JPS62222071A - Production of member deposited with ceramics - Google Patents

Production of member deposited with ceramics

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Publication number
JPS62222071A
JPS62222071A JP6323286A JP6323286A JPS62222071A JP S62222071 A JPS62222071 A JP S62222071A JP 6323286 A JP6323286 A JP 6323286A JP 6323286 A JP6323286 A JP 6323286A JP S62222071 A JPS62222071 A JP S62222071A
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JP
Japan
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base material
reaction chamber
contg
gas
ceramics
Prior art date
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Application number
JP6323286A
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Japanese (ja)
Inventor
Mutsuki Yamazaki
六月 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPS62222071A publication Critical patent/JPS62222071A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a high-speed sliding member having excellent wear resistance by forming a region contg. carbon at a high concn. on the surface of a base material contg. iron and carbon in a plasma atmosphere of an Ar-contg. gas under a reduced pressure and further depositing an Si-contg. ceramic layer thereon. CONSTITUTION:The base material 10 contg. the iron and carbon is suspended to a supporting member 11, and is charged into a reaction chamber 1. While the inside of the reaction chamber 1 is evacuated, the gaseous Ar is introduced therein and the inside of the reaction chamber 1 is adjusted to a prescribed pressure. A matching box 15 is connected to the supporting member 11 and the base material 10 is heated to about 150-300 deg.C by a heater 12. High-frequency electric power is impressed to the base material 10 to generate plasma between an electrode 4 and the base material 10. The region of the high concn. of carbon is, therefore, formed on the surface of the base material 10. The gas contg. Si is then introduced into the reaction chamber 1 and the connection of the matching box 15 is changed over to the reaction chamber 1. The connection of a shield 5 is changed over to the supporting member 11 and the high-frequency electric power is impressed to the reaction chamber 1 and the electrode 4. The ceramics is thereby coated on the base material 10 and the member having the excellent wear resistance is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は、高速で溶動する部材に好適のセラミックス
が被着された部材mの製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a method of manufacturing a member m coated with ceramics suitable for a member that melts at high speed.

(従来の技術) 例えば、コンプレッサのシャフト、エンジンのカムシャ
フト、レーザプリンタのレーザスキャナ及びプリンタの
ガイドレール等のように、高速で震動を受ける部材は、
摩耗しやすく、この高速被摺動部材の摩耗が装置の寿命
及び性能に大きな影響を及ぼしている。このため、この
ような高速被摺動部材には、高速度鋼及び超硬合金等の
硬くて摩耗し難い材料が使用されている。しかし、これ
らの材料は、材料費及び加工費が高いために、コストが
高くなることを回避せざるを得ない場合には、鋳鉄又は
快削鋼等の比較的低廉な材料を使用し、その表面を硬化
させたり、111i!lWI性を付与する等の対策がと
られている。また、TiN及びTiC等の高硬度のセラ
ミックスを被覆して切削工具の耐摩耗性を向上させた技
術も提案されている。
(Prior Art) For example, members that are subjected to high-speed vibrations, such as compressor shafts, engine camshafts, laser scanners of laser printers, and printer guide rails,
It is easy to wear out, and the wear of this high-speed sliding member has a great effect on the life and performance of the device. For this reason, hard materials such as high-speed steel and cemented carbide that are hard to wear are used for such high-speed sliding members. However, these materials have high material costs and processing costs, so if it is necessary to avoid higher costs, use relatively inexpensive materials such as cast iron or free-cutting steel. Harden the surface or use 111i! Countermeasures such as imparting IWI properties are being taken. Furthermore, a technique has been proposed in which cutting tools are coated with high-hardness ceramics such as TiN and TiC to improve the wear resistance of cutting tools.

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、表面硬化処理には焼入れがあり、潤滑性
付与処理にはタフトライド処理、パーコ処理又は黒染め
二硫化モリブデンの塗布処理等があるが、いずれの処理
の場合でも接着性が充分でなく、高加重が印加され、且
つ、8速回転する苛酷な条件下では、充分な耐久性を得
ることができない。
(Problem to be solved by the invention) However, surface hardening treatment includes quenching, and lubricity imparting treatment includes tuftride treatment, perco treatment, and coating treatment with blackened molybdenum disulfide. Even in such cases, the adhesion is insufficient, and sufficient durability cannot be obtained under severe conditions where a high load is applied and rotation is performed at eight speeds.

