled based on the calculated value. (2) Calculate the moisture content of the processed material from the calculated value of drying capacity and the labor supply rate, and when the calculated value satisfies the preset target value, the process is completed and the next process is started. The powder and granular material processing apparatus according to claim 1, which indicates that the drying capacity is started with vF@:1, Calculate the appropriate 1J minute supply speed from the calculated value, required processing time, and desired processing time setting, and automatically control the supply liquid speed so that it is the same as the calculation result, while controlling the end point of the process by time. A method for controlling a powder or granular material processing apparatus according to claim 1, characterized in that: (4) the powder or granular material processing apparatus has at least a rotary plate and a space between the periphery of the rotary plate and the inner wall of the apparatus; A slit formed in
2. The method of controlling a powder or granular material processing apparatus according to claim 1, comprising an air flow flowing through the slit and a spray nozzle supplying liquid and/or powder.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)、予熱、混合、造粒、休止、コーチング、冷却、
排出のうちの少なくとも2つ以上の工程を任意の順序で
任意の回数操作可能に構成した粉粒体処理装置の制御方
法であって、装置に供給されるガスの入口温度、入口湿
度、供給風量の少なくとも1つから装置の乾燥能力を計
算し、その計算値に基づいて工程制御を行うことを特徴
とする粉粒体処理装置の制御方法。
(1), preheating, mixing, granulation, resting, coaching, cooling,
A control method for a powder and granular material processing equipment configured to enable at least two or more discharge steps to be performed in any order and any number of times, the method comprising controlling the inlet temperature, inlet humidity, and supply air volume of gas supplied to the equipment. 1. A method for controlling a powder or granular material processing apparatus, characterized in that the drying capacity of the apparatus is calculated from at least one of the above, and the process is controlled based on the calculated value.
(2)、乾燥能力の計算値と水分供給速度とから被処理
物の水分を演算により求め、その計算値があらかじめ設
定された目標値を満足した時にその工程が終了し、次の
工程が開始されることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の粉粒体処理装置の制御方法。
(2) Calculate the moisture content of the processed material from the calculated value of drying capacity and the water supply rate, and when the calculated value satisfies the preset target value, the process ends and the next process begins. Claim 1 characterized in that
A method for controlling a powder or granular material processing apparatus as described in 1.
(3)、乾燥能力の計算値と所要の処理時間、所望の処
理水分の設定値とから適正水分供給速度を計算し、供給
液速度が計算結果と同じ値になるように自動制御しなが
ら工程の終点を時間で制御することを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の粉粒体処理装置の制御方法。
(3) Calculate the appropriate moisture supply rate from the calculated value of drying capacity, the required processing time, and the desired treatment moisture setting value, and process the process while automatically controlling the supply liquid rate to the same value as the calculation result. A method for controlling a powder or granular material processing apparatus according to claim 1, characterized in that the end point of the process is controlled by time.
(4)、粉粒体処理装置が少なくとも回転板と、その回
転板の周縁と装置内壁との間に形成されるスリットと、
該スリットを通して流入する空気流と、液体および粉体
を供給するスプレーノズルとによって構成されることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の粉粒体処理装置
の制御方法。
(4) The powder and granular material processing device includes at least a rotating plate, and a slit formed between the periphery of the rotating plate and the inner wall of the device;
2. The method of controlling a powder/granular material processing apparatus according to claim 1, comprising an air flow flowing through the slit and a spray nozzle supplying liquid and powder.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE202006012634U1 (en) * 2006-08-16 2007-12-27 DIOSNA Dierks & Söhne GmbH Fluidized bed system

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5465176A (en) * 1977-11-02 1979-05-25 Okawara Mfg Fluidized layer pelletizing control method
JPS5826966A (en) * 1981-08-11 1983-02-17 Unie Eetaa Kk Solar heat collecting board and manufacture thereof
JPS58103651A (en) * 1981-12-15 1983-06-20 Sumitomo Chem Co Ltd Measuring method for humidity
JPS58104627A (en) * 1981-12-15 1983-06-22 Sumitomo Chem Co Ltd Controlling method of granulation and coating
JPS6178430A (en) * 1984-09-26 1986-04-22 Fuji Paudaru Kk Control method in granulation/coating apparatus

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5465176A (en) * 1977-11-02 1979-05-25 Okawara Mfg Fluidized layer pelletizing control method
JPS5826966A (en) * 1981-08-11 1983-02-17 Unie Eetaa Kk Solar heat collecting board and manufacture thereof
JPS58103651A (en) * 1981-12-15 1983-06-20 Sumitomo Chem Co Ltd Measuring method for humidity
JPS58104627A (en) * 1981-12-15 1983-06-22 Sumitomo Chem Co Ltd Controlling method of granulation and coating
JPS6178430A (en) * 1984-09-26 1986-04-22 Fuji Paudaru Kk Control method in granulation/coating apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE202006012634U1 (en) * 2006-08-16 2007-12-27 DIOSNA Dierks & Söhne GmbH Fluidized bed system

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