JPH0692195B2 - Treated anodized aluminum support and lithographic printing plate containing same - Google Patents

Treated anodized aluminum support and lithographic printing plate containing same

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JPH0692195B2
JPH0692195B2 JP23939586A JP23939586A JPH0692195B2 JP H0692195 B2 JPH0692195 B2 JP H0692195B2 JP 23939586 A JP23939586 A JP 23939586A JP 23939586 A JP23939586 A JP 23939586A JP H0692195 B2 JPH0692195 B2 JP H0692195B2
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layer
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plate
lithographic printing
silicate
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イー.ギルソン リチャード
アール.ミラー ゲーリー
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イ−ストマン コダツク カンパニ−
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/18After-treatment, e.g. pore-sealing
    • C25D11/24Chemical after-treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/038Treatment with a chromium compound, a silicon compound, a phophorus compound or a compound of a metal of group IVB; Hydrophilic coatings obtained by hydrolysis of organometallic compounds

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はリソグラフ(平板)印刷版に使用される支持体
材料に関し、改良された感圧性(press sensitivity)
と延長された貯蔵寿命を示すような支持体材料からなる
リソグラフ印刷版に関する。
Description: FIELD OF THE INVENTION This invention relates to support materials used in lithographic (lithographic) printing plates and has improved press sensitivity.
And a lithographic printing plate made of a support material exhibiting an extended shelf life.

〔先行技術〕[Prior art]

あらゆる前感光化(presensitized)リソグラフ印刷版
の1つの重要な特徴は、該印刷版を製造した時と後に使
用する時の間再生し得る写真スピード性能を安定に留
め、そして発揮する能力である。さらに他の重要な性質
は、最初及び該印刷版の有用な寿命を通して非画像領域
からインクをはじく印刷版の能力である。
One important feature of any presensitized lithographic printing plate is its ability to stably retain and exert reproducible photographic speed performance during its manufacture and its subsequent use. Yet another important property is the ability of the printing plate to repel ink from non-image areas initially and throughout the useful life of the printing plate.

米国特許第4,492,616号には、金属表面をアルカリ金属
シリケート水溶液およびアルカリ土類金属イオンを含有
する水溶液で処理することによって酸化アルミニウム層
を処理する方法が記載されている。
U.S. Pat. No. 4,492,616 describes a method of treating an aluminum oxide layer by treating the metal surface with an aqueous alkali metal silicate solution and an aqueous solution containing alkaline earth metal ions.

米国特許第3,860,426号には、印刷層が取除かれる領域
内での版のスカミング形成を減少させるために、金属の
水溶性塩を含有する親水性セルロース下塗り層を有する
リソグラフ印刷版が記載されている。これらの印刷版は
広く商業的に受け入れられているけれども、印刷版が製
造された時と、遭遇する全ての貯蔵および取扱い條件下
で使用された時との間でスピード性能の再現性を示すこ
とは見出されていない。更に印刷工業は、変化と消耗を
最小にする努力において、感圧性に関する更に切迫した
要件を要求して来た。
U.S. Pat.No. 3,860,426 describes a lithographic printing plate having a hydrophilic cellulose subbing layer containing a water soluble salt of a metal to reduce plate scumming in areas where the printing layer is removed. There is. Although these printing plates are widely commercially accepted, they must exhibit reproducibility of speed performance between when the printing plate was manufactured and when it was used under all storage and handling conditions encountered. Has not been found. In addition, the printing industry has demanded more pressing requirements for pressure sensitivity in an effort to minimize change and wear.

このように、リソグラフ印刷版は改良された感圧性と延
長された貯蔵寿命を示す必要性がある。
Thus, lithographic printing plates need to exhibit improved pressure sensitivity and extended shelf life.

〔発明の構成〕[Structure of Invention]

本発明は、陽極層(anodic layer)を有する陽極酸化ア
ルミニウム板、陽極層と接触するシリケート層およびシ
リケート層と接触する金属塩層からなり、金属塩層が、
式MX(式中、Mは亜鉛、マグネシウム、ニッケルおよび
クロムからなる群から選ばれた金属であり、Xは酢酸
塩、塩化物および硼酸塩からなる群から選ばれたアニオ
ンである)を有する金属塩からなるリソグラフ印刷版支
持材料を提供する。
The present invention comprises an anodized aluminum plate having an anode layer, a silicate layer in contact with the anode layer and a metal salt layer in contact with the silicate layer, wherein the metal salt layer comprises:
A metal having the formula MX, where M is a metal selected from the group consisting of zinc, magnesium, nickel and chromium, and X is an anion selected from the group consisting of acetates, chlorides and borates. A lithographic printing plate support material comprising a salt is provided.

本発明によるリソグラフ印刷版は、a)陽極層を有する
陽極酸化アルミニウム板、陽極層と接触するシリケート
層およびシリケート層と接触する金属塩層からなり、金
属塩層が、式MX(式中、Mは亜鉛、マグネシウム、ニッ
ケルおよびクロムからなる群から選ばれた金属であり、
Xは酢酸塩、塩化物および硼酸塩からなる群から選ばれ
たアニオンである)を有する金属塩からなるリフグラフ
印刷版支持材料およびb)放射線感光層からなる。本発
明のリソグラフ印刷版は改良された感圧性と延長された
貯蔵寿命を示す。
The lithographic printing plate according to the present invention comprises a) an anodized aluminum plate having an anode layer, a silicate layer in contact with the anode layer and a metal salt layer in contact with the silicate layer, wherein the metal salt layer is of the formula MX (wherein M Is a metal selected from the group consisting of zinc, magnesium, nickel and chromium,
X is a riffgraphic printing plate support material consisting of a metal salt having an anion selected from the group consisting of acetates, chlorides and borates and b) a radiation sensitive layer. The lithographic printing plate of the present invention exhibits improved pressure sensitivity and extended shelf life.

