JPS62224581A - Grinding tape - Google Patents

Grinding tape

Info

Publication number
JPS62224581A
JPS62224581A JP6817786A JP6817786A JPS62224581A JP S62224581 A JPS62224581 A JP S62224581A JP 6817786 A JP6817786 A JP 6817786A JP 6817786 A JP6817786 A JP 6817786A JP S62224581 A JPS62224581 A JP S62224581A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
tape
abrasive
high viscosity
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6817786A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobutaka Yamaguchi
信隆 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP6817786A priority Critical patent/JPS62224581A/en
Publication of JPS62224581A publication Critical patent/JPS62224581A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To utilize always a same grinding performance by forming a high viscosity silicone on a surface of a supporting body on which a grinding layer is not formed, thereby improving frictional condition between the supporting body and a tape running mechanism. CONSTITUTION:A grinding layer 2 containing abrasive 3, binder and additives is applied on a surface 1a of a flexible supporting body 1 of a grinding tape 1. High viscosity silicone exists on the other surface 1b of the tape so that friction between the other surface 1b and running mechanism is stabilized and that instability of friction coefficient during running of the tape can be eliminated.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、磁気ヘッド等を研磨する際使用する研磨テー
プに関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a polishing tape used for polishing magnetic heads and the like.

(従来技術) ビデオ用あるいは高級オーディオ用磁気ヘッド等は、研
磨テープにより研磨仕上される。ヘッド表面は精密な研
磨が必要で、一般に、磁気ヘッドを所定の位置に配し、
この磁気ヘッドを挾む2つのリール間にrIII磨テー
プを走行さUて磁気ヘッドのテープ岡動面を平滑に仕上
げる。このような研磨テープは可撓性を有する支持体上
に、微細な粒子状の研磨剤と、結合剤(バインダ)と、
潤滑剤等を含む添加剤を塗着して研rN層を形成したも
のであり、可撓性を有しているので磁気ヘッドのテープ
摺動面(研磨面)の曲面形状になじんでこの面を研磨仕
上することができる。
(Prior Art) Magnetic heads for video or high-end audio are polished using an abrasive tape. The head surface requires precision polishing, and generally the magnetic head is placed in a predetermined position.
An rIII polishing tape is run between two reels sandwiching this magnetic head to smooth the tape drive surface of the magnetic head. Such an abrasive tape consists of a flexible support, a fine particle abrasive, a binder,
The polished rN layer is formed by coating additives containing lubricants, etc., and because it is flexible, it adapts to the curved shape of the tape sliding surface (polished surface) of the magnetic head. Can be finished by polishing.

しかし同一の研磨能力を右するはずの同一組成の研磨テ
ープにおいても、研磨性能にばらつきがみられる。例え
ば、テープのロフト毎、または、例えばテープの巻き始
め部分と巻き終り部分等−巻のテープ内でも部分により
、研磨性能に差があり、また渇g1等の使用環境等によ
っても、研磨テープの研磨性能に差異が生ずる。
However, even polishing tapes with the same composition, which are supposed to have the same polishing ability, show variations in polishing performance. For example, there are differences in polishing performance depending on the loft of the tape, or between the beginning and end of the tape roll, etc., and the polishing performance of the polishing tape also varies depending on the usage environment such as dry g1. Differences occur in polishing performance.

このような、研磨性能にばらつきのみられる研磨テープ
においてはヘッドの得率が悪く、またその都度研磨条件
を設定し直す必要があり、前述したように精密研磨を必
要とする磁気ヘッドのrtl’f 11!には不都合で
ある。したがって、このような不都合の生じイ【い安定
した研磨性能をもつ研磨テープが望まれている。
With such polishing tapes that show variations in polishing performance, the yield of heads is poor, and it is necessary to reset the polishing conditions each time.As mentioned above, the rtl'f of magnetic heads that require precision polishing is 11! It is inconvenient for Therefore, there is a need for an abrasive tape that does not cause such inconveniences and has stable abrasive performance.

