JPS6220530B2 - - Google Patents

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JPS6220530B2
JPS6220530B2 JP8366975A JP8366975A JPS6220530B2 JP S6220530 B2 JPS6220530 B2 JP S6220530B2 JP 8366975 A JP8366975 A JP 8366975A JP 8366975 A JP8366975 A JP 8366975A JP S6220530 B2 JPS6220530 B2 JP S6220530B2
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JP
Japan
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coating
electrode
electro
polyorganosilane
electrode substrate
Prior art date
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Expired
Application number
JP8366975A
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Japanese (ja)
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JPS527749A (en
Inventor
Makoto Matsuo
Takashi Toida
Ichiro Tsunoda
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication of JPS527749A publication Critical patent/JPS527749A/en
Publication of JPS6220530B2 publication Critical patent/JPS6220530B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電気光学用電極基板に関するものであ
る。詳しくは電界効果ツイスト型(以後、FETN
型と呼ぶ)の液晶表示素子に使用される電気光学
用電極基板に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an electro-optical electrode substrate. For details, please refer to the field effect twist type (hereinafter referred to as FETN).
The present invention relates to an electro-optic electrode substrate used in a liquid crystal display element (referred to as a type).

〔従来の技術〕[Conventional technology]

FETN型液晶表示素子は正の誘電異方性を持つ
ネマチツク液晶化合物を基板に平行に配向させ、
旋光性を付与することにより得られる。この
FETN型表示素子では動作原理が、電場により液
晶の初期配向を制御もしくは再配列させ、その際
の光学的性質の変化を利用することであるため、
液晶の初期配向の均一性が特に重要である。
FETN type liquid crystal display elements are made by aligning a nematic liquid crystal compound with positive dielectric anisotropy parallel to the substrate.
Obtained by imparting optical rotation. this
The operating principle of FETN display elements is to control or rearrange the initial alignment of liquid crystals using an electric field and to utilize the changes in optical properties at that time.
The uniformity of the initial alignment of the liquid crystal is particularly important.

而して、従来、液晶に初期配向を与える手段と
して、電極基板を布等で一方向に摩擦する方法が
知られている。
Conventionally, a method of rubbing an electrode substrate in one direction with cloth or the like has been known as a means of imparting initial orientation to liquid crystal.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、上記のような方法では部分的に
液晶分子の配向が異なり配向の均一性は十分でな
く、又配向が短時間のうちに失われてしまう欠点
がある。上記の欠点を改善するものとして、ある
種の界面活性剤を併用して電極基材を一方向に摩
擦する方法が用いられている。しかし、この方法
では配向の均一性はある程度改善されるが、界面
活性剤に耐熱性がなく、また界面活性剤が液晶の
劣化を招くという欠点がある。さらに、電界を印
加し続けると界面活性剤が電界により分解、変質
を起こし、配向が破壊してしまうという欠点があ
る。又、電界印加による電極面からの電荷の注入
により液晶が劣化分解し、更に液晶中の微量水分
により電極面が電気化学的に還元され、変質し、
配向の破壊を招く。又、電気光学セル外部より侵
入した微量水分によつても上記の電極面変質は起
こる。さらにまた、電極基板を配向処理後、電気
光学セルを作製する際、一対の電極基板を接着す
るシール材として無機物質、たとえばガラスフリ
ツトあるいは硬化温度の高い有機物質を使用する
と、シール時の加熱温度により、配向破壊が起こ
る欠点もある。
However, in the above method, the orientation of the liquid crystal molecules is partially different, and the uniformity of the orientation is not sufficient, and there is a drawback that the orientation is lost within a short time. In order to improve the above-mentioned drawbacks, a method has been used in which a certain type of surfactant is used in combination to rub the electrode base material in one direction. However, although this method improves the uniformity of alignment to some extent, it has the disadvantage that the surfactant has no heat resistance and that the surfactant causes deterioration of the liquid crystal. Furthermore, if the electric field is continuously applied, the surfactant is decomposed and altered by the electric field, resulting in destruction of the orientation. In addition, the liquid crystal deteriorates and decomposes due to charge injection from the electrode surface due to the application of an electric field, and furthermore, the electrode surface is electrochemically reduced by trace amounts of moisture in the liquid crystal, causing deterioration.
This results in destruction of orientation. Further, the above-described deterioration of the electrode surface also occurs due to a small amount of moisture entering from the outside of the electro-optic cell. Furthermore, when producing an electro-optic cell after aligning the electrode substrates, if an inorganic material such as glass frit or an organic material with a high curing temperature is used as a sealing material to bond a pair of electrode substrates, the heating temperature during sealing may , there is also a drawback that orientation destruction occurs.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明者らは上記の如き種々の欠点を改善する
ことを研究した結果、電極基板の電極を含む面に
配向処理したポリイミド系高分子被膜を設けるこ
とにより、耐久性、耐熱性に富み、非常に優れた
液晶の初期配向の均一性を得ることができること
を見いだした。
As a result of research into improving the various drawbacks described above, the present inventors found that by providing an oriented polyimide polymer coating on the electrode-containing surface of the electrode substrate, a highly durable, heat-resistant, and extremely We have found that it is possible to obtain excellent initial alignment uniformity of liquid crystals.

しかしながら、ポリイミド系高分子被膜一層で
電極を被覆した構成では高湿下(30℃、90%
RH)での長時間の連続電界印加に耐える高い耐
久性は得られない。
However, in a configuration in which the electrode is covered with a single layer of polyimide polymer film, the
High durability that can withstand long-term continuous electric field application at RH) cannot be achieved.