支持材料はアルミニウムまたはアルミニウム合金板から
なる。適切なアルミニウム合金は、亜鉛、シリコン、ク
ロム、銅、マンガン、マグネシウム、鉛、ビスマス、ニ
ッケル、鉄またはチタンとの合金であり、これらの合金
は無視し得る量の不純物を含んでいてもよい。
The support material consists of aluminum or aluminum alloy plates. Suitable aluminum alloys are alloys with zinc, silicon, chromium, copper, manganese, magnesium, lead, bismuth, nickel, iron or titanium, which alloys may contain negligible amounts of impurities.

アルミニウム板の表面は、通常アルミニウム表面に存在
する油脂、錆または塵のない清浄な表面を露出させるた
めに、溶剤またはアルカリ剤で脱脂するなどの化学的清
浄にするのが好ましい。好ましくは、表面を研摩する。
適切な研摩法には、ガラスビース研摩、ボール研摩、サ
ンドブラスト、ブラシ研摩および電解研摩が含まれる。
研摩操作に続いて、支持体をアルミニウムエッチング剤
およびデスマッティング(desmutting)酸浴で処理する
ことができる。
The surface of the aluminum plate is preferably chemically cleaned such as degreasing with a solvent or an alkaline agent in order to expose a clean surface free from oils, rusts and dusts that are usually present on the aluminum surface. Preferably the surface is polished.
Suitable polishing methods include glass bead polishing, ball polishing, sandblasting, brush polishing and electrolytic polishing.
Following the polishing operation, the support can be treated with an aluminum etchant and a desmutting acid bath.

次いで陽極酸化された層をアルミニウム板上に形成させ
る。この層はここでは陽極層(anodic layer)と言う。
燐酸、硫酸、蓚酸、硼酸、クロム酸、スルファミン酸お
よびベンゼンスルホン酸から選ばれた1種または2種以
上の酸を含有する溶液中に陰極として浸漬された支持体
に電流を流す。かくして、陽極酸化層が支持体の表面に
形成される。
Then an anodized layer is formed on the aluminum plate. This layer is referred to herein as the anode layer.
An electric current is applied to a support immersed as a cathode in a solution containing one or more acids selected from phosphoric acid, sulfuric acid, oxalic acid, boric acid, chromic acid, sulfamic acid and benzenesulfonic acid. Thus, the anodized layer is formed on the surface of the support.

陽極酸化の後、陽極酸化アルミニウム板の表面を、板を
シリケート化するために、アルカリ金属シリケート、カ
ルシウムシリケート、ケイ酸、コロイドシリカまたは重
合ケイ酸の如きシリケート化剤と接触させる。シリケー
ト化処理は陽極酸化表面を親水性にする。好ましくは、
支持体をシリケート化剤の水溶液で処理する。シリケー
ト化剤は好ましくは、約0.5%〜約10%の濃度で存在
し、溶液の温度は20℃〜100℃、最も好ましくは60℃〜1
00℃である。溶液中の板の最適浸漬時間は、溶液温度、
シリケート化剤濃度およびリソグラフ版の最終目的用途
に依存する。15〜80秒の浸漬時間が特に有利であると見
出された。
After anodization, the surface of the anodized aluminum plate is contacted with a silicate agent such as an alkali metal silicate, calcium silicate, silicic acid, colloidal silica or polymeric silicic acid to silicate the plate. The silicate treatment makes the anodized surface hydrophilic. Preferably,
The support is treated with an aqueous solution of silicate agent. The silicate agent is preferably present in a concentration of about 0.5% to about 10% and the temperature of the solution is 20 ° C to 100 ° C, most preferably 60 ° C to 1%.
It is 00 ° C. The optimal immersion time of the plate in the solution is the solution temperature,
Depends on silicate agent concentration and end use of the lithographic version. A dipping time of 15-80 seconds has been found to be particularly advantageous.

板をシリケート化した後、シリケート化した板を式MX
(式中、Mは亜鉛、マグネシウム、ニッケルおよびクロ
ムからなる群から選ばれた金属であり、Xは酢酸塩、塩
化物および硼酸塩からなる群から選ばれたアニオンであ
る)を有する金属塩と接触させる。かくして、多分しば
しば実質的に金属塩の単分子厚みの薄い処理または層が
提供される。いくつかの例では、金属塩分子が表面上に
不均一に析出しているものと思われる。この層は10〜50
mg/m2、好ましくは20〜40mg/m2の被覆量で存在する。特
に有用である金属塩には、亜鉛、マグネシウム、ニッケ
ルおよびクロムの水溶性塩が含まれる。これらの塩は当
業界で公知の方法によって形成される。有用な塩には、
酢酸塩、塩化物および硼酸塩が含まれる。支持体を、好
ましくは0.1%〜45%の濃度で金属塩を含有する水浴中
に浸漬する。より高い濃度は金属塩の溶解度によっての
み制限される。好ましい金属塩浴濃度は1%〜10%、最
も好ましくは2%〜5%である。金属塩層は本質的に上
記の金属塩からなり得る。浴は室温から沸点まで操作す
ることができるが、32℃〜82℃の温度が好ましい。優れ
た結果は49℃〜71℃の浴温で達成される。板の浴への浸
漬時間は、濃度と温度に依存する。10秒から5分間の浸
漬時間が多くの條件下で受入れられることが見出され
た。好ましくは、浸漬時間は15秒〜3分間であり、こう
して処理は連続法にできる。
After silicate making the plate, the silicate plate is made into the formula MX
Wherein M is a metal selected from the group consisting of zinc, magnesium, nickel and chromium, and X is an anion selected from the group consisting of acetate, chloride and borate. Contact. Thus, perhaps often a substantially monolayer thin treatment or layer of metal salt is provided. In some cases, metal salt molecules appear to be unevenly deposited on the surface. This layer is 10-50
mg / m 2, preferably present at a coverage of 20-40 mg / m 2. Metal salts that are particularly useful include water-soluble salts of zinc, magnesium, nickel and chromium. These salts are formed by methods known in the art. Useful salts include
Includes acetates, chlorides and borates. The support is immersed in a water bath containing the metal salt, preferably at a concentration of 0.1% to 45%. Higher concentrations are limited only by the solubility of the metal salt. The preferred metal salt bath concentration is 1% to 10%, most preferably 2% to 5%. The metal salt layer may consist essentially of the metal salts described above. The bath can be operated from room temperature to the boiling point, but temperatures of 32 ° C to 82 ° C are preferred. Excellent results are achieved with bath temperatures of 49 ° C to 71 ° C. The immersion time of the plate in the bath depends on the concentration and the temperature. It has been found that soaking times of 10 seconds to 5 minutes are acceptable under many conditions. Preferably, the immersion time is between 15 seconds and 3 minutes, thus the treatment can be a continuous process.

