JPS62217644A - 半導体装置 - Google Patents
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- JPS62217644A JPS62217644A JP61059226A JP5922686A JPS62217644A JP S62217644 A JPS62217644 A JP S62217644A JP 61059226 A JP61059226 A JP 61059226A JP 5922686 A JP5922686 A JP 5922686A JP S62217644 A JPS62217644 A JP S62217644A
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置に関し、特に固体撮像装置、1次元
光センサ−、あるいは紫外線消去形EPROMのような
受光用の透光性面板などのガラス基板t◇1i+えた容
器を有する半導体装置に関する。
光センサ−、あるいは紫外線消去形EPROMのような
受光用の透光性面板などのガラス基板t◇1i+えた容
器を有する半導体装置に関する。
従来有磯封市剤で封止した低コストタイプの半導体装置
用容器を構成するものとして、例えばセラミック等のカ
バ一部材の片面に実質的に未反応の熱硬化性プラスチッ
ク物質の薄い被膜を形成し、さらにこの被膜と同じ組成
のリングを接合してなるカバーユニットが提案されてい
る(特公昭59−4859号公報)。
用容器を構成するものとして、例えばセラミック等のカ
バ一部材の片面に実質的に未反応の熱硬化性プラスチッ
ク物質の薄い被膜を形成し、さらにこの被膜と同じ組成
のリングを接合してなるカバーユニットが提案されてい
る(特公昭59−4859号公報)。
しかし、前述したように透光性面板、すなわちガラス基
板を備えた半導体装置においては、セラミックケースと
有機封止剤との接着性に比較してガラス基板と有機封止
剤との接着性が劣り、この界面から水分が侵入するため
に、耐湿性の向上が困難であった。
板を備えた半導体装置においては、セラミックケースと
有機封止剤との接着性に比較してガラス基板と有機封止
剤との接着性が劣り、この界面から水分が侵入するため
に、耐湿性の向上が困難であった。
この発明は、ガラス基板からなるカバ一部材を備えた有
機樹脂封止の容器の耐湿性を向上させ、信頼性の高い半
導体装置を提供することを目的とする。
機樹脂封止の容器の耐湿性を向上させ、信頼性の高い半
導体装置を提供することを目的とする。
上記問題点は、ガラス基板と熱硬化性樹脂からなる有機
封止剤との間に、有機封止剤とガラス基板との接着を助
長する添加剤を多量に含む熱硬化性樹脂からなるkM’
に介在させることにより解決される。
封止剤との間に、有機封止剤とガラス基板との接着を助
長する添加剤を多量に含む熱硬化性樹脂からなるkM’
に介在させることにより解決される。
〔実施例〕
(実施例1)
上記組成物を、シルクスクリーン印刷によって、第1図
に示すガラス基板11の封止部分に0.O1〜0.02
mmの厚さに塗布し、薄膜12を形成する。
に示すガラス基板11の封止部分に0.O1〜0.02
mmの厚さに塗布し、薄膜12を形成する。
次いで、このガラス基板を、上記組成物中の有機封止剤
を半硬化の状態で圧延しシート状にしたものをプレス打
抜きして形成した厚さ0.1〜0.15間のリング13
を介在させて、予め固体撮像索子を倚載した半導体チッ
プ14を凹部内に配設したセラミックケース15の開口
部に組合せ、クリップ(図示せず)で挾んで固定する。
を半硬化の状態で圧延しシート状にしたものをプレス打
抜きして形成した厚さ0.1〜0.15間のリング13
を介在させて、予め固体撮像索子を倚載した半導体チッ
プ14を凹部内に配設したセラミックケース15の開口
部に組合せ、クリップ(図示せず)で挾んで固定する。
このときの荷重は2001/lri程度が適当である。
この状態で封止部に投入し、はじめ120℃で60分間
、次いで150℃で90分間の加熱を行ない硬化させる
。
、次いで150℃で90分間の加熱を行ない硬化させる
。
このようにして封止した固体撮像装置および薄膜12の
ブリコートヲ省略して同様に封止した固体撮像装置につ
いて、121℃、2.0kp/−のfA度および圧力下
でプレッシャークッヵーテス) (pressure
cooker test :PCT ) k行なったと
ころ、後者は10〜15時間でキャビティ内に結露が生
じたのに対し、前者は40〜45時間と、耐湿性の大幅
