JPS62212602A - Transparent base material - Google Patents
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Landscapes
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光情報記録盤、特に、光を用いて映懺や8声な
どの情報を記録・再生するビ5″Aディスク、オーディ
オディスク、光メモリ−ディスクなどの光ディスクの基
板用材料として好適に利用できる透明性基材に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to optical information recording discs, particularly V5"A discs, audio discs, etc. that record and reproduce information such as video records and 8 voices using light. The present invention relates to a transparent base material that can be suitably used as a substrate material for optical disks such as optical memory disks.
(従来技術とその問題点)
光ディスクは、非接触方式で情報を再生できて長寿命で
あり、かつGF3(ギガバイト)級の大容凶記録が可能
であるなどの利点があることから、精力的な研究開発が
進められている。(Prior art and its problems) Optical discs have the advantage of being able to reproduce information in a non-contact manner, have a long lifespan, and are capable of recording large volumes of GF3 (gigabyte) class. Research and development is underway.
従来、この種の光ディスクは、ポリメタクリル酸メヂル
樹脂・ポリカーボネート樹脂などの透明性樹脂からなる
基材上に、アルミニウムl)などの媒体からなる層が設
けられてなるものであった。Conventionally, this type of optical disk has been constructed by providing a layer made of a medium such as aluminum 1) on a base material made of a transparent resin such as polymethacrylate resin or polycarbonate resin.
ところが、このような従来の光ディスクは、経時的にN
媒体層と基材との密着性が低下してしまい、長期間使用
に供されるとN媒体層が剥離し易くなる問題があった。However, such conventional optical discs lose N over time.
There was a problem in that the adhesion between the medium layer and the base material deteriorated, and the N medium layer was likely to peel off when used for a long period of time.
このため、基材表面に酸化ケイ素(S12)、硫化亜鉛
(znS ’) 、 III化チクチタンL02)など
の層が設けられた基材が提供されているが、いずれも、
上記問題に充分対処できない不満があった。For this reason, substrates have been provided with layers of silicon oxide (S12), zinc sulfide (znS'), titanium III chloride (L02), etc. on the surface of the substrate, but in all cases,
There was some dissatisfaction with not being able to adequately address the above issues.
(問題を解決す°るための手段)
本発明者らは、上記問題点を解決するために鋭意研究を
重ねた結果、次の組成物を硬化させて得られる成形体の
表面に酸化アルミニウム層を形成した透明性基材によっ
て上記問題点を解決できることを見出し、本発明をなす
に至った。(Means for Solving the Problem) As a result of extensive research in order to solve the above problems, the present inventors found that an aluminum oxide layer is formed on the surface of a molded product obtained by curing the following composition. The present inventors have discovered that the above-mentioned problems can be solved by using a transparent base material formed with the above-mentioned transparent base material, and have accomplished the present invention.
まず第1の発明の透明性基材に用いられる組成物は、
01分子あたり少なくとも2個の不飽和シクロアセター
ル基を右する化合物(以下、アセクール系化合物(A)
と略称する)と、
01分子あたり少なくとも2個のメルカプト基を有する
化合物(以下、メルカプト系化合物(B)と略称する)
とからなるものである。First, the composition used for the transparent substrate of the first invention is a compound containing at least two unsaturated cycloacetal groups per molecule (hereinafter referred to as an acecool compound (A)).
(hereinafter abbreviated as mercapto compound (B)) and a compound having at least two mercapto groups per molecule (hereinafter abbreviated as mercapto compound (B))
It consists of.
また、第2の発明の透明性基材に用いられる硬化性組成
物は、上記アセタール系化合物(A)′とメルカプト系
化合物(B)に、さらに
01分子あたり少なくとも2個のアクリロイル基および
/またはメタクリロイル基を有する化合物(以下、(メ
タ)アクリロイル系化合物(C)と略称する)が添加さ
れたものである。Further, the curable composition used for the transparent substrate of the second invention further contains at least two acryloyl groups and/or A compound having a methacryloyl group (hereinafter abbreviated as (meth)acryloyl compound (C)) is added.
以下、本発明の透明性基材について詳しく説明する。Hereinafter, the transparent base material of the present invention will be explained in detail.
本発明の透明性基材は、所定の組成物からなる成形体の
表面に酸化アルミニウム層が形成されたものである。The transparent substrate of the present invention has an aluminum oxide layer formed on the surface of a molded body made of a predetermined composition.
この酸化アルミニウム層は、基材上に設けられるNなど
の媒体層の密着性を向上するためのものである。この酸
化アルミニウム層は、後述する組成物からなる成形体と
極めて良好な親和性を示し、かつまたN媒体層とも良好
な親和性を有している。This aluminum oxide layer is for improving the adhesion of a medium layer such as N provided on the base material. This aluminum oxide layer has extremely good affinity with the molded article made of the composition described below, and also has good affinity with the N medium layer.
この酸化アルミニウム層の厚さは、80nm〜1100
00n程度であることが望ましい。厚さが80nm未満
になると、酸化アルミニウム層を成形体表面に均一に形
成できず、N等の媒体層の密着性に斑が生じ易くなる。The thickness of this aluminum oxide layer is 80 nm to 1100 nm.
It is desirable that it be about 00n. If the thickness is less than 80 nm, the aluminum oxide layer cannot be uniformly formed on the surface of the molded body, and the adhesion of the medium layer such as N tends to be uneven.
また、厚さが110000nを越えると、それ以上酸化
アルミニウム層を形成してもN等の媒体層の密着力の向
上が望めず、しかも、基材の生産性が低下する不都合が
生じる。Moreover, if the thickness exceeds 110,000 nm, no improvement in the adhesion of the N or other medium layer can be expected even if an aluminum oxide layer is formed beyond that, and furthermore, the productivity of the base material is reduced.
このような酸化アルミニウム層を成形体表面に形成する
手段としては、真空Wi着法、スパッタ法。Examples of means for forming such an aluminum oxide layer on the surface of the molded product include a vacuum Wi deposition method and a sputtering method.
イオンビーム法など公知の手法を適用することができる
。A known method such as an ion beam method can be applied.
次に、これらの手段によって酸化アルミニウム層を形成
する方法について説明する。Next, a method of forming an aluminum oxide layer by these means will be described.
1) 真空蒸着法
これは、真空中で高純度アルミナを抵抗加熱または電子
銃加熱により加熱溶融し、これを蒸発させて成形体上に
酸化アルミニウム層を形成する方法である。1) Vacuum evaporation method This is a method in which high-purity alumina is heated and melted in a vacuum by resistance heating or electron gun heating, and then evaporated to form an aluminum oxide layer on the molded body.
真空度は、10’ 〜10−’torrt’アレハ良イ
。The degree of vacuum is 10' to 10-'torrt' which is good.
また、良質の膜を得るためには、02を導入しながら1
0’torrの雰囲気で行なうことが望ましい。In addition, in order to obtain a good quality film, it is necessary to introduce 1 while introducing 02.
It is desirable to perform this in an atmosphere of 0'torr.
