JPS62231261A - Method and apparatus for exposing of photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Method and apparatus for exposing of photosensitive lithographic printing plate

Info

Publication number
JPS62231261A
JPS62231261A JP61073644A JP7364486A JPS62231261A JP S62231261 A JPS62231261 A JP S62231261A JP 61073644 A JP61073644 A JP 61073644A JP 7364486 A JP7364486 A JP 7364486A JP S62231261 A JPS62231261 A JP S62231261A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light source
plate
exposure
rays
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP61073644A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0816785B2 (en
Inventor
Akira Nishioka
明 西岡
Kotaro Yamasue
耕太郎 山末
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP61073644A priority Critical patent/JPH0816785B2/en
Publication of JPS62231261A publication Critical patent/JPS62231261A/en
Publication of JPH0816785B2 publication Critical patent/JPH0816785B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

PURPOSE:To decrease blurring and spoilage by exposing the titled plate by such exposing rays in which the greater part have within 10 deg. angle with the optical axis of the main exposing rays. CONSTITUTION:A light source contg. >=35% 375-425nm rays with respect to the emitted rays in a 300-700nm range is used and the plate is exposed by the exposing rays in which the greater part are within 10 deg. angle with the optical axis of the main exposing rays. The PS plate is provided with a photosensitive layer on a base having a hydrophilic surface and is preferably formed by providing the photosensitive layer on the base which is formed by anodizing an aluminum sheet and is subjected to a hydrophiling treatment at need. The optical axis of the main exposing rays refers usually to the axis connecting an optional point on the PS plate and the center of the light source lamp in the direction where the light intensity is highest at the optional point on the PS plate. The method for obtaining the rays includes a method for utilizing the parallel rays of the sunlight, method for increasing the distance between the light source lamp and the PS plate and a method for providing a cylinder to the conventional exposing device. The blurring and spoilage of the PS plate are thereby decreased.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性平版印111版の露光方法及び装置に
関する本のであり、更に詳細には300〜700 nm
の範囲の発光光線に対して375〜4Aコjnmの光線
がJj’t6以上含まれるような光源使用し、露光光線
の大部分が主露光光線軸に対して10度以内の角度であ
るような光線による感光性平版印刷版の露光方法および
露光装置に関する本のである、 〔従来の技術〕 従来、感光性平版印刷版(以下「28版」と称す)の製
版工程における露光は、28版に鮮明な露光画像を形成
させるために28版とその上に重ねる原画とを完全に密
着させねばならない、が、そのためゴムシートと圧着ガ
ラスとの間に28版と原画とを配置し、その間を真空に
して密着させるといういわゆる真空密着露光法が採られ
ている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method and apparatus for exposing a photosensitive lithographic printing plate 111, and more specifically to a method and apparatus for exposing a photosensitive lithographic printing plate 111, and more specifically,
A light source is used that contains a light beam of 375 to 4A cojnm for the emission beam in the range of This is a book about a method and an exposure apparatus for exposing a photosensitive lithographic printing plate using light rays. In order to form a perfectly exposed image, the 28th plate and the original picture overlaid on it must be in perfect contact with each other, but for this purpose, the 28th plate and the original picture are placed between a rubber sheet and a pressure bonding glass, and a vacuum is created between them. The so-called vacuum contact exposure method is used, in which the film is brought into close contact with the film.

しかしながら、数枚のフィルムからなる原画の場合、い
わゆる貼込みフィルムとして透明ベースにテープでフィ
ルムを貼込むが、この貼込みテープや、28版と原画フ
ィルムとの間に入ったゴミのために密着不良が生じ、テ
ープやゴミの周辺にいわゆる焼ボケが生じてしまうとい
う問題がある。
However, in the case of an original image made of several sheets of film, the film is pasted onto a transparent base with tape as a so-called pasting film, but due to the pasting tape and dust that got between the 28 plate and the original film, the film sticks tightly. There is a problem in that defects occur and so-called burnt blur occurs around the tape or dust.

事実、印刷現場での28版の不良率いわゆるキレ率は焼
ボケが最大の原因となっている。
In fact, blurring is the biggest cause of the defective rate of 28 plates at the printing site, the so-called sharpness rate.

また28版で印刷した場合、版上から印刷物上への網点
面積の増大、つま沙ドツトゲインの増加を生じる。この
ためポジ型PS版では露光による焼細り全利用して、版
上での網点面積を減少させているが、ネガ型28版の場
合、その特性からどうしても焼太りを生じてしまうため
、版上での網点面積が増大してしまう。そのためネガ型
28版で印刷する場合、低露光によって点太りt最小限
にとどめておきたいが、逆に低露光の場合、耐剛力の低
下、膜強度の低下などの問題を生じてしまう結果となっ
ていた。
Furthermore, when printing with 28 plates, the area of halftone dots from the plate to the printed matter increases, and the dot gain of the dots increases. For this reason, positive-tone PS plates make full use of the thinning caused by exposure to reduce the halftone dot area on the plate, but in the case of negative-tone 28 plates, due to its characteristics, printing thickening inevitably occurs, so the plate The area of halftone dots on the top increases. Therefore, when printing with a negative 28 plate, it is desirable to minimize dot thickening by low exposure, but conversely, low exposure can result in problems such as a decrease in rigidity and film strength. It had become.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

従って、本発明の目的は焼ボケを減少し、キレ率の低い
28版の露光方法および露光値+1提供することにある
Therefore, an object of the present invention is to provide a 28-plate exposure method and exposure value +1 that reduce printing blur and have a low sharpness rate.

本発明の他の目的は、点太りが少なく、耐刷力、膜強度
の良好なネガ型28版を得るための露光方法および露光
装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an exposure method and an exposure apparatus for obtaining a negative type 28 plate with little dot thickening and good printing durability and film strength.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明者等は、上記目的全達成すべく種々の検討を重ね
た結果、本発明をなすに至った。
The present inventors have made various studies in order to achieve all of the above objects, and as a result, have accomplished the present invention.

本発明は、300〜700nmの範囲の発光光線に対し
て375−412!nmの光線が314以上含まれるよ
うな光源全使用し、露光光線の大部分が主露光光線軸に
対して10度以内の角度であるような光線による露光方
法および露光装置である。
The present invention provides 375-412! for emission light in the range of 300-700 nm. The present invention is an exposure method and an exposure apparatus that use a light source that includes a light beam of 314 nm or more, and that uses a light beam in which most of the exposure light beam is at an angle of 10 degrees or less with respect to the main exposure beam axis.

以下本発明による製版方法について順を追って詳細に説
明する。
The plate making method according to the present invention will be explained in detail below.

