JPS62207730A - Method for masking photosensitive glass - Google Patents
Method for masking photosensitive glassInfo
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- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 title claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 48
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000012754 barrier agent Substances 0.000 claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 18
- 239000007779 soft material Substances 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 abstract 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 abstract 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 abstract 1
- 208000017983 photosensitivity disease Diseases 0.000 abstract 1
- 231100000434 photosensitization Toxicity 0.000 abstract 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は被記録物に文字、図形、画像等を記録するため
のインクジェット記録ヘッドのインクノズル板のように
、微小な開口を有する感光性ガラス板を製造するための
感光性ガラスのマスキング方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a photosensitive glass plate having minute openings, such as an ink nozzle plate of an inkjet recording head for recording characters, figures, images, etc. on a recorded object. The present invention relates to a method for masking photosensitive glass for manufacturing.
従来の技術
感光性ガラスのような平板に微小な開口を形成したノズ
ル板を使用したインクジェット記録ヘッドとしては、特
開昭６０−２３４８５３号公報に第３図のような構成の
ものが知られている。Prior Art As an inkjet recording head using a nozzle plate in which minute openings are formed in a flat plate such as photosensitive glass, an inkjet recording head having a structure as shown in Fig. 3 is known from Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-234853. There is.
第３図に示すようにボディ部材１０に取付けられた絶縁
性のノズル板１に空気吐出口２が穿設されている。ボデ
ィ部材１０にはノズル板１と平行にノズル板３が取付け
られ、このノズル板３には空気吐出口２に対向してイン
ク吐出口４が穿設されている。このインク吐出口４の空
気吐出口２方向側にはノズル板３より突出するリング状
突出部５が設けられている。ノズル板１とノズル板３に
より形成される空気層６には周辺から空気流が送られ、
空気吐出口２より流出している。インク吐出口４内のイ
ンクには、一定圧力が印加されており、インクジェット
記録ヘッドの非駆動時には、インク吐出口４の近傍の空
気圧力と、インク吐出口４内のインク圧力がほぼ等しく
、インク吐出口４に生じるインクのメニスカスが静止状
態に保たれるように調整されている。信号源７はノズル
板１の表面で、かつ空気吐出口２の周辺に設けられた電
極８とインク吐出口４内のインクとの間に電位差が生じ
るように、電極８及びインク吐出口４に連通した導電性
のインク供給管９に電気的に接続されている。As shown in FIG. 3, an air outlet 2 is provided in an insulating nozzle plate 1 attached to a body member 10. As shown in FIG. A nozzle plate 3 is attached to the body member 10 in parallel with the nozzle plate 1, and an ink discharge port 4 is bored in the nozzle plate 3 so as to face the air discharge port 2. A ring-shaped protrusion 5 that protrudes from the nozzle plate 3 is provided on the side of the ink discharge port 4 in the direction of the air discharge port 2 . Air flow is sent from the periphery to the air layer 6 formed by the nozzle plate 1 and the nozzle plate 3,
The air flows out from the air outlet 2. A constant pressure is applied to the ink within the ink ejection port 4, and when the inkjet recording head is not driven, the air pressure near the ink ejection port 4 and the ink pressure within the ink ejection port 4 are approximately equal, and the ink is Adjustment is made so that the meniscus of ink generated at the ejection port 4 is kept stationary. The signal source 7 connects the electrode 8 and the ink outlet 4 so that a potential difference is generated between the electrode 8 provided on the surface of the nozzle plate 1 and around the air outlet 2 and the ink in the ink outlet 4. It is electrically connected to a communicating conductive ink supply pipe 9.