膜形成速度は、100〜5000人/sin 、 トリ
わ番ノ500〜2000人/Win程度が好ましい。The film formation rate is preferably about 100 to 5000 people/sin, and about 500 to 2000 people/win.
膜形成速度が速ずぎると膜が不透明となったり、不均一
な膜となるので好ましくない。また10〇八/■inよ
り遅いと生産性が悪くなったり白化したりする。この真
空蒸着法は、簡単な装置で行えるというメリットを右す
る。If the film formation rate is too high, the film may become opaque or non-uniform, which is not preferable. Also, if the speed is slower than 1008/■in, productivity will be poor or whitening will occur. This vacuum evaporation method has the advantage that it can be performed using simple equipment.
2) スパッタ法
真空中で成形体とターゲットを対向させ、その問に^r
プラズマを発生させる。成形体とターゲットの間に電場
を印加させ、^r+がターゲット中の酸化アルミニウム
をたたき出すことにより、成形体に膜を付着させる方法
である。この方法にあっては、強い付着力が得られ、成
形体の温度もあまり上背しない利点がある。到達真空度
は10−7〜10 torrノ範囲で、Arガスの濃
度は10−4〜1O−5torrである。成膜速度は、
50〜500人/winであれば良い。2) Sputtering method: Place the molded body and target opposite each other in a vacuum, and then
Generate plasma. In this method, an electric field is applied between the molded body and the target, and ^r+ knocks out aluminum oxide in the target, thereby attaching a film to the molded body. This method has the advantage that strong adhesion can be obtained and the temperature of the molded body does not rise too much. The ultimate degree of vacuum is in the range of 10-7 to 10 torr, and the concentration of Ar gas is in the range of 10-4 to 10-5 torr. The film formation speed is
It is sufficient if it is 50 to 500 people/win.
3)イオンビーム法
これは真空中でアルミナを抵抗加熱または電子銃加熱に
より加熱溶融、蒸発させ、さらに途中でプラズマ化させ
ておく。そして成形体とルツボ間にff1Wを印加する
ことにより、プラズマ中でイオン化した蒸着材を電場に
より加速して成形体に衝突・付着さぼる。このため、こ
の方法によれば、酸化アルミニウム膜の強い付着力が得
られる特徴がある。また、ここで酸化アルミニウム膜を
形成させる前に、あらかじめ成形体にプラズマエツチン
グ処理、イオン又は電子ビーム処理などの前処理をする
ことも可能である。3) Ion beam method In this method, alumina is melted and evaporated by resistance heating or electron gun heating in a vacuum, and is further turned into plasma during the process. By applying ff1W between the molded body and the crucible, the vapor deposition material ionized in the plasma is accelerated by the electric field and collides with and adheres to the molded body. Therefore, this method has the characteristic that strong adhesion of the aluminum oxide film can be obtained. Furthermore, before forming the aluminum oxide film here, it is also possible to subject the molded body to a pretreatment such as plasma etching treatment, ion or electron beam treatment, or the like.
次に、本発明の透明性藁材の成形体をなす組成物につい
て詳しく説明する。Next, the composition forming the transparent straw material molding of the present invention will be explained in detail.
まず、組成物の各配合成分について説明づる。First, each component of the composition will be explained.
n工jムL灰A
(A)アレタール系化合物
第1および第2の発明に用いられる組成物の第一成分で
あるアセタール系化合物(A)とは、(不飽和ジオキサ
ン型)
および/または
(不飽和ジオキソラン型)
で表される不飽和シクロアセタール基を1分子中に少な
くとも2個有する不飽和シクロアロタール化合物である
。(A) Acetal compound (A) The acetal compound (A) which is the first component of the composition used in the first and second inventions is (unsaturated dioxane type) and/or ( It is an unsaturated cycloallotal compound having at least two unsaturated cycloacetal groups in one molecule, represented by the following unsaturated dioxolane type.
本発明の透明性基材に好適に利用されるアセタール系化
合物(A)としては、次の(i+ないしくV)の化合物
などを挙げることができる。Examples of the acetal compound (A) suitably used in the transparent substrate of the present invention include the following compounds (i+ to V).
山ジアリリデンペンタエリスリトール、トリアリリデン
ソルビトール、ジアリリデン−2・ 2・ 6・6−チ
トラメチロールシクロヘキVノンまたはこれらの21合
物。Diarylidene pentaerythritol, triarylidene sorbitol, diarylidene-2, 2, 6, 6-titramethylolcyclohexynone, or 21 compounds thereof.
(i)(a>ジアリリデンペンタエリスリトール及び(
または)ジアリリデン−2・ 2・ 6・6−チトラメ
チロールシクロヘキサノンと
(b)エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、 1・3−ブタンジオール、1・6
−ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、水添ビ
スフェノールA、ビスフェノールへ−エチレンオキサイ
ド付加物、ビスフェノールA−プロピレンオキサイド付
加物、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン
、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール。(i) (a>diarylidenepentaerythritol and (
or) diarylidene-2, 2, 6, 6-titramethylolcyclohexanone and (b) ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1, 3-butanediol, 1, 6
-Hexanediol, polyethylene glycol, hydrogenated bisphenol A, bisphenol to -ethylene oxide adduct, bisphenol A-propylene oxide adduct, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, dipentaerythritol.
フタル酸、イソフタル酸及びテレフタル酸のエチレンオ
キサイド付加物9分子f11.1500以下の末端水M
at含右ポリエステルなどのポリオール。Ethylene oxide adduct of phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid 9 molecules f11. Terminal water M of 1500 or less
Polyols such as at-containing polyesters.
(C)ジチオグリコール、ジベンテンジメル力ブタン、
エチルシクロへキシルジメルカプタン、 1・6−ヘキ
サンジメルカプタンなどのポリチオール、チオグリコー
ル酸、β−メルカプトプロピオン酸または、メルカプト
コハク酸と上記ポリオールとの反応によって得られるエ
ステル化合物などのごとき、1分子あたり水I!基及び
(または)メルカプト基を合計2個以り含む化合物、(
d)フェノール、クレゾールおよびこれらのホルマリン
縮合によって得られるノボラック、ビスフェノールF、
ビスフェノールAなどのフェノール類。(C) dithioglycol, dibentenedimel butane,
Water per molecule, such as polythiols such as ethylcyclohexyl dimercaptan and 1,6-hexane dimercaptan, thioglycolic acid, β-mercaptopropionic acid, or ester compounds obtained by reacting mercaptosuccinic acid with the above polyols. I! A compound containing a total of two or more groups and (or) mercapto groups, (
d) Phenol, cresol and novolak obtained by formalin condensation of these, bisphenol F,
Phenols such as bisphenol A.
(e)ベンゼンスルホンアミド、〇−トルエンスルホン
アミド、P−トルエンスルホンアミド、クロルベンゼン
スルホンアミドなどのアリールスルホンアミド類、また
は(f)これらの混合物との反応生成物。(e) Arylsulfonamides such as benzenesulfonamide, 0-toluenesulfonamide, P-toluenesulfonamide, chlorobenzenesulfonamide, or (f) a reaction product with a mixture thereof.
