JPS62229831A - パタ−ン検出装置 - Google Patents
パタ−ン検出装置Info
- Publication number
- JPS62229831A JPS62229831A JP60237229A JP23722985A JPS62229831A JP S62229831 A JPS62229831 A JP S62229831A JP 60237229 A JP60237229 A JP 60237229A JP 23722985 A JP23722985 A JP 23722985A JP S62229831 A JPS62229831 A JP S62229831A
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- Pending
Links
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はウェハ上に回路パターンを焼付ける露光装置に
おいて、マスクやウエノ１上のアライメントマークを検
出し、その位置を求める方法に関するものである。
おいて、マスクやウエノ１上のアライメントマークを検
出し、その位置を求める方法に関するものである。
特公昭５６−２２８４号公報に記載されているように、
従来のパターンの検出装置と対称性パターンマツチング
方法による検出波形の計算処理結果の一例を第４図及び
第５図に示す。第４図のパターン検出装置では（Ｂ）に
示すマスクのパターン４とウェハのパターン２の像を一
方向に圧縮しくＱに示すような波形を得て、そのパター
ン部分ニ着目し対称性のパターンマツチングを行い、第
５図（４）に示す原波形に対し、（Ｂ）に示すような波
形を求め、その値が最小となる位置をアライメントマー
クの中央と定めている。しかし、第４図（Ｂ）に示Ｔウ
ェハアライメントパターン２が粒状性である場合には、
検出値に大きな誤差を持つ。すなわぢ、第６図（イ）に
示す表面がシリコン（Ｓル）のウェハのように、！線７
’Ｚパターンでは問題はないが、■に示すように表面が
アルミニウム（Ａｔ）のように粒状性であるとパターン
は所々大きくうねっているように観測される。
従来のパターンの検出装置と対称性パターンマツチング
方法による検出波形の計算処理結果の一例を第４図及び
第５図に示す。第４図のパターン検出装置では（Ｂ）に
示すマスクのパターン４とウェハのパターン２の像を一
方向に圧縮しくＱに示すような波形を得て、そのパター
ン部分ニ着目し対称性のパターンマツチングを行い、第
５図（４）に示す原波形に対し、（Ｂ）に示すような波
形を求め、その値が最小となる位置をアライメントマー
クの中央と定めている。しかし、第４図（Ｂ）に示Ｔウ
ェハアライメントパターン２が粒状性である場合には、
検出値に大きな誤差を持つ。すなわぢ、第６図（イ）に
示す表面がシリコン（Ｓル）のウェハのように、！線７
’Ｚパターンでは問題はないが、■に示すように表面が
アルミニウム（Ａｔ）のように粒状性であるとパターン
は所々大きくうねっているように観測される。
したがって、このようにうねっている箇所も含め圧縮し
検出、又は圧縮しなくともうねった筒所を検出した場合
にはパターン中心に対し検出位置が大きくずれてしまう
ことがあった。
検出、又は圧縮しなくともうねった筒所を検出した場合
にはパターン中心に対し検出位置が大きくずれてしまう
ことがあった。
本発明の目的は、２次元で検出した粒状性のアライメン
トマークの検出画像から、アライメントマーク位置を高
精度にｍ識することが出来るパターン位置検出装置を提
供することにある。
トマークの検出画像から、アライメントマーク位置を高
精度にｍ識することが出来るパターン位置検出装置を提
供することにある。
本発明は、２次元イメージセンサで検出した粒状性のア
ライメントマークの２次元画像の各位置におけるマーク
の中心ご検出し、中心平均から大きくズした中心位置の
データな除き、中心平均からあるズレ幅に入っている画
像データについてのみを計算上圧縮すなわち画像データ
を圧縮平均し、その波形の中心を求める。粒状性表面の
ためにパターンが大きくうねっている部分のデータを除
き、直巌状の部分のみを用いて、マークの中心検出な行
い１マ一ク位置を高精度に認識することが出来ることを
特徴とするものである。
ライメントマークの２次元画像の各位置におけるマーク
の中心ご検出し、中心平均から大きくズした中心位置の
データな除き、中心平均からあるズレ幅に入っている画
像データについてのみを計算上圧縮すなわち画像データ
を圧縮平均し、その波形の中心を求める。粒状性表面の
ためにパターンが大きくうねっている部分のデータを除
き、直巌状の部分のみを用いて、マークの中心検出な行
い１マ一ク位置を高精度に認識することが出来ることを
特徴とするものである。
以下、本発明の一実施例ｒｒ：第１図〜第５ＦＸｉを用
いて説明Ｔる。
いて説明Ｔる。
第１図はＸｍａ光装置のマスクとウェハのアライメント
マークを検出する光学系の一実施例を示したもので、ウ
ェハ１上に形成されたアライメントマーク２とウェハ１
と数十Ｍｍの間１１（、ｄで対向したマスク３上のアラ
イメントマーク４を検出光学系５で検出する。検出光学
系５の構成は、光ファイバー６からの照明光は光学系７
により集光されビームスプリッタ８を通って対物レンズ
９に入光する。さらに対物レンズ９を通過した照明光は
マスク３の面、ウェハ１の面に照射される。マスク３ｉ
７ｊ、ウェハ１１１１Ｊから尺射した光はそれぞれのア
ライメントマーク２゜４の情報を含んでいる。この光は
再び対物レンズ９２通りビームスプリッタ８を通過して
、検出用２次元センサであるＴＶカメラ１０上に結像す
る。第２図は従来法により第６図（５）、（均の画像を