ポリイミド系高分子被膜の厚さを厚くすること
により電荷のブロツキング効果を高め、液晶内へ
の電荷の注入を防止し、それによつてセル寿命を
高めることを試みたがポリイミド系高分子被膜の
厚みを厚くするにつれて均一に塗布することがよ
り困難となり、表示の不均一をまねき、また電気
的レスポンスの低下をまねき、好ましい結果は得
られなかつた。
An attempt was made to increase the charge blocking effect by increasing the thickness of the polyimide polymer coating, prevent charge injection into the liquid crystal, and thereby increase cell life, but the thickness of the polyimide polymer coating As the thickness increases, it becomes more difficult to apply uniformly, resulting in non-uniform display and a decrease in electrical response, making it difficult to obtain desirable results.

さらに鋭意研究の結果、ポリイミド系高分子被
膜を設ける前にガラス基板上にポリオルガノシラ
ン被膜を設け、その上にポリイミド系高分子被膜
を設けることにより、電気的レスポンスの低下や
表示の不均一をまねくことがなく、高湿下での長
時間連続電界印加に耐える程にセルの寿命を増大
させうることを見いだし、かかる知見にもとづい
て本発明を完成したものである。
Furthermore, as a result of extensive research, we found that by forming a polyorganosilane film on the glass substrate before forming the polyimide polymer film, and then providing a polyimide polymer film on top of that, the reduction in electrical response and non-uniform display could be reduced. It was discovered that the life of the cell can be increased to the extent that it can withstand continuous electric field application for a long time under high humidity without causing any damage, and the present invention was completed based on this knowledge.

すなわち本発明は液晶表示用電気光学セルを構
成する電気光学用電極基板において、電極被膜を
設けた基板の該被膜を有する面にポリオルガノシ
ラン被膜を有し、さらに該ポリオルガノシラン被
膜の上に配向処理したポリイミド系高分子被膜を
有することを特徴とする電気光学電極基板であ
る。
That is, the present invention provides an electro-optical electrode substrate constituting an electro-optic cell for a liquid crystal display, which has a polyorganosilane coating on the surface of the substrate provided with the electrode coating, and further has a polyorganosilane coating on the polyorganosilane coating. This is an electro-optical electrode substrate characterized by having an oriented polyimide polymer coating.

次に上記の本発明について詳しく説明する。 Next, the above invention will be explained in detail.

まず、図面を用いて本発明の電気光学用電極基
板を説明する。図面は本発明の電気光学用電極基
板の概略を示す断面図であり、電気光学用電極基
板に用いうる基板1の上に電極被膜2が設けられ
ており、該電極被膜2を含む基板面にポリオルガ
ノシラン被膜3、さらにその上に配向処理したポ
リイミド系高分子被膜4が設けられている。
First, the electro-optical electrode substrate of the present invention will be explained using the drawings. The drawing is a cross-sectional view schematically showing the electro-optical electrode substrate of the present invention, in which an electrode coating 2 is provided on a substrate 1 that can be used as an electro-optic electrode substrate, and the substrate surface including the electrode coating 2 is A polyorganosilane coating 3 and an oriented polyimide polymer coating 4 are provided thereon.

上記の基板には絶縁性を有し、かつ透明な材料
たとえば、ガラス、プラスチツクなどが用いら
れ、この基板上には通常の方法により透明な電極
被膜が設けられる。たとえば、酸化スズ、酸化イ
ンジウムなどを主成分とする透明導電性被膜を吹
き付け法、真空蒸着法などにより設けることがで
き、これらの電極被膜はフオトエツチングなどの
手段により所定のパターン、たとえば一ないし複
数個の数字や文字あるいは図形模様などに加工す
るなどして用いられる。
The above-mentioned substrate is made of an insulating and transparent material such as glass or plastic, and a transparent electrode film is provided on this substrate by a conventional method. For example, a transparent conductive film containing tin oxide, indium oxide, etc. as a main component can be provided by a spraying method, a vacuum evaporation method, etc., and these electrode films can be formed into a predetermined pattern, for example one or more, by means such as photo etching. It is used by processing it into individual numbers, letters, or graphic patterns.

次に上記電極被膜を含む基板面にポリオルガノ
シラン被膜を設けるにはオルガノシランのモノマ
ーまたはプレポリマーをn―ヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの溶媒に溶解して
0.1〜20%の濃度の溶液を作り、この溶液を上記
電極基板面に塗布し、加熱あるいは赤外線照射に
よる加熱を行ないオルガノシランをポリマー化さ
せると共に溶媒を蒸発乾燥させる。このポリオル
ガノシラン被膜は0.01〜100μの膜厚で用いら
れ、特に0.1〜20μが好ましい。膜厚が0.1μ未満
では被膜を設けた効果が薄く、電気光学セルの寿
命を増大させないし、また100μより厚いと均一
に塗布することが困難であり、さらにセルのコン
トラストやレスポンスが劣り好ましくない。
Next, to form a polyorganosilane coating on the substrate surface containing the electrode coating, an organosilane monomer or prepolymer is dissolved in a solvent such as n-hexane, benzene, toluene, or xylene.
A solution having a concentration of 0.1 to 20% is prepared, this solution is applied to the surface of the electrode substrate, and heated or heated by infrared ray irradiation to polymerize the organosilane and evaporate the solvent to dryness. This polyorganosilane coating is used in a thickness of 0.01 to 100μ, particularly preferably 0.1 to 20μ. If the film thickness is less than 0.1μ, the effect of providing the film will be weak and will not increase the life of the electro-optic cell, and if it is thicker than 100μ, it will be difficult to apply uniformly, and the contrast and response of the cell will be poor, which is undesirable. .