本発明に使用される28版は、親水性表面を有する支持
体上に感光層ケ設けてなるものであるが、好ましくはア
ルミニウムi&iを陽極酸化し5次いで必要に応じて親
水化処理した支持体上に感光層が設けられるものである
、 使用されるアルミニウム板には純アルミニウム及びアル
ミニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては
禎々のものが使用でき、例えばけい素、銅、マンガン、
マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル
などの金属とアルミニウムの合金が用いられる。これら
の組成物は。
The 28th plate used in the present invention is formed by providing a photosensitive layer on a support having a hydrophilic surface, preferably a support which has been anodized with aluminum I&I and then treated to make it hydrophilic if necessary. The aluminum plates used include pure aluminum and aluminum alloy plates, on which the photosensitive layer is provided. Various aluminum alloys can be used, such as silicon, copper, manganese,
An alloy of aluminum and metals such as magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, and nickel is used. These compositions.

いくらかの鉄およびチタンに加えてその他無視し得る程
度の1の不純物をも含むものである。
In addition to some iron and titanium, it also contains one other negligible impurity.

アルミニウム板は砂目立てされていることが好ましいが
、それに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去す
ること及び清浄なアルミニウム面を表出させるためにそ
の表面の前処理が施される。
The aluminum plate is preferably grained, but before that, if necessary, the surface is pretreated to remove rolling oil from the surface and expose a clean aluminum surface.

前者のためには、トリフレy等の溶剤、界面活性剤等が
用いられている。又後者のためには水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ・エツチング剤を用いる方
法が広く用いられている。砂目立て方法としては機械的
砂目立て方法、化学的砂目立て方法および電気化学的砂
目立て方法(所謂、電解エツチング方法)などが用いら
れる。
For the former, solvents such as Trifury, surfactants, etc. are used. and for the latter, sodium hydroxide,
Methods using alkaline etching agents such as potassium hydroxide are widely used. As the graining method, a mechanical graining method, a chemical graining method, an electrochemical graining method (so-called electrolytic etching method), etc. are used.

砂目立てされたアルミニウム板は、必要に応じて水洗さ
れた後、必要に応じて化学的にエツチングを行なう。
The grained aluminum plate is washed with water if necessary, and then chemically etched if necessary.

用いられるエツチング処理液は通常アルミニウムを溶解
する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、
エツチングされた表面がアルミニウムあるいはエツチン
グ液成分から誘導されるアルミニウムと異なる被膜が形
成されないものでなければならない。好ましいエツチン
グ剤を例示すれば、塩基性物質としては水酸化す) I
Jウム、水酸化カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸
二ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸二カリウム等
;酸性物質としては硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びそ
の塩等である。
The etching solution used is usually selected from aqueous base or acid solutions that dissolve aluminum. in this case,
The etched surface must be free of aluminum or a coating different from aluminum derived from the etching solution components. Examples of preferred etching agents include hydroxylated basic substances.
Jum, potassium hydroxide, trisodium phosphate, disodium phosphate, tripotassium phosphate, dipotassium phosphate, etc.; examples of acidic substances include sulfuric acid, persulfuric acid, phosphoric acid, hydrochloric acid, and salts thereof.

エツチングは上記エツチング液にアルミニウム板を浸漬
したり、該アルミニウム板にエツチング液を塗布するこ
と等により行われ、エツチング量が0.7−1097m
2の範囲となるように処理されることが好ましい。
Etching is performed by immersing the aluminum plate in the above etching solution or applying the etching solution to the aluminum plate, and the etching amount is 0.7 to 1097 m.
It is preferable that the processing be performed so that the range of 0.2 is achieved.

上記エツチングは、そのエツチング速度が早いという特
長から塩基の水溶液を使用することが望ましい。この場
合、スマットが生成するので、通常デスマット処理され
る。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、硫酸、り
ん酸、クロム酸、ぶつ酸、はうふつ化水素酸等が用いら
れる。
For the above-mentioned etching, it is desirable to use an aqueous base solution because of its high etching speed. In this case, since smut is generated, desmut processing is usually performed. The acids used in the desmutting treatment include nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, butic acid, and hydrofluoric acid.

エツチング処理されたアルミニウム板は、必要により水
洗されたのち、陽極酸化される。陽極酸化は、仁の分野
で従来より行なわれている方法で行なうことができる。
The etched aluminum plate is washed with water if necessary, and then anodized. Anodic oxidation can be carried out by a method conventionally used in the field of wood.

具体的には、硫酸、りん酸。Specifically, sulfuric acid and phosphoric acid.

クロム酸、g酸、スルファミノ酸、ベンゼンスルホン酸
等あるいはこれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は
非水溶液中でアルミニウムに直流または交流の電流を流
すと、アルミニウム支持体表面に陽極酸化被膜全形成さ
せることができる。
When a direct or alternating current is passed through aluminum in an aqueous or non-aqueous solution containing chromic acid, g-acid, sulfamino acid, benzenesulfonic acid, etc. or a combination of two or more of these, an anodic oxide film is completely formed on the surface of the aluminum support. be able to.

陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変
化するので一概には決定され得ないが一般的には電解液
の濃度が/−10重量憾、液温j〜7(70C,電流密
度0.1〜toアンペア/dm2.’f1!圧/−10
OV、電M13)13)il J O秒〜10分の範囲
が適当である、 これらの陽極酸化処理の内でも、特に英国特許第1. 
#/コ、74r号明細書に記載されている発明で使用さ
れている、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法およ
び米国特許第5、31/、t6/号明細書に記載されて
いる燐酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
The processing conditions for anodic oxidation vary depending on the electrolyte used, so they cannot be determined unconditionally, but in general, the concentration of the electrolyte is /-10% by weight, the solution temperature is 70C, the current density is 0 .1~to ampere/dm2.'f1!pressure/-10
OV, Electron M13) 13) il J O A range of seconds to 10 minutes is appropriate.Among these anodizing treatments, British Patent No. 1.
The method of anodizing at high current density in sulfuric acid used in the invention described in No. 74r and described in U.S. Pat. No. 5,31/, t6/ A method of anodic oxidation using phosphoric acid as an electrolytic bath is preferred.