〈発明の目的) 本発明は上記のような要望に応え、安定した研磨性能を
有する研磨テープを提供することを目的としたものであ
る。
<Object of the Invention> The present invention is intended to meet the above-mentioned demands and provide a polishing tape having stable polishing performance.

(発明の構成) 本発明による研磨テープは、可撓性支持体の、研磨層の
塗設されていない面上に、高粘度シリコーンが存在する
ことを特徴とする。
(Structure of the Invention) The polishing tape according to the present invention is characterized in that high-viscosity silicone is present on the surface of the flexible support that is not coated with the polishing layer.

すなわら、支持体上の一面に研磨層が塗設されてなる研
磨テープにおいて、前記支持体の他面である、研磨層の
塗設されていない面に、研磨テープの走行時、高粘度シ
リコーンを存在させることにより、この高粘度シリコー
ンが潤滑剤として働き、研磨テープの安定走行が可能と
なり、研磨能力が安定づるものである。
In other words, in an abrasive tape having an abrasive layer coated on one side of a support, the other side of the support, which is not coated with the abrasive layer, has a high viscosity when the abrasive tape runs. By the presence of silicone, this high viscosity silicone acts as a lubricant, allowing stable running of the polishing tape and stabilizing the polishing ability.

なお、前記高粘度シリコーンは、使用時に、前述した支
持体の他面に存在ずればよく、直接前記他面に塗布する
他に、研磨層に添加して、テープ取扱中(テープ巻回さ
れるものであるから)に研磨層から裏面にシリコーンが
転移するようにしてもよい。
The high viscosity silicone may be present on the other surface of the support during use, and instead of being applied directly to the other surface, it may be added to the polishing layer during tape handling (when the tape is wound). The silicone may be transferred from the polishing layer to the back surface.

なお、支持体の他面とは、支持体の研磨層の形成されて
いない側の面であり、いわゆる研磨テープ裏面側を意味
するものである。
Note that the other side of the support is the side of the support on which the polishing layer is not formed, and means the so-called back side of the polishing tape.

(実施態様) 以下、本発明の実IIAra+様について詳細に説明す
る。
(Embodiment) Hereinafter, the embodiment IIAra+ aspect of the present invention will be described in detail.

本発明による研磨テープは、テープ状をなし、図面にそ
の一部を示すように、可撓性支持体1と、この支持体1
の一部1aに塗設された研磨層2から構成される。この
研磨層2は、研磨剤3と結合剤等が混練されて形成され
たものである。
The polishing tape according to the present invention has a tape shape, and as partially shown in the drawing, includes a flexible support 1 and a flexible support 1.
The polishing layer 2 is coated on a portion 1a of the polishing layer 2. This polishing layer 2 is formed by kneading a polishing agent 3, a binder, etc.

巻回された研磨テープで磁気ヘッド4のテープ摺動面を
研磨する際は、磁気ヘッド4を挾む2つの位置に配され
たり−ル(図示されていない)の一方から他方へこの研
磨テープを定速で走行させ、磁気ヘッド4に研磨層2を
1習勤させる。このとき研M層2表面から突出した硬い
粒子状の研磨剤3により、磁気ヘッド4のテープ1習勤
而が平滑に研磨される。この研磨剤3はその目的に応じ
て粒子径を調節すればよく、例えば荒仕」二であれば1
6μTrL〜1μmrL程度、最終仕上であれば1μ7
FL〜0.1μTrL程度の粒子径とずればよい。
When polishing the tape sliding surface of the magnetic head 4 with a wound polishing tape, the polishing tape is placed at two positions sandwiching the magnetic head 4, and the polishing tape is moved from one side of a wheel (not shown) to the other. is run at a constant speed, and the magnetic head 4 is made to apply the polishing layer 2 once. At this time, the hard particulate abrasive 3 protruding from the surface of the polishing M layer 2 polishes the tape 1 of the magnetic head 4 smoothly. The particle size of this abrasive 3 may be adjusted depending on the purpose.
Approximately 6μTrL to 1μmrL, 1μ7 for final finish
It is sufficient if the particle diameter deviates from about FL to 0.1 μTrL.