ここで、オルガノシランは一般式RnSiX4―n
(n=1、2、3)で表わされるオルガノシラン
の一種または二種以上の混合物である。式中、X
はたとえば、塩素などのハロゲン基、あるいはメ
トキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、ある
いはまたアセトキシ基などのアシロキシ基、その
他の加水分解性官能基である。また、式中、Rは
メチル基、エチル基などの飽和の、またはビニル
基、アルケニル基などの不飽和の脂肪族炭化水素
基、あるいはフエニル基などの芳香族炭化水素基
であり、これらの炭化水素基はビニル基、アルケ
ニル基などの不飽和基、あるいは水酸基、カルボ
ニル基あるいはまた塩素、臭素、弗素などのハロ
ゲン基、その他の官能性有機基で置換されたもの
であつても良く、これらの例としては、たとえば
クロメチル基、8、8、8―トリフルオロプロピ
ル基、8―アミノプロピル基などがあげられる。
上記において(4―n)個のXおよびn個のRは
同種であつても、異種であつても良い。
Here, organosilane has the general formula RnSiX4-n
It is one type or a mixture of two or more types of organosilanes represented by (n=1, 2, 3). In the formula, X
is, for example, a halogen group such as chlorine, or an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group, or also an acyloxy group such as an acetoxy group, or other hydrolyzable functional groups. In the formula, R is a saturated aliphatic hydrocarbon group such as a methyl group or an ethyl group, or an unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as a vinyl group or an alkenyl group, or an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group; The hydrogen group may be substituted with an unsaturated group such as a vinyl group or an alkenyl group, or a hydroxyl group, a carbonyl group, or a halogen group such as chlorine, bromine, or fluorine, or other functional organic group. Examples include chloromethyl group, 8,8,8-trifluoropropyl group, and 8-aminopropyl group.
In the above, (4-n) X's and n R's may be the same type or different types.

また、上記のオルガノシラン溶液を電極基板に
塗布する方法としては回転塗布法、浸漬法、噴霧
法などの通常の塗布法を使用できる。
Further, as a method for applying the above-mentioned organosilane solution to the electrode substrate, a conventional application method such as a spin coating method, a dipping method, or a spraying method can be used.

上記ポリオルガノシラン被膜は、液晶分子など
の正の誘電異方性を有する電気光学物質を電極基
板に対して垂直に配向させる性質が認められる。
該被膜を布、綿などで摩擦した一対の電極基板を
それぞれの配向処理方向を交差させるようにして
両基板間に上記電気光学物質を挾持せしめると、
電気光学物質は左回転および右回転のらせん構造
をとり両者が混在する。また、経済的に水平配向
の配向破壊が起こり、遂には垂直配向となる。従
つて、らせん回転方向を規制し、経済的に安定な
水平配向を得るため、本発明においては、上記オ
ルガノシラン被膜の上にさらに、配向処理したポ
リイミド系高分子被膜を設ける。
The polyorganosilane coating described above is recognized to have a property of aligning an electro-optic substance having positive dielectric anisotropy, such as liquid crystal molecules, perpendicularly to the electrode substrate.
When a pair of electrode substrates on which the film is rubbed with cloth, cotton, etc. are sandwiched between the two electrode substrates so that their orientation treatment directions intersect,
The electro-optic material has a left-handed helical structure and a right-handed helical structure, and both types coexist. Moreover, economically, the horizontal alignment is destroyed, and finally the vertical alignment occurs. Therefore, in order to regulate the direction of helical rotation and obtain economically stable horizontal orientation, in the present invention, an oriented polyimide polymer film is further provided on the organosilane film.

次に本発明においては、上記のポリオルガノシ
ラン被膜の上にポリイミド系高分子被膜を設け
る。ポリイミド系高分子としては、イミド結合に
より構成されるポリイミド、又アミド結合とイミ
ド結合により構成されるポリアミドイミド、およ
びエステル結合とイミド結合により構成されるポ
リエステルイミドなどが用いられる。
Next, in the present invention, a polyimide polymer coating is provided on the polyorganosilane coating. As the polyimide polymer, polyimide composed of imide bonds, polyamideimide composed of amide bonds and imide bonds, polyesterimide composed of ester bonds and imide bonds, etc. are used.

上記ポリイミド系高分子はイミド結合を有し、
一般に溶剤に不溶であるため、本発明において基
板上にポリイミド系高分子被膜を設けるために
は、ポリアミツク酸を後述する溶剤に溶解し基板
上に塗布した後、加熱処理により脱水閉環してイ
ミド結合を持たせる方法が好ましい。
The polyimide polymer has an imide bond,
Generally, it is insoluble in solvents, so in order to provide a polyimide polymer film on a substrate in the present invention, polyamic acid is dissolved in the solvent described below and applied on the substrate, and then heat treatment is performed to dehydrate and ring-close it to form an imide bond. It is preferable to have

上記ポリアミドイミドの前駆体のポリアミツク
酸は過剰のジアミンから得られるホリゴジアミン
とジカルボン酸無水物との縮合により合成され
る。
Polyamic acid, which is a precursor of the polyamideimide, is synthesized by condensation of polygodiamine obtained from excess diamine and dicarboxylic acid anhydride.

上記ポリエステルイミドの前駆体のポリアミツ
ク酸はエステル基を有するジカルボン酸無水物と
ジアミンとの縮合により合成される。
Polyamic acid, which is a precursor of the polyesterimide, is synthesized by condensation of a dicarboxylic anhydride having an ester group and a diamine.

上記エステル基を有するジカルボン酸無水物
は、たとえばトリメリツト酸と種々のジオールと
から得られる。
The above dicarboxylic acid anhydride having an ester group can be obtained, for example, from trimellitic acid and various diols.

また、上記ポリイミドの前駆体のポリアミツク
酸はジカルボン酸とジアミンとの縮合により合成
される。これらの縮合反応は通常の条件で、すな
わち、無水条件下、50℃またはそれ以下の温度で
行なわれる。
Further, polyamic acid, which is a precursor of the polyimide, is synthesized by condensation of dicarboxylic acid and diamine. These condensation reactions are carried out under conventional conditions, ie, under anhydrous conditions and at temperatures of 50°C or lower.

