JPS62223960A - Potential contrast image device of stroboscopic method - Google Patents

Potential contrast image device of stroboscopic method

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JPS62223960A
JPS62223960A JP61065707A JP6570786A JPS62223960A JP S62223960 A JPS62223960 A JP S62223960A JP 61065707 A JP61065707 A JP 61065707A JP 6570786 A JP6570786 A JP 6570786A JP S62223960 A JPS62223960 A JP S62223960A
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pattern
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Abstract

PURPOSE:To observe a stroboscopic image continuously without losing the contrast, by preparing two sets of voltage patterns to drive the sample, converting the two patterns alternatively synchronously to the scanning of electron beams, and displaying selectively only the image responding to one side of the two input voltage patterns. CONSTITUTION:A sample (IC) 10 is driven by a driving power source 11. A trigger output signal generated from the driving power source 11 in every cycle of the driving pulse pattern receives a delay at a phase adjustor 5 controlled by a control computer 18, and inputs to a pulse oscillator 12. The electron beams are scanned two-dimenally by a scanning coil 8 driven by a scanning power source 14. The secondary electrons produced from the sample are stored in an image memory 15 through an energy analyzer 13, a detector 9, and an amplifier 17, and the contents are displayed on a CRT 16. The control computer 18 receives a vertical synchronous signal from the scanning power source 14, makes the output driving pulse pattern of the power source 11 into a potential contrast pattern of the same phase, and prohibits to write the image memory 15 alternatively in every one frame.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、走査形電子顕微鏡などの荷電ビームを用いて
、試料上の電位の二次元分布像のallを行う、ストロ
ボ方式の電位コントラスト像装置に関する。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention is a strobe-type potential contrast image that performs all two-dimensional distribution images of potential on a sample using a charged beam of a scanning electron microscope or the like. Regarding equipment.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第2図は、を子ビームをパルス化し、電圧波形の測定と
、電圧波形の特定の位相点における二次元の電位分布像
の観察を行うストロボ走査路電子顕微鏡の基本構成図で
ある。1子銃1から射出された電子ビーム2を電子レン
ズ6を用いて試料10上に集束し、゛かつ走査コイル8
を用いて試料10を電子ビーム2で二次元走査する。f
fi子ビーム2の照射により試料10から放出される二
次電子を検出器9で検出し、デスプレイ装置7上に試料
像を表示するのが5走査形電子顕微鏡の原理である。と
ころが、この方法で高速に変化する試料をa察すると、
走査コイル8による電子ビームの走査速度が試料の変化
速度に追従できず、全変化が重複して表示されてしまう
。そこで試料変化を与えている駆動電源11と同期した
パルスゲート(偏向板3とアパーチャ4との組合せ)を
付加する。このような構成にすると、試料上を走査する
電子ビームを゛、゛試料変化のある一定の位相のときに
のみ照射するように制御でき、その照射の瞬間の試料状
態のみを検出できる。第3図でこれを説明する。同図(
A)のIC(集積回路)の入力に第3図(B)に示す周
期Tの入力電圧波形をくり返し与えたとき、集積回路中
のパターンA、Hの電圧が第3図(B)に示すように変
化するものとする。前述のパルスゲートを、入力電圧の
開始点から時間1工だけ遅れて瞬間的に開くようにして
これをくり返せば、同図a点の位相での情報のみを検出
することができる。電子ビームの照射により試料から放
出される二次電子の有するエネルギー分布は、試料の電
位によって変化するので、第2図の検出器9と試料10
の間に、エネルギーアナライザ13をおくことにより、
検出される二次電子の量と、試料電位を対応づけること
ができる(特公昭47−51024号参照)。このスト
ロボ走査電子m微鏡の主な使い方のひとつは、第3図C
B)において、時間t1を固定しておいて、電子ビーム
を試料上で二次元走査して試料像をwt察する方法で、
像のコントラストは像中の各部分の電圧に依存するので
、第3図(B)のa点の位相における電位分布像となる
。この例では、パターンAの電位は一5v、パターンB
の電位は+5vなので、得られる画像は同図(C)のよ