本発明のリソグラフ印刷版支持体材料を、所望により、
下塗り層として作用する親水性材料の薄い被覆物によっ
て被覆し得る。親水性被覆物は、処理版の非印刷領域の
水受容性を改良するために寄与する。好ましくは、親水
性被覆物は、上記のようにして処理された支持体の上に
被覆される。親水性被覆物は、公知の技術により下塗り
量で被覆される。特に、水性分散液から被覆され得る水
溶性永久親水性物質を使用することが有利である。ポリ
アクリルアミドを含有する溶液がこの目的のために特に
有利であり、カルボキシメチルセルロース、ポリビニル
ホスホン酸、ケイ酸ナトリウムおよびこれらの組合せを
含む溶液も同様である。親水性中間層を形成するのに有
用な他のポリマーには、ポリビニルアルコール、無水マ
レイン酸とエチレンのコポリマー、ビニルアセテート、
スチレンまたはビニルメチルエーテル、ポリアクリル
酸、ヒドロキシメチルセルロースおよびポリビニルピロ
リドンが含まれる。
The lithographic printing plate support material of the present invention, if desired,
It may be coated with a thin coating of hydrophilic material which acts as a subbing layer. The hydrophilic coating serves to improve the water receptivity of the non-printed areas of the treated plate. Preferably, the hydrophilic coating is coated on the support treated as described above. The hydrophilic coating is coated in a subbing amount by a known technique. In particular, it is advantageous to use water-soluble permanently hydrophilic substances which can be coated from aqueous dispersions. Solutions containing polyacrylamide are particularly advantageous for this purpose, as are solutions containing carboxymethylcellulose, polyvinylphosphonic acid, sodium silicate and combinations thereof. Other polymers useful in forming the hydrophilic intermediate layer include polyvinyl alcohol, copolymers of maleic anhydride and ethylene, vinyl acetate,
Includes styrene or vinyl methyl ether, polyacrylic acid, hydroxymethyl cellulose and polyvinylpyrrolidone.

本発明に従ったリソグラフ印刷版は、a)陽極層を有す
る陽極酸化アルミニウム板、陽極層と接触するシリケー
ト層およびシリケート層と接触する金属塩層からなり、
金属塩層が、式MX(式中、Mは亜鉛、マグネシウム、ニ
ッケルおよびクロムからなる群から選ばれた金属であ
り、Xは酢酸塩、塩化物および硼酸塩からなる群から選
ばれたアニオンである)を有する金属塩からなるリソグ
ラフ印刷版支持材料およびb)放射線感光層からなる。
金属塩被覆物が乾燥した後に放射線感光被覆物がその表
面に置かれる。放射線感光被覆物はリソグラフ印刷版支
持材料の上に直接か、または好ましくは1個または2個
以上の下塗層の上に置かれる。リソグラフ印刷工程で使
用するための像を形成するために適切な種々の放射線感
光物質が使用できる。殆んど全ての放射線感光層が適切
であり、露光の後に、必要であれば次いで現像および/
または定着して、印刷用に使用され得る像状分布領域を
提供する。
The lithographic printing plate according to the invention comprises a) an anodized aluminum plate having an anode layer, a silicate layer in contact with the anode layer and a metal salt layer in contact with the silicate layer,
The metal salt layer is of the formula MX (wherein M is a metal selected from the group consisting of zinc, magnesium, nickel and chromium, and X is an anion selected from the group consisting of acetate, chloride and borate). A) a lithographic printing plate support material consisting of a metal salt having a) and b) a radiation sensitive layer.
After the metal salt coating has dried, the radiation-sensitive coating is placed on its surface. The radiation-sensitive coating is placed directly on the lithographic printing plate support material or preferably on one or more subbing layers. A wide variety of radiation-sensitive materials suitable for forming images for use in lithographic printing processes can be used. Almost all radiation-sensitive layers are suitable and, after exposure, if necessary, then developed and / or
Or fused to provide an imagewise distribution area that can be used for printing.

本発明で有用な放射線感光物質は当業界でよく知られて
おり、Research Disclosure,publication 17643, parag
raph XXV, Dec., 1978およびそこに記載の参照文献に記
載されているようなハロゲン化銀;米国特許第4,141,73
3号(1979年2月27日Guildに発行)およびそこに記載の
引例に記載されているようなキノンジアジド(重合性お
よび非重合性);米国特許第3,511,611号(1970年5月1
2日Raunerらに発行)およびそこに記載の引例に記載さ
れている如き光感光性ポリカーボネート;米国特許第3,
342,601号(1967年9月19日Houleらに発行)およびそこ
に記載の引例に記載されたジアゾニウム塩、ジアゾ樹
脂、シンナマルーマロン酸およびそれらの機能的均等物
およびその他;および米国特許第4,139,390号(1979年
2月13日Raunerらに発行)およびそこに記載の引例に記
載の光感光性ポリエステル、ポリカーボネートおよびポ
リスルホネートが含まれる。
Radiation sensitizers useful in the present invention are well known in the art and are described in Research Disclosure, publication 17643, parag.
silver halide as described in raph XXV, Dec., 1978 and references therein; US Pat. No. 4,141,73.
No. 3 (issued February 27, 1979 to Guild) and quinonediazides (polymerizable and non-polymerizable) as described in the references therein; US Pat. No. 3,511,611 (May 1970)
Issued to Rauner et al. 2) and a photosensitive polycarbonate as described in the references therein; US Pat.
342,601 (issued on September 19, 1967 to Houle et al.) And the diazonium salts, diazo resins, cinnamalumaronates and their functional equivalents and others described therein and U.S. Pat. No. 4,139,390. (Issued February 13, 1979 to Rauner et al.) And the references therein and the photosensitive polyesters, polycarbonates and polysulfonates.