上記でジアミンとしては、たとえば、m―フエ
ニレンジアミン、p―フエニレンジアミン、m―
キシレンジアミン、p―キシレンジアミン、4、
4′―ジアミンジフエニルエーテル、4、4′―ジア
ミノジフエニルメタン、3、3′―ジメチル―4、
4′―ジアミノジフエニルメタン、3、3′―ジメチ
ル―4、4′ジアミノジフエニルメタン、3、3′、
5、5′―テトラメチル―4、4′―ジアミノジフエ
ニルメタン、2、2′―ビス(4―アミノフエニ
ル)プロパン―4、4′―メチレンジアニリン、ベ
ンジジン、4、4′―ジアミノジフエニルスルフイ
ド、4、4′―ジアミノジフエニルスルホン、1、
5―ジアミノナフタレン、3、3′―ジメチルベン
ジジン、3、3′―ジメトキシベンジジン、2、4
―ビス(β―アミノ―tert―ブチル)トルエン、
ビス(4―β―アミノ―tert―ブチルフエニル)
エーテル、1、4―ビス(2―メチル―4―アミ
ノベンチル)ベンゼンなどが用いられる。
Examples of diamines mentioned above include m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, and m-phenylenediamine.
xylene diamine, p-xylene diamine, 4,
4'-Diamine diphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethyl-4,
4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethyl-4,4'diaminodiphenylmethane, 3,3',
5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2'-bis(4-aminophenyl)propane-4,4'-methylene dianiline, benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl Nyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 1,
5-diaminonaphthalene, 3,3'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,4
-bis(β-amino-tert-butyl)toluene,
Bis(4-β-amino-tert-butylphenyl)
Ether, 1,4-bis(2-methyl-4-aminobentyl)benzene, etc. are used.

上記でジオールとしてはヒドロキノン、ビスフ
エノールA、ジクロルビスフエノールA、テトラ
クロルビスフエノールA、テトロプロムビスフエ
ノールA、ビスフエノールF、ビスフエノール
ACP、ビスフエノールL、ビスフエノールV、
ビスフエノールS、4、4′―ジヒドロフエニルエ
ーテルなどが用いられる。
In the above, the diols include hydroquinone, bisphenol A, dichlorobisphenol A, tetrachlorbisphenol A, tetraprombisphenol A, bisphenol F, and bisphenol.
ACP, bisphenol L, bisphenol V,
Bisphenol S, 4,4'-dihydrophenyl ether, etc. are used.

また、上記でジカルボン酸無水物としてはピロ
メリツト酸無水物、2、3、6、7―ナフタレン
テトラカルボン酸無水物、3、3′、4、4′―ジフ
エニルテトラカルボン酸無水物、1、2、5、6
―ナフタレンテトラカルボン酸無水物、2、2′、
3、3′―ジフエニルテトラカルボン酸無水物、チ
オフエン―2、3、4、5―テトラカルボン酸無
水物、2、2―ビス(3、4―ビスカルボキシフ
エニル)プロパン無水物、3、4―ジカルボキシ
フエニルスルホン無水物、ペリレン―3、4、
9、10―テトラカルボン酸無水物、ビス(3、4
―ジカルボキシフエニル)エーテル無水物、3、
3′4、4′―ベンゾフエノンテトラカルボン酸無水
物などが用いられる。
In addition, the dicarboxylic anhydride mentioned above includes pyromellitic anhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic anhydride, 3,3',4,4'-diphenyltetracarboxylic anhydride, 1, 2, 5, 6
-Naphthalenetetracarboxylic anhydride, 2,2',
3,3'-diphenyltetracarboxylic anhydride, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic anhydride, 2,2-bis(3,4-biscarboxyphenyl)propane anhydride, 3, 4-dicarboxyphenylsulfone anhydride, perylene-3,4,
9,10-tetracarboxylic anhydride, bis(3,4
-dicarboxyphenyl)ether anhydride, 3,
3′4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid anhydride and the like are used.

上記のジアミン、ジオールおよびジカルボン酸
無水物は耐熱性の点からいずれも芳香族系の化合
物が好ましい。
The above diamines, diols and dicarboxylic acid anhydrides are all preferably aromatic compounds from the viewpoint of heat resistance.

ポリアミツク酸を基材上に塗布するには、ポリ
アミツク酸をジメチルフオルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ジメチルスレフオキシド、N―メ
チルピロリドンなどの溶剤に溶解して0.01〜40%
溶液とし、該溶液を刷毛塗り法、浸漬法、回転塗
布法、スプレー法などにより塗布することができ
る。塗布後、100℃〜350℃、好ましくは200℃〜
300℃で加熱処理を行ない乾燥させ、ポリオルガ
ノシラン被膜上にポリイミド系高分子被膜を設け
る。
To apply polyamic acid onto a substrate, polyamic acid is dissolved in a solvent such as dimethyl formamide, dimethyl acetamide, dimethyl threfoxide, or N-methylpyrrolidone at a concentration of 0.01 to 40%.
The solution can be applied by brush coating, dipping, spin coating, spraying, or the like. After application, 100℃~350℃, preferably 200℃~
Heat treatment is performed at 300°C and dried to form a polyimide polymer film on the polyorganosilane film.

このポリイミド系高分子の被膜は0.01〜50μの
膜厚で用いられ、特に0.1〜5μが好ましい。膜
厚が0.01μ未満では被膜を設けた効果が薄く、液
晶の配向力あるいは耐熱性が十分に得られず、ま
た、50μより厚いと均一に塗布することが困難で
あり、さらにセルのコントラストやレスポンスが
劣り好ましくない。
This polyimide polymer coating is used in a thickness of 0.01 to 50μ, particularly preferably 0.1 to 5μ. If the film thickness is less than 0.01 μm, the effect of providing the film will be weak, and sufficient liquid crystal alignment power or heat resistance will not be obtained. If it is thicker than 50 μm, it will be difficult to apply uniformly, and the contrast of the cell and The response is poor and undesirable.

上記ポリイミド系高分子被膜を配向処理するに
は布、刷毛などで一定方向にこする方法などが用
いられる。
To orient the polyimide polymer coating, a method of rubbing in a certain direction with a cloth, brush, etc. is used.