このような処理を行なったアルミニウム支持体は必要忙
より親水性化処理される。好ましい親水性化処理の7つ
は、カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸および(また
は)その塩の少なくとも7種の基を含む水溶液で処理す
るものである。具体的な化合物としてはアラビアガム、
カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロ
ース、カルホキジメチルヒドロキシエチルセルロース、
アルギン酸、ポリアクリル酸およびアクリル酸誘導体、
ビニルメチルエーテルと無水マレイン酸との共重合体、
酢酸ビニルと無水マレイン酸との共重合体、ポリビニル
スルホン酸およびこれらの塩である。これらの化合物は
2種以上の組合せて用いてもよく、必要によりその他の
化合物たとえば米国特許第J、140.4c26号明細
書に記載されているような水溶性金属塩(例えば酢酸亜
鉛)、もしくはシリカ、二酸化チタンなどの微粒子、ま
たはハレーション防止を目的とした染料などを含んでい
てもよい。
The aluminum support that has been subjected to such treatment is then subjected to a hydrophilic treatment as necessary. Seven preferred hydrophilic treatments include treatment with an aqueous solution containing at least seven groups of carboxylic acid, sulfonic acid, phosphonic acid and/or salts thereof. Specific compounds include gum arabic,
Carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, carboxydimethyl hydroxyethyl cellulose,
alginic acid, polyacrylic acid and acrylic acid derivatives,
copolymer of vinyl methyl ether and maleic anhydride,
These are a copolymer of vinyl acetate and maleic anhydride, polyvinyl sulfonic acid, and salts thereof. These compounds may be used in combination of two or more, and if necessary, other compounds such as water-soluble metal salts (e.g. zinc acetate) as described in U.S. Patent No. J, 140.4c26, or It may contain fine particles such as silica and titanium dioxide, or dyes for the purpose of preventing halation.

これらの化合物は水に溶解した後必要に応じて有機溶媒
を添加し、これを公知の方法たとえばディップ方式Sロ
ールコート方式、バーコード方式等によってアルミニウ
ム板の陽極酸化皮膜上に塗布、乾燥後さらに必要によゆ
過剰分を水洗除去するか、または加熱水溶液に浸漬後水
洗、乾燥を行なうことにより、上述のような化合物で構
成された簿1−が形成される。
After these compounds are dissolved in water, an organic solvent is added as necessary, and this is applied onto the anodic oxide film of an aluminum plate by a known method such as dip method, S roll coating method, bar code method, etc., and after drying, it is further coated. If necessary, the excess amount is removed by washing with water, or by immersion in a heated aqueous solution followed by washing and drying, a sheet 1- composed of the above-mentioned compound is formed.

塗布液濃度は約0.00/ないし1重量憾、乾燥後の塗
布重量として約lないし1ooo■/rnzが好ましい
The concentration of the coating liquid is preferably about 0.00 to 1% by weight, and the coating weight after drying is preferably about 1 to 100%/rnz.

さらにまた他の好ましい親水性化処理の1つとしては無
機塩の水溶液で処理する方法である。無欅塩としては米
国特許第コ、7/μ、066号および同第3./13)
、4&47号の各明細書に記されている様にアルカリ金
属シリケート、例えば珪酸ナトリウムの他、フッ化ジル
コン酸塩などがあり、処理後の重量として約7ないし1
00kfl/fn2が好ましい。
Yet another preferred hydrophilic treatment is treatment with an aqueous solution of an inorganic salt. As non-keyaki salt, U.S. Patent No. 7/μ, 066 and U.S. Patent No. 3. /13)
, 4 & 47, there are alkali metal silicates, such as sodium silicate, fluorinated zirconate, etc., and the weight after treatment is about 7 to 1.
00kfl/fn2 is preferred.

このように処理された平版印刷版用支持体の上には感光
性層を設ける、 感光層を構成する感光性組成物は、露光の前後で現像液
に対する溶解性又は膨潤性が変化するものであり、以下
その代表的なものをいくつか説明する。
A photosensitive layer is provided on the lithographic printing plate support treated in this way. Some of the typical ones are explained below.

■ ジアゾ樹脂からなる組成物 p−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドと
の縮合物に代表されるジアゾ樹脂は、水溶性のものでも
、水不溶性のものでも良いが、好ましくは、水不溶性か
つ通常の有機溶媒に可溶性のものが使用される。特に好
ましいジアゾ化合物としては、p−ジアゾジフェニルア
ミントホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドとの縮合
物の、例えばフェノールとの塩、スルホン酸との塩など
のように1分子中に2個以上のジアゾ基を有する化合物
がある。ジアゾ樹脂は、単独で使用されることもあるが
バインダーと共に使用されることが望ましい。バインダ
ーとしては種々の高分子化合物が知られているので、本
発明のためにも用いることができる。感光層におけるバ
インダーの含有量は、参〇〜?j重を憾程度であ炒、バ
インダーの量は多くなれば(即ち、ジアゾ樹脂の量が少
なくなれば)感光性は当然穴になるが、経時安定性が低
下する。最適のバインダーの量は約70〜りO重量憾で
ある。
■ Composition made of diazo resin The diazo resin represented by the condensate of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde may be either water-soluble or water-insoluble, but is preferably a water-insoluble and ordinary organic solvent. soluble ones are used. Particularly preferred diazo compounds include compounds having two or more diazo groups in one molecule, such as salts with phenol, salts with sulfonic acids, etc. of condensates with p-diazodiphenylamine formaldehyde or acetaldehyde. be. Although the diazo resin may be used alone, it is preferable to use it together with a binder. Since various polymer compounds are known as binders, they can also be used for the present invention. Is the binder content in the photosensitive layer approximately ? If the amount of binder is increased (that is, the amount of diazo resin is decreased), the photosensitivity will naturally decrease, but the stability over time will decrease. The optimum amount of binder is about 70-90% by weight.

■ 0−キノンジアジド化合物からなる組成物特に好ま
しい0−キノンジアジド化合物は。−ナフトキノンジア
ジド化合物であり、多くの種類のものが公知であって、
それら全利用することができる。これらの0−キノンジ
アジド化合物は。
(2) Composition comprising an 0-quinonediazide compound A particularly preferred 0-quinonediazide compound is. - Naphthoquinone diazide compounds, many types of which are known,
All of them can be used. These 0-quinonediazide compounds.

単独で使用することができるが、バインダーとしてアル
カリ可溶性樹脂を併用するとよい。アルカリ可溶性樹脂
としてはノボラック型フェノール樹脂やt−ブチルフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂などがあり、感光層におけ
るバインダーの含有量は約to−Iro重量唾である。
Although it can be used alone, it is better to use an alkali-soluble resin together as a binder. Examples of the alkali-soluble resin include novolak type phenol resin and t-butylphenol formaldehyde resin, and the content of the binder in the photosensitive layer is about to-iro weight.

■ 感光性アジド化合物からなる組成物適当な感光性ア
ジド化合物としてはアジド基が直接又はカルボニル基又
はスルホニル基を介して芳香環に結合している芳香族ア
ジド化合物である、これらは光によりアジド基が分解し
て、ナイトレンを生じ、ナイトレンが種々の反応を起こ
して不溶化するものである。感光性アジド化合物は、数
多くのものが知られており、本発明のため利用すること
ができるが、通常組成物として他の感光性樹脂の場合と
同様にバインダーが併用される。
■ Compositions consisting of photosensitive azide compounds Suitable photosensitive azide compounds include aromatic azide compounds in which the azide group is bonded directly or via a carbonyl group or a sulfonyl group to an aromatic ring. is decomposed to produce nitrene, which undergoes various reactions and becomes insolubilized. Many photosensitive azide compounds are known and can be used for the present invention, but a binder is usually used in the composition as in the case of other photosensitive resins.