特に有用な放射線感光物質は、ポリマー主鎖(backbon
e)の必須部分として感光性基 を含有するポリエステルの如き光架橋性ポリマーであ
る。例えば、好ましい光架橋性ポリマーは、下記式によ
って表わされる1種または2種以上の化合物から調製さ
れたポリエステルである。
Particularly useful radiation sensitive materials are polymer backbones.
a photosensitive group as an essential part of e) Are photo-crosslinkable polymers such as polyesters containing. For example, a preferred photocrosslinkable polymer is a polyester prepared from one or more compounds represented by the formula:

(式中、R2は1種または2種以上の、1〜6個の炭素原
子アルキル、6〜12個の炭素原子のアリール、7〜20個
の炭素原子のアラルキル、1〜6個の炭素原子のアルコ
キシ、ニトロ、アミノ、アクリル、カルボキシル、水素
またはハロゲンであり、少くとも1個の縮合位置を提供
するよう選ばれ、R3はヒドロキシ、1〜6個の炭素原子
のアルコキシ、ハロゲンまたは化合物が酸無水物の場合
はオキシである。)好ましい化合物は、p−フェニレン
ジアクリル酸またはその機能均等物である。これらおよ
び他の有用な化合物は、米国特許第3,030,208号(1962
年4月17日Schellenbergらに発行);米国特許第3,702,
765号(1972年11月14日Laaksoに発行);および米国特
許第3,622,320号(1971年11月23日Allenに発行)に記載
されている。
(In the formula, R 2 is one or more kinds, alkyl having 1 to 6 carbon atoms, aryl having 6 to 12 carbon atoms, aralkyl having 7 to 20 carbon atoms, and having 1 to 6 carbons. An atom of alkoxy, nitro, amino, acryl, carboxyl, hydrogen or halogen, selected to provide at least one condensation position, R 3 is hydroxy, alkoxy of 1 to 6 carbon atoms, halogen or a compound. Is oxy when it is an acid anhydride.) A preferred compound is p-phenylenediacrylic acid or its functional equivalent. These and other useful compounds are described in US Pat. No. 3,030,208 (1962
Issued to Schellenberg et al. On Apr. 17, 2014; US Pat. No. 3,702,
765 (issued November 14, 1972 to Laakso); and U.S. Pat. No. 3,622,320 (issued November 23, 1971 Allen).

(式中、R3は上記定義の通りであり、R4は1〜4個の炭
素原子のアルキリデン、7〜16個の炭素原子のアラルキ
リデンまたは5−〜6−員複素環である。)式(B)の
特に有用な化合物は、シンナミリデンマロン酸、2−ブ
テニリデンマロン酸、3−ペンテニリデンマロン酸、0
−ニトロシンナミリデンマロン酸、ナフチルアリリデン
マロン酸、2−フルフリリデンエチリデンマロン酸およ
びそれらの機能均等物である。これらおよび他の有用な
化合物は米国特許第3,674,745号(1972年7月4日Phili
potらに発行)に記載されている。
Wherein R 3 is as defined above and R 4 is alkylidene of 1 to 4 carbon atoms, aralkylidene of 7 to 16 carbon atoms or 5- to 6-membered heterocycle. Particularly useful compounds of (B) are cinnamylidene malonic acid, 2-butenylidene malonic acid, 3-pentenylidene malonic acid, 0
-Nitrocin namylidene malonic acid, naphthyl allylidene malonic acid, 2-furfurylidene ethylidene malonic acid and their functional equivalents. These and other useful compounds are described in US Pat. No. 3,674,745 (Phili, July 4, 1972).
Published in pot et al.).

(式中、R3は上記定義の通りであり、R5は水素またはメ
チルである。)式(C)の特に有用な化合物は、トラン
ス、トランス−ムコン酸、シス,トランス−ムコン酸、
シス,シス−ムコン酸、α,α′−シス,トランス−ジ
メチルムコン酸、α,α′−シス,シス−ジメチルムコ
ン酸およびこれらの機能均等物である。これらおよび他
の有用な化合物は米国特許第3,615,434号(1971年10月2
6日McConkeyに発行)に記載されている。
(Wherein R 3 is as defined above and R 5 is hydrogen or methyl.) Particularly useful compounds of formula (C) are trans, trans-muconic acid, cis, trans-muconic acid,
Cis, cis-muconic acid, α, α'-cis, trans-dimethylmuconic acid, α, α'-cis, cis-dimethylmuconic acid and functional equivalents thereof. These and other useful compounds are described in US Pat. No. 3,615,434 (October 2, 1971).
Issued on 6th McConkey)).