また前記研磨剤3は、モース硬度6以上、さらにはモー
ス硬度8以上の硬い研磨剤が好ましい。
Further, the abrasive 3 is preferably a hard abrasive having a Mohs hardness of 6 or higher, more preferably a Mohs hardness of 8 or higher.

前記研磨剤3を結合させる結合剤には、研磨剤の保持力
J3よび分散性の^いものが必要とされる。
The binder for bonding the abrasive 3 is required to have a high retention force J3 and good dispersibility.

このような硬い研磨剤を含む研磨テープで精密研磨を行
なうには、研磨テープ使用時に安定した研磨能力が必要
となる。ずなわら、同一組成であるにもかかわらずテー
プのロフトにより研磨能力に差が生じたり、また例えば
テープの巻き始め部分と巻き終り部分で、研磨能力が異
なる等の、テープの部分による研磨能力の差異等が生ず
ると、精密研磨は不可能となる。このような研磨能力の
不安定性は、研磨テープ走行時、支持体1の他面1bと
テープ走行系等との1!J擦係数が不安定になり、被研
磨物と接触する研磨テープの張りが一定ではなくなりテ
ープ走行に悪影響を及ぼすことにより生ずるものである
In order to perform precision polishing with a polishing tape containing such a hard abrasive, stable polishing ability is required when using the polishing tape. However, the polishing ability may vary depending on the loft of the tape despite having the same composition, or the polishing ability may differ depending on the tape's part, for example, the polishing ability may differ between the beginning and end of the tape. If a difference occurs, precision polishing becomes impossible. Such instability in the polishing ability is due to the difference between the other surface 1b of the support 1 and the tape traveling system etc. when the polishing tape is running. This occurs because the J friction coefficient becomes unstable, and the tension of the polishing tape in contact with the object to be polished is no longer constant, which adversely affects tape running.

このため、研磨テープの支持体1の他面1bに潤滑作用
を有する高粘度シリコーンが存在するようにする。これ
により、前記他面1bと走行系等との摩擦が安定し走行
時の摩擦係数の不安定性を解消するこができる。
For this reason, high viscosity silicone having a lubricating effect is provided on the other surface 1b of the support 1 of the polishing tape. Thereby, the friction between the other surface 1b and the running system etc. becomes stable, and the instability of the friction coefficient during running can be eliminated.

高粘度シリコーンの栴造はポリシロキサンであり、詳細
には、直鎖状もしくは環状のジメチルポリシロキサン、
メチルフェニルポリシロキサン。
High viscosity silicone is polysiloxane, specifically linear or cyclic dimethylpolysiloxane,
Methylphenylpolysiloxane.

ジフェニルポリシロキサン、ジアルキルボリシロキサン
及びそれらの誘導体(変性品)で市る。
It is marketed as diphenylpolysiloxane, dialkylborisiloxane, and their derivatives (modified products).

粘度は、25℃において1万センデストークス(cst
)以上で、5万ヒンチストークス(cst )以上が好
ましく、更に10万〜100万センチストークス(cs
t)が好ましい。すなわちいわゆる水アメ状の粘度が好
ましく、低粘度であるど仮りに研磨層に添加剤として混
練した場合等に研磨層等の中での移行性が高く環境によ
り変化しやすく効果的ではない。このため、高粘度であ
る必要がある。
The viscosity is 10,000 centestokes (cst) at 25°C.
) or more, preferably 50,000 hinch stokes (cst) or more, and more preferably 100,000 to 1 million centistokes (cs
t) is preferred. That is, a so-called starch syrup-like viscosity is preferable, and even if the viscosity is low, if it is kneaded into the polishing layer as an additive, it will have a high migration property in the polishing layer, etc., and will easily change depending on the environment, making it ineffective. Therefore, it needs to have a high viscosity.