そして信号源７により電極８とインク吐出口４内のイン
クに電位差が生じると、電位差による電゛界によりイン
ク吐出口４に生じるメニスカスが空気吐出口２の方向に
引き伸ばされる。電界により一定長さ以上引き伸ばされ
たインクのメニスカスは、空気流によシ生じる急激な圧
力勾配の変化によって引きちぎられ、空気吐出口２よシ
インク液滴となって飛翔する。このとき上記のようにイ
ンク吐出口４にリング状突出部５を設けることにより空
気流は、リング状突出部５の影響で、より急激に曲げら
れ、インク吐出口４の近傍には空気流の死水域が発生し
、この死水域では空気流の圧力勾配が殆んどない。従っ
てインク吐出口４でインクメニスカスが若干変動しても
インクが噴出することがなく、インクのメニスカスの安
定性を高めることができる利点がある。When a potential difference is generated between the electrode 8 and the ink in the ink discharge port 4 by the signal source 7, the meniscus generated in the ink discharge port 4 is stretched in the direction of the air discharge port 2 due to the electric field caused by the potential difference. The ink meniscus that has been stretched over a certain length by the electric field is torn off by the sudden change in pressure gradient caused by the air flow, and flies as ink droplets through the air discharge port 2. At this time, by providing the ring-shaped protrusion 5 at the ink discharge port 4 as described above, the air flow is bent more sharply due to the influence of the ring-shaped protrusion 5, and the air flow is disposed near the ink discharge port 4. A dead zone occurs, and in this dead zone there is almost no pressure gradient in the airflow. Therefore, even if the ink meniscus changes slightly at the ink ejection port 4, the ink will not be ejected, and there is an advantage that the stability of the ink meniscus can be improved.
次に上記のようなリング状突出部５を有するノズル板３
の従来の製造方法を第４図によって説明する。第４図に
示すものは、本発明者らが先に特願昭５９−９２２４９
号として出願した製造方法である。第４図（ａ）に示す
ように感光性ガラス１０１上に露光マスク１０２を配置
し、紫外光を当てて露光を行なう。このとき露光マスク
１０２において、リング状部１０３は光を遮断し、その
他の部分１０４は光を透過させる。これにより第４図（
ｂ）に示すように感光性ガラス１０１において光が当た
った部分１０５は感光され、その後の熱処理によりＬｉ
、０−３ｉｎ、結晶が発生し、弗酸水溶液によるエツチ
ングが容易となる。感光性ガラス１０１において光が当
たらなかった筒状部（理解し易いようにハツチングの方
向を変えている）１０６は結晶化していない。次に第４
図（Ｃ）に示すように感光、性ガラス１０１の両面を弗
酸水溶液によりハーフエツチングする。このとき結晶化
している部分１０５の方が符号１０７とｌＯ８で示すよ
うに結晶化していない筒状部１０６より速くエツチング
されるため、感光性ガラス１０１の両面にリング状の突
出部１０９と１１０が形成される。次に第４図（ｄ）に
示すように感光性ガラス１０１におけるリング状突出部
１０９側の片面全体を耐弗酸性材料のエレクトロンワッ
クス１１１によシマスキングする。エレクトロンワック
ス１１１はパラフィン系の接着材であり、感光性ガラス
１０１の温度を上げて液状にしてマスキングを行なう。Next, the nozzle plate 3 having the ring-shaped protrusion 5 as described above
A conventional manufacturing method will be explained with reference to FIG. What is shown in FIG.
This is the manufacturing method filed under No. As shown in FIG. 4(a), an exposure mask 102 is placed on a photosensitive glass 101, and exposure is performed by applying ultraviolet light. At this time, in the exposure mask 102, the ring-shaped portion 103 blocks light, and the other portions 104 transmit light. This results in Figure 4 (
As shown in b), a portion 105 of the photosensitive glass 101 that is exposed to light is exposed to light, and Li is removed by subsequent heat treatment.