(式中、R3は上記定義の通りであり、Zは6〜7個の炭
素原子の不飽和橋かけまたは非橋かけ炭素環核を形成す
るために必要な原子を表わす。)このような核は置換さ
れていても置換されていなくてもよい。式(D)の特に
有用な化合物は、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボ
ン酸、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸、ヘキサ
クロロ−5〔2:2:1〕−ビシクロヘプテン−2,3−ジカル
ボン酸およびこれらの機能均等物である。これらおよび
他の有用な化合物はカナダ特許第824,096号(1969年9
月30日Menchらに発行)に記載されている。
(Wherein R 3 is as defined above and Z represents the atom necessary to form an unsaturated bridged or unbridged carbocyclic nucleus of 6 to 7 carbon atoms.) The nucleus may be substituted or unsubstituted. Particularly useful compounds of formula (D) are 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, hexachloro-5 [2: 2: 1] -bicycloheptene-2,3- Dicarboxylic acids and their functional equivalents. These and other useful compounds are described in Canadian Patent 824,096 (September 1969).
Issued on March 30th to Mench et al.).

(式中、R3は上記定義の通りであり、R6は水素、1〜12
個の炭素原子のアルキル、5〜12個の炭素原子のシクロ
アルキルまたは6〜12個の炭素原子のアリールであ
る。)R6は可能である場合は、ハロゲン、ニトロ、アリ
ール、アルコキシ、アリーロキシ等の如き、縮合反応と
干渉しないような置換基で置換され得る。カルボニル基
はシクロヘキサジエン核に互にメタまたはパラ位、好ま
しくはパラ位に付いている。式(E)の特に有用な化合
物は、1,3−シクロヘキサジエン−1,4−ジカルボキシル
酸、1,3−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシル
酸、1,5−シクロヘキサジエン−1,4−ジカルボキシル酸
およびこれらの機能均等物である。これらおよび他の有
用な化合物は、ベルギー特許第754,892号(1970年10月1
5日発行)に記載されている。
(In the formula, R 3 is as defined above, R 6 is hydrogen, 1 to 12
Is alkyl of 6 carbon atoms, cycloalkyl of 5 to 12 carbon atoms or aryl of 6 to 12 carbon atoms. ) R 6 may be optionally substituted with substituents such as halogen, nitro, aryl, alkoxy, aryloxy, etc., which do not interfere with the condensation reaction. The carbonyl groups are attached to the cyclohexadiene nucleus in the meta or para position, preferably the para position. Particularly useful compounds of formula (E) are 1,3-cyclohexadiene-1,4-dicarboxylic acid, 1,3-cyclohexadiene-1,3-dicarboxylic acid, 1,5-cyclohexadiene-1, 4-dicarboxylic acid and functional equivalents thereof. These and other useful compounds are described in Belgian Patent No. 754,892 (October 1, 1970).
Issued on the 5th).

放射線感光被覆物は、放射線感光組成物またはポリマー
を当業界で使用されているあらゆる適切な溶剤または溶
剤の組合せに分散させることによって調製できる。
Radiation-sensitive coatings can be prepared by dispersing the radiation-sensitive composition or polymer in any suitable solvent or combination of solvents used in the art.

放射線感光性は、被覆組成物中でその中に増感剤を含有
させることによって刺激することができる。適切な増感
剤には、1−カルベントキシ−2−ケト−3−メチル−
2−アザベンズアンスロン、ベンズアンスロンの如きア
ンスロン;ニトロ増感剤;トリフェニルメタン;キノ
ン;シアニン染料増感剤;6−メトキシベータ−2−フリ
ール−2−アクリロナフトンの如きナフトン増感剤;2,6
−ビス(p−エトキシ−フェニル)−4−(p−n−ア
ミロキシフェニル)−チアピリリウムパークロレートお
よび1,3,5−トリフェニルピリリウムフルオロボレート
の如きピリリウムまたはチアピリリウム;フラノン;4−
ピコリン−N−オキシド;2−クロロアンスラキノンの如
きアンスラキノン;2−ベンゾイルカルベトキシメチレン
−1−メチル−ベータナフトチアゾールおよびメチル2
−(n−メチルベンゾチアゾリリデン)ジチオアセテー
トの如きチアゾール;メチル3−メチル−2−ベンゾチ
アゾリデンジチオアセテート;3−エチル−2−ベンゾイ
ルメチレン−ナフト〔1,2−d〕−チアゾリン、ベンゾ
チアゾリン、(2−ベンゾイルメチレン)−1−メチル
−ベータ−ナフトチアゾリン、の如きチアゾリン;1,2−
ジヒドロ−1−エチル−2−フェナシリデンナフト〔1,
2−d〕−チアゾール;およびナフトチアゾリン;キノ
リゾン、ミヒラー(Michler)のケトン;およびミヒラ
ーのチオケトンが含まれる。
Radiation sensitivity can be stimulated by including a sensitizer therein in the coating composition. Suitable sensitizers include 1-carbentoxy-2-keto-3-methyl-
Anthurons such as 2-azabenzanthrone and benzanthrone; nitro sensitizers; triphenylmethane; quinones; cyanine dye sensitizers; naphthone sensitizers such as 6-methoxybeta-2-freel-2-acrylonaphthone; 2,6
-Pyrylium or thiapyrylium such as -bis (p-ethoxy-phenyl) -4- (pn-amyloxyphenyl) -thiapyrylium perchlorate and 1,3,5-triphenylpyrylium fluoroborate; furanone; 4-
Picoline-N-oxide; anthraquinones such as 2-chloroanthraquinone; 2-benzoylcarbetoxymethylene-1-methyl-beta naphthothiazole and methyl 2
Thiazoles such as-(n-methylbenzothiazolilidene) dithioacetate; methyl 3-methyl-2-benzothiazolidene dithioacetate; 3-ethyl-2-benzoylmethylene-naphtho [1,2-d] -thiazoline, Thiazolines such as benzothiazoline, (2-benzoylmethylene) -1-methyl-beta-naphthothiazoline; 1,2-
Dihydro-1-ethyl-2-phenacylidenenaphtho [1,
2-d] -thiazole; and naphthothiazoline; quinolizone, Michler's ketone; and Michler's thioketone.