この高粘度シリコーンは、使用時にrIFl磨テーステ
ープ性支持体1の他面1b上に存在する必要がある。そ
の存在mは支持体上に5000*/m以下でよく、0.
1〜500IIg/Tdが好ましく、更に1〜1001
1117ゴが好ましい。また、研磨テープ使用時に他面
1b上に存在すればよいため、製造時テープを規定j法
にスリットしないバルクロールの状態において、前記高
粘度シリコーンを他面1b上に塗布し、その後スリット
する方法をとってもよく、またスリット後に、前記他面
1bに高粘度シリコーンを塗布するようにしてもよい。
This high viscosity silicone must be present on the other surface 1b of the rIFl tape-like support 1 during use. Its presence m may be 5000*/m or less on the support, and 0.
1 to 500 IIg/Td is preferable, and more preferably 1 to 1001
1117go is preferred. In addition, since it is only necessary that the polishing tape be present on the other side 1b when using the polishing tape, there is a method in which the high viscosity silicone is applied on the other side 1b and then slit in a bulk roll state in which the tape is not slit according to the prescribed J method during manufacturing. Alternatively, after slitting, high viscosity silicone may be applied to the other surface 1b.

さらに研磨層2中に添加剤として添加させる方法も可能
である。その際、添加量は研磨剤100部に対して5部
以下、好ましくは1.0部以下、更に0.005〜0.
5部が好ましい。
Furthermore, a method of adding it as an additive to the polishing layer 2 is also possible. At that time, the amount added is 5 parts or less, preferably 1.0 parts or less, and more preferably 0.005 to 0.0 parts per 100 parts of the abrasive.
5 parts is preferred.

また研磨層固形分総ff1100部に対しては5部以下
であるのが好ましい。この場合、研磨テープは製造後巻
回されるため、前記他面1bと、研S層2の表面とは、
巻回状態で密接している。したがって、研Pi層に混練
された高粘度シリコーンは、上面に浮き出し易い性質を
有するため、研磨層2の表面に高粘度シリコーンかにじ
み出し、この研磨層2の表面に接している支持体他面1
bに塗着されることになる。
Further, it is preferable that the amount is 5 parts or less with respect to the total solid content ff of the polishing layer of 1100 parts. In this case, since the polishing tape is wound after manufacturing, the other surface 1b and the surface of the polishing S layer 2 are
They are tightly wound together. Therefore, since the high viscosity silicone kneaded into the polishing layer 2 has a property that it tends to stand out on the upper surface, the high viscosity silicone oozes out onto the surface of the polishing layer 2, and the other surface of the support that is in contact with the surface of the polishing layer 2. 1
It will be applied to b.

したがうてこのように形成することによっても、前記他
面1bに直接塗布したのと同様の効果が得られる。
Therefore, by forming it in this way, the same effect as when directly applying it to the other surface 1b can be obtained.

高粘度シリコーンの具体例としては、KF96H−10
000,K F96H−500001K F96H−1
00000゜K F 961−1−500000. K
 F 96H−1000000<信越化学)、下5F4
51(1万cst 、 (3万cst 、 io万cs
t、30万cst )  (東芝シリコーン)等がある
A specific example of high viscosity silicone is KF96H-10
000,K F96H-500001K F96H-1
00000°K F 961-1-500000. K
F 96H-1000000<Shin-Etsu Chemical), Lower 5F4
51 (10,000 cst, (30,000 cst, io million cst)
t, 300,000 cst) (Toshiba Silicone), etc.

なお、シリコーンを研磨テープに使用することは公知で
あり、研磨剤A/研磨剤Bを300gシリコーン油(ジ
メチルポリシロキサン)2gが含まれているものがある
。(特開昭54−97408  実施例1、富士写真フ
ィルム)、シかしこれは、一般的な潤滑剤として使用さ
れたもので、添加量も潤滑剤としての必要mが添加され
ているものである。
It is known that silicone is used in polishing tapes, and some tapes contain 300 g of polishing agent A/polishing agent B and 2 g of silicone oil (dimethylpolysiloxane). (Unexamined Japanese Patent Publication No. 54-97408 Example 1, Fuji Photo Film) However, this was used as a general lubricant, and the amount added was the same as that required for a lubricant. be.