(至)モノアリリデントリメチロールプロパン及び(ま
たは)モノアリリデントリメチロールエタンとトリレン
ジイソシアネート、ポリアルキレンアリルイソシアネー
ト、メタフェニレンジイソシアネート、キシリレンジイ
ソシアネート、ヘキリメチレンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネートなどのイソシアネート化合物と
の反応生成物。(To) Monoallylidene trimethylolpropane and/or monoallylidene trimethylolethane and isocyanate compounds such as tolylene diisocyanate, polyalkylene allyl isocyanate, metaphenylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, hexylimethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, etc. reaction product.
(へ)モノアリリデントリメチロールプロパン及び(ま
たは)モノアリリデントリメチロールエタンとコハク酸
無水物、マレイン酸無水物、イタコンII無水物、フタ
ル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒド
ロフタル酸無水物との付加半ニスデル化物。(f) Monoallylidene trimethylolpropane and/or monoallylidene trimethyloleethane with succinic anhydride, maleic anhydride, itacone II anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic acid Additive hemi-Nisderide with anhydride.
(V)モノアリリデントリメチロールプロパン及び(ま
たは)モノアリリデントリメチロールエタンとカルボン
酸無水物との付加半エステル化物と、多価グリシジルエ
ーテル型エポキシ化合物やフタル酸、アジピン酸、ダイ
マー酸などのグリシジルエステル型エポキシ化合物など
のエポキシ化合物とを反応させて得られる化合物。(V) Addition half-esterified product of monoallylidene trimethylolpropane and/or monoallylidene trimethyloleethane with carboxylic acid anhydride, polyglycidyl ether type epoxy compound, phthalic acid, adipic acid, dimer acid, etc. A compound obtained by reacting with an epoxy compound such as a glycidyl ester type epoxy compound.
(B)メルカプト系化合物
第1および第2の発明に用いられる組成物の第2成分と
して使用されるメルカプト系化合物(B)とは、1分子
あたり少なくとも2個のメルカプ!・Uを右する脂肪族
または芳香族ポリメルカプタンである。(B) Mercapto Compound The mercapto compound (B) used as the second component of the composition used in the first and second inventions refers to at least two mercapto compounds per molecule!・It is an aliphatic or aromatic polymercaptan with U.
本発明の組成物に好適に利用されるメルカプト系化合物
([3)としては、次の山ないしくV)の化合物などを
挙げることができる。Examples of the mercapto compound ([3)] suitably used in the composition of the present invention include the compounds shown in the following (I) to (V).
(i)ジベンテンジメル力ブタン、ニブ・ルシクOへキ
シルジメルカプタン、 1・6−ヘキサンジメルカプタ
ン。(i) Dibentenedimerbutane, Nibu-RusikOhexyldimercaptan, 1,6-hexanedimercaptan.
■カルボキシル基を有するメルカプト化合物と、多価ア
ルコールとのエステル化合物。カルボキシル基を有する
メルカプト化合物としては、例えばチオグリコール酸ま
たはβ−メルカプ]・プロピオン酸、メルカプトコハク
酸等を挙げることができる。また、多価アルコールとし
ては、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール
、トリメチロールプロパンやトリメチロールエタンなど
を挙げることができる。■An ester compound of a mercapto compound having a carboxyl group and a polyhydric alcohol. Examples of the mercapto compound having a carboxyl group include thioglycolic acid, β-mercap]propionic acid, and mercaptosuccinic acid. Further, examples of the polyhydric alcohol include pentaerythritol, dipentaerythritol, trimethylolpropane, and trimethylolethane.
(至)メルカプト基に対してβ−位置の炭素原子に水1
lIl!基を有する化合物。(to) 1 water at the carbon atom in the β-position relative to the mercapto group
lIl! Compounds with groups.
(へ)エポキシ樹脂と硫化水素との反応によって得られ
る化合物。(f) A compound obtained by the reaction of epoxy resin and hydrogen sulfide.
(V)エポキシ樹脂とチオグリコール酸との反応によっ
て得られる化合物。(V) A compound obtained by reacting an epoxy resin with thioglycolic acid.
(C)(メタ)アクリロイル系化合物
筒2の発明に用いられる組成物の第3成分である(メタ
)アクリロイル系化合物(C)とは、1分子あたり少な
くとも合計2個の7クリロイル基および/またはメタク
リロイル基を有する化合物であって、上記アセタール系
化合物(A)やメルカプト系化合物([3)と共重合可
能でかつ均一混合し得るものであれば種々の化合物を利
用できる。(C) (Meth) Acryloyl Compound The (meth) acryloyl compound (C) which is the third component of the composition used in the invention of cylinder 2 means a total of at least two 7-acryloyl groups per molecule and/or Various compounds can be used as long as they have a methacryloyl group and are copolymerizable and uniformly mixed with the acetal compound (A) and mercapto compound ([3)].
そのような化合物としては、ビスフェノール系化合物(
C−1)、トリアジン系化合物(C−2)、その他の化
合物(C−3)が挙げられる。これらの中でも、ビスフ
ェノール系化合物(C−1)。Such compounds include bisphenol compounds (
C-1), triazine compounds (C-2), and other compounds (C-3). Among these, bisphenol compound (C-1).
トリアジン系化合物(C−2)などは、これらが配合さ
れた組成物が、耐熱性、耐水性に特に優れたものとなる
点で好ましい。Triazine compounds (C-2) and the like are preferable because the composition containing them has particularly excellent heat resistance and water resistance.
以下、これらの化合物について説明する。These compounds will be explained below.
ビスフエ −ル゛ 八 一
本発明に用いて好適なビスフェノール類(C−1)とは
、1分子あたり少なくとも合計2個のアクリロイル基及
び/またはメタクリロイル基を有するビスフェノール類
である。Bisphenols (C-1) suitable for use in the present invention are bisphenols having a total of at least two acryloyl groups and/or methacryloyl groups per molecule.
そのようなビスフェノール系化合物(C−1)としては
、次の(1)式で示されるものが例示される。Examples of such bisphenol compounds (C-1) include those represented by the following formula (1).
(R1+7(+ X→Rz)。2−−−−−(+)(1
)式、中n I +n2は1〜3ノ整数。(R1+7(+X→Rz).2−−−−−(+)(1
), where n I +n2 is an integer from 1 to 3.
(1)式中Xは、(2)〜(7)式などC示される構造
のものである。In formula (1), X has a structure represented by C such as formulas (2) to (7).
CI CH3C/
ここで(2)式中Yは(8)〜(16)式等で示す構造
のものである。CI CH3C/ Here, Y in formula (2) has a structure shown in formulas (8) to (16), etc.
CH3
CH3
−CH2−−−−(9) −C−−−−−
(10)CH3
0CH3
CH3H3CCH3
また、(1)式中RI −R2としては(17)式で示
す構造のものが挙げられる。CH3 CH3 -CH2----(9) -C------
(10) CH3 0CH3 CH3H3CCH3 Furthermore, in formula (1), RI -R2 includes a structure represented by formula (17).