増感剤に加えて、多数の他の添加物が被覆組成物中に存
在し得、最終的にリソグラフ版の一部を形成する。例え
ば、色素または顔料を認識を助けるための着色像を得る
ために含有し得る。被覆組成物に有利に含有させること
ができる他の成分は、フィルム形成、被覆性、支持体へ
の被覆の接着、機械的強度および安定性を改良するよう
にする材料である。
In addition to the sensitizer, numerous other additives may be present in the coating composition, ultimately forming part of the lithographic plate. For example, dyes or pigments may be included to provide a colored image to aid recognition. Other components which may be advantageously included in the coating composition are materials which are intended to improve film formation, coatability, adhesion of the coating to the support, mechanical strength and stability.

本発明のリソグラフ印刷版は通常の方法により、例えば
透明画(トランスパーレンシー)またはステンシルを通
して化学線放射線の像状パターンに露光し得る。適切な
放射線源には、カーボンアークランプ、水銀蒸気ラン
プ、蛍光灯、タングステンフィラメントランプ、写真用
ランプ、レーザーおよび類似物が含まれる。
The lithographic printing plates of the present invention can be exposed to the imagewise pattern of actinic radiation by conventional methods, for example through transparencies or stencils. Suitable radiation sources include carbon arc lamps, mercury vapor lamps, fluorescent lamps, tungsten filament lamps, photographic lamps, lasers and the like.

露光したリソグラフ印刷版は、通常の現像剤および現像
技術を使用して現像し得る。例えば、上記の放射線感光
性ポリエステルを含むリソグラフ印刷版を現像する際、
現像剤組成物は版の表面に版の非像領域からポリマーを
除去するに十分な時間適用する。緩慢な機械的作用はこ
れらの領域からポリマー組成物を除去するのを助ける。
かくして、拭くことが板に現像剤組成物を適用する有用
な方法である。現像剤組成物は典型的には室温で使用さ
れるが、約32℃までの高められた温度で使用され得る。
現像剤組成物の最初の適用の後に、第2の適用を施すこ
とができ、ついで減感組成物を1回または2回適用す
る。次いで版を乾燥する。
The exposed lithographic printing plate can be developed using conventional developers and developing techniques. For example, when developing a lithographic printing plate containing the above radiation-sensitive polyester,
The developer composition is applied to the surface of the plate for a time sufficient to remove the polymer from the non-image areas of the plate. The slow mechanical action helps remove the polymer composition from these areas.
Thus, wiping is a useful method of applying the developer composition to the board. The developer composition is typically used at room temperature, but can be used at elevated temperatures up to about 32 ° C.
A second application can be applied after the first application of the developer composition, followed by one or two applications of the desensitizing composition. The plate is then dried.

〔実施例〕〔Example〕

次の実施例で本発明をさらに説明するが、本発明の範囲
をこれらの実施例に限定するものでないことはいうまで
もない。
The present invention will be further described in the following examples, but it goes without saying that the scope of the present invention is not limited to these examples.

実施例1および比較例A〜B アルミニウム板を苛性溶液に浸漬し、表面から油および
汚れを除いた。表面をブラシおよび研摩剤のスラリーで
研摩した。ゆるんだ残留物を苛性溶液中でのエッチング
および続く硝酸デスマッティング浴により除去した。ア
ルミニウム板を燐酸電解液中で陽極酸化した。
Example 1 and Comparative Examples AB Aluminum plates were immersed in a caustic solution to remove oil and stains from the surface. The surface was polished with a brush and a slurry of abrasive. The loose residue was removed by etching in caustic solution followed by a nitric acid desmutting bath. The aluminum plate was anodized in phosphoric acid electrolyte.

比較例Aの板は、14mg/m2の被覆量でポリアクリルアミ
ドの薄い層で被覆した。板は米国特許第3,030,208号、
ヒドロキシエトキシシクロヘキサンとp−フェニレンジ
エトキシアクリレートの縮合物、に記載されたような放
射線感光性被覆物で被覆した。
The board of Comparative Example A was coated with a thin layer of polyacrylamide at a coverage of 14 mg / m 2 . The plate is U.S. Pat.No. 3,030,208,
It was coated with a radiation-sensitive coating as described in Hydroxyethoxycyclohexane and p-phenylene diethoxy acrylate condensate.

比較例Bの板を調製し上記のようにして陽極酸化した。
陽極酸化した支持体を、PQ Corporationによって販売さ
れているPQ−Dケイ酸ソーダの2%溶液中で処理した。
SiO2対Na2O比は2:1であった。支持体は82℃の温度を有
する浴中に45秒間浸漬した。支持体を洗浄し、乾燥し、
上記のようにしてポリアクリルアミドおよび放射線感光
性層で被覆した。
The plate of Comparative Example B was prepared and anodized as described above.
The anodized support was treated in a 2% solution of PQ-D sodium silicate sold by PQ Corporation.
The SiO 2 to Na 2 O ratio was 2: 1. The support was immersed for 45 seconds in a bath having a temperature of 82 ° C. Wash the support, dry,
Coated with polyacrylamide and radiation sensitive layer as described above.

実施例1の板を調製し、上記のようにして陽極酸化し、
PQ−Dケイ酸ソーダの2%溶液中で、86℃浴中で30秒間
処理した。板を2%の酢酸亜鉛を含有する水浴中に30秒
間浸漬した。浴温は65℃であった。支持体を洗浄し、乾
燥し、上記のようにしてポリアクリルアミドおよび放射
線感光性層で被覆した。
The plate of Example 1 was prepared and anodized as described above,
It was treated in a 2% solution of PQ-D sodium silicate in a 86 ° C. bath for 30 seconds. The plate was immersed in a water bath containing 2% zinc acetate for 30 seconds. The bath temperature was 65 ° C. The support was washed, dried and coated with polyacrylamide and radiation sensitive layer as described above.