上記でポリオルガノシランおよびポリイミド系
高分子の被膜は電極端子取り出し部分を除く少な
くとも液晶と接する部分に設けられる。
In the above, the polyorganosilane and polyimide polymer coatings are provided at least on the portions that come into contact with the liquid crystal, excluding the electrode terminal extraction portions.

〔作 用〕[Effect]

ポリイミド系高分子被膜を設ける前に予め設け
られたポリオルガノシラン被膜は電極部より液晶
内への電荷の注入を防止し、消費電力を減少させ
ると共にセル寿命を増大させるものである。
The polyorganosilane coating previously provided before the polyimide polymer coating prevents charge from being injected into the liquid crystal from the electrode portions, reducing power consumption and increasing cell life.

本発明において、電気的レスポンスの低下や表
示の不均一がみられないのは、ポリオルガノシラ
ン被膜がポリイミドとガラス及び電極の両者に十
分に密着し、ポリオルガノシラン被膜とポリイミ
ド系高分子被膜を均一な厚みに形成できるためと
思われるものである。
In the present invention, there is no decrease in electrical response or non-uniform display because the polyorganosilane coating adheres sufficiently to both the polyimide, the glass, and the electrodes, and the polyorganosilane coating and polyimide polymer coating are bonded together. This is thought to be because it can be formed to have a uniform thickness.

次に配向処理したポリイミド系高分子被膜は液
晶を配向させる機能を果すものである。
Next, the polyimide-based polymer coating subjected to alignment treatment serves the function of aligning the liquid crystal.

〔実施例〕〔Example〕

次に実施例および比較例をあげて本発明をさら
に具体的に説明する。
Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例 1 ジエトキシジメチルシランの1〜10%トルエン
溶液に酸化インジウムを蒸着した電極基板用ガラ
ス板を浸漬、80℃で30分間加熱してポリマー化さ
せ、さらに乾燥させた。
Example 1 A glass plate for an electrode substrate on which indium oxide was vapor-deposited was immersed in a 1-10% toluene solution of diethoxydimethylsilane, heated at 80° C. for 30 minutes to polymerize, and then dried.

次いで、トリメツト酸とヒドロキノンとから得
られる芳香族ジカルボン酸無水物と、4、4′―ジ
アミノジフエニルエーテルとを縮合して得るポリ
エステルイミドの前駆体であるポリアミツク酸の
2%ジメチルアセトアミド溶液に、上記電極基板
を浸漬した。浸漬後、200℃で1時間加熱処理を
行ない脱水閉環させ、ポリオルガノシラン被膜上
にポリエステルイミド高分子被膜を設けた。
Next, in a 2% dimethylacetamide solution of polyamic acid, which is a precursor of polyesterimide obtained by condensing an aromatic dicarboxylic anhydride obtained from trimetic acid and hydroquinone, and 4,4'-diaminodiphenyl ether, The above electrode substrate was immersed. After dipping, heat treatment was performed at 200° C. for 1 hour to cause dehydration and ring closure, and a polyesterimide polymer coating was provided on the polyorganosilane coating.

次に上記高分子被膜面を布で一方向にこすつて
配向処理して本発明の電極基板を作製した。
Next, the surface of the polymer coating was rubbed in one direction with a cloth for orientation treatment to produce an electrode substrate of the present invention.

上記電極基板の一対を用いて次のように電気光
学セル、さらに表示装置を作製した。電極基板の
シール部に厚さ30μのホツトメルトタイプのナイ
ロンフイルムを介在させ、対向する一対の電極基
板の配向処理の方向が90度をなすようにして、加
熱圧着法により接着固定した。しかる後、予め設
けられていた封入口を通し、p―メトキシベンジ
リデン―p′―n―ブチルアニリン50部、p―エト
キシベンジリデン―p′―n―ブチルアニリン50
部、p―m―プロピルベンジリデン―p′―シアノ
アニリン5部からなる正の誘電異方性を有する混
合ネマチツク液晶を封入し、穴をエポキシ樹脂で
シールし、電気光学セルを製造した。さらに、該
セルの外側の両面に直線偏光板を該光板の偏向方
向がそれぞれ隣接する基板のこすり方向に平行に
なるように貼合して表示装置を作製した、該表示
装置は耐久性に優れ、また80℃に4週間放置して
も配向の破壊は見られず、耐熱性に優れていた。
さらにまた、配向の均一性も良好であつた。そし
て、高湿下(30℃、90%RH)での長時間の連続
印加に耐えるなど耐久性の著しい増大を示した。
すなわち、6V(実効値)、32Hzのsin波を1000時
間印加した場合、交流電流値の増加が本実施例で
は2倍以下であつた。
An electro-optic cell and a display device were manufactured using the pair of electrode substrates described above as follows. A hot melt type nylon film with a thickness of 30 μm was interposed in the sealing part of the electrode substrate, and the pair of electrode substrates facing each other was adhesively fixed using a heat-press bonding method so that the direction of orientation treatment was 90 degrees. After that, 50 parts of p-methoxybenzylidene-p'-n-butylaniline and 50 parts of p-ethoxybenzylidene-p'-n-butylaniline were added through the previously provided sealing port.
A mixed nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy consisting of 5 parts of p-m-propylbenzylidene-p'-cyanoaniline was sealed, and the holes were sealed with epoxy resin to produce an electro-optic cell. Furthermore, a display device was manufactured by pasting linearly polarizing plates on both sides of the outside of the cell so that the polarization directions of the light plates were parallel to the rubbing direction of the adjacent substrates.The display device has excellent durability. Moreover, no destruction of orientation was observed even after being left at 80°C for 4 weeks, indicating excellent heat resistance.
Furthermore, the uniformity of orientation was also good. It also showed a significant increase in durability, being able to withstand continuous application for long periods of time under high humidity conditions (30°C, 90% RH).
That is, when a 6V (effective value), 32Hz sine wave was applied for 1000 hours, the increase in the alternating current value was less than double in this example.