うにパターンAが明るく、パターンBが暗<m祭される
。また、入力電圧の開始点からパルスゲートまでの遅延
時間を同図(B)のt2とすれば、このときの電位分布
像は同図のb点の位相に対応するので、同図(c)とは
逆にパターンBが明るく観察される。
FIG. 2 is a basic configuration diagram of a strobe scanning path electron microscope that pulses a beam, measures a voltage waveform, and observes a two-dimensional potential distribution image at a specific phase point of the voltage waveform. An electron beam 2 emitted from a sub-gun 1 is focused onto a sample 10 using an electron lens 6, and a scanning coil 8
The sample 10 is two-dimensionally scanned with the electron beam 2 using the . f
The principle of the 5-scanning electron microscope is that a detector 9 detects secondary electrons emitted from a sample 10 by irradiation with the fi-son beam 2, and displays an image of the sample on a display device 7. However, when using this method to observe a sample that changes rapidly,
The scanning speed of the electron beam by the scanning coil 8 cannot follow the changing speed of the sample, and all changes are displayed overlappingly. Therefore, a pulse gate (combination of deflection plate 3 and aperture 4) synchronized with the drive power source 11 that changes the sample is added. With this configuration, it is possible to control the electron beam scanning the sample so that it is irradiated only when the sample is in a certain phase of change, and it is possible to detect only the state of the sample at the moment of irradiation. This will be explained in FIG. Same figure (
When the input voltage waveform of period T shown in Figure 3 (B) is repeatedly applied to the input of the IC (integrated circuit) in A), the voltages of patterns A and H in the integrated circuit are shown in Figure 3 (B). It shall change as follows. If the aforementioned pulse gate is opened instantaneously with a delay of one time from the starting point of the input voltage and this is repeated, only information at the phase at point a in the figure can be detected. The energy distribution of secondary electrons emitted from a sample by electron beam irradiation changes depending on the potential of the sample.
By placing the energy analyzer 13 between
The amount of secondary electrons detected can be correlated with the sample potential (see Japanese Patent Publication No. 47-51024). One of the main uses of this strobe scanning electron microscope is as shown in Figure 3C.
In B), the time t1 is fixed, the electron beam is scanned two-dimensionally over the sample, and the sample image is observed wt.
Since the contrast of the image depends on the voltage of each part in the image, it becomes a potential distribution image at the phase of point a in FIG. 3(B). In this example, the potential of pattern A is -5V, and the potential of pattern B
Since the potential of is +5V, the resulting image has pattern A as bright and pattern B as dark, as shown in FIG. Also, if the delay time from the start point of the input voltage to the pulse gate is t2 in the same figure (B), the potential distribution image at this time corresponds to the phase of point b in the same figure, so the figure (c) On the contrary, pattern B is observed brightly.