感光性組成物としては、このほか主鎖又は側鎖に−CH
=CH−C0−基を含む高分子化合物からなる組成物や
付加重合性不飽和化合物からなる光重合体組成物、(a
)朋射の際に強#R全形成する化合物及び、(b)酸に
より開裂され得る化合物(例えばオルトカルボン酸エス
テル基金有するポリマー化合物:特開昭J−6−/73
44よ号公報記載やシリルエーテルポリマー化合物など
)から成る高感度なポジ型組成物などがあり1本発明の
ため利用することができる。それらの感光性組成物は、
具体的にも種々多数のものが文献に詳しく紹介されてお
り、それらの技術を利用し、あるいは応用することがで
きる。これらの中で■、■のネガおよびポジ型ジアゾ樹
脂を使用したものが特に好ましい、 本発明の組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布され、乾燥されてPS版を得ることが
できる。
In addition, the photosensitive composition may contain -CH in the main chain or side chain.
A composition consisting of a polymer compound containing =CH-C0- group, a photopolymer composition consisting of an addition polymerizable unsaturated compound, (a
) Compounds that completely form strong #R upon combustibility; (b) Compounds that can be cleaved by acids (e.g., polymer compounds with orthocarboxylic acid ester groups: JP-A-Sho J-6-/73)
There are highly sensitive positive-working compositions made of silyl ether polymer compounds described in Japanese Patent Application No. 44, silyl ether polymer compounds, etc., which can be used for the present invention. Those photosensitive compositions are
A large number of specific techniques have been introduced in detail in literature, and these techniques can be used or applied. Among these, those using negative and positive type diazo resins (1) and (2) are particularly preferred.The composition of the present invention is dissolved in a solvent that dissolves each of the above components, coated on a support, dried, and made into a PS. You can get the version.

このようKして作成されたPSHを使用して以下の処理
によって平版印刷版とされる、PS版の感光層と原画フ
ィルムを真空で密着させた後、紫外線光源により露光を
行なう。
Using the PSH thus prepared, the photosensitive layer of the PS plate and the original film are brought into close contact with each other in a vacuum, and then exposed to an ultraviolet light source.

露光に使用される光線は、大部分が主露光光線軸に対し
て70度以内の角度であるような光線であり一好ましく
は20憾以上の光線が70度以内の角度、#Fに好まし
くはr度以内の角度である光線である。
Most of the light beams used for exposure are such that the angle is within 70 degrees with respect to the main exposure beam axis, and preferably 20 or more of the light beams are at angles within 70 degrees, preferably #F. A ray whose angle is within r degrees.

主露光光線軸とは、28版上の任意の点において最も光
強度の強い方向であり、通常PS版上の任意の点と光源
ランプの中心とを結ぶ軸である。
The main exposure beam axis is the direction of the strongest light intensity at any point on the 28 plate, and is usually the axis connecting any point on the PS plate and the center of the light source lamp.

70度の角度内にある光tt測測定るには、最大角度が
70度となる円筒(たとえば直径!α、高−g21.3
6cmの円筒:側壁に対して最大io度の光線が入射可
能)の内部を黒色化し、その筒を置いた場合と筒を置か
ないで直径jcrnの円形の光tt測測定その光景比か
ら求められ、ここでは測定の容易さからランプの中心か
ら28版面への垂線が、28版上で交わる点における測
定値として規定する。
To perform optical tt measurements within an angle of 70 degrees, a cylinder with a maximum angle of 70 degrees (for example, diameter !α, high - g21.3
The inside of a 6 cm cylinder (the maximum io degree of light can be incident on the side wall) is blackened, and the light tt measurement of a circular shape with a diameter jcrn with and without the cylinder is calculated from the scene ratio. , Here, for ease of measurement, it is defined as the measured value at the point where the perpendicular line from the center of the lamp to the 28th plate intersects on the 28th plate.

従来−PS版用露光光源としては、螢光灯、カボンアー
ク灯、水銀灯、メタルハライドなどが使用されているが
、これらのものは棒状であるために種々の方向からの光
線により露光されるばかりでなく、露光感度をかせぐた
めランプ裏面および側面に散乱板を配しているため、散
乱光による露光となっていた。
Conventionally, fluorescent lamps, carbon arc lamps, mercury lamps, metal halides, etc. have been used as exposure light sources for PS plates, but since these are rod-shaped, they are not only exposed to light rays from various directions. In order to increase exposure sensitivity, scattering plates were placed on the back and sides of the lamp, resulting in exposure to scattered light.

本発明のような光線t−得る方法としては、(1)太陽
光線の平行光線の利用 (2)光源ランプと28版との距離全長くする方法 (3)従来の露光装@に前述のような筒を設ける方法 (4)  光源と28版の間に鋒、巣状に並設して形成
した連光子を設ける方法 例えば、具体的にニーテックス■製明室プリンターrF
、F、PRINTERTプリンター)シリーズ」を上げ
ることができ、ハニカムボード人の使用により角度4.
3度以内、ハニカムボードBを使用することにより角度
i  5’度以内の光線を得ることができる。明室プリ
ンターrF、F、PRINTERCプリンター)シリー
ズ」はランプハウスを走行させることにより「全域で高
照度分布」を得ることと、「平行光線」により反転精度
を上げること全目的とし、点光源型明室プリンターf中
央部と周辺部では光量差を生じ、中央部ではフィルムに
対して垂直であるが、周辺部では斜め光線となるため反
転精度〔毛抜き合せ精度、カットマスクの繰返し反転に
おける寸度の拡大、袋文字のメスオス版の合せ精度、太
らし細らし、における画線幅の不均一さなど〕が悪い)
tl−改良した明室用プリンターとして最良のものであ
る。
The methods of obtaining the light beam t- as in the present invention include (1) the use of parallel rays of sunlight, (2) the method of increasing the total distance between the light source lamp and the 28 plate, and (3) the method of using the conventional exposure system as described above. Method of providing a cylinder (4) A method of providing continuous photons arranged in a nest-like manner between the light source and the 28th plate.
, F, PRINTERT printer) series" can be raised, and the angle 4.
By using the honeycomb board B, it is possible to obtain a ray with an angle i within 5' degrees. The bright room printer (rF, F, PRINTERC printer) series" is a point light source type bright room printer whose purpose is to obtain a "high illuminance distribution over the entire area" by running a lamp house, and to improve reversal accuracy by using "parallel rays." There is a difference in the amount of light between the center and the periphery, and the rays are perpendicular to the film in the center, but diagonal in the periphery. Poor accuracy in enlarging, alignment of female and male versions of envelope letters, uneven line width in thickening and thinning, etc.)
tl-This is the best improved bright room printer.