R30 ここで(17)式中R3、R4は水素(H)。R30 Here, in formula (17), R3 and R4 are hydrogen (H).
メヂル13 (MO) 、エチル基(Et)およびその
1ハロゲン原子置換体。また、mは0〜6の整数で
ある。Medyl 13 (MO), ethyl group (Et) and its one-halogen atom substituted product. Further, m is an integer from 0 to 6.
上記の各化合物は単独で62種以上の混合物としても使
用できる。Each of the above compounds can be used alone or as a mixture of 62 or more types.
1 sl−′A ・一本発明に
用いて好適なトリアジン系化合物(C−2〉とは、1分
子あたり少なくとも1個の[・リアジン環を有し、かつ
1分子あたり少なくと−b合512個のアクリロイル基
及び/もしくはメタクリロイル基を有する化合物である
。そのような化合物としては、下記(18)式で示され
る化合物もしくはこれらがホルマリンや多価アルコール
、エチレンオキサイドなどを介しオリゴマー化した化1
物などを挙げることができる。1 sl-'A ・1 A triazine compound (C-2) suitable for use in the present invention has at least one [・riazine ring per molecule, and at least -b 512 It is a compound having acryloyl groups and/or methacryloyl groups. Examples of such compounds include compounds represented by the following formula (18), or compounds obtained by oligomerizing these with formalin, polyhydric alcohol, ethylene oxide, etc.
Can list things.
(18)式中、X、Y、Zは、水素、アルキル5、アル
コ゛1ニシル基、アルコキシル?クリル変性したもの、
ただし、R1・〜R2Gよ、水素.メチル基,エチレ基
,プロピル基の如き脂肪族アルキル基,ベンジル基の如
き芳香族アル1−ル基もしく G;1(n−0〜4,X
−水素又はアルキル基)?示す。(18) In the formula, X, Y, and Z are hydrogen, alkyl 5, alkyl 1 nisyl group, alkoxyl? Krylic modified, provided that R1.~R2G, hydrogen. an aliphatic alkyl group such as a methyl group, an ethylene group, a propyl group, an aromatic alkyl group such as a benzyl group, or G;1(n-0 to 4,
-hydrogen or alkyl group)? show.
このトリアジン系化合物(C−2)の代表的なしのとし
ては
(1) N、 N’−ビス(メタ)アクリロイルメチル
−N、 N’ 、N”、N“−テトラキスメト牛ジメチ
ルメラミン、 N、N、N ’ 、N“−デトラキス(
メタ)アクリロイルメチル−NZ 、NIJ−ビスエト
キシメヂルメフ4ノ、
(2) N、N、 N’ 、N’ 、N” 、N”−へ
キサキス(2−(メタ)アクリロイルエトキシメチル)
メラミン、(3) 2.4−ビス[[N、N−ビス[
(2−(メタ)アクリロイルエトキシ)エトキシメチル
1]アミノ1−6−ニトキシー 1.3.5−トリアジ
ン、(4) 2.4−ビス[p −(2−(メタ)アク
リロイルエトキシ)フェニルオキシ]−6−[[14,
M−ビス[(2−(メタ)アクリロイルエトキシ)エト
キシメチル1]アミノ] −1,3,5−トリアジン、
(5) 2.2−ビス[4−[[N、N’ 、N“−ト
リスメトキシメチル−N’ 、N“−(2−(メタ)ア
クリロイルエトキシ)メチル]メラミニルオキシ]フェ
ニル〕プロパンなどを挙げることができる。Typical examples of this triazine compound (C-2) are (1) N, N'-bis(meth)acryloylmethyl-N, N', N'', N''-tetrakismethoxaldimethylmelamine, N, N, N', N"-detrakis (
meth)acryloylmethyl-NZ, NIJ-bisethoxymedylmef4no, (2) N, N, N', N', N'', N''-hexakis (2-(meth)acryloylethoxymethyl)
Melamine, (3) 2,4-bis[[N,N-bis[
(2-(meth)acryloylethoxy)ethoxymethyl 1]amino 1-6-nitoxy 1.3.5-triazine, (4) 2.4-bis[p-(2-(meth)acryloylethoxy)phenyloxy] -6-[[14,
M-bis[(2-(meth)acryloylethoxy)ethoxymethyl 1]amino]-1,3,5-triazine,
(5) 2.2-bis[4-[[N,N', N"-trismethoxymethyl-N', N"-(2-(meth)acryloylethoxy)methyl]melaminyloxy]phenyl]propane, etc. be able to.
また、オリゴマー化に用いる多価アルコールとしては、
エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、1・3−ブタンジオール、 1・6−ヘ
キサンジオール、水添ビスフェノールA、 トリメチロ
ールプロパン、ペンタエリスリトール、フタル酸、イソ
フタル酸及びテレフタル酸のエチレンオキサイド付加物
などが挙げられる。In addition, as polyhydric alcohols used for oligomerization,
Examples include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,6-hexanediol, hydrogenated bisphenol A, trimethylolpropane, pentaerythritol, ethylene oxide adducts of phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid. It will be done.
なお、分子中のトリアジン環1個あたりの官能基の数は
2以上であれば全く限定されないが、エステル結合によ
る吸水効果と、架橋密度上昇にJこる耐熱性向上とのバ
ランスを考慮して、1分子中のトリアジン111個あた
りの官能基の数は4〜6の範囲内であることが望ましい
。Note that the number of functional groups per triazine ring in the molecule is not limited at all as long as it is 2 or more, but considering the balance between the water absorption effect due to ester bonds and the improvement in heat resistance due to increase in crosslink density, The number of functional groups per 111 triazines in one molecule is preferably within the range of 4 to 6.
のbの −
この第3成分である(メタ)アクリロイル系化合物(C
)として用いて好適なその他の化合物(C−3>として
は、次のようなものが例示される。b - This third component is a (meth)acryloyl compound (C
) Other suitable compounds (C-3>) include the following.
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、プロ
ピレングコールジアクリレー1−、ポリプロピレングリ
コールジアクリレート。Ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate 1-, polypropylene glycol diacrylate.
ブチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリ1−一ルトリ
アクリレート、ジグリシジルビスフェノールAジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジメタクリレ−1〜、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメ
タクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレ
ート、プロピレングリコールジメタクリレート、ブチレ
ングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタク
リレート、ジグリシジルビスフェノールAジメタクリレ
ートなど。Butylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythryl triacrylate, diglycidyl bisphenol A diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate-1~, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene Glycol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate, butylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, diglycidyl bisphenol A dimethacrylate, etc.
(D)その他の添加物
本発明の透明性基材に用いられる組成物には、各種開始
剤、増感剤は言うまでもなく、酸化防止剤、安定剤、離
型剤、染料、帯電防止剤、防曇剤。(D) Other additives The composition used in the transparent base material of the present invention includes not only various initiators and sensitizers, but also antioxidants, stabilizers, mold release agents, dyes, antistatic agents, Anti-fog agent.