また、焼き入れ及びタフトライド処理においては、処理
温度が500”C以上と高いので、処理中に母材の変形
が生じるおそれがあり、^い寸法精度を要求される部材
にはこれらの処理を適用することができない。
In addition, in hardening and tuftride treatments, the treatment temperature is as high as 500"C or higher, so there is a risk of deformation of the base material during the treatment, so these treatments are not applied to parts that require high dimensional accuracy. Can not do it.

更に、TiN又はTiCを高速被摺動部材に被覆すると
、これらのセラミックスの硬度が高いために、摺動する
相手方の摺動部材を研削してしまい、この研削屑がセラ
ミックス被膜の上に凝着して焼き付くという問題点があ
る。
Furthermore, if TiN or TiC is coated on a member that slides at high speed, the hardness of these ceramics is high, so the other sliding member will be ground, and this grinding debris will adhere to the ceramic coating. There is a problem that it gets burned in.

この発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、
母材に対する接着性が高く、耐摩耗性が優れていると共
に、摺動する相手方部材を研削してしまうことがなく、
焼付の発生が抑制されたセラミックスが被着された部材
要#埼の製造方法を提供することを目的とする。
This invention was made in view of such circumstances, and
It has high adhesion to the base material, excellent wear resistance, and does not grind the sliding mating member.
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a component size coated with ceramics in which the occurrence of seizure is suppressed.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) この発明に係るセラミックスが被着された部材の製造方
法は、鉄及び炭素を含有し高速摺動部に用いられる母材
の表面に減圧下のアルゴン含有ガスのプラズマ雰囲気下
で炭素を高濃度で含有する層を形成し、次いで、珪素を
含有するセラミックス層を母材の上に形成することを特
徴とする。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) A method for manufacturing a member coated with ceramics according to the present invention includes applying reduced pressure to the surface of a base material containing iron and carbon and used for high-speed sliding parts. The method is characterized in that a layer containing a high concentration of carbon is formed under a plasma atmosphere of an argon-containing gas, and then a ceramic layer containing silicon is formed on the base material.

(作用) 本願発明者は、硬度が高(、耐摩耗性が優れていると共
に、相手方の摺動材を研削してしまうことがないセラミ
ックス材料を開発すべく種々検討した結果、珪素を含有
するセラミックスが、このような要求を充分満足するこ
とを見出した。また、このようなセラミックス材料は、
スパッタリング、プラズマCVD、イオンブレーティン
グ等により母材に被着させることができるが、処理1度
が200乃至300℃と比較的低いため、処理中の母材
の変形を抑制することができ、高精度を要求される部材
にもこれらのセラミックスを被着させることができる。
(Function) As a result of various studies in order to develop a ceramic material that has high hardness (and excellent wear resistance) and does not grind the sliding material of the other party, the inventor of the present application has developed a ceramic material that contains silicon. It has been found that ceramics fully satisfies these requirements.In addition, such ceramic materials
It can be deposited on the base material by sputtering, plasma CVD, ion blating, etc., but since the treatment temperature is relatively low at 200 to 300°C, deformation of the base material during treatment can be suppressed, and the These ceramics can also be applied to members that require precision.

しかしながら、これらのセラミックスは、母材との接着
性がTiN及びTiCよりも劣るという欠点がある。特
に、母材がコンプレッサシャフト等のように鋳鉄である
場合に、これらのセラミックスを成膜することは事実上
困難である。
However, these ceramics have the disadvantage that their adhesion to the base material is inferior to TiN and TiC. In particular, when the base material is cast iron such as a compressor shaft, it is practically difficult to form a film with these ceramics.

本願発明者は、鉄を主成分とする母材に、これらのセラ
ミックスを安定して容易に被着させるべく種々実験研究
を繰返した結果、減圧下のAr含有ガス雰囲気中で、母
材の表面と電橋との間に、高周波電力又は直流電力を印
加してプラズマを生起させ、プラズマ処理しておくこと
によって、珪素を含有するセラミックスを高接着性で母
材に被着させることができることを見出した。このよう
なプラズマ処理によって、母材表層部に高炭素濃度の層
が形成され、この高炭素濃度層の上にセラミックス層を
形成することによって、セラミックスが鉄及び炭素を含
有する母材に高強度で被着される。本願発明は、このよ
うな研究結果に基いてなされたものである。なお、この
ように本願発明においては、母材の表面に炭素が高濃度
で含有される槽を形成するのであるから、母材は鉄の他
に炭素を含有していることが必要であり、生産性を考慮
すると、母材には鋳造物を使用することが好ましい。
The inventor of the present application repeatedly conducted various experimental studies in order to deposit these ceramics stably and easily on a base material whose main component is iron, and as a result, the surface of the base material was By applying high-frequency power or DC power to generate plasma between the bridge and the electric bridge, and performing plasma treatment, it is possible to adhere silicon-containing ceramics to the base material with high adhesiveness. I found it. Through such plasma treatment, a layer with high carbon concentration is formed on the surface layer of the base material, and by forming a ceramic layer on top of this high carbon concentration layer, ceramics imparts high strength to the base material containing iron and carbon. It is covered with. The present invention was made based on such research results. In this way, in the present invention, since a tank containing a high concentration of carbon is formed on the surface of the base material, it is necessary that the base material contains carbon in addition to iron. Considering productivity, it is preferable to use a cast material as the base material.