この方法は一般にストロボ像モードと呼ばれ、試料電位
の測定精度は低いが、広い領域にわたる回路パターンの
概略電位を知ることができるので。
This method is generally called the strobe image mode, and although the measurement accuracy of the sample potential is low, it is possible to determine the approximate potential of the circuit pattern over a wide area.

回路断線などの不良の解析に特に有効である。他の方法
は、電子ビームは例えば第3図(A)のパターンA上の
一点に固定しておいて、同図(B)の時間tl をOか
らTまで変化させるもので、パターンAの電位波形を測
定することができる。
This is particularly effective for analyzing defects such as circuit breaks. Another method is to fix the electron beam, for example, at one point on pattern A in FIG. 3(A), and vary the time tl from O to T in FIG. Waveforms can be measured.

(日経エレクトロニクス、 1982年3月15日号。(Nikkei Electronics, March 15, 1982 issue.

pp172〜201参照)この方法は一般的に波形測定
モードと呼ばれる。
(See pp. 172-201) This method is generally called waveform measurement mode.

ところで、このストロボ走査電子顕微鏡の測定対象は主
にI C,(半導体集積回路)であるが、ICは多くの
場合、汚れや湿気を防ぐために、パッシベーションと呼
ばれる絶縁膜が被覆されている。この場合、パッシベー
ション膜は電子ビームとIC内の金属電極との間に介在
するので1等価的にコンデンサとして作用する。このコ
ンデンサの介在により、前述の波形測定モードでは、測
定結果が、等価静電容量と、入射電子ビームと放出され
る二次電子との差の電流(リーク電流)とで決まる時定
数をもつ微分波形となることが知られており〔スキャン
ニングエレクトロンマイクロスコピ、 1983. V
o 1.2 561頁から568頁(Scanning
 Electron Microscopy、 198
3゜Vol、2.pp561〜568)参照〕、またス
トロボ像モードでは、時間と共に電位コントラストが消
滅していくことが知られている。この現像は、次のよう
に説明される。第4@は、第3図(A)の2本のパター
ンの実際の電圧波形A、 Bと、パッシベーション膜を
介して検出される電圧波形A’ 、B’ とを示すもの
である。この例では、同図中のa点のタイミングで電子
ビームを照射しており、電子ビームの照射によりリーク
電流が生じて振巾が減少し、電子ビーム照射時点でのA
′とB′の電位差は次第に減少して、パターンAとBの
コントラスト差が無くなってしまう、この問題に対処し
得−る方法のひとつとして、電子ビームの走査と同期し
て、入力電圧波形に対する。il!子ビーム照射点の位
相を、第1と第2の2つの値に交互に切換え、第1の位
相で電子ビームを照射しているときのみ像を表示できる
ようにし、かつ、第2の位相としては、第1の位相に対
して、試料内の観察しようとする部分の電位が反転して
いる位相を選ぶ方法が報告されている。〔日本学術振興
会第132委員会第82回研究会資料、57゜10.2
5.14頁から19頁〕これは、電圧の急峻な変化は、
静電容量を介して減衰しないで電子ビーム側に伝達され
るためである。第4図A#。
Incidentally, the objects to be measured by this strobe scanning electron microscope are mainly ICs (semiconductor integrated circuits), and in many cases, ICs are coated with an insulating film called passivation to prevent dirt and moisture. In this case, the passivation film is interposed between the electron beam and the metal electrode within the IC, so it functions equivalently as a capacitor. Due to the intervention of this capacitor, in the waveform measurement mode described above, the measurement result is a derivative with a time constant determined by the equivalent capacitance and the current (leakage current) that is the difference between the incident electron beam and the emitted secondary electrons. It is known that the waveform [Scanning Electron Microscopy, 1983. V
o 1.2 Pages 561 to 568 (Scanning
Electron Microscopy, 198
3゜Vol, 2. pp. 561-568)], and it is known that in the strobe image mode, the potential contrast disappears over time. This development is explained as follows. 4 shows actual voltage waveforms A and B of the two patterns in FIG. 3(A) and voltage waveforms A' and B' detected through the passivation film. In this example, the electron beam is irradiated at the timing of point a in the figure, and the electron beam irradiation generates a leakage current and the amplitude decreases, causing the A at the time of electron beam irradiation.
The potential difference between ' and B' gradually decreases, and the contrast difference between patterns A and B disappears. One way to deal with this problem is to synchronize with the scanning of the electron beam to . Il! The phase of the child beam irradiation point is alternately switched between two values, first and second, so that an image can be displayed only when the electron beam is irradiated in the first phase, and as the second phase. reported a method of selecting a phase in which the potential of the part to be observed in the sample is inverted with respect to the first phase. [Materials from the 82nd meeting of the 132nd Committee of the Japan Society for the Promotion of Science, 57°10.2
5. Pages 14 to 19] This means that a sudden change in voltage is
This is because it is transmitted to the electron beam side without being attenuated via capacitance. Figure 4 A#.

B′の波形はこれを示すもので、電子ビームはa点とb
点とに交互に位相をかえて照射されるために、全体とし
て電位コントラストは減衰しないで保存される。
The waveform B' shows this, and the electron beam has two points: a and b.
Since the points are irradiated with alternating phases, the potential contrast as a whole is preserved without attenuation.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかし、かかる手法によれば、amしようとする位相点
を変えるごとに、これと電位が反転している位相点をそ
の都合さがして設定しなければならず、大規模なICで
、十数本の入力電圧パターンを与えて駆動するような場
合にはいっそう難しくなる。
However, according to this method, each time the phase point to be amned is changed, a phase point whose potential is inverted from this point must be set according to the convenience, and a large-scale IC requires more than ten points. This becomes even more difficult when driving with an input voltage pattern of

本発明の目的は前述の問題を解決し、コントラストの消
滅なしに、ストロボ像観察を継続して行うことのできる
ストロボ方式の電位コントラスト像装置を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and provide a strobe-type potential contrast imaging device that allows continuous strobe image observation without loss of contrast.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

前述したように、試料内で電位の反転している時に交互
に電子ビームを照射することによりコントラスト消滅を
防ぐことができるので、これを。
As mentioned above, contrast disappearance can be prevented by alternately irradiating the electron beam when the potential in the sample is reversed.

電子ビームの照射位相を変えるのでなく、ひとつの位相
において、試料的電位が反転するように、入力電圧波形
を交互に組み変えることで、さらに容易かつ、適用範囲
を広げて実現することができる。
Instead of changing the irradiation phase of the electron beam, by alternating the input voltage waveforms so that the sample potential is reversed in one phase, this can be realized more easily and with a wider range of applications.

〔作用〕[Effect]

そこで、試料を駆動する入力電圧パターンを、2通り用
意し、電子ビームの走査と同期してこの2つのパターン
を交互に切換え、かつ2つの入力電圧パターンの一方に
対応する画像のみを選択的に表示できるようにする。
Therefore, we prepared two types of input voltage patterns to drive the sample, switched these two patterns alternately in synchronization with the scanning of the electron beam, and selectively displayed only the image corresponding to one of the two input voltage patterns. Make it visible.

〔実施例〕〔Example〕

第5図は本発明の一実施例である。試料10はICで、
駆動電源11で駆動される。駆動電源11から駆動パル
スパターンの1周期毎に発生するトリガ出力信号は、制
御計算機18で制御される位相調整器5で遅延(位相設
定)を受け、電子ビームをパルス化するパルス発振器1
2に入力される。電子ビームはまた、走査電源14で駆
動される走査コイル8により二次元的に走査される。
FIG. 5 shows an embodiment of the present invention. Sample 10 is an IC,
It is driven by a drive power source 11. A trigger output signal generated from the drive power supply 11 for each cycle of the drive pulse pattern is delayed (phase set) by a phase adjuster 5 controlled by a control computer 18, and then sent to a pulse oscillator 1 that pulses the electron beam.
2 is input. The electron beam is also two-dimensionally scanned by a scanning coil 8 driven by a scanning power source 14.

試料から発生した二次元電子は、エネルギーアナライザ
13を通して検出器9で検出され、増巾器17を介して
画像メモリ15に記憶され、該画像メモリの内容は読み
出されてD/A変換器を介してCRTle上に表示され
る。制御計算器18は走査電源14から、垂直同期信号
を受けとって。
Two-dimensional electrons generated from the sample are detected by the detector 9 through the energy analyzer 13, and stored in the image memory 15 through the amplifier 17, and the contents of the image memory are read out and sent to the D/A converter. It is displayed on the CRTL via. The control calculator 18 receives a vertical synchronization signal from the scanning power supply 14.

駆動電源11の出力駆動パルスパターンを、第2のパタ
ーンに組みかえ、さらに次の垂直同期信号で元のパター
ンに戻す、これをくり返せば、1フレーム走査ごとに、
試料10は、異なる駆動パルスパターンで駆動され、得
られる像信号は、異なる駆動パルスパターンの、同一位
相(遅延時間)での電位コントラスト像となる。このま
までは異なる2つの像が交互に表示されてしまうので、
制御計算器18は駆動パルスパターンの組みかえと同時
に画像メモリ15を、1フレームごとに交互に書き込み
禁止の状態にし、電位コントラスト回復を目的とする前
記第2のパターンのときには。
The output drive pulse pattern of the drive power supply 11 is rearranged into the second pattern, and then returned to the original pattern with the next vertical synchronization signal.If this is repeated, for each frame scan,
The sample 10 is driven with different drive pulse patterns, and the obtained image signals are potential contrast images of the different drive pulse patterns at the same phase (delay time). If this continues, two different images will be displayed alternately, so
At the same time as the drive pulse pattern is rearranged, the control calculator 18 alternately puts the image memory 15 in a write-inhibited state for each frame, and when the second pattern is used for the purpose of recovering potential contrast.

電子ビームは照射されるけれども表示画像は前記の元の
パターンのときの像が保たれるように制御する。2つの
駆動パルスパターンは、次のように決める。第1のパタ
ーンは、本来試料とするICを駆動するパターンとし、
第2のパターンは、できるだけ広い位相範囲において、
試料的電位が、第1のパターンで駆動したときと反転す
るように決める。試料とするIC内部の各ノードの、入
力パルスパターンに対応した電位変化はそのICの設計
シミュレーションで予測されているので、この作業は可
能である。駆動電源11としては、数チャンネル−数十
チャンネルの出力線に、数百から数千ステップのパター
ンを発生する装置が市販されており、これを用いること
ができる。この種の装置は、コンピュータプログラムで
自由にパターンを組むことができるようになっており、
これを前記の制御計算器18で制御する。また、1フレ
ーム走査ごとにパターンを組みかえるかわりに。
Although the electron beam is irradiated, the displayed image is controlled so that the image of the original pattern is maintained. The two drive pulse patterns are determined as follows. The first pattern is a pattern that originally drives the IC that is the sample,
The second pattern is as wide as possible in the phase range,
The sample potential is determined to be inverted from that when driven in the first pattern. This work is possible because the potential change corresponding to the input pulse pattern at each node inside the sample IC is predicted by the design simulation of that IC. As the driving power source 11, there is a commercially available device that generates a pattern of several hundred to several thousand steps on output lines of several channels to several tens of channels, and this can be used. This type of device allows you to freely create patterns using a computer program.
This is controlled by the control calculator 18 mentioned above. Also, instead of rearranging the pattern every frame scan.

あらかじめ第1と第2の駆動パターンを続けて組み込ん
でおき、トリガ出力信号の発生点を交互に第1のパター
ンの開始点と、第2のパターンの開始点とに設定するよ
うにすれば、一層容易に制御することができる。
If the first and second drive patterns are installed in succession in advance and the trigger output signal generation points are set alternately at the start point of the first pattern and the start point of the second pattern, It can be controlled more easily.

第1図にその一例を示す。これは、同図(C)に示すよ
うに簡単なりタイプフリップフロップICを駆動してい
る例で、同図(A)、(B)とも最上段の波形が、駆動
電源の内部クロックで。
An example is shown in FIG. This is an example of driving a simple type flip-flop IC as shown in figure (C), and the top waveform in both figures (A) and (B) is the internal clock of the driving power supply.

その出力を1クロツクごとにプログラムできる。Its output can be programmed every clock.

クロック入力とデータ入力波形が、駆動電源の出力で、
フリップフロップICは、クロック入力の立上がりエッ
チで、データ入力に従って2つのコンプリメンタリ−出
力Q、Q出力が変化する。同図(A)の駆動パルスパタ
ーンを第1の、同図(B)のこれを第2のパターンとし
て、交互に駆動させた場合、IC内部では、データ入力
線と、Q、Q出力線はすべての位相において、又クロッ
ク入力線は内部クロック4,5,12.13を除いて、
互いに電位が反転するので、前述のコントラスト消滅防
止効果をあげることができる。
The clock input and data input waveforms are the output of the driving power supply,
In the flip-flop IC, two complementary outputs Q and Q output change according to the data input at the rising edge of the clock input. When driving alternately using the drive pulse pattern shown in FIG. 5A as the first pattern and the drive pulse pattern shown in FIG. In all phases, and the clock input lines except for internal clocks 4, 5, 12.13,
Since the potentials are reversed, the above-mentioned contrast loss prevention effect can be achieved.

以上述べたように1本発明の実施例によれば、パッシベ
ーション膜を被ったICの電位コントラスト像観察で問
題になっていたコントラスト消失の問題を解決できる。
As described above, according to one embodiment of the present invention, it is possible to solve the problem of contrast loss that has been a problem in observing potential contrast images of an IC covered with a passivation film.

この種の装置を用いてICの動作解析あるいは不良解析
を行うにあたって、パッシベーション膜を除去しなけれ
ばならないということは、単に手間がかかるだけでなく
When analyzing the operation or failure of an IC using this type of device, the need to remove the passivation film is not only time-consuming.

ICそのものを破損してしまう危険がつきまとうために
、非常に大きな制約になっている0本発明の実施例はこ
れを解決することで、ICの解析に大きく役立つもので
ある。
Since there is a risk of damaging the IC itself, this is a very big constraint.By solving this problem, the embodiments of the present invention are of great help in IC analysis.

尚、本発明の実施例では、1フレーム走査ごとに切換え
を行っているが、水平走査線の1本ごとにこれを行って
もよい。また1画像メモリを用いないで、直接第5図の
増巾器17の出力をCRTt6の輝度変調信号として用
い、第2のパターンで駆動しているフレームは、CRT
16をブランキングするようにしても、同様に目的を達
することができる。
In the embodiment of the present invention, switching is performed for each frame scan, but it may be performed for each horizontal scanning line. Furthermore, without using one image memory, the output of the amplifier 17 shown in FIG.
Even if 16 is blanked, the purpose can be similarly achieved.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、前述した従来の問題を解決し、コント
ラストの消滅なしに、ストロボ像観察を継続して行うこ
とができる。
According to the present invention, the above-described conventional problems can be solved and strobe image observation can be continued without loss of contrast.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例の、パルスパターンの例、第
2図はストロボ走査形電子顕微鏡の基本構成図、第3図
配ストロボ方式の電位コントラスト像を説明する図、第
4図は従来例の原理を示す図、第5図は本発明の一実施
例を示す構成図である。 1・・・電子銃、2・・・電子ビーム、3・・・偏向板
、4・・・アパーチャ、5・・・位相1+1111器、
6・・・電子レンズ。 7・・・ディスプレイ装置、8・・・走査コイル、9・
・・検出器、10・・・試料、11・・・駆動電源、1
2・・・パルス発振器、13・・・エネルギーアナライ
ザ、14・・・走査電源、15・・・画像メモリ、16
・・・CRT、17・・・増巾器、18・・・制御計算
器。
Fig. 1 is an example of a pulse pattern according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a basic configuration diagram of a strobe scanning electron microscope, Fig. 3 is a diagram explaining a potential contrast image of the strobe method, and Fig. 4 is a diagram illustrating a potential contrast image of a strobe type scanning electron microscope. A diagram showing the principle of a conventional example, and FIG. 5 is a configuration diagram showing an embodiment of the present invention. 1... Electron gun, 2... Electron beam, 3... Deflection plate, 4... Aperture, 5... Phase 1+1111 device,
6...electronic lens. 7...Display device, 8...Scanning coil, 9.
...Detector, 10...Sample, 11...Drive power supply, 1
2... Pulse oscillator, 13... Energy analyzer, 14... Scanning power supply, 15... Image memory, 16
. . . CRT, 17 . . . Amplifier, 18 . . . Control calculator.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、試料をくり返し周期を有するパルスパターン電圧で
駆動しておき、該パルスパターン電圧と任意の位相差を
もつて同期したパルス状の荷電ビームでもつて前記試料
上を二次元走査することにより前記任意の位相における
電位コントラスト像を得るストロボ方式の電位コントラ
スト像装置において、前記パルスパターン電圧を、前記
荷電ビームの走査と同期して、2つの異なるパターンの
間で交互に切換えると共に、該2つのパターンの一方で
試料が駆動されている時の電位コントラスト像のみを選
択して表示可能としたことを特徴とするストロボ方式の
電位コントラスト像装置。
1. The sample is driven with a pulse pattern voltage having a repeating period, and the sample is two-dimensionally scanned with a pulsed charged beam synchronized with the pulse pattern voltage with an arbitrary phase difference. In a strobe-type potential contrast imaging device that obtains a potential contrast image at a phase of , the pulse pattern voltage is alternately switched between two different patterns in synchronization with the scanning of the charged beam, and On the other hand, a strobe type potential contrast imaging device is characterized in that it is possible to select and display only a potential contrast image when a sample is being driven.
JP61065707A 1986-03-26 1986-03-26 Sample potential contrast image observation device Expired - Lifetime JPH0644473B2 (en)

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Cited By (1)

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