次に本発明の研磨テープの塗布液組成の実施例を説明す
る。
Next, examples of the composition of the coating liquid for the polishing tape of the present invention will be described.

実  施  例 (実施例1) 塗布液組成 研磨材α−ALzO3(サイズ16ミクロン)・・・・
・・ 300部 塩化ビニル−酢酸ビニル− ビニルアルコール共重合体  ・・・・・・ 55部ポ
リエステル・ポリオール     ・・・・・・ 35
部K F −961−1−500000・・・・・・ 
0,3部(ジメチルポリシロキサン、粘g、50万cs
t )酢酸n−ブチル          ・・・・・
・350部以上の組成で、ボールミルを使用し、分数し
た液を25ミクロン厚のポリエステルフィルム上に30
ミクロン厚に塗布した。その後1/2吋の研磨テープを
作製した。同様にして、合計10回の繰り返し試作を実
施した。なお重量部は全て固形分組成であられす。
Example (Example 1) Coating liquid composition Abrasive material α-ALzO3 (size 16 microns)...
300 parts Vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer 55 parts Polyester polyol 35
Department K F -961-1-500000...
0.3 parts (dimethylpolysiloxane, viscosity g, 500,000 cs
t) n-butyl acetate...
・With a composition of 350 parts or more, use a ball mill to spread the fractionated liquid onto a 25 micron thick polyester film.
It was applied to a micron thickness. Thereafter, a 1/2 inch polishing tape was prepared. In the same manner, trial production was repeated a total of 10 times. All parts by weight are based on solid content.

(実施例2) 実施例1においてシリコーンを除去してテープを形成し
た後、その支持体他面にシリコーンを80Ily/rt
tに塗布した。
(Example 2) After forming a tape by removing silicone in Example 1, silicone was applied to the other side of the support at 80 Ily/rt.
It was applied to t.

塗布液組成 研磨材α−ALzO3(サイズ16ミクロン)・・・・
・・ 300部 塩化ビニル−酢酸ビニル− ビニルアルコール共重合体  ・・・・・・ 55部ポ
リエステル・ポリオール     ・・・・・・ 35
部酢ln−ブチル          ・・・・・・3
50部他面に塗布 K  F  −968−500000 (ジメチルポリシロキサン、粘度50万cst )(比
較例1) 実施例1において、シリコーンを低粘度のものに変え、
他は同様にして研磨テープを作成した。
Coating liquid composition Abrasive material α-ALzO3 (size 16 microns)...
300 parts Vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer 55 parts Polyester polyol 35
Part vinegar ln-butyl...3
50 parts Coated on the other side K F -968-500000 (Dimethylpolysiloxane, viscosity 500,000 cst) (Comparative Example 1) In Example 1, the silicone was changed to a low viscosity one,
Other polishing tapes were prepared in the same manner.

研磨材α−A、L203  (サイズ16ミクロン)・
・・・・・ 300部 塩化ビニル−酢酸ビニル− ビニルアルコールjLffi合体  ・・・・・・ 5
5部ポリエステル・ポリオール     ・・・・・・
 35部K116− 100 (ジメチルポリシロキサン、粘度100cst )酢酸
n−ブチル          ・・・・・・350部
〈比較例2) 比較例1においてシリコーンを除去してテープを形成し
た後、その支持体他面にシリコーンを80■/TItk
:塗布した。
Abrasive material α-A, L203 (size 16 microns)・
...300 parts Vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol jLffi combination ...5
5 parts polyester polyol ・・・・・・
35 parts K116-100 (dimethylpolysiloxane, viscosity 100 cst) n-butyl acetate 350 parts (Comparative Example 2) After removing the silicone in Comparative Example 1 to form a tape, the other side of the support was Add silicone to 80■/TItk
: Applied.