なお、珪素を含有するセラミックスとしては、窒化珪素
(SiN)、酸化珪素(Sin)、炭化珪素(SiC)
等がある。例えば、SiN及びSiOはビッカース硬度
が18oO乃至2000であり、SiCはビッカース硬
度が2000乃至2500である。このようにこれらの
セラミックスは硬度が高く、浸れた耐磨耗性を有してい
ると共に、相手方の摺動部材が鉄系のものである場合は
、相手方を研削してしまうことがない。このようなセラ
ミックスは、スパッタリング、イオンブレーティング、
プラズマCVO,熱CVD1光CVD、等の方法により
製造することができるが、母材との接着性及び一層の低
温処理が可能という点を考慮すると、プラズマCVDが
好ましい。
Note that silicon-containing ceramics include silicon nitride (SiN), silicon oxide (Sin), and silicon carbide (SiC).
etc. For example, SiN and SiO have a Vickers hardness of 18oO to 2000, and SiC has a Vickers hardness of 2000 to 2500. As described above, these ceramics have high hardness and excellent wear resistance, and if the mating sliding member is made of iron, the sliding member will not be ground. Such ceramics can be manufactured by sputtering, ion blating,
Although it can be manufactured by methods such as plasma CVO, thermal CVD, and optical CVD, plasma CVD is preferable in view of its adhesion to the base material and the possibility of lower temperature processing.

(実施例) 以下、添附の図面を参照してこの発明の実施例について
説明する。この実施例に使用するセラミックスが被着さ
れた部材は、以下のようにして製造される。先ず、鋳鉄
又は快削鋼等のブロックからロータリコンプレッサのシ
ャフト又はプリンタのキャリッジガイド等の所定の形状
に加工成形して母材を得る。次いで、この母材の表面を
Arガスを含有するガス中でプラズマ処理して母材の表
面に高炭素濃度の領域を形成する。その後、SiN等の
セラミックスを母材の表面にコーティングする。このよ
うにして製造されたシャフト又はキャリッジガイドは、
鉄を主成分とする母材の表面がSiN等のセラミックス
で被覆されている。
(Embodiments) Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The ceramic-coated member used in this example is manufactured as follows. First, a base material is obtained by processing and forming a block of cast iron or free-cutting steel into a predetermined shape, such as a shaft of a rotary compressor or a carriage guide of a printer. Next, the surface of this base material is subjected to plasma treatment in a gas containing Ar gas to form a high carbon concentration region on the surface of the base material. Thereafter, a ceramic such as SiN is coated on the surface of the base material. The shaft or carriage guide manufactured in this way is
The surface of the base material whose main component is iron is coated with ceramics such as SiN.

このため、このような部材に摺動部材が高速で摺動して
も、摩耗が抑制されると共に、摺動部材を研削してしま
うこともない。
Therefore, even if the sliding member slides on such a member at high speed, wear is suppressed and the sliding member is not ground.