(5)光源体全小さな球状とし、裏面、測定からの散乱
光全防止することにより理想的な光源とする方法 (6)光源と28版の間にコンデンサーレンズを設置す
ることによって、照度が均一となるように改善された方
法 例えば具体的に、大日本スクリーン■製明室フィルム用
密着反転プリンターrP−607JrP−1/7Wシリ
ーズjrP−6x7Wシリーズ」(水冷式超音圧水銀灯
とコンデンサーレンズの組み合せ)全土げることができ
る。コンデンサーレンズは先に示したような中央部と周
辺部と光量差を改良する1]的で使用されている。
(5) A method of creating an ideal light source by making the entire light source body small spherical and completely preventing scattered light from the back side and measurement. (6) Uniform illuminance by installing a condenser lens between the light source and the 28 plate. For example, the method has been improved so that ) can destroy the whole country. Condenser lenses are used to improve the difference in light intensity between the center and periphery (1) as shown above.

(71+61において光源を小球体とした方法例えば具
体的に、大日本スク11−ン■製明室フィルム用密着反
転プリンター「P−に/7MシリーズJrP−g27M
シリーズ」 (直径J(71mの球状無電極ランプ〔マ
グネラックスMDシリーズ〕とコンデンサーレンズの組
み合せ)を上げることができる。マグネラックスMDシ
リーズに関して、日本印刷学会発行「印刷雑誌lりIr
弘(Vot、i!ニア1J、P//〜P/J’、マイク
ロ波放電光源装置」に詳細に述べられている。無電極ラ
ンプは光出力の低下が不点灯の原因になるランプの電極
を取り去り、点滅寿命it倍以上にしたもので、さらに
ランプが小球体となっているため、理想的な点光源とし
て配光精度が向上し、配光制御が容易になっている。
(In 71+61, the light source is a small sphere.
series" (diameter J (combination of 71m spherical electrodeless lamp [Magnelux MD series] and condenser lens)
Hiromu (Vot, i! Near 1J, P//~P/J', Microwave discharge light source device) is described in detail in ``Microwave discharge light source device''. Electrodeless lamps have electrodes that cause the lamp to fail due to a decrease in light output. Since the lamp has been removed and the blinking life has been more than doubled, and since the lamp is a small sphere, it is an ideal point light source with improved light distribution accuracy and easy light distribution control.

さらにマグネラックスMDシリーズのように光源裏面に
例えば放物面の光反射面を設けることにより、裏面およ
び側面の光全反射後コンデンサーレンズを通して露光す
ることができるため、すべての光を有効に利用すること
ができる。
Furthermore, by providing a light reflecting surface, such as a paraboloid, on the back of the light source like the Magnelux MD series, it is possible to expose the light through a condenser lens after the light is totally reflected on the back and side surfaces, making effective use of all the light. be able to.

これらの方法において、(1)は作業性が困難な上、露
光量のコントロールが難しく、(2)においては、ha
が長大になる上、光量低下がはなはだしく、(31にお
いては、露光面積が極端に低下してしまう上、光線の一
部しか利用しないためやはり光量低下が大きく、(4)
においては、露光面積に問題はないが、(3)と同様、
光量低下が大きく、(5)においては、散乱光を防止す
る方法の問題(たとえば黒色体での吸収の場合、発熱の
問題を生じる)および照度ムラで欠点を有している。こ
れに対して(6)、(7)においては、感度低下が最も
少なく照度が均一になるようコンデンサーレンズの設計
が可能であるため最4優れた方法である。
In these methods, (1) is difficult to work with and it is difficult to control the exposure amount, and in (2), ha
In addition, the light intensity decreases significantly (in 31, the exposed area decreases extremely and only a part of the light beam is used, so the light intensity decreases significantly; (4)
There is no problem with the exposed area, but as in (3),
The amount of light decreases significantly, and (5) has drawbacks in the method of preventing scattered light (for example, in the case of absorption by a black body, a problem of heat generation occurs) and in uneven illuminance. On the other hand, methods (6) and (7) are the 4th best method because it is possible to design the condenser lens so that the decrease in sensitivity is the least and the illuminance is uniform.

従来、明室プリンターでは照度を均一にする目的のため
だけにコンデンサーレンズが使用されていたが、意外に
も28版に使用した場合、焼ボケ減少およびネガ型PS
[において点太り全防止し、かつ耐刷力が十分得られる
効果を見出したのである。
Conventionally, condenser lenses have been used in bright room printers just to make the illuminance uniform, but surprisingly, when used for 28 plates, they have been shown to reduce blurring and reduce negative tone PS.
In [, we found an effect that completely prevents dot thickening and provides sufficient printing durability.

しかも28版の場合、反転フィルムのように何度も反転
させることはなく、また密着部付は精度も反転フィルム
程厳しくないため28版用として十分有用である。
Moreover, in the case of the 28-version film, unlike the reversal film, it does not have to be reversed many times, and the accuracy of the attachment of the contact portion is not as strict as that of the reversal film, so it is sufficiently useful for the 28-version film.

しかしながら、従来使用されているコンデンサーレンズ
付き明室プリンターを使用したところ、従来使用されて
いるPS版用プリンターに比べ感度が低下してしまった
。これは明室フィルムは、明室作業を可能とするために
長波側をフィルターでカットし、300〜+00nm(
λmax J j Onm )に主感光域を持つように
した銀塩感光材料であるため、明室プリンター光源は短
波の光線が多いこと、または銀塩感光材料の感度が28
版より高いため光線の一部を使用しても、十分な露光感
度を得るため余分な波長光線が多いためである。
However, when a conventionally used bright room printer with a condenser lens was used, the sensitivity was lower than that of a conventionally used printer for PS plates. This is because the bright room film has the long wavelength side cut off with a filter to enable work in the bright room, and the wavelength range of 300 to +00 nm (
Because it is a silver halide photosensitive material that has a main photosensitive range at
This is because even if a part of the light beam is used because it is higher than the plate, there are many extra wavelength light beams in order to obtain sufficient exposure sensitivity.