な向上が見られた。
ブリコートヲ省略して同様に封止した固体撮像装置につ
いて、121℃、2.0kp/−のfA度および圧力下
でプレッシャークッヵーテス) (pressure
cooker test :PCT ) k行なったと
ころ、後者は10〜15時間でキャビティ内に結露が生
じたのに対し、前者は40〜45時間と、耐湿性の大幅
な向上が見られた。
(実施例2)
(とを1:lで混合したもの)・・13重9°部ノ上記
組成物を、シルクスクリーン印刷によって第1図のガラ
ス基板11の封止部分KO,01〜0.02鱈のNさに
塗布し、薄膜」2を形成した後、実施例1と全く同様に
上記有機封止剤からなるり/グツ3を介してセラミック
ケース15に封着した。
組成物を、シルクスクリーン印刷によって第1図のガラ
ス基板11の封止部分KO,01〜0.02鱈のNさに
塗布し、薄膜」2を形成した後、実施例1と全く同様に
上記有機封止剤からなるり/グツ3を介してセラミック
ケース15に封着した。
前述したと同様にPCTi行なったところ、48〜56
時間の耐湿性が得られた。
時間の耐湿性が得られた。
上述した実施例では、Pt膜12の形成にスクリーン印
刷法を用いたが、リング13を使用しているためにガラ
ス基板11に形成する薄膜12自体はきわめて薄いもの
でよい。このため、ガラス基板11に形成した封止剤の
みで封止する場合のようにシルクスクリーン印刷法によ
って厚い被膜を形成する必要がなく、例えば凸版印刷等
、版材がガラス面に接触しない印刷方式をとることもで
きるが、これは、ガラス基板11の有効面への異物の付
〉ムラ防止する上できわめて有利である。すなわち、ガ
ラス基板に付着した異物は、基板上に封止剤金形収した
後では洗浄で除くことがきわめて困難となるため、印刷
工程で異物を付着させないようにする必要がある。この
ためシルクスクリーン印刷法を用いる場合には、有効面
にシートを貼付けておき、印刷後にこれをはがすなどの
作業を必要とするが、上述したような他の印刷方式をと
ることによりこれを不要とすることができる。さらに、
印刷に限らず、溶媒で十分に希釈し、必要部分のみ開口
させたマスクを用いてスプレ一方式で薄膜12t−形成
することもできる。また、リング13は簡単に大量生産
でき、厚さが容易に制御できるとともに取扱いも便利で
作業性も向上する。
刷法を用いたが、リング13を使用しているためにガラ
ス基板11に形成する薄膜12自体はきわめて薄いもの
でよい。このため、ガラス基板11に形成した封止剤の
みで封止する場合のようにシルクスクリーン印刷法によ
って厚い被膜を形成する必要がなく、例えば凸版印刷等
、版材がガラス面に接触しない印刷方式をとることもで
きるが、これは、ガラス基板11の有効面への異物の付
〉ムラ防止する上できわめて有利である。すなわち、ガ
ラス基板に付着した異物は、基板上に封止剤金形収した
後では洗浄で除くことがきわめて困難となるため、印刷
工程で異物を付着させないようにする必要がある。この
ためシルクスクリーン印刷法を用いる場合には、有効面
にシートを貼付けておき、印刷後にこれをはがすなどの
作業を必要とするが、上述したような他の印刷方式をと
ることによりこれを不要とすることができる。さらに、
印刷に限らず、溶媒で十分に希釈し、必要部分のみ開口
させたマスクを用いてスプレ一方式で薄膜12t−形成
することもできる。また、リング13は簡単に大量生産
でき、厚さが容易に制御できるとともに取扱いも便利で
作業性も向上する。
なお、上述した実施例では薄膜12を形成したガラス基
板11とセラミックケース15とを単にリング13を介
して重ねてクリップで止めたが、薄膜121!−形成す
る組成物を塗布後、その被膜が乾かない間にリング?3
f7c重ね、粘着させることによって仮固定し、この薄
膜12およびリング13を設けたガラス基板11’にセ
ラミックケース15と組合せるようにしてもよい。
板11とセラミックケース15とを単にリング13を介
して重ねてクリップで止めたが、薄膜121!−形成す
る組成物を塗布後、その被膜が乾かない間にリング?3
f7c重ね、粘着させることによって仮固定し、この薄
膜12およびリング13を設けたガラス基板11’にセ
ラミックケース15と組合せるようにしてもよい。
以上、固体撮像装置を例に説明したが、本発明はこれに
限定されるものではなく、ガラス基板を有する容器をも
つ半導体装置、すなわち、例えば1次元光センサーや紫
外線消去形のEF ROMのような受光用のガラス面板
を備えた半導体装置などには全く同様に適用可能である