次に、第1図及び第2図を参照して、この実施例に係る
セラミックスが被着された部材の製造方法について、プ
ラズマCVD法を例にとって説明する。円筒状の反応室
1は適宜の支持台上にその軸方向を鉛直にして支持され
ていると共に、絶縁体2を介して電気的に浮かせである
。反応室1内は、メカニカルブースタポンプ及び油回転
ポンプ(図示せず)等により排気され、約10−3 ト
ルの真空度に保持されるようになっている。反応室1内
には、ガス導入口3を介して種々の原料ガスが導入され
る。円筒状の電極4が反応室1内にその周壁に対して同
軸的に設置されており、反応室1と同一の電位に設定さ
れている。この電極4には、複数個のガス通流孔(図示
せず)が開設されていて、ガス導入口3を介し反応室1
内に導入されたガスは、電極4のガス通流孔を通過して
反応室1の中心部にほぼ均一に供給される。円筒状のシ
ールド5は接地されており、反応室1を囲むように配設
されている。
Next, with reference to FIGS. 1 and 2, a method for manufacturing a member coated with ceramics according to this embodiment will be described using a plasma CVD method as an example. A cylindrical reaction chamber 1 is supported on a suitable support with its axial direction vertical, and is electrically suspended via an insulator 2. The inside of the reaction chamber 1 is evacuated by a mechanical booster pump, an oil rotary pump (not shown), etc., and is maintained at a vacuum level of about 10 −3 Torr. Various raw material gases are introduced into the reaction chamber 1 through a gas inlet 3 . A cylindrical electrode 4 is installed in the reaction chamber 1 coaxially with respect to its peripheral wall, and is set to the same potential as the reaction chamber 1. This electrode 4 is provided with a plurality of gas flow holes (not shown), and the gas inlet 3 is connected to the reaction chamber 1.
The gas introduced therein passes through the gas flow holes of the electrode 4 and is almost uniformly supplied to the center of the reaction chamber 1 . A cylindrical shield 5 is grounded and arranged to surround the reaction chamber 1.

反応室1の中心には、円筒状の母材10が、その軸方向
を鉛直にして電極4の軸心に配設されている。反応室1
の天板上には、絶縁体2を介して支持部材11が設置さ
れており、母材10はこの支持部材11に懸架されて反
応室1内に装入されている。母材10は、その中心部に
、抵抗発熱線のヒータ12が挿入されている。このヒー
タ12は電i![13に接続されており、電源13から
給電されて発熱し、母材10を加熱するようになってい
る。第1図においては、母材10及び支持部材11が、
マツチングボックス15を介して高周波電源14が接続
されており、第2図においては、マツチングボックス1
5が反応室1に接続されていて、反応室1に高周波電力
が印加されるようになっている。このように、第1図及
び第2図に示すように、母材10と反応室1との間に高
周波電力が印加され、母材10と反応室1との間に、プ
ラズマ放電が生起される。
At the center of the reaction chamber 1, a cylindrical base material 10 is disposed at the axial center of the electrode 4 with its axial direction being vertical. Reaction chamber 1
A support member 11 is installed on the top plate of the reaction chamber 1 via an insulator 2, and the base material 10 is suspended from this support member 11 and charged into the reaction chamber 1. A heater 12 made of a resistance heating wire is inserted into the center of the base material 10 . This heater 12 is electric! [ 13 , and is supplied with power from the power source 13 to generate heat and heat the base material 10 . In FIG. 1, the base material 10 and the support member 11 are
A high frequency power source 14 is connected via a matching box 15, and in FIG.
5 is connected to the reaction chamber 1 so that high frequency power is applied to the reaction chamber 1. In this way, as shown in FIGS. 1 and 2, high frequency power is applied between the base material 10 and the reaction chamber 1, and a plasma discharge is generated between the base material 10 and the reaction chamber 1. Ru.

このように構成される装置により、先ず、母材の表面を
Ar含有ガス雰囲気下でプラズマ処理する。つまり、第
1図に示すように、マツチングボックス15と支持部材
11とを接続すると共に、反応室1内を約10−3 ト
ルに排気する。そして、ポンプによる排気を継続しつつ
、ガス導入口3を介して200SCCMのArガスを反
応室1内に導入し、反応室1内を、例えば、1トルの圧
力に調節する。次いで、電!113からヒータ12に電
力を供給してヒータ12を発熱させ、母材1oを150
乃至300℃に加熱する。その後、母材10に300W
の高周波電力を印加して、電極4と母材10との間にプ
ラズマを生起させる。このプラズマ処理時間は、例えば
、約30分間である。
Using the apparatus configured as described above, first, the surface of the base material is subjected to plasma treatment in an Ar-containing gas atmosphere. That is, as shown in FIG. 1, the matching box 15 and the support member 11 are connected, and the inside of the reaction chamber 1 is evacuated to about 10@-3 Torr. Then, while continuing the pumping, 200 SCCM of Ar gas is introduced into the reaction chamber 1 through the gas inlet 3, and the pressure inside the reaction chamber 1 is adjusted to, for example, 1 Torr. Next, Den! Power is supplied from 113 to the heater 12 to cause the heater 12 to generate heat, and the base material 1o is
Heat to 300°C. After that, apply 300W to the base material 10.
high frequency power is applied to generate plasma between the electrode 4 and the base material 10. This plasma treatment time is, for example, about 30 minutes.