これに対して、ポリオルガノシラン被膜を設け
ることなく、他は全く本実施例と同様にして製造
した電極基板を用いた場合には上記増加が2〜4
倍であつた。
On the other hand, when an electrode substrate manufactured in the same manner as in this example without providing a polyorganosilane coating was used, the above increase was 2 to 4.
It was twice as hot.

実施例 2 ジメチルジクロルシランの1〜10%トルエン溶
液を噴霧法で、酸化スズを蒸着した電極基板用ガ
ラス板に塗布した後、80℃で30分間加熱してポリ
マー化させ、さらに乾燥させた。
Example 2 A 1-10% toluene solution of dimethyldichlorosilane was applied by spraying to a glass plate for an electrode substrate on which tin oxide had been vapor-deposited, and then heated at 80°C for 30 minutes to polymerize and further dried. .

次いでN―N′―ビス(3―アミノフエニル)
イソフタルアミドとピロメリツト酸無水物とを縮
合して得るポリアミドイミドの前駆体であるポリ
アミツク酸の1%ジメチルアセトアミド溶液を回
転塗布法により塗布し、250℃で20分間加熱処理
を行ない脱水閉環させ、上記ポリオルガノシラン
被膜上にポリアミドイミド高分子被膜を設けた。
Next, N-N'-bis(3-aminophenyl)
A 1% dimethylacetamide solution of polyamic acid, which is a precursor of polyamideimide obtained by condensing isophthalamide and pyromellitic anhydride, was applied by spin coating, and heat treated at 250°C for 20 minutes to cause dehydration and ring closure. A polyamideimide polymer coating was provided on the polyorganosilane coating.

次に上記高分子被膜面を布で一方向にこすつて
配向処理して本発明の電極基板を作製した。
Next, the surface of the polymer coating was rubbed in one direction with a cloth for orientation treatment to produce an electrode substrate of the present invention.

上記電極基板の一対を用いて、次のように電気
光学セル、さらに表示装置を作製した。
Using the pair of electrode substrates described above, an electro-optical cell and further a display device were manufactured as follows.

厚さ20μのホツトメルトタイプのポリエステル
フイルムを上記基板のシール部に介在させ、上記
の一対の電極基板の配向処理の方向が互いに90度
をなすよう対向させて加熱圧着法により接着固定
した。しかる後、予め設けられていた封入口を通
して、p―メトキシベンジリデン―p′―n―ブチ
ルアニリン40部、p―エトキシベンジリデン―
p′―n―ブチルアニリン60部、p―ブトキシ安息
香酸―p′―シアノフエニルエステル10部からなる
正の誘電異方性を有する混合ネマチツク液晶を封
入し、穴をエポキシ樹脂でシールして、電気光学
セルを製造した。
A hot melt type polyester film having a thickness of 20 μm was interposed in the sealing portion of the substrate, and the pair of electrode substrates were bonded and fixed by thermocompression bonding with the electrode substrates facing each other so that their orientation directions were at 90 degrees to each other. After that, 40 parts of p-methoxybenzylidene-p'-n-butylaniline and p-ethoxybenzylidene-
A mixed nematic liquid crystal with positive dielectric anisotropy consisting of 60 parts of p'-n-butylaniline and 10 parts of p-butoxybenzoic acid-p'-cyanophenyl ester was filled in, and the hole was sealed with epoxy resin. , manufactured an electro-optic cell.

次いで実施例1と同様にして表示装置を作製し
た。該表示装置は耐久性に優れ、また80℃に4週
間放置しても配向の破壊は見られず、さらにこの
配向効果は300℃の加熱処理でも失われず、耐熱
性に優れていた。さらにまた、配向の均一性も良
好であつた。そして、高湿下での耐久性も実施例
1と同様に優れていた。
Next, a display device was produced in the same manner as in Example 1. The display device had excellent durability, and no destruction of orientation was observed even after being left at 80° C. for 4 weeks, and this orientation effect was not lost even after heat treatment at 300° C., indicating excellent heat resistance. Furthermore, the uniformity of orientation was also good. The durability under high humidity was also excellent as in Example 1.

実施例 3 ジエトキシジフニエルシランの1〜10%トルエ
ン溶液に酸化スズを蒸着した電極基板用ガラスを
浸漬し、80℃で30分間加熱してポリマー化させ、
さらに乾燥させた。次いで、ピロメリツト酸無水
物と4、4′―ジアミノジフエニルエーテルとを縮
合して得るポリイミドの前駆体であるポリアミツ
ク酸の1%N―メチルピロリドン溶液に、上記電
極基板を浸漬した。浸漬後、200℃で30分間加熱
処理を行ない脱水閉環させ、上記ポリオルガノシ
ラン被膜上にポリイミド高分子被膜を設けた。次
に上記高分子被膜面を布で一方向にこすつて配向
処理して本発明の電極基板を作製した。
Example 3 Electrode substrate glass on which tin oxide was vapor-deposited was immersed in a 1-10% toluene solution of diethoxydiphenylsilane, and heated at 80°C for 30 minutes to polymerize it.
It was further dried. Next, the electrode substrate was immersed in a 1% N-methylpyrrolidone solution of polyamic acid, which is a precursor of polyimide obtained by condensing pyromellitic anhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether. After dipping, heat treatment was performed at 200° C. for 30 minutes to cause dehydration and ring closure, and a polyimide polymer coating was provided on the polyorganosilane coating. Next, the surface of the polymer coating was rubbed in one direction with a cloth for orientation treatment to produce an electrode substrate of the present invention.