本発明に使用する光源は、ジアゾ型28版として露光感
度が十分に得られるように、JOO〜7oonmの範囲
の発光光線に対して317〜弘コjnmの光線が314
以上含まれるような光源を使用する。特に375〜φJ
jに発光スはクトルピークを本つ光源が好ましく、弘!
鴫以上含まれるのがさらに好ましい。このような光#i
lを得るためには、メタルハライドランプおよびメタル
ハライドランプに使用されている材料などを封入した無
電極ランプを使用することができ、特に小球体とした光
源と28版との間にコンデンサーレンズを配置した本の
であり、さらに光源の裏、側面に例えば放物面の反射板
を配置したものが好ましい。
In order to obtain sufficient exposure sensitivity as a diazo type 28 plate, the light source used in the present invention has a light beam of 317 to Hiroko jnm of 314 nm to an emitted light of JOO to 7 oonm.
Use a light source that includes the above. Especially 375~φJ
A light source with a peak is preferable for emitting light.Hiroshi!
It is more preferable that at least 100% of the carbon dioxide is contained. Such light #i
In order to obtain L, metal halide lamps and electrodeless lamps filled with materials used in metal halide lamps can be used, and in particular, a condenser lens is placed between the light source in the form of a small sphere and the 28 plate. It is preferable that the light source is a book, and furthermore, a parabolic reflector, for example, is arranged on the back and side of the light source.

無電極ランプはランプ内に電極がないため封入する金属
と電極との反応などの問題がないため、封入する物質の
制約が少なく、比較的自由に週択できるので所望の発光
スはクトルが得られやすい。
Electrodeless lamps do not have electrodes inside the lamp, so there are no problems such as reactions between the enclosed metal and the electrodes, so there are fewer restrictions on the enclosed substance, and the choice can be made relatively freely. It's easy to get caught.

このような露光装置としては、明室プリンターのように
ガラス上に原画フィルム、さらに焼付フィルムを重ねた
後ゴムシートで密着後、下方から露光する装置ではなく
、28版の使用特性に合った装置、すなわち28版上に
原画フィルムを重ねてガラス枠で密着後、装置上方から
露光する方法。
Such an exposure device is not a device like a brightroom printer, in which the original film and then the printing film are layered on glass, then sealed with a rubber sheet, and then exposed from below, but a device that suits the usage characteristics of the 28 plate. That is, a method in which the original film is placed on top of the 28th plate, adhered to it with a glass frame, and then exposed from above the device.

同様にガラス枠で後着後、ガラス枠を反転して装置内下
方から露光する方法、さらに同じ原画’t 一枚の28
版に多数露光するための28版を縦方向または下方にセ
ットして露光する殖版機などを上げることができる。
In the same way, after attaching a glass frame, the glass frame is reversed and exposed from below inside the device, and the same original image 't one 28
It is possible to use a plate printing machine that exposes a large number of plates by setting 28 plates vertically or downwardly.

このようKして露光された28版は、現像液によって現
像され平版印刷版となる。
The 28th plate exposed with K in this manner is developed with a developer and becomes a lithographic printing plate.

〔本発明の効果〕[Effects of the present invention]

本発明により、28版の焼ボケが減少し、キレ率の低下
をはかることができる。
According to the present invention, the printing blur of the 28th plate can be reduced, and the sharpness rate can be lowered.

更に本発明により、点太りが少なく、耐刷力、膜強度の
良好な平版印刷版をネガ型28版から得ることができる
、 〔実施例〕 以下、本発明を実施例に基づいて、更に詳細に説明する
。ただし、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。なお、実施例中の憾は重を蛎を示すもの
である。
Further, according to the present invention, a lithographic printing plate with little dot thickening and good printing durability and film strength can be obtained from a negative type 28 plate. Explain. However, the present invention is not limited to these Examples. Incidentally, in the examples, the word "grim" means "heavy".

実施例1〜7および比較例a −d 厚み0.3ミリのアルミニウム板(材質/(7J−(7
1’i)リクレン洗滌して脱脂した後、ナイロンブラシ
と参〇〇メツシュのパミスー水懸濁液を用いこの表面を
砂目立てし−よく水で洗滌した。この板を、≠50C1
7′)コjチ水酸化ナトリウム水溶液に7秒間浸漬して
エツチングを行ない水洗後。
Examples 1 to 7 and Comparative Examples a to d 0.3 mm thick aluminum plate (material/(7J-(7
1'i) After cleaning and degreasing, the surface was grained using a nylon brush and a pumice-water suspension of 30 mesh, and thoroughly washed with water. This board is ≠50C1
7') After etching by immersing the film in an aqueous sodium hydroxide solution for 7 seconds and washing with water.

更に204r硝酸に、20秒間浸漬して水洗した。この
時の砂目立て表面のエツチング量は約jf/m2であっ
た。次にこの板を7幅硫酸を電解液として市、光密度/
 jA/dm2でJS’/FF12の直流陽極酸化皮膜
を設けた後、水洗乾燥した。
Furthermore, it was immersed in 204R nitric acid for 20 seconds and washed with water. The amount of etching on the grained surface at this time was approximately jf/m2. Next, this plate was heated using 7-width sulfuric acid as an electrolyte, and the light density/
After providing a DC anodic oxide film of JS'/FF12 at jA/dm2, it was washed with water and dried.

このような処理を行なったアルミニウム板に次の感光液
を塗布し、too0cコ分間乾燥してポジ型PSIaを
得た。乾燥後の塗布量・はコ、!27m2であった。
The following photosensitive solution was applied to the aluminum plate subjected to such treatment and dried for too many minutes to obtain a positive type PSIa. The amount of application after drying is! It was 27m2.

感光液 注■ 米国特許第5、/、31,702号明細書中、実
施例/に記載されているもの 注■ 米国特許第V、/、2J、、27り号明細書K 
記載されているもの このポジ型PS版t一種々の露光装@全使用してフィル
ム原画と密着させた状態で露光した後、富士写真フィル
ム■製自動現像機r00Eにて同社製ポジ用現像液DP
−4を水でl対lに希釈し、コz0cuo秒にて現像処
理した。その結果を表/に示す、 表中、露光時間は版上で/jμmの細線が消失し、2o
/jmの細線が再現できるように、版上での実効感度を
合せた。またそれと合せて、版上でのグレースケール(
濃度差o、/r:富士五真フィルム■製)感度を示した
Photosensitive liquid injection■ Notes described in Examples/in the specification of US Patent No. 5, No. 31,702 ■ US Patent No.
What is described: After exposing this positive PS plate in close contact with the original film using all exposure equipment, use Fuji Photo Film ■'s automatic developing machine R00E and using the same company's positive developer. DP
-4 was diluted with water in a ratio of 1 to 1, and developed at 0 to 10 seconds. The results are shown in Table 2. In the table, the exposure time is such that a thin line of
The effective sensitivity on the plate was adjusted so that fine lines of /jm could be reproduced. In addition, the grayscale on the plate (
Density difference o, /r: (manufactured by Fuji Goshin Film ■) sensitivity.