このプラズマ処理によって、母材の表面に高炭素濃度の
領域が形成される。この場合に、処理ガスはArガス単
体に限らず、Arガスと、H2゜He、又はN2等のガ
スとの混合ガスでもよい。
This plasma treatment forms a high carbon concentration region on the surface of the base material. In this case, the processing gas is not limited to Ar gas alone, but may be a mixed gas of Ar gas and a gas such as H2°He or N2.

なお、この実施例のように、母材を予め加熱しておいて
もよいが、プラズマが生起されると、このプラズマによ
って母材が加熱されるので、必ずしも格別の加熱手段を
設けることは必要ない。このように、ヒータ12を使用
して母材10を加熱しない場合には、母材10等に印加
する高周波電力を大きくするか、又は処理時間を長くす
ればよい。
Note that, as in this example, the base material may be heated in advance, but when plasma is generated, the base material is heated by this plasma, so it is not necessarily necessary to provide a special heating means. do not have. In this way, when the base material 10 is not heated using the heater 12, the high frequency power applied to the base material 10 etc. may be increased or the processing time may be lengthened.

このプラズマ処理に続いて、反応室1内にコーティング
すべきセラミックスの構成元素を含有するガスを導入し
、表面がプラズマ処理された母材にセラミックスをコー
ティングする。コーティングすべきセラミックスが3i
を含有しているので、S i H4ガス又は5i2Hs
ガス等の3iを含有するガスに、窒化物であるときはN
2ガス又はNHaガス等のNを含有するガスを混合し、
炭化物であるときはChhガス又はC2H6ガス等のC
を含有するガスを混合し、酸化物であるときは02ガス
又はN20ガス等のOを含有するガスを混合する。この
ような原料ガスを反応室1内に導入すると共に、マツチ
ングボックスの接続を支持部材11から反応室1に切替
え、シールド5の接続を反応室1から支持部材11に切
替える。そして、高周波電[14から反応室1及び電極
4に高周波電力を印加して、電極4と母材10との間に
プラズマを生起させる。これにより、原料ガス中の成分
を構成元素とするセラミックスが母材1゜の表面にコー
ティングされる。例えばSiNをコーティングする場合
には、S i H4ガスの11を50SCCM、N2 
jj:1.(D流量e800sccMに設定し、反応圧
力を1.0トルとし、高周波電力を300Wとして1時
間成膜すると、約4μmの5iNIが母材10の表面に
形成される。
Following this plasma treatment, a gas containing constituent elements of the ceramic to be coated is introduced into the reaction chamber 1, and the ceramic is coated on the base material whose surface has been plasma treated. Ceramics to be coated are 3i
Since it contains S i H4 gas or 5i2Hs
When the gas containing 3i, such as gas, is a nitride, N is added.
2 gas or a gas containing N such as NHa gas,
When it is a carbide, C such as Chh gas or C2H6 gas
When it is an oxide, a gas containing O such as 02 gas or N20 gas is mixed. While introducing such raw material gas into the reaction chamber 1, the connection of the matching box is switched from the support member 11 to the reaction chamber 1, and the connection of the shield 5 is switched from the reaction chamber 1 to the support member 11. Then, high frequency power is applied from the high frequency power source 14 to the reaction chamber 1 and the electrode 4 to generate plasma between the electrode 4 and the base material 10. As a result, the surface of the base material 1° is coated with ceramics whose constituent elements are the components in the raw material gas. For example, when coating SiN, 11 of SiH4 gas is mixed with 50SCCM, N2
jj:1. (D flow rate e is set to 800 sccM, reaction pressure is 1.0 torr, and high frequency power is 300 W to form a film for 1 hour, and 5iNI of about 4 μm is formed on the surface of the base material 10.

なお、SiCの場合にはN2ガスの代わりにCH4ガス
を使用し、SIOの場合には02ガスを使用して、流量
等信の条件をSiNの場合と同じにすることにより、S
iNの場合と略同−の層厚のコーティング層を形成する
ことができる。
In addition, in the case of SiC, CH4 gas is used instead of N2 gas, and in the case of SIO, 02 gas is used, and the flow rate etc. conditions are the same as in the case of SiN.
A coating layer having approximately the same thickness as in the case of iN can be formed.