界面活性剤、レベリング剤、@合調整剤、紫外線吸収剤
などの添加剤を必要に応じて加えることができる。Additives such as a surfactant, a leveling agent, a mixing agent, and an ultraviolet absorber can be added as necessary.
また、組成物の本質を大きく損なわない範囲内で、アセ
タール系化合物(A)、メルカプト系化合物(B)、(
メタ)アクリロイル化合物(C)と共重合可能で、かつ
均一に混じるものならば、いかなる反応性モノマーもし
くはオリゴマーを添加することもできる。In addition, an acetal compound (A), a mercapto compound (B), (
Any reactive monomer or oligomer can be added as long as it is copolymerizable with the meth)acryloyl compound (C) and is uniformly mixed therewith.
工l工工遣1
上記各成分の配合割合は、特に限定されないが次に述べ
る範囲で配合されることが望ましい。Technique 1 The blending ratio of each of the above components is not particularly limited, but is preferably blended within the following range.
まず、アセタール系化合物(A)とメルカプ(−系化合
物(B)との配合割合は、当m比で1;1〜0.5程度
であることが望ましい。アセタール系化合物(Δ)の配
合]lが多い場合には、硬化に長時間を要するうえ成形
体にムラが発生し易い不都合がある。また、メルカプト
系化合物(B)の配合量が極端に多い場合には得られる
成形体が不快臭を有するものとなったり硬度等の物性の
低下が認められる不都合が生じる。First, it is desirable that the blending ratio of the acetal compound (A) and the mercap (- compound (B) is about 1:1 to 0.5 in equimolar ratio.Blend of the acetal compound (Δ)) If the amount of mercapto compound (B) is too large, it takes a long time to cure and the molded product is likely to become uneven.Also, if the amount of mercapto compound (B) is extremely large, the resulting molded product may be unpleasant. Inconveniences arise in that the product has an odor and physical properties such as hardness are deteriorated.
また、硬化性樹脂とするためには、アセタール系化合物
(A)1分子あたりの不飽和シクロアセタールヰの数と
、メルカプト系化合物(B)1分子あたりのメルカプ1
−基の数との合計が4個以上、好ましくは5個以上であ
ることが必要である。In addition, in order to obtain a curable resin, the number of unsaturated cycloacetals per molecule of the acetal compound (A) and the number of mercaps per molecule of the mercapto compound (B) must be determined.
- The total number of groups must be 4 or more, preferably 5 or more.
第2の発明で用いられる(メタ)アクリロイル系化合物
(C)の配合割合は、特に限定されないが、使用量が多
すぎた場合、得られる成形体が硬度が高すぎてもろいも
のとなる。また使用ωが少なずぎると望みつる耐熱性は
得られない。このような理由からこの(メタ)アクリロ
イル系化合物(C)の配合割合は、アセタール系化合物
(A)1当量に対して、0.2〜6.3当m、より好ま
しくは0.5〜5.4当番であることが望ましい。The blending ratio of the (meth)acryloyl compound (C) used in the second invention is not particularly limited, but if the amount used is too large, the resulting molded product will have too high hardness and become brittle. Furthermore, if too little ω is used, the desired heat resistance cannot be obtained. For these reasons, the blending ratio of the (meth)acryloyl compound (C) is 0.2 to 6.3 equivalents, more preferably 0.5 to 5 equivalents, per equivalent of the acetal compound (A). .4 It is desirable to be on duty.
(1)成形方法
上記各成分からなる組成物からディスク基板などの情報
記録盤を製作する製法には特にIII限はないが注型法
による方法が便利である。(1) Molding method There is no particular limitation to the manufacturing method for manufacturing an information recording disk such as a disk substrate from a composition consisting of the above-mentioned components, but a casting method is convenient.
例えば、ガラスまたは金穴板上にフォトレジスト法など
の方法によって情報ビット(突起)あるいはトラッキン
グ溝などの凹凸形状の情報記録部を形成し、これをもと
にしてポリニスデルなどで成形用の複製型(スタンバ)
を作り、このスタンパ表面に金属の薄膜をコーティング
して1r:Iられた型に、常温または特定の温度条件以
下例えば100℃以下の加温状態では液体である上記の
組成物を流し込んで、十分に型の隅々までゆきわたらせ
たのら、加熱及びまたは高エネルギー線に照射により硬
化させ、硬化後、前記型からはずして、ディスク基板を
製作する。硬化後脱型すると、型の微細な凹凸が基板表
面にあられれている。また凹凸部を有する2枚のガラス
板の間に組成物を注入し、高エネルギー線をガラス板を
へだてて照射し、硬化したのら脱型し、基板を作ること
もできる。For example, an uneven information recording section such as information bits (protrusions) or tracking grooves is formed on a glass or gold hole plate using a method such as a photoresist method, and based on this, a reproduction mold for molding is made using polynisdel etc. (Standby)
A thin metal film is coated on the surface of the stamper, and the above composition, which is liquid when heated at room temperature or under a specific temperature condition, e.g. 100°C or less, is poured into the mold. After it has spread to every corner of the mold, it is cured by heating and/or irradiation with high-energy radiation, and after curing, it is removed from the mold to produce a disk substrate. When the mold is removed after curing, fine irregularities from the mold are found on the substrate surface. It is also possible to make a substrate by injecting the composition between two glass plates having uneven parts, irradiating the composition with high-energy rays across the glass plates, and removing the composition after curing.
±毘工豊上方ユ
この組成物を硬化せしめる方法としては、まず前記各化
合物(A)(B)(C)を所定の割合で均一に混合する
。ついで、この混合物を、例えばガラス、セラミック、
プラスチック、ゴムなどで作られている所定の形状のモ
ールドに注入し、下記の手法で硬化させる。As a method for curing this composition, first, the above-mentioned compounds (A), (B), and (C) are uniformly mixed in a predetermined ratio. This mixture is then applied to, for example, glass, ceramic,
It is injected into a mold of a specified shape made of plastic, rubber, etc., and cured using the following method.
(1)活性エルルギー線を照射させる方法この方法は、
γ線、X線、紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照
射させることによって組成物を硬化さぼる方法である。(1) Method of irradiating active energy rays This method is
This is a method of curing the composition by irradiating it with active energy rays such as gamma rays, X-rays, ultraviolet rays, and electron beams.
照射エネルギー伍は一般には0.01 J / t:4
以上、500 J / ai以下であればよく、特に0
.1〜100 J / aiの範囲内が好ましい。照射
エネルギーmが0.01 J / d未満では、架橋反
応が不完全で硬化が不充分となる。一方、500 J
/ CIiを越えて照射すると、得られる硬化物(樹脂
)の一部が劣化したり、着色するなどして、良好な情報
記録盤が得られない。The irradiation energy is generally 0.01 J/t:4
above, 500 J/ai or less, especially 0
.. It is preferably within the range of 1 to 100 J/ai. If the irradiation energy m is less than 0.01 J/d, the crosslinking reaction will be incomplete and curing will be insufficient. On the other hand, 500 J
/ If irradiation exceeds CIi, a part of the resulting cured product (resin) will deteriorate or become colored, making it impossible to obtain a good information recording disc.