。
限定されるものではなく、ガラス基板を有する容器をも
つ半導体装置、すなわち、例えば1次元光センサーや紫
外線消去形のEF ROMのような受光用のガラス面板
を備えた半導体装置などには全く同様に適用可能である
。
なお、リング13を構成する有機封止剤自体もシランカ
ップリング材などのガラス基板との接着を助長する添加
剤を含んでいるが、それに対し、薄膜12を構成する組
成物は上記添加剤を多量に含んでいる。換言すれば、薄
膜12に対ム リング13は上記添加剤を少量とする。
ップリング材などのガラス基板との接着を助長する添加
剤を含んでいるが、それに対し、薄膜12を構成する組
成物は上記添加剤を多量に含んでいる。換言すれば、薄
膜12に対ム リング13は上記添加剤を少量とする。
薄膜12を用いる代りに、リング13に上記添加剤を多
量に含ませることによっても、ガラス基板との接着性を
高めることが可能であるが、その場合、リング13その
ものの樹脂としての物理的・化学的特性が劣化する。こ
れに対し、上述したように薄膜12のみに上記添加剤を
多量に含ませてリング13への添力晦を抑えることによ
り、このような樹脂の特性の劣化を回避できる。
量に含ませることによっても、ガラス基板との接着性を
高めることが可能であるが、その場合、リング13その
ものの樹脂としての物理的・化学的特性が劣化する。こ
れに対し、上述したように薄膜12のみに上記添加剤を
多量に含ませてリング13への添力晦を抑えることによ
り、このような樹脂の特性の劣化を回避できる。
以上説明したように、本発明によれば、有機封止剤の諸
物件を劣化させることなくガラス基板との接着力を強化
し、耐湿性を向上させた信頼性の高い樹脂封止の半導体
装置がイ:)られる。
物件を劣化させることなくガラス基板との接着力を強化
し、耐湿性を向上させた信頼性の高い樹脂封止の半導体
装置がイ:)られる。
第1図は本発明の一実施例を示す断面図である。
11・・・・ガラス基板、12@・・・薄膜、13−畳
・・リング、14・・・・半導体チップ、15−・・・
セラミックケース。
・・リング、14・・・・半導体チップ、15−・・・
セラミックケース。
Claims (1)
- 1、凹部に半導体基板を収容したケースの開口部に、リ
ング状に成形した熱硬化性樹脂からなる有機封止剤を介
してガラス基板を封着してなる半導体装置において、ガ
ラス基板と有機封止剤との間に、有機封止剤とガラス基
板との接着を助長する添加剤を多量に含む熱硬化性樹脂
からなる薄膜を介在させたことを特徴とする半導体装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61059226A JPS62217644A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61059226A JPS62217644A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62217644A true JPS62217644A (ja) | 1987-09-25 |
Family
ID=13107247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61059226A Pending JPS62217644A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62217644A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2003041174A1 (ja) * | 2001-11-05 | 2005-03-03 | 小柳 光正 | 固体イメージセンサおよびその製造方法 |
-
1986
- 1986-03-19 JP JP61059226A patent/JPS62217644A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2003041174A1 (ja) * | 2001-11-05 | 2005-03-03 | 小柳 光正 | 固体イメージセンサおよびその製造方法 |
JP5105695B2 (ja) * | 2001-11-05 | 2012-12-26 | カミヤチョウ アイピー ホールディングス | 固体イメージセンサおよびその製造方法 |
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