上述の如くして製造されたセラミックスが被着された部
材は、セラミックスが高強度被着されており、耐摩耗性
が高い。上述の各成膜条件で、ロータリコンプレッサ用
のシャフトを製造し、このシャフトに対し、10000
R,P、Mの回転数で30分間連続運転し、次いで10
分間停止した後、再度30分間運転するというモードで
1000時間の耐久試験を実施した。上述したSiN等
のセラミックスをコーティングしたシャフトは、いずれ
も、摩耗による焼付を発生させず、層が剥離することも
なく、極めて耐久性が高いことが実証された。
The ceramic-coated member produced as described above has high-strength ceramic coating and has high wear resistance. A shaft for a rotary compressor was manufactured under each film forming condition described above, and 10,000
Continuous operation for 30 minutes at R, P, M rotation speeds, then 10
A 1000 hour durability test was conducted in a mode in which the machine was stopped for 30 minutes and then operated again for 30 minutes. It has been demonstrated that all of the shafts coated with ceramics such as SiN described above do not cause seizure due to wear, do not have layers peeling off, and are extremely durable.

なお、この実施例は、母材表面の炭化及びセラミックス
のコーティングをプラズマCVDにより実施しているが
、これに限らず、前述の如く、スパッタリング、イオン
ブレーティング、熱CVD又は光CVD等の他の手段を
使用してもよい。更に、プラズマ生起用の電力は、上記
実施例のように高周波電力に限らず、直流電力を使用し
てもよい。この場合には、マツチングボックスが不要で
ある。
In this example, the carbonization of the surface of the base material and the coating of ceramics are carried out by plasma CVD, but this is not limited to this. means may be used. Furthermore, the power for plasma generation is not limited to high frequency power as in the above embodiments, but direct current power may also be used. In this case, a matching box is not required.

なお、このようにして成膜されたSiN、SiC又はS
iO等のセラミックス層は通常アモルファスであるが、
多結晶であったり、一部分で結晶化していたり、微結晶
の領域が存在することもある。しかし、これらのいずれ
の場合であっても、耐摩耗性は良好で同様の優れた効果
を1りることができる。
Note that the SiN, SiC, or S film formed in this way
Ceramic layers such as iO are usually amorphous, but
It may be polycrystalline, partially crystalline, or have microcrystalline regions. However, in any of these cases, the wear resistance is good and the same excellent effects can be obtained.

[発明の効果] この発明によれば、鉄を主成分とする母材に対してもセ
ラミックス層が高接着性で接着されており、耐摩耗性が
優れた部材を得ることができる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, a ceramic layer is adhered with high adhesiveness even to a base material whose main component is iron, and a member with excellent wear resistance can be obtained.

この部材は、溜勤する相手部材を研削してしまうことが
なく、焼付の発生が防止される。
This member does not grind the mating member, which prevents seizure from occurring.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図及び第2図はこの発明の実施例に係るセラミック
スが被着された部材の製造装置を示す断面図である。
FIGS. 1 and 2 are cross-sectional views showing an apparatus for manufacturing a member coated with ceramics according to an embodiment of the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)鉄及び炭素を含有し高速摺動部に用いられる母材
の表面に減圧下のアルゴン含有ガスのプラズマ雰囲気下
で炭素を高濃度で含有する領域を形成し、次いで、珪素
を含有するセラミックス層を母材の上に形成することを
特徴とするセラミックスが被着された部材の製造方法。 (3)前記セラミックス層は、減圧下でプラズマを生起
させ被着されることを特徴とする特許請求の範囲第1項
に記載のセラミックが被着された部材の製造方法。
[Claims] (1) A region containing a high concentration of carbon is formed on the surface of a base material containing iron and carbon and used for high-speed sliding parts in a plasma atmosphere of argon-containing gas under reduced pressure, A method of manufacturing a member to which ceramics are adhered, characterized in that a ceramic layer containing silicon is then formed on the base material. (3) The method for manufacturing a ceramic-coated member according to claim 1, wherein the ceramic layer is deposited by generating plasma under reduced pressure.
JP6323286A 1986-03-20 1986-03-20 Production of member deposited with ceramics Pending JPS62222071A (en)

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JP6323286A JPS62222071A (en) 1986-03-20 1986-03-20 Production of member deposited with ceramics

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0641750A (en) * 1991-07-30 1994-02-15 Natl Res Inst For Metals Production of crystalline sic film
JP2014525311A (en) * 2011-08-30 2014-09-29 アイエイチアイ イオンボンド アーゲー Implant having wear-resistant coating layer and method for producing the same

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