, 0-3 inches, crystals are generated and etching with a hydrofluoric acid aqueous solution becomes easy. In the photosensitive glass 101, a cylindrical portion 106 (the direction of the hatching is changed for ease of understanding) that is not exposed to light is not crystallized. Then the fourth
As shown in Figure (C), both sides of the photosensitive glass 101 are half-etched with an aqueous hydrofluoric acid solution. At this time, the crystallized portion 105 is etched faster than the non-crystallized cylindrical portion 106 as shown by 107 and lO8, so ring-shaped protrusions 109 and 110 are formed on both sides of the photosensitive glass 101. It is formed. Next, as shown in FIG. 4(d), the entire surface of the photosensitive glass 101 on the ring-shaped projection 109 side is masked with electron wax 111, which is a hydrofluoric acid-resistant material. The electron wax 111 is a paraffin-based adhesive, and is used to increase the temperature of the photosensitive glass 101 and turn it into a liquid state for masking.
このエレクトロンワックスＩＪＩの外面よりガラス基板
１１２を貼り付ける。−力感光性ガラス１０１における
反対側のリング状突出部１１０側の全体をエレクトロン
ワックス１１３によりマスキングする。エレクトロンワ
ックス１１３は感光性ガラス１０１の温度を上げて液状
にしマスキングを行なうのであるが、リング状突出部１
１０の近傍に塗られたエレクトロンワックス１１３は、
徐々に濡れて広がり、リング状突出部１１０の中に入ら
ないようにしてマスキングされる。次に第４図（ｅ）に
示すようにエレクトロンワックス１１３でマスキングし
た側のリング状突出部１１０の中から、感光性ガラス１
０１の２度目のエツチングを反対側のリング状突出部１
０９側に貫通するまで行なう。A glass substrate 112 is attached to the outer surface of this electron wax IJI. - Masking the entire opposite ring-shaped protrusion 110 side of the force-sensitive glass 101 with electron wax 113. The electron wax 113 increases the temperature of the photosensitive glass 101 and turns it into liquid for masking.
The electron wax 113 applied near 10 is
It gradually gets wet and spreads, and is masked to prevent it from entering the ring-shaped protrusion 110. Next, as shown in FIG. 4(e), the photosensitive glass 1
The second etching of 01 is done on the ring-shaped protrusion 1 on the opposite side.
Continue until it penetrates to the 09 side.
１１４はエツチングされ貫通した部分を示し、１１５は
サイドエツチングされた部分を示している。然る後、水
洗いを行ない、トリクロルエチレンによる超音波洗浄を
行なうことによりエレクトロンワックス１１３と１１１
を剥離すると共にガラス基板１１２を取り外し、第４図
（ｆ）に示すようにリング状突出部１０９ （第３図に
示すリング状突出部５）、貫通部５ （第３図に示すイ
ンク吐出口４）を有する感光性ガラス（第３図に示すノ
ズル板３）を形成することができる。Reference numeral 114 indicates an etched and penetrating portion, and reference numeral 115 indicates a side etched portion. After that, electron waxes 113 and 111 were washed with water and ultrasonically cleaned with trichlorethylene.
At the same time, the glass substrate 112 is removed, and as shown in FIG. 4(f), the ring-shaped protrusion 109 (ring-shaped protrusion 5 shown in FIG. 4) can be formed (nozzle plate 3 shown in FIG. 3).
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記製造方法における第４図（ｄ）に示す
エレクトロンワックス１１３のマスキング方法には次の
ような問題が生じた。上記マスキング方法においては感
光性ガラス１０１におけるエツチングにより形成された
面１０８ａとリング状突出部１１０の側面１１０ｂの表
面粗さに比べ、リング状突出部１１０の端面１１０ａの
表面粗さが小さいため、端面１１０ａにおけるエレクト
ロンワックス１１３の濡れ性が悪いのを利用し、リング
状突出部１１０の周縁１１０Ｃ近傍でエレクトロンワッ
クス１１３を食い止め、リング状突出部１１０の中にエ
レクトロンワックス１１３が入り込まないようにマスキ
ングしている。この工程でリング状突出部１１０の中に
エレクトロンワックス１１３が入り込むと、次の工程で
行なう弗酸水溶液によるエツチングができなくなるため
、マスキング条件を厳密に決める必要がある。エレクト
ロンワックス１１３は、温度が高くなると粘度が低くな
るため、リング状突出部１１０の端面１１０ａにおける
濡れ性が良くなシ、リング状突出部１１０の中に入り込
んでしまうので、温度調節を行なう必要がある。また温
度により濡れの速さが変わり、しかも端面１１０ａにお
けるエレクトロンワックス１１３の濡れ性を完全に無く
すことは不可能であるため、長時間経つとリング状突出
部１１０の中に入り込んでしまうので、時間調節を行な
う必要がある。しかしながら温度、時間の調節は難しく
、また量産性に乏しい問題がある。Problems to be Solved by the Invention However, the following problems arose in the method of masking the electron wax 113 shown in FIG. 4(d) in the above manufacturing method. In the above masking method, the surface roughness of the end surface 110a of the ring-shaped protrusion 110 is smaller than the surface roughness of the surface 108a formed by etching in the photosensitive glass 101 and the side surface 110b of the ring-shaped protrusion 110. Taking advantage of the poor wettability of the electron wax 113 in the ring-shaped protrusion 110a, the electron wax 113 is stopped near the peripheral edge 110C of the ring-shaped protrusion 110, and masking is performed to prevent the electron wax 113 from entering the ring-shaped protrusion 110. There is. If the electron wax 113 enters the ring-shaped protrusion 110 in this step, etching with a hydrofluoric acid aqueous solution in the next step will not be possible, so masking conditions must be determined strictly. The viscosity of the electron wax 113 decreases as the temperature rises, so if the end face 110a of the ring-shaped protrusion 110 has poor wettability, it will enter the ring-shaped protrusion 110, so it is necessary to adjust the temperature. be. Furthermore, the speed of wetting changes depending on the temperature, and it is impossible to completely eliminate the wettability of the electron wax 113 on the end surface 110a. Adjustments need to be made. However, it is difficult to control temperature and time, and there are problems in that mass production is poor.
特にノズルの数が多い場合には調節不良によりエレクト
ロンワックスがその中に入り込んでしまうものがあり、
確実にマスキングすることができない。Especially when there are a large number of nozzles, electron wax may get into them due to poor adjustment.
Unable to reliably mask.
そこで本発明は調節が簡単で確実にマスキングを行なう
ことができ、またマスキングを行なう耐弗酸性材料の選
択等の条件を緩和することができ、更には突出部が複数
であっても確実にマスキングを行なうことができるよう
にした感光性ガラスのマスキング方法を提供しようとす
るものである。Therefore, the present invention enables easy adjustment and reliable masking, eases conditions such as the selection of a hydrofluoric acid-resistant material for masking, and furthermore ensures reliable masking even when there are multiple protrusions. It is an object of the present invention to provide a method for masking photosensitive glass that enables the following.
問題点を解決するための手段
そして上記問題点を解決するための本発明の技術的な手
段は、ハーフエツチングにより設けられた感光性ガラス
の突出部の少なくとも端面上に低表面張力の障壁剤を被
覆し、感光性ガラスの所定の部分に耐弗酸性材料による
マスキングを行なうものである。Means for solving the problems and the technical means of the present invention for solving the above problems is to apply a low surface tension barrier agent on at least the end surface of the protrusion of the photosensitive glass provided by half etching. Then, predetermined portions of the photosensitive glass are masked with a hydrofluoric acid-resistant material.
作用
本発明は、上記の構成において耐弗酸性材料を加熱して
液状とし、突出部周辺の領域に耐弗酸性材料を一様に形
成させることができる。この際障壁剤により耐弗酸性材
料が突出部の内側に流入するのを防ぐことができるので
、耐弗酸性材料を液状にするために感光性ガラスを加熱
する温度とその保持時間に制約を受けることなく確実な
マスキングを行なうことができる。Function The present invention can heat the hydrofluoric acid-resistant material in the above structure to make it into a liquid state, and uniformly form the hydrofluoric acid-resistant material in the area around the protrusion. At this time, the barrier agent can prevent the hydrofluoric acid-resistant material from flowing inside the protrusion, so there are restrictions on the temperature at which the photosensitive glass is heated and the holding time to liquefy the hydrofluoric acid-resistant material. Reliable masking can be performed without any problems.