乾燥した版を14段階を有するステップタブレット(step
tablet)を含むフィルム原紙に接触させ、紫外線に富
む放射線源に露光した。露光した版をネガ現像剤で処理
し、リソグラフ板仕上剤で処理し、乾燥した。現像剤お
よび仕上剤は米国特許第4,419,437号の実施例1〜8に
記載されているものである。
Dried plate with 14 steps
film) containing a tablet) and exposed to a radiation source rich in UV light. The exposed plate was treated with a negative developer, a lithographic plate finish and dried. Developers and finishes are those described in Examples 1-8 of U.S. Pat. No. 4,419,437.

印刷版の感圧性および貯蔵寿命は次のようにして測定し
た。印刷版の貯蔵寿命は、49℃で2週間温置(インキベ
ーション)した後のステップタブレットを使用した被覆
版のlog Eスピード変化量を、温置していない新しい印
刷版のスピードに比較して測定することによって求め
た。感圧性試験は、印刷版が非像領域からインクをはじ
く又は落とすスピードを測定し、版を印刷プレスの上に
載せることを含む。プレスは版が全体のインクチャージ
を像および非像領域の両方に受けるように始められる、
即ち緩和システム(dampening system)は適用されな
い。その後に緩和システムが適用され、印刷はインクが
非像領域から落ちるようになされる。この操作は5分間
保持で10回繰返される。報告された結果は、最後の1時
間11回目の保持から計算され、最初の20枚のシートから
得られる背景のインク密度測定から決定される。結果
は、商業的に利用されているKodak PolymaticTM Litho
Platesの性能に比較して報告される。
The pressure sensitivity and shelf life of the printing plate were measured as follows. The shelf life of the printing plate was determined by comparing the change in log E speed of the coated plate using a step tablet after incubation (incubation) at 49 ° C for 2 weeks with the speed of a new printing plate that was not incubated. It was determined by measuring. The pressure sensitivity test involves measuring the speed at which the printing plate repels or drops ink from the non-image areas and places the plate on a printing press. The press is started so that the plate receives the entire ink charge in both the image and non-image areas,
That is, no dampening system is applied. A mitigation system is then applied and the printing is made such that ink falls from the non-image areas. This operation is repeated 10 times with holding for 5 minutes. The results reported are calculated from the 11th hold for the last hour and are determined from background ink density measurements taken from the first 20 sheets. The results show the commercially available Kodak Polymatic TM Litho
Reported in comparison to Plates performance.

比較例Bは、比較例Aのシリケート化しない版に比較し
て感圧性において著しい改良を示している。しかし、比
較例Bの非露光放射線感光層は、支持体上に存在するシ
リケートとの反応のために層の不溶化を示し、版を使用
不能にし、現像剤によって除去できなかった。
Comparative Example B shows a significant improvement in pressure sensitivity over the non-silicated version of Comparative Example A. However, the unexposed radiation-sensitive layer of Comparative Example B showed insolubilization of the layer due to reaction with the silicate present on the support, rendering the plate useless and unable to be removed by the developer.

本発明の実施例1は、本発明の処理に賦した印刷版が改
良された感圧性と優れた版安定性を発揮することを示し
ている。
Example 1 of the present invention shows that the printing plate subjected to the process of the present invention exhibits improved pressure sensitivity and excellent plate stability.

実施例2〜3 浴温の効果 酢酸亜鉛浴の温度を次のようにした以外は、実施例1に
おけると同様にして印刷版を調製し、試験した。
Examples 2-3 Effects of bath temperature Printing plates were prepared and tested as in Example 1 except that the temperature of the zinc acetate bath was as follows.

この結果は、浴温が上昇すると安定性が改良されること
を示している。
The results show that increasing bath temperature improves stability.

実施例4〜8 浴濃度の効果 印刷版を49℃浴中に25秒間浸漬し、酢酸亜鉛浴の濃度を
次のように変えた他は実施例1におけると同様にして、
版を調製し試験した。
Examples 4 to 8 Effect of Bath Concentration The printing plate was immersed in a 49 ° C. bath for 25 seconds, and the concentration of the zinc acetate bath was changed as follows.
Plates were prepared and tested.

この結果は、貯蔵安定性が約2%の浴濃度で最大に達す
ることを示している。
The results show that storage stability reaches a maximum at bath concentrations of about 2%.

実施例9〜16 浴成分の効果 下記浴成分が、下記濃度、浴温および板浸漬時間で評価
した以外は、実施例1におけると同様にして、印刷版を
調製し試験した。
Examples 9 to 16 Effects of bath components A printing plate was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the following bath components were evaluated by the following concentrations, bath temperatures and plate immersion times.

実施例10および11の非露光放射線感光層は現像剤によっ
て除去できなかった。この結果は、塩化亜鉛は、安定性
を発揮するために酢酸亜鉛よりも高い浴温を必要とし、
酢酸亜鉛が版の安定性を改良する試剤としてその優れた
性能の観点から好ましい塩であることを示している。
The unexposed radiation-sensitive layers of Examples 10 and 11 could not be removed by the developer. The result is that zinc chloride requires a higher bath temperature than zinc acetate to exert stability,
It has been shown that zinc acetate is a preferable salt from the viewpoint of its excellent performance as a reagent for improving the stability of the plate.

実施例17 放射線感光層の効果 放射線感光組成物が米国特許第3,859,099号に記載され
たようなアルキルアクリレート、アクリロイルオキシア
ルキルキノンジアジド酸エステルおよびアクリロイルオ
キシアルキルカルボキシレート繰返し単位のポジ作用コ
ポリマーであった以外は、実施例1に記載されたように
して印刷版を調製した。シリケート化版を3.0%酢酸亜
鉛浴と60℃で28秒間接触させた。この実施例の印刷版を
適切に露光し、適切なリソグラフ現像剤および仕上剤を
使用して処理した。受け入れられ得る印刷版がこの方法
で提供された。
Example 17 Effect of Radiation Sensitive Layer Except that the radiation sensitive composition was a positive-acting copolymer of alkyl acrylate, acryloyloxyalkyl quinone diazide acid ester and acryloyloxyalkyl carboxylate repeat units as described in U.S. Pat. A printing plate was prepared as described in Example 1. The silicated plate was contacted with a 3.0% zinc acetate bath at 60 ° C for 28 seconds. The printing plate of this example was properly exposed and processed using the appropriate lithographic developer and finish. An acceptable printing plate was provided in this way.