塗布液組成 研磨材α−A9J2o3 (サイズ16ミクロン)・・
・・・・ 300部 塩化ビニル−酢酸ビニル− ビニルアルコール共重合体  ・・・・・・ 55部ポ
リエステル・ポリオール     ・・・・・・ 35
部酢酸ローブチル          ・・・・・・3
50部他面に塗布 KF96−100 (ジメチルポリシロキサン、粘度100cst )以上
の実施例1,2、比較例1,2の各研磨テープについて
摩擦係数のばらつぎと研磨能力のばらつきを調べその結
果を第1表に示した。
Coating liquid composition Abrasive material α-A9J2o3 (size 16 microns)...
...300 parts Vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer ...55 parts Polyester polyol ...35
Lobyl acetate...3
50 parts Coated on the other side KF96-100 (dimethylpolysiloxane, viscosity 100cst) For each of the polishing tapes of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, the variations in the coefficient of friction and the variations in polishing ability were investigated and the results were reported. It is shown in Table 1.

前記第1表において、摩擦係数のばらつきはステンレス
棒に対しての摩擦係数である。
In Table 1, the variation in friction coefficient is the friction coefficient with respect to the stainless steel rod.

また研磨能力のばらつきは、ビデオヘッドを研磨した時
のヘッド研磨缶[μ/min]の10本のばらつきを平
均値に対する%で表示したものである。
Further, the variation in polishing ability is the variation in 10 head polishing cans [μ/min] when video heads are polished, expressed as a percentage of the average value.

第1表により、本実施例においては摩擦係数のばらつき
も0.18〜0.20→0.02  0.18〜0.1
8→0.00と大変少なく、研磨能力のばらつきも比較
例に比べ大変少ないパーセンテージを示していることが
わかる。
According to Table 1, in this example, the variation in friction coefficient was also 0.18~0.20 → 0.02 0.18~0.1
8→0.00, and it can be seen that the variation in polishing ability is also a very small percentage compared to the comparative example.

〈発明の効果) 本発明による研磨テープは、支持体の研@層の形成され
ていない面に高粘度シリコーンを存在させたため、支持
体面上において、高粘度シリコーンが潤滑剤として作用
する。したがって、研磨テープ走行時、前記支持体面と
研磨テープ走行系専との摩擦状態が良好となり、同一組
成の研磨テープにおいては保存状態や使用環境に左右さ
れることなく常に同一の研磨性能を発揮することになる
<Effects of the Invention> Since the polishing tape according to the present invention has high viscosity silicone present on the surface of the support where the polishing layer is not formed, the high viscosity silicone acts as a lubricant on the support surface. Therefore, when the abrasive tape is running, the friction between the support surface and the abrasive tape running system is good, and abrasive tapes of the same composition always exhibit the same abrasive performance regardless of storage conditions or usage environment. It turns out.

このため、研磨テープのロット毎、あるいは同一のテー
プ内の部分によっての研磨性能のばらつきを防止するこ
とができ、研磨テープ及び被研磨物の繰り返し再現性が
向上する。また、このため、ヘッド得率が良くなり、研
磨効果もあがる。
Therefore, variations in polishing performance from lot to lot of polishing tape or from part to part within the same tape can be prevented, and repeatability of the polishing tape and the object to be polished is improved. Moreover, for this reason, the head yield is improved and the polishing effect is also improved.