実施例
以下、本発明をインクジェット記録ヘッドのノズル板の
製造に実施した例について説明する。第１図は本発明の
一実施例を示すものである。第１図（ａ）に示すように
感光性ガラス１５の両面が弗酸水溶液によりハーフエツ
チングされ、感光されて結晶化し、酸に溶解し易い部分
２１に対し、感光されてなくて酸に溶解し難い部分２２
によるリング状の突出部１６と１７が形成される。この
加工工程については第４図（ａ）〜（Ｃ）と同様である
。この感光性ガラス１５の片面のリング状突出部１７側
は、耐弗酸性材料より成るエレクトロワックス１３によ
り５０℃以上の温度でマスキングされ、このエレクトロ
ンワックス１３にはガラス基板１４が貼り付けられる。EXAMPLE An example in which the present invention was applied to the manufacture of a nozzle plate for an inkjet recording head will be described below. FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1(a), both sides of the photosensitive glass 15 are half-etched with an aqueous hydrofluoric acid solution, and while the part 21 that is not exposed to light and is easily dissolved in acid is crystallized by being exposed to light, the part 21 that is not exposed to light and dissolved in acid is Difficult part 22
Ring-shaped protrusions 16 and 17 are formed. This processing step is the same as that shown in FIGS. 4(a) to 4(C). The ring-shaped projection 17 side on one side of the photosensitive glass 15 is masked with an electrowax 13 made of a hydrofluoric acid-resistant material at a temperature of 50° C. or higher, and a glass substrate 14 is attached to the electron wax 13.
次に第１図（ｂ）に示すように表面の平滑な軟性部材で
あるシリコンゴム１１の板の表面に障壁剤１２を塗布す
る。障壁剤１２はダイキン工業株式会社の弗素系離型剤
Ａ−４４１を用いており、エアゾールタイプなので吹き
かけることにより容易に薄い塗膜が得られ、低表面張力
の物性を示す。障壁剤１２を塗布したシリコンゴム１１
を第１図（ｂ）に示すようにリング状突出部１６上に載
せて押さえ、リング状突出部１６の端面１９に障壁剤１
２を接触させる。このときシリコンゴム１１が軟らかい
ため、側面２０にも少し障壁剤１２が接触する。シリコ
ンゴム１１を剥がすと接触していた部分の障壁剤１２は
シリコンゴム１１に対するよりも感光性ガラス１５に対
する分が粘着性が大きいため、シリコンゴム１１から転
写されてリング状突出部１６上に着く。このようにして
第１図（ｃ）に示すように感光性ガラス１５のリング状
突出部１６の少なくとも端面１９上に低表面張力の障壁
剤１２を被覆することができる。次に感光性ガラス１５
のリング状突出部１６側の面を耐弗酸性材料のエレクト
ロンワックス１８によりマスキングする。エレクトロン
ワックス１８はパラフィン系の接着剤（宗電子工業■製
）で約４８℃以上の温度では液状となる。そこでまず、
感光性、ガラス１５の温度を４８℃以上にし、エレクト
ロンワックス１８をリング状突出部１６の中に入れない
ようにしてリング状突出部１６の回りに塗る。所定時間
保持すると、エレクトロンワックス１８は濡れ広がり第
１図（Ｃ）に示すようにリング状突出部１６の回り全体
の所定の部分をマスキングする。このときリング状突出
部１６の内側と外側とは障壁剤１２により完全に遮断さ
れており、障壁剤１２は低表面張力であるので液状のエ
レクトロンワックス１８をはじくため、エレクトロンワ
ックス１８がリング状突出部１６の内側に流入するのを
防ぐことができるので、温度を７０℃程度まで上げても
、また保持時間を長くしてもリング状突出部１６の中に
エレクトロンワックス１８が入り込むことなく、確実性
のあるマスキングを行なうことができ、さらに量産性に
優れている。Next, as shown in FIG. 1(b), a barrier agent 12 is applied to the surface of a silicone rubber plate 11, which is a soft material with a smooth surface. As the barrier agent 12, a fluorine-based mold release agent A-441 manufactured by Daikin Industries, Ltd. is used, and since it is an aerosol type, a thin coating film can be easily obtained by spraying, and exhibits physical properties of low surface tension. Silicone rubber 11 coated with barrier agent 12
is placed on the ring-shaped protrusion 16 and held down as shown in FIG.
2 in contact. At this time, since the silicone rubber 11 is soft, the barrier agent 12 comes into contact with the side surface 20 a little. When the silicone rubber 11 is peeled off, the barrier agent 12 that was in contact with the photosensitive glass 15 has greater adhesion to the photosensitive glass 15 than to the silicone rubber 11, so it is transferred from the silicone rubber 11 and lands on the ring-shaped protrusion 16. . In this way, at least the end surface 19 of the ring-shaped protrusion 16 of the photosensitive glass 15 can be coated with the low surface tension barrier agent 12, as shown in FIG. 1(c). Next, photosensitive glass 15
The surface on the side of the ring-shaped protrusion 16 is masked with electron wax 18, which is a hydrofluoric acid-resistant material. Electron Wax 18 is a paraffin-based adhesive (manufactured by Sodenshi Kogyo ■) that becomes liquid at a temperature of about 48° C. or higher. So first,
The temperature of the photosensitive glass 15 is set to 48° C. or higher, and the electron wax 18 is applied around the ring-shaped protrusion 16 without entering the ring-shaped protrusion 16. When held for a predetermined time, the electron wax 18 spreads and masks a predetermined portion of the entire ring-shaped protrusion 16 as shown in FIG. 1(C). At this time, the inside and outside of the ring-shaped protrusion 16 are completely blocked by the barrier agent 12, and since the barrier agent 12 has a low surface tension, it repels the liquid electron wax 18, so that the electron wax 18 forms a ring-shaped protrusion. Since it is possible to prevent the electron wax 18 from flowing into the inside of the ring-shaped protrusion 16, even if the temperature is raised to about 70°C or the holding time is extended, the electron wax 18 will not enter the ring-shaped protrusion 16. It is possible to perform masking with a high degree of character, and is also excellent in mass production.
このようにしてマスキングを完了した後、リング突出部
１６の内側より第４図（ｄ）（ｅ）ｆｒ同様な方法でエ
ツチングを行なうことにより第３図に示すようなノズル
板３を製作することができる。After completing the masking in this way, the nozzle plate 3 as shown in FIG. 3 is manufactured by etching from the inside of the ring protrusion 16 in the same manner as shown in FIGS. 4(d), (e) and fr. I can do it.
第２図は、本発明の第２実施例のマスキング方法を示す
ものである。本実施例において感光性ガラス１５の片面
のリング状突出部１７側にエレクトロンワックス１３と
ガラス基板１４が設けられている。シリコンゴムローラ
２３の表面に障壁剤１２を塗布する。それを第２図に示
すようにシリコンゴムローラ２３をかけることにより、
リング状突出部１６の少なくとも端面１９上に低表面張
力の障壁剤１２を被覆することができる。側面２０にも
少し障壁剤１２が被覆される。以降は第１図の実施例と
同様にマスキングを行なう。FIG. 2 shows a masking method according to a second embodiment of the present invention. In this embodiment, an electron wax 13 and a glass substrate 14 are provided on one side of the photosensitive glass 15 on the ring-shaped protrusion 17 side. The barrier agent 12 is applied to the surface of the silicone rubber roller 23. By applying the silicone rubber roller 23 as shown in Fig. 2,
A low surface tension barrier agent 12 can be coated on at least the end surface 19 of the ring-shaped protrusion 16 . The side surfaces 20 are also coated with a small amount of barrier agent 12. Thereafter, masking is performed in the same manner as in the embodiment shown in FIG.
本実施例によれば、リング状突出部１６の内側と外側と
は障壁剤１２により完全に遮断されており、確実性のあ
るマスキングを行なうことができる。またシリコンゴム
ローラ２３を用いることによシ障壁剤１２を簡単に端面
１９上に被覆することができるので、特に量産性に優れ
そいる。According to this embodiment, the inside and outside of the ring-shaped protrusion 16 are completely blocked off by the barrier agent 12, so that reliable masking can be performed. Further, by using the silicone rubber roller 23, the barrier agent 12 can be easily coated on the end face 19, which is particularly suitable for mass production.
なお、上記各実施例では、感光性ガラスの突出部がリン
グ状の場合について説明したが、この他例えば三角、四
角等でもよく、ノズル以外の形状、例えば仕切、枠等が
あっても問題は々い。また耐弗酸性材料としてはエレク
トロンワックスの他、例えばエポキシ接着剤等を使用し
ても良く、これにより粘度、硬化温度、硬化時間、材料
等の使用条件範囲を広くとることができる。そして障壁
剤としては、低表面張力の材料で被覆できるものであれ
ば、他の弗素系やシリコン系のコーティング剤、塗料等
を使用しても良い。さらに障壁剤の被覆方法として２通
シ上げたが、突出部上に被覆できるのであれば他の方法
であっても良い。In each of the above embodiments, the case where the protruding part of the photosensitive glass is ring-shaped has been explained, but it may also be triangular, square, etc., and there is no problem even if it has a shape other than a nozzle, such as a partition or a frame. Many. In addition to electron wax, for example, epoxy adhesive or the like may be used as the hydrofluoric acid-resistant material, which allows a wide range of usage conditions such as viscosity, curing temperature, curing time, material, etc. As the barrier agent, other fluorine-based or silicone-based coating agents, paints, etc. may be used as long as they can be coated with a low surface tension material. Furthermore, although two methods of coating the barrier agent have been described, other methods may be used as long as the protrusions can be coated.
発明の効果
以上の説明より明らかなように本発明によれば、ハーフ
エツチングにより設けられた感光性ガラスの突出部上に
障壁剤を被覆し、所定の部分に耐弗酸性材料によるマス
キングを行なうようにしているので、次のような効果を
得ることができる。Effects of the Invention As is clear from the above explanation, according to the present invention, a barrier agent is coated on the protrusion of the photosensitive glass provided by half-etching, and a predetermined portion is masked with a hydrofluoric acid-resistant material. By doing so, you can obtain the following effects.
（１）突出部の内側と外側とは障壁剤により完全に遮断
されているため、感光性ガラスの温度、保持時間を厳密
に調節する必要がなく、確実性のある量産性に優れたマ
スキングを行なうことができる。(1) Since the inside and outside of the protrusion are completely blocked by a barrier agent, there is no need to strictly adjust the temperature and holding time of the photosensitive glass, and masking with excellent reliability and mass production is possible. can be done.
（２）耐弗酸性材料の材質、粘度、硬化温度、硬化時間
等の条件範囲を広くとることができる。(2) A wide range of conditions such as the material, viscosity, curing temperature, and curing time of the hydrofluoric acid-resistant material can be set.
（３）突出部の数が多く、突出部時間距離が狭い場合に
も問題なくマスキングを行なうことができる。(3) Masking can be performed without problems even when the number of protrusions is large and the time distance between the protrusions is small.