本実施例に従って調製したがシリケート化しなかった印
刷版は受け入れられ得なかった。本実施例に従って調製
したが酢酸亜鉛処理に賦さなかったシリケート化版はい
くつかの取扱い條件下で使用できなかった。
A printing plate prepared according to this example but not silicated was unacceptable. The silicate version prepared according to this example but not subjected to the zinc acetate treatment could not be used under some handling conditions.

実施例18 陽極酸化電解液の効果 Anocoil Corporationによって供給されたアルミニウム
板をワイヤーブラシで研摩し、硫酸電解液中で陽極酸化
した。WesternによりWestern Wipe-on resinとして販売
されたジアゾ樹脂を陽極酸化板上に75mg/m2樹脂被覆量
になるように被覆した。溶液は水なしで被覆された。Ol
in 10G界面活性剤が被覆助剤として使用された。得られ
た印刷版を、14段階を有するステップタブレットを通し
て、ハロゲン化金属光源に露光した。露光した印刷版を
水道水を用いて処理した。可視像を提供するために印刷
版をラブアップインク(rub-up ink)で手でインクを付
け、洗浄し乾燥した。この印刷版は不安定性を示すイン
キュベーションの後、スピードゲインを得た。
Example 18 Effect of anodizing electrolyte An aluminum plate supplied by Anocoil Corporation was polished with a wire brush and anodized in sulfuric acid electrolyte. The diazo resin sold by Western as Western Wipe-on resin was coated on the anodized plate to a resin coverage of 75 mg / m 2 . The solution was coated without water. Ol
An in 10G surfactant was used as a coating aid. The resulting printing plate was exposed to a metal halide light source through a step tablet having 14 steps. The exposed printing plate was treated with tap water. The printing plate was hand inked with rub-up ink to provide a visible image, washed and dried. This printing plate gained speed gain after incubation showing instability.

上記のようにして陽極酸化したアルミニウム板を比較例
Bにおけるようにして、ケイ酸ソーダの溶液中に浸漬す
ることによってシリケート化した。この板を、本実施例
で上記したようにして被覆し、露光し、処理した。この
印刷版はジアゾ樹脂被覆材が非常に貧弱な安定性を示す
ので温置の後処理できなかった。
The aluminum plate anodized as described above was silicated as in Comparative Example B by immersion in a solution of sodium silicate. The plate was coated, exposed and processed as described above in this example. This printing plate could not be post-treated after incubation as the diazo resin coating showed very poor stability.

シリケート化段階に続いて実施例1におけるように酢酸
亜鉛溶液中で処理した以外は上記のようにしてAnocoil
アルミニウム印刷版を調製した。この印刷版は、温置の
後にほんの僅かにスピードゲインがあったが、温置の前
及び後できれいに処理され、非常に安定な印刷版である
ことを示した。
Anocoil as described above except that the silicate stage was followed by treatment in a zinc acetate solution as in Example 1.
An aluminum printing plate was prepared. The printing plate had very little speed gain after incubation, but was cleanly processed before and after incubation, indicating a very stable printing plate.

効 果 本明細書に記載した金属塩層からなるリソグラフ印刷板
が改良された感圧性と延長された貯蔵寿命を示すこと
は、本発明の有利な技術的効果である。
Effects It is an advantageous technical effect of the present invention that the lithographic printing plates comprising the metal salt layers described herein exhibit improved pressure sensitivity and extended shelf life.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−59897(JP,A) 特開 昭56−21126(JP,A) 特開 昭49−96803(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) Reference JP-A-59-59897 (JP, A) JP-A-56-21126 (JP, A) JP-A-49-96803 (JP, A)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】陽極層を有する陽極酸化アルミニウム板、
陽極層と接触するシリケート層およびシリケート層と接
触する金属塩層とを含んで成り、該金属塩が式MX(式
中、Mは亜鉛、マグネシウム、ニッケルおよびクロムか
らなる群から選ばれた金属であり、Xは酢酸塩、塩化物
および硼酸塩からなる群から選ばれたアニオンである)
を有することを特徴とするリソグラフ印刷版支持材料。
1. An anodized aluminum plate having an anode layer,
A silicate layer in contact with the anode layer and a metal salt layer in contact with the silicate layer, wherein the metal salt is of the formula MX, wherein M is a metal selected from the group consisting of zinc, magnesium, nickel and chromium. And X is an anion selected from the group consisting of acetate, chloride and borate)
A lithographic printing plate support material comprising:
【請求項2】放射線感光層と、陽極層を有する陽極酸化
アルミニウム板、陽極層と接触するシリケート層および
シリケート層と接触する金属塩層からなる支持材料を含
んで成り、該金属塩が式MX(式中、Mは亜鉛、マグネシ
ウム、ニッケルおよびクロムからなる群から選ばれた金
属であり、Xは酢酸塩、塩化物および硼酸塩からなる群
から選ばれたアニオンである)を有することを特徴とす
るリソグラフ印刷版。
2. A support material comprising a radiation-sensitive layer, an anodized aluminum plate having an anode layer, a silicate layer in contact with the anode layer and a metal salt layer in contact with the silicate layer, the metal salt having the formula MX. Wherein M is a metal selected from the group consisting of zinc, magnesium, nickel and chromium, and X is an anion selected from the group consisting of acetate, chloride and borate. And lithographic printing version.
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