JPS62199102U - - Google Patents

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JPS62199102U
JPS62199102U JP8476486U JP8476486U JPS62199102U JP S62199102 U JPS62199102 U JP S62199102U JP 8476486 U JP8476486 U JP 8476486U JP 8476486 U JP8476486 U JP 8476486U JP S62199102 U JPS62199102 U JP S62199102U
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valve
pot
water
reflux
drainage
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Description

【図面の簡単な説明】
図面は本考案の装置の一例を示す概略図である
。 5:還流ポツト、6:水抜きポツト。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 少量の水を含有する水より軽い油分からなる凝
    縮液を滞留させ、油分は還流し水分は下層液とし
    て抜き出すための還流ポツトと、還流ポツトの下
    部から抜き出される下層液を滞留させ分離された
    水が一定量となるまで保持するための水抜きポツ
    トとからなり、還流ポツトの下部から水抜きポツ
    トの上部へ下層液を流すための連絡管、水抜きポ
    ツトの下部から水を排出するための排出口及び水
    抜きポツト上部と還流ポツト上部とを連絡する均
    圧管並びに水抜きポツト上部に連絡する加圧ガス
    吹込み管にはそれぞれ弁1、弁2及び弁3並びに
    弁4を設けると共に水抜きポツトには静電容量式
    の界面計を設け、この信号により水面が上限設定
    値に達した時、弁1を閉に、弁2を開に弁3を閉
    にそして弁4を開にし、下限設定値に達したとき
    、弁1を開に、弁2を閉にそして弁3を開にそし
    て弁4を閉にする手段を設けたことを特徴とする
    水抜き装置。
JP8476486U 1986-06-05 1986-06-05 Pending JPS62199102U (ja)

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JP8476486U JPS62199102U (ja) 1986-06-05 1986-06-05

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JPS62199102U true JPS62199102U (ja) 1987-12-18

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JP8476486U Pending JPS62199102U (ja) 1986-06-05 1986-06-05

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020014022A (ja) * 2019-10-11 2020-01-23 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
US11986853B2 (en) 2015-06-03 2024-05-21 SCREEN Holdings Co., Ltd. Substrate processing apparatus, film formation unit, substrate processing method and film formation method

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11986853B2 (en) 2015-06-03 2024-05-21 SCREEN Holdings Co., Ltd. Substrate processing apparatus, film formation unit, substrate processing method and film formation method
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