上記電極基板の一対を用いて、次のように電気
光学セル、さらに表示装置を作製した。電極基板
のシール部に熱硬化型アクリル樹脂をスクリーン
印刷法により印刷し、一対の電極基板を配向処理
方向が互いに90度をなすよう対向させ、加熱圧着
法により接着した。しかる後、予め設けられてい
た封入口を通し、p―メトキシベンジリデン―
p′―n―ブチルアニリン30部、p―エトキシベン
ジリデン―p′―n―ブチルアニリン50部、p―メ
トキシベンジリデン―p′―n―ヘプチルアニリン
10部、p―プロポキシベンジリデン―p′―n―ヘ
プチルアニリン10部、p―ブトキシ安息香酸―
p′―シアノフエニルエーテル20部から成る正の誘
電異方性を有する混合ネマチツク液晶を封入し、
穴をエポキシ樹脂でシールし、電気光学セルを製
造した。次いで実施例1と同様にして表示装置を
作製した。該表示装置は耐久性に優れ、また80℃
に4週間放置しても配向の破壊は見られず、耐熱
性に優れていた。さらにまた、配向の均一性も良
好であつた。そして、高湿下での耐久性も実施例
1と同様に優れていた。
Using the pair of electrode substrates described above, an electro-optical cell and further a display device were manufactured as follows. A thermosetting acrylic resin was printed on the seal portion of the electrode substrate by screen printing, and the pair of electrode substrates were placed facing each other so that the directions of the alignment process were at 90 degrees to each other, and then bonded together by thermocompression bonding. After that, p-methoxybenzylidene-
30 parts p'-n-butylaniline, 50 parts p-ethoxybenzylidene-p'-n-butylaniline, p-methoxybenzylidene-p'-n-heptylaniline
10 parts, p-propoxybenzylidene-p'-n-heptylaniline 10 parts, p-butoxybenzoic acid-
A mixed nematic liquid crystal with positive dielectric anisotropy consisting of 20 parts of p'-cyanophenyl ether is enclosed,
The holes were sealed with epoxy resin to produce an electro-optic cell. Next, a display device was produced in the same manner as in Example 1. The display device has excellent durability and can withstand temperatures up to 80℃.
Even after being left for 4 weeks, no destruction of orientation was observed, and the film had excellent heat resistance. Furthermore, the uniformity of orientation was also good. The durability under high humidity was also excellent as in Example 1.

実施例 4 メチルトリエトキシシラン/ジメチルジエトキ
シシラン(=1/1)の1〜10%ベンゼン溶液を噴
霧法で、酸化インジウムを蒸着した電極基板用ガ
ラス板に塗布した後、80℃で30分間加熱してポリ
マー化させ、さらに乾燥させた。次いで、実施例
3と同様にしてポリオルガノシラン被膜上にポリ
イミド高分子被膜を設けた。次に上記高分子被膜
面を刷毛で一方向にこすつて配向処理して本発明
の電極基板を作製した。
Example 4 A 1 to 10% solution of methyltriethoxysilane/dimethyldiethoxysilane (=1/1) in benzene was applied by spraying to a glass plate for an electrode substrate on which indium oxide was vapor-deposited, and then heated at 80°C for 30 minutes. It was heated to polymerize and then dried. Next, in the same manner as in Example 3, a polyimide polymer film was provided on the polyorganosilane film. Next, the surface of the polymer coating was rubbed in one direction with a brush for orientation treatment to produce an electrode substrate of the present invention.

上記電極基板の一対を用いて、次のように電気
光学セル、さらに表示装置を作製した。樹脂100
部に対して無水硫酸銅200部を混入した熱硬化型
アクリルインキを電極基板のシール部にシルクス
クリーン印刷し、上記一対の電極基板の配向処理
の方向が互いに(a)38度、(b)45度、(c)52度をなすよ
うに対向させて、加熱接着し固定した。しかる
後、予め設けられていた封入口を通してp―メト
キシベンジリデン―p′―n―ブチルアニリン20
部、p―エトキシベンジリデン―p′―n―ブチル
アニリン40部、n―ヘキシロキシベンジリデン―
p′―n―ブチルアニリン40部、P―n―ブトキシ
フエニル―p′―シアノベンゾエート15部、p―n
―ヘブチロキシフエニル―p′―シアノベンゾエー
ト15部からなる混合ネマチツク液晶を挿入し、穴
をシールして三種の電気光学セルを製造した。次
いで実施例1と同様にして三種の表示装置を作製
した。これらの表示装置はいずれも配向のむらが
なく、また高温の耐久性に優れていた。
Using the pair of electrode substrates described above, an electro-optical cell and further a display device were manufactured as follows. resin 100
A thermosetting acrylic ink mixed with 200 parts of anhydrous copper sulfate was silk screen printed on the sealing part of the electrode substrate, so that the directions of the orientation treatment of the pair of electrode substrates were (a) 38 degrees and (b) They were placed facing each other at an angle of 45 degrees and (c) 52 degrees, and were fixed by heat bonding. After that, p-methoxybenzylidene-p′-n-butylaniline 20
parts, p-ethoxybenzylidene-p'-n-butylaniline 40 parts, n-hexyloxybenzylidene-
40 parts of p'-n-butylaniline, 15 parts of P-n-butoxyphenyl-p'-cyanobenzoate, p-n
A mixed nematic liquid crystal consisting of 15 parts of -hebutyroxyphenyl-p'-cyanobenzoate was inserted and the holes were sealed to produce three types of electro-optic cells. Next, three types of display devices were manufactured in the same manner as in Example 1. All of these display devices had no uneven orientation and were excellent in high-temperature durability.

さらにこれらの表示装置はいずれも、電界印加
による画像部の色相が黒色でかつ非画像部は干渉
縞がなく透明であるので、表示体としての画像部
のコントラストが極めて良く、また、液晶分子の
立上り、立下りの応答速度が速く、光の像のちら
つきがないなど非常に優れていた。そして、高湿
下での耐久性も実施例1と同様に優れていた。
Furthermore, in all of these display devices, the hue of the image area is black when an electric field is applied, and the non-image area is transparent with no interference fringes, so the contrast of the image area as a display body is extremely good, and the contrast of the liquid crystal molecules is very high. The response speed of rise and fall was fast, and the light image did not flicker, making it extremely excellent. The durability under high humidity was also excellent as in Example 1.

比較例 酸化インジウムを蒸着した電極基板用ガラス板
を洗浄後、配向処理剤としてポリオキシエチレン
ノニルフエニルエーテルの0.5%水溶液を浸漬し
て塗布した後、真空、加熱乾燥させた。
Comparative Example After cleaning a glass plate for an electrode substrate on which indium oxide was vapor-deposited, a 0.5% aqueous solution of polyoxyethylene nonyl phenyl ether was applied as an alignment treatment agent by immersion, and then dried under vacuum and heat.

次に上記塗布面を布で一方向に摩擦して配向処
理した電極基板を作製した。
Next, the coated surface was rubbed in one direction with a cloth to prepare an electrode substrate.

上記電極基板の一対を用いて、実施例1と同様
にして表示装置を作製した。この表示装置は電場
印加時に表示部に明暗の配向ムラがあり、また、
60℃で100時間経過後、配向が破壊し耐久性が良
くなかつた。また、実施例1と同様の高湿下での
連続印加後、交流電流の増加は約5倍であつた。
A display device was produced in the same manner as in Example 1 using the pair of electrode substrates described above. This display device has uneven orientation of brightness and darkness in the display area when an electric field is applied, and
After 100 hours at 60°C, the orientation was destroyed and the durability was poor. Furthermore, after continuous application under high humidity conditions similar to Example 1, the increase in alternating current was about 5 times.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の電気光学用電極基板はポリオルガノシ
ラン被膜が撥水性および絶縁性であるために、電
極部よりの電荷が注入がなく、消費電力が減少
し、液晶および配向剤の変質が起こらず、長期間
の電圧の連続印加に耐えうる。また、本発明では
配向剤としてポリイミド系高分子を用いているの
で液晶などの電気光学物質の初期配向の均一性に
極めて優れており、かつ、ポリイミド系高分子被
膜が耐熱性に優れているので、ガラスフリツトな
どによる無機シールも可能であり、また電極基板
の温度が上昇しても液晶をはじめとする電気光学
物質の今子の配向には影響を与えることがなく、
セル中の液晶をはじめとする電気光学物質の分子
が長時間安定して存在するという利点がある。
In the electro-optical electrode substrate of the present invention, since the polyorganosilane coating is water repellent and insulating, there is no charge injection from the electrode part, power consumption is reduced, and the liquid crystal and alignment agent do not change in quality. Can withstand continuous voltage application for long periods of time. In addition, since the present invention uses a polyimide polymer as an alignment agent, the initial alignment of electro-optical materials such as liquid crystals is extremely uniform, and the polyimide polymer coating has excellent heat resistance. Inorganic sealing using glass frit is also possible, and even if the temperature of the electrode substrate increases, it does not affect the alignment of electro-optic materials such as liquid crystal.
This has the advantage that the molecules of electro-optical substances such as liquid crystals in the cell remain stable for a long time.

また、ポリオルガノシラン被膜とポリイミド系
高分子被膜を積層しているにもかかわらず、適正
な電気的レスポンスを示し、またポリイミド系高
分子被膜が均一に形成できるので表示の均一性に
すぐれるものである。
In addition, even though the polyorganosilane coating and polyimide polymer coating are laminated, it shows an appropriate electrical response, and the polyimide polymer coating can be formed uniformly, resulting in excellent display uniformity. It is.

本発明にかかる一対の電極基板をポリイミド系
高分子被膜面の内側にして、それぞれ配向処理方
向が交差するように対向させて、電極基板間に全
体として正の誘電異方性を有する電気光学物質、
たとえばネマチツク液晶を公知の方法で封入シー
ルすることにより電気光学セルを作製することが
でき、さらに該セルを直線偏光板、円偏光板など
の偏光子、あるいは反射板などと組み合わすこと
により表示装置を構成する。
An electro-optic material having a positive dielectric anisotropy as a whole between a pair of electrode substrates according to the present invention with the polyimide polymer coating surface facing each other so that their alignment treatment directions intersect. ,
For example, an electro-optic cell can be produced by sealing a nematic liquid crystal using a known method, and by combining the cell with a polarizer such as a linear polarizing plate or a circular polarizing plate, or a reflecting plate, a display device can be produced. Configure.

このような電極基板は電気光学用として種々の
装置に有効に使用でき、たとえば、電子式卓上計
算機、腕時計、置時計、計数表示板等の表示装置
に用いられる。
Such an electrode substrate can be effectively used in various electro-optical devices, and is used, for example, in display devices such as electronic desktop calculators, wristwatches, table clocks, and count display boards.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面は本発明の電気光学用電極基板の概略を示
す断面図である。 図の主要な部分を表わす符号の説明、1……基
板、2……電極被膜、3……ポリオルガノシラン
被膜、4……配向処理したポリイミド系高分子被
膜。
The drawing is a sectional view schematically showing an electro-optical electrode substrate of the present invention. Explanation of the symbols representing the main parts of the figure: 1...Substrate, 2...Electrode coating, 3...Polyorganosilane coating, 4...Oriented polyimide polymer coating.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 液晶表示用電気光学セルを構成する電気光学
用電極基板において、電極被膜を設けた基板の該
被膜を有する面にポリオルガノシラン被膜を有
し、さらに該ポリオルガノシラン被膜の上に配向
処理したポリイミド系高分子被膜を有することを
特徴とする電気光学用電極基板。
1. In an electro-optical electrode substrate constituting an electro-optic cell for a liquid crystal display, a polyorganosilane coating is provided on the surface of the substrate provided with the electrode coating, and the polyorganosilane coating is further subjected to alignment treatment. An electro-optical electrode substrate characterized by having a polyimide polymer coating.
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