ボケ幅は貼込みテープ等を想定して、10θμベースを
!Q係無地網と28版との間に入れ、網点がボケでいる
部分(正常部より網点面積が減少している部分)のは−
スエッジからの距離で表わした。それと合せて小さいゴ
ミt−ps版と原画フィルムの間に入れて焼ボケの程度
を人(良)からF(悪)まで6ランクで評価した。通常
、使用可能なレベルはCランク以上である、 表/から、本発明による実施例1〜7の光線を使用した
ものは、従来28版で使用されていた比較例a、dの光
線およびそれと類似の明室フィルム用プリンター比較例
す、cの光線と比較してボケ幅が狭く、焼ボケが減少し
ていることがわかる。
The blur width is based on 10θμ, assuming adhesive tape, etc. Inserted between the Q-related plain screen and the 28th edition, the area where the halftone dots are blurred (the area where the halftone dot area is smaller than the normal area) is -
Expressed as distance from sedge. In addition, the film was placed between a small dust T-PS plate and the original film, and the degree of blur was evaluated on a 6-rank scale from average (good) to F (bad). Normally, the usable level is C rank or higher. From the table, the light beams of Examples 1 to 7 according to the present invention are used, and the light beams of Comparative Examples a and d conventionally used in the 28th edition are used. It can be seen that the blur width is narrower and the printing blur is reduced compared to the light rays of similar bright room film printer comparison examples I and C.

しかし実施例1〜3は露光感度が極端に低下してしまっ
た。
However, in Examples 1 to 3, the exposure sensitivity was extremely reduced.

さらにコンデンサーレンズをつけた明室明プリンター実
施例≠、乙は実施例7〜3と比べると比較的露光時間は
短いが、PS版用プリンター比較例a、dより長くなっ
てしまう。これに対して375N弘コ、tnmの光線が
35悌以上含まれ、この範囲の中に発光スペクトルピー
クがあるような光源を使用した実施例j、7は露光時間
が従来のPS版用プリンターと同程度であり、かつ焼ボ
ケを減少させることができる最も良い方法である。
Furthermore, the exposure time of the bright room bright printer Example ≠ and B with a condenser lens is relatively short compared to Examples 7 to 3, but longer than the PS plate printer comparative examples a and d. On the other hand, in Examples j and 7, which used a light source that contained 375 N hiroko, tnm light at 35 degrees or more and had an emission spectrum peak within this range, the exposure time was longer than that of a conventional PS plate printer. This is the best method that can reduce the blurring at the same level.

なお比較例a −dにおいて露光量を減少することによ
り焼ボケを減少させることができたが、グレースケール
感度、実効感度が低く、網点が十分に細っていないため
、中間〜シャドーの網点のつぶれfc調子再現性の悪い
印刷物しか得られなかった。
Note that in Comparative Examples a to d, printing blur could be reduced by reducing the exposure amount, but the grayscale sensitivity and effective sensitivity were low, and the halftone dots were not thin enough, so the mid to shadow halftone dots Only printed matter with poor fc tone reproducibility was obtained.

実施例、r−/≠および比較例e −h実施例/と同様
に表面処理したアルミニウム板を更KJ号ケイ酸ソーダ
コ、j4溶液中700C30秒浸漬処理後、水洗・乾燥
し、下記の塗布液を塗布・乾燥してネガ型PS版を得た
。乾燥後の塗布量は2.097m2であった。
Example, r-/≠ and Comparative Example e -h An aluminum plate surface-treated in the same manner as Example/ was immersed in No. KJ silicate sodaco, j4 solution at 700C for 30 seconds, washed with water, dried, and coated with the following coating solution. was coated and dried to obtain a negative PS plate. The coating amount after drying was 2.097 m2.

註■ 米国特許第≠、/コ3.27を号明細書中の実施
例1に記載されているもの。
Note ■ As described in Example 1 in the specification of US Pat. No. 3.27.

このネガ型PS版を実施例/−1および比較例a % 
dで使用した露光装置を使用して、フィルム原画と密着
させた状態で露光した後、富士写真フィルム@型自動現
像機zoovにて同社製ネガ用現像液D N−J Cを
水で/対lに希釈してコj0CjO秒にて現像処理した
。その結果を表λに示す。
This negative PS plate was used as Example/-1 and Comparative Example a%
After exposing the film in close contact with the original film using the exposure device used in step d, use the company's negative developer D N-J C with water/pair with the Fuji Photo Film @ model automatic processor ZOOV. The film was diluted to 100 ml and developed at 100 ml. The results are shown in Table λ.

表中、露光時間は原画フィルム、to%の網点が版上で
よ弘幅に再現できる時間とした。、またそれと合せてグ
レースケールベタ感度を示した。
In the table, the exposure time is the time at which the halftone dots of to% of the original film can be reproduced with a wide width on the printing plate. , and also showed grayscale solid sensitivity.

煉ボケは小さなゴミを28版と原画フィルムj04無地
網との間に入れ、ゴミ周辺のボケ(ゴミの周辺の網点の
太り)を目視判定した。
For blurring, a small piece of dust was placed between the 28th plate and the original film J04 plain screen, and the blur around the dust (thickness of the halftone dots around the dust) was visually judged.

また画像部強度は一露光後の28版をDN−JC(/:
/lで手現時ナイロンブラシでこすって判定した。耐刷
力はKOR(〕・イデルベルグ社製)で調べた。
In addition, the image area strength is DN-JC (/:
/l by hand and rubbing with a nylon brush. The printing durability was examined using KOR (manufactured by Idelberg).

表2から本発明による実施例r−/≠の光線を使用した
ものは、従来PS版で使用されていた比較例e、hおよ
びそれと類似の明室フィルム用プリンター比較例f1g
の光線と比較して焼ボケが減少し、グレースケールベタ
感度が高くなるために膜強度、耐刷力が良好であること
がわかる。
From Table 2, those using the light beam of Example r-/≠ according to the present invention are Comparative Examples e and h conventionally used for PS plates and Comparative Example f1g of a bright room film printer similar thereto.
It can be seen that the film strength and printing durability are good because the printing blur is reduced and the gray scale solid sensitivity is increased compared to the light beam.

さらに、実施例r−/μのうち実施例t〜IOは露光時
間が極端に長く、従来の明室プリンターを使用した実施
例1/、/Jで本露光時間が長くなってしまったのに対
して本発明による光源を使用した実施例1コ、l≠は従
来PS版用プリンター比較例e、hと同程度の無光時間
であった。
Furthermore, among Examples r-/μ, Examples t to IO have extremely long exposure times, whereas the actual exposure times were longer in Examples 1/ and /J, which used conventional bright room printers. On the other hand, Examples 1 and 1 using the light source according to the present invention had a lightless time comparable to that of the conventional PS plate printer comparative examples e and h.