第１図（ａ）乃至（Ｃ）は本発明のマスキング方法の第
１実施例の工程を示す断面図、第２図は本発明の第２実
施例の工程を示す断面図、第３図は本発明の適用される
インクジェット記録ヘッドの一例を示す断面図、第４図
（ａ）乃至（ｆｌは第３図のインクジェット記録ヘッド
に用いるノズル板の従来の製造工程を示す断面図である
。
１５・・・感光性ガラス、１６．１７・・・リング状突
出部、１３．１８・・・エレクトロンワックス（耐弗酸
性材料）、１２・・・障壁剤。
第１図
厩1(a) to (C) are cross-sectional views showing the steps of the first embodiment of the masking method of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view showing the steps of the second embodiment of the present invention, and FIG. 15 is a sectional view showing an example of an inkjet recording head to which the present invention is applied, and FIGS. ... Photosensitive glass, 16.17 ... Ring-shaped protrusion, 13.18 ... Electron wax (hydrofluoric acid resistant material), 12 ... Barrier agent.
Claims (6)
ッチングして形成された突出部上に障壁剤を被覆し、前
記感光性ガラスの所定の部分に耐弗酸性材料を形成する
ことを特徴とする感光性ガラスのマスキング方法。(1) A barrier agent is coated on a protrusion formed by half-etching photosensitive glass into a predetermined pattern after exposure, and a hydrofluoric acid-resistant material is formed on a predetermined portion of the photosensitive glass. How to mask photosensitive glass.
第１項記載の感光性ガラスのマスキング方法。(2) The method for masking photosensitive glass according to claim 1, wherein the barrier agent is a material with low surface tension.
域を除いて露光し、上記領域を突出部として残す特許請
求の範囲第１項記載の感光性ガラスのマスキング方法。(3) A method for masking photosensitive glass according to claim 1, in which the area surrounding the photosensitive glass where the through hole is to be formed is exposed to light, and the area is left as a protrusion.
クスを設け、感光性ガラスを加温してエレクトロンワッ
クスによりマスキングを行う特許請求の範囲第１項記載
の感光性ガラスのマスキング方法。(4) The method for masking photosensitive glass according to claim 1, wherein electron wax is provided on the outside of the protrusion of the photosensitive glass, and the photosensitive glass is heated to perform masking with the electron wax.
この障壁剤側を突出部に押しつけて突出部上に障壁剤を
転写する特許請求の範囲第１項記載の感光性ガラスのマ
スキング方法。(5) Applying a barrier agent to the surface of a soft material with a smooth surface,
2. The method of masking photosensitive glass according to claim 1, wherein the barrier agent is transferred onto the protrusion by pressing the barrier agent side against the protrusion.
光性ガラス上に回転させて突出部に障壁剤を転写する特
許請求の範囲第１項記載の感光性ガラスのマスキング方
法。(6) A method for masking photosensitive glass according to claim 1, wherein a barrier agent is applied to the surface of a silicone rubber roller, and the barrier agent is transferred onto the protruding portions by rotating the roller onto the photosensitive glass.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4760786A JPH0611656B2 (en) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | Masking method for photosensitive glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4760786A JPH0611656B2 (en) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | Masking method for photosensitive glass |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62207730A true JPS62207730A (en) | 1987-09-12 |
| JPH0611656B2 JPH0611656B2 (en) | 1994-02-16 |
Family
ID=12779920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4760786A Expired - Fee Related JPH0611656B2 (en) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | Masking method for photosensitive glass |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0611656B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006087320A1 (en) * | 2005-02-18 | 2006-08-24 | Glaverbel | Process for the selective etching of a glass article surface |
-
1986
- 1986-03-05 JP JP4760786A patent/JPH0611656B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006087320A1 (en) * | 2005-02-18 | 2006-08-24 | Glaverbel | Process for the selective etching of a glass article surface |
| EA012664B1 (en) * | 2005-02-18 | 2009-12-30 | Агк Флэт Гласс Юроп Са | Method for the selective etching of a glass article surface |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0611656B2 (en) | 1994-02-16 |
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