また、高粘度のシリコーンを使用するので添加量が少な
くても大きな効果があがり効率がよい。
Moreover, since high viscosity silicone is used, even if the amount added is small, a large effect can be achieved and efficiency is high.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図面は、磁気ヘッドの研磨時における、本発明の一実施
態様による研磨テープの拡大図面である。 1・・・支   持   体   1a・・・−而1b
・・・他     面  2・・・研  @  層3・
・・研  磨  剤  4・・・磁気ヘッド(自発)手
続?mm調 書、事件の表示 特願昭61−68177号 2、発明の名称 研磨テープ 3、補正をする者 事件との関係     特許出願人 任 所   神奈川県南足柄市中沼210番地名 称 
   富士写真フィルム株式会社4、代理人 〒160東京都港区六本木5−2−1 はうらいやビル 7階 口(479) 2367(73
18)弁理士 柳 1)征 史 (ほか2名)5、補正
命令の日付   な  し 6、補正により増加する発明の数   な  し7、補
正の対象  明細書の「発明の詳細な説明」の欄8、補
正の内容 1)明細書第11頁第9行
The drawing is an enlarged view of a polishing tape according to an embodiment of the present invention during polishing of a magnetic head. 1...Support 1a...-and 1b
・・・Other surface 2...Ken @ layer 3・
...Abrasive 4...Magnetic head (voluntary) procedure? mm Record, Indication of the case, Patent Application No. 61-68177 2, Name of the invention Abrasive tape 3, Person making the amendment Relationship with the case Patent applicant Location 210 Nakanuma, Minamiashigara City, Kanagawa Prefecture Name Name
Fuji Photo Film Co., Ltd. 4, Agent Address: 7th Floor, Hauraiya Building, 5-2-1 Roppongi, Minato-ku, Tokyo 160 Exit (479) 2367 (73)
18) Patent attorney Yanagi 1) Seishi (and 2 others) 5. Date of amendment order None 6. Number of inventions increased by amendment None 7. Subject of amendment ``Detailed description of the invention'' column of the description 8. Contents of amendment 1) Specification, page 11, line 9

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 研磨剤、結合剤および添加剤を含む研磨層を可撓性支持
体の一面に塗設してなる研磨テープにおいて少なくとも
前記可撓性支持体の他面に高粘度シリコーンを存在させ
たことを特徴とする研磨テープ。
An abrasive tape comprising an abrasive layer containing an abrasive, a binder, and an additive coated on one side of a flexible support, characterized in that high-viscosity silicone is present on at least the other side of the flexible support. and polishing tape.
JP6817786A 1986-03-26 1986-03-26 Grinding tape Pending JPS62224581A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6817786A JPS62224581A (en) 1986-03-26 1986-03-26 Grinding tape

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6817786A JPS62224581A (en) 1986-03-26 1986-03-26 Grinding tape

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62224581A true JPS62224581A (en) 1987-10-02

Family

ID=13366230

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6817786A Pending JPS62224581A (en) 1986-03-26 1986-03-26 Grinding tape

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62224581A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0737549A2 (en) * 1995-04-10 1996-10-16 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Abrasive tape, process for producing it, and coating agent for abrasive tape

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0737549A2 (en) * 1995-04-10 1996-10-16 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Abrasive tape, process for producing it, and coating agent for abrasive tape
EP0737549A3 (en) * 1995-04-10 1997-07-23 Dainippon Printing Co Ltd Abrasive tape, process for producing it, and coating agent for abrasive tape
US6165061A (en) * 1995-04-10 2000-12-26 Dai Nippon Printing Co. Abrasive tape, process for producing it, and coating agent for abrasive tape
US6398826B1 (en) 1995-04-10 2002-06-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Abrasive tape, process for producing it, and coating agent for abrasive tape
EP1250983A1 (en) * 1995-04-10 2002-10-23 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Abrasive tape

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Briscoe et al. Lubrication of polythene by oleamide and stearamide
JPS62224581A (en) Grinding tape
JPH0373274A (en) Polishing tape
JPS62200527A (en) Magnetic recording medium
JPS6338769B2 (en)
JPS62241672A (en) Abrasive tape and manufacture thereof
JPS6222173B2 (en)
JPH0696227B2 (en) Polishing tape
JPS595421A (en) Magnetic recording medium
JPS6294270A (en) Abrasive tape
JPS6338770B2 (en)
JPS59201218A (en) Magnetic recording medium
JPS61273734A (en) Magnetic recording medium
JPS6124017A (en) Magnetic recording medium
JPS59152524A (en) Magnetic recording medium
JPS61276119A (en) Magnetic recording medium
JPS6357175A (en) Abrasive tape
JPH0248978B2 (en)
JPS62195711A (en) Cleaning tape having lubricating agent replenishing part
JPS62107953A (en) Polishing tape
JPS62224579A (en) Grinding tape
JPS57143732A (en) Magnetic recording medium
JPS6177136A (en) Magnetic recording medium
JPS58164026A (en) Magnetic recording medium
JPS63185577A (en) Polishing tape