比較例0〜hにおいて、露光量を増加してベタ感度を上
げることにより膜強度、耐刷力を向上させることができ
たが、網点の太りが大きく、調子再現性の悪い印刷物し
か得られなかった。
In Comparative Examples 0 to h, it was possible to improve the film strength and printing durability by increasing the exposure amount and increasing the solid sensitivity, but only prints with large halftone dots and poor tone reproducibility were obtained. There wasn't.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)露光光線の大部分が主露光光線軸に対して、角度
10度以内であるような光線により露光することを特徴
とする感光性平版印刷版の露光方法。
(1) A method for exposing a photosensitive lithographic printing plate, characterized in that most of the exposure light beams are exposed at an angle of 10 degrees or less with respect to the main exposure light beam axis.
(2)該光線が、300〜700nmの範囲の発光光線
に対して375〜425nmの光線が35%以上含まれ
るような光源から得られることを特許請求の範囲第1項
記載の露光方法。
(2) The exposure method according to claim 1, wherein the light beam is obtained from a light source in which 375 to 425 nm of light rays are included in 35% or more of the emission light of 300 to 700 nm.
(3)角度10度以内の該範囲に90%以上の光線が含
まれることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の露
光方法。
(3) The exposure method according to claim 2, wherein 90% or more of the light rays are contained within the range within an angle of 10 degrees.
(4)該光線が光源と感光性平版印刷版との間に配置さ
れたコンデンサーレンズを通過することを特徴とする特
許請求の範囲第2項記載の露光方法。
(4) The exposure method according to claim 2, wherein the light beam passes through a condenser lens placed between the light source and the photosensitive planographic printing plate.
(5)該光源が小球体光源であることを特徴とする特許
請求の範囲第4項記載の露光方法。
(5) The exposure method according to claim 4, wherein the light source is a small spherical light source.
(6)該光源の裏面に反射面を配置したことを特徴とす
る特許請求の範囲第5項記載の露光方法。
(6) The exposure method according to claim 5, characterized in that a reflective surface is disposed on the back surface of the light source.
(7)該光源がメタルハライドランプまたは無電極ラン
プであることを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の
露光方法。
(7) The exposure method according to claim 5, wherein the light source is a metal halide lamp or an electrodeless lamp.
(8)300〜700nmの範囲の発光光線に対して3
75〜425nmの光線が35%以上含有するような光
源から得られた光線の大部分が、主露光光線軸に対して
角度10度以内になるようにした感光性平版印刷版用露
光装置。
(8) 3 for emission light in the range of 300-700 nm
An exposure apparatus for a photosensitive lithographic printing plate, wherein most of the light beams obtained from a light source containing 35% or more of light beams of 75 to 425 nm are at an angle of 10 degrees or less with respect to the main exposure beam axis.
(9)角度10度以内の範囲に90%以上の光線が含ま
れることを特徴とする特許請求の範囲第8項記載の露光
装置。
(9) The exposure apparatus according to claim 8, wherein 90% or more of the light rays are contained within an angle of 10 degrees or less.
(10)該光源と感光性平版印刷版との間にコンデンサ
ーレンズを配置し、該光線がこのレンズを通過するよう
にしたことを特徴とする特許請求の範囲第8項記載の露
光装置。
(10) An exposure apparatus according to claim 8, characterized in that a condenser lens is disposed between the light source and the photosensitive planographic printing plate, and the light beam passes through this lens.
(11)該光源が小球体光源であることを特徴とする特
許請求の範囲第10項記載の露光装置。
(11) The exposure apparatus according to claim 10, wherein the light source is a small spherical light source.
(12)該光源の裏面に反射面を配置したことを特徴と
する特許請求の範囲第11項記載の露光装置。
(12) The exposure apparatus according to claim 11, characterized in that a reflective surface is disposed on the back surface of the light source.
(13)該装置が、感光性平版印刷版上に原画フィルム
を密着後、装置上方から露光する装置、同様に密着後、
密着枠を反転して装置内下方から露光する装置または、
感光性平版印刷版を縦方向または下方にセットして原画
フィルムを多数露光する殖版機であることを特徴とする
特許請求の範囲第10項記載の露光装置。
(13) A device in which the device exposes the original film to light from above the device after the original film is brought into close contact with the photosensitive lithographic printing plate;
A device that exposes from below inside the device by inverting the contact frame, or
11. The exposure apparatus according to claim 10, which is a printing press that exposes a large number of original films by setting a photosensitive lithographic printing plate vertically or downwardly.
JP61073644A 1986-03-31 1986-03-31 Exposure method for photosensitive lithographic printing plate Expired - Fee Related JPH0816785B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61073644A JPH0816785B2 (en) 1986-03-31 1986-03-31 Exposure method for photosensitive lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61073644A JPH0816785B2 (en) 1986-03-31 1986-03-31 Exposure method for photosensitive lithographic printing plate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62231261A true JPS62231261A (en) 1987-10-09
JPH0816785B2 JPH0816785B2 (en) 1996-02-21

Family

ID=13524202

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61073644A Expired - Fee Related JPH0816785B2 (en) 1986-03-31 1986-03-31 Exposure method for photosensitive lithographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0816785B2 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51100808A (en) * 1975-03-03 1976-09-06 Toppan Printing Co Ltd

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3635709A (en) 1966-12-15 1972-01-18 Polychrome Corp Light-sensitive lithographic plate

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51100808A (en) * 1975-03-03 1976-09-06 Toppan Printing Co Ltd

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0816785B2 (en) 1996-02-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6127735B2 (en)
JP3023570B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate support
EP0132787B1 (en) Process for producing support for planographic printing
JPS58167196A (en) Base material made of plate-shaped, sheet-shaped or beltlike aluminum or its alloy for offset printing plate, its manufacture and manufacture of offset printing plate, one surface or both surface thereof has photosensitive film
JPH0130139B2 (en)
JPH0428292B2 (en)
JPH062436B2 (en) Support for planographic printing plates
JPS62231261A (en) Method and apparatus for exposing of photosensitive lithographic printing plate
JP3004508B2 (en) Positive photosensitive lithographic printing plate
JPS6072792A (en) Supporter for lithographic print plate
EP0079057B1 (en) Presensitized lithographic printing plates
JPS6142251B2 (en)
JPS59114100A (en) Manufacture of photosensitive planographic printing plate
JPH0431876B2 (en)
JPS61122649A (en) Positive photosensitive planographic printing plate
JPH0450846A (en) Photosensitive planographic printing plate
US3682636A (en) Presensitized photolithographic plate having diazo stabilized aluminum base
JP2852573B2 (en) Exposure method of photosensitive lithographic printing plate
GB1590058A (en) Process for producing a printing plate from a presensitized plate
JPH0743533B2 (en) Positive photosensitive lithographic printing plate
JPH0692195B2 (en) Treated anodized aluminum support and lithographic printing plate containing same
JP2004077816A (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPH03215098A (en) Manufacture of support for planographic printing plate
JPH0751388B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPH0571089B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees