JPS6222357A - Shadow mask - Google Patents
Shadow maskInfo
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- JPS6222357A JPS6222357A JP16085585A JP16085585A JPS6222357A JP S6222357 A JPS6222357 A JP S6222357A JP 16085585 A JP16085585 A JP 16085585A JP 16085585 A JP16085585 A JP 16085585A JP S6222357 A JPS6222357 A JP S6222357A
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- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、動作中の熱変形を少なくしたシャドウマス
クに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a shadow mask that reduces thermal deformation during operation.
まず、第2図を参照してカラー陰極線管(1)の構造を
簡単に説明する。カラー陰極線管(1)は通常、内面が
球面をなすバネ/L’ (21とこの内面に設けられ九
螢光面(3)と、バネlv+21に接続されたほぼ錐体
形状をなすファンネN(4)と、これに接続、されたパ
イプ状のネック部(5)と、その内部にと9つけられた
複数本(通常3本)の通常−列に配置された電子銃(6
)と、螢光面(3)の内側に適当な距シはなれて対向す
るように配設されているVヤドウマスク+1(11とで
構成されている。なお、シャドウマスク(1■を陰極線
管(1)内に保持する機構の説明および図を省略する。First, the structure of the color cathode ray tube (1) will be briefly explained with reference to FIG. A color cathode ray tube (1) usually has a spring /L' (21) having a spherical inner surface, a nine fluorescent surface (3) provided on this inner surface, and a funnel N(21) having an approximately conical shape connected to the spring lv+21. 4), a pipe-shaped neck part (5) connected to this, and a plurality (usually 3) of electron guns (usually 3) arranged in a row inside the neck part (5).
) and a V-yado mask +1 (11), which are arranged to face each other at a suitable distance inside the fluorescent surface (3). 1) Explanation and diagrams of the mechanism held within are omitted.
周知のように、シャドウマスクを有するカラー陰極線管
を動作させると、電子ビームの一部分が′Vヤドウマス
クに形成されている透孔を通シ抜けて螢光面に射突し、
これを発光させるとともに。As is well known, when a color cathode ray tube with a shadow mask is operated, a portion of the electron beam passes through a hole formed in the 'V Yadow mask and impinges on the fluorescent surface.
Along with making it emit light.
残シの大部分はVヤドウマスクに射突し、この温度を上
昇させる◇この結果、シャドウマスクを形成している薄
い金属板が熱膨張し、カラー陰極線管の動作特性を損う
原因となる熱変形を生じさせる0
この熱変形のうちで対策のむづかしいものに、局部ドー
ミングと呼ばれる現象がある。この現象は、比較的小面
積、たとえば円にして20■φ〜100wφ程度の部分
が特に明るい静止またはそれに近い画面が映し出された
とき、シャドウマスクのこの対応部分が局部的に昇温し
、この昇温した部分が熱膨張を起すにもかかわらず、そ
の周囲の部分が熱膨張を起さないために、バネμ側にふ
くらみ出るものである。Most of the residue hits the V-Yado mask, raising its temperature ◇As a result, the thin metal plate forming the shadow mask thermally expands, causing heat that impairs the operating characteristics of the color cathode ray tube. One type of thermal deformation that is difficult to counteract is a phenomenon called local doming. This phenomenon is caused by the fact that when a stationary or nearly static screen is projected where a relatively small area, for example a circle with a diameter of 20 mm to 100 mm, is particularly bright, the temperature of this corresponding area of the shadow mask increases locally. Even though the heated portion undergoes thermal expansion, the surrounding portion does not undergo thermal expansion, so it bulges toward the spring μ.
このドーミング現象を改善するために、さまざまな提案
がなされているが、その内の一つに2重マスク方式とい
うものがある。Various proposals have been made to improve this doming phenomenon, one of which is a double mask method.
2重マスク方式というのは、第3図に示すように、シャ
ドウマスク頭の電子銃側に一定距シへだてて第2のシャ
ドウマスク@を配置し、ンヤドウマスクα■に射突する
余分な電子ビームを、第2のシャドウマスク@でできる
だけ遮へいしようというものである。この第2のシャド
ウマスク■に形成されている電子ビームが通過する透孔
αJは十分に大きく、電子ビームの射突によシ局部ドー
ミング現象を生じても、第1のシャドウマスク(1)の
透孔圓を通る電子ビームを遣ぎることがないように構成
されている。As shown in Figure 3, the double mask method consists of placing a second shadow mask at a certain distance on the electron gun side of the head of the shadow mask, and removing the extra electron beam that hits the mask α■. The idea is to shield this as much as possible with the second shadow mask@. The through hole αJ formed in the second shadow mask (2) through which the electron beam passes is sufficiently large, so that even if a local doming phenomenon occurs due to the impact of the electron beam, the first shadow mask (1) The structure is such that no electron beam is transmitted through the through hole.
しかし、この2重マ、スク方式は、結局実現していない
のが現状である。その理由は、シャドウマスクααおよ
び第2のシャドウマスク■を別々に製作したものを所定
距離隔てて配置する構成をとっているため、各構成部材
に要求される寸法精度の実現、および組立精度の実現が
実用上、困難なためである。However, the current situation is that this double mask/screen system has not been realized. The reason for this is that the shadow mask αα and the second shadow mask ■ are manufactured separately and placed at a predetermined distance apart, which makes it difficult to achieve the dimensional accuracy required for each component and to ensure assembly accuracy. This is because it is difficult to realize in practice.
この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、局部ド
ーミングの生じるおそれがなく、かつ寸法精度の高いシ
ャドウマスクを提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a shadow mask that is free from local doming and has high dimensional accuracy.
この発明は、シャドウマスクに形成されている各透孔の
内面周縁部分にそれぞれ融着しており、かつ、当該シャ
ドウマスクの各透孔の間の内面との間に空隙を保って相
対向するように形成されている焼結体層を備えたもので
ある。In this invention, each hole is fused to the inner peripheral edge of each hole formed in the shadow mask, and is opposed to the inner surface between each hole of the shadow mask with a gap maintained between the holes. It is equipped with a sintered body layer formed as follows.
焼結体層は、シャドウマスクの内面を、各透孔の部分を
除いて覆っておシ、Vヤドウマスクに射突する電子ビー
ムを受は止めて、直接、シャドウマスクに射突するのを
阻止している。この焼結体層の広い面域は、空隙を保っ
てシャドウマスクの内面と対向しているから、電子ビー
ムの射突によシ焼結体層の温度が局部的に上昇しても、
その部分のンヤドウマスクの温度上昇は緩和される。し
たがって、局部ドーミングが生じるような条件下におい
ても、局部ドーミングを生じることがなく、従来の2重
マスク方式のVヤドウマスクと同様の効果が得られる。The sintered body layer covers the inner surface of the shadow mask except for the portions of the through holes, and receives the electron beams that strike the V-yado mask, thereby preventing them from directly striking the shadow mask. are doing. The wide surface area of this sintered body layer faces the inner surface of the shadow mask with a gap maintained, so even if the temperature of the sintered body layer locally rises due to the impact of the electron beam,
The temperature rise in that part of the mask is alleviated. Therefore, even under conditions where local doming occurs, local doming does not occur, and the same effect as the conventional double mask type V-yado mask can be obtained.
第1図(a)〜(0)によシ、この発明の一実施例を説
明する。An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1(a) to 1(0).
まず、200℃前後に加熱したシャドウマスクααの内
面に、たとえば、ビヒク/I/(酢酸イソアミ1v98
.5%、ニトロセμロース1.5%)を塗布し、約10
μm厚さの第1の塗布層(141を第1図(a)に示す
ように被着形成させる。First, the inner surface of the shadow mask αα heated to around 200°C is
.. 5%, nitrose μ-lose 1.5%) and apply about 10%
A first coating layer (141) having a thickness of .mu.m is deposited as shown in FIG. 1(a).
この第1の塗布工程において、シャドウマスク(1a1
を加熱するのは、塗布層α滲の乾燥を早め、塗布層0句
の厚さを均一にするためである。この場合、厚さが10
μmよシ厚いとシャドウマスク(101の透孔0をふさ
ぐ可能性があシ、これよシ薄いと、塗布層αaに切れ目
が生じる可能性が生じる。塗布層(14)を形成する範
囲は、透孔lが形成されている面域とtミぼ同じとする
。塗布方法は、スプレー法、その他適当な方法でよい。In this first coating step, a shadow mask (1a1
The purpose of heating is to accelerate the drying of the coating layer α and to make the thickness of the coating layer α uniform. In this case, the thickness is 10
If it is thicker than μm, there is a possibility of blocking the through hole 0 of the shadow mask (101), and if it is thinner than this, there is a possibility that cuts will occur in the coating layer αa.The area where the coating layer (14) is formed is as follows: The surface area t is approximately the same as the area where the through hole 1 is formed.The coating method may be a spray method or other suitable method.
第1の塗布層(1勾を乾燥させたのち、第1図(b)に
示すように、第2の塗布層(至)を被着形成させる。After drying the first coating layer, a second coating layer is formed as shown in FIG. 1(b).
第2の塗布層−は、たとえば低融点半田ガラス粉末に、
適意のどとりμを添加し、混合して懸濁液としたものを
、第1の塗布# (14)を形成した面域よシ、少し広
い面域に20〜30μmの厚さに塗布し、乾燥させて形
成する。The second coating layer is made of low melting point solder glass powder, for example.
A suitable amount of dotori μ is added and mixed to form a suspension, which is applied to a slightly wider area than the area where the first coating # (14) was formed, to a thickness of 20 to 30 μm, Dry and form.
この第2の塗布工程において、塗布厚さを20〜30μ
mKするのは、第1の塗布層(14)上に、この程度の
厚さに塗布した懸濁液が、表面張力によって透孔(11
1から遠ざかるように収縮する現象を生じ、後工作の焼
成工程を施した後に形成される焼結体層が、適当な形状
と強度を有するものとなるからである。In this second coating step, the coating thickness is 20 to 30 μm.
mK is because the suspension applied to this thickness on the first coating layer (14) forms through holes (11) due to surface tension.
This is because the sintered body layer formed after the post-working firing process will have an appropriate shape and strength.
また、第2の塗布層(5)を、第1の塗布層α3の面域
よシ少し広くしたのは、Vヤドウマスクα■の透孔αυ
を形成している面域の周縁部においても焼結体層をシャ
ドウマスクα■に融着させ、焼結体層の強度を大きくす
るためである。Also, the reason why the second coating layer (5) is made slightly wider than the area of the first coating layer α3 is because of the through-hole αυ of the V-yado mask α■.
This is to increase the strength of the sintered body layer by fusion bonding the sintered body layer to the shadow mask α■ also at the peripheral edge of the area forming the area.
つぎに1第1、第2の塗布層(14) 、 (I51を
被着形成したシャドウマスク(1alを、400〜50
0℃で数十分間加熱する焼成工程を施し、第1図(e)
に示す焼結体層αeを形成させる。Next, apply the first and second coating layers (14), (shadow masks with I51 coated thereon (1al, 400 to 50%
A baking process of heating at 0°C for several tens of minutes was performed, and the resultant material was shown in Figure 1(e).
A sintered body layer αe shown in FIG.
この焼成工程において、第1の塗布層(141を形成し
ているニトロセμロースが熱分解して空隙αηが形成さ
れる。同時に、第2の塗布層−は、バインダであるニト
ロ七μロースが熱分解するとともに、低融点半田ガラス
粉末が相互に融着して焼結体層印を形成し、透孔(社)
の周縁部(16a)および外周縁部分(16b)でシャ
ドウマスクαωに融着してマスクα0に強固に付着する
。In this firing step, the nitro-7 μ-loose forming the first coating layer (141) is thermally decomposed to form voids αη. As it thermally decomposes, the low melting point solder glass powder fuses with each other to form a sintered layer, forming a through hole.
The peripheral edge portion (16a) and outer peripheral edge portion (16b) of the mask are fused to the shadow mask αω and firmly attached to the mask α0.
このようにして形成された焼結体層αeは、シャドウマ
スクαCに射突する電子ビームを受は止めて、直接シャ
ドウマスク(101−に電子ビームが射突するのを遮へ
いする。したがって、局部ドーミングが生じる条件下に
おいて、焼結体層αeの当該部分の温度が上昇しても、
Vヤドウマスクααの当該部分の温度上昇が緩和され、
局部ドーミングを生じない。The sintered body layer αe formed in this way blocks the electron beam that impinges on the shadow mask αC and blocks the electron beam from directly impinging on the shadow mask (101-). Under conditions where doming occurs, even if the temperature of the relevant portion of the sintered body layer αe increases,
The temperature rise in the relevant part of the V Yadou mask αα is alleviated,
No local doming occurs.
このように、空隙αηを有する焼結体層α印は、従来の
2重マスク方式の第2のマスクと同様の効果を有するも
のとなる。In this way, the sintered body layer α mark having the void αη has the same effect as the second mask of the conventional double mask method.
なお、上記実施例では、第1の塗布層をビヒクμを用い
て形成し、また第2の塗布層を低融点半田ガラス粉末の
ビヒクル懸濁液を用いて形成する例を示したが、この例
、またはこの組合せに限られるものでないことはい5ま
でもない。In the above example, an example was shown in which the first coating layer was formed using vehicle μ and the second coating layer was formed using a vehicle suspension of low melting point solder glass powder. The invention is not limited to these examples or combinations.
この発明は、シャドウマスクの内面に、各透孔 ゛
の周縁部分で融着し、各透孔の間の部分は当該シャドウ
マスクの内面と空隙を保って対向して覆うように形成さ
れている焼結体層を備えたンヤドウマスクであって、電
子ビームは焼結体層に射突してその温度を上昇させ、V
ヤドウマスクは焼結体層を介しての熱伝導、および空隙
を介しての熱輻射によって熱エネμギが伝達されるだけ
であるから、局部ドーミングを生じるような条件下にお
いても局部的な温度上昇が緩和され、熱変形の少ないシ
ャドウマスクが得られる。In this invention, the resin is fused to the inner surface of the shadow mask at the peripheral edge of each through hole, and the portion between the through holes is formed so as to face and cover the inner surface of the shadow mask while maintaining a gap. A Nyadou mask equipped with a sintered body layer, the electron beam impinges on the sintered body layer to increase its temperature, and V
Since the Yado mask only transmits thermal energy μ by heat conduction through the sintered body layer and heat radiation through the voids, there is no local temperature rise even under conditions that cause local doming. is relaxed, and a shadow mask with less thermal deformation can be obtained.
第1図(a)〜(0)はこの発明の一実施例の製造工程
を説明するための一部拡大断面図で、同図(c)はその
完成品であるこの発明の一実施例の一部拡大断面図、第
2図はシャドウマスクカッ−陰極線管の構成を示す一部
破断斜視図、第3図は従来の第2のVヤドウマスクを有
するカラー陰極線管の一部破断側面図である。
(1)・・・カラー陰極線管、α■・・・シャドウマス
ク、(IB・・・透孔、α少・・・第1の塗布層、(至
)・・・第2の塗布層、叩・・・焼結体層、αη・・・
空隙。
なお、図中、同一符号はそれぞれ同一、または和尚部分
を示す。
第1図
10=シヤドウマスク
17:空隙
第2図
第3図
手続・補正書 (自発)Figures 1 (a) to (0) are partially enlarged cross-sectional views for explaining the manufacturing process of an embodiment of the present invention, and Figure 1 (c) is a finished product of the embodiment of the present invention. FIG. 2 is a partially cutaway perspective view showing the configuration of a shadow mask cathode ray tube, and FIG. 3 is a partially cutaway side view of a color cathode ray tube having a conventional second V-yado mask. . (1)...color cathode ray tube, α■...shadow mask, (IB...through hole, α small...first coating layer, (to)...second coating layer, ...Sintered body layer, αη...
void. In the drawings, the same reference numerals indicate the same parts or the same parts. Figure 1 10 = Shadow mask 17: Gap Figure 2 Figure 3 Procedures and amendments (voluntary)
Claims (2)
縁部分にそれぞれ融着しており、当該シヤドウマスクの
各透孔の間の内面とは空隙を保つて相対向するように形
成されている焼結体層を備えてなるシヤドウマスク。(1) It is fused to the inner peripheral edge of each through-hole formed in the shadow mask, and is formed so as to face the inner surface between the through-holes of the shadow mask while maintaining a gap. A shadow mask equipped with a cohesive layer.
である特許請求の範囲第1項記載のシヤドウマスク。(2) The shadow mask according to claim 1, wherein the sintered body layer is made by sintering low melting point solder glass powder.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16085585A JPS6222357A (en) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | Shadow mask |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16085585A JPS6222357A (en) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | Shadow mask |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6222357A true JPS6222357A (en) | 1987-01-30 |
Family
ID=15723843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16085585A Pending JPS6222357A (en) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | Shadow mask |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6222357A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980031794A (en) * | 1996-10-31 | 1998-07-25 | 손욱 | Anti-Doming Composition of Shadow Mask and Method of Making the Same |
-
1985
- 1985-07-19 JP JP16085585A patent/JPS6222357A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980031794A (en) * | 1996-10-31 | 1998-07-25 | 손욱 | Anti-Doming Composition of Shadow Mask and Method of Making the Same |
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