照射は2回以上に分けても、1度に行なってもかまわな
い。必要に応じて特開昭58−175877号公報明m
国に記載されている光増感剤、安定剤などの添加剤を加
えてもよい。この方法については、特開昭59−860
01号及び特開昭59−89330号の各公報明ll1
l大に詳細に記載されている。The irradiation may be divided into two or more times or may be performed at once. If necessary, please refer to JP-A-58-175877.
Additives such as photosensitizers and stabilizers listed in Japan may be added. This method is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-860.
No. 01 and Japanese Patent Application Laid-open No. 59-89330.
It is described in detail in the book.
(2)熱による方法
熱によって前記組成物を硬化させる場合、加熱温度は、
重合開始剤の使用の有無、それらの種類及び配合割合な
どによって異なるが、通常V温なである。加熱温度が室
温未満では、硬化時間が長くなるために生産性がよくな
い。一方、300℃を越えるならば、熱によって劣化す
る不都合が生じる。(2) Method using heat When curing the composition using heat, the heating temperature is:
Although it varies depending on whether or not a polymerization initiator is used, their type and blending ratio, the temperature is usually V. If the heating temperature is lower than room temperature, the curing time will be longer, resulting in poor productivity. On the other hand, if the temperature exceeds 300°C, there will be a problem of deterioration due to heat.
また、加熱時間は温度および重合開始剤の使用の有無、
それらの種類および使用割合などによって異なるが、一
般には0.1〜100時間であり、特に1〜20時聞が
好適である。In addition, the heating time depends on the temperature and whether or not a polymerization initiator is used.
Although it varies depending on the type and usage ratio, it is generally 0.1 to 100 hours, and particularly preferably 1 to 20 hours.
重合開始剤を使用することによって硬化時間を短縮させ
ることができる。この際、重合開始剤の使用量が多いと
、得られる硬化物が着色したり、もろくなるので好まし
くない。従って、得られる硬化物の物性と生産性のバラ
ンスを考慮して重合開始剤の使用けは前記混合物100
@51部に対して10重量部以下、通常5mff1部以
下とされる。By using a polymerization initiator, curing time can be shortened. In this case, if the amount of polymerization initiator used is too large, the resulting cured product may be colored or become brittle, which is not preferable. Therefore, considering the balance between the physical properties and productivity of the cured product obtained, the use of a polymerization initiator is
@ 51 parts to 10 parts by weight or less, usually 5 mff 1 part or less.
ここで好適に使用される重合開始剤としては、例えば特
1ノ)1昭55−105201号公報に記載したもの等
を挙げることができる。Examples of the polymerization initiator suitably used here include those described in Tokubetsu No. 1 No. 1 Sho 55-105201.
以上の活性エネルギー線を照射させる方法及び熱による
方法を併用させることもできる。The above method of irradiating with active energy rays and the method using heat can also be used in combination.
(作用)
本発明の透明性基材は、所定の組成物からなる成形体の
表面に酸化アルミニウム層が形成されたものである。(Function) The transparent substrate of the present invention has an aluminum oxide layer formed on the surface of a molded body made of a predetermined composition.
この酸化アルミニウム層は、本発明に用いる特定の組成
物からなる成形体と極めて良好な親和性を示す。This aluminum oxide layer shows extremely good affinity with the molded article made of the specific composition used in the present invention.
そしてまた、この酸化アルミニウム層は、II上に設け
られるNなどからなる媒体層とも良好な密着性を有して
いる。Furthermore, this aluminum oxide layer also has good adhesion to the medium layer made of N or the like provided on II.
従って、本発明の透明性基材は、Nなどからなる媒体層
が良好に密着し得るものとなり、この透明性基材からな
る光ディスク等は長期の使用に供されても媒体層の剥離
などが生じることがない。Therefore, the transparent base material of the present invention allows a medium layer made of N or the like to adhere well, and optical discs etc. made of this transparent base material are free from peeling of the medium layer even after long-term use. It never occurs.
なお、以上の説明では成形体の表面に酸化アルミニウム
層を設けた透明性基材のみ示したが、本発明の透明性基
材はこれに限られるものでなく、必要に応じて酸化アル
ミニウム層上にさらに酸化ジルコニウム等からなる中間
層を設【ノることもできる。In the above explanation, only the transparent base material in which the aluminum oxide layer is provided on the surface of the molded body is shown, but the transparent base material of the present invention is not limited to this, and if necessary, the transparent base material may be formed on the aluminum oxide layer. Additionally, an intermediate layer made of zirconium oxide or the like may be provided.
(実施例)
以下、実施例に沿って本発明の透明性基材をさらに詳し
く説明する。(Example) Hereinafter, the transparent base material of the present invention will be explained in more detail according to Examples.
実施例1
ジアリリデンペンタエリスリット21.21;lをペン
タエリスリットテトラチオグリコレート21.hに溶解
させ50℃で30分間撹拌しながら反応させた。次に、
これにN、N ’ 、N″−1−リス(アクリロイルメ
チル)N、N’、N“ −トリス(メトキシメチル)メ
ラミン80g、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト35.2gおよびペンシフ1ノン0.4gを加え、均
一になるまで撹拌して硬化性組成物を得た。Example 1 Diarylidene pentaerythritol 21.21;l was converted to pentaerythritol tetrathioglycolate 21.21; h and reacted at 50°C for 30 minutes with stirring. next,
To this, 80 g of N,N',N''-1-lis(acryloylmethyl)N,N',N''-tris(methoxymethyl)melamine, 35.2 g of pentaerythritol tetraacrylate and 0.4 g of pencil 1 non were added, A curable composition was obtained by stirring until uniform.
この硬化性組成物を透明な型に流し込み、3KWメクル
ハライドランプにて両面15CI11の距離から100
秒間照射重合させ、均一で無色透明な板を411だ。This curable composition was poured into a transparent mold, and a 3KW Mekl halide lamp was used to heat the curable composition from a distance of 15CI11 on both sides at 100°C.
411 is irradiated for seconds and polymerized to produce a uniform, colorless and transparent plate.
この板を真空蒸着装置中へ入れ、到達真空度2x l
Q−6Lorrまで脱気した後、Miガスを1O−4L
orry)入しながら酸化アルミニウム(Mz03)を
蒸着した。蒸着速度は200人/minであり膜厚は2
000人であった。Place this plate into a vacuum evaporation device and achieve an ultimate vacuum of 2x l.
After degassing to Q-6Lorr, 1O-4L of Mi gas
Aluminum oxide (Mz03) was vapor-deposited while the aluminum oxide (Mz03) was injected. The deposition rate was 200 people/min, and the film thickness was 2
There were 000 people.
さらに、この上にアルミニウム層を真空黒糖法により形
成させた。M層の〃さは5000人であった。Further, an aluminum layer was formed thereon by the vacuum brown sugar method. The number of people in the M class was 5,000.
このMwAの上にエポキシ樹脂の保¥I!llを形成さ
せてサンプルとした。Hold the epoxy resin on top of this MwA! ll was formed and used as a sample.
実施例2
実施例1と、N、N ’ 、N” −トリス(アクリ
ロイルメチル) N、N ’ 、N” −トリス(メ
トキシメチル)メラミンのかわりに4.4′ ビスフェ
ノールAジアクリレート60(7を使用し、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレートのかわりに、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート40qを使用した点のみ
異なるサンプルを作成した。Example 2 Example 1 and 4.4' bisphenol A diacrylate 60 (7 A sample was prepared that differed only in that 40q of trimethylolpropane triacrylate was used instead of pentaerythritol tetraacrylate.
実施例3
ジアリリデン2,2,6,6.テトラメチロールシクロ
へキサノン30gと1.1,1. l−リスチロールプ
ロパントリチオグリコレート20gとを加え、50℃で
30分間反応させた。このものに、トリメチロールブ「
コバントリアクリレートを50a加え、さらにアゾビス
イソブチロニトリル0.12gを加え、均一になるまで
撹拌して組成物を得た。その後、実施例1で用いたモー
ルド中に前記組成物を注入し、70℃の恒温槽中で30
分間加熱し、10℃/hrで昇温し、90℃で3時間、
120℃で1時間加熱し、重合を完結させ、無色透明な
成形体を得た。Example 3 Diarylidene 2,2,6,6. 30g of tetramethylolcyclohexanone and 1.1,1. 20 g of l-ristyrolpropane trithioglycolate was added and reacted at 50°C for 30 minutes. Add trimethylol to this
50 a of coban triacrylate was added, and further 0.12 g of azobisisobutyronitrile was added, and the mixture was stirred until homogeneous to obtain a composition. Thereafter, the composition was poured into the mold used in Example 1, and the composition was placed in a constant temperature bath at 70°C for 30 minutes.
Heat for 1 minute, raise the temperature at 10℃/hr, and heat at 90℃ for 3 hours.
The mixture was heated at 120° C. for 1 hour to complete polymerization, and a colorless and transparent molded product was obtained.
次に、DCマグネトロンスパッタリング装置を用いて、
アルゴン濃度を1.5X10°3torr、ターゲット
と成形体との距離を151として、酸化アルミニウム膜
を形成させた。膜形成速度は、200人/sinで膜厚
は1900人であった。さらにこの上に酸化ジルコニウ
ム膜を形成させた。この酸化ジルコニウムの膜形成速度
は300人/1nであり、膜厚は2100人であった。Next, using a DC magnetron sputtering device,
An aluminum oxide film was formed with an argon concentration of 1.5×10° 3 torr and a distance of 151 mm between the target and the compact. The film formation rate was 200 people/sin, and the film thickness was 1900 people/sin. Furthermore, a zirconium oxide film was formed on this. The film formation rate of this zirconium oxide was 300 people/1n, and the film thickness was 2100 people/1n.
この酸化ジルコニウム膜の上に、さらにアルミニウム膜
を5000人形成さけた。ついで、実施例1と同じ1ボ
キシ樹脂の保5層を形成してづンブルを1e′また。On top of this zirconium oxide film, an additional 5,000 aluminum films were formed. Next, a protective layer of the same 1-boxy resin as in Example 1 was formed, and a layer 1e' was formed.
比較例1
実施例1のサンプルと酸化アルミニウム層を設けず成形
体に直接アルミニウム層を形成させた点が異なるもの。Comparative Example 1 A sample that differs from the sample of Example 1 in that an aluminum layer was directly formed on the molded body without providing an aluminum oxide layer.
比較例2
実施例1のサンプルと、酸化アルミニウムの代わりに酸
化ジルコニウム層を形成し、その上にアルミニウム層を
形成させた点が異なるもの。Comparative Example 2 A sample different from the sample of Example 1 in that a zirconium oxide layer was formed instead of aluminum oxide, and an aluminum layer was formed thereon.
比較例3
実施例1のサンプルと、酸化アルミニウムのかわりに酸
化タンタル(Ta20s)1mを形成し、その上にアル
ミニウム層を形成させた点が異なるもの。Comparative Example 3 A sample different from the sample of Example 1 in that 1 m of tantalum oxide (Ta20s) was formed instead of aluminum oxide, and an aluminum layer was formed on it.
比較例4
実施例2のサンプルと、酸化アルミニウム層と酸化ジル
コニウム層の順序を反対にして、酸化ジルコニウム層を
形成さけた後、酸化アルミニウム層を形成さU、その上
にアルミニ「クム居を形成した点が異なるもの。Comparative Example 4 The order of the aluminum oxide layer and the zirconium oxide layer was reversed from that of the sample of Example 2 to avoid forming the zirconium oxide layer, and then an aluminum oxide layer was formed, and an aluminum oxide layer was formed on it. The difference is in what you did.
比較@5
ポリカーボネート樹脂の射出成形品に実施例1と同様に
酸化アルミニウム層、アルミニウム層を形成したもの
比較PA6
ポリメタクリル酸メチル樹脂の射出成形品に実施例1と
同様に酸化アルミニウム層、アルミニウム層を形成した
もの
比較例7
PPG社製CR−39モノマ一100gにlPP3.O
Qを加え、均一に溶解させた。このものを実施例1と同
じガラスモードに注入した後、38℃で15時間保持し
、その後、3時間かけて60℃まで昇温し、60℃で2
時開保持した後、2時間かけて室温までもどし、その後
115℃で1時間アニールして、成形体を得た。Comparison @5 An aluminum oxide layer and an aluminum layer were formed on a polycarbonate resin injection molded product in the same manner as in Example 1. Comparison PA6 An aluminum oxide layer and an aluminum layer were formed on a polymethyl methacrylate resin injection molded product in the same way as in Example 1. Comparative Example 7 100 g of CR-39 monomer manufactured by PPG was added 1PP3. O
Q was added and uniformly dissolved. After pouring this material into the same glass mode as in Example 1, it was held at 38°C for 15 hours, then the temperature was raised to 60°C over 3 hours, and the temperature was raised to 60°C for 2 hours at 60°C.
After being kept open for 2 hours, the mixture was returned to room temperature over 2 hours, and then annealed at 115° C. for 1 hour to obtain a molded article.
この成形体上に実施例1と同様な手法で酸化アルミニウ
ム層、アルミニウム層を形成させた。An aluminum oxide layer and an aluminum layer were formed on this molded body in the same manner as in Example 1.
なお、比較例1〜7のものには、実施例1のサンプルと
同様にエポキシ樹脂からなる保’fliTnを形成した
。Note that in Comparative Examples 1 to 7, a protective film made of epoxy resin was formed in the same manner as in the sample of Example 1.
実施例1〜3及び比較例1〜7で得られたり゛ンブルに
ついて初期T!1!着、耐候テストを行なった。The initial T! 1! We carried out a weather test.
耐候テストは、サンシャインウエザオメータに200時
闇サンプルを暴露さ「た後、密着性を調べることによっ
て行った。The weather resistance test was conducted by exposing the sample to a sunshine weather meter at 200 hours and then examining the adhesion.
密着テストは、保:!11g!の面にナイフで1#Iの
角のマス口を100個切りセロハン粘着テープ(■ニチ
バン製セロテープ)を強く貼り付【190度方向に急激
に剥がし、剥がされなかったまづ目の割合を示す。Adhesion test is Ho:! 11g! Cut 100 1#I square squares on the surface with a knife and firmly stick cellophane adhesive tape (■Cellotape made by Nichiban) [Peel off suddenly in a 190 degree direction, and show the percentage of squares that were not peeled off.
また得られたサンプルのHD T 、吸水率、複屈折1
表面硬度、耐溶剤性、アイゾッ1−衝撃値1反射率を測
定した。In addition, HD T , water absorption, birefringence 1 of the obtained sample
Surface hardness, solvent resistance, Izod 1-impact value 1 reflectance were measured.
3°1 ASTM D−648の方法により試験した。3°1 Tested according to ASTM D-648 method.
荷mは66psiであった。The load m was 66 psi.
i水土
ASTM D−570の方法によって、成形体を23
℃の水中に24時間浸漬して試験した。i Wet and soil ASTM D-570 method, 23
It was tested by immersing it in water at ℃ for 24 hours.
1皿石
自動エリプソメータにより、ディスク成形体を回転させ
ながら各点の複屈折を測定した。光源は、1・Ic−N
eレーザで波長は632.8n−である。測定値はダブ
ルバスの値を示す。1a屈折はレタデーションの絶対値
を平均しnmで示した。The birefringence at each point was measured using a one-plate automatic ellipsometer while rotating the disk molded body. The light source is 1.Ic-N
The e-laser has a wavelength of 632.8n-. Measured values indicate double bath values. 1a refraction is the average of the absolute values of retardation and is expressed in nm.
豆1皿 波長7g0n■の光線透過率を示す。1 plate of beans It shows the light transmittance at a wavelength of 7g0n.
K皿里皿 パーコールハード法による。K-sara-sato-sara By Percoll hard method.
乙り父工上工5j
Vノツチを入れ、ASTM D−256により試験し
た。It was tested according to ASTM D-256 using a V-notch.
結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.
(発明の効果)
本発明の透明性基材は、アセタール系化合物とメルカプ
ト系化合物とからなる組成物、あるいはアセタール系化
合物、メルカプト系化合物および(メタ)アクリロイル
系化合物とからなる組成物を成形硬化せしめて得られる
成形体の表面に酸化アルミニウム層を設けたものなので
、この基材上にはMなどからなる媒体層を強固に密着す
ることができる。従って、本発明の透明性基材によれば
、苛酷なfill下で長期間使用に供されても媒体層の
剥離を生じない、超寿命でかつ耐久性に優れた光ディス
ク等を得られる。(Effects of the Invention) The transparent substrate of the present invention molds and cures a composition consisting of an acetal compound and a mercapto compound, or a composition consisting of an acetal compound, a mercapto compound, and a (meth)acryloyl compound. Since the aluminum oxide layer is provided on the surface of the molded body obtained, a medium layer made of M or the like can be tightly adhered to this base material. Therefore, according to the transparent base material of the present invention, it is possible to obtain an optical disk or the like that has a long life and excellent durability, and does not cause peeling of the medium layer even when used for a long period of time under severe filling conditions.
また、第1表の結果からも確認できるように、本発明の
透明性基材は、ポリカーボネート樹脂。Furthermore, as can be confirmed from the results in Table 1, the transparent base material of the present invention is made of polycarbonate resin.
ポリメタクリル酸樹脂、CR−39などからなる基材に
比較して耐熱性、吸水率、1屈折、硬度。Heat resistance, water absorption, 1 refraction, and hardness compared to base materials made of polymethacrylic acid resin, CR-39, etc.
耐衝撃性などについても優れた物性を有している。It also has excellent physical properties such as impact resistance.
Claims (4)
ロアセタール基を有する化合物と、[b]1分子あたり
少なくとも2個のメルカプト基を有する化合物とからな
る組成物を硬化させて得られる成形体の表面に、酸化ア
ルミニウムからなる層が形成されたことを特徴とする透
明性基材。(1) Molding obtained by curing a composition consisting of [a] a compound having at least two unsaturated cycloacetal groups per molecule and [b] a compound having at least two mercapto groups per molecule A transparent base material characterized by having a layer made of aluminum oxide formed on the surface of the body.
ロアセタール基を有する化合物と、[b]1分子あたり
少なくとも2個のメルカプト基を有する化合物と、[c
]1分子あたり少なくとも合計2個のアクリロイル基お
よび/またはメタクリロイル基を有する化合物とからな
る組成物を硬化させて得られる成形体の表面に、酸化ア
ルミニウムからなる層が形成されたことを特徴とする透
明性基材。(2) [a] A compound having at least two unsaturated cycloacetal groups per molecule, [b] a compound having at least two mercapto groups per molecule, and [c
] A layer made of aluminum oxide is formed on the surface of a molded product obtained by curing a composition made of a compound having a total of at least two acryloyl groups and/or methacryloyl groups per molecule. Transparent base material.
基および/またはメタクリロイル基を有する化合物[c
]が、1分子あたり少なくとも合計2個のアクリロイル
基及び/もしくはメタクリロイル基を有するビスフェノ
ール類であることを特徴とする特許請求の範囲第2項記
載の透明性基材。(3) A compound having a total of at least two acryloyl groups and/or methacryloyl groups per molecule [c
] is a bisphenol having a total of at least two acryloyl groups and/or methacryloyl groups per molecule.
基および/またはメタクリロイル基を有する化合物[c
]が、1分子あたり少なくとも合計2個のアクリロイル
基及び/もしくはメタクリロイル基を有し、かつ少なく
とも1個のトリアジン環を持つた化合物であることを特
徴とする特許請求の範囲第2項記載の透明性基材。(4) Compounds having a total of at least two acryloyl groups and/or methacryloyl groups per molecule [c
] is a compound having a total of at least two acryloyl groups and/or methacryloyl groups per molecule and at least one triazine ring. sexual base material.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61056360A JPS62212602A (en) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | Transparent base material |
EP86902901A EP0243501A1 (en) | 1985-10-30 | 1986-05-01 | Curable composition and method for molding it |
PCT/JP1986/000225 WO1987002681A1 (en) | 1985-10-30 | 1986-05-01 | Curable composition and method for molding it |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61056360A JPS62212602A (en) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | Transparent base material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62212602A true JPS62212602A (en) | 1987-09-18 |
Family
ID=13025075
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61056360A Pending JPS62212602A (en) | 1985-10-30 | 1986-03-14 | Transparent base material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62212602A (en) |
-
1986
- 1986-03-14 JP JP61056360A patent/JPS62212602A/en active Pending
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