各マスクにつき処理した結果である。第２図囚は、第６
回置な処理したもので検出誤差程度のバラツキであるが
、第６図囚を処理した結果である第２図０は中心平均に
附し大きくズしているマスクがある。したがって中心位
置がある幅±Δよりも外にあるものを除いた波形を第３
図に示すように計算上で重ね合せ平均化し）その波形を
再び従来法で中心位置を検出する。
マークを検出する光学系の一実施例を示したもので、ウ
ェハ１上に形成されたアライメントマーク２とウェハ１
と数十Ｍｍの間１１（、ｄで対向したマスク３上のアラ
イメントマーク４を検出光学系５で検出する。検出光学
系５の構成は、光ファイバー６からの照明光は光学系７
により集光されビームスプリッタ８を通って対物レンズ
９に入光する。さらに対物レンズ９を通過した照明光は
マスク３の面、ウェハ１の面に照射される。マスク３ｉ
７ｊ、ウェハ１１１１Ｊから尺射した光はそれぞれのア
ライメントマーク２゜４の情報を含んでいる。この光は
再び対物レンズ９２通りビームスプリッタ８を通過して
、検出用２次元センサであるＴＶカメラ１０上に結像す
る。第２図は従来法により第６図（５）、（均の画像を
各マスクにつき処理した結果である。第２図囚は、第６
回置な処理したもので検出誤差程度のバラツキであるが
、第６図囚を処理した結果である第２図０は中心平均に
附し大きくズしているマスクがある。したがって中心位
置がある幅±Δよりも外にあるものを除いた波形を第３
図に示すように計算上で重ね合せ平均化し）その波形を
再び従来法で中心位置を検出する。
本実施例によれば、粒状性のパターンのように部分的に
うねっているようなパターンにおける中心位置を高精度
に検出できる効果がある。
うねっているようなパターンにおける中心位置を高精度
に検出できる効果がある。
以上説明したように本発明によれば、高精度なアライメ
ントマークの検出が出来るので、高集積回路形成が可能
となる効果がある。
ントマークの検出が出来るので、高集積回路形成が可能
となる効果がある。
第１図は本発明の一実施例の斜視＠１第２図は第１図の
画像の中心位置を求めた説明図、第３図は本発明のマツ
チング処理を示す説明図、第４図は従来のパターン検出
装置及び検出パターンと検出信号の説明図、第５図は従
来のバタある０ １・・・ウェハ ２・・・アライメントマーク ３・・・マスク ４・・・アライメントマーク ５・・・検出光学系 ６°°°光フアイバー ７・・・照明光学系 ８・・・ビームスプリッタ ９・・・対物レンズ １０・・・ＴＶカメラ １３・・・リニアセンサ
画像の中心位置を求めた説明図、第３図は本発明のマツ
チング処理を示す説明図、第４図は従来のパターン検出
装置及び検出パターンと検出信号の説明図、第５図は従
来のバタある０ １・・・ウェハ ２・・・アライメントマーク ３・・・マスク ４・・・アライメントマーク ５・・・検出光学系 ６°°°光フアイバー ７・・・照明光学系 ８・・・ビームスプリッタ ９・・・対物レンズ １０・・・ＴＶカメラ １３・・・リニアセンサ
Claims (1)
- １、粒状性パターンを２次元の撮像装置で撮影して得ら
れる映像信号から一次元の映像信号を取り出し、画像上
の各位置の中心を求め、その平均値からある値以上離れ
た信号を除く、映像信号からパターンの中心を求めるこ
とを特徴としたパターン検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60237229A JPS62229831A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | パタ−ン検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60237229A JPS62229831A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | パタ−ン検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62229831A true JPS62229831A (ja) | 1987-10-08 |
Family
ID=17012294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60237229A Pending JPS62229831A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | パタ−ン検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62229831A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102005025474B4 (de) * | 2004-06-03 | 2017-06-22 | Via Mechanics, Ltd. | Verfahren zur Bestimmung einer Position eines Bezugspunktes |
-
1985
- 1985-10-25 JP JP60237229A patent/JPS62229831A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102005025474B4 (de) * | 2004-06-03 | 2017-06-22 | Via Mechanics, Ltd. | Verfahren zur Bestimmung einer Position eines Bezugspunktes |
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